DE842055C - Verfahren zur Herstellung organischer Siliciumhalogenide - Google Patents
Verfahren zur Herstellung organischer SiliciumhalogenideInfo
- Publication number
- DE842055C DE842055C DEP25919D DEP0025919D DE842055C DE 842055 C DE842055 C DE 842055C DE P25919 D DEP25919 D DE P25919D DE P0025919 D DEP0025919 D DE P0025919D DE 842055 C DE842055 C DE 842055C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon
- reaction
- tube
- halides
- copper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title claims description 52
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title claims description 52
- -1 silicon halides Chemical class 0.000 title claims description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 23
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 23
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000004508 fractional distillation Methods 0.000 claims description 6
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 46
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229940102396 methyl bromide Drugs 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N copper silicon Chemical compound [Si].[Cu] WCCJDBZJUYKDBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentacosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C)C ZRNSSRODJSSVEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N monofluoromethane Natural products FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 2
- HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N tribromo(phenyl)silane Chemical class Br[Si](Br)(Br)C1=CC=CC=C1 HPTIEXHGTPSFDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical class Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N trimethylsilyl-trifluoromethansulfonate Natural products C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000530268 Lycaena heteronea Species 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001500 aryl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000003863 metallic catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical class Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N tribromo(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(Br)Br KVENDAGPVNAYLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N tribromo(methyl)silane Chemical compound C[Si](Br)(Br)Br KBSUPJLTDMARAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- ARIHFGQDMNMGQJ-UHFFFAOYSA-N triiodo(methyl)silane Chemical compound C[Si](I)(I)I ARIHFGQDMNMGQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPGMCRJPQJYPE-UHFFFAOYSA-N zinc;carbanide Chemical group [CH3-].[CH3-].[Zn+2] JRPGMCRJPQJYPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Description
Die Erfindung Ixezieht sich auf die Herstellung
von Siiliciumhalogeniden, die durch Kohlenwasserstoffradikale
substituiert sind.
Die Erfindung beruht auf der Feststellung, daß Siliciumhalogenide, die durch Kohlenwasserstoffradikale substituiert sind, durch Herbeiführung
einer Reaktion zwischen Silicium und einem Kohlenwasserstoffhalogenid hergestellt werden können.
Man kann die Reaktion mit oder ohne einen Metallkatalysator ausführen. Das Silicium kann entweder
als solches oder in Form von Legierungen oder Mischungen mit Metallen, insbesondere mit solchen
Metallen verwendet werden, die selbst in der Reaktion zwischen Silicium und einem Kohlenwasserstoffhalogenid
als Katalysatoren wirken.
Es ist bereits bekannt, daß Kohlenwasserstoffhalogenide mit anderen Elementen als Silicium zur
Reaktion gebracht werden können. Zum Beispiel ist die Reaktion zwischen Kohlenwasserstoffhalogeniden
und Magnesium in gewissen Lösungsmitteln ao unter Bildung des sogenannten Grignardscben
Reagens wohlbekannt. Ein anderes Beispiel ist die Reaktion zwischen Zink oder Zink-Kupfer und
Alkylhalogeniden unter Bildung von Alkylzinkhalogeniden, die in ihrem chemischen Verhalten dem 15,
Grignardschen Reagens ähnlich sind. Man hat ferner
Zinkdimethyl hergestellt durch Erhitzen von Zink metall mit Methylbromid- oder -jodid in flüssigem
Zustand im geschlossenen Rohr. Alle diese Reaktionen spielen sich in der flüssigen Phase ab.
Die Reaktion zwischen HCl und Silicium war gleichfalls bekannt. So hat z.B. Combes
(Compt. rend. 122, 531 [1896]) eine Mischung von
annähernd 80% Trichlorsilan (Silicochloroform) und 20% Siliciumtetrachlorid dadurch erhalten,
daß er H Cl durch ein Eisenrohr leitete, das mit auf 300 bis 4400 C erhitztem Silicium gefüllt war.
Ferner ist es bekannt, daß verschiedene Siliciumhalogenide, die durch Kohlenwasserstoffradikale
substituiert sind, hergestellt werden können. In den bekannten Verjähren zur Herstellung derartiger
substituierter Siliciumhalogenide hat man in der Regel das wohlbekannte Grignardsche
Reagens benutzt. Ein solches Verfahren zur Herstellung von Methylsiliciumchlorid ist z. B. in der
amerikanischen Patentschrift 2258218 beschriel
>en.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein verbessertes Verfahren zur Herstellung von
Siliciumhalogeniden, die durch Kohlenwasserstoffradikale substituiert sind; dieses neue Verfahren
arbeitet wirtschaftlicher als das bekannte Verfahren mit dem Grignardschen Reagens.
Kurz gesagt, besteht die Erfindung in einem Verfahren zur Herstellung von Siliciumhalogeniden,
die durch Kohlenwasserstoffradikale substituiert sind, z. B. Alkylsiliciumchloriden, -bromiden,
Arylsiliciumchlor.iden, -bromiden, bei welchem eine Reaktion zwischen Silicium und einem Kohlenwasserstoffhalogenid,
z. B. einem Alkylchlorid, -bromid, einem Arylchlorid, -bromid, bei erhöhter
Temperatur, im allgemeinen zwischen 200 und 5000 C, herbeigeführt wird. Nach einer bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung wird die Reaktion zwischen Silicium und dem Kohlenwasserstoffhalogenid
in der Weise herbeigeführt, daß sich das letztere im Dampfzustand befindet und das
Silicium in innigem Kontakt mit einem metallischen Katalysator, z. B. Kupfer, steht; zum Beispiel
kann das Silicium in Form einer Legierung mit Kupfer oder einem anderen Metall vorliegen, das
auf die Reaktion zwischen Silicium und dem Kohlenwasserstoffhalogenid eine katalytische Wirkung
ausübt. Die Trennung der erhaltenen Produkte kann z. B. durch fraktionierte Destillation erfolgen.
