FR2720744A1 - Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. - Google Patents
Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. Download PDFInfo
- Publication number
- FR2720744A1 FR2720744A1 FR9406677A FR9406677A FR2720744A1 FR 2720744 A1 FR2720744 A1 FR 2720744A1 FR 9406677 A FR9406677 A FR 9406677A FR 9406677 A FR9406677 A FR 9406677A FR 2720744 A1 FR2720744 A1 FR 2720744A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- formula
- silane
- cotelomers
- fluorinated
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 title claims description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 34
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 claims abstract description 28
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 210000003411 telomere Anatomy 0.000 claims description 29
- 102000055501 telomere Human genes 0.000 claims description 29
- 108091035539 telomere Proteins 0.000 claims description 29
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 27
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical compound FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 13
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 claims description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- NDMMKOCNFSTXRU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3-pentafluoroprop-1-ene Chemical class FC(F)C(F)=C(F)F NDMMKOCNFSTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- SSJKDUAYUOEFSU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,1,3,3,4,4,5,6,6,6-decafluorohex-1-ene Chemical compound FC(C(F)(F)F)C(C(C(=C(F)F)Cl)(F)F)(F)F SSJKDUAYUOEFSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 5
- WZKSXHQDXQKIQJ-UHFFFAOYSA-N F[C](F)F Chemical group F[C](F)F WZKSXHQDXQKIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N lithium hydride Chemical group [LiH] SIAPCJWMELPYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 abstract description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 58
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 21
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 12
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 9
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 8
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 5
- 229910004721 HSiCl3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Chemical group 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 230000003797 telogen phase Effects 0.000 description 5
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 3
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910010084 LiAlH4 Inorganic materials 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- BULLJMKUVKYZDJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-tridecafluoro-6-iodohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I BULLJMKUVKYZDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGRFXXCKHGIFSV-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-iodobutane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I PGRFXXCKHGIFSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical group C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000746 allylic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001030 gas--liquid chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- UXPOJVLZTPGWFX-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethyl iodide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)I UXPOJVLZTPGWFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWXGJTSJUKTDQU-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-heptadecafluoro-8-iodooctane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I KWXGJTSJUKTDQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTAGJPRMYDTKRU-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,6,6-undecafluoro-6-iodohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CC(F)(F)I JTAGJPRMYDTKRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- FKLJPTJMIBLJAV-UHFFFAOYSA-N Compound IV Chemical compound O1N=C(C)C=C1CCCCCCCOC1=CC=C(C=2OCCN=2)C=C1 FKLJPTJMIBLJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000007832 Na2SO4 Substances 0.000 description 1
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 1
- 101100091149 Rattus norvegicus Rnf39 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XMIJDTGORVPYLW-UHFFFAOYSA-N [SiH2] Chemical compound [SiH2] XMIJDTGORVPYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- PQLAYKMGZDUDLQ-UHFFFAOYSA-K aluminium bromide Chemical compound Br[Al](Br)Br PQLAYKMGZDUDLQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- LCZXHHWLLUALLU-UHFFFAOYSA-N dichloro(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound FC(F)(F)CC[SiH](Cl)Cl LCZXHHWLLUALLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N ethyl (e)-3-[3-amino-2-cyano-1-[(e)-3-ethoxy-3-oxoprop-1-enyl]sulfanyl-3-oxoprop-1-enyl]sulfanylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)\C=C\SC(=C(C#N)C(N)=O)S\C=C\C(=O)OCC NLFBCYMMUAKCPC-KQQUZDAGSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000004812 organic fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/0827—Syntheses with formation of a Si-C bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0825—Preparations of compounds not comprising Si-Si or Si-cyano linkages
- C07F7/0827—Syntheses with formation of a Si-C bond
- C07F7/0829—Hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
Abstract
L'invention concerne un procédé perfectionné de préparation d'un silane fluoré répondant à la formule R1 4 Si (I) ou à la formule R2 3 Si(R3 SiR4 2 )z R3 SiR2 3 (II), où au moins trois R1 dudit silane (I), au moins deux R2 et au moins un R4 dudit silane (II) sont choisis parmi des dérivés de télomères fluorés ou cotélomères fluorés, la valeur moyenne de z est de 0 à 4 et R3 est un dérivé d'un télomère ou cotélomère divalent téléchélique terminé par des groupes alkylènes. Le procédé consiste à faire réagir le silane à fonction halogénure ou à fonction alcoxy correspondant avec l'hydrure de lithium et d'aluminium ou le borohydrure de sodium pour former un silane à fonction hydrure, puis à faire réagir ce dernier avec un télomère fluoré à terminaison vinyle ou un télomère fluoré à terminaison allyle.
Description
! La présente invention concerne un procédé pour préparer des silanes
fluorés spécifiques. Plus particulièrement, l'invention concerne le procédé dans lequel les groupes réactifs de certains silanes sont d'abord convertis en groupes hydrure de silicium par réaction avec l'hydrure de lithium et d'aluminium et les groupes hydrure de silicium sont ensuite amenés à réagir avec un composé
organique à fonction vinyle ou allyle.
Le brevet des E.U.A. N 5 110 973 au nom de Caporiccio fait connaître certains composés organosiliciés fluorés chimiquement inertes qui trouvent de l'utilité comme fluides hydrauliques, agents antiadhérents, lubrifiants et composants de graisses, entre autres, ce brevet étant cédé au cessionnaire de la présente invention et incorporé ici par référence. Les composés proposés par Caporiccio allient les propriétés avantageuses de tétra-alkylsilanes et de polymères organiques contenant des substituants fluorés, et ces composés constituent une nouvelle classe de matières dont la majorité des groupes organiques liés au silicium sont dérivés de télomères et/ou cotélomères à terminaison alkylène de certaines oléfines fluorées. Cependant, les procédés suggérés par Caporiccio pour préparer ces nouveaux composés reposent dans une large mesure sur la conversion de l'halogénure (iodure ou bromure) de perfluoroalkyle à halogène fonctionnel correspondant en un composé de métal (par exemple le magnésium ou le lithium). Malheureusement, ces procédés opérant par voie organométallique pour préparer les composés organositiciés fluorés se sont avérés relativement nefficaces lorsque deux ou trois groupes alkyles sont attachés à!'atome de silicium, de sorte qu'ils ne donnent pas les produits davantage alkylés désirés en un haut rendement. Par exemple, lorsqu'un composé intermédiaire contenant la structure -Si(Cl2)-R2- Si(C12)-, o R3 est un groupe organique divalen:, est amené à réagir avec un35 réactif de Grignard de la forme RMgI, o Rf est un groupe alkyle fluoré, le rendement est très médiocre si le groupe Rf est grand. De plus, lorsque chaque atome de silicium du composé intermédiaire est déjà lié à un tel groupe Rf, comme dans les structures du type -Si(Cl) (Rf)-R3-Si(Cl) (Rf)-, une réaction avec un second réactif de Grignard de la forme R2MgI pour ajouter le groupe R est encore plus difficile, même si le groupe est petit et si la réaction est conduite dans les conditions de basse température préférées. Cette situation est quelque peu améliorée lorsque le groupe perfluoroalkyle est ajouté en utilisant un composé du10 lithium du type LiRf, mais le rendement reste relativement faible. Les rendements observés ne sont pas beaucoup améliorés lorsque le produit désiré est de la forme R14Si o R' est un groupe monovalent dérivé d'un télomère ou cotélomère fluoré, comme défini dans le brevet de Caporiccio
précité.
On a maintenant découvert que les composés organosiliciés fluorés proposés par Caporiccio peuvent être produits en plus haut rendement par un choix judicieux de la séquence réactionnelle correcte. En particulier, on a20 découvert que ce rendement est fortement amélioré lorsque les radicaux halogéno ou alcoxy des silanes intermédiaires décrits ci-dessus substitués par deux ou trois groupes alkyles fluorés sont d'abord convertis en groupes hydrure de silicium par réaction avec l'hydrure de lithium et d'aluminium ou le borohydrure de sodium et les groupes hydrure de silicium sont ensuite amenés à réagir avec un télomère fluoré à fonction vinyle ou allyle. En outre, le procédé de la présente invention permet de préparer efficacement de nouveaux composés organosiliciés fluorés30 spécifiques ayant des températures de transition vitreuse étonnamment basses, typiquement inférieures à -45 C environ, et aussi basses que -73 C pour certains d'entre eux, ce qui
rend ces composés particulièrement intéressants dans des applications hydrauliques et de lubrification à basses35 températures.
La présente invention concerne donc un procédé de préparation d'un silane fluoré répondant à la formule R14Si (I) ledit procédé consistant à: (A) faire réagir un silane de formule R14- wR8wSi (III) avec l'hydrure de lithium et d'aluminium ou le borohydrure de sodium pour former un silane de formule R'4-wHwSi (V); et (B) faire réagir ledit silane (V) avec un composé choisi parmi les télomères fluorés à terminaison vinyle et les télomères fluorés à terminaison allyle, o au moins trois R' dudit silane (I) dérivent de télomères fluorés ou cotélomères fluorés, w est 1 ou 2 et R8 est
choisi parmi les radicaux Cl, F et OCH3.
L'invention concerne de plus un procédé pour préparer un silane fluoré répondant à la formule R23Si(R3SiR42)zR3SiR23 (II) consistant à (A) faire réagir un silane de formule R,8WR23- wSi (R3-SiR42) zR3SiR8WR23w (IV) avec l'hydrure de lithium et d'aluminium ou le borohydrure de sodium pour former un silane de formule HwR23wS (R3SiR42)ZR3SiR_23_wHw (VI); et (B) faire réagir ledit silane (VI) avec un composé choisi parmi les télomères fluorés à terminaison vinyle et les télomères fluorés à terminaison allyle, o au moins deux des R2 et lorsque zÉ0, au moins l'un des R4 dudit silane (II) dérivent, indépendamment, de télomères fluorés ou de cotélomères fluorés, w et R8 sont tels que définis précédemment, la valeur moyenne de z est de O à 4 et R3 dérive d'un télomère ou cotélomère divalent téléchélique terminé par des groupes alkylènes. L'invention concerne également les espèces des
formules (I) et (II) préparées par les procédés décrits ci-
dessus.
