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Die
vorliegende Erfindung betrifft einen elektrophotographischen Photorezeptor.
Sie betrifft speziell einen elektrophotographischen Photorezeptor,
welcher die Infrarotreflexion des Photorezeptors steuern kann, indem
er die Interferenzstreifen verhindert ohne die elektrophotographischen
Eigenschaften zu beeinträchtigen.
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In
der Vergangenheit sind als elektrophotographische Rezeptoren umfangreich
anorganische lichtleitende Materialien verwendet worden wie Selen,
eine Selen-Telur-Legierung,
Arsenselenid oder Cadmiumsulfid. In den letzten Jahren fand andererseits
tatkräftige
Forschung auf dem Gebiet der lichtempfindlichen Schichten unter
Verwendung organischer lichtleitender Materialien statt, welche
sich leicht herstellen lassen. Insbesondere sind laminierte Photorezeptoren
mit getrennter Funktion am meisten üblich geworden, welche eine
ladungserzeugende Schicht umfassen, welche elektrische Ladungen
nach Lichtabsorption erzeugen kann und eine Ladungstransportierschicht,
welche die erzeugte elektrische Ladung transportieren kann. Solche
Photorezeptoren werden umfangreich auf dem Gebiet der Kopiermaschinen,
Laserdrucker etc. eingesetzt.
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Elektrophotographische
Photorezeptoren haben eine Grundstruktur der Form, dass eine lichtempfindliche
Schicht auf einem elektrisch leitfähigen Substrat gebildet wird. Üblicherweise
wird eine Grundierung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und
dem Substrat vorgesehen, um das Problem von Abbildungsfehlern als
Folge von Substratfehlern oder infolge der Einwirkung elektrischer
Ladungen aus dem Substrat zu lösen oder
um die Elektrifizierungseigenschaften oder die Adhäsion an
der lichtempfindlichen Schicht zu verbessern. Bisher war bekannt,
für die
Grundschicht ein Harzmaterial wie ein Polyamidharz, ein Polyesterharz,
ein Epoxidharz, ein Polyurethanharz, ein Vinylchloridharz, ein Acrylharz,
ein Phenolharz, ein Harnstoffharz, ein Melaminharz, ein Guanaminharz,
einen Polyvinylalkohol, Casein oder Gelatine zu verwenden. Von diesen
Harzmaterialien ist ein lösungsmittellösliches
Polyamidharz besonders bevorzugt (JP-A 52-25638, JP-A 56-21129 und JP-A
4-31870).
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In
den vergangenen Jahren sind zusammen mit dem Trend zur Digitalisierung
aus elektrographischen Geräten
hauptsächlich
digitale Systeme geworden. Bei den elektrophotographischen Geräten in Form
digitaler Systeme müssen
jene, welche Halbleiterlaser zur Bildwiedergabe einsetzen, Abbildungsdefekte
durch Interferenzstreifen unterdrücken. Als ein Verfahren zur
Vermeidung von Interferenzstreifen ist bekannt, die Oberfläche eines
Substrats (des elektrisch leitfähigen
Substrats) durch raues Schneiden, Sandstrahlen oder dergleichen
aufzurauen (z. B. JP-A 60-225854, JP-A 3-62039). Ein solches Verfahren
beinhaltet jedoch dass Problem, dass der Rauigkeitsgrad des Substrats
kaum genau reproduziert werden kann und daher von Charge zu Charge
Schwankungen bei der Reduzierungswirkung von Interferenzstreifen
auftreten. Des Weiteren wird parallel zum Fortschritt bei hoch auflösenden Geräten in den
vergangenen Jahren bei einer Auflösung von 1.200 dpi (Punkte
pro inch) der Fall eintreten, bei dem allein durch das Aufrauen
des Substrats keine angemessene Reduzierung von Interferenzstreifen
mehr erhalten werden kann. Weiterhin kann, wie hierin nachstehend
beschrieben, in dem Fall, in dem der erhaltene Photorezeptor für ein elektrophotographisches
Gerät verwendet wird,
welches einen optischen Sensor für
die Tonerdichte einsetzt, der Fall eintreten, in dem sich die Oberflächenrauigkeit
des Substrat auf die Messung der Tonerdichte negativ auswirkt.
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Andererseits
wurde auch ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem in die lichtempfindliche
Schicht oder in die Grundschicht ein im nahen Infrarot absorbierender
Farbstoff eingebaut ist (z. B. JP-A 63-165864, JP-A 2-82263, JP-A
3-33858, JP-A 7-160028 (US-A 5,403,686, EP-A 0 645 680), JP-A 2000-105480,
JP-A 2000-199977).
Es trat jedoch eine negative Auswirkung auf die elektrischen Eigenschaften
des Photorezeptors auf; Es war insbesondere schwierig einen Photorezeptor
mit einer hohen Empfindlichkeit zu erhalten, wobei aufgrund der
Lichtabschwächung
etc. keine angemessene Wirkung erhalten wurde.
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Es
wurde weiterhin ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem in die Grundschicht
grobe Teilchen eingebaut werden, um die Lichtstreuung in der Grundschicht
zu erhöhen
und dadurch Interferenzstreifen zu reduzieren. Um jedoch eine ausreichende
Wirkung zur Verhinderung von Interferenzstreifen allein nach diesem Verfahren
zu erhalten, muss die Grundschicht dick sein und demzufolge bei
einer solchen Grundschicht ein Härtungsschritt
erforderlich ist, wodurch das Problem auftritt, dass das Herstellungsverfahren
komplex wird und die Herstellungskosten steigen.
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In
den vergangenen Jahren wurden ferner viele bildgebenden Geräte in Form
elektrographischer Systeme so ausgelegt, dass sie durch Ausführung einer
Bilddichtekontrolle auf eine solchen Weise ein konstantes Bild liefern,
um Abweichungen verschiedener, auf die Änderung ihres Verwendungsumfelds
zurückgehender Bedingungen,
Schädigung
des Photorezeptors oder der Entwicklermaterialien etc. zu korrigieren,
indem zur Messung der Dichten Tonerflecken auf den Photorezeptor
gebildet werden und deren Dichten mittels eines optischen Dichtesensors
gemessen werden, so dass die gemessenen Ergebnissen auf die Belichtung,
den Prozesskondensator etc. rückgemeldet
werden, um die Bilddichte zu steuern (JP-A 7-36230 (US-A 5,477,312) etc.).
Weiterhin ist speziell von Farbbildgeräten bekannt, dass die Messgenauigkeit
durch Messung der diffusen Reflexionskomponente der Tonerflecken
verbessert werden kann (JP-A 2000-105480).
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Unter
diesen Umständen
ist es mit dem oben erwähnten
Photorezeptor, bei dem eine Substratoberfläche des Photorezeptors aufgeraut
ist, um Interferenzstreifen zu reduzieren, schwierig einen solchen
Photorezeptor mit konstanten Reflexionseigenschaften zu erhalten,
weil die diffuse Reflexion der Substratrauigkeit wesentlich ist
und infolge der Änderung
des Aufrauungsverfahrens des Photorezeptorsubstrats, wie zum Beispiel infolge
der Änderung
des Zustands des Schneidwerkzeugs während des rauen Schnitts oder
bei der Reproduzierbarkeit der Schneidmittelzugabe, die Reflexionseigenschaften
des resultierenden Substrats schwanken werden. Ist die diffuse Reflexion
der Substratoberfläche
des Photorezeptors des Weiteren hoch und erfolgt die Bilddichtesteuerung
dadurch mit einem Dichtesensor auf Basis diffuser Reflexion, kann
kein angemessenes S/N-Verhältnis
bezüglich
der diffusen Reflexion der Tonerflecken erhalten werden, wodurch
eine genaue Steuerung der Abbildungsdichte dazu tendiert kaum möglich zu
sein.
