JP2841720B2 - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
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- JP2841720B2 JP2841720B2 JP2137610A JP13761090A JP2841720B2 JP 2841720 B2 JP2841720 B2 JP 2841720B2 JP 2137610 A JP2137610 A JP 2137610A JP 13761090 A JP13761090 A JP 13761090A JP 2841720 B2 JP2841720 B2 JP 2841720B2
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- JP
- Japan
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- undercoat layer
- photoreceptor
- layer
- weight
- acid
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Polyamides (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は電子写真感光体に関するものである。詳しく
は、特定の下引き層を使用した電子写真感光体に関する
ものである。
は、特定の下引き層を使用した電子写真感光体に関する
ものである。
［従来の技術及び発明が解決しようとする課題］ 電子写真技術は、即時制、画像の高品質性などから、
近年では複写機の分野にとどまらず、各種プリンターの
分野でも広く使われ応用されてきている。電子写真技術
の中核となる感光体については、その光導電材料として
従来からのセレニウム、ヒ素−セレニウム合金、硫酸カ
ドミウム、酸化亜鉛等の無機系の光導電体から、最近で
は、無公害で、成膜、製造が容易である等の利点を有す
る有機系の光導電材料を使用した感光体が開発されてい
る。
近年では複写機の分野にとどまらず、各種プリンターの
分野でも広く使われ応用されてきている。電子写真技術
の中核となる感光体については、その光導電材料として
従来からのセレニウム、ヒ素−セレニウム合金、硫酸カ
ドミウム、酸化亜鉛等の無機系の光導電体から、最近で
は、無公害で、成膜、製造が容易である等の利点を有す
る有機系の光導電材料を使用した感光体が開発されてい
る。
有機感光体の中でも電荷発生層、及び電荷移動層を積
層した、いわゆる積層型感光体は、それぞれ効率の高い
電荷発生物質、及び電荷移動物質を組合せることにより
高感度な感光体が得られること、材料の選択範囲が広く
安全性の高い感光体が得られること、また塗布の生産性
が高く比較的コスト面でも有利なことから、感光体の主
流になる可能性が高く、鋭意開発されている。一般に電
子写真感光体はアルミニウム等の導電性基体上にこの様
な感光層を設けて形成されるが、実際の電子写真プロセ
スで使用する上で基体表面が及ほず影響は非常に大き
い。たとえば基体表面に存在する汚れや異物の付着、傷
などは、電気特性に影響を及ぼし、結果的に画像欠陥と
して現れる。この様な基体表面の欠陥をなるべく除去す
る方法として、切削加工や鏡面研磨などの二次加工およ
び精密な洗浄を行う等の方法があるが、それらの工程
は、感光体コスト負荷を増大せしめることとなる。一方
この様な工程を経ず、均一で清浄な基体表面を得る手段
として、基体と感光体の間に下引き層を設けることが公
知の技術として知られている。
層した、いわゆる積層型感光体は、それぞれ効率の高い
電荷発生物質、及び電荷移動物質を組合せることにより
高感度な感光体が得られること、材料の選択範囲が広く
安全性の高い感光体が得られること、また塗布の生産性
が高く比較的コスト面でも有利なことから、感光体の主
流になる可能性が高く、鋭意開発されている。一般に電
子写真感光体はアルミニウム等の導電性基体上にこの様
な感光層を設けて形成されるが、実際の電子写真プロセ
スで使用する上で基体表面が及ほず影響は非常に大き
い。たとえば基体表面に存在する汚れや異物の付着、傷
などは、電気特性に影響を及ぼし、結果的に画像欠陥と
して現れる。この様な基体表面の欠陥をなるべく除去す
る方法として、切削加工や鏡面研磨などの二次加工およ
び精密な洗浄を行う等の方法があるが、それらの工程
は、感光体コスト負荷を増大せしめることとなる。一方
この様な工程を経ず、均一で清浄な基体表面を得る手段
として、基体と感光体の間に下引き層を設けることが公
知の技術として知られている。
下引き層としては、例えばアルミニウム陽極酸化被
膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機