Dans la formule (I) ci-dessus, au moins trois groupes R1 de la formule (I) sont des radicaux monovalents dérivés de télomères ou cotélomères de monomères organiques fluorés qui sont choisis indépendamment parmi: (i) les homotélomères monovalents à terminaison alkylène, choisis parmi les télomères de chlorotrifluoréthylène, tétrafluoréthylène, fluorure de vinylidène et trifluoréthylène; (ii) les cotélomères choisis parmi les cotélomères de chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène; (iii) les cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un
monomère choisi parmi l'hexafluoropropène, le 1-H-
pentafluoropropène et le 2-H-pentafluoropropène; (iv) les cotélomères de fluorure de vinylidène et d'un monomère choisi parmi lesdits hexa- et pentafluoropropènes; (v) les cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; (vi) les cotélomères de tétrafluoréthylène, de chlorotrifluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; et (vii) les cotélomères de tétrafluoréthylène, de
chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène.
Les télomères et cotélomères ci-dessus sont liés à l'atome de silicium dans les formules correspondantes (c'est-à-dire les formules I, III et V) par un radical alkylène non halogéné linéaire divalent contenant 2, 3 ou 4 atomes de carbone. Tous les autres groupes R1 éventuels dans lesdites formules (c'est-à-dire ceux qui ne sont pas les télomères ou cotélomères décrits ci-dessus) sont choisis30 indépendamment parmi les radicaux alkyles contenant 1 à 4 atomes de carbone, phényle, phényle à substituant
perfluoroalkyle et les radicaux alkyles fluorés de formule générale Rs (CH2) y-
o Rs représente un radical perfluoroalkyle, linéaire ou ramifié, ayant 1 à 6 atomes de carbone et y est 2, 3 ou 4.
Dans les formules III et V, w est 1 ou 2, de préférence 1.
Dans la formule III, R8 est choisi parmi les radicaux Cl, F et OCH3, et c'est de préférence F. De même, dans la formule II, au moins deux des groupes R2 et au moins un des groupes R4 sont choisis indépendamment parmi les mêmes télomères et cotélomères que décrits ci-dessus pour le groupe R'. Ces télomères et cotélomères sont ici encore liés aux atomes de silicium dans les formules correspondantes (c'est-à-dire les formules II, IV et VI) par un radical alkylène divalent et tous les autres groupes R2 et R4 éventuels sont choisis indépendamment parmi les radicaux alkyles, phényle, phényle à substituant perfluoroalkyle et les radicaux alkyles fluorés décrits à propos de la formule I. Dans les formules IV et VI, w est 1 ou 2, de préférence 1. Dans la formule IV, R8 est choisi parmi les radicaux C1, F et OCH3, de préférence F. Dans les formules II, IV et VI, la valeur moyenne de z est de 0 à 4, de préférence 0 ou 1, et R3 est un télomère ou cotélomère fluoré divalent téléchélique terminé par des groupes20 alkylènes, représenté par la formule:
Cm -(R6)CFCF2-(CpF2p)q(C2CLF3)r-Rf-(C2CLF3)r-(CpF2p)q-CF2CF(R6)-CH2m-
o Rf représente un radical perfluoroalkylène contenant 2 à 6 atomes de carbone, R6 est le fluor ou le radical
trifluorométhyle, m est 2 ou 3, avec la condition que -C.H-
représente un radical linéaire, la valeur de R est 2 ou 3,
r est 0 ou un nombre entier positif de 1 à 6, est 0 ou un nombre entier positif de 1 à 6 et (r+q) est de 2 à 12.
Les télomères et cotélomères de la présente invention sont connus dans la technologie et peuvent être préparés par la télomérisation ou cotélomérisation de monomères fluorés, cette télomérisation étant amorcée par des télogènes substitués par du brome ou de l'iode, comme décrit en détail dans le brevet des E.U.A. N 5 110 973 précité. Par exemple, des techniques pour la télomérisation du tétrafluoréthylène (TFE) sont bien connues (voir, par
exemple: "Organic Fluorine Compounds" de Hudlicky, Ed.
McMillan, page 347, 1962). D'autres techniques utiles pour préparer les télomères et cotélomères utilisés comme composés intermédiaires pour l'obtention des silanes de la présente invention sont indiquées, par exemple, dans le
brevet précité de Caporiccio et dans le brevet des E.U.A.
N 4 731 170.
Certains des télomères et cotélomères de la présente invention sont de préférence préparés à partir de composés intermédiaires qui sont des iodures fluorés ayant 4, 6 ou 8 atomes de carbone (par exemple C4FgI, C6F13I ou C8Fl7I). Ces composés sont disponibles chez PCR, Inc. (Gainesville, Floride). Les télomères peuvent également être préparés par télomérisation thermique de TFE à partir de CF3CF2I à des températures de 180 à 250 C en utilisant un rapport molaire CF3CF2I/TFE de 2 à 5. Le télogène et le monomère n'ayant pas réagi sont récupérés et le mélange de télomères est séparé par distillation ou utilisé sous forme d'un mélange pour une réaction ultérieure. Certains des iodures de télomères téléchéliques du type I(C2F4)2I, I(C2F4)3I et I(C2F4)4I sont également disponibles chez PCR, ou sont obtenus par des procédés indiqués dans le brevet des E.U.A. N 4 731 170 à partir de TFE et du télogène IC2F4I, ce dernier étant obtenu en faisant réagir I2 et TFE entre 130 et 160 C. Les télomères fluorés diiodés téléchéliques peuvent également être soumis à un coiffage terminal avec l'hexafluoropropène (HFP) par addition thermique entre 200 et 240 C, pour les convertir en structures de la forme I(C3F6)q.(C2F4)qI, o q =
2, 3, 4 et q' = 1, 2.
Des télomères tels que CF3CF2C2F4CF2CF(CF3)I sont obtenus à partir de C4F9I par addition thermique de HFP à 240 C. Des télomères tels que C2FFC2F4(CH2CF2),CF2CF(CF3)I, o n = 1 ou 2, sont obtenus à partir de C4F9I par addition thermique de CH2=CF2 à 200 C, puis par addition de HFP à 240 C. Des télomères tels que F(CF2-CFCl),CF2CF(CF3)I, o n = 1 à 3, sont de préférence obtenus par télomérisation thermique de CTFE en utilisant le télogène CF3CFClI entre et 150 C. Ce télogène est obtenu, en même temps que CF2ClCF2I, par l'addition de IFs et d'iode à CTFE entre 20 et 100 C. Après avoir séparé par distillation le télomère du CF2ClCF2I n'ayant pas réagi, qui est inerte dans ces conditions, le télomère de CTFE peut être amené à réagir
avec HFP entre 180 et 230 C pour les besoins de l'invention.
Le télomère CF3CF(C1)CF2CF(CF3)I est également intéressant
dans l'invention.
Les télomères décrits ci-dessus (télomères fluorés-
iodés) sont coiffés par des groupes terminaux choisis parmi -CH2CH2I, CH=CH2, -CH2-CH=CH2 ou -CH2CH2CH2I. Pour réaliser le coiffage terminal par le groupe -CH2CH2I, les télomères fluorés-iodés sont amenés à réagir avec l'éthylène en présence de CuCl ou CuI, de préférence également en présence d'éthanolamine et d'un solvant tel que l'alcool t- butylique ou l'acétonitrile, selon le mode opératoire décrit, par exemple, par D. Burton (J. Org. Chem., 35 (5), page 1339,
1970). Les télomères fluorés à terminaison 1,1,2,2-
tétrahydro-l-iodo ainsi obtenus sont ensuite utilisés pour préparer des réactifs de Grignard pour l'alkylation
d'halogénures de silicium selon la présente invention.
Les télomères fluorés à terminaison 1,1,2,2-
tétrahydro-1-iodo peuvent également être transformés en les télomères correspondants ayant des groupes vinyle terminaux par la réaction de désiodhydratation bien connue en utilisant des bases telles que KOH dans l'alcool éthylique (voir, par exemple, le brevet des E.U.A. N 5 110 973). Le
même procédé peut être suivi pour obtenir des télomères téléchéliques du type divinylique, tels que CH2=CH-
(C2F4)nCH=CH2 et analogues, selon l'enseignement du brevet des E.U.A. N 5 110 973 précité.
Les dérivés à terminaison allyle peuvent être obtenus, par exemple, en faisant réagir des composés tels que C4FgCH2CF2CF2-CF(CF3)I ou C2F5 (C2F4)2CF2CF(CF3)I avec l'acétate d'allyle en présence de peroxyde de benzoyle à une température de 70 à 100 C, et en faisant réagir ensuite le produit d'addition avec Zn dans des solvants alcooliques
entre 25 et 80 C.
