JP2013214739A - 金属箔から半導体チップを剥離する方法 - Google Patents

金属箔から半導体チップを剥離する方法 Download PDF

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Abstract

【課題】隣接する半導体チップの機械的負荷の影響を低減し、金属箔からの半導体チップ剥離を促進する。
【解決手段】直線状支持エッジおよびL字型支持エッジを有するプレート8を備えるダイエジェクタを使用し:カバープレート3の表面上方に高さHまでプレートを持ち上げること;L字型支持エッジを有する第1の1対のプレートを下げること;任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレートを下げること;まだ下げられていないプレートを高さH>Hまで持ち上げること;まだ下げられていないプレートをずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかのプレートが下げられていないこと;任意選択で、まだ下げられていないプレートを高さH<Hまで下げること;すべてのプレートが下げられるまでプレートを下げること、およびチップグリッパを離すことを備え、チップグリッパは、最後の3つのプレートを下げる前に半導体チップ5に接触する。
【選択図】図8

Description

本発明は、金属箔から半導体チップを剥離する方法に関する。
半導体チップは、典型的には半導体実装装置上で処理するために、本分野でテープとして知られるフレームにより保持される金属箔上に提供される。半導体チップは、金属箔に付着している。金属箔を備えるフレームは、移動可能なウェーハテーブルにより収容される。ウェーハテーブルは、ある位置に半導体チップを順々に供給するために移動させられ、供給された半導体チップは、チップグリッパにより取り上げられ、周期的に基板上に置かれる。供給された半導体チップを金属箔から分離することは、金属箔の下方に配置されたチップエジェクタ(本分野ではダイエジェクタとして知られる)により支援される。
半導体チップを金属箔から剥離する方法が、米国特許第7115482号明細書により公知であり、本特許では、互いに対して隣接して配置されたプレートをいくつか有するダイエジェクタが使用される。プレートは、半導体チップを剥離するために一緒に持ち上げられ、次いで、外側から内側に順次下げられる、または支持平面を越えて突き出るピラミッド状の高所を形成するために、外側から内側に順次持ち上げられるかのいずれかである。このようなダイエジェクタおよび方法はまた、特開2010−114441号公報、米国特許出願公開第2010/252205号明細書および米国特許第8092645号明細書により公知である。
米国特許第7115482号明細書 特開2010−114441号公報 米国特許出願公開第2010/252205号明細書 米国特許第8092645号明細書
本発明は、このような剥離方法をさらに改善することを前提にしている。
本発明によれば、チップグリッパ、ならびに直線状支持エッジを有する第1のプレートおよびL字型支持エッジを有する第2のプレートを備えるダイエジェクタが、半導体チップを金属箔から剥離するために使用される。最初の位置で、プレートの支持エッジは、金属箔が載る支持平面を形成する。方法は:
A)プレートを持ち上げるステップであって、その結果、プレートの支持エッジはダイエジェクタのカバープレートの表面の上方に高さHを占めるステップ;
B)L字型支持エッジを有する第1の1対のプレートを下げるステップ;
C)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレートを下げるステップ;
D)まだ下げられていないプレートを持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレートの表面の上方に高さH>Hを占めるステップ;
E)まだ下げられていないプレートを特定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかのプレートが下げられていないステップ;
F)任意選択で、少なくとも、まだ下げられていないプレートを下げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレートの表面の上方に高さH<Hを占めるステップ;
G)すべてのプレートが下げられるまで、まだ下げられていないプレートを下げるステップ、および
H)半導体チップと共にチップグリッパを離すステップ
を備え、チップグリッパは、半導体チップの上方に配置され、遅くとも最後の3つのプレートを下げる前に半導体チップと接触するまで下げられる。