層、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、デ
ンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、等の
有機層が知られている。
膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム等の無機
層、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、デ
ンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、等の
有機層が知られている。
ところで下引層に要求される特性としてまず第一に電
子写真特性に影響を及ぼさないことが挙げられる。この
ためには電気抵抗が低いこと、電気抵抗が外部環境の変
化にたいして極端に変化しないことが必要である。
子写真特性に影響を及ぼさないことが挙げられる。この
ためには電気抵抗が低いこと、電気抵抗が外部環境の変
化にたいして極端に変化しないことが必要である。
第二に感光層に対してキャリアーの注入性がないこと
も必要である。感光層に対しキャリアーの注入性のある
下引き層を用いると帯電電位を減少させ、結果的に画像
のコントラストを低下させたり、カブリの原因となる。
第三に感光体の電気特性を阻害しない範囲で、基体表面
の様々な欠陥を被覆するため、なるべくその膜厚が厚く
できることも必要である。更に、塗布により下引き層を
設ける場合には、第四としてその塗布液の液性が安定で
あることも必要である。
も必要である。感光層に対しキャリアーの注入性のある
下引き層を用いると帯電電位を減少させ、結果的に画像
のコントラストを低下させたり、カブリの原因となる。
第三に感光体の電気特性を阻害しない範囲で、基体表面
の様々な欠陥を被覆するため、なるべくその膜厚が厚く
できることも必要である。更に、塗布により下引き層を
設ける場合には、第四としてその塗布液の液性が安定で
あることも必要である。
この様な要求特性に対し、これまで知られている例え
ば上記に示した下引き層は必ずしも満足していないのが
現状である。
ば上記に示した下引き層は必ずしも満足していないのが
現状である。
［課題を解決するための手段］ そこで本発明者らは、上記の下引き層の要求特性を満
足できる下引き材料について鋭意検討した結果、特定の
共重合ポリアミドを含む下引き層が非常に効果的であ
り、かつ生産性よく下引き層を設けることができること
を見出し、本発明に到達した。
足できる下引き材料について鋭意検討した結果、特定の
共重合ポリアミドを含む下引き層が非常に効果的であ
り、かつ生産性よく下引き層を設けることができること
を見出し、本発明に到達した。
すなわち本発明の要旨は、導電性基体上に、少なくと
も下引き層及び感光層を設けた電子写真感光体におい
て、該下引き層に下記一般式（Ｉ）で示されるジアミン
成分を、構成成分として有する共重合ポリアミドを含む
ことを特徴とする電子写真感光体にある。
も下引き層及び感光層を設けた電子写真感光体におい
て、該下引き層に下記一般式（Ｉ）で示されるジアミン
成分を、構成成分として有する共重合ポリアミドを含む
ことを特徴とする電子写真感光体にある。
（式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立し
て、水素原子、メチル基又はエチル基を表わす。） 以下、本発明を詳細に説明する。
て、水素原子、メチル基又はエチル基を表わす。） 以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の感光体は導電性基体上に設けられる。導電性
基体としては、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、
銅、ニッケル等の金属材料、表面にアルミニウム、銅、
パラジウム、酸化すず、酸化インジウム等の導電性層を
設けたポリエステルフィルム、紙、ガラス等の絶縁性基
体が使用される。なかでもアルミニウム等の金属のエン
ドレスパイプが好ましい基体である。
基体としては、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、
銅、ニッケル等の金属材料、表面にアルミニウム、銅、
パラジウム、酸化すず、酸化インジウム等の導電性層を
設けたポリエステルフィルム、紙、ガラス等の絶縁性基
体が使用される。なかでもアルミニウム等の金属のエン
ドレスパイプが好ましい基体である。
導電性基体と感光層の間に本発明の下引き層が設けら
れる。
れる。
本発明で用いられる下引き層には、前記一般式（Ｉ）
で示されるジアミンを構成成分として含む共重合ポリア
ミドが含まれるが、この様な共重合ポリアミドとしては
上記ジアミンと、例えばγ−ブチロラクタム、ε−カプ
ロラクタム、ラウリルラクタム等のラクタム類;1,4−ブ
