JP2004503934A - 基板カセットのホルダー及び該ホルダーを備えたデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも2つのガイドを備えたガイド部材が固定されているベースプレートを有する基板のカセットのホルダーであって、このカセットがガイド間に配されて、カセットをベースプレートに対して整列させることを可能にし、ベースプレートから離れて面するガイド部材の側面が内向きに先細りになるように実現される、ホルダーに関する。
【0002】
このようなホルダーは、ディスクリート半導体製品及び集積半導体製品の製造に使用される多くの機器に用いられる。従って、本発明は更に、上記の様なホルダーを備えた装置に関する。
【0003】
【従来の技術】
冒頭段落に記述されたタイプのホルダーは、米国特許明細書第5,246,218号(1993年9月21日発行)から既知である。前記明細書において、ガイド部材が固定されるベースプレートを有する基板カセットのホルダーについての説明がされ、このガイド部材は2つの別個のお互いに平行なガイドを有する。このカセットホルダーは、カセットに隣接する上側面が下向きに先細りになるガイド間に整列されうるように配されることができる。整列作用をもつこのガイド形状の結果として、ガイド間にカセットを正確に配することが容易になる。カセットがガイド間に配された後、基板は、ホルダーを有する装置の一部分を形成するロボットにより、カセットから取り外され、処理され、及び元の位置に戻される。この目的のため、ホルダーはリフトメカニズムに結合される。これにより、基板が、一つずつ且つ同じ高さで、カセットから取り外されたり、又はカセット内に据えられたりされることが可能になる。全ての基板が処理された後、該カセットは、その後の処理のために同様の特徴を有する別の装置に移される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
既知ホルダーの欠点は、カセットが、常にホルダーに全く同じ様に置かれたり、又は全く同じ様に整列されるとは限らないという点にある。結果として、基板をカセットに導入すること、又はカセットから取り外すことが妨げられ、このことは基板に損傷をもたらす可能性がある。更に、カセット又は機器への損傷も起こる可能性がある。
【0005】
従って、本発明の目的は、基板カセットが常に全く同じ様に位置され且つ適切に整列されるホルダーを提供することである。その上、ホルダーの取り付け及び取り外しが容易になり、まず何よりも、その製造が容易且つ経済的になるはずである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
これを達成するために、冒頭段落に記述されたタイプのホルダーは、ベースプレートに面するガイドの側面も内向きに先細りになるという点を本発明により特徴とする。従って、カセットについて最も近傍に位置されるホルダーの一部分のみが、比較的制限された高さを有することと、まず何よりも、ベースプレートの上方においてある程度の距離を離してカセットに隣接することとが達成される。このことによって、とりわけ、カセットがガイド間に配された後、カセットのティルティング(tilting)及び/又は傾斜(leaning over)のリスクが減少される。カセットについて最も近傍に位置されるガイドの一部分は、カセットから、例えばわずか1ミリメートルの距離など、比較的小さな距離を離して位置されることもできる。このことによって、カセットは、非常に正確なやり方でベースプレートに対して整列され且つ配されることができるのと同時に、非常にたやすくホルダーに導入されることもなお可能である。このことは、カセットが配された後、その位置に対して異なる方向から、カセットがホルダーに近づくときでさえ、重要な利点となる。
【0007】
好ましい実施例において、ベースプレートに面する側面は、ベースプレートから離れて面する側面に対して鏡面対称である。この鏡面対称は、いくつかの重要な利点を有する。まず第1に、ガイド部材がベースプレートに備えられるやり方が、ここではそれほど重要でなくなる。この理由は、上側面が下側面と等しくなるからである。その上、この対称性によって、ガイド部材の製造も簡略化される。これら全ては、ガイド部材が、既知ホルダーにおけるように、鏡面対称でもあり且つそれぞれが少なくとも1つのガイドを有する、2つの個別の部分から形成される場合に特に当てはまる。好ましくは、これらガイドは、断面図で見て、内向きに方向づけられた台形形状を示す。これは、本発明の利点が簡略なやり方で最適化されることを可能にする。
【0008】
とりわけ好適な変形例において、ガイド部材及びベースプレートは、伸長されたスロットの形をもつ対応する開口部を備え、この長手方向が実質的にはお互いに垂直であり、これによってガイド部材が、ボルト及びナットを使ってベースプレートに着脱可能に固定される。このことによって、ガイド部材がベースプレートに固定されるとき、ホルダーの所望される位置は、たやすく調節されることができる。更に、この位置のいかなる必要な中間的な調節もたやすく実行されうる。これに関連して、ベースプレートは、ガイド部材の2つのお互いに垂直な外側面の位置において好ましく目盛りを振られる。これによって、ガイド部材をベースプレートに正確且つ再現的に固定することが容易になる。ボルトが着脱可能な停止位置(ストップ)まで限りなく緩められることができるように、ボルト及びナットは好ましく実現される。これによって、一方で完全な取り外しが可能になり、他方で該位置の中間的な調節の場合において、ボルト及び/又はナットが完全に緩められ、それによって装置への損傷をもたらすことが防がれる。
【0009】
ホルダーのガイド部材は、好ましくは2つの鏡面対称ガイド部材を有し、これら各ガイド部材が少なくとも1つ、好ましくは3つのガイドを形成し、この各ガイドがカセットの片面に隣接する。従って実際のところ、ホルダーは、ガイド部材のシングルタイプのみを有する。結果として、ホルダーの組み立て及び製造は両方とも更に簡略化される。カセットがホルダーにたやすく配されることを可能にするために、ガイド部材は、好ましくは低摩擦係数をもつ材料から作られる。とりわけ適した材料は、高分子ポリエテン(polyethene)である。この材料は、たやすく清浄されることもでき、ガイド部材が簡略且つ経済的なやり方で製造されることを可能にする。
【0010】
本発明による半導体製品の製造用のデバイスは、本発明によるホルダーを備える。このようなデバイスは、該製品の量産を可能にするとともに、維持することも容易である。好ましくは、上記のようなデバイスは、基板のカセットがガイド間に位置付けられることを信号で伝える検出手段を有する。既知のデバイスでは、斯様な検出によって、不適当且つ不正確に位置付けられるカセットをすべて検出することは不可能であることが実証された。カセットが実質的に完璧に位置付けられる本発明によるデバイスにおいては、デバイス内にカセットが全く存在しないときにデバイスが動作されることを防ぐためにのみ、検出が必要とされて利用される。
【0011】
(半導体)基板を処理するのに必要な部品に加えて、該デバイスは好ましくは、ホルダーにカセットを配する、又はホルダーからカセットを取り外す手段を有し、更に高さについてホルダーを調節する手段と、カセットに基板を配する、又はカセットから基板を取り外す他の手段とを有する。
【0012】
本発明のこれら及び他の態様は、本明細書の下文に説明する実施例から明らかになり、これら実施例を参照として明瞭に説明されるであろう。
【0013】
図面は、一律の縮尺に従わずに描かれており、とりわけ厚さ方向における寸法は、はっきりさせるために誇張されている。対応する領域は、できる限り同じ参照符号を付されている。
