JP2000001616A - 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法 - Google Patents

熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法

Info

Publication number
JP2000001616A
JP2000001616A JP10186953A JP18695398A JP2000001616A JP 2000001616 A JP2000001616 A JP 2000001616A JP 10186953 A JP10186953 A JP 10186953A JP 18695398 A JP18695398 A JP 18695398A JP 2000001616 A JP2000001616 A JP 2000001616A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicone rubber
group
component
rubber composition
thermally conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10186953A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3444199B2 (ja
Inventor
Akio Nakano
昭生 中野
Takeshi Hashimoto
毅 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP18695398A priority Critical patent/JP3444199B2/ja
Priority to TW088110376A priority patent/TW500766B/zh
Priority to US09/334,746 priority patent/US6169142B1/en
Publication of JP2000001616A publication Critical patent/JP2000001616A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3444199B2 publication Critical patent/JP3444199B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/12Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/20Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227Oxides; Hydroxides of metals of aluminium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 (A)25℃における粘度が500,0
00cs以下のアルケニル基含有オルガノポリシロキサ
ン 100重量部、(B)酸化
アルミニウム粉末 300〜1,2
00重量部、(C)下記一般式(1) R1 aSi(OR2(4-a) (1) (但し、式中のR1は炭素数6〜20の非置換又は置換
の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜6のアルキル基で
あり、aは1,2又は3である。)で示されるアルコキ
シシラン 0.05〜10重量
部(D)白金族金属系触媒、(E)1分子中にケイ素原
子に結合した水素原子を少なくとも2個含んでいるオル
ガノハイドロジェンポリシロキサン(E)成分に含まれ
るSiH基と(A)成分に含まれるアルケニル基とのモ
ル比が0.05/1〜3/1の範囲を主成分とすること
を特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物。 【効果】 アルミナ(酸化アルミニウム)高充填による
液状シリコーンゴム組成物の粘度上昇を低減して成形加
工性を向上させ、それを硬化することにより高熱伝導性
の低硬度シリコーンゴム成形品を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低硬度の熱伝導性
硬化物を与える熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
パワートランジスタ、サイリスタ等の発熱性部品は熱の
発生により特性が低下するので、設置の際、ヒートシン
クを取り付け熱を放散したり、機器の金属製のシャーシ
に熱を逃がす対策がとられている。このとき、電気絶縁
性と熱伝導性を向上させるため発熱性部品とヒートシン
クの間にシリコーンゴムに熱伝導性充填剤を配合した放
熱絶縁性シートが用いられる。
【0003】また、パーソナルコンピューター、ワード
プロセッサ、CD−ROMドライブ等の電子機器の高集
積化が進み、装置内のLSI、MPU等の集積回路素子
の発熱量が増加したため、従来の冷却方法では不十分な
場合がある。特に、携帯用のノート型のパーソナルコン
ピューターの場合、機器内部の空間が狭いので、大きな
ヒートシンクや冷却ファンを取り付けることができな
い。これらの機器ではプリント基板上に集積回路素子が
搭載されており、基板の材質に熱伝導性の悪いガラス補
強エポキシ樹脂やポリイミド樹脂が用いられるので、従
来のように放熱絶縁シートを介して基板に熱を逃がすこ
とができない。
【0004】そこで、集積回路素子の近傍に自然冷却タ
イプ或いは強制冷却タイプの放熱部品を設置し、素子で
発生した熱を放熱部品に伝える方式が用いられる。この
方式で、素子と放熱部品を直接接触させると表面の凹凸
のため熱の伝わりが悪くなり、更に放熱絶縁シートを介
して取り付けても放熱絶縁シートの柔軟性がやや劣るた
め、熱膨張により素子と基板との間に応力がかかり破損
するおそれがある。また、各回路素子ごとに放熱部品を
取り付けようとすると余分なスペースが必要となり機器
の小型化が難しくなるので、いくつかの素子をひとつの
放熱部品に組み合わせて冷却する方式がとられる。特に
ノート型のパーソナルコンピューターで用いられている
TCPタイプのMPUは高さが他の素子に比べて低く、
発熱量が大きいため冷却方式を十分考慮する必要があ
る。
【0005】また、年々駆動周波数の高周波化に伴いM
PUの性能は向上するが、発熱量が増大するため、より
高熱伝導性の材料が求められている。
【0006】そこで、素子ごとに高さが異なることに対
して種々の隙間を埋められる低硬度の高熱伝導性材料が
必要になる。このような課題に対して、熱伝導性に優
れ、柔軟性があり、種々の隙間に対応できる熱伝導性シ
ートが提案されている。
【0007】特開平2−196453号公報には、シリ
コーン樹脂に金属酸化物等の熱伝導性材料を混入したも
のを成形したシートで、取り扱いに必要な強度を持たせ
たシリコーン樹脂層の上に柔らかく変形しやすいシリコ
ーン層が積層されているシートが開示されている。
【0008】特開平7−266356号公報には、熱伝
導性充填剤を含有し、アスカーC硬度が5〜50である
シリコーンゴム層と直径0.3mm以上の孔を有する多
孔性補強材層を組み合わせた熱伝導性複合シートが開示
されている。
【0009】特開平8−238707号公報には、可撓
性の三次元網状体又はフォーム体の骨格格子表面を熱伝
導性シリコーンゴムで被覆したシートが開示されてい
る。
【0010】特開平9−1738号公報には、補強性を
有したシート或いはクロスを内蔵し、少なくとも一方の
面が粘着性を有してアスカーC硬度が5〜50である厚
さ0.4mm以下の熱伝導性複合シリコーンシートが開
示されている。
【0011】特開平9−296114号公報には、付加
反応型液状シリコーンゴムと熱伝導性絶縁性セラミック
粉末を含有し、その硬化物のアスカーC硬度が25以下
で熱抵抗が3.0℃/W以下である放熱スペーサーが開
示されている。
【0012】しかし、このような低硬度の熱伝導性シー
トを更に高熱伝導化するため、熱伝導性充填剤を多量に
配合しようとすると、組成物の流動性が非常に悪くな
り、成形加工が難しくなる問題が生じる。
【0013】そこで、これを解決する方法として特開平
1−69661号公報には、平均粒径5μm以下のアル
ミナ粒子10〜30重量%と、残部が単一粒子の平均粒
径10μm以上であり、かつカッティングエッジを有し
ない形状である球状コランダム粒子からなるアルミナを
充填する高熱伝導性ゴム・プラスチック組成物が提案さ
れている。しかし、アルミナ粉末を80重量%以上に高
充填しようとすると粒子の組み合わせだけでは流動性に
限界がある。
【0014】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、アルミナ(酸化アルミニウム)高充填による液状シ
リコーンゴム組成物の粘度上昇を低減して成形加工性を
向上させ、それを硬化することにより高熱伝導性の低硬
度シリコーンゴム成形品を得ることができる熱伝導性シ