Selon le procédé de la présente invention, les hydrosilanes V et VI sont les composés intermédiaires préférés pour leur utilisation dans la préparation des produits I et II, respectivement, les premières structures étant amenées à réagir avec des hydro-oléfines fluorées (télomères fluorés à terminaison vinyle ou allyle). Dans ce procédé, un composé III ou un composé IV est de préférence d'abord obtenu en faisant réagir l'halogénure de fluoroalkyle télomère ou cotélomère du type R1X (X = Br ou I, de préférence I, et R' est tel que défini précédemment)15 avec du magnésium pour former un réactif de Grignard. Ce réactif de Grignard est ensuite amené à réagir avec un composé intermédiaire qui est un halogénure de silicium ou un alcoolate de silicium pour former les composés intermédiaires respectifs V et VI. Ce composé intermédiaire20 peut être illustré à titre d'exemple par des structures telles que: SiCl4, HSiCl3, CH3Si(OCH3) 3, CF3C2H4SiC13,
CF3C2H4Si (OCH3)3, C6F13C2H4SiC13 (obtenu par hydrosilylation de C6F13CH=CH2 avec HSiCl3), CH3SiCl2-C2H4C6Fl2C2H4-SiCl2CH3 (préparé par hydrosilylation de CH2=CH-C6F12CH=CH2 avec CH3Si (H)C12) et25 CF3C2H4SiCH3 (Cl) -C2H4-C6Fl2-C2H4SiCH3 (Cl) -C2H4CF3, entre autres.
Lorsque le fluoroalkylsilane III ou IV est un chlorure ou un alcoolate (c'est-à-dire que R8 dans III ou IV est respectivement Cl ou OCH3), il est préférable de convertir le chlorure ou alcoolate en le fluorure30 correspondant (c'est-à-dire o R8 = F) avant de faire réagir le fluoroalkylsilane avec l'hydrure de lithium et d'aluminium ou le borohydrure de sodium pour former les hydrosilanes V ou VI, comme décrit ci-après. La conversion du chlorure ou alcoolate de fluoroalkylsilane en le fluorure35 correspondant est accomplie par une réaction de double décomposition en utilisant une solution aqueuse- alcoolique de HF. Cette réaction de double décomposition est essentiellement quantitative et les fluorures de fluoroalkylsilane résultants sont facilement isolés sous forme de composés essentiellement purs à 100 %. De plus, ces fluorures de fluoroalkylsilane ne sont pas hydrolysables et sont bien plus réactifs avec les iodures de Grignard susmentionnés que les chlorures ou alcoolates de fluoroalkylsilane correspondants. Ainsi, on a typiquement constaté que l'alkylation de Grignard du fluoroalkylsilane
offre des taux de conversion compris entre 50 et 90 %.
Les fluorures de fluoroalkylsilane (III ou IV) o R8 est F sont ensuite amenés à réagir avec LiAlH4 (préféré) ou le borohydrure de sodium, dans l'éther d'éthyle en conditions de reflux, pour donner le monohydro- ou15 dihydrosilane correspondant de structure V ou VI, respectivement, en un rendement pratiquement quantitatif
(c'est-à-dire d'au moins 95 %).
Les monohydro- ou dihydrosilanes (structure V ou VI) sont ensuite amenés à réagir avec des télomères fluorés à terminaison vinyle ou des télomères fluorés à terminaison allyle selon le présent procédé pour produire les silanes I ou II, respectivement. Cette réaction d'addition est facilitée par des peroxydes organiques ou, de préférence, par des catalyseurs à base de platine. De préférence, on25 utilise du Pt supporté sur carbone ou, plus avantageusement, sous forme d'une solution à 10 à 25 % de H2PtCl6-6H20 dans l'isopropanol, de telle sorte qu'il y ait 10-2 à 10-5 partie de Pt pour chaque partie de silane (base molaire). Cette réaction peut être conduite à une température de 50 à 150 C,30 de préférence entre 80 et 120 C, et de préférence sous une pression partielle d'oxygène, comme cela est courant en pratique pour de telles réactions d'addition. Quelques-uns des processus préférés selon l'invention sont illustrés ci-dessous, mais ne sont pas
destinés à limiter son cadre.
Préparation d'halogénosilanes intermédiaires -
Processus (i) RlX + Mg - RiMgX (X = Br, c prèfEoe I) RlMgX + SiC14 Ri4_vSiC!v (v = 1, 2, 3) R 4.vSiClv + HF R 4_VSiFv (v = 1, 2, 3) R1MgX + HSiC13 Ri3_v,-SiHClv, (v' = 0, 1, 2) R1MgX + RlSi(OCH3)3 - R12Si(OCH3)2 R12Si(OCH3)2 + HF - R12SiF2 o R' est choisi parmi les groupes suivants
CF3C2H4- (A)
C2F5(C2F4)qC2H4- (B)
C F F CF CF(CF)_C H (C)
C2F5(C2F4)qCF2CF(CF3)-C2H4- (C)
(CF3)2CFC2H4- (D)
C4F9(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)C2H4- (E) C4F9(CH2CF2)pCF2- CF(CF3)CH2-CH2CH2- (F) C2F5(C2F4)q-CH2CH2CH2 (G) F(CF2CFCl)p-CF2CF(CF3)C2H4- (H) o q = 1, 2 ou 3 et p = 1, 2 ou 3. Ainsi, des exemples particuliers des composés intermédiaires ci-dessus du type R'4VSiXV o X = Cl, F, ou du type R13vSiHClv, comprennent (B)3SiH; (D)3SiH; (B)2SiX2; (B)3SiX; (A) (B)2SiX; (A) (C) 2SiX; (A) (B)SiX2; (B) (D)2SiX; et (B) (C) 2SiX, o les lettres entre parenthèses (A), (B), (C) et (D) représentent
les exemples donnés ci-dessus de groupes R1.
Réaction de composé intermédiaire avec l'hydrure -
Processus (ii) Les structures du type III, o R8 = X = Ci, F, sont amenées à réagir avec LiAlH4 pour donner des structures du type v, tel que défini ci-dessus. De même, les structures du type IV (o Ra = X = Cl, F) sont amenées à réagir avec LiAlH4
pour donner des structures du type VI.
Réaction d'hydrures avec des oléfines fluorées -
Processus (iii) Les hydrosilanes du type HSiCl3; du type V (o w = 1); du type R14HwSi (o w = 1, 2); du type VI (o w = 1, 2), sont amenés à réagir avec des oléfines fluorées du type: (L) CF3-CHCH2 (M) C2F5(C2F4)qCH=CH2 (N) C2F5(C2F4)q-CF2CF(CF3)CH=CH2 (O) C2F5(C2F4)q-CH2CH=CH2 (P) C2F5(C2F4)q-CF2CF(CF3)CH2-CH=CH2
(Q) (CF3)2-CF-CH=CH2
(R) F(CF2CFCl)pCF2CF(CF3)CH=CH2 (S) C2F5(C2F4)q(CH2CF2)pCF2- CF(CF3)CH=CH2 (T) C2F5(C2F4)q(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)CH2-CH--CH2
o q = 1, 2 et p = 1, 2.
Les hydrosilanes résultants obtenus par ce processus (iii) sont du type: (H)SiC13; (A) (B)SiH2; (A) (B)2SiH; (A) (C)2SiH; (A) (D)2SiH; (B)3SiH; (B) (C)2SiH; (B) (D)2SiH; et (B)2(F)SiH, entre autres, o les lettres entre parenthèses représentent des groupes dérivés des oléfines
fluorées définies ci-dessus.
D'une manière similaire, les hydrures peuvent être amenés à réagir avec des alpha,oméga-dioléfines téléchéliques du type: (U) CH2=CH(C2F4)qCH=CH2 o q = 2, 3, 4
(W) C C(FC-F (
(W) CH2=CH(CF3CF-CF2)p(C2-F4)qCF2-CF(CF3)CH=CH2 (X) CH2=CH-CH2(CF3CFCF2)p(C2F4)CF2CF(CF3)CH2-CH=CH2
o q = 1, 2, 3 ou 4 et p = 0 ou 1.
Des hydrosilanes téléchéliques sont obtenus sont des processus du type (comme exemple non limitatif): CF3C2H4SiH(CH3)Cl - (U) ( ou q = 3) CF3C2H4(CH3)(Cl)SiC2H4C6F12C2H4SiCl(CH3)C2H4CF3
$1HF
CF3C2H4(CH3)FSiC2H4C6F12C2H4SiF(CH3)C2H4CF3 Par hydrosilylation desdites oléfines L à X avec les hydrosilanes mentionnés, on obtient des silanes de types I et II. Quelques processus préférés sont: (cl) (B)3SiH + (L) (B)4Si (c2) (A)(B)2SiH + (M) - (A)Si(B)3 (c3) (B)3SiH + (O) - (B)3Si(G) (c4) (A)(C)2SiH + (Q) - (A)(C)2Si(D) (c5) (B)(C)2SiH + (N) - (B)(C)3Si (c6) (B)(C)2SiH + (M) - (B)2Si(C)2 (c7) CH3(A)(B)SiH + (M) (A)(B)(CH3)SiC2H4C6F12C2H4Si(A)(B)(CH3) o les lettres entre parenthèses représentent ici encore les
groupes définis ci-dessus.
Ainsi, en combinant les types de processus (i), (ii) et (iii) dans un ordre commode, on peut obtenir différents produits finals de types I et II, tels qu'illustrés par les structures suivantes: (C6F13C2H4)4Si (C6F13C2H4)3Si(C2H4CF3) (C6F13C2H4)3Si(C3H6C6Fl3) (C6F13C2H4)3Si(C3H6(HFP)(VF2)C4F9) (C6F13C2H4)2Si(C2H4CF3)2 (C6F13C2H4)2Si(C2H4(HFP)C4F9)2 (C6F13C2H4)Si(C2H4(HFP)C4F9)3 (C6F13C2H4)Si(C2H4CF(CF3)2)2(C2H4CF3)
CH3 CH3
I CF3C2H4-ui-C2H4-(C2F4)3-C2H4-C2H4-CF3
R2 R2
o R2 = -C3H6-CF(CF3)CF2-CF2CH2-C2F4C2F5
CH3 CH3
CF3C2H4-Si-C2H4-(C3F6)(C2F4)2(C3F6)2-C2H4si-C2H4-CF3 et
C2H4C6F13 C2H4C6F13
CF3CFClCF2CF(CF3)C2H4Si(C2H4C6F13)3 o HFP représente un résidu d'hexafluoropropène et VF2 représente un résidu de fluorure de vinylidène dans les
formules ci-dessus.
