DE602005004085T2

DE602005004085T2 - Flachdruckplattenvorläufer sowie Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE602005004085T2
Application number: DE602005004085T
Authority: DE
Inventors: Takahiro Goto
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2004-08-27
Filing date: 2005-08-17
Publication date: 2008-12-11
Anticipated expiration: 2025-08-18
Also published as: US20060046185A1; EP1629975B1; DE602005004085D1; JP2006065065A; JP4429116B2; EP1629975A1; ATE382477T1

Description

Hintergrund der Erfindung
Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer vom negativen Typ, der direktes Drucken unter Verwendung von IR-Laserlicht und Hochgeschwindigkeitsdrucken ermöglicht, und ein Verfahren zur Plattenherstellung für den Vorläufer und insbesondere einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der eine verbesserte Bindungsbeständigkeit zwischen der Oberfläche der lichtempfindlichen Schichtseite eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers und der Oberfläche der Trägerseite eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers, der dazu benachbart ist, besitzt, wenn darauf laminiert, und auch ein Verfahren zur Plattenherstellung des Vorläufers.
Herkömmlicherweise ist eine Platte mit einer lipophilen lichtempfindlichen Harzschicht, die auf einem hydrophilen Träger bereitgestellt ist, weithin als ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer verwendet worden, und eine gewünschte Druckplatte wird durch ein Plattenherstellungsverfahren erhalten, das gewöhnlich Belichtung durch eine Maske (Oberflächenlichtbelichtung) über einen lithographischen Film und dann Entfernen einer Nicht-Bildfläche durch Auflösung beinhaltet. In den letzten Jahren haben sich Digitalisierungstechniken, die elektronisches Verarbeiten, Akkumulieren und Ausgeben von Bildinformation mit einem Computer beinhalten, verbreitet. Eine große Reihe von neuen Bildausgabesystemen, die mit diesen Digitalisierungstechniken kompatibel sind, ist in die Praxis gelangt. Folglich besteht ein Bedarf nach Computer-zu-Platten(CTP)-Techniken zur Herstellung einer Druckplatte auf direkte Weise durch Abtasten eines hochgerichteten Lichts, wie etwa Laserlicht, gemäß digitalisierter Bildinformation ohne lithographischen Film, und die Bereitstellung eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers, der an diese Techniken angepasst ist, hat sich als eine bedeutende technische Herausforderung erwiesen.
Als ein Fachdruck-Druckplattenvorläufer, mit dem eine solche Abtastungsbelichtung durchgeführt werden kann, ist ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der einen hydrophilen Träger, mit einer darauf bereitgestellten lipophilen lichtempfindlichen Harzschicht (auch als lichtempfindliche Schicht bezeichnet, die eine lichtempfindliche Verbindung enthält, die aktive Spezies, wie etwa Radikale oder Br⌀nsted-Säure, bei Belichtung mit Laserlicht erzeugen kann, umfasst, vorgeschlagen wurden und kommerziell verfügbar gemacht wurden. Dieser Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird einer Leseabtastung gemäß digitaler Information unterzogen, um aktive Spezies zu erzeugen, die auf die lichtempfindliche Schicht wirken und so eine physikalische oder chemische Änderung hervorrufen, wobei die Schicht so unlöslich gemacht wird, und dann eine Entwicklungsbehandlung zur Erzeugung einer negativen Flachdruckplatte unterzogen wird. Insbesondere besitzt ein Flachdruckdruckplattenvorläufer, der mit einer lichtempfindlichen Schicht vom fotopolymerisierbaren Typ ausgestattet ist, die einen Fotopolymerisationsinitiator mit überlegener lichtempfindlicher Geschwindigkeit, eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung und ein Binderpolymer, das in Alkalientwicklungslösung löslich ist, auf einem hydrophilen Träger und, soweit benötigt, eine Schutzschicht mit Sauerstoffausschlussfähigkeit auf einem hydrophilen Träger enthält, die Vorteile einer hohen Produktivität, einfachen Entwicklungsbehandlung und hohen Auflösung und Druckadhäsion, welche Vorteile dem Fachdruck-Druckplattenvorläufer eine erwünschte Druckleistung verleihen (siehe z. B. JP-A-10-228109 ).
Zudem ist zur weiteren Verbesserung der Produktivität ein Aufzeichnungsmaterial offenbart worden, das einen Cyaninfarbstoff mit einer spezifischen Struktur, ein Iodoniumsalz und eine additionspolymerisierbare Verbindung mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung umfasst und keine Erhitzungsbehandlung nach bildweise Belichtung benötigt, offenbart worden (siehe z. B. JP-B-7-103171 ). Dieses Bildaufzeichnungsmaterial besitzt jedoch den Nachteil, dass eine Polymerisationsinhibierung durch Sauerstoff in der Luft in der Polymerisationsreaktion hervorgerufen wird, was eine reduzierte Empfindlichkeit und unzureichende Festigkeit des erzeugten Bildes bewirkt.
Um dieses Problem anzugehen, sind die folgenden Verfahren bekannt: ein Verfahren, worin eine Schutzschicht, die ein wasserlösliches Polymer enthält, auf einer lichtempfindlichen Schicht erzeugt wird, und ein Verfahren, worin eine. Schutzschicht, die eine anorganische geschichtete Verbindung und ein wasserlösliches Polymer enthält, erzeugt wird (siehe z. B. JP-A-11-38633 ). Das Vorhandensein der Schutzschicht verhindert eine Polymerisationsinhibierung, so dass eine Härtungsreaktion an der lichtempfindlichen Schicht gefördert wird, und daher ist es möglich, die Festigkeit des Bildbereichs zu verbessern.
Andererseits ist es hinsichtlich der Produktivität beim Plattenherstellungsverfahren für einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer vom Fotopolymerisationstyp, mit dem eine einfache Entwicklungsbehandlung durchgeführt werden kann, wichtig, die Zeit zu verkürzen, die beim Belichtungsschritt benötigt wird. Beim Belichtungsschritt wird gewöhnlich ein Laminat zugeführt, worin ein Zwischenschichtpapier mit der Funktion des Verhinderns einer Adhäsion zwischen diesen Vorläufern eingefügt wird. So stellt die Zeit, die zur Entfernung des Papiers in dem Belichtungsschritt benötigt wird, ein Ineffizienzproblem dar. Zur Erhöhung der Effizienz in diesem Belichtungsschritt wird einfach benötigt, dass ein Laminat, das ohne Zwischenschichtpapier, das zwischen den Vorläufern eingefügt ist, verwendet wird, um hierdurch ohne den Schritt des Entfernens des Zwischenschichtpapiers auszukommen.
Demgemäß ist die Verbesserung der Bindungsbeständigkeit zwischen Vorläufern erwünscht gewesen.
Zudem ist in dem Fall der Verwendung eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers vom Fotopolymerisationstyp mit einer Schutzschicht bei Plattenherstellungsverfahren der Vor-Wasserwaschschritt zum Entfernen der Schutzschicht eine Ursache verringerter Produktivität. Als eine Maßnahme, um auf diesen Schritt zu verzichten, ist ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer bekannt, worin das Filmgewicht einer Schutzschicht ausgelegt ist, um 0,05 g/m² bis 1,0 g/m² zu betragen, und ein säuremodifizierter Polyvinylalkohol wird vorzugsweise für diese Schutzschicht verwendet (siehe z. B. JP-A-2004-118070 ).
Dieser Flachdruck-Druckplattenvorläufer ermöglicht es, auf den Vor-Wasserwaschschritt zu verzichten. Jedoch wird der Verkürzung der Zeit keine Aufmerksamkeit geschenkt, die zum Durchführen des Belichtungsschrittes, wie vorstehend erwähnt, aufgewendet wird.
In EP 1 176 467 A1 wird eine negativ arbeitende lichtempfindliche lithographische Druckplatte offenbart, die einen Träger mit mindestens einer lichtempfindlichen Schicht darauf umfasst, die einen polymeren Binder enthält, der Wiederholungseinheiten der Formel (I) besitzt:
worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; R² eine Kohlenwasserstoffgruppe, die eine alicyclische Struktur besitzt und 3 bis 30 Kohlenstoffatome und eine Valenz von n + 1 besitzt, darstellt; A ein Sauerstoffatom oder -NR³- dargestellt, worin R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen darstellt; und n eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist. Die negativ arbeitende lichtempfindliche lithographische Druckplatte kann sowohl eine hohe Produktivität als auch hohe Druckhaltbarkeit erreichen. Sie ist insbesondere zum Beschreiben mit Laserlicht geeignet.
Aus dem Vorstehenden ergibt sich, dass ein Bedarf zum Entwickeln eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers besteht, der mit einer Schutzschicht ausgestattet ist, die eine Polymerisationsinhibierung unterdrückt und die Produktivität bei Plattenherstellungsverfahren verbessern kann.
Zusammenfassung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung ist angesichts der vorstehenden Umstände gemacht worden und stellt einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereit, der mit einer Schutzschicht ausgestattet ist und mit dem die Produktivität bei Plattenherstellungsverfahren verbessert werden kann, und stellt ein Verfahren zur Herstellung des Flachdruck-Druckplattenvorläufers bereit.
Im Einzelnen stellt die Erfindung einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereit, der das Beschreibung unter Verwendung von IR-Laser ermöglicht, Polymerisationsinhibierung verhindert, eine überlegene Entwicklungsentfernbarkeit besitzt, und zudem mit einer Schutzschicht ausgestattet ist, die die Bindungsbeständigkeit der lichtempfindlichen Schichtseitenoberfläche (die Oberfläche der Schutzschicht) eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers zu der Trägerseitenoberfläche eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers, der dem vorstehenden Flachdruck-Druckplattenvorläufer benachbart ist, verbessern kann, wenn diese Flachdruck-Druckplattenvorläufer laminiert sind, und stellt zudem ein Verfahren zur Plattenherstellung des Vorläufers bereit.
Der Erfinder hat intensive Untersuchungen durchgeführt und folglich herausgefunden, dass das Vorstehende erreicht werden kann, indem eine Glimmerverbindung und ein spezifischer Polyvinylalkohol in der Schutzschicht vermengt werden, und hat so die Erfindung vervollständigt.
Ein erster erfindungsgemäßer Aspekt stellt einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereit, der eine lichtempfindliche Schicht umfasst, die einen IR-Absorber, einen Polymerisationsinitiator, eine polymerisierbare Verbindung und ein Binderpolymer, und eine auf einem Träger laminierte Schutzschicht in dieser Reihenfolge umfasst, worin:
die Schutzschicht eine Glimmerverbindung und mindestens einen Polyvinylalkohol, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Polyvinylalkohol mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger und einem Säure-modifizierten Polyvinylalkohol besteht, enthält.
Der Satz "laminiert auf einem Träger in dieser Reihenfolge" bedeutet, dass eine lichtempfindliche Schicht und eine Schutzschicht auf einem Träger in dieser Reihenfolge angeordnet sind, aber dieser Satz bestreitet nicht das Vorhandensein von anderen Schichten (z. B. einer Zwischenschicht, einer rückwärtigen Beschichtungsschicht, etc.), die in Übereinstimmung mit spezifischen Zielen angeordnet sind.
Ein zweiter erfindungsgemäßer Aspekt stellt ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruck-Druckplatte bereit, wobei das Verfahren das Belichten des Flachdruck-Druckplattenvorläufers des ersten Aspektes mit Licht mit einer Wellenlänge von 750 nm bis 1400 nm und dann Durchführen der Entwicklungsbehandlung bei einer Beförderungsgeschwindigkeit von 1,25 m/min oder mehr im Wesentlichen ohne Wärmebehandlung und ohne Wasserwaschbehandlung umfasst.
Obwohl der erfindungsgemäße Mechanismus nicht klar ist, wird das Folgende angenommen.
Die erfindungsgemäße Schutzschicht enthält eine Glimmerverbindung und den vorstehend erwähnten spezifischen Polyvinylalkohol, und daher werden die Entwicklungsentfernbarkeit und die Filmfestigkeit verbessert und zudem die Mattierungseigenschaften auch entwickelt. Es ergibt sich aus den vorstehenden Ergebnissen, dass die Schutzschicht vollständig in einem Entwicklungsschritt entfernt werden kann, sogar wenn auf einen Vor-Wasserwaschschritt verzichtet wird, während eine Polymerisationsinhibierung noch unterdrückt wird und zudem kann verhindert werden, dass, wenn Flachdruck-Druckplattenvorläufer mit dieser Schutzschicht laminiert werden, die Schutzschicht, die die lichtempfindliche Schichtseitenoberfläche des Flachdruck-Druckplattenvorläufers zusammensetzt, auf die Trägerseitenoberfläche des benachbarten Flachdruck-Druckplattenvorläufers anhaftet.
Kurze Beschreibung der Zeichnungen
1 ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für ein DRM-Störungswellenmessinstrument zum Messen des Auflösungsverhaltens einer Schutzschicht zeigt.
2 ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel zum Messen der elektrostatischen Kapazität, die beim Bewerten des Durchdringens einer Entwicklungslösung in die lichtempfindliche Schicht (Aufzeichnungsschicht) verwendet wird, zeigt.
Detaillierte Beschreibung der Erfindung
<Flachdruck-Druckplattenvorläufer>
Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird detaillierte erläutert.
Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer schließt eine lichtempfindliche Schicht, die einen IR-Absorber, einen Polymerisationsinitiator, eine polymerisierbare Verbindung und ein Binderpolymer enthält, und eine Schutzschicht, die auf einem Träger laminiert ist, in dieser Reihenfolge ein. Die Schutzschicht enthält eine Glimmerverbindung und mindestens einen Polyvinylalkohol, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 90 mol% oder weniger und einem säuremodifizierten Polyvinylalkohol besteht.
Jedes Strukturelement, das den erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer zusammensetzt, wird erläutert.
[Schutzschicht]
Die erfindungsgemäße Schutzschicht enthält eine Glimmerverbindung und mindestens einen Polyvinylalkohol, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Polyvinylakohol mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger und einem säuremodifizierten Polyvinylalkohol (nachstehend werden diese Polyvinylalkohole im Allgemeinen als "spezifische Polyvinylalkohole", gegebenenfalls, bezeichnet) besteht.
In dem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer ist die lichtempfindliche Schicht eine lichtempfindliche Schicht vom fotopolymerisierbaren negativen Typ (der nachstehend erläutert wird) und eine Schutzschicht wird daher gewöhnlich auf der lichtempfindlichen Schicht erzeugt, um eine Kontaminierung der lichtempfindlichen Schicht mit Sauerstoff und Feuchtigkeit, die in der Luft existieren, und niedermolekularen Verbindungen, wie etwa basischen Materialien, die eine Bilderzeugungsreaktion in der lichtempfindlichen Schicht inhibieren, da ein Belichtungsverfahren in der Luft durchgeführt wird, zu verhindern.