リコーンゴム組成物及びその製造方法を提供することを
目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、アルケニル基含有オルガノポリシロキサン、酸化ア
ルミニウム粉末と共に、長鎖の1価炭化水素基を有する
アルコキシシランを配合した付加反応硬化型のシリコー
ンゴム組成物を用いることにより、アルミナを高充填し
てもある程度の流動性が維持されるので、成形加工性に
優れると共に、低硬度化が可能であり、しかもアルミナ
高充填により高熱伝導性を付与でき、コストの高い窒化
ホウ素、窒化アルミニウム等を用いなくても高熱伝導の
成形品が製造できること、この場合、特にアルケニル基
含有オルガノポリシロキサンに酸化アルミニウム粉末と
長鎖の1価炭化水素基を有するアルコキシシランを配合
し、これを40℃以上の温度で混練りすることにより粘
度を低下させ、40℃未満で白金族金属系触媒とオルガ
ノハイドロジェンポリシロキサンを添加して得られたシ
リコーンゴム組成物が、より高い効果を与えることを知
見し、本発明をなすに至った。
【0016】即ち、本発明は、(A)25℃における粘
度が500,000cs以下のアルケニル基含有オルガ
ノポリシロキサン
100重量部、(B)酸化アルミニウム粉末
300〜1,200重量部、(C)
下記一般式(1) R1 aSi(OR2(4-a) (1) (但し、式中のR1は炭素数6〜20の非置換又は置換
の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜6のアルキル基で
あり、aは1,2又は3である。)で示されるアルコキ
シシラン 0.05〜10重量
部(D)白金族金属系触媒、(E)1分子中にケイ素原
子に結合した水素原子を少なくとも2個含んでいるオル
ガノハイドロジェンポリシロキサン(E)成分に含まれ
るSiH基と(A)成分に含まれるアルケニル基とのモ
ル比が0.05/1〜3/1の範囲を主成分とすること
を特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物、及び、
(A)〜(C)成分からなる組成物を40℃以上の温度
で加熱混合した後、40℃未満の温度で(D)及び
(E)成分を配合することを特徴とする上記熱伝導性シ
リコーンゴム組成物の製造方法を提供する。
【0017】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物において、
(A)成分の25℃における粘度が500,000cs
以下のアルケニル基含有オルガノポリシロキサンとして
は、下記平均組成式(2) R3 nSiO(4-n)/2 (2) (R3 は置換又は非置換の1価炭化水素基であり、nは
1.95〜2.05の正数である。)で示されるものが
使用される。ここで、アルケニル基は硬化時に架橋点と
なるため、基本的にはアルケニル基を2個以上含んでい
る分子がないとこの組成物は硬化しない。R3 中のアル
ケニル基含有量は、好ましくは0.001〜5モル%、
特に0.01〜0.5モル%である。
【0018】平均組成式中、R3は置換又は非置換の一
価炭化水素基を表し、具体的にはビニル基、アリル基等
のアルケニル基、メチル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の
シクロアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリール
基或いはこれらの水素原子が部分的に塩素原子、フッ素
原子などで置換されたハロゲン化炭化水素基等の炭素数
1〜12、特に1〜8のものが例示されるが、一般的に
はオルガノポリシロキサンの主鎖がジメチルシロキサン
単位からなるもの或いはこのオルガノポリシロキサンの
主鎖にビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基
などを導入したものが好ましい。また、分子鎖末端がト
リオルガノシリル基又は水酸基で封鎖されたものとすれ
ばよいが、このトリオルガノシリル基としてはトリメチ
ルシリル基、ジメチルビニルシリル基、トリビニルシリ
ル基などが例示される。
【0019】(A)成分の25℃における粘度は50
0,000cs以下であり、好ましくは25〜500,
000cs、特に好ましくは400〜100,000c
sの範囲である。この粘度が高すぎると組成物の流動性
が悪くなり、成形時の加工性が低下する。
【0020】(B)成分の酸化アルミニウム粉末は、一
般に六方晶又は六方菱形面格子の結晶構造を有するα−
Al23で、外観は白色結晶であり、見掛けは平均粒径
2〜80μm程度の粒子であるが、各粒子は0.2〜2
0μm程度の一次結晶アルミナから構成されている。通
常熱伝導性充填剤として使用されているものでよいが、
その平均粒径が50μm以下であることが好ましい。平
均粒径が50μmを超えると分散性が悪くなり、放置し
ておくと酸化アルミニウム粉末が沈降する問題が生じる
おそれがある。
【0021】また、酸化アルミニウム粉末の形状は丸み
を帯びた球状のものであることが好ましい。形状が丸み
を帯びているものほど高充填しても粘度の上昇を抑える
ことができるからである。このような球状酸化アルミニ
ウム粉末の製造方法としては、特開昭52−15498
号公報や特開平2−199004号公報に記載されてい
る。具体的には昭和電工株式会杜製の球状アルミナAS
シリーズ、株式会杜アドマテック製の高純度球状アルミ
ナAOシリーズが挙げられる。
【0022】更に、粒径の大きい酸化アルミニウム粉末
と粒径の小さい酸化アルミニウム粉末を最密充填理論分
布曲線に従う比率で組み合わせることにより、充填効率
が向上して、低粘度化及び高熱伝導化が可能になる。
【0023】(B)成分の酸化アルミニウム粉末の配合
量は、上記(A)成分100重量部に対し300〜1,
200重量部の範囲であり、好ましくは400〜1,0
00重量部の範囲である。配合量が300重量部未満で
は組成物の熱伝導性が不十分となり、一方1,200重
量部を超えると組成物の粘度が高くなり、成形加工性が
悪くなる。
【0024】(C)成分のアルコキシシランは、下記一
般式(1) R1 aSi(OR2(4-a) (1) (但し、式中のR1は炭素数6〜20の非置換又は置換
の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜6のアルキル基で
あり、aは1,2又は3である。)で示される。
【0025】式中のR1は炭素数6〜20の非置換又は
置換の1価炭化水素基であり、具体例としてはヘキシル
基、オクチル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基等のアルキル基やベンジル
基、フェニルエチル基等のアラルキル基などが挙げられ
るが、特に炭素数6〜20のアルキル基が好ましい。
【0026】(C)成分が炭素数6未満のアルキル基の
場合、組成物の粘度を低下させる効果がなくなり、反対
に粘度が上昇するおそれがある。炭素数が20を超える
と(A)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサ
ンとの相溶性が悪くなり、すぐにアルコキシシランが分
離してくる現象が発生する。
【0027】また、R2はメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数1
〜6の1種もしくは2種以上のアルキル基であり、具体
的には、OR2基としてメトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基などが例示され、特にメトキシ基
及びエトキシ基が好ましい。aは1,2又は3であり、
特に1であることが好ましい。
【0028】(C)成分のアルコキシシランの代表例を
下記に示すが、本発明はこれに限定されるものではな
い。 C613Si(OCH33817Si(OC2531021Si(OCH331225Si(OCH331429Si(OC25365−CH2CH2Si(OCH33
【0029】なお、特開平8−325457号公報に
は、(1)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン1
00重量部、(2)オルガノハイドロジェンポリシロキ
サン0.1〜50重量部、(3)一分子中に少なくとも
1個のケイ素原子結合アルコキシ基又は水酸基を含有す
るオルガノシロキサン0.1〜10重量部、(4)平均
粒径10μm未満であるアルミナ5〜95重量%、平均
粒径が10〜50μmのアルミナ95〜5重量%の比率
で合計300〜1,200重量部、(5)ヒドロシリル
化反応触媒からなる熱伝導性シリコーンゴム組成物が開
示されている。この組成物中の(3)成分はアルミナの
沈降を防止するため組成物にチクソトロピー性を付与す
る目的(粘度を上げる目的)で添加されるアルコキシシ
ランの部分加水分解縮合物であり、本発明の(C)成分
とはその構造及び作用が全く異なるものである。
【0030】(C)成分の配合量は、(A)成分100
重量部に対し0.05〜10重量部の範囲であり、好ま