Eine besondere Ausführungsform der vorliegenden Erfindung besteht in einem Verfahren zur Herstellung
von z. B. Methylsiliciumchloriden, bei welchem man Methylchlorid, insbesondere gas-
oder dampfförmiges Methylchlorid, mit einer festen, Silicium enthaltenden Masse in Berührung bringt,
z. B. mit einer Masse, in der Silicium innig mit Kupfer vereinigt ist, vorzugsweise mit einer
Kupfer-Silicium-Legierung, dabei eine Temperatur einhält, die hoch genug ist, um eine Reaktion
zwischen dem Methylchlorid und dem Silicium der Masse herbeizuführen, vorzugsweise in einem Bereich
zwischen 200 und 50b0 C oder mehr, und auf diese Weise die Metyhlsiliciumchloride gewinnt.
Zur Abscheidung dieser Chloride kann man z. B. die entweichenden gasförmigen Reaktionsprodukte
durch geeignete Mittel kühlen, um ein Kondensat zu erhalten, das hauptsächlich Methylsiliciumchloride
und andere Siliciumchloride enthält.
Es war durchaus überraschend und unerwartet, daß ein Siliciumhalogenid, das durch Kohlenwasserstoffradikale
substituiert ist, durch eine Reaktion zwischen Silicium und einem Kohlenwasserstoffhalogenid
hergestellt werden kann, insbesondere in Anbetracht der Tatsache, daß Silicium gewöhnlich
als ein Metalloid angesehen wird und wenig oder keine Ähnlichkeit mit Zink, Natrium,
Magnesium und den anderen stark elektropositiven Metallen zeigt, von denen es bereits bekannt war,
daß sie mit Kohlenwasserstoffhalogeniden reagieren.
Die nachfolgenden Beispiele zeigen mehrereAusführungsformen
der Erfindung. Die Prozentangaben sind stets Gewichtsprozent.
Ein Strom von gasförmigem Methylchlorid wurde in ein erhitztes Rohr eingeleitet, wo es mit
Siliciumpulver in Berührung kam, das so fein pulverisiert war, daß es ein 325-Maschensieb passierte.
In dem Rohr wurde eine Reaktionstemperatur von etwa 3000 C aufrechterhalten. Die aus dem Austrittsende
des Reaktionsrohres entweichenden Produkte wurden kondensiert, und die einzelnen Verbindungen
wurden dann durch fraktionierte Destillation getrennt. Ein typisches Beispiel für die Zusammensetzung
eines Reaktionsgemisches ist.folgen des :
Vo
Methylsiliciumtrichlorid 52
Dimethylsiliciumdichlorid .... 14,5
Silicochloroform 5 bis 10
Methyldichlorsilan 2 bis 3
Tetramethylsilicium Spur
Trimethylsiliciumchlorid Spur
Ein Reaktionsrohr wurde mit gesinterten SiIiciumstücken
gefüllt, die durch Glühen von Silicium von einer Feinheit von etwa 325 Maschen in einer
Wasserstoffatmosphäre bei 13000 C erhalten waren.
Durch das Rohr wurde Chlorbenzoldampf geleitet und dabei im Rohr eine Reaktionstemperatur von
annähernd 6oo° C aufrechterhalten. Die Reaktionsprodukte wurden kondensiert und ergaben ein Kondensat,
das Phenylsiliciumchloride enthielt.
Bei spi e1 3
In ein mit Kupfer gefüttertes und innen mit Kupferwalzen ausgestattetes Reaktionsgefäß wurden
500 ecm Chlorbenzol und 200 g einer zerkleinerten Kupfer-Silicium-Legierung, deren
Teilchen durch ein Sieb mit Öffnungen von 0,84 mm hindurchgehen, eingeführt, die annähernd iao
50% Silicium und 50% Kupfer enthielt. Eine Reaktionstemperatur von' etwa 230 bis 2800 C wurde
in dem geschlossenen Gefäß während 48 bis 72 Stunden aufrechterhalten. Während der Reaktionsperiode"
drehte sich das Reaktionsgefäß, so 1*5
daß die Walzen eine mahlende Wirkung auf die
Legierung ausübten. Die Reaktionsprodukte enthielten Phenylsiliciumtrichlorid, Diphenylsiliciumdichlorid,
Diphenyl und ein teerähnlidhes Material.
. B e i s ρ i e 1 4
Das Verfahren wurde wie im Beispiel 3 ausgeführt mit dem Unterschied, daß in das Reaktionsgefäß Brombenzol' eingeleitet wurde. Das Gefäß
wurde während 4 Stunden auf eine stufenweise bis zu 335° C erhöhte Temperatur erhitzt und dann
gekühlt. Die Reaktionsprodukte enthielten eine Mischung von Fhenylsiliciumbromiden.
Die Beispiele 3 und 4 zeigen die Herstellung eines Siliciurrihalogenids, das durch Kohlenwasserstoffradikale
substituiert ist, durch Herbeiführung einer Reaktion zwischen Silicium und einem
Kohlenwasserstoffhalogenid, das sich in flüssigem Zustand befindet.
ao B e i s ρ i e 1 5
Ein Strom von gasförmigem Methylchlorid wurde in ein geheiztes Rohr geleitet und dort mit
Silicium in Berührung gebracht, das in Form einer Legierung von annähernd 500A Silicium und 50%
Kupfer vorhanden war. In dem Rohr wurde eine Reaktionstemperatur von etwa 3600 C aufrechterhalten.
Die dem Ausgangsende des Reaktionsrohres entweichenden Produkte wurden kondensiert.
Die Produkte können bei Temperaturen von z.B. etwa ο bis 200 C kondensiert werden, wobei alles
nicht in Reaktion getretene Methylchlorid entweicht. Sie können auch in einem Flüssigkeitsverschluß
z. B. bei einer Temperatur von — 8o° C kondensiert werden; in diesem Falle wird das nicht
in Reaktion getretene Methylchlorid zusammen mit den Reaktionsprodukten kondensiert.