【0014】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明による基板を伴ってカセットを備えたホルダーの実施例の概略平面図である。図2及び図3は、図1に示されるホルダーの図面の平面に対して直角に、それぞれラインII−II及びラインIII−IIIで切り取られた概略断面図である。ホルダー10は、この場合2つの部分3から構成されるベースプレート3を有し、このベースプレート3上に、この場合2つのガイド部材4A,4Bから構成されるガイド部材4が固定される。これらガイド部材4A,4Bはそれぞれガイド5、この場合、それぞれ3つのガイド5A,5B,5C及び5D,5E,5Fを有し、各々が基板2をもつカセット1と少なくとも片側で隣接し、すなわちこの例では3つの側面で隣接する。図2又は図3に参照される、ベースプレート3から離れて面するガイド部材4の側面6は、内向きに先細りになるように実現される。これによって、カセット1は、ホルダー10によりたやすく位置付けられることができる。
【0015】
本発明により、更にベースプレート1に面するガイド部材3の側面7も、内側に先細りになるように実現される。結果として、カセット1について最も近傍して位置されるガイド5の一部分は、ベースプレート3からある程度の距離隔たる。これによって、一方でガイド5とカセット1との最小距離が、例えば約1mmなど非常に小さくなることができ、このことによりカセット1を非常に正確に位置付けることが可能になり、それと同時に他方で、カセット1はホルダー10になお非常にたやすく位置付けられることができる。この構造のおかげで、とりわけ、カセット1が傾いてホルダーに位置付けられる、すなわちベースプレート3に対してティルトされるリスクが非常に小さくなる。カセット1が不適当に位置付けられる場合、図には示されていないがデバイスに接続されるセンサーは始動しないだろう。上記の態様すべてによって、カセット1が、例えば、図には示されていないが、ホルダー10が一部分を形成する装置の可動部分に対して不適当に位置付けられるリスクは非常に小さくなる。このような装置は、例えば、エッチング装置又はフォトレジスト装置など、半導体製品の製造に通常使用される装置である。前述された正確な位置付けによって、カセット1に対する損傷のリスク、とりわけ基板2に対する損傷のリスクは、非常に小さくなる。その結果、例えばIC(集積回路)など、本発明によるホルダー10を有する半導体製品の製造において、不良品のパーセンテージ比率は低くなり、コスト価格の実質的な低下につながる。
【0016】
本例において、図3を参照すると、カセット1に隣接するガイド5の一部分の形状8は、台形の形をしている。この形状8はたやすく生成されることができ、所望される特性がたやすく最適化されうる。双方のガイド部材4は、前記部分4,3の対応する開口部に位置されるボルト11及びナット12を使ってベースプレート部分3に固定される。これら対応する開口部はそれぞれ、お互いに垂直な長手方向でスロット形である。これによって、接続されるべきガイド部材4、ここではガイド部材4A,4Bは、カセット1を所望される究極の位置に位置付けることを意図して、あらゆる方向にたやすく移動されることができる。ボルト11の端部は、本例において、ガイド部材4が(中間的な)再位置付けに際して安全に緩められることを可能にする、すなわちホルダー10の一部分が地上又は装置内に落ちてしまうことがないように、ストップナット14を備える。ガイド部材4の(再)位置付けは、ベースプレート3に備えられた目盛りストローク13により、実質的により円滑に行われる。
【0017】
本発明によるホルダー10の次の重要な利点は、ホルダー、及びとりわけガイド部材4が、上側面6と下側面7との間の対称性によってたやすく製造されうるという点である。更に、ガイド部材4が逆の位置においてもプレート3に据えられることができるので、使用がより容易になる。これは、ガイド部材4が2つの個別の、但し鏡面対称のガイド部材4A,4Bから構成される本例についていっそうより良く当てはまる。更に、左右交換、必要であれば上下交換もここで可能になる。ガイド部材4A,4B双方の製造は、ガイド部材4のシングルタイプの製造について実際に全く同じであり、コンピュータ制御されたフライス盤により実行されうる。
【0018】
この場合、ガイド部材4A,4Bは、高分子ポリエテン(polyethene)から作られ、これは例えば良好な加工性のような他の好適な特性のみならず、低摩擦係数もまた有する材料である。その上、この材料は、イソプロパノール(isopropanol)又はイソプロパノン(isopropanone)に対して安定性があるので、前記物質によって適切に清浄されることが可能である。本例において、ホルダー10の寸法は、ボックス形のボディ1であるカセット1の寸法に適応される。この片側は開いており、もう一方の片側面は、突起15を備え、この突起15の寸法は、例えば8インチなど、そこに配される基板2の数及び直径によって決定される。本例において、ガイド部材4A,4Bの高さの寸法は、25mmである。本例において、カセット1に対して平行に延在する部分の高さの寸法は、約12mmである。ファセット6,7の幅及び高さは、約7mmである。更にこれら寸法は、上述された位置センサーの満足ゆく動作を得るために調整される。本例において、ガイド部材4A,4Bのくぼみ16は、ガイド5間に位置している。ベースプレート3は、本例において5mmの厚さを有するとともに、ホルダー10が一部分を形成する装置にベースプレートを固定するための正孔(ホール)17を備えるアルマイト処理されたアルミニウムから作られる。ホルダーに使用される材料であるポリエテン(polyethene)及びアルミニウムは、動作中に、例えば集積回路(IC)などの生成工程について有害である金属又は塵埃粒子が全く形成されないという重要な付加的な利点をもつ。
【0019】
本例のホルダー10が一部分を形成する装置に関する更なる詳細の事項については、冒頭段落及びその段落に記述された米国特許明細書に参照が示される。
【0020】
本発明は、本明細書に説明された実施例に限定されず、本発明の見地内において、様々な変形例及び変更例が当業者にとっては可能である。例えば、基板の異なる標準寸法を考慮して、ホルダー及びその構成部分の寸法が、異なるように選択されてもよい。更にホルダーは、他の材料、例えばテフロン(登録商標)などから作られることもできる。集積回路(IC)を除いて、ディスクリートの半導体製品が、本発明によるホルダーによって製造されることもできる。
【0021】
ホルダーの適用は、(プラズマ)エッチング装置に限定されないことが明白に留意されるべきである。本発明によるホルダーは、例えば、フォトレジスト装置、エピタキシー、拡散又はイオン注入装置などの他の処理装置においても有利に使用されることができる。
【0022】
更に留意すべき点は、本発明によって、カセットホルダーが全ての方向、すなわちX,Y及びZ方向にたやすく移動されうることである。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板に伴うカセットを備えた本発明によるホルダーの実施例の概略平面図である。
【図2】図1に示されるホルダーの図面の平面に対して直角にラインII−IIで切り取られた概略断面図である。
【図3】図1に示されるホルダーの図面の平面に対して直角にラインIII−IIIで切り取られた概略断面図である。
Claims (10)
- 少なくとも2つのガイドを備えたガイド部材が固定されるベースプレートを有する基板のカセットのホルダーであって、前記カセットは、前記ガイド間に配されて、前記カセットを前記ベースプレートに対して整列させることを可能にし、前記ベースプレートから離れて面する前記ガイド部材の側面が内向きに先細りになるように実現されるホルダーであって、前記ベースプレートに面する前記ガイド部材の側面も内向きに先細りになるように実現されることを特徴とする、ホルダー。