Die Schutzschicht kann hergestellt werden, um den vorstehend erwähnten spezifischen Polyvinylalkohol und eine Glimmerverbindung zu erhalten, um hierdurch eine herausragende Entwicklungsentfernbarkeit und Filmfestigkeit zu erreichen, und zudem Mattierungseigenschaften der Schutzschicht zu verliehen. Folglich besitzt die Schutzschicht Eigenschaften, dass neben dem Vorstehenden die Fähigkeit zum Ausschluss von Sauerstoff und dgl., die Schutzschicht die Fähigkeit zum Verhindern einer Verschlechterung, basierend auf einer Deformierung, besitzt und zudem in dem Entwicklungsschritt entfernt werden kann, sogar wenn ein Vor-Wasserwaschschritt weggelassen wird. Zudem werden die Mattierungseigenschaften der Schutzschicht verliehen. Daher ist es, wenn die erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer aufeinander laminiert werden, möglich, die Bindung zwischen der lichtempfindlichen Schichtseitenoberfläche (der Oberfläche der Schutzschicht) des Flachdruck-Druckplattenvorläufers und der Trägerseitenoberfläche des benachbarten Flachdruck-Druckplattenvorläufers zu verhindern.
Die Glimmerverbindung und der spezifische Polyvinylalkohol werden erläutert.
(Glimmerverbindung)
Beispiele für die Glimmerverbindung, die erfindungsgemäß verwendet wird, schließen Glimmer, wie etwa natürliche Glimmer und synthetische Glimmer, die durch die Formel A(B,C)₂-5D₄O₁₀(OH,F,O)₂ (worin A ein beliebiges aus K, Na und Ca darstellt, B und C jeweils ein beliebiges aus Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg und V darstellen und D Si oder Al darstellt).
Von den vorstehenden Glimmern schließen Beispiele für die natürlichen Glimmer Muscovit, Sodaglimmer, Phlogopit, Biotit und Lepidolit ein. Zudem schließen Beispiele für den synthetischen Glimmer nicht-anschwellbare Glimmer, wie etwa Fluormuscovit (KMg₃(AlSi₃O₁₀)F₂) und Kaliumtetrakieselsäureglimmer (KMg_2,5(Si₄O₁₀)F₂) und anschwellbare Glimmer, wie etwa Na-Tetrakieselsäureglimmer (NaMg_2,5(Si₄O₁₀)F₂), Na- oder Li-teniorit ((Na,Li)Mg₂Li(Si₄O₁₀)F₂) und Na- oder Li-Hectorit vom Montmorillonit-Typ ((Na,Li)_1/8Mg_2/5Li_1/8(Si₄O₁₀)F₂) ein. Zudem sind synthetische Smectit auch nützlich.
Erfindungsgemäß sind anschwellbare Glimmer vom Fluortyp von den vorstehenden Glimmerverbindungen insbesondere nützlich. Im Einzelnen besitzt dieser anschwellbare synthetische Glimmer eine laminierte Struktur, die eine Einheitskristall-Glimmerschicht mit einer Dicke von ungefähr 10 bis 15 Å umfasst, und die Intergittermetallatom-Substitution dieses anschwellbaren Glimmers ist bedeutend größer als diejenige von anderen Tonmineralien. Folglich fehlen der Gitterschicht positive Ladungen und daher werden positive Ionen, wie etwa Na⁺, Ca²⁺ und Mg²⁺ an den Gitterschichten adsorbiert und kompensieren so die fehlenden Ladungen. Diese positiven Ionen, die zwischen diesen Schichten eingefügt sind, werden austauschbare positive Ionen genannt und werden durch verschiedene positive Ionen ausgetauscht. Wenn das positive Ion zwischen Schichten insbesondere Li⁺ oder Na⁺ ist, besitzen diese Ionen einen kleinen Ionendurchmesser, so dass die Bindungsfestigkeit zwischen Schichtkristallgittern schwach ist und die Schicht auf erhebliche Weise anschwillt. Wenn eine Scherkraft auf diesen anschwellbaren synthetischen Glimmer angelegt wird, wird der Glimmer leicht gespalten, und bildet so ein stabiles Sol in Wasser. Diese Tendenz wird in diesen anschwellbaren synthetischen Glimmern gefestigt, die erfindungsgemäß nützlich sind und insbesondere anschwellbare synthetische Glimmer werden vorzugsweise verwendet.
Bezüglich der Form der erfindungsgemäß verwendeten Glimmerverbindung, ist die Glimmerverbindung vorzugsweise vom Standpunkt der Steuerung der Diffusion dünner und die Ebenengröße der Glimmerverbindung ist vorzugsweise insoweit größer, als die Glattheit der Beschichtungsoberfläche und das Transmissionsvermögen für aktive Strahlen nicht verschlechtert werden. Daher ist das Aspektverhältnis des Glimmers vorzugsweise 20 oder mehr, weiter bevorzugt 100 oder mehr und insbesondere bevorzugt 200 oder mehr. Es sei angemerkt, dass das Aspektverhältnis das Verhältnis der Hauptachse eines Teilchens zu der Dicke des Teilchens ist und aus einem projizierten Bild einer Mikrofotografie der Teilchen gemessen werden kann. Je größer das Aspektverhältnis ist, desto größer ist der erhaltene Effekt.
Bezüglich des Teilchendurchmessers der erfindungsgemäß zu verwendenden Glimmerverbindung, beträgt der durchschnittliche Hauptteilchendurchmesser des Glimmers 0,3 bis 20 μm, vorzugsweise 0,5 bis 10 μm und insbesondere bevorzugt 1 bis 5 μm. Zudem beträgt die durchschnittliche Dicke des Teilchens 0,1 μm oder weniger, vorzugsweise 0,05 μm oder weniger und insbesondere bevorzugt 0,01 μm oder weniger. Im Einzelnen ist die Größe von z. B. dem anschwellbaren synthetischen Glimmer, das eine typische Verbindung ist, wie folgt: 1 bis 50 nm und Ebenengröße (Hauptachse): ungefähr 1 bis 20 μm.
Die Menge der Glimmerverbindung, die in der Schutzschicht enthalten ist, liegt in dem Bereich von vorzugsweise 5 bis 55 Massen-% und weiter bevorzugt 10 bis 40 Massen-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der Schutzschicht. Wenn die Menge der Glimmerverbindung weniger als 5 Massen-% beträgt, besitzt die Glimmerverbindung keinen Bindungsbeständigkeitseffekt, wohingegen, wenn die Menge der Glimmerverbindung 55 Massen-% übersteigt, unzureichende Filmerzeugungseigenschaften erhalten werden, was zu einer reduzierten Empfindlichkeit führt.
Zudem liegt in dem Fall, dass mehrere Arten der Glimmerverbindung zusammen verwendet werden, das Verhältnis der Gesamtmenge dieser Glimmerverbindungen vorzugsweise in dem vorstehenden Bereich.
(Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von 90 mol% oder weniger und säuremodifizierten Polyvinylalkohol)
Die fundamentalen Eigenschaften, die für die Schutzschicht benötigt werden, die auf der lichtempfindlichen Schicht vom polymerisierbaren negativen Typ wie in dem erfindungsgemäßen Fall zu erzeugen ist, sind, dass die Schutzschicht eine niedrige Permeabilität gegenüber niedermolekularen Verbindungen, wie etwa Sauerstoff, besitzt, im Wesentlichen das Transmissionsvermögen für das zur Belichtung verwendete Licht inhibiert, eine überlegene Adhäsion an die lichtempfindliche Schicht besitzt und in dem Entwicklungsschritt nach Belichtung entfernt werden kann.
Um eine noch herausragendere Entwicklungsentfernbarkeit zusätzlich zu den fundamentalen Eigenschaften zu erhalten, die für eine solche Schutzschicht benötigt werden, ist es bevorzugt, mindestens einen Polyvinylalkohol zu verwenden, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Polyvinylalkoholen mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger und säuremodifizierten Polyvinylalkoholen, als die Binderkomponente der Schutzschicht, besteht.
Alle diese spezifischen Polyvinylalkohole besitzen die Eigenschaften, wie etwa herausragende Filmbildungseigenschaften und hohe Löslichkeit in einer Entwicklungslösung.
– Polyvinylalkohol mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger –
Der Polyvinylalkohol, der erfindungsgemäß verwendet wird und einen Verseifungswert von 90 mol% oder weniger besitzt, kann teilweise durch einen Ester, Ether und Acetal ersetzt werden, insoweit wie er eine unsubstituierte Vinylalkohol-Einheit enthält, die zum Bereitstellen einer Sauerstoffausschlussfähigkeit und Wasserlöslichkeit notwendig ist. Zudem kann ein Teil des Polyvinylalkohols genauso andere Copolymerisationskomponenten besitzen.
Im Allgemeinen besitzt ein PVA die Eigenschaften, dass der Verseifungswert des PVA, das zu verwenden ist, herabgesetzt wird (wenn der Gehalt der unsubstituierten Vinylalkoholeinheiten in der Schutzschicht verringert wird), die Sauerstoffausschlusseigenschaften verringert werden, was für die Empfindlichkeit nachteilhaft ist: jedoch wird die Entwicklungsentfernbarkeit verbessert. Andererseits verwendet die erfindungsgemäße Schutzschicht eine Kombination eines Polyvinylalkohols mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger und eine Glimmerverbindung, die später beschrieben wird, die es ermöglicht, die Filmfestigkeit der Schutzschicht zu verbessern und die Verringerung der Sauerstoffausschlusseigenschaften zu unterdrücken. Folglich ist es möglich, eine hohe Sensibilisierung und Entwicklungsentfernbarkeit gleichzeitig zu erreichen.
Ein solcher Polyvinylalkohol mit einem Verseifungswert von 90 mol% oder weniger ist vorzugsweise ein solcher mit einem Molekulargewicht in dem Bereich von 300 bis 2400. Spezifische Beispiele für diese Polyvinylalkohole schließen Polyvinylalkohole ein, die von Kuraray Ltd. hergestellt wurden, wie etwa PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613 und L-8.
– Säuremodifizierter Polyvinylalkohol –
Spezifische Beispiele für den säuremodifizierten Polyvinylalkohol, der erfindungsgemäß verwendet wird, schließen Carboxy-modifizierte Polyvinylalkohole, wie etwa Itaconsäure- oder Maleinsäure-modifizierte Polyvinylalkohole und Sulfonsäure-modifizierte Polyvinylalkohole ein. Beispiele für kommerzielle Produkte der säuremodififzierten Polyvinylalkohole schließen säuremodifizierte Polyvinylalkohole ein, die von Kuraray Ltd. hergestellt werden, wie etwa KL-504, KL-506, KL-318, KL-118, KM-618, KM-118 und SK-5102.
Die Komponenten (Auswahl des PVAs und der Glimmerverbindung und die Verwendung von Additiven), Beschichtungsmenge der Schutzschicht und dergleichen werden unter Berücksichtigung der Eintrübungseigenschaften, Adhäsion und Kratzbeständigkeit neben Sauerstoffausschlusseigenschaften und Entwicklungsentfernbarkeit ausgewählt.
Im Allgemeinen ist der spezifische Polyvinylalkohol in einer Menge in dem Bereich von vorzugsweise 45 bis 95 Massen-% und weiter bevorzugt 60 bis 90 Massen-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in der Schutzschutz enthalten. Wenn die Menge des Polyvinylalkohols weniger als 45 Massen-% beträgt, sind die Filmerzeugungseigenschaften unzureichend, was eine reduzierte Empfindlichkeit bewirkt. Wenn die Menge des Polyvinylalkohols 95 Massen-% übersteigt, wird der Effekt des spezifischen Polyvinylalkohols auf die Bindungsbeständigkeit kaum hergestellt.
Mindestens einer von den vorstehenden spezifischen Polyvinylalkoholen kann verwendet werden und mehrere Arten können verwendet werden. In dem Fall, dass mehrere spezifische Polyvinylalkohole zusammen verwendet werden, fällt die Gesamtmenge dieser Polyvinylalkohole vorzugsweise in den vorstehenden Bereich.
In der Zwischenzeit sind die Adhäsion an den Bildbereich der lichtempfindlichen Schicht und die Kratzbeständigkeit auch für die erfindungsgemäße Schutzschicht wichtig. Im Einzelnen wird, wenn eine hydrophile Schicht, die ein wasserlösliches Polymer umfasst, auf eine lithophile lichtempfindliche Schicht laminiert wird, Schichtabschälen leicht durch ein Fehlen der Adhäsion verursacht und der abgeschälte Teil führt zu einem Anstieg von Defekten, wie etwa Filmhärten, das aufgrund der Polymerisations-inhibierenden Wirkung von Sauerstoff schwächer ist. Um mit diesem Problem umzugehen, sind verschiedene Vorschläge gemacht worden, um die Adhäsion zwischen diesen zwei Schichten zu verbessern. Es wird z. B. in US-PS 292,501 und US-PS 44,563 beschrieben, dass eine ausreichende Adhäsion erhalten wird, indem 20 bis 60 Massen-% von z. B. einer acrylartigen Emulsion oder wasserunlöslichem Vinylpyrrolidon/Vinylacetat-Copolymer in einem hydrophilen Polymer unter Verwendung eines Polyvinylalkohols als eine Hauptkomponente vermischt werden und die resultierende Lösung auf die lichtempfindliche Schicht laminiert wird.
Beliebige dieser bekannten Technologien können auf die Schutzschicht erfindungsgemäß angewendet werden, insoweit wie dies den Effekt des vorstehend erwähnten spezifischen Polyvinylalkohols und der Glimmerverbindung, die in der Schutzschicht enthalten sind, nicht verschlechtert.
Insbesondere können in der erfindungsgemäßen Schutzschicht der vorstehend erwähnte spezifische Polyvinylalkohol und Polyvinylpyrrolidon zusammen als Binderkomponenten vom Standpunkt der Adhäsion an die lichtempfindliche Schicht, Empfindlichkeit und Beständigkeit gegenüber Erzeugung von nicht notwendiger Eintrübung verwendet werden. Zudem beträgt das Verhältnis (Massenverhältnis) des spezifischen Polyvinylalkohols/Polyvinylpyrrolidons vorzugsweise 3/1 oder weniger.
Zudem können neben diesem Polyvinylpyrrolidon Verbindungen, die eine relativ überlegene Kristallinität besitzen, wie etwa saure Cellulosen, Gelatine, arabischen Gummi, Polyacrylsäure und Copolymere dieser Verbindungen, auch zusammen verwendet werden.
Farbstoffe (wasserlösliche Farbstoffe), die ein hohes Transmissionsvermögen für Licht (erfindungsgemäßes IR-Licht), das zur Belichtung der lichtempfindlichen Schicht verwendet wird, und können das Licht mit Wellenlängen absorbieren, das nicht bei der Belichtung beteiligt ist, können in die erfindungsgemäße Schutzschicht zugegeben werden. Die Schutzschicht kann hierdurch in ihrer Sicherheitslichtanpassungsfähigkeit verbessert werden.
(Erzeugung der Schutzschicht)
Die erfindungsgemäße Schutzschicht wird erzeugt, indem eine Dispersionslösung, worin eine Glimmerverbindung dispergiert ist, hergestellt wird und indem eine Schutzschichtbeschichtungslösung, die durch Vermengen dieser Dispersionslösung und einer Binderkomponente, die den vorstehenden spezifischen Polyvinylalkohol (oder eine wässrige Lösung, worin eine Binderkomponente, die den vorstehenden spezifischen Polyvinylalkohol enthält) enthält, vermengt wird, auf der lichtempfindlichen Schicht aufgetragen wird.