Das Kondensat enthielt eine Mischung von Methylsiliciumchloriden (Methylchlorsilanen). Die
♦0 einzelnen Bestandteile des Kondensats kann man gegebenenfalls in bekannter Weise, z. B. durch
fraktionierte Destillation, isolieren.
♦5 Brombenzol ließ man in ein vertikales Rohr eintropfen,
das mit Stücken einer Handelslegierung aus annähernd 500/o Silicium und 50% Kupfer
gefüllt war. Das Rohr wunde in einem Verbrennungsofen auf 4000 C erhitzt, so daß sich das
Brombenzol während der Reaktion mit dem Silicium der Kupfer-Silicium-Legierung im Dampfzustand
befand. Die Produkte wurden kondensiert. Das Kondensat wurde destilliert, um das unveränderte
Brombenzol von den in der Reaktion gebildeten Phenylsiliciumbromiden zu trennen.
Ein Glasrohr wurde mit porösen Pillen oder Kugeln gefüllt, die aus einer Mischung von Kupfer-
und Silicium-Pulver gepreßt waren. Die Kugeln enthielten 80%>
Silicium und 20% Kupfer und waren während 2 Stunden in einer Wasserstoffatmosphäre
bei etwa 10500 C geglüht. Das Rohr wurde in einem Verbrennungsofen erhitzt und
währenddessen ein langsamer Strom von Methylbromid durch dasselbe geleitet. Bei annähernd
275° C trat eine Reaktion zwischen dem Methylbromid und dem Silicium ein. Aus dem nicht in
Reaktion getretenen Mefhyl'bromid wurde leicht eine gelbe Flüssigkeit kondensiert. Aus dieser
Flüssigkeit wurden durch fraktionierte Destillation Methyltribromsilan (Siedepunkt 133,5° Q und
Dimerhyldibromsilan (Siedepunkt 112,30C) gewonnen.
Äthylchlorid-Dampf wurde in ein Rohr geleitet, das mit Kugeln gefüllt war, die aus einer Mischung
von 900/o gepulvertem Silicium und 10% gepulvertem
Kupfer in der in Beispiel 7 beschriebenen Weise hergestellt waren. Die Reaktionstemperatur
wurde auf 300 bis 3250 C gehalten. Die Reaktionsprodukte
wurden zu einer gelben, rauchenden Flüssigkeit kondensiert, die nach dem Ergebnis der
fraktionierten Destillation annähernd 27e/o Äthyl- S5
siliciumtrichlorid, 26°/o Diäthylsiliciumdichlorid
und 37°/o Siliciumtetrachlorid enthielt.
B e i s pi e1 9
Ein Glasrohr wurde mit porösen Kupfer- go
Silicium-Kugeln von der im Beispiel 7 beschriebenen Art gefüllt. Das Rohr, das sich leicht nach
vorn neigte, wurde auf 280 bis 3000 C erhitzt;
dann ließ man Äthylbromid in das Rohr eintropfen. Die aus dem Rohr kommenden Produkte wurden
kondensiert und ergaben eine gelbe Flüssigkeit, die Äthylsiliciumbromide enthielt.
Merhyljodiid ließ man in ein geneigtes Reaktionsrohr eintropfen, das mit porösen Kugeln gefüllt
war, die aus einer Mischung von 90% Silicium und io°/o Kupfer geformt und in der in Beispiel 7
beschriebenen Weise in Wasserstoff geglüht waren. Das Rohr wurde auf eine Temperatur von 300 bis
3100C erhitzt. 57 g Methyljodid wurden in das
Rohr während 2 Stunden eingeführt. Aus dem Kondensator, der mit dem Reaktionsrohr verbunden
war, trat eine dunkelrote Flüssigkeit aus. Diese Flüssigkeit wurde bei Atmosphärendruck destilliert.
Außer nicht in Reaktion getretenem Methyljodid wurde eine hochsiedende gelbe Flüssigkeit
erhalten, die Methylsiliciumjodide enthielt.
Beispiel 11 "5
Gasförmiges Methylfluorid wurde in einRohr eingeleitet, das mit porösen Kugeln gefüllt war, die
aus 90% Silicium und 10% Kupfer in der im Beispiel 7 beschriebenen Weise geformt und in iao
Wasserstoff geglüht waren. Das Reaktionsrohr wurde auf etwa 3700 C erhitzt. Die aus dem Austrittsende
des Rohres entweichenden Gase wurden kondensiert. Die Kondensate enthielten nicht in Reaktion
getretenes Methylfluorid und Methylsili- 1*5
ciumfluoride.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die in den obigen Ausführungsbeispielen besonders genannten
Kohlenwasserstoffhalogenide beschränkt; vielmehr kann jedes beliebige Kohlenwasserstoffhalogenid
zur Reaktion mit Silicium verwendet werden, wobei die Reaktionsbedingungen im allgemeinen
variiert werden, und von dem als Ausgangsmaterial verwendeten besonderen Kohlenwasserstoffhalogenid
und den besonderen gewünschten
ίο Endprodukten abhängen. Meist werden Reaktionen
in der Dampfphase vorgezogen, weil sie wirtschaftlicher ausgeführt und leichter kontrolliert werden
können und dabei die gewünschten organischen Siliciumhalogenide mit einem Minimum an Nebenprodukten
erhalten werden.