- 前記ベースプレートに面する前記側面が、前記ベースプレートから離れて面する前記側面に対して鏡面対称であることを特徴とする、請求項1に記載のホルダー。
- 断面図で見て、前記ガイドは、内向きに方向づけられた台形形状を示すことを特徴とする、請求項1又は2に記載のホルダー。
- 前記ガイド部材及び前記ベースプレートは、伸長されたスロットの形をもつ対応する開口部を備え、前記開口部の長手方向が、お互いに実質的に垂直であり、これによって前記ガイド部材は、ボルト及びナットを使って前記ベースプレートに着脱可能に固定されることを特徴とする、請求項1、2又は3に記載のホルダー。
- 前記ベースプレートは、前記ガイド部材の2つのお互いに垂直な外側面の位置において目盛りを振られることを特徴とする、請求項4に記載のホルダー。
- 前記ベースプレート、前記ボルト及び前記ナットが、アルミニウムから作られることを特徴とする、請求項4又は5に記載のホルダー。
- 前記ガイド部材は、2つの鏡面対称のガイド部材を有し、それぞれの前記鏡面対称ガイド部材は、少なくとも1つのガイド、好ましくは3つのガイドを形成し、各ガイドが前記カセットの片面に隣接することを特徴とする、請求項1乃至6の何れか1項に記載のホルダー。
- 前記ガイド部材は、低摩擦係数をもつ材料、例えば高分子ポリエテン(polyethene)などから作られることを特徴とする、請求項1乃至7の何れか1項に記載のホルダー。
- 請求項1乃至8の何れか1項に記載のホルダーを備えた、半導体基板の半導体製品を製造するデバイス。
- 前記デバイスは、前記基板の前記カセットが前記ホルダー内に存在することを信号で伝える検出手段を備えることを特徴とする、請求項9に記載のデバイス。
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ATE341097T1 (de) * | 2000-06-15 | 2006-10-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Halter für eine substratkassette und vorrichtung ausgerüstet mit diesem halter |
WO2008136832A1 (en) * | 2007-05-07 | 2008-11-13 | Symyx Technologies, Inc. | Apparatus and method for moving a substrate |
US10378106B2 (en) | 2008-11-14 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming insulation film by modified PEALD |
US9394608B2 (en) | 2009-04-06 | 2016-07-19 | Asm America, Inc. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
US8802201B2 (en) | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
KR101150850B1 (ko) * | 2010-01-22 | 2012-06-13 | 주식회사 엘지실트론 | 웨이퍼 세정장비용 카세트 지그 및 이를 구비한 카세트 어셈블리 |
US8888085B2 (en) | 2010-10-05 | 2014-11-18 | Skyworks Solutions, Inc. | Devices and methodologies for handling wafers |
US8758553B2 (en) | 2010-10-05 | 2014-06-24 | Skyworks Solutions, Inc. | Fixtures and methods for unbonding wafers by shear force |
US8758552B2 (en) | 2010-06-07 | 2014-06-24 | Skyworks Solutions, Inc. | Debonders and related devices and methods for semiconductor fabrication |
US20120080832A1 (en) | 2010-10-05 | 2012-04-05 | Skyworks Solutions, Inc. | Devices for methodologies related to wafer carriers |
US20120282067A1 (en) * | 2011-05-03 | 2012-11-08 | Texas Instruments Incorporated | Rack-to-rack packaged semiconductor device exchanger |
US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
US9031700B2 (en) | 2011-10-11 | 2015-05-12 | Intermolecular, Inc. | Facilities manifold with proximity sensor |
US9017481B1 (en) | 2011-10-28 | 2015-04-28 | Asm America, Inc. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
US9054188B2 (en) * | 2012-02-24 | 2015-06-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Curved wafer processing on method and apparatus |
US9659799B2 (en) | 2012-08-28 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US9082608B2 (en) | 2012-12-03 | 2015-07-14 | Intermolecular, Inc. | Pneumatic clamping mechanism for cells with adjustable height |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
US9589770B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-03-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species |
US9484191B2 (en) | 2013-03-08 | 2016-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Pulsed remote plasma method and system |
US9240412B2 (en) | 2013-09-27 | 2016-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process |
US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
US10167557B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-01-01 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