Zunächst wird ein allgemeines Verfahren zum Dispergieren der Glimmerverbindung, die in der Schutzschicht verwendet wird, erläutert. Zunächst wurden 5 bis 10 Massenteile einer beliebigen der vorstehend erwähnten anschwellbaren Glimmerverbindung, als die bevorzugten Beispiele für die Glimmerverbindung, zu 100 Massenteilen Wasser gegeben, um die Glimmerverbindung zu Wasser einzustellen, wodurch es ermöglicht wurde, die Glimmerverbindung anzuschwellen. Dann wird die angeschwollene Glimmerverbindung einer Dispergiermaschine unterzogen, um die Glimmerverbindung zu dispergieren. Beispiele für die verwendete Dispergiermaschine schließen hierbei verschiedene Mühlen ein, die ein Zielmaterial durch mechanisch direkt auf das Zielmaterial ausgeübte. Kraft dispergieren, Dispergiermaschinen vom Hochgeschwindigkeitsrührtyp mit großer Scherkraft und Dispergiermaschinen, die eine hochintensivierte Ultraschallenergie ausüben, ein. Spezifische Beispiele für die Dispergiermaschinen schließen eine Kugelmühle, Sandmahlmühle, Visco-Mühle, Kolloidmühle, Homogenisiervorrichtung, Auflösungsvorrichtung, Polytron, Homomischvorrichtung, Homo-Blender, Keddy-Mühle, Strahlrührvorrichtung, Emulgiervorrichtung vom Kapillartyp, Flüssigkeitssirene, Ultraschallgenerator vom elektromagnetischen Verzerrungstyp und Emulgiervorrichtung mit einer Poleman-Pfeife. Eine Dispersion, die 2 bis 15 Massen-% Glimmerverbindung enthält, die durch Dispergieren unter Verwendung des vorstehenden Verfahrens erhalten wird, ist hochviskos oder besitzt eine Gelform und besitzt eine sehr hohe Aufbewahrungsstabilität.
Wenn diese Dispersion zur Herstellung einer Schutzschichtbeschichtungslösung verwendet wird, wird die Dispersion mit Wasser verdünnt und die Mischung wird gründlich verrührt und mit einer Binderkomponente, die einen spezifischen Polyvinylalkohol (oder eine wässrige Lösung, worin eine Binderkomponente, die den spezifischen Polyvinylalkohol enthält, aufgelöst wird) enthält, zur Herstellung der Beschichtungslösung vermengt.
Bekannte Additive, wie etwa Tenside, die die Beschichtungsfähigkeit verbessern, und wasserlösliche Weichmacher, die die Eigenschaften des Beschichtungsfilms verbessern, können zu dieser Schutzschicht-Beschichtungslösung zugegeben werden. Beispiele für den wasserlöslichen Weichmacher schließen Propionamid, Cyclohexandiol, Glycerin und Sorbitol ein. Zudem kann ein wasserlösliches (Meth)acrylpolymer auch zugegeben werden. Darüber hinaus können bekannte Additive, die die Adhäsion an die lichtempfindliche Schicht und die Stabilität der Beschichtungslösung mit der Zeit verbessern, zu dieser Beschichtungslösung zugegeben werden.
Keine besondere Beschränkung wird auf das Verfahren zum Auftragen der erfindungsgemäßen Schutzschicht gelegt und die Verfahren, die in US-PS 3,458,311 und JP-A 55-49729 beschrieben werden, können angewendet werden.
Die Menge der Schutzschicht, die erfindungsgemäß aufgetragen wird, beträgt vorzugsweise 0,5 g/m² bis 2,0 g/m². Die Menge der Schutzschicht beträgt weiter bevorzugt 0,75 g/m² bis 1,5 g/m². Wenn die Menge weniger als 0,5 g/m² beträgt, kann die Filmfestigkeit der Schutzschicht nicht beibehalten werden und die Kratzbeständigkeit wird daher verschlechtert. Wenn die Menge andererseits 2,0 g/m² übersteigt, wird das Licht, das auf die Schutzschicht durch Belichtung einfällt, gestreut, was ein verschlechtertes Bild hervorruft.
[Lichtempfindliche Schicht]
Die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers ist eine lichtempfindliche Schicht vom polymerisierbaren negativen Typ, die einen IR-Absorber, einen Polymerisationsinitiator, eine polymerisierbare Verbindung und ein Binderpolymer als wesentliche Komponenten, und falls benötigt, Farbstoffe und andere optionale Komponenten, enthält.
Die lichtempfindliche Schicht vom polymerisierbaren negativen Typ ist erfindungsgemäß gegenüber IR-Licht empfindlich und ist daher gegenüber einem IR-Laser lichtempfindlich, der für CTP nützlich ist. Der IR-Absorber, der an der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist, wird in einen elektronisch angeregten Zustand durch IR-Laserbestrahlung (Belichtung) hochsensibel gebracht. Elektronentransfer, Energietransfer und Wärmeerzeugung (Licht-Umwandlungsfunktion), die zu diesem elektronisch angeregten Zustand gehören, wirken auf den Polymerisationsinitiator, der in der lichtempfindlichen Schicht coexistiert, um eine chemische Änderung des Polymerisationsinitiators hervorzurufen, und erzeugen so Radikale.
Beispiele für die Radikalerzeugungsmechanismen schließen (1) einen Mechanismus, worin die Wärme, die durch die Licht-Wärmeumwandlungsfunktion eines IR-Absorbers erzeugt wird, die thermisch einen Polymerisationsinitiator (z. B. ein Sulfoniumsalz) zersetzt, der später erläutert wird, um Radikale zu erzeugen, (2) einen Mechanismus, worin angeregte Elektronen, die aus einem IR-Absorber zu einem Polymerisationsinitiator (z. B. einer aktivierten Halogenverbindung) unter Erzeugung von Radikalen übertragen werden und (3) einen Mechanismus, worin Elektronen, die aus einem Polymerisationsinitiator (z. B. einer Boratverbindung) einem angeregten IR-Absorber unter Erzeugung von Radikalen übertragen werden. Dann wird eine polymerisierbare Verbindung in eine Polymerisationsreaktion durch die erzeugten Radikale gebracht, um den belichteten Abschnitt zu härten, wobei eine Bildfläche erzeugt wird.
Die lichtempfindliche Schicht enthält den IR-Absorber in dem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer und der Flachdruck-Druckplattenvorläufer ist daher zur Plattenherstellung, worin ein Bild direkt durch einen IR-Laser mit einer Wellenlänge von 750 nm bis 1400 nm erzeugt wird, insbesondere geeignet. Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann höhere Bilderzeugungseigenschaften als herkömmliche Flachdruck-Druckplattenvorläufer entwickeln.
Jede Komponente, die in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht enthalten ist, wird nachstehend erläutert.
(IR-Absorber)
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht enthält einen IR-Absorber zur Entwicklung einer Energietransferfunktion und einer Licht-Wärmeumwandlungsfunktion.
Der IR-Absorber wird in einen elektronisch angeregten Zustand gebracht, der gegenüber IR-Laserbestrahlung (Belichtung) hochsensibel ist, und Elektronentransfer, Energietransfer und Wärmeerzeugung (Licht-Wärmeumwandlungsfunktion), die zu diesem elektronisch angeregten Zustand gehören, wirken auf den Initiator, der später beschrieben wird, und rufen so eine chemische Änderung des Polymerisationsinitiators unter Erzeugung von Radikalen hervor.
Der erfindungsgemäß verwendete IR-Absorber ist vorzugsweise ein Farbstoff oder ein Pigment mit einem Absorptionsmaximum bei einer Wellenlänge in dem Bereich von 750 nm bis 1400 nm.
Der Farbstoff kann ein beliebiger bekannter kommerzieller Farbstoff einschließlich derjenigen sein, die in Veröffentlichungen, wie etwa Senryo Binran (Dye Handbook) (veröffentlicht in 1970 und herausgegeben von der Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan) beschrieben werden. Beispiele für solche Farbstoffe schließen Azofarbstoffe, Metallkomplexsalzazofarbstoffe, Pyrazolonazofarbstoffe, Naphthochinonfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoff, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe und Metallthiolatkomplexe ein.
Bevorzugte Farbstoffe schließen Cyaninfarbstoffe, wie etwa diejenigen, die in Patentdruckschriften, wie etwa JP-A-58-125246 , 59-84356 , 59-202829 und 60-78787 , beschrieben werden, und die Methinfarbstoffe, die in JP-A-58-173696 , 58-181690 , 58-194595 etc. beschrieben werden, ein. Ferner werden die Naphthochinonfarbstoffe, die in JP-A-58-112793 , 58-224793 , 59-48187 , 59-73996 , 60-52940 , 60-63744 etc. beschrieben werden, die Squaryliumfarbstoffe, die in JP-A-58-112792 etc. beschrieben werden, und die Cyaninfarbstoffe, die in GB-PS 434,875 beschrieben werden, auch vorzugsweise verwendet.
Die Nah-IR-Strahlen-absorbierenden Sensibilisierungsmittel, die in US-PS 5,156,938 beschrieben werden, werden auch vorzugsweise verwendet. Auch vorzugsweise verwendet werden die substituierten Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die in US-PS 3,881,924 beschrieben werden; die Trimethinthiapyryliumsalze, die in JP-A-57-142645 ( US-PS 4,327,169 ) beschrieben werden; die pyryliumartigen Verbindungen, die in JP-A-58-181051 , 58-220143 , 59-41363 , 59-84248 , 59-84249 , 59-146063 und 59-146061 beschrieben werden; die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-59-216146 beschrieben werden; die Pentamethinthiopyryliumsalze, die in US-PS 4,283,475 beschrieben werden; und die Pyryliumverbindungen, die in JP-B-5-13514 und 5-19702 beschrieben werden. Andere bevorzugte Beispiele für die Farbstoffe schließen die Nah-IR-absorbierenden Farbstoffe der Formeln (I) und (II), die in US-PS 4,756,993 beschrieben werden, ein.
Andere bevorzugte Beispiele für den IR-absorbierenden Farbstoff schließen erfindungsgemäß spezifische Indolenincyaninfarbstoffe, die in JP-A-2001-6326 und 2001-237840 beschrieben werden, ein, wie nachstehend gezeigt.
Insbesondere bevorzugt von diesen Farbstoffen sind Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumsalze, Nickelthiolatkomplexe und Indolenincyaninfarbstoffe. Die Farbstoffe sind weiter bevorzugt Cyaninfarbstoffe und Indolenincyaninfarbstoffe, weiter bevorzugt Cyaninfarbstoffe der Formel (a). Formel (a)
In der Formel (a) stellt X¹ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -NPh₂, X²-L¹ oder eine nachstehend gezeigte Gruppe dar. X² stellt ein Sauerstoffatom, ein Stickstoffatom oder ein Schwefelatom dar, L¹ stellt eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, einen aromatischen Ring mit einem Heteroatom und eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, die ein Heteroatom enthalten, dar. Das Heteroatom bezeichnet ein N, S, O, Halogenatom oder Se. Xa^– besitzt die gleiche Bedeutung wie diejenige von Za^–, das nachstehend definiert wird, und R^a stellt eine Substituentengruppe dar, die aus einem Wasserstoffatom, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe, und einem Halogenatom ausgewählt ist.
R¹ und R² stellen unabhängig eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen dar. Zum Zweck der Stabilität der Beschichtungslösung der Beschichtungsschicht ist jedes aus R¹ und R² vorzugsweise eine Kohlenwasserstoffgruppe mit zwei oder mehr Kohlenstoffatomen, und weiter bevorzugt sind R¹ und R² miteinander unter Erzeugung eines 5- oder 6-gliedrigen Rings verbunden.
Ar¹ und Ar² können gleich oder verschieden sein und stellen jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe dar, die einen Substituenten besitzen kann. Die aromatische Kohlenwasserstoffgruppe ist vorzugsweise ein Benzolring oder ein Naphthalinring. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, ein Halogenatom oder eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. Y¹ und Y² können gleich oder verschieden sein und stellen jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R³ und R⁴ können gleich oder verschieden sein und stellen jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe besitzen können. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe oder eine Sulfogruppe. R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸ können gleich oder verschieden sein und stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. Jedes aus R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸ ist vorzugsweise ein Wasserstoffatom, da das Ausgangsmaterial leicht verfügbar ist. Za^– stellt ein Gegenanion dar. Wenn der Cyaninfarbstoff, der durch die Formel (a) dargestellt wird, jedoch einen anionischen Substituenten in seiner Struktur besitzt und keine Neutralisierung der Ladung benötigt, ist Za^– nicht notwendig. Zum Zweck der Lagerfähigkeit der Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht ist Za^– vorzugsweise ein Halogenion, ein Perchloration, ein Tetrafluorboration, ein Hexafluorphosphation oder ein Sulfonation, insbesondere bevorzugt ein Perchloration, ein Hexafluorphosphation oder ein Arylsulfonation.
Beispiele für die Cyaninfarbstoffe der Formel (a), die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden können, schließen diejenigen ein, die in Spalten [0017] bis in [0019] in JP-A-2001-133969 beschrieben werden.
Andere bevorzugte Beispiele für das erfindungsgemäße IR-Absorptionsmittel schließen spezifische Indolenincyaninfarbstoffe, die in JP-A-2001-6326 und 2001-237840 supra beschrieben werden.
Die Cyaninfarbstoffe der Formel (a) sind insbesondere bevorzugt ein Farbstoff, der kein Halogenion als Gegenion enthält.
Beispiele für das Pigment schließen kommerziell verfügbare Pigmente und diejenigen die in Color Index (C. I.) Handbook, Saishin Ganryo Binran (Latest Dye Handbook) (veröffentlicht in 1977 und herausgegeben von der Japanese Society of Pigment Technology); Saishin Ganryho Oyo Gijyutsu (Latest Pigment Applied Technology) (veröffentlicht in 1986 von CMC Publishing Co., Ltd.); und in Insatsu Inki Gijyutsu (Printing Ink Technology) (veröffentlicht in 1984 von CMC Publishing Co., Ltd.) beschrieben werden.
Beispiele für das Pigment schließen schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orangefarbene Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente, und andere Pigmente, wie etwa Polymer-bindende Farbstoffe, ein. Spezifische Beispiele für bevorzugte Pigmente schließen unlösliche Azopigmente, Azobeizenfarbstoffpigmente, kondensierte Azopigmente, Chelatazopigmente, Phthalocyaninartige Pigmente, Anthrachinon-artige Pigmente, Perylen- und Perinon-artige Pigmente, Thioindigo-artige Pigmente, Chinacridon-artige Pigmente, Dioxazin-artige Pigmente, Isoindolinon-artige Pigmente, Chinophthalon-artige Pigmente, gefärbte Beizenfarbstoffpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß, das von diesen bevorzugt ist, ein.