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Weiterhin
wird bei einem Photorezeptor, in dessen Grundschicht grobe Teilchen
eingebaut sind, um die Lichtstreuung in der Grundschicht zu erhöhen und
dadurch Interferenzstreifen zu verhindern, das ausgestrahlte Licht
vom Tonerdichtesensor übertragen
und durch die Tonerflecken gestreut, und von der Grundschicht weiter
gestreut, wodurch die Messung der Tonerdichte negativ beeinflusst
wird. Folglich kann allein durch das Aufrauen der Oberfläche des
Substrats des Photorezeptors bei der Elektrophotographie bei einem hohen
Auflösungsgrad
von 1200 dpi keine ausreichende Wirkung in Bezug auf die Verhinderung
von Interferenzstreifen erzielt werden. Beim oben erwähnten Tonerdichte sensor,
welcher nur die diffuse Reflexionskomponente misst, übt die oben
erwähnte
Oberflächenrauigkeit
des Substrats einen stärkeren
Einfluss aus als die Reflexion des Infrarotlichts des Photorezeptors.
In dem Fall, in dem die Substratoberfläche aufgeraut ist, um Interferenzstreifen
zu verhindern, schwankt die Infrarotreflexion des Photorezeptors
in Abhängigkeit
vom individuellen Unterschied der Oberflächenrauigkeit, wobei eine exakte
Steuerung der Bilddichte kaum bewerkstelligt werden kann. Außerdem ist
die diffuse Reflexion der Substratoberfläche des Photorezeptors entschieden hoch,
wodurch ein ausreichendes S/N (Signal zu Ton)-Verhältnis zur
Messung der Tonerdichte kaum gewährleistet
werden kann.
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Weiterhin
wird insbesondere dann, wenn eine Streuung in der Grundierungsschicht
verwendet wird, um Interferenzstreifen zu verhindern, das ausgestrahlte
Licht vom Sensor durch die Tonerflecken übertragen und gestreut und
als übertragenes
Licht zusätzlich,
zur von der Grundierungsschicht gestreutes Licht gemessen, wodurch
das Problem auftritt, dass das gemessene Niveau höher ist
als das der tatsächlichen
Tonerdichte.
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Unter
diesen Umständen
ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen elektrophotographischen
Photorezeptor vorzusehen, welcher Interferenzstreifen verhindern
kann, ohne die elektrophotographischen Eigenschaften zu beeinträchtigen,
welcher die Infrarotreflexion des Photorezeptors kontrollieren kann, die
Nachweisgenauigkeit eines optischen Dichtesensors verbessern kann
und ein elektrophotographisches Gerät wie einen elektrophotographischen
Photorezeptor verwendet.
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Unter
diesen Umständen
haben die derzeitigen Erfinder eine umfangreiche Untersuchung am
Material für
die Grundschicht durchgeführt,
welches den vorstehend geforderten Eigenschaften genügt und im
Ergebnis gefunden, dass es möglich
ist, die vorstehende Aufgabenstellung durch Einbau einer bestimmten
Naphthalocyaninverbindung zu erreichen.
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Die
vorliegende Erfindung sieht nämlich
einen elektrophotographische Photorezeptor mit mindestens einer
Grundschicht und einer lichtempfindlichen Schicht auf einem elektroleitfähigen Substrat
vor, wobei mindestens eine Schicht der Grundschicht eine Naphthalocyaninverbindung
der folgenden Formel (1) enthält:
worin in der Formel (1) M
zwei Wasserstoffatome oder ein Metallatom bedeutet, mit der Maßgabe, dass
das Metallatom einen Liganden aufweisen kann, und jedes von X
1, X
2, X
3 und
X
4 ein Wasserstoffatom oder ein Substituent
ist.
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Die
vorliegende Erfindung sieht weiterhin ein elektrographisches Gerät vor, umfassend
ein Mittel zur Verwendung des oben erwähnten elektrographischen Photorezeptors
und zur Bildung einer Tonerabbildung zur Messung der Dichte auf
dem elektrophotographischen Photorezeptor, sowie ein Mittel zur
Messung der Dichte des Tonerbildes durch einen optischen Dichtesensor,
umfassend einen lichtemittierenden Abschnitt zur Emission von Licht
im nahen Infrarotbereich und einen Licht aufnehmenden Abschnitt.
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Die
vorliegende Erfindung wird nun im Detail unter Bezugnahme auf die
zitierten Ausführungsformen beschrieben.
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Das elektrisch
leitfähige
Material
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Als
elektrisch leitfähiges
Material wird in der Hauptsache ein metallisches Material wie Aluminium,
eine Aluminiumlegierung, Edelstahl, Kupfer oder Nickel; ein Harzmaterial
mit elektrischer Leitfähigkeit,
welchem durch Zusatz eines elektrisch leitfähigen Pulvers wie z. B. einem
Metall, Kohlenstoff oder Zinnoxid elektrische Leitfähigkeit
verliehen wurde; oder ein Harz, Glas oder Papier, auf deren Oberfläche ein
elektrisch leitfähiges Material
Wie Aluminium, Nickel oder ITO (Indiumoxid/Zinnoxid-Legierung) aus
der Dampfphase abgeschieden wurde oder die damit beschichtet wurden,
verwendet. Was die Gestalt betrifft, kann zum Beispiel eine Trommelform,
Sitzform oder Gürtelform
verwendet werden. Es kann weiterhin eines mit einem elektrisch leitfähigen Material
sein, welches eine Beschichtung mit einem geeigneten Widerstand
auf dem elektrisch leitfähigen
Träger
aus metallischem Material besitzt, um Fehlstellen zu überdecken
oder die elektrische Leitfähigkeit
oder die Oberflächeneigenschaften
zu regulieren.
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In
dem Fall, in dem als elektrisch leitfähiges Material ein metallisches
Material wie eine Aluminiumlegierung verwendet werden soll, kann
es z. B. nach Anwendung einer anodischen Oxidation oder alkalischer Passivierung
verwendet werden. In dem Fall, in dem eine anodische Oxidationsbehandlung
angewendet wird, wird vorzugsweise eine Versiegelung nach einer
bekannten Methode angewendet.
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Die
Oberfläche
des Substrats kann glatt oder durch Verwendung eines speziellen
Schneidverfahrens aufgeraut sein oder durch Anwendung einer Polierbehandlung.
Es kann weiterhin eines sein, dessen Oberfläche durch Einbau von Teilchen
mit geeigneter Teilchengröße in ein
das Substrat darstellendes Material sein. Bei der vorliegenden Erfindung
beträgt
die Oberflächenrauigkeit
des elektrisch leitfähigen
Substrats vorzugsweise Ry ≤ 1,0 μm, um die
Nachweisgenauigkeit durch einen optischen Tonerdichtesensor zu erhöhen. Insbesondere
dann, wenn es in Kombination mit einen Tonerdichtesensor zur Messung
der diffusen Reflexion verwendet wird, wird die Oberfläche des
elektrisch leitfähigen
Substrats vorzugsweise nicht aufgeraut und beträgt folglich weiter vorzugsweise
Ry ≤ 0,5 μm. Soll weiterhin
eine mit einer Oberflächenrauigkeit
Ry ≤ 0,3 μm hergestellt
werden, ist z. B. ein Spiegelschnitt der Oberfläche weiter bevorzugt. Ry bedeutet
hier die größte Höhe der in
JIS (Japanese Industrial Standards) B-0601, 1994, beschriebenen
Profilkurve (die Summe der größten Höhe des Bergs
und der größten Tiefe
des Tals).