EXEMPLES
Les exemples suivants sont présentés pour mieux illustrer le procédé de la présente invention, mais ne sont pas destinés à limiter l'invention qui est définie dans les
revendications annexées. Les parties et pourcentages
mentionnés dans les exemples sont tous exprimés sur base pondérale et toutes les mesures ont été effectuées à 25 C,
sauf indication contraire.
Exemple 1 - Préparation de [C2F5(C2F4)2C2H4]4Si Un composé fluoré de formule CFs(C2F4)2CH=CH2 (obtenu chez PCR, Inc.) est mis à réagir avec HSiCl3 à 120 C en présence de 200 ppm de H2PtCl<-6H20 en solution à 10 % dans l'alcool isopropylique dans un tube de verre scellé o a été introduit de l'oxygène. Après réaction pendant 16 heures, le produit est distillé pour donner un composé de formule C6F13C2H4SiC13 (a) en un rendement de 90 % (Eb. = 85 C à 2,67
kPa). Ce silane est dissous dans un mélange éther d'éthyle-
alcool éthylique (1:1 en volume) et mis à réagir avec un excès de HF à 40 % à 0 C, après quoi le mélange est versé dans un excès d'eau, la solution éthérée est recueillie,
séchée sur Na2SO4 et le solvant est éliminé par distillation.
Un produit ayant la structure C6F13C2H4SiF3 (b) est isolé. Le silane (b) (0,1 mole) est dilué dans 500 ml d'éther d'éthyle anhydre et ajouté à une solution de 0,4 mole de C6Fl3C2H4MgI ayant été préparé à partir de C6F13C2H4I et Mg préalablement activé par des cristaux d'iode en solution 0,3 molaire dans l'éther d'éthyle. Après 18 heures de reflux, le mélange est versé dans HC1 à 20 % glacé. La phase d'éther est séparée et lavée à l'eau, puis traitée avec HF aqueux (40 %) à 0 C, et la phase d'éther est séparée; le solvant est distillé et le trialkylsilane (c) est distillé à 93 C/2,67 kPa (rendement = 80 %). Ce produit (c) présente un déplacement chimique en
RMN de 29Si à +29,5 ppm (TMS).
(C6F13C2H4) 3SiF (c) On ajoute lentement 80 parties de silane (c) dissous dans 150 ml d'éther d'éthyle à 2,8 parties de LiAlH4 en suspension dans 150 ml d'éther d'éthyle dans un ballon de 1 litre équipé d'un agitateur et d'un condenseur. Le mélange est chauffé au reflux pendant une nuit, puis refroidi et versé dans un excès de HC1 à 10 %. La phase d'éther est séparée, séchée sur Na2SO4 et distillée pour donner 71 parties d'hydrosilane (d) (rendement = 95 %). L'analyse par
RMN de 29Si montre un déplacement à -2 ppm (TMS; s).
(C6F13C2H4) 3SiH (d) Dans un tube de verre, on place 64 parties du silane (d), 25 parties de l'oléfine C6F13CH=CH2 et 0,3 ml d'une
solution à 10 % d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol.
Le tube est mis sous vide, puis rempli avec de l'oxygène (606 kPa en pression absolue), scellé et chauffé à 110 C sous agitation pendant 18 heures. Le produit réactionnel est recueilli, filtré, séparé de l'oléfine par distillation entre 150 et 160 C (0,133 Pa), ce qui donne 68 parties d'un
tétra-alkylsilane (e) en un rendement de 80 %.
(C6F13C2H4) 4Si (e) Le silane (e) présente un déplacement chimique en RMN de "Si à +8,35 ppm (TMS). La viscosité du silane (e), mesurée par un viscosimètre à cône et plaque, est de 107 mPa.s à 25 C et de 6 mPa.s à 100 C. La masse volumique est de 1,72 g/cm3 et l'indice de réfraction nD = 1,3301. En considérant la composition, la nature inerte et la symétrie de la structure qui correspond à une très faible polarité de la molécule, il est possible de prévoir une constante diélectrique d'environ 2, d'après la valeur de polarisation électronique admise comme étant très proche de la polarisation moléculaire de l'équation de Mosotti-Clausius. En termes pratiques, une constante diélectrique de 2 est caractéristique d'un très bon fluide isolant. L'analyse par calorimétrie différentielle à balayage (CDB) montre que le silane (e) a une température de transition vitreuse de -73 C. Ces propriétés rendent ce silane utilisable comme lubrifiant pour applications électromécaniques, comme fluide réfrigérant pour l'électronique et comme fluide hydraulique
pour l'aéronautique, entre autres.
Exemple Comparatif 1 On effectue une tentative pour convertir le trialkylsilane fluoré (c) de l'Exemple 1 ci-dessus en le tétraalkylsilane (e) correspondant, également défini dans l'Exemple 1, en le faisant réagir avec un réactif de Grignard de formule C6F13C2H4-MgI. Lorsque cette réaction est effectuée en utilisant l'éther de diéthyle, le tétrahydrofuranne ou l'éther de dibutyle, on n'observe essentiellement pas de conversion mesurable en le produit attendu. Lorsque le trialkylsilane (c) est mis à réagir avec C6Fl3C2H4-Li en utilisant l'éther de diéthyle ou l'éther de
dibutyle comme solvant, on n'obtient qu'un rendement de 10 %30 en produit (e).
Le trialkylsilane (c) de l'Exemple 1 (0,0046 mole) est mis à réagir avec 0,15 mole de CF3C2H4-Li (dans l'éther de diéthyle; -30 C/5 heures, puis 20 C/60 heures). Le rendement en (C6F13C2H4)3SiC2H4CF3 (Eb. = 110-112 C à 0,133 Pa)35 est de 58 %, ce qui est encore nettement inférieur au rendement de 80 % obtenu dans la préparation du produit (e)
de l'Exemple 1.
Exemple 2 - Préparation de [C2F5 (C2F4)2C2H4] 3SiC3H (C,F4) 2C2F, Un dérivé allylique C6F13CH2-CH=CH2 (a) est d'abord préparé par addition d'un télomère C6F13I pur (270 parties) à l'acétate d'allyle (en excès stoechiométrique de 5 %), facilitée par 1 % de peroxyde de benzoyle, à 85 C pendant 16 heures. L'acétate de fluoroalkyle résultant (taux de conversion = 70 %, sélectivité = 100 %) présente des déplacements chimiques en RMN de 1H dans les régions de 2,3 ppm (CF2CH2); 4,5 ppm (CHI); 4,4 ppm (CH2-OAc); 2 ppm (CH3). L'acétate de fluoroalkyle est ajouté à une suspension de 14 parties de Zn en poudre fine dans 300 ml d'éthanol et 2 ml de HCl (36 %) et chauffé entre 50 et 70 C pendant 4 heures. Cette suspension est filtrée et le liquide est lavé avec HCl (5 %), séché sur Na2SO4 et distillé pour donner le
dérivé allylique (a). Le dérivé allylique (a) (21,7 parties) est mis à réagir avec l'hydrosilane
(C6F13C2H4)3SiH (54 parties), ce dernier ayant été préparé selon le mode opératoire de l'Exemple 1. Le produit résultant est distillé et une fraction (b) bouillant à 170 C/0,133 Pa est obtenue en un rendement de 96 % (par rapport à l'hydrosilane). Ce produit (b) est soumis à une analyse par RMN de 1H et présente un déplacement chimique à +6,86 ppm (TMS); la RMN de 'H montre des déplacements chimiques dans les régions de 0,7-1,05 ppm (CH2Si), 1,6-1,8 ppm (CH2CHCH2) et 1,9-2,35 ppm (CH2CF2); la RMN de '9F est également en accord avec la structure prévue: [C2Fs (C2F4) 2C2H4] 3SiCH2CH2CH2 (C2F4) 2C2F5 (b) Le produit (b) est encore analysé et l'indice de réfraction
s'avère être n20 = 1,3340 et une température de transition vitreuse de -59 C est détectée par CDB.
Exemple 3 - Préparation de (C2F5-C2F4-CF2CF(CF3)C2H4)3SiC2H4(C2F4)2 C2F5 Un télomère de structure C2FsC2F4CF2CF(CF3)C2H4I (a) est préparé en plaçant 204 parties du télogène C2FsC2F4I dans un autoclave en Hastelloy de 500 ml, puis en ajoutant, sous vide, 120 parties de HFP et en faisant réagir à 210 C pendant 64 heures. Le HFP est évacué, et le produit est retiré et distillé pour séparer le télogène du télomère (a) (Eb. 45 C à 2,67 kPa, taux de conversion = 50 %). Les déplacements chimiques (ppm, CFC13) par RMN de 9F pour le produit (a) sont:
CF3 CF CF2 CF2 CF2 CF
3 22 2 2C -(CF3)I
-82 -127 -123/7 -121;8 -107 -145 -73
On place 60 parties de télomère (a) dans un autoclave en Hastelloy de 200 ml o l'on introduit encore 0,3 partie de CuCl, 3 parties d'éthanolamine et 20 parties d'alcool t-butylique. L'autoclave est fermé, mis sous vide et chargé d'éthylène gazeux à une pression de 3,55 MPa, puis chauffé entre 130 et 145 C pendant 10 heures. L'atmosphère de l'autoclave est détendue et le produit est versé dans l'eau et recueilli par extraction avec du Freonm 113. La phase organique est séchée sur Na2SO4, distillée et le produit à coiffage terminal (b) est séparé à 76 C/2,67 kPa
(taux de conversion = 90 %).
C4FgCF2-CF(CF3)C2H4I (b) La caractérisation par RMN de (b) est comme suit: (b) C4F9CF2 -CF (CF3)CH2 CH2I -118 -183 -74 (par RMN del9F; ppm, CFC13) +2,7 +3,3 par RMNde]H; ppm, TMS) Les deux réactions sont répétées afin d'obtenir suffisamment
de produit pour les réactions suivantes.