US9890456B2 (en) | 2014-08-21 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
US9657845B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
KR102263121B1 (ko) | 2014-12-22 | 2021-06-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
US10529542B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Cross-flow reactor and method |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
KR101684524B1 (ko) * | 2015-05-21 | 2016-12-08 | 현대자동차 주식회사 | 처짐방지 구조를 갖는 박막시트 흡착 시스템 |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
US9960072B2 (en) | 2015-09-29 | 2018-05-01 | Asm Ip Holding B.V. | Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US10322384B2 (en) | 2015-11-09 | 2019-06-18 | Asm Ip Holding B.V. | Counter flow mixer for process chamber |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
US10468251B2 (en) | 2016-02-19 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning |
US10501866B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system |
US10343920B2 (en) | 2016-03-18 | 2019-07-09 | Asm Ip Holding B.V. | Aligned carbon nanotubes |
US9892913B2 (en) | 2016-03-24 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Radial and thickness control via biased multi-port injection settings |
US10190213B2 (en) | 2016-04-21 | 2019-01-29 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
US10032628B2 (en) | 2016-05-02 | 2018-07-24 | Asm Ip Holding B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
KR102592471B1 (ko) | 2016-05-17 | 2023-10-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US10388509B2 (en) | 2016-06-28 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Formation of epitaxial layers via dislocation filtering |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
KR102354490B1 (ko) | 2016-07-27 | 2022-01-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
US10395919B2 (en) | 2016-07-28 | 2019-08-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
KR102613349B1 (ko) | 2016-08-25 | 2023-12-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배기 장치 및 이를 이용한 기판 가공 장치와 박막 제조 방법 |
US10410943B2 (en) | 2016-10-13 | 2019-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems |
US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10435790B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap |
US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
US10134757B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-11-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US10340135B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride |
KR20180068582A (ko) | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
KR102700194B1 (ko) | 2016-12-19 | 2024-08-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
US10283353B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern |
KR102457289B1 (ko) | 2017-04-25 | 2022-10-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US10446393B2 (en) | 2017-05-08 | 2019-10-15 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US10504742B2 (en) | 2017-05-31 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method of atomic layer etching using hydrogen plasma |
US10886123B2 (en) | 2017-06-02 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures |
US12040200B2 (en) | 2017-06-20 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and methods for calibrating a semiconductor processing apparatus |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10605530B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-31 | Asm Ip Holding B.V. | Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10312055B2 (en) | 2017-07-26 | 2019-06-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing film by PEALD using negative bias |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
KR102401446B1 (ko) | 2017-08-31 | 2022-05-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10607895B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal |
KR102630301B1 (ko) | 2017-09-21 | 2024-01-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치 |
US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
KR102443047B1 (ko) | 2017-11-16 | 2022-09-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
WO2019103610A1 (en) | 2017-11-27 | 2019-05-31 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
JP7214724B2 (ja) | 2017-11-27 | 2023-01-30 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置 |
US10290508B1 (en) | 2017-12-05 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
TWI799494B (zh) | 2018-01-19 | 2023-04-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
CN111630203A (zh) | 2018-01-19 | 2020-09-04 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过等离子体辅助沉积来沉积间隙填充层的方法 |
USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
US10535516B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-01-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
JP7124098B2 (ja) | 2018-02-14 | 2022-08-23 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 周期的堆積プロセスにより基材上にルテニウム含有膜を堆積させる方法 |
US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US10510536B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-12-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber |
US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
KR102501472B1 (ko) | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
TWI843623B (zh) | 2018-05-08 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
KR20190129718A (ko) | 2018-05-11 | 2019-11-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 피도핑 금속 탄화물 막을 형성하는 방법 및 관련 반도체 소자 구조 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
TWI840362B (zh) | 2018-06-04 | 2024-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 水氣降低的晶圓處置腔室 |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
WO2020003000A1 (en) | 2018-06-27 | 2020-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
TW202409324A (zh) | 2018-06-27 | 2024-03-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於形成含金屬材料之循環沉積製程 |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
KR102686758B1 (ko) | 2018-06-29 | 2024-07-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
US10483099B1 (en) | 2018-07-26 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming thermally stable organosilicon polymer film |
US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
KR102707956B1 (ko) | 2018-09-11 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
TWI844567B (zh) | 2018-10-01 | 2024-06-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材保持裝置、含有此裝置之系統及其使用之方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
US10381219B1 (en) | 2018-10-25 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
JP7504584B2 (ja) | 2018-12-14 | 2024-06-24 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム |
TWI819180B (zh) | 2019-01-17 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR20200091543A (ko) | 2019-01-22 | 2020-07-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