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Grundschicht
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Beim
elektrophotographischen Photorezeptor der vorliegenden Erfindung
wird eine Grundschicht, welche eine Naphthalocyaninverbindung der
nachstehenden Formel (1) enthält,
zwischen dem elektrisch leitfähigen
Substrat und einer lichtempfindlichen Schicht gebildet. Die Grundschicht
kann in zwei oder mehr Schichten unterteilt sein. In dem Fall, in
dem die Grundschicht in zwei oder mehr Schichten unterteilt ist,
ist die Naphthalocyaninverbindung der nachstehenden Formel (1) in
wenigstens einer der unterteilten Grundschichten enthalten.
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In
der Formel (1) bedeutet M zwei Wasserstoffatome oder ein Metallatom,
mit der Maßgabe,
dass das Metallatom einen Liganden aufweisen kann. M ist vorzugsweise
ein Metallatom, insbesondere vorzugsweise ein zwei- oder höherwertiges
Metallatom. Als zentrales Metall können zum Beispiel Sn, Cu, Co,
Ni, Fe, Zn, Ti, V, Al, Ga, In, Si, Ge, Sn und Pb genannt werden.
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Als
Ligand des zentralen Metalls kann zum Beispiel ein Sauerstoffatom,
ein Schwefelatom, ein Halogenatom wie ein Chloratom oder ein Bromatom,
eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe wie eine Methoxygruppe oder
eine Ethoxygruppe, oder eine Alkylthiogruppe wie eine Methylthiogruppe
oder eine Ethylthiogruppe genannt werden. Jedes von X1,
X2, X3 und X4 ist ein Wasserstoffatom oder ein Substituent.
Der Substituent kann zum Beispiel ein Halogenatom, eine Alkylgruppe
mit höchstens
8 Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit höchstens 8 Kohlenstoffatomen
oder eine Aryloxygruppe sein. Hiervon ist ein Wasserstoffatom, eine
Alkylgruppe mit höchstens
8 Kohlenstoffatomen wie eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine
n-Propylgruppe, eine iso-Propylgruppe oder eine t-Butylgruppe, oder
ein Halogenatom wie Chlor oder Brom bevorzugt und ein Wasserstoffatom
besonders bevorzugt.
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Eine
besonders bevorzugte Naphthalocyaninverbindung kann zum Beispiel
Dichlorzinnnaphthalocyanin (Hierin nachstehend einfach als SnCl2NPc bezeichnet) sein, worin das durch M
repräsentierte
zentrale Metallatom Zinn ist, der Ligand Chlor ist und jedes der
X1, X2, X3 und X4 ein Wasserstoffatom
ist. SnCl2NPc kann in Übereinstimmung mit einem beschriebenen
Verfahren auch durch Umsetzung von Dicyanonaphthalocyanin mit Zinnchlorid
in einem organischen Lösungsmittel
wie Chlornaphthalin erhalten werden.
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Was
den Gehalt der Naphthalocyaninverbindung in der Grundschicht betrifft,
wird es in einer Konzentration inkorporiert, welche geeignet ist,
die Bilddichte durch den Dichtesensor für die diffuse Reflexion zu
steuern. Ist sie zu gering, neigt die Wirkung zur Verringerung der
Interferenzstreifen dazu, zu gering zu sein, und ist sie zu groß, neigt
das Oberflächenpotential
nach der Belichtung dazu zuzunehmen, was unerwünscht ist. Der Gehalt an Phthalocyaninverbindung
beträgt üblicherweise
mindestens 0,001 Gew.-T1., vorzugsweise mindestens 0,005 Gew.-T1.
pro 100 Gew.-T1. Binderharz, und üblicherweise höchstens
100 Gew.-T1., vorzugsweise höchstens
10 Gew.-T1., am meisten vorzugsweise höchstens 5 Gew.-T1. pro 100
Gew.-T1. Binderharz.
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Weiterhin
wird als Grundschicht üblicherweise
eine solche verwendet, welche in einem Harz dispergierte Teilchen
aus z. B. Metalloxid einsetzt. Die für die Grundschicht zu verwendenden
Teilchen aus Metalloxid können
zum Beispiel Metalloxidteilchen sein, welche einen Typ von metallischem
Element enthalten wie Titandioxid, Aluminiumoxid, Siliciumdioxid,
Zirkonoxid, Zinkoxid oder Eisenoxid, oder Metalloxidteilchen, welche mehrere
Metallelemente enthalten wie Calciumtitanat, Strontiumtitanat oder
Bariumtitanat. Es können
nur Teilchen eines Typs eingesetzt werden oder Teilchen mehrerer
Typen im Gemisch. Von solchen Metalloxidteilchen sind Titandioxidteilchen
und Aluminiumoxidteilchen bevorzugt, wovon Titandioxidteilchen besonders
bevorzugt sind. Die Oberfläche
der Titandioxidteilchen kann mit einer anorganischen Substanz wie
Zinnoxid, Aluminiumoxid, Antirnonoxid, Zirkonoxid oder Siliciumdioxid,
oder mit einer organischen Substanz wie Stearinsäure, einem Polyol oder Silicon
vorbehandelt werden. Die Titandioxidteilchen können eine beliebige Kristallform
aus Rutil, Anatas, Brookit aufweisen oder können amorph sein. Es können solche
in mehreren Kristallformen enthalten sein.
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Weiterhin
können
bezüglich
der Teilchengröße der Metalloxidteilchen
solche mit unterschiedlicher Größe eingesetzt
werden. Im Hinblick auf die Eigenschaften und die Stabilität der Flüssigkeit
beträgt
die mittlere Primärteilchengröße jedoch
vorzugsweise 10 bis 100 nm, insbesondere vorzugsweise 10 bis 50
nm.
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Die
Grundschicht wird vorzugsweise gebildet, indem Metalloxidteilchen
in einem Binderharz dispergiert werden. Als Binderharz für die Grundschicht
können
zum Beispiel Phenoxy, Epoxy, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohol,
Casein, Polyacrylsäure,
Cellulosen, Gelatine, Stärke,
Polyurethan, Polyimid oder Polyamid allein oder in härtbarer
Form zusammen mit einem Härtungsmittel
verwendet werden.
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Hiervon
ist zum Beispiel ein alkohollösliches
Polyamidcopolymer oder ein modifiziertes Polyamid bevorzugt, weil
es eine gute Dispergierbarkeit und gute Beschichtungseigenschaften
aufweist.
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Das
Verhältnis
von anorganischen Teilchen zu Binderharz kann frei gewählt werden;
Die anorganischen Teilchen werden jedoch unter dem Gesichtspunkt
der Stabilität
und der Beschichtungseigenschaften der Dispersion vorzugsweise in
einem Bereich von 10 bis 500 Gew.-% verwendet.
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Die
Dicke der Grundschicht und die Zahl der Schichten darin kann frei
gewählt
werden. Üblicherweise wird
jedoch eine Schicht zwischen dem elektrisch leitfähigen Substrat
und der lichtempfindlichen Schicht gebildet. Ist die Dicke zu gering
kann keine ausreichende Blokkungsleistung erhalten werden und neigt
dazu einen schwarzen Bildpunkt zu erzeugen. Ist die Schichtdicke
anderseits zu groß,
neigt das Restpotential des Photorezeptors dazu anzusteigen. Wird
die Schichtdicke weiterhin groß gemacht,
führt dies
wahrscheinlich zu Beschichtungsschäden oder zu einer uneinheitlichen
Schichtdicke, so dass der Binder in gehärteter Form verwendet werden
muss, um solche Ergebnisse zu verhindern. Die Verwendung des Binders
in gehärteter
Form macht das Herstellungsverfahren mühsam, wobei das Problem auftritt,
dass die Stabilität
der Beschichtungsflüssigkeit
abbaut. Unter dem Gesichtspunkt der Photorezeptoreigenschaften und
der Produktivität
beträgt
die Dicke der Grundschicht folglich vorzugsweise mindestens 0,1 μm, weiter
vorzugsweise mindestens 0,5 μm. Sie
beträgt
weiterhin vorzugsweise höchstens
20 μm, weiter
vorzugsweise höchstens
10 μm.