Le produit (b) est utilisé pour préparer un réactif de Grignard comme suit. Un ballon en verre de 2 litres équipé d'un agitateur mécanique, d'un condenseur et d'un thermomètre est chargé avec 0,4 g de magnésium et chauffé à 100 C sous un courant d'azote, puis refroidi, et le Mg est mis en suspension dans 150 ml d'éther d'éthyle anhydre. Un cristal d'iode est ajouté à la suspension agitée, puis une solution de 0,24 mole du produit (b) ci-dessus dans 650 ml d'éther d'éthyle anhydre est ajoutée goutte à goutte. Après10 une heure d'agitation entre 30 et 35 C, on ajoute une solution de 0,1 mole de C6F13C2H4SiF3 préparé selon l'Exemple 1 et dilué dans 300 ml d'éther d'éthyle. Le mélange est chauffé au reflux pendant 24 heures et le produit final est séparé et purifié selon le mode opératoire décrit à l'Exemple 1. Après évaporation du solvant, le produit est distillé à 120-125 C/2,67 Pa pour donner le silane (c)
(rendement de 50 % par rapport au silane de départ).
[C4F9CF2-CF(CF3)C2H4]2Si(F)C2H4C6F13 (c) Le silane (c) est analysé par RMN de 19F et par RMN de 29Si o il est caractérisé par un double centré à +28,5 ppm (TMS). Le produit est ajouté à un excès de LiA1H4 dans ml d'éther d'éthyle et mis à réagir selon le mode opératoire décrit à l'Exemple 1. Après traitement final,
l'hydrosilane (d) est recueilli (taux de conversion = 94 %).
Cette matière est caractérisée par spectroscopie IR o l'on observe une absorption à 2140 cm-' correspondant à SiH, et
par RMN de 29Si o l'on observe un singulet à -3,04 ppm (TMS).
[C4F9C3F6C2H4] 2Si (H) C2H4C6F3 (d) L'hydrosilane (d) (0,042 mole) est mis à réagir avec 0,05 mole de C4F9C3F6CH=CH2 en présence de 0, 2 ml d'une
solution à 10 % d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol.
Cette réaction est effectuée dans un ballon en verre o un courant de 2 % (en volume) d'oxygène dans l'azote est amené à barboter continuellement dans le mélange et ce dernier est agité et chauffé à 110 C pendant une nuit. Le produit brut est filtré et distillé à 124 C/0, 133 Pa en donnant le silane (e) distillé pur en un rendement de 38 %: (C4F9C3F6C2H4)3SiC2H4C6F13 (e) Ce liquide présente une température de transition vitreuse de -57 C et un indice de réfraction nD = 1,333. Exemple 4 - Préparation de
CH3 CH3
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3
C2H4C6F13 C2H4C6F13
Un autoclave en HastelloyM de 1 litre est chargé, sous vide, avec 106 parties de IC2F4I (de PCR). L'autoclave est fermé et relié par une conduite en acier inoxydable à une bouteille contenant du tétrafluoréthylène (TFE) gazeux sous une pression de 0,7 MPa. Le vide est fait dans la
conduite et le TFE est introduit dans l'autoclave.
L'autoclave est fermé, chauffé à 210 C pendant 16 heures; la pression s'abaisse à 0,2 MPa. L'introduction de la charge de TFE est répétée et la réaction est poursuivie pendant encore 24 heures, après quoi l'atmosphère du réacteur est détendue. D'après une analyse par chromatographie gazliquide (colonne SE), on observe que le produit est constitué à 90 % de 5 composants principaux. Le produit est20 distillé et l'on sépare 15 g de IC6F12I (a) bouillant à 70 C (1,07-1,33 kPa). L'opération est répétée 4 fois. On introduit 55 grammes de ICF12I dans un autoclave de 0,5
litre, ainsi que 0,5 g de CuI et 50 ml d'alcool t-butylique.
L'autoclave est fermé, mis sous vide et relié par une conduite en acier inoxydable à une bouteille d'éthylène. L'éthylène gazeux est introduit dans l'autoclave jusqu'à ce qu'une pression de 3,55 MPa soit atteinte. L'autoclave est fermé et chauffé à 160 C pendant 16 heures, après quoi l'atmosphère de l'autoclave est détendue et un mélange30 solide est recueilli, dissous dans i'hexane chaud, filtré et cristallisé. Le produit (b) pur résultant est ainsi isolé
(taux de conversion de 80 %; identifié par RMN de 19F).
IC2H4C6F12C2H4I (b) Dans un ballon en verre équipé d'un condenseur, le produit (b) est mélangé avec 15 g de KOH dilué dans 100 ml d'alcool éthylique et d'éthylène-glycol et le mélange est chauffé au reflux pendant 3 heures. Le mélange résultant est versé dans un excès d'eau et la portion organique est séchée sur Na2SO4 et distillée. La conversion est totale et l'on observe que le produit dioléfinique (c) présente en RMN de H des déplacements chimiques dans la région de 5,8-6 ppm
(TMS).
CH2=CH-C6F12CH=CH2 (c) La dioléfine (c) est mise à réagir avec le silane CH3Si(H) (C2H4CF3)Cl. Cette réaction est conduite en présence de 50 ppm d'acide chloroplatinique en solution à 25 % dans l'isopropanol, à 100 C pendant 16 heures, dans une atmosphère de 2 % d'oxygène (en volume) dans l'azote. Le produit liquide (d) résultant possède la structure
CH3 CH3
I I
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3 (d) Cl Cl Le produit (d) est filtré et caractérisé par RMN de 'H, 9F et 29Si. Le déplacement chimique caractéristique en RMN de 29Si est à 31,41 ppm (TMS) et les déplacements chimiques en
RMN de 1H se trouvent dans les régions de 0,52 ppm, 1,04-
1,09 ppm et 2,05-2,35 ppm (TMS).
Dans un ballon de 250 ml équipé d'un condenseur, d'une ampoule à robinet et d'un agitateur, contenant 2 parties de LiAlH4 en suspension dans 50 parties d'éther d'éthyle anhydre, on ajoute goutte à goutte 35 parties de produit (d) dissous dans 100 parties d'éther d'éthyle30 anhydre. Le mélange est chauffé au reflux pendant 2 heures, puis traité avec de l'acide chlorhydrique à 10 %. Après séparation de la phase d'éther et séchage sur sulfate de sodium, l'éther est distillé pour laisser 30,2 parties (rendement = 94,6 %) de produit (e).
CH3 CH3
I I CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3 (e)
H H
Le produit (e) présente une absorption IR à 2150 cm-' et la RMN de SH montre des déplacements chimiques à 0,15, 0,8-1, 1,95-2,25 et 3,9-4 ppm (TMS), et la RMN de 29Si montre
un déplacement chimique à -7,22 ppm (TMS).
Dans un ballon à fond rond de 25 ml équipé d'un condenseur et d'un agitateur magnétique, on introduit 7,02
parties de produit (e), 7,6 parties de tridécafluoro-1-
octène (C6Fl3CH=CH2) et 0,1 ml d'acide hexachloroplatinique sous forme d'une solution à 10 % dans le 2-propanol. Le mélange est chauffé à 100 C pendant 18 heures. Il est ensuite filtré et distillé sous vide pour éliminer toute trace d'oléfine, en donnant 13,1 parties (rendement = 89, 5 %) de produit (f):
CH3 CH3
I I.
CF324 C24C24324 C24CF3C2H4-i-C2H4-(C2F4)3C2H4i24 3
C2H4C6F13 C2H4C6F13
Le rendement global est de 84,7 %-.
La RMN de SH du produit (f) montre des déplacements chimiques à 0,1-0,15, 0,8-1 et 1,9-2,2 ppm (TMS). La RMN de
29Si montre un déplacement chimique à +6,74 ppm (TMS).
L'analyse par CDB révèle une température de transition
vitreuse de -65 C; l'indice de réfraction est nD0 = 1,3580.
On considère que ces propriétés permettent d'utiliser avantageusement le produit (f) du présent exemple comme lubrifiant pour applications électromécaniques, fluide hydraulique pour applications aéronautiques et fluide de
base pour graisses.
Exemple 5 - Préparation de
CH3 CH3
I I
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4--CF3
R2 R2
Ou R2 = -C3H6-CF(CF3)CF2-CF2CH2-C2F4C2F5 On prépare d'abord un cotélomère à terminaison
allyle ayant la structure C2FsC2F4CH2CF2CF2-CF(CF3)-CH2-CH=CH2.
Dans un autoclave en HastelloyM de 500 ml équipé d'un agitateur mécanique, on introduit 300 parties de télomère
C2F5C2F4I (a) et 60 parties de fluorure de vinylidène (VF2).
L'autoclave est fermé et chauffé entre 210 et 230 C, la pression initiale à 230 C étant de 7,0 MPa. Après 15 heures, le réacteur est refroidi, le gaz est évacué à l'extérieur et le produit brut est distillé à 40 C/2,67 kPa pour donner un
produit (b) ayant une pureté de 96 %.
C4F9CH2CF2I (b) Le produit (b) (290 parties) est mis à réagir dans le même autoclave avec 120 parties de C3F6 (HFP) à 240 C pendant 75 heures, la pression initiale à 240 C étant de 8,0 MPa. Après détente de l'atmosphère de l'autoclave, le produit brut est distillé à 80 C/2,67 kPa pour donner 200
parties d'un produit (c) ayant une pureté de 90 %.