Die Pigmente können einer Oberflächenbehandlung unterzogen werden oder nicht. Verfahren zur Oberflächenbehandlung schließen Beschichtung der Oberfläche mit Harz oder Wachs; Ermöglichen, dass ein Tensid an die Oberfläche anhaftet; und Binden eines reaktiven Materials (z. B. Silankupplungsmittel, eine Epoxidverbindung, ein Polyisocyanat, etc.) auf die Oberfläche des Pigments ein. Diese Verfahren zur Oberflächenbehandlung werden in Kinzoku Sekken No Seishitsu To Oyo (Properties and Application of Metallic Soap) (Sachi Shobo); Insatsu Inki Gijyutsu (Printing Ink Technology) (veröffentlicht in 1984 durch CMC Publishing Co., Ltd.); und in Saishin Ganryho Oyo Gijyutsu (Latest Pigment Applied Technology) (veröffentlicht in 1986 von CMC Publishing Co., Ltd.) beschrieben.
Die Teilchendurchmesser der Pigmente liegen in dem Bereich von vorzugsweise 0,01 bis 10 μm, weiter bevorzugt 0,05 bis 1 μm, insbesondere bevorzugt 0,1 bis 1 μm. Wenn die Teilchendurchmesser in dem bevorzugten Bereich liegen, können die Dispersionsstabilität der Pigmente in der Beschichtungslösung und die Gleichförmigkeit der lichtempfindlichen Schicht erreicht werden.
In dem Verfahren zum Dispergieren des Pigments können bekannte Dispergiermaschinen, die weithin bei der Herstellung von Tinten oder Tonern verwendet werden, und Dispergiermittel in geeigneter Weise ausgewählt werden. Beispiele für geeignete Dispergiermaschinen schließen eine Ultraschalldispergiervorrichtung, Sandmühle, Zerkleinerungsvorrichtung, Perlenmühle, Supermühle, Kugelmühle, Propeller, Dispergiervorrichtung, KD-Mühle, Kolloidmühle, Dynatron, Dreifachwalzenmühle, Pressknetvorrichtung etc. ein. Diese werden detailliert in der vorstehend erwähnten Saishin Ganryho Oyo Gijyutsu (Latest Newest Pigment Applied Technology) (veröffentlicht in 1986 von CMC Publishing Co., Ltd.) beschrieben.
Die vorstehend erwähnten IR-Adsorptionsmittel können zusammen mit anderen Komponenten zu der gleichen oder einer separat bereitgestellten Schicht in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht zugegeben werden.
Diese IR-Absorptionsmittel können in einem Verhältnis von 0,01 bis 50 Massen-%, weiter bevorzugt 0,1 bis 10 Massen-%, zugegeben werden und als das IR-Absorptionsmittel kann der Farbstoff in dem Bereich von 0,5 bis 10 Massen-% zugegeben werden, und das Pigment kann in dem Bereich von 0,1 bis 10 Massen-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in der lichtempfindlichen Schicht, vom Standpunkt der Gleichförmigkeit und Haltbarkeit der lichtempfindlichen Schicht zugegeben werden.
(Polymerisationsinitiator)
Eine beliebige Verbindung kann als der erfindungsgemäß verwendete Polymerisationsinitiator verwendet werden, insoweit wie er die Fähigkeiten zum Initiieren und zum Fördern einer Reaktion zur Härtung einer polymerisierbaren Verbindung besitzt, die später erläutert wird und Radikale durch Zuführung von Energie erzeugt: Beispiele für diese Verbindungen schließen kernisch zersetzbare Radikalerzeugungsmittel, die durch Wärme unter Erzeugung von Radikalen zersetzt werden, Radikalerzeugungsmittel vom Elektronentransfertyp, die angeregte Elektronen eines IR-Adsorbers unter Erzeugung von Radikalen empfangen, oder Radikalerzeugungsmittel vom Elektronentransfertyp, die Elektronen auf einen angeregten IR-Absorber unter Erzeugung von Radikalen übertragen, ein. Beispiele für diese Verbindungen schließen Oniumsalze, aktivierte Halogenverbindungen, Oximesterverbindungen und Boratverbindungen ein. Zwei oder mehrere dieser Verbindungen können zusammen verwendet werden. Erfindungsgemäß sind Oniumsalze bevorzugt und von den Oniumsalzen sind Sulfoniumsalze insbesondere bevorzugt.
Der Sulfonoiumsalz-Polymerisationsinitiator, der vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, schließt Oniumsalze der folgenden Formel (1) ein. (Formel 1):
In Formel (1) stellen R¹¹, R¹² und R¹³ jeweils unabhängig eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die eine Substituentengruppe besitzen kann, dar. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, oder eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. (Z¹¹)^– stellt ein Gegenion dar, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Halogenion, einem Perchloration, einem Tetrafluorboration, einem Hexafluorphosphation, einem Carboxylation und einem Sulfonation, vorzugsweise einem Perchloration, einem Hexafluorphosphation, einem Carboxylation und einem Arylsulfonation, besteht.
Nachstehend werden Beispiele für die Oniumsalze ([OS-1] bis [OS-12]) der Formel (1) aufgezählt, aber die Oniumsalze sind nicht hierauf begrenzt.
Zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen können spezifische aromatische Sulfoniumsalze, die in JP-A-2002-148790 , 2002-350207 und 2002-6482 beschrieben sind, auch vorzugsweise verwendet werden.
Erfindungsgemäß können andere Polymerisationsinitiatoren (andere Radikal erzeugende Mittel), die sich von dem Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator unterscheiden, verwendet werden. Die anderen Radikalerzeugungsmittel schließen Oniumsalze (ausschließlich Sulfoniumsalze), Triazinverbindungen mit einer Trihalomethylgruppe, Peroxide, Polymerisationsinitiatoren vom Azotyp, Azidverbindungen, Chinondiazid, aktivierte Halogenverbindungen, Oximesterverbindungen und Triarylmonoalkylboratverbindungen ein. Von diesen Verbindungen sind die Oniumsalze hochempfindlich und werden vorzugsweise verwendet. Diese Polymerisationsinitiatoren (Radikal-erzeugende Mittel) können in Kombination mit dem Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator verwendet werden.
Beispiele für die Oniumsalze, die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden können, schließen Iodoniumsaize und Diazoniumsalze ein. Erfindungsgemäß fungieren diese Oniumsalze nicht als Säure-erzeugende Mittel sondern als radikalische Polymerisationsinitiatoren.
Beispiele für die Oniumsalze, die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden, schließen Oniumsalze der Formeln (2) und (3) ein.
Formel (2)

Ar²¹-I⁺-Ar²²(Z²¹)^–

Formel (3)

Ar³¹-N⁺≡N(Z³¹)^–

In Formel (2) stellen Ar²¹ und Ar²² jeweils unabhängig eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die eine Substituentengruppe besitzen kann. Wenn diese Arylgruppe eine Substituentengruppe besitzt, ist die Substituentengruppe vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, oder eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. (Z²¹)^– stellt ein Gegenion mit der gleichen Bedeutung wie für (Z¹¹)^– dar.
In der Formel (3) stellt Ar³¹ eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die eine Substituentengruppe besitzen kann, dar. Die Substituentengruppe ist vorzugsweise ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen oder eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Dialkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Arylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, oder eine Diarylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen. (Z³¹)^– stellt ein Gegenion mit der gleichen Bedeutung wie für (Z¹¹)^– dar. Bevorzugte Beispiele für die Iodoniumsalze ([OI-1] bis [OI-10] der Formel (2) und die Diazoniumsalze ([ON-1] bis [ON-5]) der Formel (3) werden nachstehend erwähnt, aber die Oniumsalze sind nicht hierauf begrenzt.
Erfindungsgemäß schließen Beispiele für die Oniumsalze, die vorzugsweise als der Polymerisationsinitiator (Radikal erzeugendes Mittel) verwendet werden, diejenigen, die in JP-A-2001-133696 beschrieben sind, ein.
Der Polymerisationsinitator (Radikal erzeugendes Mittel), das erfindungsgemäß verwendet wird, besitzt eine maximale Absorptionswellenlänge von vorzugsweise 400 nm oder weniger, weiter bevorzugt 360 nm oder weniger. Indem das Radikal erzeugende Mittel mit seiner Absorptionswellenlänge in dem UV-Bereich verwendet wird, kann der Flachdruck-Druckplattenvorläufer unter einer Glühlampe gehandhabt werden.
Vom Standpunkt der Empfindlichkeit und der Erzeugung von Verschmutzung in einem Nicht-Bildbereich zur Zeit des Druckens beträgt der Gesamtgehalt des Polymerisationsinitiators erfindungsgemäß 0,1 bis 50 Massen-%, und vorzugsweise 0,5 bis 30 Massen-%, weiter bevorzugt 1 bis 20 Massen-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in der lichtempfindlichen Schicht.
Erfindungsgemäß können nur ein Polymerisationsinitiator oder zwei oder mehrere Polymerisationsinitiatoren verwendet werden. Wenn zwei oder mehrere Polymerisationsinitiatoren in Kombination verwendet werden, z. B. zwei oder mehrere Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiatoren, können z. B. zwei oder mehrere Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiatoren, die vorzugsweise verwendet werden, verwandt werden, oder der Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator kann in Kombination mit einem anderen Polymerisationsinitiator verwendet werden.
Wenn der Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator in Kombination mit einem anderen Polymerisationsinitiator verwendet wird, beträgt das Verhältnis (Massenverhältnis) des Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiators zu dem anderen Polymerisationsinitiator vorzugsweise 100/1 bis 100/50, weiter bevorzugt 100/5 bis 100/25.
Der Polymerisationsinitiator kann, zusammen mit anderen Komponenten, zu der gleichen Schicht oder zu einer separat bereitgestellten Schicht gegeben werden.
In dem Fall der Verwendung eines hochempfindlichen Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiators, der als der Polymerisationsinitiator in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht erwünscht ist, treibt eine radikalische Polymerisationsreaktion effizient voran und macht das erzeugte Bild so sehr stark. Demgemäß wird eine Flachdruck-Druckplatte mit Sauerstoffausschlussfunktion, die durch die starke Schutzschicht erhalten wurde, später erläutert werden und zudem kann eine hohe Festigkeit eines Bildbereichs hergestellt werden, mit der Folge, dass seine Druckhaltbarkeit weiter verbessert wird. Zudem gilt es, da der Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator selbst eine überlegene Stabilität mit der Zeit besitzt, den Vorteil, dass die Erzeugung einer unerwünschten Polymerisationsreaktion effizient unterdrückt wird, wenn der hergestellte Flachdruck-Druckplattenvorläufer gelagert wird.
(Polymerisierbare Verbindung)
Die erfindungsgemäß verwendete polymerisierbare Verbindung ist eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung und ist aus Verbindungen mit jeweils mindestens einer (vorzugsweise zwei oder mehreren) ethylenisch ungesättigten Bindungen ausgewählt. Eine Gruppe von solchen Verbindungen ist weithin auf diesem industriellen Gebiet bekannt, und erfindungsgemäß können diese Verbindungen ohne besondere Beschränkung verwendet werden. Diese Verbindungen treten in chemischen Formeln, wie etwa Monomeren, Präpolymeren, d. h., Dimeren, Trimeren und Oligomeren, genauso wie deren Mischungen und deren Copolymeren auf. Beispiele für solche Monomere und Copolymere schließen ungesättigte Carbonsäuren (z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure etc.) und deren Ester und Amide ein, und unter diesen vorzugsweise verwendet werden Ester zwischen ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindungen und Amiden zwischen ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Aminverbindungen. Auch von diesen Verbindungen vorzugsweise verwendet werden ungesättigte Carboxylate mit nukleophilen Substituentengruppen, wie etwa Hydroxylgruppe, Aminogruppe, Mercaptogruppe etc., Additionsreaktionsprodukten von Amiden mit monofunktionalen oder multifunktionalen Isocyanaten oder Epoxidverbindungen, und Dehydratisationskondensationsreaktionsprodukte von Amiden mit monofunktionalen oder multifunktionalen Carbonsäuren. Zudem werden von diesen Verbindungen vorzugsweise verwendet ungesättigte Carboxylate mit elektrophilen Substituentengruppen, wie etwa Isocyanatgruppe, Epoxidgruppe etc., Additionsreaktionsprodukte von Amiden mit monofunktionalen oder multifunktionalen Alkoholen, Aminen oder Thiolen, ungesättigte Carboxylate mit eliminierenden Substituentengruppen, wie etwa Halogengruppe, Tosyloxygruppe etc., und Substitutionsreaktionsprodukte von Amiden mit monofunktionalen oder multifunktionalen Alkoholen, Aminen oder Thiolen. Eine Gruppe von diesen Verbindungen, worin die vorstehend beschriebenen Carbonsäuren durch ungesättigte Phosphonsäure, Styrol, Vinylether etc. ersetzt worden ist, kann auch verwendet werden.
Als die Estermonomeren zwischen aliphatischen mehrwertigen Alkoholen und ungesättigten Carbonsäuren schließen die Acrylate Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetracrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritolhexacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetracrylat, Sorbitolpentacrylat, Sorbitolhexacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Polyesteracrylatoligomere etc. ein.
Die Methacrylate schließen Tetramethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykol, Dimethacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Pentaerythritoltrimethacrylat, Pentaerythritoltetramethacrylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritolhexamethacrylat, Sorbitoltrimethacrylat, Sorbitoltetramethacrylat, Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethan, Bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan etc. ein.
Die Itaconate schließen Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritoldiitaconat, Sorbitoltetraitaconat etc. ein.
Die Crotonate schließen Ethylenglykoldicrotonat, Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritoldicrotonat, Sorbitoltetradicrotonat etc. ein.
Die Isocrotonate schließen Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritoldiisocrotonat, Sorbitoltetraisocrotonat etc. ein.
Die Maleate schließen Ethylenglykoldimaleat, Triethylenglykoldimaleat, Pentaerythritoldimaleat, Sorbitoltetramaleat etc. ein.
Andere vorzugsweise verwendete Ester schließen z. B. aliphatischen Alkohol-basierte Ester, die in JP-B-46-27926 , 51-47334 und JP-A-57-196231 beschrieben werden, diejenigen mit einem aromatischen Gerüst, die in JP-A-59-5240 , 59-5241 und 2-226149 beschrieben werden, und diejenigen mit einer Aminogruppe, die in JP-A-1-165613 beschrieben werden, ein. Die Estermonomere können auch als Mischung verwendet werden.
Die Amidmonomere zwischen aliphatischen mehrwertigen Aminverbindungen und ungesättigten Carbonsäuren schließen z. B. Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylsmid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid, Xylylenbismethacrylamid etc. ein. Bevorzugte Beispiele für andere Monomere vom Amidtyp schließen diejenigen mit einer Cyclohexylenstruktur, die in JP-B-54-21726 beschrieben sind, ein.
Additionspolymerisierbare Verbindungen vom Urethantyp, die durch Additionsreaktion zwischen Isocyanaten und Hydroxylgruppen hergestellt wurden, sind auch bevorzugt, und Beispiele hierfür schließen Vinylurethanverbindungen, die zwei oder mehrere polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül enthalten, die durch Addition von Vinylmonomeren, die eine Hydroxylgruppe enthalten, die in nachstehender Formel gezeigt werden, zu Polyisocyanatverbindungen mit zwei oder mehreren Isocyanatgruppen in einem Molekül hergestellt werden, wie in JP-B-48-41708 beschrieben, ein.