しくは0.1〜8重量部の範囲である。0.05重量部
より添加量が少ないと組成物の粘度を低下させる効果が
小さくなる。10重量部を超えると粘度低下の効果が飽
和し、更にアルコキシシランが分離してくるおそれがあ
る。
【0031】(D)成分の白金族金属系触媒は付加反応
を促進するためのものであり、具体的には白金ブラッ
ク、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール変性物、塩化
白金酸とオレフィン、ビニルシロキサン或いはアセチレ
ンアルコールとの錯体等が例示される。この(D)成分
の添加量は、希望する硬化速度に応じて選択すればよい
が、通常は(A)成分に対して白金量で0.1〜1,0
00ppm、好ましくは1〜200ppmの範囲とすれ
ばよい。
【0032】(E)成分のオルガノハイドロジェンポリ
シロキサンは、1分子中にケイ素原子に直接結合してい
る水素原子(SiH基)を2個以上含んでいる直鎖状、
分岐状又は環状の分子からなるものであり、下記平均組
成式(3) HbcSiO(4-b-c)/2 (3) (Rは炭素数1〜10の置換又は非置換の1価炭化水素
基であり、Rとしては上記R3と同様のもの、好ましく
は脂肪族不飽和結合を有さないものが挙げられ、メチル
基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、
特にはメチル基である。b、cは0<b<3、0≦c<
3であり、かつ0<b+c<3である。)で示されるも
のが好ましく、特に25℃における粘度が1〜1,00
0csの範囲であることが好ましい。
【0033】この(E)成分は(A)成分のアルケニル
基と付加反応し、架橋剤として作用する。(E)成分の
添加量は、(A)成分のアルケニル基1個に対して通常
0.05〜3当量、好ましくは0.1〜2当量である。
0.05当量より少ない場合には架橋密度が低くなりす
ぎ、硬化した組成物の硬度が低くなり、成形及び取扱い
が難しくなる。3当量より多い場合は硬化した組成物の
硬度が高くなり、低硬度の熱伝導性シートができなくな
る。
【0034】その他の添加成分として、本発明の組成物
には、組成物の硬化速度、保存安定性を調節する目的
で、例えば、メチルビニルシクロテトラシロキサン等の
ビニル基含有オルガノポリシロキサン、トリアリルイソ
シアヌレート、アセチレンアルコール及びそのシロキサ
ン変性物などを添加することができる。また、本発明の
効果を損なわない程度の補強性シリカ、着色剤、酸化
鉄、酸化セリウム等の耐熱性向上剤、接着助剤を添加し
てもよい。
【0035】本発明の組成物の製造方法は、最初に
(A)成分であるアルケニル基含有オルガノポリシロキ
サンと(B)成分である酸化アルミニウム粉末、(C)
成分であるアルコキシシランをプラネタリミキサー、ニ
ーダー、品川ミキサー等の混合機で40℃以上、特に6
0〜150℃の温度で加熱しながら混練りすることが好
ましい。温度をかけなくても、長時間混練りすれば組成
物の低粘度化は可能であるが、製造工程の短縮化及び配
合中の混合機への負荷の低減のために加熱により促進す
ることが好ましい。
【0036】次に、得られた組成物を40℃未満、好ま
しくは室温まで冷却後、(D)成分である白金族金属系
触媒と(E)成分であるオルガノハイドロジェンポリシ
ロキサンを添加配合することにより、本発明の熱伝導性
シリコーンゴム組成物を製造することができる。
【0037】本発明の組成物を硬化させた熱伝導性シリ
コーンゴムの硬さは、アスカーC硬度計で2〜50の範
囲、好ましくは5〜40の範囲である。この硬度は通常
シリコーンゴムの硬度測定に用いられるJIS−A硬度
で約20以下となり、極めて低硬度となる。ここで、ア
スカーC硬度とは、SRIS0101(日本ゴム協会規
格)及びJIS S6050に基づき、スプリング式硬
さ試験機アスカーC型を使用して厚さ6mmのシートを
2枚重ねて測定した硬度である。硬度が2未満ではゴム
層の強度が乏しいため、成形が難しくなり、量産性が悪
くなるおそれがある。硬度が50を超えると硬くなり、
発熱性部品との密着性が低下して、また部品形状への追
従性が悪くなるおそれがある。
【0038】本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物
は、熱伝導性シリコーンゴムシートとして特に有用であ
る。
【0039】熱伝導性シリコーンゴムシートの内部にガ
ラスクロス、ポリエステル、ナイロン等からなるクロス
或いは不織布、ポリイミド、ナイロン、ポリエステル等
からなる樹脂フィルム等を入れて、補強してもよい。こ
れによりシートの強度が向上すると共に、シートの伸び
が抑制されるので取扱いやすくなり作業性が向上する。
【0040】熱伝導性シリコーンゴムシートの成形方法
としては、次の方法が例示される。
【0041】モールド成形:金型中に未硬化の液状組成
物を流し込み、金型を締めてから熱プレス機により圧力
と熱をかけ液状組成物を硬化させる。
【0042】射出成形:射出成形機上の加熱した金型の
中にノズルから未硬化の液状組成物を射出して、金型の
キャビティ内に充填する。硬化後金型を開け、シートを
取り出す。
【0043】コーティング成形:コーティング装置に連
続的にセパレータフィルム(例えば、PET)を供給
し、この上に未硬化の液状組成物をナイフコータ等によ
り一定の厚さに塗布してから加熱炉を通して液状組成物
を硬化させる。
【0044】なお、本発明のシリコーンゴム組成物の硬
化条件は、成形方法や成形形状により異なるが、通常6
0〜200℃、20秒〜60分とすることができる。
【0045】
【発明の効果】本発明の熱伝導性シリコーンゴム組成物
は、下記の特長を有する。 (1)酸化アルミニウムを高充填してもある程度の流動
性が維持されるので、成形加工性に優れる。 (2)酸化アルミニウムの高充填により高熱伝導性を付
与できる。 (3)付加硬化型の液状シリコーンゴムをベースにして
いるので、アスカーC硬度で50以下の低硬度化が可能
である。ミラブルタイプのゴムをベースにするとJIS
−A硬度で20までの硬度(アスカーC硬度でおよそ4
5)が限界となる。 (4)コストの高い窒化ホウ素、窒化アルミニウム等の
熱伝導性充填剤を用いなくても高熱伝導の成形品が製造
できる。
【0046】従って、本発明はパーソナルコンピュータ
ー、ワードプロセッサ、CD−ROMドライブ等の電子
機器のLSI、MPU等の集積回路素子の放熱に用いる
低硬度熱伝導性シリコーンゴムシート用材料に最適であ
る。
【0047】
【実施例】以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限される
ものではない。
【0048】[実施例1〜5、比較例1]25℃におけ
る粘度が30,000csのジメチルビニルシロキシ基
で両末端を封止したビニル基含有ジメチルポリシロキサ
ン70重量部、25℃における粘度が600csのジメ
チルビニルシロキシ基で両末端を封止したビニル基含有
ジメチルポリシロキサン30重量部、平均粒径16μm
の球状酸化アルミニウム粉末AS−30(商品名、昭和
電工(株)製)640重量部、平均粒径3μmのランダ
ム形状の酸化アルミニウム粉末AL−45−H(商品
名、昭和電工(株)製)160重量部、及びデシルトリ
メトキシシランC1021Si(OCH33を表1に示し
た量で添加し、プラネタリミキサーを用いて室温で30
分間混練りした後、組成物の粘度を測定した。次にプラ
ネタリミキサーを用いて温度100℃で加熱しながら3
0分間混練りした後、同様に組成物の粘度を測定した。
比較のため、デシルトリメトキシシランを添加しない以
外は同様な方法で配合し、粘度を測定した。
【0049】各組成物を冷却後、塩化白金酸のビニルシ
ロキサン錯体(白金含有量1%)0.36重量部を均一
に混合し、次いでエチニルシクロヘキサノール0.09
重量部を添加混合し、更に25℃の粘度が18csの下
記式で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン
(SiH含有量0.0031mol/g)0.2重量部
を均一に混合して、熱伝導性シリコーンゴム組成物を調
製した。なお、このときのSiH基とビニル基の比は
0.5であった。
【0050】
【化1】
【0051】これらの低硬度熱伝導性シリコーンゴム組
成物をモールド成形により150℃で10分間加熱し
て、厚さ6mmのシートを作製し、アスカーC硬度計で
硬度を測定した。
【0052】また、厚さ20mmのブロック体をモール
ド成形で作製し、熱伝導率計(商品名:Shother
m QTM迅速熱伝導率計、昭和電工(株)製)を使用
して熱伝導率を測定した。結果を表1に示す。
【0053】
【表1】
【0054】[実施例6、比較例2]デシルトリメトキ
シシランをヘキシルトリメトキシシランC613Si
(OCH332重量部或いはメチルトリエトキシシラン
CH3Si(OC2532重量部に変更する以外は実施
例3と同様に熱伝導性シリコーンゴム組成物を調製し、
粘度、硬度、熱伝導率を測定した。結果を表2に示す。
【0055】