C4FgCH2CF2-CF2CF(CF3)I (c) Le produit (c) est caractérisé par RMN de '9F et les déplacements chimiques observés (ppm, CFCl3) sont:
CF3 CF2 CF2 CF2CH2 CF2 CF2 CF (CF3)I
-82 -127 -125 -113 -110 -103 -145 -74
On fait réagir 170 parties de produit (c) avec de l'acétate d'allyle en excès de 5 % par rapport à la proportion stoechiométrique en présence de 1 % en poids de peroxyde de benzoyle à 80 C. Un taux de conversion de 80 % en produit d'addition (d) est obtenu (sélectivité de 100). C4F9CH2CF2C3F6CH2-CHI-CH2OAc (d) Ce produit d'addition est caractérisé par RMN de 'H et présente des déplacements chimiques similaires à ceux de l'acétate (a) de l'Exemple 3. A une suspension de 12 parties de Zn en poudre fine dans 200 ml d'alcool éthylique, on ajoute 2 ml de HCl à 36 %, puis on ajoute 66 parties du produit d'addition (d) tout en maintenant la température à C pendant 4 heures. Après refroidissement, le produit
résultant est filtré et versé dans un excès d'eau acidifiée.
La phase organique est recueillie, séchée sur Na2SO4 et distillée pour donner le dérivé allylique (e) en un taux de
conversion de 80 %.
C4FgCH2CF2CF2CF(CF3)CH2-CH=CH2 (e) Le produit (e) présente en RMN de 1H des déplacements chimiques de CH2 dans la région de 2,7-3,1 ppm et de vinyle dans les régions de 5,2-5,4 ppm (CH2) et 5,7-5,9 ppm (CH); la RMN de 19F montre le déplacement caractéristique du groupe
CF tertiaire à -179 ppm (CFCl3).
Dans un ballon de 200 ml équipé d'un condenseur et d'un agitateur magnétique, on introduit 32 parties de l'alpha,oméga-fluoroalkylènedisilane (e) de l'Exemple 4, 47 parties du dérivé allylique (e) du présent exemple et 0,3 ml
d'une solution à 10 % d'acide chloroplatinique dans le 2-
propanol. Ce mélange est chauffé à 100 C pendant 18 heures, filtré et distillé sous vide pour donner 60 g de disilane (f).CH CH3
3 3
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3 (f
R2 R2
ou R2 = -C3H6-CF(CF3)CF2-CF2CH2-C2F4C2F5 La RMN de 29Si du disilane (f) montre un déplacement chimique caractéristique à 5,27 ppm (TMS). La CDB révèle une température de transition vitreuse d'environ -500C;
l'indice de réfraction nD2 est de 1,3640.
Exemple 6 - Préparation de
CH3 CH3
J {
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)2(C3F6)n-C2H4Si-C2H4-CF3
C2H4C6F13 C2H4C6F13
Les modes opératoires de l'Exemple 4 sont employés pour faire réagir IC2F4I et TFE afin d'obtenir un mélange de télomères de formule générale I(C2F4)nI (a). Ce mélange de télomères est distillé pour donner une fraction (a') bouillant dans l'intervalle de 60 à 70 C à 2,67 kPa o n = 2 en moyenne et contenant moins de 5 % d'espèce o n = 3, comme déterminé par chromatographie en phase gazeuse et analyse par RMN de 19F. On fait réagir 100 parties de fraction (a') dans un autoclave avec 150 parties d'hexafluoropropène (HFP) entre 210 et 230 C pendant 16
heures tandis que la pression varie de 6,08 à 3,55 MPa.
Après détente de l'atmosphère de l'autoclave, le produit est déversé et l'on obtient une fraction bouillant dans l'intervalle de 65 à 85 C à 1, 33 kPa et constituée d'un
mélange à environ 1:1 des composants (bl:b2).
I(C2F4)2C3F6I (b1) IC3F6(C2F4)2C3F6I (b2) D'après les analyses par chromatographie gaz-liquide et RMN de '9F, le taux de conversion en les produits (bl) et (b2)
est d'environ 50 %.
Le mélange (bl,b2) est mis à réagir selon les modes opératoires de l'Exemple 4 pour la production de produits correspondant à (b) à (f) de l'Exemple 4, ce qui donne un mélange final de fluoroalkylène-disilanes de structure (f):
CH3 CH3
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)2(C3F6)n-C2H4Si-C2H4-CF3 (f
C2H4C6F13 C2H4C6F13
o n = 1, 2. Le composé (f) est caractérisé par RMN de g9F et se révèle très similaire au produit (f) de l'Exemple 4, mais il existe dans ce cas une absorption à -180 -183 ppm
(CFC13) due au CF des groupes CF2-CF(CF3)CH2 du HFP.
Exemple 7 - Préparation de [C2F5(C2F4)2C2H4]3SiC2H4CF3 Un autoclave de 200 ml est chargé avec 69 parties de
1,1,2-tridécafluoroctène-!, 36 parties de 3,3,3-
trifluoropropyldichlorosilane et 0,3 ml d'une solution à
% d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol.
L'autoclave est mis sous vide, puis rempli avec 2 % d'oxygène (en volume) dans l'azote, fermé et chauffé à 100 C pendant 16 heures pour effectuer la réaction. L'autoclave est déchargé et le produit est filtré et distillé. Une fraction bouillant entre 95 et 100 C à 133 Pa est séparée et analysée par chromatographie gaz-liquide qui révèle 95 % d'un composant qui, à l'analyse par RMN de 29Si, présente un déplacement chimique à +30,3 ppm (TMS). La RMN de 19F montre le déplacement chimique caractéristique en accord avec la structure (a) C2Fs(C2F4)2CH2CH2Si(C2H4CF3) Cl2 (a) Le composé (a) ci-dessus (19,6 parties) est mis à réagir avec 2,74 parties de LiAlH4 dans 80 ml d'éther d'éthyle anhydre au reflux sous azoce pendant une nuit. Le produit résultant est traité avec HC1 à 10 % à 0 C, séché et distillé à 95 C (2,67 kPa) pour donner 14,5 parties d'un produit qui, à l'analyse IR, présente l'absorption caractéristique de SiH à 2150 cm-: et, à l'analyse par RMN de 29Si, présente un déplacement chimique à 25,6 ppm (TMS), confirmant ainsi la structure (b) C2Fs (C2F4)2C2H4Si(C2H4CF3)H2 (b) Le produit (b) (17,5 parties) est mis à réagir pendant une nuit avec 83 parties de H2C=CHC6F13 et 0,3 ml d'une solution à 10 % d'acide chloroplatinique dans l'isopropanol dans un autoclave de 200 ml en présence de 2 % d'oxygène (en volume) dans l'azote entre 110 et 115 C. Le produit résultant est filtré et distillé entre 114 et 120 C (0,133 Pa) pour donner un rendement de 40 %. L'analyse par RMN de 29Si montre un déplacement chimique à 7,91 ppm (TMS)
et la RMN de 19F est en accord avec la structure (c).
[C2F5 (C2F4)2C2H4]3SiC2H4CF3 (c) Le produit (c) présente une température de transition vitreuse en CDB de -59 C, un indice de réfraction de 1,3340, une viscosité de 171 mPa.s et une masse volumique de 1,743
g/cm3.
Exemple 8 - Préparation de [CF3CFClCF2CF(CF3)C2H4]Si(C2H4C6F)3 On distille un mélange de CF3CF(Cl)I/CF2ClCF2I (a) à un rapport molaire de 70/30, obtenu par réaction entre 20 et 100 C de chlorotrifluoréthylène (CTFE), IFs et 12 en présence de AlBr3. Ce mélange (16,6 parties) est introduit dans un autoclave de 200 ml, après quoi l'on introduit sous vide 30 parties de HFP. L'autoclave est fermé et chauffé à 250 C pendant 48 heures. Le réacteur est refroidi, son atmosphère est détendue et le produit liquide est distillé pour donner parties de produit (b) qui présente les déplacements chimiques suivants en RMN de '9F: CF3 CFCl CF2 CFI CF3
3 27
-77,5 -130 a -134 -101 à -107 -141 -73 Dans un autoclave de 200 ml, on introduit 15 parties du produit (b), ainsi que 0,2 partie de CuI dans 20 ml de30 CH3CN. L'autoclave est ensuite chargé d'éthylène gazeux à 3,55 MPa et une réaction est conduite entre 130 et 150 C sous agitation pendant une nuit. Le mélange résultant contenant le produit d'addition ayant la structure CF3CFClCF2CF(CF3)CH2-CH2I (c) est lentement introduit par un tube de verre au fond d'un ballon contenant un excès de KOH dans une solution à 1:1 d'éthanol et d'éthylène-glycol chauffée à 80 C, tandis qu'une pression absolue de 4,00 à 6,67 kPa est maintenue afin de distiller un mélange d'alcool
et d'oléfine (d).
* CF3CFClC3F6CH=CH2 (d) Le produit (d), qui présente des déplacements chimiques en RMN de 1H dans les régions de 5,7 et 6,12 ppm, est mis à réagir avec un échantillon du fluorotrialkylsilane (d) de l'Exemple 1, (C6Fl3C2H4)3SiH, en employant le rapport de corps réagissants et le mode opératoire de l'Exemple 1, pour donner le tétraalkylsilane (e) dont la structure est
confirmée par l'analyse par RMN de 19F.
(C5F13C2H4)3SiC2H4C3F6CFC1CF3 (e) Exemple 9 - Préparation de
CH3 CH3
I i CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4-Si-C2H4-cF3 CF3(c)c36c2 CF3CF(Cl)CFCHC3F6C2H4 Le composé intermédiaire à hydrogènes fonctionnels (e) de l'Exemple 4 est mis à réagir avec CF3CF(C1)C3F6CH=CH2 (c'est-à-dire (d) de l'Exemple 8) en suivant le mode opératoire décrit à l'Exemple 4 pour produire un disilane de la structure
CH3 CH3
I I
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4-Si-C2H4-CF3 CF3CF(Cl)C3F6c2H4 CF3CF(Cl)c3F6C2H4 Le produit ci-dessus est obtenu en un rendement de 80 % et sa structure est en accord avec les analyses par RMN de 29Si
et 19F.