Formel

CH₂=C(R^a)COOCH₂CH(R^b)OH

In der Formel stellen R^a und R^b jeweils unabhängig H oder CH₃ dar.
Urethanacrylate, die in JP-A-51-37193 , JP-B-2-32293 und 2-16765 beschrieben sind, und Urethanverbindungen mit einem Gerüst vom Ethylenoxid-Typ, die in JP-B-58-49860 , 56-17654 , 62-39417 und 62-39418 beschrieben sind, sind auch bevorzugt. Additionspolymerisierbare Verbindungen mit einer Aminostruktur oder Sulfidstruktur in dem Molekül, wie in JP-A-63-277653 , 63-260909 und 1-105238 beschrieben sind, können zur Herstellung von fotopolymerisierbaren Zusammensetzungen mit extrem herausragender Fotosensibilisierungsgeschwindigkeit verwendet werden. Als andere Beispiele können multifunktionale Acrylate und Methacrylate, wie etwa Polyacrylate und Epoxidacrylate, die durch Umsetzen von Epoxidharz mit (Meth)acrylsäure erhalten wurden, wie in JP-A-48-64183 , JP-B-49-43191 und 52-30490 beschrieben, können erwähnt werden. Spezifische ungesättigte Verbindungen, die in JP-B-46-43946 , 1-40337 und 1-40336 beschrieben sind und Verbindungen vom Vinylphosphonsäuretyp, die in JP-A-2-25493 beschrieben sind, können auch erwähnt werden. In einigen Fällen wird eine Struktur, die eine Perfluoralkylgruppe enthält, die in JP-A-61-22048 beschrieben ist, vorzugsweise verwendet. Fotohärtbare Monomere und Oligomere, die in Journal of Japanese Adhesive Society, Band 20, Nr. 7, Seiten 300-308 (1984) beschrieben sind, können auch verwendet werden.
Details für ein Verfahren zur Verwendung dieser additionspolymerisierbaren Verbindungen, z. B. deren Struktur, Einzelverwendung oder Kombinationsverwendung, und Verwendungsmenge, kann willkürlich abhängig von der Endleistung und der Auslegung des Materials bestimmt werden. Zum Beispiel sind sie aus den folgenden Gesichtspunkten ausgewählt. Vom Standpunkt der Fotosensibilisierungsgeschwindigkeit besitzen die additionspolymerisierbaren Verbindungen vorzugsweise viele ungesättigte Gruppen in einem Molekül, und in vielen Fällen sind sie vorzugsweise bifunktional oder höherfunktional. Zur Erhöhung der Festigkeit der Bildflächen, d. h. der gehärteten Schicht, sind sie vorzugsweise trifunktional oder höherfunktional. Es ist auch effektiv, ein Verfahren zum Regulieren sowohl der Fotosensibilität als auch der Festigkeit durch kombinierte Verwendung von Verwendungen (z. B. Acrylaten, Methacrylaten, Verbindungen vom Styroltyp, und Verbindungen vom Vinylethertyp) mit unterschiedlichen Funktionalitäten und verschiedenen polymerisierbaren Gruppen zu verwenden. Die höhermolekularen Verbindungen oder hochhydrophoben Verbindungen können, obwohl sie eine herausragende Fotosensibilisierungsgeschwindigkeit und Filmfestigkeit besitzen, in einigen Fällen hinsichtlich der Entwicklungsgeschwindigkeit und Ausfällung in der Entwicklungslösung unerwünscht sein. Das Verfahren zum Ausbilden und Verwenden der additionspolymerisierbaren Verbindung ist ein wichtiger Faktor für die Kompatibilität und Dispergierfähigkeit mit anderen Komponenten (z. B. einem Binderpolymer, einem Initiator, einem Farbstoff etc.) in der lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung, und die Kompatibilität kann verwendet werden, indem z. B. eine Verbindung mit niedriger Reinheit oder eine Kombination aus zwei oder mehreren Verbindungen verwendet wird.
In einem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann eine spezifische Struktur zum Zweck des Verbesserns des Additionsvermögens einen Träger, eine später beschriebene Schutzschicht etc. ausgewählt werden.
Bezüglich des Gehalts der additionspolymerisierbaren Verbindung in der lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung wird die additionspolymerisierbare Verbindung vorzugsweise in einer Menge von 5 bis 80 Massen-% und weiter bevorzugt 40 bis 75 Massen-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt in der lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung vom Standpunkt der Empfindlichkeit, Erzeugung von Phasenseparation, Adhäsion der lichtempfindlichen Schicht und auch Ausfällungseigenschaften aus einer Entwicklungslösung verwendet.
Diese Verbindungen können allein oder in ihrer Kombination verwendet werden. Vom Standpunkt des Inhibierungsgrads der Polymerisation durch Sauerstoff, Auflösung, Eintrübung, Änderung des Reflexionsvermögens und Oberflächenadhäsion, kann eine geeignete Struktur, Vermischen und Menge davon willkürlich in dem Verfahren zur Verwendung der additionspolymerisierbaren Verbindung ausgewählt werden. In einem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann eine Schichtstruktur und ein Beschichtungsverfahren, wie etwa Unterbeschichten und Überbeschichten, wenn notwendig, verwendet werden.
(Binderpolymer)
Vom Standpunkt des Verbesserns der Schichterzeugungseigenschaften umfasst die lichtempfindliche Schicht erfindungsgemäß vorzugsweise ein Binderpolymer, insbesondere bevorzugt ein Binderpolymer mit einer Wiederholungseinheit der Formel (i). Das Binderpolymer mit einer Wiederholungseinheit der Formel (i) wird auch als "spezifisches Binderpolymer" bezeichnet und nachstehend detaillierter beschrieben. Formel (i)
In der Formel (i) stellt R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe dar; R² stellt eine Verbindungsgruppe dar, die zwei oder mehrere Atome enthält, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom bestehen, und die Gesamtzahl der Atome in R² beträgt 2 bis 82; A stellt ein Sauerstoffatom oder -NR³- dar, worin R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen darstellt; und n eine ganze Zahl von 1 bis 5 ist.
R¹ in der Formel (i) stellt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, vorzugsweise eine Methylgruppe, dar.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² in der Formel (i) dargestellt wird, ist eine Verbindungsgruppe, die zwei oder mehrere Atome enthält, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom bestehen, und die Gesamtzahl der Atome in R² beträgt 2 bis 82, vorzugsweise 2 bis 50, und weiter bevorzugt 2 bis 30. Die Gesamtzahl der Atome bezeichnet die Anzahl von Atomen einschließlich Atomen in einer Substituentengruppe, sofern auf der Verbindungsgruppe vorhanden. Im Einzelnen beträgt die Anzahl von Kohlenstoffatomen in dem Hauptgerüst der Verbindungsgruppe, die durch R² dargestellt wird, vorzugsweise 1 bis 30, weiter bevorzugt 3 bis 25, insbesondere bevorzugt 4 bis 20, und höchstbevorzugt 5 bis 10. Das "Hauptgerüst der Verbindungsgruppe" bezeichnet erfindungsgemäß ein Atom oder eine Atomgruppe, die beim Verbinden A an das Ende COOH in der Formel (i) verwendet wird, und wenn eine Mehrzahl von Verbindungen vorhanden sind, bezeichnet das Hauptgerüst ein Atom oder eine Atomgruppe, die eine Verbindung mit der kleinsten Anzahl von Atomen zusammensetzt. Demgemäß sind, wenn die Verbindungsgruppe eine zyklische Struktur besitzt, ihre Verbindungsstellen (z. B. o-, m-, p- etc.) in der Anzahl von Atomen, die in diese einzuführen sind, unterschiedlich.
Spezifische Beispiele für die Verbindungsgruppe, die durch R² dargestellt wird, schließen eine Alkylengruppe, eine substituierte Alkylengruppe, eine Arylengruppe und eine substituierte Arylengruppe, ein, und diese zweiwertigen Gruppen können in einer Kettenstruktur sein, die aneinander über Amid- oder Esterbindungen gebunden sind.
Verbindungsgruppen in der Kettenstruktur schließen Ethylen, Propylen etc. ein. Eine Struktur, die diese Alkylengruppen umfasst, die aneinander über Esterverbindungen gebunden sind, ist auch bevorzugt.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² in Formel (i) dargestellt wird, ist vorzugsweise eine (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe mit einer alicyclischen Struktur mit 3 bis 30 Kohlenstoffatomen. Beispiele hierfür schließen (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppen ein, die durch Entfernen (n + 1)-Wasserstoffatomen auf willkürlichen Kohlenstoffatomen, die Verbindungen mit einer alicyclischen Struktur zusammensetzen, ein, wie etwa Cyclopropan, Cyclopentan, Cyclohexan, Cycloheptan, Cyclooctan, Cyclodecan, Dicyclohexyl, tertiäres Cyclohexyl und Norbornan, die mit einer oder mehreren willkürlichen Substituentengruppen substituiert sein können. R² ist vorzugsweise eine solche, die 3 bis 30 Kohlenstoffatome einschließlich Kohlenstoffatomen in einer Substituentengruppe, sofern vorhanden, enthält.
Die willkürlichen Kohlenstoffatome in einer Verbindung, die eine alicyclische Struktur zusammensetzt, kann mit einem oder mehreren Heteroatomen substituiert sein, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom und einem Schwefelatom besteht. Hinsichtlich der Druckhaltbarkeit ist R² vorzugsweise eine (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe mit einer alicyclischen Struktur, die eine Substituentengruppe mit 5 bis 30 Kohlenstoffatomen besitzen kann, die zwei oder mehrere Ringe besitzt, wie etwa einen kondensierten polycyclischen aliphatischen Kohlenwasserstoff, einen vernetzten alicyclischen Kohlenwasserstoff, spiroaliphatischen Kohlenwasserstoff und kombinierte aliphatische Kohlenwasserstoffringe (mehrere Ringe, die direkt oder über Verbindungsgruppen kombiniert sind). Die Anzahl von Kohlenstoffatomen bezeichnet die Anzahl von Kohlenstoffatomen einschließlich Kohlenstoffatomen in einer Substituentengruppe, sofern vorhanden.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² dargestellt wird, ist vorzugsweise eine Gruppe, die 5 bis 10 Atome enthält, die eine Hauptstruktur der Verbindungsgruppe zusammensetzen, mit einer cyclischen Struktur, die eine Esterbindung oder die cyclische Struktur, die vorstehend beschrieben wurde, enthält.
Eine Substituentengruppe, die in die Verbindungsgruppe eingeführt werden, die durch R² dargestellt wird, schließt eine einwertige Nichtmetallatomgruppe ausschließlich Wasserstoff ein, und Beispiele hierfür schließen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), Hydroxylgruppe, Alkoxygruppe, Aryloxygruppe, Mercaptogruppe, Alkylthiogruppe, Arylthiogruppe, Alkyldithiogruppe, Aryldithiogruppe, Aminogruppe, N-Alkylaminogruppe, N,N-Dialkylaminogruppe, N-Arylaminogruppe, N,N-Diarylaminogruppe, N-Alkyl-N-arylaminogruppe, Acyloxygruppe, Carbamoyloxygruppe, N-Alkylcarbamoyloxygruppe, N-Arylcarbamoyloxygruppe, N,N-Dialkylcarbamoyloxygruppe, N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, Alkylsulfoxygruppe, Arylsulfoxygruppe, Acylthiogruppe, Acylaminogruppe, N-Alkylacylaminogruppe, N-Arylacylaminogruppe, Ureidogruppe, N'-Alkylureidogruppe, N',N'-Dialkylureidogruppe, N'-Arylureidogruppe, N',N'-Diarylureidogruppe, N'-Alkyl-N'-arylureidogruppe, N-Alkylureidogruppe, N-Arylureidogruppe, N'-Alkyl-N-alkylureidogruppe, N'-Alkyl-N-arylureidogruppe, N',N'-Dialkyl-N-alkylureidogruppe, N',N'-Dialkyl-N-arylureidogruppe, N'-Aryl-N-alkylureidogruppe, N'-Aryl-N-arylureidogruppe, N',N'-Diaryl-N-alkylureidogruppe, N',N'-Diaryl-N-arylureidogruppe, N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureidogruppe, N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureidogruppe, Alkoxycarbonylaminogruppe, Aryloxycarbonylaminogruppe, N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, N-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, N-Aryl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, N-Aryl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, Formylgruppe, Acylgruppe, Carboxylgruppe and ihre konjugierte basische Gruppe, Alkoxycarbonylgruppe, Aryloxycarbonylgruppe, Carbamoylgruppe, N-Alkylcarbamoylgruppe, N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, N-Arylcarbamoylgruppe, N,N-Diarylcarbamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, Alkylsulfinylgruppe, Arylsulfinylgruppe, Alkylsulfonylgruppe, Arylsulfonylgruppe, Sulfogruppe (-SO₃H) and ihre konjugierte basische Gruppe, Alkoxysulfonylgruppe, Aryloxysulfonylgruppe, Sulfinamoylgruppe, N-Alkylsulfinamoylgruppe, N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, N-Arylsulfinamoylgruppe, N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, Sulfamoylgruppe, N-Alkylsulfamoylgruppe, N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, N-Arylsulfamoylgruppe, N,N-Diarylsulfamoylgruppe, N-Alkyl-N-arylsulfamoylgruppe, N-Acylsulfamoylgruppe und ihre konjugierte basische Gruppe, N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe), N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Alkoxysilylgruppe (-Si(O-alkyl)₃), Aryloxysilylgruppe (-Si(O-aryl)₃), Hydroxylylgruppe (-Si(OH)₃) und ihre konjugierte basische Gruppe, Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe, Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)₂), Diarylphosphonogruppe (-PO₃(aryl)₂), Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)(aryl)), Monoalkylphosphonogruppe (-PO₃H(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Phosphonoxygruppe (-OPO₃H₂) und ihre konjugierte basische Gruppe, Dialkylphosphonoxygruppe (-OPO₃(alkyl)₂), Diarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(aryl)₂), Alkylarylphosphonoxygruppe (-OPO₃(alkyl)(aryl)), Monoalkylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(alkyl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Monoarylphosphonoxygruppe (-OPO₃H(aryl)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Cyanogruppe, Nitrogruppe, Dialkylborylgruppe (-B(alkyl)₂), Diarylborylgruppe (-B(aryl)₂), Alkylarylborylgruppe (-B(alkyl)(aryl)), Dihydroxyborylgruppe (-B(OH)₂) und ihre konjugierte basische Gruppe, Alkylhydroxyborylgruppe (-B(alkyl)(OH)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Arylhydroxyborylgruppe (-B(aryl)(OH)) und ihre konjugierte basische Gruppe, Arylgruppe, Alkenylgruppe und Alkinylgruppe, ein.