【表2】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年6月9日(1999.6.9)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】R1が炭素数6未満のアルキル基の場合、
組成物の粘度を低下させる効果がなくなり、反対に粘度
が上昇するおそれがある。炭素数が20を超えると
(A)成分のアルケニル基含有オルガノポリシロキサン
との相溶性が悪くなり、すぐにアルコキシシランが分離
してくる現象が発生する。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0033
【補正方法】変更
【補正内容】
【0033】この(E)成分は(A)成分のアルケニル
基と付加反応し、架橋剤として作用する。(E)成分の
添加量は、(E)成分に含まれるSiH基が(A)成分
のアルケニル基1個に対して通常0.05〜3当量、好
ましくは0.1〜2当量である。0.05当量より少な
い場合には架橋密度が低くなりすぎ、硬化した組成物の
硬度が低くなり、成形及び取扱いが難しくなる。3当量
より多い場合は硬化した組成物の硬度が高くなり、低硬
度の熱伝導性シートができなくなる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5:54) Fターム(参考) 4J002 CP042 CP141 DA118 DD078 DE146 EX037 FD147 FD158 FD206

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A)25℃における粘度が500,0
    00cs以下のアルケニル基含有オルガノポリシロキサ
    ン 100重量部、(B)酸化
    アルミニウム粉末 300〜1,2
    00重量部、(C)下記一般式(1) R1 aSi(OR2(4-a) (1) (但し、式中のR1は炭素数6〜20の非置換又は置換
    の1価炭化水素基、R2は炭素数1〜6のアルキル基で
    あり、aは1,2又は3である。)で示されるアルコキ
    シシラン 0.05〜10重量
    部(D)白金族金属系触媒、(E)1分子中にケイ素原
    子に結合した水素原子を少なくとも2個含んでいるオル
    ガノハイドロジェンポリシロキサン(E)成分に含まれ
    るSiH基と(A)成分に含まれるアルケニル基とのモ
    ル比が0.05/1〜3/1の範囲を主成分とすること
    を特徴とする熱伝導性シリコーンゴム組成物。
  2. 【請求項2】 (B)成分の酸化アルミニウム粉末の平
    均粒径が50μm以下である請求項1に記載された熱伝
    導性シリコーンゴム組成物。
  3. 【請求項3】 (B)成分の酸化アルミニウム粉末が球
    状の粒子を含んでいる請求項1又は2に記載された熱伝
    導性シリコーンゴム組成物。
  4. 【請求項4】 (C)成分のアルコキシシランのR1
    が炭素数6〜20のアルキル基である請求項1乃至3の
    いずれか1項に記載された熱伝導性シリコーンゴム組成
    物。
  5. 【請求項5】 (A)〜(E)成分からなる組成物を硬
    化して得られる硬化物の硬さがアスカーC硬度計で2〜
    50の範囲である請求項1乃至4のいずれか1項に記載
    された熱伝導性シリコーンゴム組成物。
  6. 【請求項6】 (A)〜(C)成分からなる組成物を4
    0℃以上の温度で加熱混合した後、40℃未満の温度で
    (D)及び(E)成分を配合することを特徴とする請求
    項1記載の熱伝導性シリコーンゴム組成物の製造方法。
JP18695398A 1998-06-17 1998-06-17 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法 Expired - Fee Related JP3444199B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18695398A JP3444199B2 (ja) 1998-06-17 1998-06-17 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法
TW088110376A TW500766B (en) 1998-06-17 1999-06-17 Thermal conductive silicone rubber compositions and method of making
US09/334,746 US6169142B1 (en) 1998-06-17 1999-06-17 Thermal conductive silicone rubber compositions and method of making

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18695398A JP3444199B2 (ja) 1998-06-17 1998-06-17 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000001616A true JP2000001616A (ja) 2000-01-07
JP3444199B2 JP3444199B2 (ja) 2003-09-08

Family

ID=16197622

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18695398A Expired - Fee Related JP3444199B2 (ja) 1998-06-17 1998-06-17 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6169142B1 (ja)
JP (1) JP3444199B2 (ja)
TW (1) TW500766B (ja)

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001329173A (ja) * 2000-05-25 2001-11-27 Fuji Kobunshi Kogyo Kk 熱伝導性シリコーンゲル組成物
US6828369B2 (en) 2002-03-05 2004-12-07 Polymatech Co., Ltd Sheet for conducting heat
US7094459B2 (en) 2001-12-27 2006-08-22 Polymatech Co., Ltd. Method for cooling electronic components and thermally conductive sheet for use therewith
KR100632084B1 (ko) 2003-11-12 2006-10-04 폴리마테크 컴퍼니 리미티드 고열전도성 성형체 및 그 제조 방법
JP2008160126A (ja) * 2007-12-21 2008-07-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 電子部品の冷却構造
JP2008266659A (ja) * 2008-08-11 2008-11-06 Efuko Kk 非架橋樹脂組成物およびそれを用いた熱伝導性成形体
JP2009179714A (ja) * 2008-01-30 2009-08-13 Dow Corning Toray Co Ltd 熱伝導性シリコーングリース組成物
JP2010502780A (ja) * 2006-09-01 2010-01-28 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 分岐ポリシロキサン組成物
US7692032B2 (en) 2003-09-29 2010-04-06 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermal conductive silicone composition
JP2010511738A (ja) * 2006-12-01 2010-04-15 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド シリコーン接着剤組成物およびそれを調製する方法
JP2013071961A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 熱伝導性シリコーンゴム組成物
JP2016125001A (ja) * 2015-01-06 2016-07-11 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物並びに複合シート
KR20170039646A (ko) 2014-07-28 2017-04-11 덴카 주식회사 구상 알루미나 분말 및 이를 이용한 수지 조성물