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Der
Grundschicht können
grobe Teilchen zugesetzt werden, um die Auswirkung auf die Reduktion
von Interferenzstreifen und/oder das Reflexionsvermögen des
Photorezeptors zu steuern. Als Arten grober Teilchen seien Siliciumdioxid,
Silicon, Teflon, Polystyrol etc. erwähnt. Die Teilchengröße derartiger
grober Teilchen ist nicht besonders begrenzt. Unter dem Gesichtspunkt
der Reduktion von Interferenzstreifen ist die Wirkung umso größer, je
größer die
Teilchengröße ist.
Ist die Teilchengröße jedoch
zu groß,
neigen grobe Teilchen zum Absetzen in der Beschichtungsflüssigkeit,
wobei die Stabilität
der Beschichtungsflüssigkeit
dazu neigt schlechter zu werden. Die Teilchengröße beträgt folglich vorzugsweise 0,05
bis 1 μm,
weiter vorzugsweise 0,1 bis 0,5 μm.
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Der
Grundschicht können
weiterhin bekannte Antioxidantien, Nivellierungsmittel etc. zugesetzt
werden.
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Die lichtempfindliche
Schicht
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(1) Schichtstruktur als
spezifische Konstruktion der lichtempfindlichen Schicht.
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Als
Beispiele für
Grundkonstruktionen seien die nachstehenden Photorezeptoren erwähnt:
Ein
laminierter Typ von Photorezeptor, bei dem eine ladungserzeugende
Schicht, welche ein ladungserzeugendes Material als Hauptkomponente
enthält,
und eine Ladungstranportschicht, welche ein ladungstransportierendes
Material enthält,
und ein Binderharz als Hauptkomponenten, in dieser Reihenfolge auf
ein elektrisch leitfähiges
Substrat laminiert sind.
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Ein
Photorezeptortyp mit Reversionsdoppelschicht, bei dem eine Ladungstransportschicht,
welche ein ladungstransportierendes Material und ein Binderharz
als Hauptkomponenten enthält,
und eine ladungserzeugende Schicht, welche ein ladungserzeugendes
Material als Hauptkomponente enthält, werden in dieser Reihenfolge
auf ein elektrisch leitfähiges
Substrat laminiert.
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Ein
Photorezeptortyp mit einer einzigen Schicht (Dispersionstyp), in
dem eine Schicht, welche ein ladungstranssportierendes Material
und ein Binderharz enthält,
auf ein elektrisch leitfähiges
Substrat laminiert wird, wobei in dieser Schicht ein ladungserzeugendes
Material dispergiert ist.
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(2) Ladungserzeugendes
Material
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Als
ladungserzeugendes Material können
verschiedene lichtleitende Materialien verwendet werden, einschießend anorganische
lichtleitende Materialien wie Selen und seine Legierungen, Cadmiumsulfid
etc. und organische Pigmente wie ein Phthalocyanin-Pigment, ein
Azo-Pigment, ein Chinacridon-Pigment, ein Indigo-Pigment, ein Perylen-Pigment, ein polycyclisches
Chinon-Pigment, ein Anthrachinon-Pigment und ein Benzimidazol-Pigment.
Insbesondere sind organische Pigmente bevorzugt, und ganz besonders
sind ein Phthalocyanin-Pigment und ein Azo-Pigment bevorzugt.
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Hiervon
ist ein nichtmetallisches Phthalocyanin, ein Phthalocyanin mit einem
Metall wie Kupfer, Indium, Kalium, Zinn, Titan, Zink oder Vanadin
oder ihren damit koordinierten Oxiden oder Chloriden, oder ein Azo-Pigment
wie ein Monoazo-, ein Bisazo-, ein Trisazo- oder ein Polyazo-Pigment
besonders bevorzugt.
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Wird
als ladungserzeugendes Material eine Phthalocyaninverbindung eingesetzt,
kann es typischerweise ein Nichtmetallphthalocyanin sein oder ein
Phthalocyanin mit einem Metall wie Kupfer, Indium, Gallium, Titan,
Zink, Vanadin, Silicium oder Germanium oder ihren damit koordinierten
Oxiden oder Halogeniden. Der Ligand an einem drei- oder höherwertigen
Metallatom kann zum Beispiel, zusätzlich zu dem oben erwähnten Sauerstoffatom
oder Chloratom, eine Hydroxylgruppe oder eine Alkoxygruppe sein.
Besonders bevorzugt ist ein hochempfindliches Nichtmetallphthalocyanin
vom T-Typ oder τ-Typ,
Titanylphthalocyanin vom α-Typ, β-Typ oder
Y-Typ, Vanadylphthalocyanin, Chlorindiumphthalocyanin, Chlorgalliumphthalocyanin
oder Hydroxygalliumphthalocyanin. Hiervon wurden von den Kristallformen
des vorstehend erwähnten
Titanylphthalocyanins der α-Typ
und der β-Typ
von W. Heller et al. (Zeit. Kristallogr. 159: 173 (1982)) als Phase
II und Phase I identifiziert, wovon der β-Typ als stabilisierter Typ bekannt ist.
Der Y-Typ, welcher am bevorzugtesten eingesetzt wird, weist eine
Kristallform auf, welche dadurch gekennzeichnet ist, das sie bei
der Pulverröntgenbeugung unter
Verwendung von CuK α-Strahlung
einen scharfen Peak bei einem Beugungswinkel von 2θ ± 0,2° bei 27,3° aufweist.
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Die
Phthalocyaninverbindungen können
allein oder in Kombination als Mischung von zwei oder mehr von ihnen
verwendet werden. Eine Mischung von Phthalocyaninverbindungen oder
Kristallformen kann hier durch späteres Mischen der betreffenden
anteiligen Elemente hergestellt werden, oder der Mischungszustand kann
beim Verfahren der Herstellung oder Behandlung von Phthalocyaninverbindungen
gebildet werden, wie der Synthese, Pigmentierung oder Kristallisation.
Als derartige Behandlung sind zum Beispiel eine sauere Pastenbehandlung,
eine Pulverisierungsbehandlung oder Lösungsmittelbehandlung bekannt.
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(3) Ladungstransportmaterial
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Das
Ladungstransportmaterial kann zum Beispiel ein Elektronen anziehendes
Material sein wie eine aromatische Nitroverbindung wie 2,4,7-Trinitrofluorenon,
eine Cyanoverbindung wie Tetracyanochinodimethan, oder ein Chinon
wie Diphenochinon, oder ein Elektronen abgebendes Material wie eine
heterocyclische Verbindung wie ein Carbazolderivat, ein Indolderivat;
ein Imidazolderivat, ein Oxazolderivat, ein Pyrazolderivat, ein
Oxadiazolderivat, ein Pyrazo linderivat oder ein Thiadiazolderivat,
ein Anilinderivat, ein Hydrazonderivat, ein Derivat eines aromatischen
Amins, ein Stilbenderivat, ein Butadienderivat, eine Enaminverbindung oder
eine, welche mehrere dieser Verbindungen gebunden enthält, oder
ein Polymer aus solchen Verbindungen in der Haupt- oder den Seitenketten.
Hiervon ist ein Carbazolderivat, ein Hydrazonderivat, ein Derivat
eines aromatischen Amins, ein Stilbenderivat, ein Butadienderivat
oder eines, welches mehrere dieser Verbindungen gebunden enthält, besonders
bevorzugt.