Die Erfindung ist ferner nicht auf die in den Beispielen genannten besonderen Temperaturen
oder Temperaturbereiche beschränkt. Aber die Reaktionstemperatur soll nicht so hoch sein, daß an
ao dem nicht in Reaktion getretenen Silicium während
der Reaktion eine übermäßige Ablagerung von Kohlenstoff erfolgt. Im allgemeinen wird die Reaktionstemperatur
z. B. dem verwendeten besonderen Kohlenwasserstoffhalogenid, dem besonderen
»5 Katalysator, falls ein Katalysator benutzt wird, und den Ausbeuten der gewünschten besonderen
Reaktionsprodukte angepaßt, die aus einem besonderen, als Ausgangsmaterdal verwendeten Kohlenwasserstoffhalogenid
erhalten werden. Zum Beispiel können durch Änderung der Reaktionstemperatur innerhalb des Temperaturbereichs von etwa 200 bis
5000 C die Mengen der einzelnen Produkte, die man erhält, wenn man Methylchlorid mit Silicium in
Berührung bringt, und ebenso auch der Gesamtgrad der Reaktion mit Methylchlorid geändert werden.
Bei Temperaturen von etwa 2000 C geht die Reaktion viel langsamer vor sich als bei Reaktionstemperaturen zwischen etwa 250 bis 4000 C. Bei
Temperaturen, die erheblich über 4000 C liegen, setzt 2. B. im Falle von Methylchlorid eine starke
exotherme Reaktion ein, die im allgemeinen zu einer unerwünschten Ablagerung von Kohlenstoff
in dem Reaktionsrohr führt. Methylsiliciumchloride in verschiedenen Ausbeuten können zwar
durch Herbeiführung einer Reaktion zwischen Methylchlorid und Silicium bei verschiedenen
Temperaturen innerhalb des Temperaturbereiches von 200 bis 5000 C hergestellt werden, aber man
erhält die besten Resultate gewöhnlich in dem beschränkten Bereich von 250 bis 4000 C.
Ferner können außer Kupfer andere Metall-Katalysatoren verwendet werden, um den Verlauf der
Reaktion zwischen dem Kohlenwaisserstoffhalogenid
und dem Silicium zu beschleunigen oder zu l>eeinflussen. Neben Kupfer können als Beispiele
für solche Katalysatoren Nickel, Zinn, Antimon, Mangan, Silber und Titan genannt werden. „j
Die vorliegende Erfindung bedeutet ein neues und verbessertes Verfahren zur Herstellung von
Alkylsiliciumhalogeniden (z. B. Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Butyl-, Amyl-, Isoamyl-, Hexylsilickimhalogeniden),
Arylsliliciumhalogeniden (ζ. B. Pfaenylsiliciumhalogeniden),
arylsubstituierten aliphatischen Siliciumhalogeniden (z. .B. Phenylärhylsiliciumhalogeniden)
und aliphatischsubstituierten Arylsiliciumhalogeniden (z. B. Tolylsiliciumhalogeniden).
Die gemäß der Erfindung hergestellten Produkte können zweckmäßig als Zwischenprodukte bei der
Herstellung von anderen Produkten benutzt werden. Sie können z. B. als Ausgangsstoffe in der
Herstellung von harzartigen Siliciumverbindungen» Silicon-Harzen, verwendet werden. Ferner können
sie dazu benutzt werden, um Stoffe, die nicht wasserabstoßend sind, wasserabstoßend zu machen.
Ferner können sie zur Behandlung von Glasfasern kontinuierlicher Faserform oder in anderer
Form benutzt werden.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung organischer Siliciumhalogenide, dadurch gekennzeichnet,
daß man Silicium mit Kohlenwasserstoffhalogeniden bei erhöhten Temperaturen, im allgemeinen
zwischen 200 und 5000 C, vorzugsweise *5 in der Dampfphase und in Gegenwart eines Katalysators,
insbesondere Kupfer, zur Reaktion bringt und die erhaltenen Produkte zweckmäßig
durch fraktionierte Destillation voneinander trennt.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Silicium sich in innigem ' Kontakt mit dem Katalysatormetall befindet,
vorzugsweise ki Form einer Legierung.
I 5203 6.52
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US412459A US2380995A (en) | 1941-09-26 | 1941-09-26 | Preparation of organosilicon halides |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE842055C true DE842055C (de) | 1952-06-23 |
Family
ID=23633070
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEP25919D Expired DE842055C (de) | 1941-09-26 | 1948-12-22 | Verfahren zur Herstellung organischer Siliciumhalogenide |
DEI2195A Expired DE842059C (de) | 1941-09-26 | 1950-09-24 | Verfahren zur Herstellung von Organosiliziumhalogeniden |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEI2195A Expired DE842059C (de) | 1941-09-26 | 1950-09-24 | Verfahren zur Herstellung von Organosiliziumhalogeniden |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2380995A (de) |
BE (1) | BE473150A (de) |
CH (2) | CH264291A (de) |
DE (2) | DE842055C (de) |
ES (1) | ES178047A1 (de) |
FR (1) | FR937823A (de) |
GB (2) | GB575667A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1887009A1 (de) | 2000-12-01 | 2008-02-13 | General Electric Company | Direkte Rochow-Müller-Synthese mit kupfernen Katalysatorvorläufern mit Teilchenabmessungen im Nanobereich |
Families Citing this family (141)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2427605A (en) * | 1945-03-15 | 1947-09-16 | Gen Electric | Preparation of alkylhalogenosilanes |
US2531571A (en) * | 1945-04-21 | 1950-11-28 | Owens Corning Fiberglass Corp | Manufacture of glass yarn |
US2436777A (en) * | 1945-05-30 | 1948-02-24 | Dow Chemical Co | Organofluorosilanes and method of making same |
US2511296A (en) * | 1945-08-20 | 1950-06-13 | Montclair Res Corp | Copolymers of silicon derivatives |