In der lichtempfindlichen erfindungsgemäßen Zusammensetzung ist, obwohl dies von der Auslegung der lichtempfindlichen Schicht abhängt, eine Substituentengruppe mit einem Wasserstoffatom, das zur Wasserstoffbindung befähigt ist, insbesondere eine Substituentengruppe mit einer Azidität, deren Säuredissoziationkonstante (pKa) niedriger als diejenige von Carbonsäure ist, nicht bevorzugt, da diese die Tendenz besitzt, die Druckhaltbarkeit zu verschlechtern. Andererseits ist eine hydrophobe Substituentengruppe, wie etwa ein Halogenatom, eine Kohlenwasserstoffgruppe (Alkylgruppe, Arylgruppe, Alkenylgruppe, Alkinylgruppe), eine Alkoxygruppe und eine Aryloxygruppe bevorzugt, da sie die Tendenz besitzt, die Druckhaltbarkeit zu verbessern, und insbesondere, wenn die cyclische Struktur ein 6- oder weniger gliedriger monocyclischer aliphatischer Kohlenwasserstoff, wie etwa Cyclopentan oder Cyclohexan, ist, besitzt der Kohlenwasserstoff vorzugsweise solche hydrophoben Substituentengruppen. Wenn möglich, können diese Substituentengruppen aneinander oder an eine substituierte Kohlenwasserstoffgruppe unter Bildung eines Rings gebunden sein, und die Substituentengruppen können ferner substituiert sein.
Wenn A in Formel (i) NR³- ist, stellt R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar. Die einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, die durch R³ dargestellt wird, schließt eine Alkylgruppe, Arylgruppe, Alkenylgruppe und Alkinylgruppe ein.
Beispiele für die Alkylgruppe schließen eine lineare, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methylgruppe, Ethylgruppe, Propylgruppe, Butylgruppe, Pentylgruppe, Hexylgruppe, Heptylgruppe, Octylgruppe, Nonylgruppe, Decylgruppe, Isopropylgruppe, Isobutylgruppe, sec-Butylgruppe, tert-Butylgruppe, Isopentylgruppe, Neopentylgruppe, 1-Methylbutylgruppe, Isohexylgruppe, 2-Ethylhexylgruppe, 2-Methylhexylgruppe, Cyclopentylgruppe, Cyclohexylgruppe, 1-Adamanthylgruppe und 2-Norbornylgruppe ein.
Beispiele für die Arylgruppe schließen eine Arylgruppe mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie etwa eine Phenylgruppe, Naphthylgruppe und Indenylgruppe, und eine Heteroarylgruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffatomen, die ein Heteroatom enthält, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom oder einem Schwefelatom besteht, ein, z. B. eine Furylgruppe, Thienylgruppe, Pyrrolylgruppe, Pyridylgruppe und eine Chinolylgruppe.
Beispiele für die Alkenylgruppe schließen eine lineare, verzweigte oder cyclische Alkenylgruppe mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie etwa Vinylgruppe, 1-Propenylgruppe, 1-Butenylgruppe, 1-Methyl-1-propenylgruppe, 1-Cyclopentenylgruppe und 1-Cyclohexenylgruppe ein.
Beispiele für die Alkinylgruppe schließen eine Alkinylgruppe mit 2 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie etwa eine Ethinylgruppe, 1-Propinylgruppe, 1-Butinylgruppe und 1-Octinylgruppe, ein. Substituentengruppen, die von R³ besessen werden können, schließen die gleichen Substituentengruppen wie diejenigen ein, die in R² eingeführt werden können. Die Anzahl von Kohlenstoffatomen in R³, einschließlich der Anzahl von Kohlenstoffatomen in ihrer Substituentengruppe, beträgt 1 bis 10.
A in der Formel (i) ist vorzugsweise ein Sauerstoffatom oder -NH- wegen seiner leichten Synthese.
n in der Formel (i) ist eine ganze Zahl von 1 bis 5, vorzugsweise 1 angesichts der Druckhaltbarkeit.
Bevorzugte Beispiele für die Wiederholungseinheit der Formel (i) in dem spezifischen Binderpolymer werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht hierauf begrenzt.
Eine oder zwei oder mehrere Arten von Wiederholungseinheiten, die durch Formel (i) dargestellt werden, können in dem Binderpolymer enthalten sein. Das spezifische Binderpolymer kann erfindungsgemäß ein Polymer sein, das ausschließlich aus der Wiederholungseinheit der Formel (i) zusammengesetzt ist, aber gewöhnlich wird als ein Copolymer verwendet, das andere copolymerisierbare Komponenten enthält. Der Gesamtgehalt der Wiederholungseinheiten der Formel (i) in dem Copolymer wird in geeigneter Weise abhängig von der Struktur des Copolymers, der Auslegung der lichtempfindlichen Schicht, etc. bestimmt, aber gewöhnlich ist die Wiederholungseinheit der Formel (i) in einer Menge von 1 bis 99 mol%, weiter bevorzugt 5 bis 40 mol%, und insbesondere bevorzugt 5 bis 20 mol%, basierend auf der gesamten molaren Menge der Polymerkomponenten enthalten.
Wenn ein Copolymer als das Binderpolymer verwendet wird, können copolymerisierbare Komponenten, die in der Technik bekannt sind, ohne Begrenzung verwendet werden, soweit sie radikalisch polymerisierbare Monomere sind. Im Einzelnen werden Monomere, die in dem Polymer Data Handbook – Fundamental Version – herausgegeben von der Society of Polymer Science, Japan und veröffentlicht von Baifukan, 1986 beschrieben sind, beispielhaft dargestellt. Solche copolymerisierbaren Komponenten können allein oder in Kombination verwendet werden.
Das Molekulargewicht des spezifischen Binderpolymers wird erfindungsgemäß in geeigneter Weise vom Standpunkt der Bilderzeugungseigenschaft und Druckhaltbarkeit bestimmt. Das Molekulargewicht liegt vorzugsweise in dem Bereich von 2 000 bis 1 000 000, weiter bevorzugt 5 000 bis 500 000, und insbesondere bevorzugt 10 000 bis 200 000.
Als das Binderpolymer, das in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht verwendet wird, kann das spezifische Binderpolymer allein verwendet werden, oder kann in Kombination mit einem oder mehreren anderen Kinderpolymeren verwendet werden. Wenn der spezifische Binder verwendet wird, werden Kinderpolymere, die in Kombination damit verwendet werden, in dem Bereich von 1 bis 60 Massen-%, vorzugsweise 1 bis 40 Massen-%, und weiter bevorzugt 1 bis 20 Massen-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der Binderpolymerkomponenten, verwendet. Als das Kinderpolymer können beliebige bekannte Kinderpolymere ohne Begrenzung verwendet werden, und im Einzelnen werden ein Acrylhauptkettenbinder und ein Urethanbinder, die häufig auf diesem Gebiet verwendet werden, vorzugsweise verwendet.
Die Gesamtmenge des spezifischen Binderpolymers und der Kinderpolymere, die in Kombination damit in der lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung verwendet werden können, können in geeigneter Weise bestimmt werden, und beträgt gewöhnlich 10 bis 90 Massen-%, vorzugsweise 20 bis 80 Massen-%, und weiter bevorzugt 30 bis 70 Massen-%, basierend auf der Gesamtmasse der nicht-flüchtigen Komponenten in der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Der Säurewert (meg/g) des Binderpolymers liegt vorzugsweise in dem Bereich von 2,00 bis 3,60.
– Andere Binderpolymere, die in Kombination verwendbar sind –
Das Binderpolymer, das in Kombination mit dem spezifischen Binderpolymer verwendet werden kann, ist vorzugsweise ein Binderpolymer mit einer radikalisch-polymerisierbaren Gruppe. Die radikalisch polymerisierbare Gruppe ist nicht besonders begrenzt, solange sie mit einem Radikalpolymerisiert werden kann, und Beispiele hierfür schließen eine α-substituierte Methylacrylgruppe [-OC(=O)-C(-CH₂Z)=CH₂, worin Z eine Kohlenwasserstoffgruppe, ausgehend von einem Heteroatom ist), Acrylgruppe, Methacrylgruppe, Allylgruppe und Styrylgruppe, von denen eine Acrylgruppe und Methacrylgruppe bevorzugt sind, ein.
Der Gehalt der radikalisch-polymerisierbaren Gruppe in dem Binderpolymer (Gehalt der radikalisch-polymerisierbaren ungesättigten Doppelbindungen, die durch Iodtitration bestimmt werden) beträgt vorzugsweise 0,1 bis 10,0 mmol, weiter bevorzugt 1,0 bis 7,0 mmol, und insbesondere bevorzugt 2,0 bis 5,5 mmol, pro 1 g des Binderpolymers vom Standpunkt der Empfindlichkeit und Lagerfähigkeit.
Vorzugsweise besitzt das Binderpolymer ferner eine alkalilösliche Gruppe. Der Gehalt der alkalilöslichen Gruppe (Säurewert, der durch Neutralisationstitration bestimmt wird) in dem Binderpolymer beträgt vorzugsweise 0,1 bis 3,0 mmol, weiter bevorzugt 0,2 bis 2,0 mmol, und insbesondere bevorzugt 0,45 bis 1,0 mmol, pro 1 g des Binderpolymers vom Standpunkt der Ausfällung von Entwicklungsverschmutzung und der Druckhaltbarkeit.
Das Gewichtsdurchschnitts-Molekulargewicht des Binderpolymers liegt in dem Bereich von vorzugsweise 2 000 bis 1 000 000, weiter bevorzugt 10 000 bis 300 000, und insbesondere bevorzugt 20 000 bis 200 000, vom Standpunkt der Filmeigenschaften (Druckhaltbarkeit) und Löslichkeit in einem Beschichtungslösungsmittel.
Der Glasübergangspunkt (Tg) des Binderpolymers liegt in dem Bereich von vorzugsweise 70° bis 300°C, weiter bevorzugt 80° bis 250°C, und insbesondere bevorzugt 90° bis 200°C, vom Standpunkt der Lagerungsstabilität, Druckhaltbarkeit und Empfindlichkeit.
Als Mittel zum Erhöhen des Glasübergangspunktes des Binderpolymers enthält sein Molekül vorzugsweise eine Amidgruppe oder Imidgruppe, und insbesondere bevorzugt enthält es Methacrylamidderivate.
(Andere Komponente)
Zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen fundamentalen Komponenten können andere Komponenten, die für Verwendungen, Verfahren etc. geeignet sind, zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung gegeben werden. Nachstehend werden bevorzugte Additive aufgezählt.
– Farbstoff –
Farbstoffe oder Pigmente können zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht zum Zweck der Färbung zugegeben werden. Die Plattenprüfeigenschaften, d. h. die Sichtbarkeit der Druckplatte nach der Plattenherstellung und die Anwendbarkeit für ein Bilddichtmessgerät können hierdurch verbessert werden, wenn die Zusammensetzung auf die Druckplatte aufgetragen wird. Beispiele für den Farbstoff schließen Pigmente, wie etwa Pigmente vom Phthalocyanintyp, Pigmente vom Azotyp, Ruß und Titandioxid, und Farbstoffe, wie etwa Ethyl Violet, Kristall Violet, Farbstoffe vom Azotyp, Farbstoffe vom Anthrachinontyp und Farbstoffe vom Cyanintyp ein. Von diesen Farbstoffen sind kationische Farbstoffe bevorzugt.
Die Menge der Farbstoffe und Pigmente, die zugegeben werden, beträgt vorzugsweise ungefähr 0,5 bis ungefähr 5 Massen-% von nicht-flüchtigen Komponenten in der gesamten lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung.
– Polymerisationsinhibitor –
Eine kleine Menge eines Wärmepolymerisationsinhibitors wird vorzugsweise zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht gegeben, um eine unerwünschte Wärmepolymerisation der polymerisierbaren Verbindung mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung zu inhibieren. Bevorzugte Beispiele für den Wärmepolymerisationsinhibitor schließen Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenyl), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-Nitrosophenylhydroxylamin, Primärceriumsalze etc. ein. Die Menge des Wärmepolymerisationsinhibitors, der zugegeben wird, beträgt vorzugsweise ungefähr 0,01 bis ungefähr 5 Massen-%, relativ zu der Masse der nichtflüchtigen Komponente in der gesamten Zusammensetzung. Zur Verhinderung der Inhibierung der Polymerisation durch Sauerstoff kann ein höheres Fettsäurederivat, wie etwa Behensäure oder Behensäureamid, soweit notwendig, zugegeben werden, so dass ein lokales Vorhandensein auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht in dem Trocknungsschritt nach Auftragung ermöglicht wird. Die Menge des höheren Fettsäurederivats, das zugegeben wird, beträgt vorzugsweise ungefähr 0,5 bis ungefähr 10 Massen-%, relativ zu den nicht flüchtigen Komponenten in der gesamten lichtempfindlichen Schichtzusammensetzung.
– Andere Additive –
Bekannte Additive, wie etwa anorganische Füllstoffe, zum Verbessern der physikalischen Eigenschaften der gehärteten Schicht, wie etwa andere Weichmacher und Sensibilisierungsmittel, zum Verbessern der Tintenfärbungseigenschaften auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht können zu der lichtempfindlichen Schicht erfindungsgemäß zugegeben werden. Die Weichmacher schließen Dioctylphthalat, Didodecylphthalat, Triethylenglykoldicaprylat, Dimethylglykolphthalat, Tricresylphosphat, Dioctyladipat, Dibutylsebacat, Triacetylglycerin etc. ein und diese können in einer Menge von 10 Massen-% oder weniger, relativ zu der Gesamtmasse des Binderpolymers und der additionspolymerisierbaren Verbindung, zugegeben werden.
In der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht können UV-Initiatoren und wärmevernetzende Mittel zum Verstärken des Effekts des Erhitzens und der Bestrahlung nach Entwicklung zum Zweck des Verbesserns der Schichtfestigkeit (Druckhaltbarkeit), die später beschrieben wird, zugegeben werden.
[Träger]
Als der Träger, der in dem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer verwendet wird, kann ein bekannter Träger, der in dem Flachdruck-Druckplattenvorläufer verwendet wird, ohne Beschränkung verwendet werden.
Der erfindungsgemäß verwendete Träger ist vorzugsweise eine größenabmessungsstabile Platte, und Beispiele hierfür schließen Papier, mit Kunststoffen (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol etc.) laminiertes Papier, eine Metallplatte (z. B. Aluminium, Zink, Kupfer etc.) und Kunststofffilm (z. B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal etc.), und Papiere oder Kunststofffilme mit diesen darauf laminierten oder dampfabgeschiedenen Metallen ein. Die Oberfläche dieser Träger kann, soweit notwendig, chemisch oder physikalisch behandelt sein, um Hydrophilizität zu verleihen, oder deren Festigkeit zu verstärken.
Insbesondere ist der Träger vorzugsweise ein Papier, ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte, wovon die Aluminiumplatte insbesondere bevorzugt ist, da sie eine herausragende Größenabmessungsstabilität besitzt, relativ kostengünstig ist, eine Oberfläche bereitstellen kann, die eine herausragende Hydrophilizität und Festigkeit durch Oberflächenbehandlung, die soweit notwendig, durchgeführt wurde, bereitstellen kann. Ein Kompositblatt mit einem Aluminiumblatt, das an einen Polyethylenterehthalatfilm gebunden ist, wie in JP-B-48-18327 beschrieben, ist auch bevorzugt.