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Diese
Ladungstransportmaterialien können
allein oder in Kombination als Mischung von zwei oder deren mehreren
verwendet werden. Die Ladungstransportschicht wird auf eine Weise
gebildet, indem ein solches Ladungstransportmaterial an ein Binderharz
gebunden wird. Die Ladungstransportschicht kann aus einer einzigen
Schicht oder aus einem Laminat mit mehreren Schichten hergestellt
werden, welche sich in den sie aufbauenden Komponenten unterscheiden
oder im Zusammensetzungsverhältnis
in dem sie an einander laminiert sind.
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Der
Gehalt an Ladungstransportmaterial in der Ladungstransportschicht
oder in der lichtempfindlichen Schicht beträgt im Hinblick auf die Dauerstandsfestigkeit üblicherweise
höchstens
45 Gew.-%, vorzugsweise höchstens
40 Gew.-%, weiter vorzugsweise höchstens
35 Gew.-%, insbesondere vorzugsweise höchstens 30 Gew.-% in der Ladungstransportschicht.
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(4) Laminierter Typ von
lichtempfindlicher Schicht
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➀ Ladungserzeugungsschicht
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Im
Fall eines laminierten Photorezeptor-Typs wird das vorstehend beschriebene
ladungserzeugende Material in einer Form verwendet, in der es an
verschiedene Binderharze wie an ein Polyesterharz, ein Polyvinylacetat,
ein Polyacrylat, ein Polymethacrylat, ein Polycarbonat, ein Polyvinylacetoacetal,
ein Polyvinylpropional, eine Polyvinylbutyral, ein Phenoxyharz,
ein Epoxidharz, ein Urethanharz, einen Celluloseester und einen
Celluloseether gebunden ist. In einem solchen Fall liegt das Verhältnis des
ladungserzeugenden Materials üblicherweise
im Bereich von 20 bis 2000 Gew.-T1., vorzugsweise von 30–500 Gew.-T1.,
weiter vorzugsweise von 33 bis 500 Gew.-T1. pro 100 Gew.-T1. Binderharz.
Er kann weiterhin je nach Bedarf andere organische lichtleitende
Verbindungen, Farbstoffe, Pigmente oder Elektronen anziehende Verbindungen
enthalten. Die Dicke der ladungserzeugenden Schicht beträgt üblicherweise
0,05 bis 5 μm,
vorzugsweise 0,1 bis 2 μm,
weiter vorzugsweise 0,15 bis 0,8 μm.
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➁ Ladungstransportschicht
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Die
Ladungstransportschicht umfasst als Hauptkomponenten das ladungstransportierende
Material und das Binderharz. Das Binderharz kann zum Beispiel ein
thermoplastisches Harz sein wie eine Polycarbonat, ein Polyester,
ein Polysulfon, ein Phenoxy-, ein Epoxid- oder ein Siliconharz,
oder verschiedene warmhärtende
Harze. Von diesen Harzen ist unter dem Gesichtspunkt der elektrischen
Eigenschaften und der mechanischen Eigenschaften der Einsatz eines
Polycarbonatharzes oder eines Polyesterharzes bevorzugt.
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Das
Verhältnis
des Ladungstransportmaterials zum Binderharz ist üblicherweise
ein solches, dass das Ladungstransportmaterial üblicherweise von 30 bis 2000
Gew.-T1., vorzugsweise von 40–150
Gew.-T1., am meisten vorzugsweise höchstens 90 Gew.-T1. pro 100
Gew.-T1. Binderharz beträgt,
was im Hinblick auf die Aufrechterhaltung der mechanischen Eigenschaften
vorteilhaft ist. Weiterhin beträgt
die Dicke üblicherweise 10
bis 60 μm,
vorzugsweise 10 bis 45 μm.
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In
die Ladungstransportschicht können
wohlbekannte Additive wie Weichmacher, Antioxidantien, UV-Absorber,
Elektronenakzeptorverbindungen, Egalisierungsmittel und Sensibilisierungsmittel
inkorporiert werden, um z.B. die Filmbildungseigenschaften, die
Flexibilität,
die Beschichtungseigenschaften, die Antifoulingeigenschaften, die
Gasfestigkeit, die Lichtbeständigkeit
etc. zu verbessern. Das Antioxidans kann zum Beispiel eine sterisch
gehinderte Phenolverbindung oder eine sterisch gehinderte Aminverbindung
sein.
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(5) Einlagiger Photorezeptor-Typ
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Im
Fall des einlagigen Photorezeptor-Typs wird das Ladungserzeugungsmaterial,
welches dem vorstehend für
den laminierten Photorezeptor-Typ beschriebenen ähnlich ist, und das vorstehend
beschriebene Ladungstransportmaterial im Ladungstransportmedium
dispergiert, welches hauptsächlich
aus dem vorstehend beschriebenen Binderharz zusammengesetzt ist.
Die Teilchengröße des Ladungserzeugungsmaterials muss
in einem solchen Fall klein genug sein und beträgt vorzugsweise höchstens
1 μm, weiter
vorzugsweise höchstens
0,5 μm.
Ist der Gehalt des in der lichtempfindlichen Schicht dispergierten
Ladungserzeu gungsmaterials zu gering, kann keine ausreichende Empfindlichkeit
erhalten werden, und wenn er zu groß ist, führt dies wahrscheinlich zu
Problemen wie einer geringeren Aufladung oder einer geringeren Empfindlichkeit.
Folglich wird es vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von 0,5 bis
50 Gew.-%, weiter vorzugsweise innerhalb eines Bereichs von 1 bis
20 Gew.-% verwendet.
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Die
Dicke der lichtempfindlichen Schicht beträgt üblicherweise 5 bis 50 μm, vorzugsweise
10 bis 45 μm.
In einem solchen Fall kann auch ein bekannter Weichmacher zur Verbesserung
der Filmbildungseigenschaften, Flexibilität und mechanischen Festigkeit;
ein Additiv zur Unterdrückung
des Restpotentials, ein dispergierungshilfsmittel zur Verbesserung
der Dispersionsstabilität;
ein Egalisierungsmittel, ein Tensid oder andere Additive wie ein
Siliconöl
oder eine Art Fluoröl
zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaften inkorporiert werden.
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(6) Andere Additive
-
Der
im Bedarfsfall der lichtempfindlichen Schicht zugesetzte Farbstoff
oder das Färbemittel
kann zum Beispiel ein Triphenylmethanfarbstoff wie Methylviolett,
Brillantgrün
oder Kristallviolett, ein Thiazinfarbstoff wie Methylenblau, ein
Chinonfarbstoff wie Chinizarin, ein Cyaninfarbstoff, ein Biliriumsalz,
ein Thiabiliriumsalz oder ein Benzobiliriumsalz sein.
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Weiterhin
kann die Elektronenakzeptorverbindung zum Beispiel ein Chinon wie
Chloranil, 2,3-Dichlor-1,4-napthochinon, 1-Nitroanthrachinon, 1-Chlor-5-nitroanthrachinon,
2-Chloranthrachinon oder Phenanthrenchinon; ein Aldehyd wie 4-Nitrobenzaldehyd;
ein Keton wie 9-Benzoylanthracen, Indandion, 3,5-Dinitrobenzophenon,
2,4,7-Trinitrofluorenon, 2,4,5,7-Tetranitrofluorenon oder 3,3',5,5'-Tetranitrobenzophenon; ein Säureanhydrid
wie Phthalsäureanhydrid
oder 4-Chlornaphthalinsäureanhydrid;
eine Cyanoverbindung wie Tetracyanoethylen, Terephthalalmalonitril,
9-Anthrylmethylidenmalonitril, 4-Nitrobenzalmalonitril oder 4-(p-Nitrobenzoyloxy)-benzalmalonitril;
oder ein Phthalid wie 3-Benzalphthalid, 3-(α-Cyano-p-nitrobenzal)-phthalid
oder 3-(α-Cyano-p-nitrobenzal)-4,5,6,7-tetrachlorphthalid
sein.