WO2018016565A1 (ja) 2016-07-22 2018-01-25 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 熱伝導性ポリオルガノシロキサン組成物用表面処理剤
JP2018053260A (ja) * 2017-12-21 2018-04-05 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物並びに複合シート
WO2018131486A1 (ja) * 2017-01-13 2018-07-19 デンカ株式会社 熱伝導性樹脂組成物、放熱シート、放熱部材及びその製造方法
WO2019021825A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
WO2019021826A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 多成分硬化型熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
WO2019021824A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
WO2019111852A1 (ja) 2017-12-04 2019-06-13 積水ポリマテック株式会社 熱伝導性組成物
WO2020203299A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 ダウ・東レ株式会社 多成分型熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
US20210147681A1 (en) 2016-07-22 2021-05-20 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermally conductive polysiloxane composition
WO2021200486A1 (ja) 2020-03-31 2021-10-07 デンカ株式会社 炭素含有アルミナ粉末、樹脂組成物、放熱部品、及び炭素含有アルミナ粉末の製造方法
US11254849B2 (en) 2015-11-05 2022-02-22 Momentive Performance Materials Japan Llc Method for producing a thermally conductive polysiloxane composition
US11359124B2 (en) 2017-05-31 2022-06-14 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermally conductive polysiloxane composition

Families Citing this family (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4301468B2 (ja) * 1999-07-07 2009-07-22 信越化学工業株式会社 耐熱熱伝導性シリコーンゴム複合シート及びその製造方法
DE10057111C1 (de) * 2000-11-16 2002-04-11 Bosch Gmbh Robert Wärmeleitfähige Vergußmasse
US6448329B1 (en) 2001-02-28 2002-09-10 Dow Corning Corporation Silicone composition and thermally conductive cured silicone product
US7060747B2 (en) * 2001-03-30 2006-06-13 Intel Corporation Chain extension for thermal materials
EP1248128B1 (en) * 2001-04-03 2007-08-15 Autonetworks Technologies, Ltd. Optical connector, optical element holding structure, and structure of a mount section of an optical connector
CN100433310C (zh) 2001-04-23 2008-11-12 信越化学工业株式会社 散热元件
US6620515B2 (en) * 2001-12-14 2003-09-16 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials
US20030168731A1 (en) * 2002-03-11 2003-09-11 Matayabas James Christopher Thermal interface material and method of fabricating the same
US6815486B2 (en) 2002-04-12 2004-11-09 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials and methods for their preparation and use
US6791839B2 (en) * 2002-06-25 2004-09-14 Dow Corning Corporation Thermal interface materials and methods for their preparation and use
US6783692B2 (en) 2002-10-17 2004-08-31 Dow Corning Corporation Heat softening thermally conductive compositions and methods for their preparation
WO2004108812A1 (en) * 2003-06-04 2004-12-16 Showa Denko K.K. Corundum for filling in resin and resin composition
TW200503952A (en) 2003-06-04 2005-02-01 Showa Denko Kk Corundum for filling in resin and resin composition
US20050038188A1 (en) * 2003-08-14 2005-02-17 Dongchan Ahn Silicones having improved chemical resistance and curable silicone compositions having improved migration resistance
US7045586B2 (en) * 2003-08-14 2006-05-16 Dow Corning Corporation Adhesives having improved chemical resistance and curable silicone compositions for preparing the adhesives
JP2005064291A (ja) * 2003-08-14 2005-03-10 Nissan Motor Co Ltd 絶縁シートおよびこの絶縁シートを用いた半導体装置組立体
US20050038183A1 (en) * 2003-08-14 2005-02-17 Dongchan Ahn Silicones having improved surface properties and curable silicone compositions for preparing the silicones
JP4645793B2 (ja) 2003-10-14 2011-03-09 信越化学工業株式会社 電極回路保護用シリコーンゴム組成物、電極回路保護材及び電気・電子部品
WO2005047378A2 (en) * 2003-11-05 2005-05-26 Dow Corning Corporation Thermally conductive grease and methods and devices in which said grease is used
FR2871473A1 (fr) * 2004-06-14 2005-12-16 Duncan Chau Chuen Fung Compositions de silicone melangee
EP2653923A1 (en) 2004-08-11 2013-10-23 Dow Corning Corporation Method for forming semipermeable membranes for sensor applications using photopolymerizable silicone materials
ES2249170B1 (es) * 2004-09-03 2007-06-01 Duncan C. Fung Composiciones de silicona mezclada.