JP2020136678A (ja) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための方法および装置 |
TWI845607B (zh) | 2019-02-20 | 2024-06-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
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TWI842826B (zh) | 2019-02-22 | 2024-05-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
US11742198B2 (en) | 2019-03-08 | 2023-08-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structure including SiOCN layer and method of forming same |
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USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
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USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
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JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
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US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
KR20210010817A (ko) | 2019-07-19 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 토폴로지-제어된 비정질 탄소 중합체 막을 형성하는 방법 |
TWI839544B (zh) | 2019-07-19 | 2024-04-21 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法 |
CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
CN118422165A (zh) | 2019-08-05 | 2024-08-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于化学源容器的液位传感器 |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
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CN112440239B (zh) * | 2019-08-30 | 2022-08-26 | 北京京东方茶谷电子有限公司 | 拼接结构、拼接台及拼接贴合装置 |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
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US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
KR20210042810A (ko) | 2019-10-08 | 2021-04-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
TWI846953B (zh) | 2019-10-08 | 2024-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理裝置 |
KR20210043460A (ko) | 2019-10-10 | 2021-04-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체 |
US12009241B2 (en) | 2019-10-14 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette |
TWI834919B (zh) | 2019-10-16 | 2024-03-11 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
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US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
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US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
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CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
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CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP7527928B2 (ja) | 2019-12-02 | 2024-08-05 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
TW202125596A (zh) | 2019-12-17 | 2021-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構 |
US11527403B2 (en) | 2019-12-19 | 2022-12-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures |
TW202140135A (zh) | 2020-01-06 | 2021-11-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 氣體供應總成以及閥板總成 |
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US11993847B2 (en) | 2020-01-08 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Injector |
KR102675856B1 (ko) | 2020-01-20 | 2024-06-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
TW202130846A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括釩或銦層的結構之方法 |
TW202146882A (zh) | 2020-02-04 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