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Andere Schutzschichten
-
Auf
der lichtempfindlichen Schicht kann zum Zweck der Abriebverhinderung
der lichtempfindlichen Schicht oder zur Verhinderung oder Verringerung
der Schädi gung
der lichtempfindlichen Schicht durch ein Entladungsprodukt etc.
welches von der Aufladungsvorrichtung oder dergleichen erzeugt wird,
eine Schutzschicht vorgesehen werden.
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Des
Weiteren kann die Deckschicht zum Zweck der Verminderung der Reibung
oder des Reibungswiderstandes auf der Oberfläche des Photorezeptors ein
Fluorharz, ein Siliconharz oder dergleichen enthalten. Alternativ
kann sie Teilchen aus solchen Harzpartikeln oder Teilchen einer
anorganischen Verbindung enthalten.
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Bei
Bedarf kann weiterhin noch eine Zwischenschicht, wie eine Trennschicht,
eine Klebstoffschicht oder eine Blokkerschicht, oder eine Schicht
zur Verbesserung der elektrischen Eigenschaften oder der mechanischen
Eigenschaften, wie eine transparente Isolierschicht, vorgesehen
werden.
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Verfahren
zur Bildung der einzelnen Schichten
-
Das
Verfahren zur Beschichtung der jeweiligen Schicht kann zum Beispiel
ein Spritzbeschichtungsverfahren, ein Spiralbeschichtungsverfahren,
ein Walzbeschichtungsverfahren oder ein Tauchbeschichtungsverfahren
sein. Das Spritzbeschichtungsverfahren kann zum Beispiel im Luftspritzen,
Airless-Spritzen, elektrostatischen Luftspritzen, elektrostatischen
Airless-Spritzen, elektrostatischen Rotationszerstäubungsspritzen, Heißspritzen
oder Airless-Heißspritzen
bestehen. Bezieht man die feine Körnung, Haftwirkung etc. zum
Erhalt einer einheitlichen Schicht in die Überlegungen mit ein, wird vorzugsweise
eine elektrostatisches Rotationszerstäubung wie in JP-A 1-805198
offen gelegt, bevorzugt, d. h. ein kontinuierlicher Transport ohne
Unterbrechung in seiner axialen Richtung bei gleichzeitiger Rotation
eines zylindrischen Werkstücks,
wobei ein elektrophotographischer Photorezeptor mit ausgezeichneter
einheitlicher Schichtdicke mit hoher vollflächiger Abscheidungsleistung
erhalten werden kann.
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Das
Spiralbeschichtungsverfahren kann zum Beispiel ein Verfahren unter
Verwendung einer Beschichtungsmaschine mit Flüssigkeitzseinspritzung sein,
wie in JP-A 52-119651 offen gelegt, ein Verfahren zur kontinuierlichen
Einspritzung von Beschichtungsmaterial in Strahlen aus feinen Öffnungen,
wie in JP-A 1-231966
offen gelegt, oder ein Verfahren unter Verwendung von Mehrfachdüsen, wie
in JP-A 3-193161 offen gelegt.
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Nunmehr
wird ein Beispiel zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht nach
einem Tauchbeschichtungsverfahren beschrieben.
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Es
wird unter Verwendung eines Ladungstransportmaterials (vorzugsweise
die vorstehend erwähnte Verbindung),
eines Polyacrylatharzes, eines Lösungsmittels
etc. eine Beschichtungsflüssigkeit
zur Bildung einer Ladungstransportschicht mit einem Gesamtfeststoffgehalt
von üblicherweise
25 bis 40% und einer Viskosität
von üblicherweise
50 bis 300 cP, vorzugsweise von 100 bis 200 cP, hergestellt. Die
Viskosität
der Beschichtungsflüssigkeit
wird hier im Wesentlichen durch die Art des Binderpolymers und dessen
Molekulargewicht bestimmt. Im Fall das Molekulargewicht zu niedrig
ist, baut die mechanische Festigkeit des Polymers als solche ab.
Folglich wird vorzugsweise ein Binderpolymer mit einem Molekulargewichtsniveau
verwendet, welches die mechanische Festigkeit nicht beeinträchtigt.
Unter Verwendung der so hergestellten Beschichtungsflüssigkeit
wir eine Ladungstransportschicht nach einem Tauchbeschichtungsverfahren
hergestellt.
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Die
Beschichtung wird dann getrocknet und die Trockentemperatur so eingestellt,
dass die erforderliche und ausreichende Trocknung erfolgen kann.
Die Trockentemperatur liegt üblicherweise
innerhalb eines Bereichs von 100 bis 250°C, vorzugsweise von 110 bis
170°C, weiter
vorzugsweise von 120–140°C. Als Trockenapparat
kann zum Beispiel ein Heißlufttrockner,
ein Dampftrockner, ein Infrarottrockner oder ein im Ultra-Infrarottrockner
eingesetzt werden. Der so erhaltene elektrophotographische Photorezeptor
ist hochempfindlich und besitzt ein geringes Restpotential und gute
elektrostatische Eigenschaften, wobei der Wiederholstreubereich
bei diesen Eigenschaften klein ist. Insbesondere ist der Einfluss
der Ladungsstabilität
auf die Bilddichte hoch, wodurch sie als Photorezeptor mit hoher
Haltbarkeit verwendet werden kann. Außerdem ist die Empfindlichkeit
im Bereich von 750 bis 850 nm hoch, wodurch sie als Photorezeptor
für einen
Halbleiter-Laserdrucker besonders geeignet ist.
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Elektrophotographisches
Gerät
-
Ein
elektrophotographisches Gerät,
wie eine Kopiermaschine oder ein Drucker, welche den elektrophotographischen
Photorezeptor der vorliegenden Erfindung verwendet, schließt mindesten
eine Aufladung, Belichtung, Entwicklung und einen Übertragungsvorgang
ein. Die betreffenden Verfahrensschritte können nach herkömmlichen
Verfahren erfolgen. Zur Aufladung (elektrisches Ladegerät) kann
zum Beispiel eine Corotoron- oder Scorotoron-Aufladung unter Verwendung
einer Coronaentladung, oder eine Kontaktaufladung mittels einer
Leitfähigkeitswalze,
-bürste
oder -folie verwendet werden. Als Aufladungsverfahren unter Verwendung
einer Coronaentladung wird in vielen Fällen eine Scorotoron-Aufladung verwendet,
um das Dunkelfeldpotential konstant zu halten. Als Entwicklungsverfahren
wird üblicherweise
ein Entwicklungsverfahren durch Kontaktieren oder Nichtkontaktieren
eines ein- oder zweikomponentigen magnetischen oder nichtmagnetischen
Entwicklers verwendet. Als Übertragungsverfahren
kann ein Verfahren unter Verwendung einer Coronaentladung oder ein
Verfahren unter Verwendung einer Übertragungswalze oder eines Übertragungsbandes eingesetzt
werden. Die Übertragung
kann direkt auf Papier oder OHP-Folie
erfolgen, oder sie kann zunächst auf
ein Zwischenübertragungsmedium
(Band-Typ oder Trommel-Typ) erfolgen und anschließend auf
Papier oder OHP-Folie.