Exemple 10 - Préparation de (C6F13C2H4)3sic3H6(C3F6)n(C2F4)2c3H6Si(C2H4C6F13)3 Un cotélomère téléchélique de structure CH2=CHCH2(C3F6)n(C2F4)2CH2CH=CH2 (n = 1,2) est obtenu à partir des composants bl et b2 de l'Exemple 6 selon les méthodes décrites à l'Exemple 5, étapes (c) à (e). Ce cotélomère est mis à réagir avec (CEF,3C2H4)3SiH en un rapport molaire de10 1:2,2 respectivement, cette réaction étant conduite à oC/18 heures dans un tube scellé en utilisant l'acide chloroplatinique comme catalyseur. Le produit, obtenu en un rendement de 95 %, est un disilane de formule: (C6F13C2H4)3SiC3H6(C3F6)n(C2F4)2C3H6Si(C2H4C6F13)3 (n = 1, 2)
Claims (19)
1. Procédé de préparation d'un silane fluoré répondant à la formule R14Si (I) caractérisé en ce qu'il consiste à: (A) faire réagir un silane de formule R14_-R'wSi (III) avec un hydrure choisi parmi l'hydrure de lithium et d'aluminium et le borohydrure de sodium pour former un silane de formule R'4_WH.Si (V); et (B) faire réagir ledit silane (V) avec un composé choisi parmi les télomères fluorés à terminaison vinyle et les télomères fluorés à terminaison allyle, o au moins trois R' dudit silane (I) dérivent de (i) homotélomères monovalents à terminaison alkylène de chlorotrifluoréthylène, tétrafluoréthylène, fluorure de vinylidène ou trifluoréthylène; (ii) cotélomères choisis parmi les cotélomères de chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène;
(iii) cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un monomère choisi parmi l'hexafluoropropène, le 1-H-
pentafluoropropène et le 2-H-pentafluoropropène; (iv) cotélomères de fluorure de vinylidène et d'un monomère choisi parmi lesdits hexa- et pentafluoropropènes; (v) cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; (vi) cotélomères de tétrafluoréthylène, de chlorotrifluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; et (vii) cotélomères de tétrafluoréthylène, de chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène, lesdits télomères et cotélomères (i) à (vii) étant liés à l'atome de silicium de la formule (I) par un radical35 alkylène divalent ayant 2 ou 3 atomes de carbone et tous les autres groupes R' éventuels étant choisis indépendamment parmi les radicaux alkyles contenant 1 à 4 atomes de carbone, phényle, phényle à substituant perfluoroalkyle et les radicaux alkyles fluorés de formule générale R5(CH2)y- o Rs représente un radical perfluoroalkyle linéaire ou ramifié ayant 1 à 6 atomes de carbone et y est 2, 3 ou 4, et o w est 1 ou 2 et R8 est choisi parmi les radicaux C1,
F et OCH3.
2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ledit hydrure est l'hydrure de lithium et
d'aluminium.
3. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en
ce que w dans lesdites formules (III) et (V) est 1.
4. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le groupe R8 de ladite formule (III) est F.
5. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce qu'au moins un groupe R1 dudit silane (I) est choisi parmi:
CF3C2H4-
C2F5(C2F4)qC2H4-
C2F5(C2F4)qCF2CF(CF3)-C2H4-,
(CF3)2CFC2H4-,
C4F9(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)C2H4-, C4F9(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)CH2-CH2CH2-,
C2F5(C2F4)q-CH2CH2CH2-
F(CF2CFCl)p-CF2CF(CF3)C2H4-,
ou q = d, 2 ou 3 et p = 1, 2 o3.
6. Procédé selon la revendication 5, caractérisé en ce que w dans lesdites formules (III) et (V) est 1 et le groupe R8 de ladite formule (III) est F.
7. Procédé de préparation d'un silane fluoré répondant à la formule R23Si (R3SiR42)zR3SiR23 (II) caractérisé en ce qu'il consiste à: (A) faire réagir un silane de formule R8WR23-W. Si(R3-SiR42)zR3SiR8.R23-_ (IV) avec un hydrure choisi parmi l'hydrure de lithium et d'aluminium et le borohydrure de sodium pour former un silane de formule HwR23.Si(R3SiR42)zR3SiR23_.HW (VI); et (B) faire réagir ledit silane (VI) avec un composé choisi parmi les télomères fluorés à terminaison vinyle et les télomères fluorés à terminaison allyle, o au moins deux des R2 et, lorsque zÉ0, au moins l'un des R4 dudit silane (II) dérivent indépendamment de: (i) homotélomères monovalents à terminaison alkylène de chlorotrifluoréthylène, tétrafluoréthylène, fluorure de vinylidène ou trifluoréthylène; (ii) cotélomères choisis parmi les cotélomères de chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène; (iii) cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un
monomère choisi parmi l'hexafluoropropène, le 1-H-
pentafluoropropène et le 2-H-pentafluoropropène; (iv) cotélomères de fluorure de vinylidène et d'un monomère choisi parmi lesdits hexa- et pentafluoropropènes; (v) cotélomères de tétrafluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; (vi) cotélomères de tétrafluoréthylène, de chlorotrifluoréthylène et d'un éther de perfluoroalkyle et de vinyle; et (vii) cotélomères de tétrafluoréthylène, de chlorotrifluoréthylène et d'hexafluoropropène, lesdits télomères et cotélomères (i) à (vii) étant liés à l'atome de silicium de la formule (II) par un radical alkylène divalent ayant 2 ou 3 atomes de carbone et tous les autres groupes R2 et R4 éventuels étant choisis indépendamment parmi les radicaux alkyles contenant 1 à 4 atomes de carbone, phényle, phényle à substituant perfluoroalkyle et les radicaux alkyles fluorés de formule générale R5(CH2) y- o Rs représente un radical perfluoroalkyle linéaire ou ramifié ayant 1 à 6 atomes de carbone et y est 2, 3 ou 4, et o w est 1 ou 2, R8 est choisi parmi les radicaux C1, F et OCH3, la valeur moyenne de z est de 0 à 4 et R3 est un 5 dérivé d'un télomère ou cotélomère divalent téléchélique terminé par des groupes alkylènes représenté par la
formule: CmH2m-(R6)CFCF2-(CpF2p)q(C2CLF3)r-Rf-(C2CLF3)r(CpF2p)q-CF2CF(R6)-Ch2-
o Rf représente un radical perfluoroalkylène contenant 2 à
6 atomes de carbone, R6 est le fluor ou le radical trifluorométhyle, m est 2 ou 3, avec la condition que -C.H2-
représente un radical linéaire, la valeur de p est 2 ou 3, r est 0 ou un nombre entier positif de 1 à 6, g est 0 ou un nombre entier positif de 1 à 6 et (r+q) est de 2 à 12.15
8. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que ledit hydrure est l'hydrure de lithium et d'aluminium.
9. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en
ce que w desdites formules (IV) et (VI) est 1.
10. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que le groupe R8 de ladite formule (IV) est F.
11. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce qu'au moins un groupe R2 de la formule (II) est choisi parmi
CF3C2H4-
C2F5(C2F4)qC2H4 C2F5(C2F4)qCF2CF(CF3)-C2H4-,
(CF3)2CFC2H4-
C4F9(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)C2H4-, C4F9(CH2CF2)pCF2-CF(CF3)CH2-CH2CH2-, C2F5(C2F4)q-CH2CH2CH2
F(CF2CFCl)p-CF2CF(CF3)C2H4-
o q = 1, 2 ou 3 ec p = 1, 2 ou3.
12. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que w desdites formules (IV) et (VI) est 1 et le groupe R8 de ladite formule (IV) est F.
13. Procédé selon la revendication 7, caractérisé en ce que chaque z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O ou 1.
14. Procédé selon la revendication 8, caractérisé en ce que chaque z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O ou 1.10
15. Procédé selon la revendication 9, caractérisé en ce que chaque z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O ou 1.
16. Procédé selon la revendication 10, caractérisé en ce que chaque z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O
ou 1.
17. Procédé selon la revendication 11, caractérisé en ce que z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O ou 1.