US2635929A (en) * | 1946-01-23 | 1953-04-21 | Jere E Brophy | Coated bearing structure |
US2488487A (en) * | 1946-02-07 | 1949-11-15 | Dow Chemical Co | Production of alkyl silicon halides |
US2519232A (en) * | 1946-02-09 | 1950-08-15 | American Viscose Corp | Method of rendering regenerated cellulose water-repellent |
US2466412A (en) * | 1946-02-21 | 1949-04-05 | Gen Electric | Method of preparation of hydrocarbon-substituted halosilanes |
US2478493A (en) * | 1946-02-21 | 1949-08-09 | Du Pont | Preparation of organic silicon compounds |
US2466413A (en) * | 1946-02-21 | 1949-04-05 | Gen Electric | Method of preparation of hydrocarbon-substituted halosilanes |
US2466429A (en) * | 1946-03-18 | 1949-04-05 | Gen Electric | Preparation of hydrocarbon substituted halogenosilanes |
US2444270A (en) * | 1946-04-16 | 1948-06-29 | Gen Electric | Method of preparing organogermanium halides |
US2483373A (en) * | 1946-04-16 | 1949-09-27 | Gen Electric | Preparation of hydrocarbon-substituted halogenosilanes |
US2447873A (en) * | 1946-06-28 | 1948-08-24 | Gen Electric | Preparation of organohalogenosilanes |
US2459539A (en) * | 1947-05-22 | 1949-01-18 | Gen Electric | Preparation of alkyl-substituted halogenosilanes |
US2628213A (en) * | 1948-04-16 | 1953-02-10 | Montclair Res Corp | Copolymers, including siliconols and hydrogen bonded to silicon |
US2637718A (en) * | 1948-04-16 | 1953-05-05 | Montclair Res Corp | Copolymers containing hydrogen bonded directly to silicon |
US2563557A (en) * | 1948-10-20 | 1951-08-07 | Gen Electric | Rectification of methylchlorosilanes |
DE921566C (de) * | 1949-05-05 | 1954-12-20 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- bzw. Arylhalogensilanen |
DE970283C (de) * | 1950-05-19 | 1958-09-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkyl- oder Arylhalogensilanen |
DE967044C (de) * | 1950-08-29 | 1957-09-26 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Organohalogensilanen |
US2579341A (en) * | 1951-03-03 | 1951-12-18 | Gen Electric | Preparation of phenylchlorosilanes |
US2686194A (en) * | 1951-05-31 | 1954-08-10 | Kellogg M W Co | Organosilicon compounds |
DE972855C (de) * | 1953-06-11 | 1959-10-15 | Kali Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von monomeren Organosiliciumverbindungen |
US2927937A (en) * | 1955-04-26 | 1960-03-08 | Union Carbide Corp | Preparation of alkyl orthosilicates by attrition milling |
US2889348A (en) * | 1955-06-29 | 1959-06-02 | Grace W R & Co | Fluosilane manufacture |
DE1158976B (de) * | 1959-01-26 | 1963-12-12 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilangemischen mit erhoehtem Anteil an Dimethyldichlorsilan |
US3151045A (en) * | 1960-03-31 | 1964-09-29 | Bayer Ag | Process for the removal of aromatic impurities from phenyl methyl polysiloxanes |
US3133109A (en) * | 1960-11-28 | 1964-05-12 | Gen Electric | Silicon compound process and apparatus |
US3109014A (en) * | 1961-01-04 | 1963-10-29 | Shinetsu Chem Ind Co | Method for preparing monomethyldichlorosilane |
JPS5110238B2 (de) * | 1972-02-23 | 1976-04-02 | ||
US4390510A (en) * | 1982-02-16 | 1983-06-28 | General Electric Company | Process for treating spent silicon-containing reaction masses to produce halosilanes |
US4487950A (en) * | 1982-04-16 | 1984-12-11 | General Electric Company | Method for making methylchlorosilanes |
US4421926A (en) * | 1982-06-28 | 1983-12-20 | General Electric Company | Process for co-alkoxylation of halosilanes and separation of the resulting products |
USRE33452E (en) * | 1983-07-28 | 1990-11-20 | General Electric Company | Method for making alkylhalosilanes |
US4500724A (en) * | 1983-07-28 | 1985-02-19 | General Electric Company | Method for making alkylhalosilanes |
FR2552437B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1986-09-12 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec le cesium comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
FR2552438B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-11-08 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede et catalyseur avec un alcalin comme additif pour la synthese directe du dimethyldichlorosilane |
US4889838A (en) * | 1983-12-22 | 1989-12-26 | Union Carbide Corporation And Plastics Company Inc. | Redistribution of organohalosilanes utilizing heat treated crystalline alumina catalysts |
US4593114A (en) * | 1984-09-13 | 1986-06-03 | Union Carbide Corporation | Direct process for preparing dimethylsiloxanes |
US4864044A (en) * | 1985-02-15 | 1989-09-05 | Union Carbide Corporation | Tin containing activated silicon for the direct reaction |
DE3523543A1 (de) * | 1985-07-02 | 1987-01-15 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der methylchlorsilansynthese |
US4599441A (en) * | 1985-09-30 | 1986-07-08 | Union Carbide Corporation | Process for preparing organohalosilanes utilizing copper halide-aluminum halide catalysts |
US4602101A (en) * | 1985-11-12 | 1986-07-22 | Dow Corning Corporation | Method of manufacturing alkylhalosilanes |
GB8629593D0 (en) * | 1986-12-11 | 1987-01-21 | Dow Corning Ltd | Polysilanes |
US4762940A (en) * | 1987-12-11 | 1988-08-09 | Dow Corning Corporation | Method for preparation of alkylhalosilanes |