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Nach
der Übertragung
wird normalerweise ein Fixiervorgang eingesetzt, um den Entwickler
am Papier zu fixieren. Als Fixiermethode kann eine Walzfixierung
oder Druckfixierung verwendet werden, wie sie normalerweise eingesetzt
wird. Zusätzlich
zu diesen Verfahrensschritten kann ein üblicherweise verwendetes Verfahren
eingesetzt werden, wie eine Reinigung oder eine Antistatikausrüstung.
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Um
ein stabiles Bild zu erhalten, ist es weiterhin effizient eine Bilddichtesteuerungsmaßnahme vorzusehen,
um Abweichungen bei verschiedenen Parametern infolge Umwelteinflüssen, Schädigung des
Photorezeptors oder des Entwicklermaterials zu korrigieren, indem
mehrere unterschiedlich belichtete Tonerflecken und die Entwicklerkompensatoren
auf dem Photorezeptor hergestellt und ihre Dichten mit einem optischen Dichtesensor
gemessen werden, und aus den ermittelten Ergebnissen Rückmeldung
an die Belichtung und die Entwicklerkompensatoren erfolgt.
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Als
Messsystem des optischen Dichtesensors kann entweder ein System
verwendet werden, bei dem der Photorezeptor mit einer Lichtquelle
bestrahlt wird und die Lichtintensität der Normalreflexion gemessen wird,
oder ein System, bei dem die Intensität der diffusen Reflexion gemessen
wird. Im Fall der Messung der Normalreflexion wird üblicherweise
eine Lichtquelle zur im Wesentlichen rechtwinkligen Bestrahlung
der Photorezeptoroberfläche
angewendet und die Messung von einem gemeinsam mit der Lichtquelle
vorgesehenen Detektor ausgeführt.
Im Fall der Messung der diffusen Reflexion gibt es keine besondere Beschränkung bezüglich der
gegenseitigen Anordnung des Detektors und der Lichtquelle, so lange
als das diffuse Licht gemessen werden kann; Es soll jedoch zum Beispiel
eine Verfahren erwähnt
werden, bei den eine Lichtquelle zur Bestrahlung unter einem Winkel
von 45° gegenüber der
Photorezeptoroberfläche
angewendet wird und die diffus reflektierte Komponente senkrecht
zur Photorezeptoroberfläche
gemessen wird. Eine genaue Dichtemessung nach dem Verfahren der
Messung der diffusen Reflexion ist insbesondere bei Verwendung eines
Farbtoner möglich.
Eine noch genauere Dichtemessung ist möglich, wenn das normale Reflexionssystem
und das diffuse Reflexionssystem in Kombination verwendet werden.
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Die
Lichtquelle für
den optischen Dichtesensor besitzt vorzugsweise eine Wellenlänge, welche
den Photorezeptor nicht schädigt
und auf den Photorezeptor keinen Einfluss ausübt, wie eine Änderung
der Schichtdicke des Photorezeptors, Kratzer auf der Oberfläche etc.
Demzufolge ist Licht im nahen Infrarot, wie LED (Licht emittierende
Dioden) im Bereich von 800 bis 1000 nm geeignet. Als Detektor ist
die Photodiode bevorzugt.
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Nunmehr
werden unter Bezugnahme auf Beispiel spezielle Ausführungsformen
der vorliegenden Erfindung detaillierter beschrieben. Die vorliegende
Erfindung wird jedoch selbstverständlich durch solche Beispiele
nicht eingeschränkt.
Weiterhin bedeutet „Teile", wie in den Beispielen
verwendet, „Gew.-T1", sofern nicht anderweitig
spezifiziert.
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Präparationsbeispiel
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Ein
Reaktor wird mit 13,5 g 2,3-Naphthalindicarbonsäureanhydrid, 13,5 g Harnstoff,
6,4 g Zinn(II)-chlorid, 0,5 g Ammoniummolybdat und 70 ml N,N-Diethyl-m-methylenbenzoesäureamid
beschickt, erwärmt
und zur Umsetzung 4 Stunden bei 200°C gerührt. Nach Vervollständigung
der Umsetzung wurde die Mischung auf 100°C abgekühlt und 120 ml N-Methylpyrrolidon
zugegeben, anschließend
1 Stunde bei 100°C
gerührt
und dann filtriert. Das erhaltene Reaktionsprodukt wurde nacheinander
mit N-Methylpyrrolidon, Wasser und Methanol gewaschen und anschießend getrocknet,
um 12,1 g SnCl2NPc zu erhalten.
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Beispiel 1
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2
T1. Titandioxid (Teilchengröße: 0,03 μm), 1 T1.
Siliciumdioxid (Teilchengröße: 0,3 μm) und 0,007
T1. SnCl2NPc, hergestellt nach dem gleichen
Verfahren wie im Präparationsbeispiel,
wurden in einem Lösungsmittelgemisch
aus Methanol/n-Propanol/Toluol
= 5/2/3 dispergiert. Die Dispersion wurde mit einer Lösung aus 1
T1. Nylon (gelöst
in einem Lösungsmittelgemisch
aus Methanol/n-Propanol/Toluol = 5/2/3) vereinigt, anschließend 30
min gerührt
und dann 30 min mit Ultraschall behandelt. In der so bereitete Beschichtungsflüssigkeit
wurde ein Aluminiumrohr mit einem Durchmesser von 60 mm tauchbeschichtet
und die Oberfläche
einem Poliervorgang unterworfen, so dass Ry ≤ 0,5 μm betrug, anschließend in
Luft getrocknet, um eine Grundschicht mit einer Dicke von 4 μm zu erhalten.
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Dann
wurden 1,4 T1 einer Titanylphthalocyaninverbindung vom Y-Typ und
1,4 T1. Polyvinylbutyralharz (#6000C, hergestellt von Denki Kagaku
Kogyo K.K) in 44 T1. Methylethylketon und 15 T1. 4-Metoxy-α-methylpentanon-2
eine Dispergier- und
Mikronisierbehandlung durch eine Sandmühle unterworfen. Die so erhaltene Dispersion
wurde zur Tauchbeschichtung verwendet, um ein Laminat auf der Grundschicht
zu bilden und diese anschließend
in Luft getrocknet, um eine Ladungserzeugungsschicht mit einer Dicke
von 0,55 μm
zu erzeugen.
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Anschließend wurde
eine Lösung
aus 70 Gew.-T1. einer Arylaminhydrazonverbindung der nachstehenden
Strukturformel, 100 Gew.-T1. eines Polycarbonat Z-Harzes in 600
Gew.-T1. Tetrahydrofluren und 300 Gew.-T1. 1,4-Dioxan bereitet,
zur Tauchbeschichtung verwendet, und dann 30 min bei 120°C getrocknet,
um eine Ladungstransportschicht mit einer Soll-Dicke von 30 μm zu bilden.
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Bewertungsverfahren
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Die
Reflexion wurde mit einem Mehrkanalspektrophotodetektor MC850A,
hergestellt von Otsuka Electronics Co., Ltd. gemessen. Als Strahlungsquelle
wurde eine LED mit 890 nm verwendet, die beschichtete Oberfläche unter
einem Winkel von 50° bestrahlt,
die senkrecht zur beschichteten Oberfläche reflektierte Komponente
mit einer Photodiode untersucht und die diffuse Reflexion gemessen.
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Weiterhin
wurde nach Aufladung auf ein Oberflächenanfangspotential von –700 V,
gemessen mit einem Gerät
zur Untersuchung elektrischer Eigenschaften von Photorezeptoren,
das Oberflächenpotential
VL nach Aussetzung an eine Belichtungsintensität von 0,1 μJ/cm2 gemessen.
Des Weiteren wurde die Aufladung und Belichtung 1000-mal wiederholt
und VL auf die gleiche Weise gemessen. Die 4 Ergebnisse sind in
Tabelle 1 wiedergegeben.