18. Procédé selon la revendication 12, caractérisé en ce que z desdites formules (II), (IV) et (VI) est O ou 1.
19. Silane fluoré caractérisé en ce qu'il a une structure choisie parmi C2F5(C2F4)2C2H4)4Si, (C2F5<C2F4)2C2H4)3SiCH2CH2CH2(C2F4)2C2F5 (C4F9C3F6C2H4)3SiC2H4C6F13,
CH3 CH3
IC
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3
C2H4C6F13 C2H4C6F13
CH3 CH3
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4Si-C2H4-CF3
R2 R2
o R2 = -C3H6-CF(CF3)CF2-CF2CH2-C2F4C2F5
CH3 CH3
I I
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)2(C3F6)n-C2H4i-C2H4-CF3
C2H4C6F13 C2H4C6F13
{C2F5(C2F4)2C2H4}3SiC2H4CF3, (C6F13C2H4)3SiC2H4C3F6CFClCF3
CH3 CH3
I I
CF3C2H4-Si-C2H4-(C2F4)3-C2H4-Si-C2H4-cF3 et CF3CF(Cl)C3F6C2H4 CF3CF(Cl)C3F6C2H4 (C6F13C2H4)3SiC3H6(C3F6)n(C2F4)2C3H6Si(C2H4C6F13)3
ou n = 1 ou 2.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9406677A FR2720744A1 (fr) | 1994-06-01 | 1994-06-01 | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. |
| US08/343,322 US5453528A (en) | 1994-06-01 | 1994-11-21 | Optimized process for inert fluorinated silanes |
| CA002150308A CA2150308A1 (fr) | 1994-06-01 | 1995-05-26 | Procede optimalise pour l'obtention de silanes fluores inertes |
| EP95303641A EP0685482A1 (fr) | 1994-06-01 | 1995-05-30 | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes |
| JP7135258A JPH07330780A (ja) | 1994-06-01 | 1995-06-01 | フッ素化シランの調製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9406677A FR2720744A1 (fr) | 1994-06-01 | 1994-06-01 | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2720744A1 true FR2720744A1 (fr) | 1995-12-08 |
Family
ID=9463751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR9406677A Pending FR2720744A1 (fr) | 1994-06-01 | 1994-06-01 | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5453528A (fr) |
| EP (1) | EP0685482A1 (fr) |
| JP (1) | JPH07330780A (fr) |
| CA (1) | CA2150308A1 (fr) |
| FR (1) | FR2720744A1 (fr) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1273505B (it) * | 1995-04-06 | 1997-07-08 | Dow Corning | Metodo per preparare un organo-disilanolo ibrido telechelico e suoi polimeri |
| US5663529A (en) * | 1995-09-14 | 1997-09-02 | Ford Motor Company | Anti-skew mounting pads and processing method for electronic surface mount components |
| US5777121A (en) * | 1996-06-28 | 1998-07-07 | University Of Pittsburgh | Fluorous reaction systems |
| AU3581897A (en) * | 1996-06-28 | 1998-01-21 | University Of Pittsburgh | Fluorous reaction and separation systems |
| EP1149837B1 (fr) * | 2000-04-25 | 2007-03-14 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composés organosiliciques |
| US6800777B2 (en) * | 2001-05-03 | 2004-10-05 | Gelest, Inc. | Trialkylsilanes for use in chromatographic applications, substrates including such compounds and methods of producing the same |
| US20090056541A1 (en) * | 2001-08-01 | 2009-03-05 | Davison Dale A | Method and apparatus for high resolution flash chromatography |
| US20050186513A1 (en) * | 2004-02-24 | 2005-08-25 | Martin Letz | Liquid and method for liquid immersion lithography |
| KR101369381B1 (ko) * | 2011-11-04 | 2014-03-06 | 에스케이이노베이션 주식회사 | 함불소 화합물을 포함하는 저굴절 코팅 조성물, 이를 이용한 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시장치 |
| WO2016052263A1 (fr) | 2014-09-30 | 2016-04-07 | ユニマテック株式会社 | Composé polyfluoroalkylallyle, et procédé de fabrication de celui-ci |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1438648A (fr) * | 1964-05-14 | 1966-05-13 | Procédé de préparation de composés organiques à chaînes perfluoro-ou perfluorochloro-carbonées | |
| GB1075101A (en) * | 1962-08-22 | 1967-07-12 | Secr Aviation | Fluoro-organosilanes |
| EP0405599A2 (fr) * | 1989-06-30 | 1991-01-02 | Dow Corning Corporation | Composés organosiliques fluorés chimiquement inertes et télomères fluorocarboniques pour leur préparation |
| US5110973A (en) * | 1989-06-30 | 1992-05-05 | Dow Corning Corporation | Chemically inert fluorinated organosilicon compounds |
| US5233071A (en) * | 1992-03-17 | 1993-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrosilation of fluorinated olefins with cobalt catalysts |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2380995A (en) * | 1941-09-26 | 1945-08-07 | Gen Electric | Preparation of organosilicon halides |
| US2413582A (en) * | 1943-12-29 | 1946-12-31 | Montclair Res Corp | Silico-organic derivatives and process of making the same |
| US2449561A (en) * | 1944-10-03 | 1948-09-21 | Francis L Mcgary | Shear |
| US2426121A (en) * | 1944-10-03 | 1947-08-19 | Montclair Res Corp | Production of organo-silicon compounds |
| US2426122A (en) * | 1944-10-17 | 1947-08-19 | Montclair Res Corp | Production of organo-silicon compounds |
| DE1443519A1 (de) * | 1964-05-14 | 1968-11-07 | Walter Bloechl | Verfahren zur Herstellung von teilweise perfluorierten oder perfluorchlorierten gesaettigten oder ungesaettigten organischen Verbindungen |
| BE792713A (fr) * | 1971-12-15 | 1973-06-14 | Dow Corning | Procede catalytique de transformation de disilanes en silanes |
| BE792714A (fr) * | 1971-12-15 | 1973-06-14 | Dow Corning | Preparation de complexes silyles du platine et du palladium et nouveauxcomplexes du palladium |
| US4692537A (en) * | 1981-10-16 | 1987-09-08 | Mcalister Roy E | Organosilicon compounds |
| US4458087A (en) * | 1981-10-16 | 1984-07-03 | Mcalister Roy E | Organosilicon compounds |
| US4481366A (en) * | 1983-01-26 | 1984-11-06 | Sagami Chemical Research Center | Process for the preparation of a trifluorovinylsilane, and fluorine-containing polymer and process for its preparation |
| US4709054A (en) * | 1984-09-04 | 1987-11-24 | General Electric Company | Silylation method and organic silanes made therefrom |
| US4604477A (en) * | 1985-03-29 | 1986-08-05 | General Electric Company | Method for making silylaroylhalides and reaction products |
| DE3883571T2 (de) * | 1987-04-03 | 1994-04-07 | Gen Electric | Silylierungsverfahren. |
| JPH01196186A (ja) * | 1988-01-30 | 1989-08-07 | Hoya Corp | リフレクタ及び固体レーザ装置 |
| JPH01196187A (ja) * | 1988-02-01 | 1989-08-07 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光学装置及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-06-01 FR FR9406677A patent/FR2720744A1/fr active Pending
- 1994-11-21 US US08/343,322 patent/US5453528A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-05-26 CA CA002150308A patent/CA2150308A1/fr not_active Abandoned
- 1995-05-30 EP EP95303641A patent/EP0685482A1/fr not_active Withdrawn
- 1995-06-01 JP JP7135258A patent/JPH07330780A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1075101A (en) * | 1962-08-22 | 1967-07-12 | Secr Aviation | Fluoro-organosilanes |
| FR1438648A (fr) * | 1964-05-14 | 1966-05-13 | Procédé de préparation de composés organiques à chaînes perfluoro-ou perfluorochloro-carbonées | |
| EP0405599A2 (fr) * | 1989-06-30 | 1991-01-02 | Dow Corning Corporation | Composés organosiliques fluorés chimiquement inertes et télomères fluorocarboniques pour leur préparation |
| US5110973A (en) * | 1989-06-30 | 1992-05-05 | Dow Corning Corporation | Chemically inert fluorinated organosilicon compounds |
| US5233071A (en) * | 1992-03-17 | 1993-08-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Hydrosilation of fluorinated olefins with cobalt catalysts |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| BOUTEVIN, B. ET AL.: "STUDY OF THE ALKYLATION OF CHLOROSILANES. PART I. SYNTHESIS OF TETRA(1H,1H,2H,2H-POLYFLUOROALKYL)SILANES", JOURNAL OF FLUORINE CHEMISTRY, vol. 60, no. 2-3, 1993, pages 211 - 223 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2150308A1 (fr) | 1995-12-02 |
| US5453528A (en) | 1995-09-26 |
| EP0685482A1 (fr) | 1995-12-06 |
| JPH07330780A (ja) | 1995-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2349960B9 (fr) | Procede de preparation de composes fluores | |
| FR2720744A1 (fr) | Procédé de préparation de silanes fluorés inertes. | |
| JP2006312637A (ja) | 脱ハロゲン化方法 | |
| US20030153778A1 (en) | Magnesium mediated preparation of fluorinated alkyl silanes | |
| EP0184479A1 (fr) | Fluorosilanes et leur procédé de préparation | |
| GB2211845A (en) | Process for dechlorinating 4,5-dichloroflurodioxolanes to obtain fluorodioxoles | |
| JP3105313B2 (ja) | フッ素化アルコールの製造方法 | |
| JPH04330024A (ja) | 部分的にフッ素化された炭化水素を複分解する方法 | |
| FR2576902A1 (fr) | Procede de fabrication d'hydrogeno-silanes | |
| WO2021177260A1 (fr) | Procédés de production d'iodofluoroalcane et de fluorooléfine | |
| EP1673323B1 (fr) | Procede de fabrication du 1,1-difluoroethane et application a la fabrication du 1,1-difluoroethylene | |
| EP0171307B1 (fr) | Procédé de fabrication de composés silylmétallocènes et composés obtenus par ce procédé | |
| JP3851318B2 (ja) | 樹脂組成物のためのエーテル助溶剤 | |
| JP4884982B2 (ja) | ビニルシランの製造方法 | |
| WO2008055984A2 (fr) | Procede de preparation d'organomonoalcoxy(ou monohydroxy)silanes fonctionnalises, en particulier alcenyles | |
| US5110973A (en) | Chemically inert fluorinated organosilicon compounds | |
| FR2505843A1 (fr) | Procede pour methyler des composes du silicium | |
| JP3370744B2 (ja) | ペルフルオロ−２−メチル−４−メトキシペンタンの製造法 | |
| EP1056753A1 (fr) | Procede utile pour la silylation de l'acide triflique | |
| JPH09506901A (ja) | フッ素化オレフィンの製造方法 | |
| JP6963263B2 (ja) | ハロゲン化含フッ素（シクロ）アルケニル亜鉛化合物の製造方法 | |
| US5196614A (en) | Process for preparing brominated telomers of chlorotrifluoroethylene | |
| Marchionni et al. | Synthesis of low molecular weight perfluoro oxymethylene vinyl ethers | |
| WO2020240400A1 (fr) | Procédés de production d'orthoesters à partir de composés organo-soufrés | |
| JP2519601B2 (ja) | 有機けい素化合物 |