US8147742B2 (en) * 2004-10-08 2012-04-03 Dow Corning Corporation Lithography processes using phase change compositions
US7850870B2 (en) * 2004-10-28 2010-12-14 Dow Corning Corporation Conductive curable compositions
JP5090177B2 (ja) * 2004-12-16 2012-12-05 ダウ・コーニング・コーポレイション 熱界面組成物
US7541264B2 (en) * 2005-03-01 2009-06-02 Dow Corning Corporation Temporary wafer bonding method for semiconductor processing
JP4265796B2 (ja) * 2005-03-23 2009-05-20 富士通株式会社 受熱シート、電子機器及び受熱シートの製造方法
US20060264566A1 (en) * 2005-05-19 2006-11-23 Wacker Chemical Corporation HCR room temperature curable rubber composition
CN1927988A (zh) * 2005-09-05 2007-03-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 热界面材料及其制备方法
WO2007040794A1 (en) * 2005-09-21 2007-04-12 Dow Corning Corporation Ambient lithographic method using organoborane amine complexes
CN1962807A (zh) * 2005-11-11 2007-05-16 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 热界面材料混合方法及系统
TWI285675B (en) * 2005-12-16 2007-08-21 Foxconn Tech Co Ltd Heat conductive grease and semiconductor device
KR20080104279A (ko) * 2006-02-24 2008-12-02 다우 코닝 코포레이션 실리콘으로 캡슐화된 발광 장치 및 실리콘 제조용의 경화성실리콘 조성물
US8097689B2 (en) * 2006-06-20 2012-01-17 Dow Corning Corporation Curable organosilicon composition
US20080166552A1 (en) * 2006-11-06 2008-07-10 Arlon, Inc. Silicone based compositions for thermal interface materials
US7462294B2 (en) * 2007-04-25 2008-12-09 International Business Machines Corporation Enhanced thermal conducting formulations
WO2009021249A2 (en) 2007-10-29 2009-02-12 Dow Corning Corporation Polar polydimethylsiloxane molds, methods of making the molds, and methods of using the molds for pattern transfer
CN102498174B (zh) 2009-02-17 2014-03-19 道康宁公司 有机硅凝胶密封及其制备和使用的方法
JP5640021B2 (ja) 2009-03-12 2014-12-10 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation 熱界面材料、並びに、その調製及び使用方法
US8618211B2 (en) 2009-03-16 2013-12-31 Dow Corning Corporation Thermally conductive grease and methods and devices in which said grease is used
US9593209B2 (en) 2009-10-22 2017-03-14 Dow Corning Corporation Process for preparing clustered functional polyorganosiloxanes, and methods for their use
TWI502004B (zh) 2009-11-09 2015-10-01 Dow Corning 群集官能性聚有機矽氧烷之製法及其使用方法
WO2011072056A2 (en) 2009-12-08 2011-06-16 Dow Corning Coporation Cure rate control for alkoxysilyl-end-blocked polymers
CN102753636B (zh) 2010-02-12 2014-02-12 道康宁公司 用于半导体加工的暂时晶片粘结方法
KR20140034122A (ko) 2010-12-08 2014-03-19 다우 코닝 코포레이션 봉지재의 형성에 적합한 금속 산화물 나노입자 함유 실록산 조성물
JP2013544949A (ja) 2010-12-08 2013-12-19 ダウ コーニング コーポレーション 封止材を形成するのに好適な二酸化チタンナノ粒子を含むシロキサン組成物
US20130256741A1 (en) 2010-12-08 2013-10-03 Brian R. Harkness Siloxane Compositions Suitable For Forming Encapsulants
WO2012102852A1 (en) 2011-01-26 2012-08-02 Dow Corning Corporation High temperature stable thermally conductive materials
CN103430637A (zh) 2011-03-22 2013-12-04 道康宁公司 Led组件内的热管理
JP6117211B2 (ja) 2011-09-20 2017-04-19 ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation ルテニウム含有ヒドロシリル化触媒及びこの触媒を含有する組成物
WO2014021908A1 (en) 2011-09-20 2014-02-06 Dow Corning Corporation Iridium containing hydrosilylation catalysts and compositions containing the catalysts
WO2013043785A2 (en) 2011-09-20 2013-03-28 Dow Corning Corporation Nickel containing hydrosilylation catalysts and compositions containing the catalysts
CN103958059B (zh) 2011-12-01 2017-04-26 道康宁公司 硅氢加成反应催化剂和可固化组合物及它们的制备和使用方法
US8587945B1 (en) 2012-07-27 2013-11-19 Outlast Technologies Llc Systems structures and materials for electronic device cooling
KR102170923B1 (ko) 2013-02-11 2020-10-29 다우 실리콘즈 코포레이션 클러스터형 작용성 폴리오르가노실록산 및 실리콘 반응성 희석제를 포함하는 경화성 실리콘 조성물
WO2014124367A1 (en) 2013-02-11 2014-08-14 Dow Corning Corporation Method for forming thermally conductive thermal radical cure silicone compositions
JP6370812B2 (ja) 2013-02-11 2018-08-08 ダウ シリコーンズ コーポレーション クラスタ化官能性ポリオルガノシロキサン、これを生成するプロセス、及びこれを使用する方法
US9670392B2 (en) 2013-02-11 2017-06-06 Dow Corning Corporation Stable thermal radical curable silicone adhesive compositions
EP2953994B1 (en) 2013-02-11 2021-09-08 Dow Silicones Corporation Moisture-curable hot melt silicone adhesive compositions including an alkoxy-functional siloxane reactive resin
KR102186328B1 (ko) 2013-02-11 2020-12-03 다우 실리콘즈 코포레이션 알콕시-작용성 유기폴리실록산 수지 및 중합체와 이의 관련된 형성 방법
CN105102575B (zh) 2013-02-11 2017-06-20 道康宁公司 用于形成导热热自由基固化有机硅组合物的原位方法
WO2016120270A1 (en) 2015-01-28 2016-08-04 Dow Corning Corporation Elastomeric compositions and their applications
US20160223269A1 (en) 2015-02-04 2016-08-04 Outlast Technologies, LLC Thermal management films containing phase change materials
US10003053B2 (en) 2015-02-04 2018-06-19 Global Web Horizons, Llc Systems, structures and materials for electrochemical device thermal management