Die Aluminiumplatte, die als der erfindungsgemäße insbesondere bevorzugte Träger verwendet wird, ist eine Metallplatte, die auf größenabmessungsstabilem Aluminium basiert und ist nicht nur aus einer reinen Aluminiumplatte sondern auch aus einer Aluminiumplatte ausgewählt, die auf Aluminium basiert, das eine sehr kleine Menge an unterschiedlichen Elementen enthält, und einen Kunststofffilm oder Papier mit Aluminium (Legierung), das darauf laminiert oder dampfabgeschieden ist, ausgewählt. In der folgenden Beschreibung werden die Träger aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen kollektiv als Aluminiumträger bezeichnet. Die unterschiedlichen Elemente, die in der Aluminiumlegierung enthalten sind, schließen Silizium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Wismut, Nickel, Titan etc. ein. Der Gehalt der unterschiedlichen Elemente in der Legierung beträgt bis zu 10 Massen-%. Insbesondere bevorzugtes Aluminium ist erfindungsgemäß eine reine Aluminiumplatte, aber da die Herstellung von absolut reinem Aluminium durch Raffiniertechnik schwierig ist, kann das Aluminium eine sehr kleine Menge an unterschiedlichen Elementen enthalten. Die Zusammensetzung der so erfindungsgemäß verwendeten Aluminiumplatte ist nicht begrenzt, und beliebige Aluminiumplatten, die aus einem bekannten und herkömmlicherweise verwendeten Aluminiummaterial, wie etwa JIS A 1050 (gewöhnlich bekanntes Aluminiummaterial, das aus 99,5 Massen-% oder mehr Al besteht), JIS A 1100 (gewöhnlich bekanntes Aluminiummaterial, das aus 99,0 Massen-% oder mehr Al besteht) können, soweit notwendig, verwendet werden.
Die Dicke des Aluminiumträgers beträgt ungefähr 0,1 bis 0,6 mm. Diese Dicke kann in geeigneter Weise abhängig von der Größe der Druckmaschine, der Größe einer Druckplatte und den Anforderungen der Verwender geändert werden.
Der Aluminiumträger kann einer Trägeroberflächenbehandlung, die nachstehend beschrieben wird, unterzogen werden oder nicht.
(Oberflächenaufrauungsbehandlung)
Die Oberflächenaufrauungsbehandlung schließt mechanisches Aufrauen, chemisches Ätzen und elektrolytisches Körnen, wie in JP-A-56-28893 offenbart, ein. Die Verwendung von einer elektrochemischen Aufrauungsbehandlung zum elektrochemischen Oberflächenaufrauen in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten und mechanischen Oberflächenaufrauungsverfahren, wie etwa Bürsten, Polierkörnungsverfahren, zum Zerkratzen einer Aluminiumoberfläche mit einem Metalldraht, ein Polierkörnungsverfahren zum Körnen einer Aluminiumoberfläche mit Schleifkörnern, Kugeln und einem Schleifmittel und einem Bürstenkörnungsverfahren zum Oberflächenaufrauen mit einer Nylonbürste und einem Schleifmittel gemacht werden, und diese Oberflächenaufrauungsverfahren können allein oder in ihrer Kombination verwendet werden. Von diesen Verfahren ist das elektrochemische Verfahren zum chemischen Oberflächenaufrauen in einer Salzsäure- oder Schwefelsäureelektrolyten beim Oberflächenaufrauen insbesondere nützlich, und die geeignete anodisierende Elektrizitätsmenge liegt in dem Bereich von 50 bis 400 C/dm². Im Einzelnen wird alternierender Strom und/oder Direktstromelektrolyse vorzugsweise bei einer Temperatur von 20 bis 80°C für 1 Sekunde bis 30 Minuten und bei einer Stromdichte von 100 bis 400 C/dm² in einem. Elektrolyten, der 0,1 bis 50% Salzsäure oder Salzpetersäure enthält, durchgeführt.
Der so oberflächenaufgeraute Aluminiumträger kann chemisch mit einer Säure oder einem Alkali geätzt werden. Bevorzugte Beispiele für das Ätzmittel schließen Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriumetasilikat, Natriumphosphat, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid etc. ein, und die Konzentration und Temperatur liegen vorzugsweise in dem Bereich von jeweils 1 bis 50% und 20 bis 100°C. Nach dem Ätzen wird Waschen mit einer Säure durchgeführt, um Schmutz, der auf der Oberfläche verbleibt, zu entfernen. Die verwendete Säure schließt Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorsäure und Borfluorsäure ein. Nach der elektrochemischen Aufrauungsbehandlung ist das Verfahren zum Entfernen von Schmutz vorzugsweise ein Verfahren zum Kontaktieren mit Schwefelsäure mit 15 bis 65 Massen-% bei einer Temperatur von 50 bis 90°C, wie in JP-A-53-12739 beschrieben, und ein Verfahren zum Alkaliätzen, wie in JP-B-48-28123 beschrieben. Das Verfahren und die Bedingungen sind nicht begrenzt, solange wie die durchschnittliche Mittenlinienrauigkeit Ra der behandelten Oberfläche nach der vorstehend beschriebenen Behandlung 0,2 bis 0,5 μm beträgt.
(Anodisierbehandlung)
Der so behandelte Aluminiumträger mit darauf erzeugter Oxidschicht wird dann einer Anodisierbehandlung unterzogen.
Bei der Anodisierbehandlung kann eine wässrige Lösung aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure und/oder Borsäure-Natriumborat als die Hauptkomponente in einem Elektrolytbad verwendet werden. In diesem Fall kann der Elektrolyt mindestens Komponenten enthalten, die gewöhnlich in einer Al-Legierungsplatte, Elektrode, Leitungswasser und Untergrundwasser enthalten sind. Zweite und dritte Komponenten können auch enthalten sein. Die zweiten und dritten Komponenten schließen z. B. Metallionen, wie etwa Na, K, mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu und Zn, Ammoniumionen und -anionen, wie etwa Nitration, Carbonation, Chlorion, Phosphation, Fluorion, Sulfition, Titanation, Silikation und Boration ein, und diese können bei einer Konzentration von 0 bis 10 000 ppm enthalten sein. Obwohl die Bedingungen zur Anodisierbehandlung nicht besonders begrenzt sind, wird die Platte vorzugsweise mit 30 bis 500 g/l Lösung bei einer Temperatur von 10 bis 70°C durch Direktstrom oder alternierenden Strom Elektrolyten in dem Bereich einer Stromdichte von 0,1 bis 40 A/m² behandelt. Die Dicke der anodisierten Schicht, die erzeugt wird, liegt in dem Bereich von 0,5 bis 1,5 μm. Vorzugsweise liegt die Dicke in dem Bereich von 0,5 bis 1,0 μm. Die Behandlungsbedingungen sollten so ausgewählt werden, dass der Porendurchmesser von Mikroporen, die in der anodisierten Schicht vorhanden sind, die auf dem Träger durch die Behandlung, die vorstehend beschrieben wurde, erzeugt wird, 5 bis 10 nm und die Porendichte 8 × 10¹⁵ bis 2 × 10¹⁶ Poren/m² beträgt.
Zur Behandlung zum Verleihen von Hydrophilizität auf der Oberfläche des Trägers können verschiedene bekannte Verfahren verwendet werden. Die Behandlung ist insbesondere bevorzugt eine Hydrophilizitäts-verleihende Behandlung mit Silikat oder Polyvinylphosphonsäure. Die Schicht wird aus einem Si- oder P-Element in einer Menge von 2 bis 40 mg/m², vorzugsweise 4 bis 30 mg/m² erzeugt. Die Beschichtungsmenge kann durch Fluoreszenzröntgenstrahlanalyse gemessen werden.
Bei der Hydrophilizitäts-verleihenden Behandlung wird der Aluminiumträger mit einer darauf erzeugten anodisierten Schicht in eine wässrige Lösung bei einem pH-Wert von 10 bis 13 (bestimmt bei 25°C), die ein Alkalimetallsilikat oder Polyvinylphosphonsäure in einer Menge von 1 bis 30 Massen-%, weiter bevorzugt 2 bis 15 Massen-%, z. B. bei 15 bis 80°C für 0,5 bis 120 Sekunden eingetaucht.
Als das Alkalimetallsilikat, das bei der Hydrophilisierungsbehandlung verwendet wird, werden Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat etc. verwendet. Das Hydroxid, das zum Erhöhen des pH-Werts der wässrigen Alkalimetallsilikatlösung verwendet wird, schließt Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid etc. ein. Erdalkalimetallsalze oder Metallsalze der Gruppe IVB können in die vorstehend beschriebene Behandlungslösung eingebaut werden. Die Erdalkalimetallsalze schließen Nitrate, wie etwa Calciumnitrat, Strontiumnitrat, Magnesiumnitrat und Bariumnitrat, und wasserlösliche Salze, wie etwa Sulfat, Hydrochlorid, Phosphat, Acetat, Oxalat und Borat ein. Die Metallsalze der Gruppe IVB schließen Titantetrachlorid, Titantrichlorid, Titankaliumfluorid, Titankaliumoxalat, Titansulfat, Titantetraiodid, Zirkoniumchloridoxid, Zirkoniumdioxid, Zirkoniumoxychlorid, Zirkoniumtetrachlorid etc. ein.
Die Erdalkalimetallsalze oder Metallsalze der Gruppe IVB können allein oder in deren Kombination verwendet werden. Die Menge dieser Metallsalze liegt vorzugsweise in dem Bereich von 0,01 bis 10 Massen-%, weiter bevorzugt 0,05 bis 5,0 Massen-%. Silicatelektroabscheidung, wie in US-PS 3,658,662 beschrieben, ist auch effektiv. Ein Träger, der elektrolytischem Körnen unterzogen wurde, wie in JP-B-46-27481 , JP-A-52-58602 und 52-30503 offenbart, und Oberflächenbehandlung, die einer Anodisierbehandlung in Kombination mit der Hydrophilizitäts-verleihenden Behandlung umfasst, sind auch nützlich.
[Herstellung des Flachdruck-Druckplattenvorläufers]
Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird hergestellt, indem die lichtempfindliche Schicht und die Schutzschicht in dieser Reihenfolge angeordnet werden und, sofern benötigt, eine Unterbeschichtungsschicht auf einem Träger angeordnet wird. Ein solcher Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann hergestellt werden, indem jede Beschichtungslösung, die die vorstehenden verschiedenen Komponenten in einem geeigneten Lösungsmittel enthält, aufgelöst wird und indem die erhaltenen Beschichtungslösungen nacheinander auf einem Träger aufgetragen werden.
Wenn die lichtempfindliche Schicht durch Beschichten angeordnet wird, werden die Komponenten für die lichtempfindliche Schicht in verschiedenen organischen Lösungsmitteln aufgelöst, um eine lichtempfindliche Schichtbeschichtungslösung zu erhalten, und die Beschichtungslösung wird auf den Träger oder die Zwischenschicht aufgetragen.
Das verwendete Lösungsmittel schließt Aceton, Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat, Ethylendichlorid, Tetrahydrofuran, Toluol, Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykoldimethylether, Propylenglykolmonomethylether, Propylenglykolmonoethylether, Acetylaceton, Cyclohexanon, Diacetonalkohol, Ethylenglykolmonomethyletheracetat, Ethylenglykolethyletheracetat, Ethylenglykolmonoisopropylether, Ethylenglykolmonobutyletheracetat, 3-Methoxypropanol, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykoldiethylether, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethyletheracetat, 3-Methoxypropylacetat, N,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Methyllactat und Ethyllactat ein. Diese Lösungsmittel können allein oder in Kombination verwendet werden. Der Feststoffgehalt der lichtempfindlichen Schichtbeschichtungslösung beträgt in geeigneter Weise 2 bis 50 Massen-%.
Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht beeinflusst hauptsächlich die Empfindlichkeit und die Entwicklungsfähigkeit der lichtempfindlichen Schicht und die Festigkeit und die Druckhaltbarkeit der mit Licht belichteten Schicht, und wird in geeigneter Weise abhängig von der Verwendung ausgewählt. Wenn die Beschichtungsmenge zu niedrig ist, ist die Druckhaltbarkeit nicht ausreichend. Es ist nicht bevorzugt, dass die Beschichtungsmenge zu hoch ist, da die Empfindlichkeit verringert wird, die Belichtung mehr Zeit benötigt und eine längere Zeit zum Entwicklungsbearbeiten notwendig ist. Die Beschichtungsmenge auf dem Flachdruck-Druckplattenvorläufer zur Abtastbelichtung als die erfindungsgemäße Hauptaufgabe liegt vorzugsweise in dem Bereich von ungefähr 0,1 bis 10 g/m², und weiter bevorzugt 0,5 bis 5 g/m², hinsichtlich des Trockengewichts.
(Physikalische Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht)
Die physikalischen Eigenschaften der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Schicht sind vorzugsweise, dass die Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs mit einer Alkalientwicklungslösung bei pH-Wert 10 bis 13,5 nicht weniger als 80 nm/s beträgt, und die Durchdringungsrate der Alkalientwicklungslösung in dem belichteten Bereich nicht mehr als 50 nF/s beträgt.
Die Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs mit einer Alkalientwicklungslösung bei pH-Wert 10 bis 13,5 ist ein Wert, der durch Dividieren der Dicke (nm) der lichtempfindlichen Schicht durch die Zeit (s), die zur Entwicklung notwendig ist, erhalten wurde, und die Durchdringungsrate der Alkalientwicklungslösung in dem belichteten Bereich ist ein Wert, der eine Rate einer Änderung beim Eintauchen in eine Entwicklungslösung der elektrostatischen Kapazität (F) der lichtempfindlichen Schicht, die auf einem elektrisch leitenden Träger erzeugt wurde, angibt.
Nachstehend werden die Verfahren zum Messen "der Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs mit einer Alkalientwicklungslösung" und "die Durchdringungsrate einer Alkalientwicklungslösung in dem belichteten Bereich" nachstehend beschrieben.
– Messung der Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs mit einer Alkalientwicklungslösung –
Die Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs der lichtempfindlichen Schicht mit der Alkalientwicklungslösung ist ein Wert, der durch Dividieren der Dicke (nm) der lichtempfindlichen Schicht durch die Zeit (s), die zur Entwicklung notwendig ist, erhalten wurde.
Die erfindungsgemäße Entwicklungsrate wurde durch ein DRM-Interferenzwellenmessinstrument zum Messen des Auflösungsverhaltens einer lichtempfindlichen Schicht durch Eintauchen eines Aluminiumträgers gemessen, der mit einer unbelichteten lichtempfindlichen Schicht in einer vorbestimmten Alkalientwicklungslösung (30°C) in dem Bereich eines pH-Werts von 10 bis 13,5 gemessen wurde, wie in 1 gezeigt. 1 ist eine Veranschaulichung eines DRM-Interferenz-Wellenmessinstruments zum Messen des Auflösungsverhaltens einer lichtempfindlichen Schicht. Erfindungsgemäß wurde die Änderung der Schichtdicke durch Interferenz mit Licht von 640 nm nachgewiesen. Wenn das Entwicklungsverhalten eine nicht-anschwellende Entwicklung, ausgehend von der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht ist, wird die Schichtdicke allmählich im Verhältnis zu der Entwicklungszeit verringert, um Interferenzwellen, abhängig von der Dicke, zu ergeben. In dem Fall einer Anschwellungsauflösung (Auflösung zur Entfernung der Schicht) wird die Schichtdicke, abhängig von dem Durchdringen der Entwicklungslösung, geändert, wobei so keine schönen Interferenzwellen erhalten werden.