US4973725A (en) * | 1988-06-28 | 1990-11-27 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Direct synthesis process for organohalohydrosilanes |
DE3823308A1 (de) * | 1988-07-09 | 1990-01-11 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
DE3829581A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-15 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der organochlorsilansynthese |
DE3829582A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-03-08 | Bayer Ag | Verfahren zur aufarbeitung von hydrolyserueckstaenden aus der organochlorsilansynthese |
DE3841417A1 (de) * | 1988-12-08 | 1990-06-13 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
US5061672A (en) * | 1990-01-30 | 1991-10-29 | Elkem Metals Company | Active mass for making organohalosilanes |
DE4130790A1 (de) * | 1991-09-16 | 1993-03-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur abtrennung von alkenen bei der methylchlorsilan-destillation |
DE4207299C2 (de) * | 1992-03-07 | 2001-03-22 | Jens Albrecht | Organoaminphosphinoxid-Katalysator zur Disproportionierung von Aryl- oder Alkylhalogendisilanen zur Aryl- oder Alkylhalogenmono- und Aryl- oder Alkylhalogenpolysilanen |
US5175329A (en) * | 1992-04-03 | 1992-12-29 | Dow Corning Corporation | Production of organosilanes from polysilanes |
US5312946A (en) * | 1992-04-13 | 1994-05-17 | General Electric Company | Siloxane fluid from methylchlorosilane residue waste |
KR950002860B1 (ko) * | 1992-06-13 | 1995-03-27 | 한국과학기술연구원 | 클로로알켄닐실란들과그제조방법 |
DE4235326A1 (de) * | 1992-10-20 | 1994-04-21 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkenen und von Cyclopentan und Cyclohexan |
US5281739A (en) * | 1992-12-23 | 1994-01-25 | Dow Corning Corporation | Process for manufacture of alkylhalosilanes |
US5427952A (en) * | 1993-01-11 | 1995-06-27 | Dow Corning Corporation | Analytical method for nonmetallic contaminates in silicon |
US5326896A (en) * | 1993-07-14 | 1994-07-05 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to silane monomers in the presence of hydrogen gas |
US5292909A (en) * | 1993-07-14 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride and hydrogen |
US5321147A (en) * | 1993-07-16 | 1994-06-14 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of chlorine |
US5292912A (en) * | 1993-07-19 | 1994-03-08 | Dow Corning Corporation | Catalytic conversion of direct process high-boiling component to chlorosilane monomers in the presence of hydrogen chloride |
US5342430A (en) * | 1993-07-28 | 1994-08-30 | Grocela Kathe Teresa A | Passivation of methylchlorosilane fines |
US5312948A (en) * | 1993-10-08 | 1994-05-17 | Dow Corning Corporation | Particle size distribution for fluidized-bed process for making alkylhalosilanes |
US5445742A (en) * | 1994-05-23 | 1995-08-29 | Dow Corning Corporation | Process for purifying halosilanes |
FR2720385B1 (fr) | 1994-05-31 | 1996-07-05 | Pechiney Electrometallurgie | Alliage de silicium pour la synthèse des alkyl ou aryl halogénosilanes contenant de l'aluminium, du calcium et du cuivre. |
FR2720744A1 (fr) * | 1994-06-01 | 1995-12-08 | Dow Corning | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. |
US5430168A (en) * | 1994-10-27 | 1995-07-04 | Dow Corning Corporation | Alumimum trichloride catalyzed hydrogenation of high-boiling residue from direct process |
NO950760L (no) * | 1995-02-28 | 1996-08-29 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for fremstilling av alkylhalosilaner |
US5493043A (en) * | 1995-05-15 | 1996-02-20 | Dow Corning Corporation | Method for redistribution and purification of methylsilanes |
DE19532315C1 (de) * | 1995-09-01 | 1997-02-06 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen |
US6168652B1 (en) | 1995-10-23 | 2001-01-02 | Dow Corning Corporation | Process for purifying halosilanes |
DE69603688T2 (de) | 1995-12-01 | 2000-04-27 | Dow Corning Corp., Midland | Wirbelschichtbettreaktor |
EP0858833B1 (de) | 1995-12-01 | 2003-03-12 | GE Bayer Silicones GmbH & Co. KG | Katalysatoren auf Kupferbasis, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung und ein Verfahren zur Herstellung von alkylhalogensilanen |
US5596119A (en) * | 1995-12-05 | 1997-01-21 | Dow Corning Corporation | Method for controlling the direct process product distribution |
JPH09194490A (ja) | 1996-01-12 | 1997-07-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | シラン類の製造方法 |
JP3159029B2 (ja) | 1996-01-12 | 2001-04-23 | 信越化学工業株式会社 | シラン類の製造方法 |
FR2746785B1 (fr) * | 1996-04-02 | 1998-05-22 | Pechiney Electrometallurgie | Silicium metallurgique a structure controlee destine a la synthese des halogenosilanes |
US5606090A (en) * | 1996-06-13 | 1997-02-25 | Dow Corning Corporation | Conversion of high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US5627298A (en) * | 1996-06-13 | 1997-05-06 | Dow Corning Corporation | One step process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
US5629438A (en) * | 1996-09-11 | 1997-05-13 | Dow Corning Corporation | Hydrochlorination process for converting high-boiling residue from direct process to monosilanes |
DE19645359A1 (de) * | 1996-11-04 | 1998-05-07 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Alkylhalogensilanen |
JP3362619B2 (ja) * | 1996-12-13 | 2003-01-07 | 信越化学工業株式会社 | アルキルハロシランの製造方法 |