US10431858B2 (en) 2015-02-04 2019-10-01 Global Web Horizons, Llc Systems, structures and materials for electrochemical device thermal management
JP6436035B2 (ja) * 2015-09-25 2018-12-12 信越化学工業株式会社 熱軟化性熱伝導性シリコーングリース組成物、熱伝導性被膜の形成方法、放熱構造及びパワーモジュール装置
EP3196229B1 (en) 2015-11-05 2018-09-26 Dow Silicones Corporation Branched polyorganosiloxanes and related curable compositions, methods, uses and devices
TWI738743B (zh) 2016-03-23 2021-09-11 美商道康寧公司 金屬-聚有機矽氧烷
JP2017188597A (ja) * 2016-04-07 2017-10-12 アズビル株式会社 基板ユニットおよび基板ユニットの製造方法
GB201703484D0 (en) 2016-05-06 2017-04-19 Dow Corning Adhesive compositions and their applications
JP6831403B2 (ja) 2016-07-13 2021-02-17 ダウ シリコーンズ コーポレーション 金属非プロトン性オルガノシランオキシド化合物を含有する配合物
GB201613412D0 (en) 2016-08-03 2016-09-14 Dow Corning Elastomeric compositions and their applications
GB201613399D0 (en) 2016-08-03 2016-09-14 Dow Corning Cosmetic composition comprising silicone materials
GB201613414D0 (en) 2016-08-03 2016-09-14 Dow Corning Elastomeric compositions and their applications
GB201613397D0 (en) 2016-08-03 2016-09-14 Dow Corning Cosmetic composition comprising silicone materials
US20180163111A1 (en) * 2016-12-14 2018-06-14 National Chung-Shan Institute Of Science And Technology Thermal conductive plastic material and method of manufacturing the same
JP1599373S (ja) 2017-04-03 2018-03-12
GB201707437D0 (en) 2017-05-09 2017-06-21 Dow Corning Lamination adhesive compositions and their applications
GB201707439D0 (en) 2017-05-09 2017-06-21 Dow Corning Lamination Process
EP3688111A4 (en) 2017-09-29 2021-07-28 Dow Silicones Corporation THERMAL CONDUCTIVE COMPOSITION
JP7066853B2 (ja) 2018-01-11 2022-05-13 ダウ シリコーンズ コーポレーション 電子部品上に熱伝導性組成物を適用する方法
CN112805334B (zh) 2018-11-07 2023-08-04 陶氏环球技术有限责任公司 导热组合物以及使用所述组合物的方法和装置
TWI826625B (zh) 2018-12-28 2023-12-21 美商帝克萊股份有限公司 耐高溫傳導性熱固型樹脂組合物
KR102570407B1 (ko) * 2019-06-24 2023-08-23 후지고분시고오교오가부시끼가이샤 내열성 열전도성 조성물 및 내열성 열전도성 시트
CN116096802A (zh) * 2020-08-03 2023-05-09 汉高股份有限及两合公司 低粘度导热膏体
CN114539780A (zh) * 2020-11-24 2022-05-27 深圳先进电子材料国际创新研究院 一种单组份热界面材料及其制备方法
JP2024516444A (ja) 2021-05-05 2024-04-15 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ゴム相溶性を有する熱界面材料
WO2024098435A1 (en) 2022-11-12 2024-05-16 Wacker Chemie Ag A polysiloxane composition

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4604424A (en) * 1986-01-29 1986-08-05 Dow Corning Corporation Thermally conductive polyorganosiloxane elastomer composition
JPS63251466A (ja) * 1987-04-06 1988-10-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱伝導性液状シリコ−ンゴム組成物
JPH0674350B2 (ja) 1987-09-10 1994-09-21 昭和電工株式会社 高熱伝導性ゴム・プラスチック組成物
JP2536120B2 (ja) 1989-01-25 1996-09-18 日本電気株式会社 電子部品の冷却構造
JPH04359058A (ja) * 1991-06-03 1992-12-11 Shin Etsu Chem Co Ltd 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法
US5352724A (en) * 1992-07-16 1994-10-04 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Silicone rubber composition with improved fluidity
JP2938340B2 (ja) 1994-03-29 1999-08-23 信越化学工業株式会社 熱伝導性複合シート
JP3075132B2 (ja) 1995-03-06 2000-08-07 信越化学工業株式会社 放熱シート
JP3029556B2 (ja) 1995-06-22 2000-04-04 信越化学工業株式会社 熱伝導性複合シリコーンゴムシート
JP3498823B2 (ja) 1996-04-30 2004-02-23 電気化学工業株式会社 放熱スペーサーおよびその用途

Cited By (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001329173A (ja) * 2000-05-25 2001-11-27 Fuji Kobunshi Kogyo Kk 熱伝導性シリコーンゲル組成物
US7094459B2 (en) 2001-12-27 2006-08-22 Polymatech Co., Ltd. Method for cooling electronic components and thermally conductive sheet for use therewith
US6828369B2 (en) 2002-03-05 2004-12-07 Polymatech Co., Ltd Sheet for conducting heat
US7692032B2 (en) 2003-09-29 2010-04-06 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermal conductive silicone composition
KR100632084B1 (ko) 2003-11-12 2006-10-04 폴리마테크 컴퍼니 리미티드 고열전도성 성형체 및 그 제조 방법
JP2010502780A (ja) * 2006-09-01 2010-01-28 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド 分岐ポリシロキサン組成物
JP2010511738A (ja) * 2006-12-01 2010-04-15 モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド シリコーン接着剤組成物およびそれを調製する方法
JP2008160126A (ja) * 2007-12-21 2008-07-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 電子部品の冷却構造
JP2009179714A (ja) * 2008-01-30 2009-08-13 Dow Corning Toray Co Ltd 熱伝導性シリコーングリース組成物
JP2008266659A (ja) * 2008-08-11 2008-11-06 Efuko Kk 非架橋樹脂組成物およびそれを用いた熱伝導性成形体
JP2013071961A (ja) * 2011-09-27 2013-04-22 Shin-Etsu Chemical Co Ltd 熱伝導性シリコーンゴム組成物
US10144816B2 (en) 2014-07-28 2018-12-04 Denka Company Limited Spherical alumina powder and resin composition using same
KR20170039646A (ko) 2014-07-28 2017-04-11 덴카 주식회사 구상 알루미나 분말 및 이를 이용한 수지 조성물
JP2016125001A (ja) * 2015-01-06 2016-07-11 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物並びに複合シート