好ましくは、プレートはキャリアに固定され、キャリアはカバープレートの表面に対して垂直に移動可能であり、プレートは、キャリアに対して持ち上げ可能、かつ下げることが可能である。最初の位置で、キャリアは、所定の位置zに配置され、プレートはキャリアに対して持ち上げられ、その結果、プレートの支持エッジは金属箔が載る支持平面を形成する。好ましくは、ステップAで、キャリアは所定の距離Δzだけ持ち上げられ、ステップDで、キャリアは、所定の距離Δzだけ持ち上げられ、任意選択のステップFで、キャリアは所定の距離Δzだけ下げられる。
本明細書に組み込まれ、その一部を構成する添付図面は、本発明の1つまたは複数の実施形態を例示し、詳細な説明と共に、本発明の原理および実装形態を説明するのに役立つ。図面は正確に一定の縮尺ではあるわけではない。
ダイエジェクタの側面図および断面図を示す。 ダイエジェクタを上面図で示す。 L字型支持エッジを有するプレートを斜視図で示す。 ダイエジェクタのプレートの支持エッジの上面図を示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。 剥離過程のスナップショットを示す。
図1は、主に欧州特許第2184765号明細書により公知の構成を有するダイエジェクタ1の側面断面図を示す。ダイエジェクタ1は、真空を供給することができる密閉チャンバ2を備え、半導体チップ5を有する金属箔4の一部を載せる、好ましくは移動可能かつ交換可能なカバープレート3を備える。チャンバ2はまた、ダイエジェクタ1のハウジングまたはダイエジェクタ1の一部により形成することができる。カバープレート3はまた、カバーとすることができる。カバープレート3は、半導体チップ5とほぼ同じ大きさの長方形の孔6を中央に、および好ましくは複数の他の孔7を含み、複数の他の孔7は、図2だけに示されており、チャンバ2に真空が供給されたときに、金属箔4を吸引するために使用される。ダイエジェクタ1は、チャンバ2の内側に、互いに対して隣接して配置され、かつキャリア9に固定された複数のプレート8をさらに備える。ダイエジェクタ1は、キャリア9をカバープレート3の表面12に対して垂直に、すなわち、この場合、z方向に移動させるために使用される第1の駆動体10を備える。ダイエジェクタ1は、プレート8をキャリア9に対して、カバープレート3の表面12に対して垂直な方向に移動させるために使用される第2の駆動体11を備える。したがって、キャリア9も、同じくプレート8も、金属箔4の表面に対して持ち上げることも、下げることもできる。
プレート8は、カバープレート3の中央の孔6の中に突き出る。プレート8および孔6のエッジの間の外周に間隙13が存在する。チャンバ2に真空を供給することができる。ダイエジェクタ1のカバープレート3の孔6内部のプレート8により占められる領域は、好ましくは半導体チップ5の領域よりわずかに狭い、すなわち、半導体チップ5が、ほぼ0.5mm〜1mmだけ横方向にすべての側面においてプレート8により占められる領域を越えて突き出すような寸法に作られる。プレート8の数および形状は、半導体チップ5の寸法に依存する。
非常に小型の半導体チップの場合、すなわち、典型的には、ほぼ5mmまでのエッジ長を有する半導体チップ5の場合、直線状支持エッジを有するプレート8だけが使用される。中型の半導体チップの場合、すなわち、典型的には、ほぼ5mm〜7mmの範囲内のエッジ長を有する半導体チップ5の場合、直線状支持エッジを有するプレート8およびL字型支持エッジを有する1対のプレートが使用される。さらに大きな半導体チップ5の場合、直線状支持エッジを有するプレート8およびL字型支持エッジを有する2対以上の(通常、2対)プレート8が使用される。直線状支持エッジを有するプレート8は中央に配置され、それぞれL字型支持エッジを有するプレートにより対で囲まれる。
明確に図示するために、図1には、直線状支持エッジを有するプレート8だけを示す。図3は、L字型支持エッジ19を有するプレート8の斜視図を示す。この実施形態では、支持エッジ19には複数の歯状突起が提供され、その結果、歯状突起間の中間にある空間内の真空が金属箔4の底部側に到達し、したがって、吸引力を増大させる。支持エッジはまた、歯状突起なしに、すなわち平坦なエッジとして配置することができる。
図4は、比較的大型の半導体チップのために構成されたダイエジェクタ1のプレート8の支持エッジ19の上面図を示す。この実施形態のプレートは、直線状支持エッジを有する9つのプレート8A、ならびにL字型支持エッジを有する2対のプレート8Bおよび8C、すなわち合計で、L字型支持エッジを有する4つのプレートを備える。用語「直線状」および「L字型」は、支持平面内の支持エッジ19の形状と関係がある。