タンジカルボン酸、アジピン酸、1,8−オクタンジカル
ボン酸、1,10−デカンジカルボン酸、1,12−ドデカンジ
カルボン酸、1,20−アイコサンジカルボン酸等のジカル
ボン類;1,4−ブタンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジ
アミン、1,8−オクタメチレンジアミン、1,12−ドデカ
ンジアミン等のジアミン類；ピペラジン等を組合せて、
二元、三元、四元等に共重合させたものが挙げられる。
で示されるジアミンを構成成分として含む共重合ポリア
ミドが含まれるが、この様な共重合ポリアミドとしては
上記ジアミンと、例えばγ−ブチロラクタム、ε−カプ
ロラクタム、ラウリルラクタム等のラクタム類;1,4−ブ
タンジカルボン酸、アジピン酸、1,8−オクタンジカル
ボン酸、1,10−デカンジカルボン酸、1,12−ドデカンジ
カルボン酸、1,20−アイコサンジカルボン酸等のジカル
ボン類;1,4−ブタンジアミン、1,6−ヘキサメチレンジ
アミン、1,8−オクタメチレンジアミン、1,12−ドデカ
ンジアミン等のジアミン類；ピペラジン等を組合せて、
二元、三元、四元等に共重合させたものが挙げられる。
その共重合比率については特に限定されないが、上記
ジアミン成分が５〜40mol％、好ましくは５〜30mol％の
範囲にあることが好ましい。共重合ポリアミドの製造方
法には特に制限はなく、通常のポリアミドの重縮合方法
が適宜適用され、溶融従業法、溶液重合法、界面重合法
等が用いられる。また重合に際して、酢酸、や安息香酸
等の一塩基酸、あるいは、ヘキシルアミン、アニリン等
の一酸塩基を分子調節剤として加えることも何らさしつ
かえない。
ジアミン成分が５〜40mol％、好ましくは５〜30mol％の
範囲にあることが好ましい。共重合ポリアミドの製造方
法には特に制限はなく、通常のポリアミドの重縮合方法
が適宜適用され、溶融従業法、溶液重合法、界面重合法
等が用いられる。また重合に際して、酢酸、や安息香酸
等の一塩基酸、あるいは、ヘキシルアミン、アニリン等
の一酸塩基を分子調節剤として加えることも何らさしつ
かえない。
更に亜リン酸ソーダ、次亜リン酸ソーダ、亜リン酸、
次亜リン酸、やヒンダードフェノールの代表される熱安
定剤やその他の重合添加剤を加えることも可能である。
次亜リン酸、やヒンダードフェノールの代表される熱安
定剤やその他の重合添加剤を加えることも可能である。
本発明で使用される共重合ポリアミドの具体例を以下
に示す。
に示す。
但し具体例中、共重合比率はモノマーの仕込み比率
（モル比率）を表わす。
（モル比率）を表わす。
この様な共重合ポリアミドは溶液として、下引き層の
塗布液に使用されるが、その溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のア
ルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類；塩化メチレン、ジク
ロロエタン、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類；水等が単独或いは混合して使用できるが、溶液安
定性の面からアルコール類を用いることが好ましい。
塗布液に使用されるが、その溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のア
ルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類；酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類；塩化メチレン、ジク
ロロエタン、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類；水等が単独或いは混合して使用できるが、溶液安
定性の面からアルコール類を用いることが好ましい。
本発明の下引き層には、必要に応じて各種の添加剤を
加えることができる。添加剤として、電気抵抗を調節す
るためには、例えばアルミニウム、銅、銀等の金属微粒
子、炭化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化ケイ素等の金属酸化物微粒子や
カーボンブラックを、塗布性を改良するためには例えば
シリコンオイルやフッ素系界面活性剤を用いることがで
きる。
加えることができる。添加剤として、電気抵抗を調節す
るためには、例えばアルミニウム、銅、銀等の金属微粒
子、炭化亜鉛、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化ケイ素等の金属酸化物微粒子や
カーボンブラックを、塗布性を改良するためには例えば
シリコンオイルやフッ素系界面活性剤を用いることがで
きる。
下引き層の膜厚は0.05μｍから20μｍ、好ましくは0.
1μｍから10μｍの範囲で使用されるのが最も効果的で
ある。
1μｍから10μｍの範囲で使用されるのが最も効果的で
ある。
次にこの様な下引き層の上に感光層が設けられる。感
光層は積層型及び分散型のいずれであってもよいが、積
層型の場合に特に本発明の効果が顕著である。
光層は積層型及び分散型のいずれであってもよいが、積
層型の場合に特に本発明の効果が顕著である。
積層型感光体の場合その電荷発生層に使用される電荷
発生材料としてはたとえばセレニウム、及びその合金、
硫化カドミウム、その他無機系光導電材料、フタロシア
ニン顔料、アゾ顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔
料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、アントアントロン
顔料、ベンズイミダゾール顔料などの有機顔料等各種導
電材料が使用できる。これらの微粒子をたとえばポリエ
ステル樹脂、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビ
ニルプロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノキ
シ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエス
テル、セルロースエーテルなどの各種バインダー樹脂で
結着した形で使用される。この場合の使用比率は、通常
バインダー樹脂100重量部に対して30から500重量部の範
囲より使用され、その膜厚は、通常、0.1μｍから１μ
ｍ、好ましくは0.15μｍから0.6μｍが好適である。
発生材料としてはたとえばセレニウム、及びその合金、
硫化カドミウム、その他無機系光導電材料、フタロシア
ニン顔料、アゾ顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔
料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、アントアントロン
顔料、ベンズイミダゾール顔料などの有機顔料等各種導
電材料が使用できる。これらの微粒子をたとえばポリエ
ステル樹脂、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビ
ニルプロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノキ
シ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエス
テル、セルロースエーテルなどの各種バインダー樹脂で
結着した形で使用される。この場合の使用比率は、通常
バインダー樹脂100重量部に対して30から500重量部の範
囲より使用され、その膜厚は、通常、0.1μｍから１μ
ｍ、好ましくは0.15μｍから0.6μｍが好適である。
電荷移動層の電荷移動材料としては例えば2,4,7−ト
リニトロフルオレノン、テトラシアノキノジメタンなど
の電子吸引性物質；カルバゾール、インドール、イミダ
ゾール、オキサゾール、ピラゾール、オキサジアゾー
ル、ピラゾリン、チアジアゾール、などの複素環化合
物；アニリン誘導体、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン
誘導体、スチルベン誘導体、或いはこれらの化合物から
なる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体などの電子供
与性物質が挙げられる。これらの電荷移動材料とともに
必要に応じてバインダー樹脂が配合される。好ましいバ
インダー樹脂としては例えばポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、
及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、
ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリイミ
ド、フェノキシ、エポキシ、シリコーン樹脂等があげら
れ、またこれらの部分的架橋硬化物も使用できる。また
電荷移動層には、必要に応じて酸化防止剤、増感剤等の
各種添加剤を含んでいてもよい。電荷移動層の膜厚は５
〜50μｍ、より好ましくは10〜40μｍで使用されるのが
よい。
リニトロフルオレノン、テトラシアノキノジメタンなど
の電子吸引性物質；カルバゾール、インドール、イミダ
ゾール、オキサゾール、ピラゾール、オキサジアゾー
ル、ピラゾリン、チアジアゾール、などの複素環化合
物；アニリン誘導体、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン
誘導体、スチルベン誘導体、或いはこれらの化合物から
なる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体などの電子供
与性物質が挙げられる。これらの電荷移動材料とともに
必要に応じてバインダー樹脂が配合される。好ましいバ
インダー樹脂としては例えばポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、
及びその共重合体、ポリカーボネート、ポリエステル、
ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリイミ
ド、フェノキシ、エポキシ、シリコーン樹脂等があげら
れ、またこれらの部分的架橋硬化物も使用できる。また
電荷移動層には、必要に応じて酸化防止剤、増感剤等の
各種添加剤を含んでいてもよい。電荷移動層の膜厚は５
〜50μｍ、より好ましくは10〜40μｍで使用されるのが
よい。
分散型の場合、前述の電荷発生材料及び電荷移動材料
を例えばポリエステル樹脂、ポリビニルアセテート、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リエステル、ポリカーボネート等のバインダー樹脂で結
着した形で使用される。この場合バインダー樹脂100重
量部に対して電荷発生材料は１から50重量部、電荷移動
材料は30から150重量部の範囲より使用されるのが好ま
しい。また膜厚は、通常、５〜50μｍ、好ましくは10〜
30μｍが好適である。また必要に応じて酸化防止剤、増
感剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
を例えばポリエステル樹脂、ポリビニルアセテート、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポ
リエステル、ポリカーボネート等のバインダー樹脂で結
着した形で使用される。この場合バインダー樹脂100重
量部に対して電荷発生材料は１から50重量部、電荷移動
材料は30から150重量部の範囲より使用されるのが好ま
しい。また膜厚は、通常、５〜50μｍ、好ましくは10〜
30μｍが好適である。また必要に応じて酸化防止剤、増
感剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
［発明の効果］ 本発明における特定の共重合ポリアミドを用いた下引
き層の塗布液は、液の経時安定低や、金属酸化物微粒子
を分散した場合の分散液を分散安定性に優れる。そのた
め、液の管理が容易であり非常に生産性よく基体に塗布
することができる。また下引き層の電気抵抗の湿度依存
性が小さいため、低温低湿下において繰返し使用しても
感度の低下や残留電位の蓄積がほとんどなく、安定した
電気特性を示す。
き層の塗布液は、液の経時安定低や、金属酸化物微粒子
を分散した場合の分散液を分散安定性に優れる。そのた
め、液の管理が容易であり非常に生産性よく基体に塗布
することができる。また下引き層の電気抵抗の湿度依存
性が小さいため、低温低湿下において繰返し使用しても
感度の低下や残留電位の蓄積がほとんどなく、安定した
電気特性を示す。
［実施例］ 以下本発明を製造例、実施例及び比較例により更に詳
細に説明するが、これらに限定するものではない。
細に説明するが、これらに限定するものではない。
製造例［具体例で示した共重合ポリアミド］ カプロラクタム126g、ラミロン67g、1,12−ドデカン
ジカルボン酸64g、ヘキサメチレンジアミン80％水溶液1
3g、1,20−アイコサンジカルボン酸32gを撹拌機付きオ
ートクレーブに仕込み、充分窒素置換した後昇温を開始
した。内温が100℃に達した時点で撹拌を開始し、系内
圧力が13kg/cm2となる迄加熱昇温した。13kg/cm2に到達
後、系内圧力が13kg/cm2になる様に水を留出させた。次
にオートクレーブのバルブを閉じ、２時間反応させた後
バルブを開け、常圧に戻した。その後、更に290℃で２
時間反応させた後、生成した溶融ポリマーを抜出し、10
倍量の沸騰水で５回洗浄を行なった。これを減圧下、12
0℃で３日間乾燥させ、表記共重合ポリアミドを得た。
この様にして得られた共重合ポリアミドのガラス転移温
度を測定したところ74℃であった。またC13−NMRにより
共重合組成を求めたところ、具体例−で示した組成と
一致した。
ジカルボン酸64g、ヘキサメチレンジアミン80％水溶液1
3g、1,20−アイコサンジカルボン酸32gを撹拌機付きオ
ートクレーブに仕込み、充分窒素置換した後昇温を開始
した。内温が100℃に達した時点で撹拌を開始し、系内
圧力が13kg/cm2となる迄加熱昇温した。13kg/cm2に到達
後、系内圧力が13kg/cm2になる様に水を留出させた。次
にオートクレーブのバルブを閉じ、２時間反応させた後
バルブを開け、常圧に戻した。その後、更に290℃で２
時間反応させた後、生成した溶融ポリマーを抜出し、10
倍量の沸騰水で５回洗浄を行なった。これを減圧下、12
0℃で３日間乾燥させ、表記共重合ポリアミドを得た。
この様にして得られた共重合ポリアミドのガラス転移温
度を測定したところ74℃であった。またC13−NMRにより
共重合組成を求めたところ、具体例−で示した組成と
一致した。
実施例−１及び比較例−１ 前記具体例中に示した共重合ポリアミド、及び以下
に示す共重合ポリアミド6/6、6/12（組成比46/24/30モ
ル％）を各々混合アルコール（メタノール/n−プロパノ
ール＝70/30重量％）に溶解し、10％溶液を作成し10℃
下に10日間放置し、溶液安定性の比較を行なった。その
結果、共重合ポリアミドの溶液は10日間経過後もまっ
たく変化なく良好な溶液安定性を示したが、6/6、6/12
ポリアミドの溶液は翌日には白濁ゲル課してしまった。
に示す共重合ポリアミド6/6、6/12（組成比46/24/30モ
ル％）を各々混合アルコール（メタノール/n−プロパノ
ール＝70/30重量％）に溶解し、10％溶液を作成し10℃
下に10日間放置し、溶液安定性の比較を行なった。その
結果、共重合ポリアミドの溶液は10日間経過後もまっ
たく変化なく良好な溶液安定性を示したが、6/6、6/12
ポリアミドの溶液は翌日には白濁ゲル課してしまった。
実施例−２ 前記具体例中に示した共重合ポリアミドの８％混合
アルコール（メタノール/n−プロパノール＝70/30）溶
液に、予め超音波により分酸した酸化アルミニウム（日
本アエロジル（株））製、アルミニウムオキサイド−
Ｃ、一次粒子平均径20nm）の混合アルコール分散液（固
定分８重量％）に混合し、更に超音波で分散処理を行な
い、全固形分８重量％の下引き層塗布液を調整した。こ
の塗布液の分散安定性を調べるため粘度の経時変化を測
定したところ、一ヵ月経過後においてもまったく粘度変
化が見られなかった。次にこの下引き層塗布液に表面を
鏡面仕上げした肉厚1nm、外径50nm、長さ250mmのアルミ
シリンダーを浸漬し、引上げることにより乾燥後の膜厚
が1.0μｍとなるように下引き層を設けた。
アルコール（メタノール/n−プロパノール＝70/30）溶
液に、予め超音波により分酸した酸化アルミニウム（日
本アエロジル（株））製、アルミニウムオキサイド−
Ｃ、一次粒子平均径20nm）の混合アルコール分散液（固
定分８重量％）に混合し、更に超音波で分散処理を行な
い、全固形分８重量％の下引き層塗布液を調整した。こ
の塗布液の分散安定性を調べるため粘度の経時変化を測
定したところ、一ヵ月経過後においてもまったく粘度変
化が見られなかった。次にこの下引き層塗布液に表面を
鏡面仕上げした肉厚1nm、外径50nm、長さ250mmのアルミ
シリンダーを浸漬し、引上げることにより乾燥後の膜厚
が1.0μｍとなるように下引き層を設けた。
次にオキシチタニウムフタロシアニン10重量部、ポリ
ビニルブチラール（積水化学工業（株）製、商品名エス
レックBH−３）５重量部に1,2−ジメトキシエタン500重
量部を加え、サンドグラインドミルで粉砕、分散処理を
行なった。この分散液に先に下引き層を設けたアルミシ
リンダーを浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.3μｍとなる
ように電荷発生層を設けた。
ビニルブチラール（積水化学工業（株）製、商品名エス
レックBH−３）５重量部に1,2−ジメトキシエタン500重
量部を加え、サンドグラインドミルで粉砕、分散処理を
行なった。この分散液に先に下引き層を設けたアルミシ
リンダーを浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が0.3μｍとなる
ように電荷発生層を設けた。
次にこのアルミシリンダーを、次に示すヒドラゾン化
合物56重量部と 次に示すヒドラゾン化合物14重量部、 及び下記のシアノ化合物1.5重量部 及び下記ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量3200
0）100重量部を1,4−ジオキサン1000重量部に溶解させ
た液に浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が17μｍとなるように
電荷移動層を設けた。この様にして得られたドラムを感
光体Ａとする。
合物56重量部と 次に示すヒドラゾン化合物14重量部、 及び下記のシアノ化合物1.5重量部 及び下記ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量3200
0）100重量部を1,4−ジオキサン1000重量部に溶解させ
た液に浸漬塗布し、乾燥後の膜厚が17μｍとなるように
電荷移動層を設けた。この様にして得られたドラムを感
光体Ａとする。
比較例−２ 実施例−２において、共重合ポリアミドとして比較例
−１で用いた6/6、6/12（組成比46/24/30モル％）を用
いた以外は実施例−２と同様に行ない感光体Ｂを作製し
た。
−１で用いた6/6、6/12（組成比46/24/30モル％）を用
いた以外は実施例−２と同様に行ない感光体Ｂを作製し
た。
感光体Ａ、Ｂを感光体特性測定機に装着し、各環境条
件下、周速63mm/secで帯電（25℃、60％RH下でコロトロ
ンで−700Vになるように設定）、露光（照射強度３μJ/
cm2の光を照射）した時の残留電位（Vr）を測定した。
その結果を表１に示すが、本発明の感光体Ａは、特に低
温、低湿下において感度の低下や残留電位の上昇が少な
く、非常に安定した電気特性を示すことがわかる。
件下、周速63mm/secで帯電（25℃、60％RH下でコロトロ
ンで−700Vになるように設定）、露光（照射強度３μJ/
cm2の光を照射）した時の残留電位（Vr）を測定した。
その結果を表１に示すが、本発明の感光体Ａは、特に低
温、低湿下において感度の低下や残留電位の上昇が少な
く、非常に安定した電気特性を示すことがわかる。
次にこれらの感光体を市販の半導体レーザプリンタ
（反転現像方式）に装着し、上記の各環境条件下でプリ
ントを行ない画像評価を行った。その結果、本発明の感
光体Ａは各環境条件において良好なプリント画像が得ら
れたが、比較例の感光体Ｂは、５℃、15％RHの条件にお
いて、黒地画像濃度が若干低下する傾向が見られた。
（反転現像方式）に装着し、上記の各環境条件下でプリ
ントを行ない画像評価を行った。その結果、本発明の感
光体Ａは各環境条件において良好なプリント画像が得ら
れたが、比較例の感光体Ｂは、５℃、15％RHの条件にお
いて、黒地画像濃度が若干低下する傾向が見られた。
以上の事から本発明の感光体は非常に優れた性能を有
していることが判る。
していることが判る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−227264（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−73266（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−242265（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−258258（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/14 101
Claims (1)
- 【請求項１】導電性基体上に、少なくとも下引き層及び
感光層を設けた電子写真感光体において、該下引き層に
下記一般式（Ｉ）で示されるジアミン成分を構成成分と
して有する共重合ポリアミドを含むことを特徴とする電
子写真感光体。 （式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立し
て、水素原子、メチル基又はエチル基を表わす。）
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2137610A JP2841720B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電子写真感光体 |
| DE69127400T DE69127400T2 (de) | 1990-05-28 | 1991-05-24 | Lichtempfindliches Element für die Elektrophotographie |
| CA002043193A CA2043193A1 (en) | 1990-05-28 | 1991-05-24 | Photosensitive member for electrophotography |
| EP91108447A EP0459315B1 (en) | 1990-05-28 | 1991-05-24 | Photosensitive member for electrophotography |
| US07/706,189 US5173385A (en) | 1990-05-28 | 1991-05-28 | Photosensitive member for electrophotography with copolyamide interlayer |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP2137610A JP2841720B2 (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431870A JPH0431870A (ja) | 1992-02-04 |
| JP2841720B2 true JP2841720B2 (ja) | 1998-12-24 |
Family
ID=15202707
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
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| DE (1) | DE69127400T2 (ja) |
Cited By (1)
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| JPH07191489A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JPH08209023A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-08-13 | Fuji Electric Co Ltd | チタニルオキシフタロシアニン結晶とその製法及び電子写真感光体 |
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| CN101587309B (zh) * | 2004-11-19 | 2012-01-25 | 三菱化学株式会社 | 底涂层形成用涂布液以及电子照相感光体 |
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| JP5435917B2 (ja) * | 2008-09-26 | 2014-03-05 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体用分散液の調製方法、及び電子写真感光体の製造方法 |
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| JP2016180800A (ja) * | 2015-03-23 | 2016-10-13 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体、画像形成装置、及びカートリッジ |
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| US3634079A (en) * | 1969-12-22 | 1972-01-11 | Ibm | Substrate layer for dichroic photoconductors |
| JPS56138742A (en) * | 1980-03-31 | 1981-10-29 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Charge retaining material and method for forming copy image using this material |
| DE3114163C2 (de) * | 1981-04-08 | 1983-12-29 | Renker GmbH & Co KG, 5160 Düren | Negativ arbeitendes photomechanisches Aufzeichnungsmaterial |
| US4495263A (en) * | 1983-06-30 | 1985-01-22 | Eastman Kodak Company | Electrophotographic elements containing polyamide interlayers |
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| JPS63101853A (ja) * | 1986-10-18 | 1988-05-06 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
| JP2567086B2 (ja) * | 1989-03-15 | 1996-12-25 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体 |
| JPH0345961A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
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-
1990
- 1990-05-28 JP JP2137610A patent/JP2841720B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-05-24 DE DE69127400T patent/DE69127400T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-24 EP EP91108447A patent/EP0459315B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-24 CA CA002043193A patent/CA2043193A1/en not_active Abandoned
- 1991-05-28 US US07/706,189 patent/US5173385A/en not_active Expired - Lifetime
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| US8338065B2 (en) | 2009-10-02 | 2012-12-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photoreceptor and image forming apparatus provided with the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0459315A1 (en) | 1991-12-04 |
| CA2043193A1 (en) | 1991-11-29 |
| JPH0431870A (ja) | 1992-02-04 |
| EP0459315B1 (en) | 1997-08-27 |
| US5173385A (en) | 1992-12-22 |
| DE69127400D1 (de) | 1997-10-02 |
| DE69127400T2 (de) | 1998-04-02 |
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