TW202203344A (zh) | 2020-02-28 | 2022-01-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 專用於零件清潔的系統 |
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CN113394086A (zh) | 2020-03-12 | 2021-09-14 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法 |
KR20210124042A (ko) | 2020-04-02 | 2021-10-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
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TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
KR20210128343A (ko) | 2020-04-15 | 2021-10-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 크롬 나이트라이드 층을 형성하는 방법 및 크롬 나이트라이드 층을 포함하는 구조 |
US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
TW202146831A (zh) | 2020-04-24 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 垂直批式熔爐總成、及用於冷卻垂直批式熔爐之方法 |
KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
JP2021172884A (ja) | 2020-04-24 | 2021-11-01 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化バナジウム含有層を形成する方法および窒化バナジウム含有層を含む構造体 |
KR20210134226A (ko) | 2020-04-29 | 2021-11-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
TW202147543A (zh) | 2020-05-04 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 半導體處理系統 |
KR20210141379A (ko) | 2020-05-13 | 2021-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구 |
TW202146699A (zh) | 2020-05-15 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成矽鍺層之方法、半導體結構、半導體裝置、形成沉積層之方法、及沉積系統 |
KR20210143653A (ko) | 2020-05-19 | 2021-11-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210145078A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
KR102702526B1 (ko) | 2020-05-22 | 2024-09-03 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 과산화수소를 사용하여 박막을 증착하기 위한 장치 |
TW202201602A (zh) | 2020-05-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
TW202212620A (zh) | 2020-06-02 | 2022-04-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 處理基板之設備、形成膜之方法、及控制用於處理基板之設備之方法 |
TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
TW202217953A (zh) | 2020-06-30 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
KR102707957B1 (ko) | 2020-07-08 | 2024-09-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
TW202219628A (zh) | 2020-07-17 | 2022-05-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於光微影之結構與方法 |
TW202204662A (zh) | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
KR20220027026A (ko) | 2020-08-26 | 2022-03-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 실리콘 산화물 및 금속 실리콘 산질화물 층을 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
TW202229601A (zh) | 2020-08-27 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成圖案化結構的方法、操控機械特性的方法、裝置結構、及基板處理系統 |
USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
KR20220045900A (ko) | 2020-10-06 | 2022-04-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 함유 재료를 증착하기 위한 증착 방법 및 장치 |
CN114293174A (zh) | 2020-10-07 | 2022-04-08 | Asm Ip私人控股有限公司 | 气体供应单元和包括气体供应单元的衬底处理设备 |
TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
KR20220053482A (ko) | 2020-10-22 | 2022-04-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
TW202235649A (zh) | 2020-11-24 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充間隙之方法與相關之系統及裝置 |
TW202235675A (zh) | 2020-11-30 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 注入器、及基板處理設備 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63136339U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-07 | ||
JPH02118934U (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-25 | ||