L字型支持エッジを有する第1の1対のプレート8Bは(内側の1対)、直線状支持エッジを有するプレート8Aを取り囲む。L字型支持エッジを有する第2の1対のプレート8Cは(外側の1対)、L字型支持エッジを有する内側の1対のプレート8Bを取り囲む。
半導体チップ5を金属箔4から剥離し、分離することは、チップグリッパ16(図10)と協力してダイエジェクタ1を用いて行われる。チップグリッパ16は、有利なことに、真空を供給することができ、かつ半導体チップを吸引し、かつ半導体チップをしっかりと保持する吸引部材を含む。チップグリッパ16はまた、ベルヌーイ効果に基づく吸引部材を含むことができ、この吸引部材は、吸引効果を達成するために圧縮空気を供給される必要がある。半導体チップを剥離する方法が、図5〜図13を参照して詳細に説明され、前記図面はそれぞれスナップショットを表す。図5〜図13には、金属箔4、およびプレート8の移動用駆動手段は示されていない。プレート8の正のz方向の移動が、持ち上げると呼ばれ、プレート8の負のz方向の移動が、下げると呼ばれる。
次の半導体チップを金属箔4から剥離するために、金属箔4はダイエジェクタ1に対して移動させられ、その結果、剥離されるべき半導体チップ5は、カバープレート3の孔6の上方に位置する。さらに、すべてのプレート8がキャリア9に対して持ち上げられ、その結果、すべてのプレート8の支持エッジ19は、同一平面内に位置し、キャリア9は所定の位置zに持って行かれ、この位置で、支持エッジ19は、カバープレート3の表面12と同一平面にある。この最初の位置で、金属箔4は、プレート8の支持エッジ19の上に載っている。半導体チップ5を金属箔4から剥離する方法は:
A)チャンバ2に真空を供給するステップであって、その結果、金属箔4はカバープレート3に向けて引っ張られるステップ;
B)キャリア9を所定の距離Δzだけ持ち上げるステップであって、その結果、プレート8の支持エッジ19は、カバープレート3の表面12の上方で高さHを占めるステップ;
C)L字型支持エッジを有する最も外側の1対のプレート8Cを下げるステップ;
D)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレート8Bを下げるステップ;
E)キャリア9を所定の距離Δzだけ持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレート3の表面12の上方で高さH>Hを占めるステップ;
F)まだ下げられていないプレート8を所定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかの(好ましくは3つの)プレート8Aが下げられないステップ;
G)任意選択で、キャリア9を所定の距離Δzだけ下げるステップであって、その結果、まだ下げられていないプレートの支持エッジが、カバープレート3の表面12の上方で高さH<Hを占めるステップ;
H)まだ下げられていないプレート8Aをずらして下げるステップ;
I)半導体チップ5と共にチップグリッパ16を離すステップ;
J)チップグリッパ16は、半導体チップ5の上方に配置され、遅くとも最後の3つのプレート8Aを下げる前に半導体チップに接触し、かつ半導体チップ5をしっかりと保持するまで、下げられる。
図5は、最初の位置のスナップショットを示す。
図6は、ステップB後のスナップショットを示す。
図7は、ステップC後のスナップショットを示す。
図8は、ステップE後のスナップショットを示す。
図9〜図11は、EからGの間の連続するスナップショットを示す。
図12は、ステップG後のスナップショットを示す。
図13は、ステップH後のスナップショットを示す。
次の個々のプレートを下げることは、図8〜図12に示すように、直前のプレートが完全に下げられる前に行うことができる。半導体チップ5から金属箔4を剥離するためにチップグリッパ16の支援が必要とされる時点は、いくつかの要因、たとえば、半導体チップ5の厚さ、半導体チップ5のサイズ、金属箔4の接着力、金属箔4に対して真空により加えられる吸引力に依存する。チップグリッパ16が後で使用する必要があるほど、それだけ自動組立機械の処理量が大きくなる。
次の半導体チップ5を分離する準備をするために、プレート8は再び最初の位置に戻される。
L字型支持エッジを有するプレートを使用することにより、隣接する半導体チップに機械的負荷が及ぼす影響が低減され、したがって、最新技術のときよりも大きな高さHに到達できるようになり、このため、金属箔からの半導体チップの剥離が促進される。
本発明の実施形態および用途が示され、説明されたが、本明細書における本発明の概念を逸脱することなく、上述よりも多くの修正形態が可能であることが、本開示の恩恵を受ける当業者には明らかであろう。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲およびその均等物の精神以外で制限されない。