US5876609A (en) * | 1997-03-28 | 1999-03-02 | General Electric Company | Process for treating methylchlorosilanes by-products |
US5905183A (en) * | 1997-06-03 | 1999-05-18 | General Electric Company | Process for reducing the residual chloride concentration in copper containing solids |
US5880307A (en) * | 1998-02-17 | 1999-03-09 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of alkylhalosilanes |
US5973177A (en) * | 1998-07-29 | 1999-10-26 | Dow Corning Corporation | Method for selecting silicon metalloid having improved performance in the direct process for making organohalosilanes |
US6005130A (en) * | 1998-09-28 | 1999-12-21 | General Electric Company | Method for making alkylhalosilanes |
US5907050A (en) * | 1998-09-30 | 1999-05-25 | Dow Corning Corporation | Process for converting polymeric silicon containing compounds to monosilanes |
US5922894A (en) * | 1998-10-28 | 1999-07-13 | Dow Corning Corporation | Process for converting polymeric silicon containing compounds to monosilanes |
US6013824A (en) * | 1998-12-01 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Redistributing silalkylenes in an alkyl-rich silalkylene-containing residue |
US6258970B1 (en) | 1999-04-19 | 2001-07-10 | General Electric Company | Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production |
US6013235A (en) * | 1999-07-19 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Conversion of direct process high-boiling residue to monosilanes |
US6425850B1 (en) | 2000-04-20 | 2002-07-30 | General Electric Company | Method for determining eta phase copper |
US6528674B1 (en) | 2000-04-20 | 2003-03-04 | General Electric Company | Method for preparing a contact mass |
DE10044794A1 (de) * | 2000-09-11 | 2002-04-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
DE10044796A1 (de) * | 2000-09-11 | 2002-04-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Chlorsilanen |
DE10045367A1 (de) * | 2000-09-14 | 2002-03-28 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan |
ATE274471T1 (de) * | 2000-09-14 | 2004-09-15 | Solarworld Ag | Verfahren zur herstellung von trichlorsilan |
JP3818360B2 (ja) | 2000-10-20 | 2006-09-06 | 信越化学工業株式会社 | 有機ハロシランの製造方法 |
DE10056194A1 (de) * | 2000-11-13 | 2002-05-29 | Solarworld Ag | Verfahren zur Entfernung von Aluminium aus Chlorsilanen |
US7153991B2 (en) | 2000-12-01 | 2006-12-26 | General Electric Company | Rochow-Müller direct synthesis using nanosized copper catalyst precursors |
DE10063863A1 (de) * | 2000-12-21 | 2003-07-10 | Solarworld Ag | Wirbelbettreaktor für die Trichlorsilansynthese |
US7858818B2 (en) * | 2001-01-31 | 2010-12-28 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
US7339068B2 (en) | 2001-01-31 | 2008-03-04 | Momentive Performance Materials Inc. | Nanosized copper catalyst precursors for the direct synthesis of trialkoxysilanes |
JP3812642B2 (ja) | 2001-02-14 | 2006-08-23 | 信越化学工業株式会社 | オルガノハロシランの製造方法 |
US6489501B2 (en) | 2001-02-26 | 2002-12-03 | General Electric Company | Method and apparatus for forming a carbon-silicon bond in a silane |
US6407276B1 (en) | 2001-03-29 | 2002-06-18 | General Electric Company | Method for improving selectivity for dialkyldichlorosilane |
US6384258B1 (en) | 2001-05-09 | 2002-05-07 | General Electric Company | Method for making organylorganooxysilanes |
JP3775491B2 (ja) | 2001-08-30 | 2006-05-17 | 信越化学工業株式会社 | オルガノハロシランの製造方法 |
US6455721B1 (en) | 2001-09-14 | 2002-09-24 | General Electric Company | Method for making organyltriorganooxysilanes |
US6433205B1 (en) | 2002-01-15 | 2002-08-13 | Dow Corning Corporation | Magnetic separation for silicon-containing materials |
KR100454713B1 (ko) * | 2002-01-30 | 2004-11-05 | 한국과학기술연구원 | 알킬디클로로실란의 제조 방법 |
DE50309734D1 (de) * | 2002-04-17 | 2008-06-12 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur herstellung von halosilanen unter mikrowellenenergiebeaufschlagung |
JP4174655B2 (ja) * | 2002-04-23 | 2008-11-05 | 信越化学工業株式会社 | オルガノハロシランの製造方法 |
GB0212324D0 (en) * | 2002-05-29 | 2002-07-10 | Dow Corning | Silicon composition |
US6717004B2 (en) | 2002-07-30 | 2004-04-06 | General Electric Company | Method for making alkylhalosilanes |
NO321276B1 (no) * | 2003-07-07 | 2006-04-18 | Elkem Materials | Fremgangsmate for fremstilling av triklorsilan og silisium for bruk ved fremstilling av triklorsilan |
JP4434847B2 (ja) * | 2003-08-21 | 2010-03-17 | 信越化学工業株式会社 | フェニルクロロシランの製造方法 |
JP4407805B2 (ja) * | 2004-03-18 | 2010-02-03 | 信越化学工業株式会社 | オルガノハロシランの製造方法 |
JP4407804B2 (ja) * | 2004-03-18 | 2010-02-03 | 信越化学工業株式会社 | オルガノハロシランの製造方法 |
BRPI0509650B1 (pt) * | 2004-04-08 | 2016-05-10 | Dow Corning | método de seleção de metaloide de silício de qualidade química que possui melhor rendimento no processo direto para fabricação de organo- halosilanos e método de seleção de silício de qualidade química durante o processo de produção de silício. |
EP1745679A1 (de) * | 2004-05-04 | 2007-01-24 | Dow Corning Corporation | Behälter zur bildung von selbstausheizenden elektroden |
JP4788866B2 (ja) | 2004-10-19 | 2011-10-05 | 信越化学工業株式会社 | フェニルクロロシランの製造方法 |
FR2887551B1 (fr) * | 2005-06-22 | 2008-02-15 | Rhodia Chimie Sa | Procede de synthese directe d'alkylhalogenosilanes |
US7754175B2 (en) * | 2007-08-29 | 2010-07-13 | Dynamic Engineering, Inc. | Silicon and catalyst material preparation in a process for producing trichlorosilane |