JPH03156954A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-04 | Ebara Corp | ウエハキャリヤの洗浄槽に設けられる位置決め装置 |
JPH05235145A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-10 | Sony Corp | 半導体ウエハ加工装置 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1227732A (ja) * | 1967-04-14 | 1971-04-07 | ||
US3626600A (en) * | 1968-05-08 | 1971-12-14 | Donald D Gaither | Adjustable index device and method of indexing on a platen sheet stock |
US3608886A (en) * | 1969-06-11 | 1971-09-28 | Gary Y Greene | System of digital jigging |
US4732373A (en) * | 1983-12-22 | 1988-03-22 | Yang Tai Her | Servo-clamping device |
JPH04179143A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Hitachi Ltd | ウェハ収納治具およびその搬送方法 |
JPH04186862A (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-03 | Tokyo Electron Sagami Ltd | キャリア内基板の検出装置 |
US5060920A (en) * | 1990-12-20 | 1991-10-29 | Eddy Engibarov | Quick change jaw assembly for high precision machining |
US5074536A (en) * | 1991-01-04 | 1991-12-24 | Mcconkey Dale R | Flange alignment tool for large pipes |
US5246218A (en) * | 1992-09-25 | 1993-09-21 | Intel Corporation | Apparatus for securing an automatically loaded wafer cassette on a wafer processing equipment |
US5386654A (en) * | 1993-09-23 | 1995-02-07 | June Tailor Inc. | Integrated cutting and pressing board including marking scale on the handle |
JPH0837221A (ja) * | 1994-07-25 | 1996-02-06 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置のカセット授受ユニット |
JPH09107019A (ja) * | 1995-10-11 | 1997-04-22 | Tokyo Electron Ltd | 被載置体の位置決め機構 |
US6383890B2 (en) * | 1997-12-26 | 2002-05-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer bonding method, apparatus and vacuum chuck |
DE19800951A1 (de) * | 1998-01-13 | 1999-07-15 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zur Naßbehandlung von Substraten |
US6152435A (en) * | 1998-07-31 | 2000-11-28 | Lloyd D. Snell | Multi-diameter vise clamp and collet jaw |
EP1139390A1 (en) * | 2000-03-28 | 2001-10-04 | Infineon Technologies AG | Semiconductor wafer pod |
ATE341097T1 (de) * | 2000-06-15 | 2006-10-15 | Koninkl Philips Electronics Nv | Halter für eine substratkassette und vorrichtung ausgerüstet mit diesem halter |
-
2001
- 2001-05-25 AT AT01953960T patent/ATE341097T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-05-25 DE DE60123366T patent/DE60123366T2/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-05-25 EP EP01953960A patent/EP1214734B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-25 JP JP2002511369A patent/JP2004503934A/ja active Pending
- 2001-05-25 WO PCT/EP2001/006054 patent/WO2001097260A2/en active IP Right Grant
- 2001-06-15 US US09/882,081 patent/US7070178B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63136339U (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-07 | ||
JPH02118934U (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-25 | ||
JPH03156954A (ja) * | 1989-11-15 | 1991-07-04 | Ebara Corp | ウエハキャリヤの洗浄槽に設けられる位置決め装置 |
JPH05235145A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-10 | Sony Corp | 半導体ウエハ加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1214734A2 (en) | 2002-06-19 |
EP1214734B1 (en) | 2006-09-27 |
WO2001097260A3 (en) | 2002-03-21 |
US20020008345A1 (en) | 2002-01-24 |
WO2001097260A2 (en) | 2001-12-20 |
DE60123366T2 (de) | 2007-08-23 |
ATE341097T1 (de) | 2006-10-15 |
US7070178B2 (en) | 2006-07-04 |
DE60123366D1 (de) | 2006-11-09 |
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