Claims (2)

  1. チップグリッパ(16)およびダイエジェクタ(1)を用いて金属箔(4)から半導体チップ(5)を剥離する方法であって、前記ダイエジェクタ(1)は、直線状支持エッジを有する第1のプレート(8A)およびL字型支持エッジを有する第2のプレート(8B、8C)を備え、前記プレート(8A、8B、8C)の支持エッジ(19)は、最初の位置で、前記金属箔(4)が載る支持平面を形成し、前記方法は:
    A)前記プレート(8A、8B、8C)を持ち上げるステップであって、その結果、前記プレート(8A、8B、8C)の前記支持エッジ(19)はカバープレート(3)の表面(12)の上方に高さHを占めるステップ;
    B)L字型支持エッジを有する第1の1対のプレート(8B)を下げるステップ;
    C)任意選択で、L字型支持エッジを有する第2の1対のプレート(8C)を下げるステップ;
    D)まだ下げられていない前記プレートを持ち上げるステップであって、その結果、まだ下げられていない前記プレートの前記支持エッジ(19)が、前記カバープレート(3)の前記表面(12)の上方に高さH>Hを占めるステップ;
    E)まだ下げられていない前記プレートを特定の順序でずらして下げ、少なくとも1つまたはいくつかの前記プレート(8A)が下げられていないステップ;
    F)任意選択で、少なくとも、まだ下げられていない前記プレートを下げるステップであって、その結果、まだ下げられていない前記プレートの前記支持エッジ(19)が、前記カバープレート(3)の前記表面(12)の上方に高さH<Hを占めるステップ;
    G)すべての前記プレート(8A、8B、8C)が下げられるまで、まだ下げられていない前記プレートを下げるステップ、および
    H)前記半導体チップ(5)と共に前記チップグリッパ(16)を離すステップ
    を備え、前記チップグリッパ(16)は、前記半導体チップ(5)の上方に配置され、少なくとも、前記最後の3つのプレート(8A)を下げる前に前記半導体チップ(5)に接触するまで下げられる方法。
  2. 前記プレート(8A、8B、8C)はキャリア(9)に固定され、前記キャリア(9)は、前記カバープレート(3)の前記表面(12)に対して垂直に移動可能であり、前記プレート(8A、8B、8C)は前記キャリア(9)に対して持ち上げ可能、かつ下げることが可能であり、前記キャリア(9)は、前記最初の位置で所定の位置zに配置され、前記プレート(8A、8B、8C)は、前記キャリア(9)に対して持ち上げられ、その結果、前記プレート(8A、8B、8C)の支持エッジ(19)は、前記金属箔(4)が載る支持平面を形成し:
    ステップAで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δzだけ持ち上げられ;
    ステップDで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δzだけ持ち上げられ、
    任意選択のステップFで、前記キャリア(9)は、所定の距離Δzだけ下げられる
    ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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