KR20110015653A (ko) * | 2008-06-04 | 2011-02-16 | 다우 코닝 코포레이션 | 유기할로실란과 할로실란을 제조하는 개선 방법 |
US9067338B2 (en) | 2008-08-04 | 2015-06-30 | Semlux Technologies, Inc. | Method to convert waste silicon to high purity silicon |
DE102008064372A1 (de) | 2008-12-22 | 2010-06-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Polysilan-Polycarbosilane mit reduziertem Chlorgehalt auf Basis von Methylchlorpolysilanen sowie daraus hergestellte Spinnmassen und keramische Formkörper |
CN101531674B (zh) * | 2009-04-23 | 2012-02-15 | 嘉兴学院 | 一种甲基氯硅烷的制备方法 |
EP2290011A1 (de) | 2009-08-18 | 2011-03-02 | Heritage Environmental Services, Llc. | Verfahren zur Herstellung von Silizium-Schwefel-Verbindungen und ihre Verwendung in Bitumen-Zusammensetzungen |
DE102009056371A1 (de) | 2009-11-30 | 2011-07-14 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 | Polysilan-Polycarbonsilane mit reduziertem Kohlenstoffgehalt auf Basis von Methylchlorpolysilanen sowie daraus hergestellte Keramiken |
CA2807336A1 (en) | 2010-08-05 | 2012-02-09 | Biofilm Ip, Llc | Cyclosiloxane-substituted polysiloxane compounds, compositions containing the compounds and methods of use thereof |
RU2013125229A (ru) * | 2011-01-25 | 2015-03-10 | Дау Корнинг Корпорейшн | Способ получения диорганодигалогенсилана |
GB201107955D0 (en) * | 2011-05-13 | 2011-06-22 | Dow Corning | Acidic mine water remediation |
CN109627257A (zh) | 2011-12-19 | 2019-04-16 | 埃肯有机硅法国简易股份公司 | 烷基卤代硅烷的直接合成方法 |
DE102012015417B4 (de) | 2012-08-02 | 2018-08-16 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Aufarbeitung von Sägerückständen aus der Produktion von Siliciumwafern |
DE102012018548B4 (de) * | 2012-09-20 | 2016-11-17 | Technische Universität Bergakademie Freiberg | Verfahren zur Verwertung von ausgedienten Solarmodulen und Solarzellen aus Silizium und siliziumhaltigen Bauelementen |
US10040689B2 (en) | 2014-12-19 | 2018-08-07 | Dow Silicones Corporation | Process for preparing monohydrogentrihalosilanes |
-
1941
- 1941-09-26 US US412459A patent/US2380995A/en not_active Expired - Lifetime
-
1942
- 1942-09-22 GB GB13361/42A patent/GB575667A/en not_active Expired
- 1942-09-22 GB GB13362/42A patent/GB575668A/en not_active Expired
-
1946
- 1946-12-10 FR FR937823D patent/FR937823A/fr not_active Expired
-
1947
- 1947-05-09 BE BE473150D patent/BE473150A/xx unknown
- 1947-05-14 ES ES0178047A patent/ES178047A1/es not_active Expired
- 1947-07-21 CH CH264291D patent/CH264291A/de unknown
- 1947-07-21 CH CH272826D patent/CH272826A/de unknown
-
1948
- 1948-12-22 DE DEP25919D patent/DE842055C/de not_active Expired
-
1950
- 1950-09-24 DE DEI2195A patent/DE842059C/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1887009A1 (de) | 2000-12-01 | 2008-02-13 | General Electric Company | Direkte Rochow-Müller-Synthese mit kupfernen Katalysatorvorläufern mit Teilchenabmessungen im Nanobereich |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR937823A (fr) | 1948-08-27 |
ES178047A1 (es) | 1947-07-01 |
CH272826A (de) | 1951-01-15 |
GB575667A (en) | 1946-02-28 |
DE842059C (de) | 1952-06-23 |
US2380995A (en) | 1945-08-07 |
CH264291A (de) | 1949-10-15 |
BE473150A (de) | 1947-07-30 |
GB575668A (en) | 1946-02-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE842055C (de) | Verfahren zur Herstellung organischer Siliciumhalogenide | |
DE1044800B (de) | Verfahren zur Herstellung von Chlortrifluoraethylen | |
DE2532027A1 (de) | Verfahren zur herstellung von chlorierten aethylenderivaten | |
DE3784151T2 (de) | Verfahren zur herstellung von alkylhalosilanen. | |
DE3201116A1 (de) | Verfahren zur herstellung von graphitfluorid | |
DE1237084B (de) | Verfahren zur Herstellung von 1, 2-Dichlor-1, 1, 2, 3, 3, 3,-hexafluorpropan | |
AT162930B (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumhalogeniden | |
DE917489C (de) | Verfahren zur Herstellung von Phenylchlorsilanen | |
DE3013888A1 (de) | Verfahren zur herstellung von trichlorbenzolen | |
DE1122522B (de) | Verfahren zur Herstellung von kohlenwasserstoffsubstituierten Halogenphosphinen | |
DE1132901B (de) | Verfahren zur Herstellung von pyrophorem Silicium und Polysiliciumhalogeniden | |
DE1668346B2 (de) | Verfahren zur herstellung von 1,1,1-trifluortrichloraethan durch umlagerung | |
DE2115810C2 (de) | Behandlung von Abgasen aus der Abscheidung von Bor | |
DE888540C (de) | Verfahren zur Herstellung von Hexachlorbenzol | |
DE679389C (de) | Verfahren zur Herstellung von Perchloraethylen | |
US2989375A (en) | Production of boron tribromide | |
AT165047B (de) | Verfahren zur Herstellung von organischen Fluorverbindungen | |
DE937347C (de) | Verfahren zur Herstellung von Hexachlorbenzol | |
DE2256167B1 (de) | ||
DE69402493T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von 1-Chloro-1,3-butadien | |
DE2408482C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Tetrachloräthylen | |
DE1046619B (de) | Verfahren zur Herstellung von Arylchlorsilanen | |
AT276323B (de) | Verfahren zur Herstellung von Vinylchlorid und 1,2-Dichloräthan enthaltenden Gemischen | |
DE662627C (de) | Verfahren zur Herstellung organischer Fluorverbindungen | |
DE950092C (de) | Verfahren zur Herstellung oder Reinigung von Titan |