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Beispiel 2
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Unter
Verwendung von SnCl2NPc, das auf die gleiche
Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurde ein Photorezeptor hergestellt und wie in
Beispiel 1 untersucht, außer
dass die SnCl2NPc-Menge von Beispiel 1 auf
0,01 T1. geändert
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Beispiel 3
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Unter
Verwendung von SnCl2NPc, das auf die gleiche
Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurde ein Photorezeptor hergestellt und wie in
Beispiel 1 untersucht, außer
dass die SnCl2NPc-Menge von Beispiel 1 auf
0,1 T1. geändert
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Beispiel 4
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Unter
Verwendung von SnCl2NPc, das auf die gleiche
Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurde ein Photorezeptor hergestellt und wie in
Beispiel 1 untersucht, außer
dass die SnCl2NPc-Menge von Beispiel 1 auf
0,001 T1. geändert
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Beispiel 5
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Unter
Verwendung von SnCl2NPc, das auf die gleiche
Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurden 10 Photorezeptoren nach Beispiel 1 hergestellt
und untersucht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 21 wiedergegeben
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Beispiel 6
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Unter
Verwendung eines rauen Aluminiumrohres als Basis mit einer Oberfläche von
Ry = 0,5 anstatt des polierten Aluminiumrohrs von Beispiel 1 und
unter Verwendung von SnCl2NPc, das auf die
gleiche Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurden 10 Photorezeptoren auf die gleiche Weise
wie in Beispiel 1 hergestellt und untersucht, außer dass die SnCl2NPc-Menge
von Beispiel 1 auf 0,03 T1. geändert
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 wiedergegeben.
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Beispiel 7
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Unter
Verwendung eines rauen Aluminiumrohres als Basis mit einer Oberfläche von
Ry = 0,5 anstatt des polierten Aluminiumrohrs von Beispiel 1 und
unter Verwendung von SnCl2NPc, das auf die
gleiche Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurden 10 Photorezeptoren auf die gleiche Weise
wie in Beispiel 1 hergestellt und untersucht, außer dass die SnCl2NPc-Menge
von Beispiel 1 auf 0,03 T1. geändert
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 wiedergegeben.
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Vergleichsbeispiel 1
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Ein
Photorezeptor wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt
und untersucht, außer
das anstelle des SnCl2NPc von Beispiel 1
ein Infrarotabsorber SIR-130, hergestellt von Mitsui Chemicals,
Inc., verwendet wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Vergleichsbeispiel 2
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Ein
Photorezeptor wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt
und untersucht, außer
das anstelle des SnCl2NPc von Beispiel 1
Fastogen Blue 8120BS, herge4stellt von Dainippon Ink and Chemicals, Inc.,
verwendet wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Vergleichsbeispiel 3
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Ein
Photorezeptor wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 hergestellt
und untersucht, außer
dass kein SnCl2NPc wie in Beispiel 1 verwendet
wurde. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
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Beispiel 8
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Unter
Verwendung von SnCl2NPc, das auf die gleiche
Weise wie im Präparationsbeispiel
hergestellt wurde, wurde wie in Beispiel 1 ein Photorezeptor hergestellt,
außer
dass ein Aluminiumrohr als Unterlage mit einem Durchmesser von 30
mm, einer Länge
von 254 mm und einer Wandstärke
von 0,75 mm auf eine Oberflächenrauigkeit
von Ry ≤ 0,5 μm feinbearbeitet
wurde. Der erhaltene Photorezeptor wurde in einen Laser Jet4 plus
Drucker, Warenzeichen, hergestellt von Hewlett Packard und Bildpunkte
mit 20%, 50% und 75% ausgedruckt wurden, wobei in keinem Bild ein
Bildung von Interferenzstreifen beobachtet wurde.
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Vergleichsbeispiel 4
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Ein
Photorezeptor wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 8 hergestellt,
außer
dass in Beispiel 8 kein SnCl2NPc zugegeben
und die gleichen Bilder wie in Beispiel 8 ausgedruckt wurden, wobei
in jedem Bild die Bildung von Interferenzstreifen beobachtet wurde.
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Beispiel 9
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Unter
Verwendung eines Aluminiumrohr als Unterlage mit einem Durchmesser
von 140 mm, einer Länge
von 370 mm und einer Wandstärke
von 3 mm, das auf eine Oberflächenrauigkeit
von Ry ≤ 0,5
feinbearbeitet war, und unter Verwendung von SnCl2NPc,
das auf die gleiche Weise wie im Präparationsbeispiel hergestellt wurde,
außer
das ein Titanylphthalocyanin vom Y-Typ als Ladungserzeugungsmaterial
verwendet wurde, wurde ein Photorezeptor auf die gleiche Weise wie
in Beispiel 1 hergestellt. Der erhaltene Photorezeptor wurde in ein
Gerät eingebaut,
das durch Modifizieren eines Farbdruckers DCP32/D vom Tandemtyp,
hergestellt von Xeikon Co., hergestellt wurde, so dass die Reflexion
des Photorezeptors unter den gleichen Bedingungen wie in Beispiel
1 sofort nach Entwicklung der einzelnen Farben des YMCK gemessen
werden konnte. Von jeder Farbe wurde ein fester Druck bei einer
LED-Leistung ausgedruckt, welche einer Belichtung (LDA) von 20%
(entsprechend einer Belichtung mit 0,1 μJ/cm2),
30% (entsprechend einer Belichtung mit 0,14 μJ/cm2),
40% (entsprechend einer Belichtung mit 0,18 μJ/cm2)
und 70% (entsprechend einer Belichtung mit 0,3 μJ/cm2)
entsprach, indem die Entwicklervorspannung fest auf –580 V eingestellt
wurde, wenn die Leistung des Reflexionszentrums mit dem Photorezeptorsubstrat
auf 1 eingestellt wurde, wobei der Wert der Reflexionssensorleistung
des Tonerbildes auf dem Photorezeptor gemessen wurde. Die Ergebnisse
sind in Tabelle 3 wiedergegeben.
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Aus
Tabelle 3 ist ersichtlich, dass zwischen der Bilddichte und der
Reflexionssensorleistung eine ausreichende Korrelation besteht,
so dass es möglich
ist, die Bilddichte auf der Grundlage der reflektierten Sensorleistung
zu regeln.
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Vergleichsbeispiel 5
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Ein
Photorezeptor wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 9 hergestellt,
außer
dass ein Aluminiumrohr grob bearbeitet wurde, um einer Rauigkeit
Ry = 1,0 μm
zu erhalten. Das Photorezeptorsubstrat, Markierungen und feste Drucke
wurden unter den gleichen Bedingungen wie bei der Messung von Beispiel
9 ausgedruckt, wobei die Photorezeptorreflexion gemessen wurde.
In diesem Fall betrug die Intensität der diffusen Reflexion das
1.91-Fache gegenüber
dem Photorezeptorsubstrat von Beispiel 9. Die Ergebnisse sind in
Tabelle 4 wiedergegeben.
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Aus
Tabelle 4 ist ersichtlich, dass in einem Bereich, in dem die Bilddichte
hoch ist, keine Tendenz besteht, dass ein ausgeprägter Unterschied
beim Wert der Reflexionssensorleistung zu beobachten ist, und dass die
Regelung der Bilddichte auf der Grundlage des Werts der Reflexionssensorleistung
dazu neigt schwierig zu sein.
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Mit
dem elektrophotographischen Photorezeptor, welcher eine erfindungsgemäße Grundschicht
verwendet, ist es möglich,
Interferenzstreifen ohne Beeinträchtigung
der elektrophotographischen Eigenschaften zu verhindern und es zudem
möglich
ist, die Nachweisgenauigkeit bei einem optischen Dichtesensor zu
verbessern.