US11254849B2 (en) 2015-11-05 2022-02-22 Momentive Performance Materials Japan Llc Method for producing a thermally conductive polysiloxane composition
KR20190034574A (ko) 2016-07-22 2019-04-02 모멘티브 파포만스 마테리아루즈 쟈판 고도가이샤 열전도성 폴리오가노실록산 조성물용 표면 처리제
US20210147681A1 (en) 2016-07-22 2021-05-20 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermally conductive polysiloxane composition
US11286349B2 (en) 2016-07-22 2022-03-29 Momentive Performance Materials Japan Llc Surface treatment agent for thermally conductive polyorganosiloxane composition
WO2018016565A1 (ja) 2016-07-22 2018-01-25 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 熱伝導性ポリオルガノシロキサン組成物用表面処理剤
US11118056B2 (en) 2016-07-22 2021-09-14 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermally conductive polysiloxane composition
JPWO2018131486A1 (ja) * 2017-01-13 2019-11-07 デンカ株式会社 熱伝導性樹脂組成物、放熱シート、放熱部材及びその製造方法
WO2018131486A1 (ja) * 2017-01-13 2018-07-19 デンカ株式会社 熱伝導性樹脂組成物、放熱シート、放熱部材及びその製造方法
US11359124B2 (en) 2017-05-31 2022-06-14 Momentive Performance Materials Japan Llc Thermally conductive polysiloxane composition
WO2019021825A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
KR20200032709A (ko) 2017-07-24 2020-03-26 다우 도레이 캄파니 리미티드 다성분 경화형 열전도성 실리콘 겔 조성물, 열전도성 부재 및 방열 구조체
KR20200033879A (ko) 2017-07-24 2020-03-30 다우 도레이 캄파니 리미티드 열전도성 실리콘 겔 조성물, 열전도성 부재 및 방열 구조체
JPWO2019021824A1 (ja) * 2017-07-24 2020-07-30 ダウ・東レ株式会社 熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
KR102625362B1 (ko) * 2017-07-24 2024-01-18 다우 도레이 캄파니 리미티드 열전도성 실리콘 겔 조성물, 열전도성 부재 및 방열 구조체
US11674040B2 (en) 2017-07-24 2023-06-13 Dow Toray Co., Ltd. Thermally-conductive silicone gel composition, thermally-conductive member, and heat dissipation structure
WO2019021824A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
US11578245B2 (en) 2017-07-24 2023-02-14 Dow Toray Co., Ltd. Thermally-conductive silicone gel composition, thermally-conductive member, and heat dissipation structure
US11549043B2 (en) 2017-07-24 2023-01-10 Dow Toray Co., Ltd. Multicomponent-curable thermally-conductive silicone gel composition, thermally-conductive member and heat dissipation structure
WO2019021826A1 (ja) 2017-07-24 2019-01-31 東レ・ダウコーニング株式会社 多成分硬化型熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
US11236259B2 (en) 2017-12-04 2022-02-01 Sekisui Polymatech Co., Ltd. Thermally conductive composition
WO2019111852A1 (ja) 2017-12-04 2019-06-13 積水ポリマテック株式会社 熱伝導性組成物
JP2018053260A (ja) * 2017-12-21 2018-04-05 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物並びに複合シート
KR20210148204A (ko) 2019-03-29 2021-12-07 다우 도레이 캄파니 리미티드 다성분형 열전도성 실리콘 겔 조성물, 열전도성 부재 및 방열 구조체
WO2020203299A1 (ja) 2019-03-29 2020-10-08 ダウ・東レ株式会社 多成分型熱伝導性シリコーンゲル組成物、熱伝導性部材および放熱構造体
US12037460B2 (en) 2019-03-29 2024-07-16 Dow Toray Co., Ltd. Multi-component type thermally conductive silicone-gel composition, thermally conductive material and heat-emission structure
KR20220160065A (ko) 2020-03-31 2022-12-05 덴카 주식회사 탄소 함유 알루미나 분말, 수지 조성물, 방열 부품, 및 탄소 함유 알루미나 분말의 제조 방법
WO2021200486A1 (ja) 2020-03-31 2021-10-07 デンカ株式会社 炭素含有アルミナ粉末、樹脂組成物、放熱部品、及び炭素含有アルミナ粉末の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3444199B2 (ja) 2003-09-08
US6169142B1 (en) 2001-01-02
TW500766B (en) 2002-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3444199B2 (ja) 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法
JP3543663B2 (ja) 熱伝導性シリコーンゴム組成物及びその製造方法
JP5015436B2 (ja) 熱伝導性シリコーンエラストマー、熱伝導媒体および熱伝導性シリコーンエラストマー組成物
US5021494A (en) Thermal conductive silicone composition
KR101224371B1 (ko) 열전도성 실리콘 탄성중합체, 열전도성 실리콘 탄성중합체조성물 및 열전도성 매체
JP4144998B2 (ja) 放熱用部材
US8378004B2 (en) Process for the production of silicone coatings and silicone moldings from photocrosslinkable silicone mixtures
JP5154010B2 (ja) 熱伝導性シリコーンゴム組成物
JP2938340B2 (ja) 熱伝導性複合シート
JP2004352947A (ja) 室温硬化型熱伝導性シリコーンゴム組成物
JPH06155517A (ja) 熱伝導性複合シートの製造方法
JPH08208993A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物
JP2009096865A (ja) 硬化性シリコーン組成物およびその硬化物
KR20160084808A (ko) 열전도성 실리콘 조성물 및 경화물, 및 복합 시트
JP7285231B2 (ja) 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物
JP3521781B2 (ja) 放熱部材
JP2006089675A (ja) 熱伝導性シリコーンエラストマーおよび熱伝導性シリコーンエラストマー組成物
JP2022060340A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物
TW201943768A (zh) 熱傳導性矽酮組成物及其硬化物
JP2018053260A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物及び硬化物並びに複合シート
JPH11199690A (ja) 低硬度熱伝導性シリコーンゴムシートの表面粘着性低減方法
JP2007119589A (ja) 熱伝導性シリコーンゴム組成物
JP2718956B2 (ja) シリコーンゴム組成物
JP3232226B2 (ja) 硬化性シリコーンゴム組成物、その硬化物及びそれにより封止された樹脂封止型半導体装置
JP2022543963A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130627

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees