JP2013214739A - 金属箔から半導体チップを剥離する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】直線状支持エッジおよびL字型支持エッジを有するプレート8を備えるダイエジェクタを使用し:カバープレート3の表面上方に高さH1までプレートを持ち上げること;L字型支持エッジを有する第1の1対のプレートを下げること;任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレートを下げること;まだ下げられていないプレートを高さH2>H1まで持ち上げること;まだ下げられていないプレートをずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかのプレートが下げられていないこと;任意選択で、まだ下げられていないプレートを高さH3<H2まで下げること;すべてのプレートが下げられるまでプレートを下げること、およびチップグリッパを離すことを備え、チップグリッパは、最後の3つのプレートを下げる前に半導体チップ5に接触する。
【選択図】図8
Description
A)プレートを持ち上げるステップであって、その結果、プレートの支持エッジはダイエジェクタのカバープレートの表面の上方に高さH1を占めるステップ;
B)L字型支持エッジを有する第1の1対のプレートを下げるステップ;
C)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレートを下げるステップ;
D)まだ下げられていないプレートを持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレートの表面の上方に高さH2>H1を占めるステップ;
E)まだ下げられていないプレートを特定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかのプレートが下げられていないステップ;
F)任意選択で、少なくとも、まだ下げられていないプレートを下げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレートの表面の上方に高さH3<H2を占めるステップ;
G)すべてのプレートが下げられるまで、まだ下げられていないプレートを下げるステップ、および
H)半導体チップと共にチップグリッパを離すステップ
を備え、チップグリッパは、半導体チップの上方に配置され、遅くとも最後の3つのプレートを下げる前に半導体チップと接触するまで下げられる。
A)チャンバ2に真空を供給するステップであって、その結果、金属箔4はカバープレート3に向けて引っ張られるステップ;
B)キャリア9を所定の距離Δz1だけ持ち上げるステップであって、その結果、プレート8の支持エッジ19は、カバープレート3の表面12の上方で高さH1を占めるステップ;
C)L字型支持エッジを有する最も外側の1対のプレート8Cを下げるステップ;
D)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレート8Bを下げるステップ;
E)キャリア9を所定の距離Δz2だけ持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレート3の表面12の上方で高さH2>H1を占めるステップ;
F)まだ下げられていないプレート8を所定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかの(好ましくは3つの)プレート8Aが下げられないステップ;
G)任意選択で、キャリア9を所定の距離Δz3だけ下げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレート3の表面12の上方で高さH3<H2を占めるステップ;
H)まだ下げられていないプレート8Aをずらして下げるステップ;
I)半導体チップ5と共にチップグリッパ16を離すステップ;
J)チップグリッパ16は、半導体チップ5の上方に配置され、遅くとも最後の3つのプレート8Aを下げる前に半導体チップに接触し、かつ半導体チップ5をしっかりと保持するまで、下げられる。
Claims (2)
- チップグリッパ(16)およびダイエジェクタ(1)を用いて金属箔(4)から半導体チップ(5)を剥離する方法であって、前記ダイエジェクタ(1)は、直線状支持エッジを有する第1のプレート(8A)およびL字型支持エッジを有する第2のプレート(8B、8C)を備え、前記プレート(8A、8B、8C)の支持エッジ(19)は、最初の位置で、前記金属箔(4)が載る支持平面を形成し、前記方法は:
A)前記プレート(8A、8B、8C)を持ち上げるステップであって、その結果、前記プレート(8A、8B、8C)の前記支持エッジ(19)はカバープレート(3)の表面(12)の上方に高さH1を占めるステップ;
B)L字型支持エッジを有する第1の1対のプレート(8B)を下げるステップ;
C)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレート(8C)を下げるステップ;
D)まだ下げられていない前記プレートを持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていない前記プレートの前記支持エッジ(19)が、前記カバープレート(3)の前記表面(12)の上方に高さH2>H1を占めるステップ;
E)まだ下げられていない前記プレートを特定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかの前記プレート(8A)が下げられていないステップ;
F)任意選択で、少なくとも、まだ下げられていない前記プレートを下げるステップであって、その結果、まだ下げられていない前記プレートの前記支持エッジ(19)が、前記カバープレート(3)の前記表面(12)の上方に高さH3<H2を占めるステップ;
G)すべての前記プレート(8A、8B、8C)が下げられるまで、まだ下げられていない前記プレートを下げるステップ、および
H)前記半導体チップ(5)と共に前記チップグリッパ(16)を離すステップ
を備え、前記チップグリッパ(16)は、前記半導体チップ(5)の上方に配置され、少なくとも、前記最後の3つのプレート(8A)を下げる前に前記半導体チップ(5)に接触するまで下げられる方法。 - 前記プレート(8A、8B、8C)はキャリア(9)に固定され、前記キャリア(9)は、前記カバープレート(3)の前記表面(12)に対して垂直に移動可能であり、前記プレート(8A、8B、8C)は前記キャリア(9)に対して持ち上げ可能、かつ下げることが可能であり、前記キャリア(9)は、前記最初の位置で所定の位置z0に配置され、前記プレート(8A、8B、8C)は、前記キャリア(9)に対して持ち上げられ、その結果、前記プレート(8A、8B、8C)の支持エッジ(19)は、前記金属箔(4)が載る支持平面を形成し:
ステップAで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δz1だけ持ち上げられ;
ステップDで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δz2だけ持ち上げられ、
任意選択のステップFで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δz3だけ下げられる
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014107555A (ja) * | 2012-11-23 | 2014-06-09 | Vesi Switzerland Ag | 半導体チップをフォイルから取り外すための方法 |
JP5717910B1 (ja) * | 2014-02-26 | 2015-05-13 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
CN107492510A (zh) * | 2016-06-13 | 2017-12-19 | 捷进科技有限公司 | 半导体制造装置及半导体器件的制造方法 |
TWI648213B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-01-21 | 景碩科技股份有限公司 | 撕箔機構 |
KR20230158376A (ko) | 2022-05-11 | 2023-11-20 | 삼성전자주식회사 | 칩 박리 장치 및 칩 박리 방법 |
JP7472367B2 (ja) | 2019-03-25 | 2024-04-22 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG10201403372SA (en) * | 2014-06-18 | 2016-01-28 | Mfg Integration Technology Ltd | System and method for peeling a semiconductor chip from a tape using a multistage ejector |
JP2019169516A (ja) * | 2018-03-22 | 2019-10-03 | 東芝メモリ株式会社 | 半導体装置の突き上げ装置及び突き上げ方法 |
CN109192681B (zh) * | 2018-09-01 | 2022-05-31 | 佛山市美特智能科技有限公司 | 芯片的快速柔性制造系统 |
JP7217605B2 (ja) * | 2018-09-21 | 2023-02-03 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置、突上げ治具および半導体装置の製造方法 |
CH715447B1 (de) | 2018-10-15 | 2022-01-14 | Besi Switzerland Ag | Chip-Auswerfer. |
DE102018125682B4 (de) * | 2018-10-16 | 2023-01-19 | Asm Assembly Systems Gmbh & Co. Kg | Ejektorvorrichtung sowie Verfahren zum Unterstützen eines Ablösens eines auf einer Haltefolie angeordneten elektrischen Bauteils |
KR102656718B1 (ko) * | 2018-11-05 | 2024-04-12 | 세메스 주식회사 | 다이 이젝팅 장치 |
KR102020034B1 (ko) * | 2019-07-09 | 2019-09-10 | (주)삼정오토메이션 | 적층세라믹콘덴서 취출 방법 |
KR102177863B1 (ko) * | 2020-08-07 | 2020-11-11 | 변영기 | 칩 필름 단계적 박리장치 |
US11764098B2 (en) * | 2021-04-16 | 2023-09-19 | Asmpt Singapore Pte. Ltd. | Detaching a die from an adhesive tape by air ejection |
JP2023064405A (ja) * | 2021-10-26 | 2023-05-11 | 三菱電機株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003133391A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-09 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの剥離方法及び装置 |
JP2005117019A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-28 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007158103A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shibuya Kogyo Co Ltd | チップ突き上げ装置 |
JP2010114441A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Esec Ag | ダイエジェクタ |
US20100252205A1 (en) * | 2009-04-02 | 2010-10-07 | Man Wai Chan | Device for thin die detachment and pick-up |
JP2011216529A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置の製造方法 |
JP2014107555A (ja) * | 2012-11-23 | 2014-06-09 | Vesi Switzerland Ag | 半導体チップをフォイルから取り外すための方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH697213A5 (de) * | 2004-05-19 | 2008-06-25 | Alphasem Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Ablösen eines auf eine flexible Folie geklebten Bauteils. |
US7665204B2 (en) * | 2006-10-16 | 2010-02-23 | Asm Assembly Automation Ltd. | Die detachment apparatus comprising pre-peeling structure |
JP4693805B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2011-06-01 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造装置及び製造方法 |
TWI463580B (zh) | 2007-06-19 | 2014-12-01 | Renesas Electronics Corp | Manufacturing method of semiconductor integrated circuit device |
JP4864816B2 (ja) * | 2007-06-19 | 2012-02-01 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
US8092645B2 (en) * | 2010-02-05 | 2012-01-10 | Asm Assembly Automation Ltd | Control and monitoring system for thin die detachment and pick-up |
-
2012
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-
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- 2013-03-28 TW TW102111159A patent/TWI569338B/zh active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003133391A (ja) * | 2001-10-23 | 2003-05-09 | Fujitsu Ltd | 半導体チップの剥離方法及び装置 |
JP2005117019A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-28 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007158103A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Shibuya Kogyo Co Ltd | チップ突き上げ装置 |
JP2010114441A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Esec Ag | ダイエジェクタ |
US20100252205A1 (en) * | 2009-04-02 | 2010-10-07 | Man Wai Chan | Device for thin die detachment and pick-up |
JP2011216529A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置の製造方法 |
JP2014107555A (ja) * | 2012-11-23 | 2014-06-09 | Vesi Switzerland Ag | 半導体チップをフォイルから取り外すための方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014107555A (ja) * | 2012-11-23 | 2014-06-09 | Vesi Switzerland Ag | 半導体チップをフォイルから取り外すための方法 |
JP5717910B1 (ja) * | 2014-02-26 | 2015-05-13 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
WO2015129105A1 (ja) * | 2014-02-26 | 2015-09-03 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
JP2015179813A (ja) * | 2014-02-26 | 2015-10-08 | 株式会社新川 | 半導体ダイのピックアップ装置及びピックアップ方法 |
CN107492510A (zh) * | 2016-06-13 | 2017-12-19 | 捷进科技有限公司 | 半导体制造装置及半导体器件的制造方法 |
JP2017224640A (ja) * | 2016-06-13 | 2017-12-21 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
TWI648213B (zh) * | 2017-11-30 | 2019-01-21 | 景碩科技股份有限公司 | 撕箔機構 |
JP7472367B2 (ja) | 2019-03-25 | 2024-04-22 | ファスフォードテクノロジ株式会社 | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
KR20230158376A (ko) | 2022-05-11 | 2023-11-20 | 삼성전자주식회사 | 칩 박리 장치 및 칩 박리 방법 |
Also Published As
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