Die Entwicklungszeit (s), in welcher die lichtempfindliche Schicht vollständig entfernt wird (d. h. die Dicke der Schicht 0 wird) wird unter diesen Bedingungen dann bestimmt, und aus dieser Entwicklungszeit (s) und der Dicke (nm) der lichtempfindlichen Schicht kann die Entwicklungsrate aus nachstehender Gleichung ermittelt werden. Eine höhere Entwicklungsrate zeigt eine leichtere Entfernung der Schicht mit der Entwicklungslösung an, d. h. eine gute Entwicklungsfähigkeit. Entwicklungsrate (eines unbelichteten Bereichs) = [(Dicke der lichtempfindlichen Schicht (nm)/Entwicklungszeit (s)]
– Messung der Durchdringungsrate der Alkalientwicklungslösung in den belichteten Bereich –
Die Durchdringungsrate der Alkalientwicklungslösung in den belichteten Bereich ist ein Wert, der eine Änderungsrate beim Eintauchen in eine Entwicklungslösung der elektrostatischen Kapazität (F) der lichtempfindlichen Schicht, die auf einem elektrisch leitenden Träger erzeugt wurde, angibt.
Wie in 2 gezeigt, schließt das Verfahren zum Messen der elektrostatischen Kapazität als ein Indikator der Permeabilität erfindungsgemäß ein Verfahren, worin eine gehärtete lichtempfindliche Schicht (Aufzeichnungsschicht in 2), die durch Belichtung auf einem Aluminiumträger erhalten wurde, der als eine Elektrode verwendet wurde und eine gewöhnliche Elektrode als die andere Elektrode werden eine Spannung über einen Leitungsdraht zwischen den Elektroden in einer vorbestimmten Alkalientwicklungslösung (28°C) in dem Bereich von pH-Wert 10 bis 13,5 angelegt, ein. Nach dem Anlegen der Spannung dringt die Entwicklungslösung in die Grenzfläche zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht ein und ändert so die elektrostatische Kapazität im Verhältnis zu der Eintauchzeit.
Aus der Zeit (s), die notwendig ist, damit die elektrostatische Kapazität konstant wird, und dem Sättigungswert (nF) der elektrostatischen Kapazität der lichtempfindlichen Schicht kann die Durchdringungsrate bzw. Permeationsrate gemäß der folgenden Gleichung bestimmt werden. Eine kleinere Durchdringungsrate gibt eine niedrigere Permeabilität der Entwicklungslösung an.
Permeationsrate der Entwicklungslösung (im belichteten Bereich)(nF/s) = (Sättigungswert der elektrostatischen Kapazität der lichtempfindlichen Schicht (nF)/Zeit (s), die notwendig ist, damit die elektrostatische Kapazität konstant wird)
Hinsichtlich der physikalischen Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht in dem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer beträgt die Entwicklungsrate eines unbelichteten Bereichs mit einer Alkalientwicklungslösung bei pH-Wert 10 bis 13,5 vorzugsweise 80 bis 400 nm/s, weiter bevorzugt 90 bis 200 nm/s, und die Permeationsrate der Alkalientwicklungslösung in dem belichteten Bereich der lichtempfindlichen Schicht beträgt vorzugsweise 0 bis 50 nF/s, weiter bevorzugt 0 bis 10 nF/s.
Die Entwicklungsrate eines unbelichteten Bereichs der lichtempfindlichen Schicht und die Permeationsrate der Alkalientwicklungslösung in der lichtempfindlichen Schicht nach dem Härten kann auf gewöhnliche Weise reguliert werden, und typischerweise ist die Zugabe einer hydrophilen Verbindung zur Verbesserung der Entwicklungsrate des unbelichteten Bereichs nützlich, und die Zugabe einer hydrophoben Verbindung ist zur Inhibierung der Permeation der Entwicklungslösung in einem belichteten Bereich nützlich.
Unter Verwendung des spezifischen Binderpolymers kann die Entwicklungsrate der lichtempfindlichen Schicht und die Permeationsrate der Entwicklungslösung in den bevorzugten Bereichen, die vorstehend beschrieben wurden, reguliert werden.
[Zwischenschicht (Unterbeschichtungsschicht)]
Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann eine Zwischenschicht (Unterbeschichtungsschicht) einschließen, um das Adhäsionsvermögen zwischen einer lichtempfindlichen Schicht und einem Träger und die Fleckenbeständigkeit zu verbessern. Beispiele für solche Zwischenschichten schließen diejenigen ein, die in JP-B-50-7481 , JP-A-54-72104 , 59-101651 , 60-149491 , 60-232998 , 3-56177 , 4-282637 , 5-16558 , 5-246171 , 7-159983 , 7-314937 , 8-202025 , 8-320551 , 9-34104 , 9-236911 , 9-269593 , 10-69092 , 10-115931 , 10-161317 , 10-260536 , 10-282682 , 11-84674 , 10-069092 , 10-115931 , 11-038635 , 11-038629 , 10-282465 , 10-301262 , 11-024277 , 11-109641 , 10-319600 , 11-084674 , 11327152 , 2000-010292 , 2000-235254 , 2000-352824 und 2001-209170 beschrieben werden.
Wie vorstehend erwähnt, wird der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer mit einer Schutzschicht ausgestattet, die eine Glimmerverbindung und einen spezifischen Polyvinylalkohol auf einer polymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht vom negativen Typ enthält.
Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer besitzt eine überlegene Beständigkeit gegenüber Binden dessen lichtempfindlichen Schichtseitenoberfläche und der Trägerseitenoberfläche eines dazu benachbarten Flachdruck-Druckplattenvorläufers, so dass ein Laminat unter der Bedingung erzeugt werden kann, dass kein Zwischenschichtblatt eingefügt wird und es ist daher möglich, auf den Schritt zum Entfernen des Zwischenschichtblattes in dem Belichtungsschritt in dem Plattenherstellungsverfahren zu verzichten.
Da der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer keine verbesserte Entwicklungsentfernbarkeit der Schutzschicht besitzt, kann der Vor-Wasserwaschschritt weggelassen werden.
Zudem kann der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer einen festen Bildbereich bei hoher Empfindlichkeit durch die vorstehend erwähnte Kombination der lichtempfindlichen Schicht und der Schutzschicht erzeugen. Aus dieser Tatsache ist es auch möglich, den Wärmebehandlungsschritt nach dem Belichtungsschritt wegzulassen.
Diese Tatsachen zeigen, dass der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer mit einer verbesserten Produktivität bei der Plattenherstellungsarbeit ausgestattet werden kann.
<Plattenherstellungsverfahren>
Ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplatte wird nachstehend erläutert.
Ein Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplatte schließt das Belichten des vorstehend erwähnten Flachdruck-Druckplattenvorläufers mit Licht mit einer Wellenlänge von 750 nm bis 1400 nm und dann Durchführen einer Entwicklungsbehandlung bei einer Beförderungsgeschwindigkeit von 1,25 m/min oder mehr im Wesentlichen ohne Heizbehandlung und ohne Wasserwaschbehandlung ein.
Das Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplatte verwendet den vorstehend erwähnten erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer. Daher ermöglicht er die Plattenherstellung ohne die Notwendigkeit einer Wärmebehandlung und Wasserwaschbehandlung und besitzt daher einen solchen Effekt, dass es eine hohe Produktivität besitzt, da es Verwendung von dem erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufer macht.
Es muss nicht besonders betont werden, dass das Plattenherstellungsverfahren zur Plattenherstellung des erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers geeignet ist. Jedoch kann dieses Plattenherstellungsverfahren vorzugsweise auf beliebige Flachdruck-Druckplattenvorläufer angewendet werden, die mit einer polymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht vom negativen Typ ausgestattet sind, die mindestens einen IR-Absorber, einen Polymerisationsinitiator und eine polymerisierbare Verbindung enthalten und besitzt eine verringerte Löslichkeit in einer Alkalientwicklungslösung, wenn mit Licht mit einer Wellenlänge von 750 bis 1400 nm belichtet. Im Einzelnen kann eine beliebige lichtempfindliche Schicht verwendet werden, solange wie sie alle der "IR-Absorber, Initiator und polymerisierbare Verbindung" enthält, die in der Spalte zum Erläutern jeder Komponente der lichtempfindlichen Schicht des erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers beschrieben werden. Als das Binderpolymer kann ein bekanntes ohne irgendein Problem vermengt werden oder nicht.
Zudem besitzt die lichtempfindliche Schicht, worauf das Verfahren zum Herstellen einer erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplatte angewendet wird, vorzugsweise die Eigenschaften, dass die Entwicklungsgeschwindigkeit des unbelichteten Abschnittes in einer Alkalientwicklungslösung mit einem pH-Wert von 10 bis 13,5 80 nm/s oder mehr beträgt und die Penetrationsgeschwindigkeit der Alkalientwicklungslösung am belichteten Abschnitt 50 nF/s oder weniger beträgt. Die Entwicklungsgeschwindigkeit des unbelichteten Abschnitts der lichtempfindlichen Schicht und die Penetrationsgeschwindigkeit der Alkalientwicklungslösung in die lichtempfindliche Schicht nach dem Härten der lichtempfindlichen Schicht kann durch ein gewöhnliches Verfahren gesteuert werden. Als typisches der Steuerungsverfahren ist neben dem vorstehend erwähnten Verfahren unter Verwendung des spezifischen Binderpolymers die Zugabe einer hydrophilen Verbindung zur Verbesserung der Entwicklungsgeschwindigkeit des unbelichteten Abschnittes und die Zugabe einer hydrophoben Verbindung nützlich, um das Eindringen einer Entwicklungslösung in den belichteten Abschnitt zu unterdrücken.
[Belichtung]
Eine beliebige Lichtquelle kann als die Lichtquelle, die bei der Belichtung verwendet wird, verwendet werden, solange wie sie ein Licht bei einer Wellenlänge von 750 nm bis 1400 nm emittieren kann. Bevorzugte Beispiele hierfür schließen einen IR-Laser ein. Der erfindungsgemäße Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird vorzugsweise bildweise mit IR-Strahlen mit einer Wellenlänge von 750 nm bis 1400 nm, die durch einen Feststofflaser oder einen Halbleiterlaser emittiert werden, belichtet. Die Ausstoßleistung des Lasers beträgt vorzugsweise 100 mW oder mehr, und eine Multistrahllaservorrichtung wird vorzugsweise verwendet, um die Belichtungszeit zu verringern. Die Belichtungszeit pro Pixel liegt vorzugsweise innerhalb von 20 μs. Die Energie, die auf den Flachdruck-Druckplattenvorläufer bestrahlt wurde, beträgt vorzugsweise 10 bis 300 mJ/cm². Wenn die Energie zur Belichtung zu niedrig ist, schreitet die Härtung der lichtempfindlichen Schicht nicht ausreichend voran. Wenn die Belichtungsenergie zu hoch ist, kann die lichtempfindliche Schicht mit dem Laser abgetragen werden und so das Bild beschädigen.
Das Belichtungsverfahren kann erfindungsgemäß durch Überlappen von Strahlen aus einer Lichtquelle durchgeführt werden. Der Ausdruck "Überlappen" bedeutet, dass der Abstand zwischen Strahlenmittelpunkten in der Unterabtastrichtung kleiner als der Strahldurchmesser ist. Wenn z. B. der Strahldurchmesser hinsichtlich eines vollen halbbreiten Maximums (FWHM) ausgedrückt wird, kann die Überlappung quantitativ als FWHM/Abstand zwischen Strahlenmittelpunkten in der Unterabtastrichtung (d. h. Überlappungskoeffizient) ausgedrückt werden. Der erfindungsgemäße Überlappungskoeffizient beträgt vorzugsweise 0,1 oder mehr.
Das Abtastsystem unter Verwendung einer Lichtquelle in der erfindungsgemäßen Belichtungsvorrichtung ist nicht besonders begrenzt, und bekannte Abtastverfahren, wie etwa äußere Trommeloberflächenabtastverfahren, innere Trommeloberflächenabtastverfahren oder Flachbettabtastverfahren können verwendet werden. Der Kanal der Lichtquelle kann ein einzelner oder Multikanal sein, aber im Fall eines äußeren Trommeloberflächenabtastverfahrens wird vorzugsweise ein Multikanal verwendet.
Erfindungsgemäß wird der belichtete Flachdruck-Druckplattenvorläufer einer Entwicklungsbehandlung ohne Durchführen einer beliebigen besonderen Heizbehandlung und Wasserwaschbehandlung, wie vorstehend erwähnt, unterzogen. Keine Praxis dieser Heizbehandlung ermöglicht die Unterdrückung einer Bildungleichförmigkeit, die durch die Heizbehandlung hervorgerufen wird. Zudem ermöglicht keine Praxis dieser Heizbehandlung und Wasserwaschbehandlung eine stabile Hochgeschwindigkeitsbehandlung der Entwicklungsbehandlung.
[Entwicklung]
Bei der erfindungsgemäßen Entwicklungsbehandlung wird der Nicht-Bildbereich der lichtempfindlichen Schicht unter Verwendung einer Entwicklungslösung entfernt.
Erfindungsgemäß beträgt, wie vorstehend erwähnt, die Behandlungsgeschwindigkeit der Entwicklungsbehandlung, insbesondere, die Beförderungsgeschwindigkeit (Zeilengeschwindigkeit) des Flachdruck-Druckplattenvorläufers bei der Entwicklungsbehandlung vorzugsweise 1,25 m/min oder mehr und weiter bevorzugt 1,35 m/min oder mehr. Die obere Grenze der Beförderungsgeschwindigkeit beträgt vorzugsweise 3 m/min oder weniger vom Standpunkt der Beförderungsstabilität, obwohl keine besondere Beschränkung auf die Beförderungsgeschwindigkeit gelegt wird.
(Entwicklungslösung)
Die erfindungsgemäße Entwicklungslösung ist vorzugsweise eine wässrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von 14 oder weniger und weiter bevorzugt eine wässrige Alkalilösung, die mindestens ein Gelbildungsverhinderungsmittel enthält, das aus Monoalkoholverbindungen und Monoketonverbindungen und einem anionischen Tensid ausgewählt ist.
(Monoalkoholverbindungen und Monoketonverbindungen)
Diese Monoalkoholverbindungen und Monoketonverbindungen, die in der erfindungsgemäß verwendeten Entwicklungslösung enthalten sind, sind monofunktionale Verbindungen, die einen Alkohol oder Keton in einem Molekül enthalten. Als die Monoalkoholverbindung oder Monoketonverbindung, die erfindungsgemäß verwendet wird, sind Verbindungen mit einem hohen Siedepunkt bevorzugt, da sie kaum verdampfen und ihr Effekt wird für eine lange Zeitdauer beibehalten. Wenn diese Verbindungen verwendet werden, kann eine Gelbildung durch ein wasserlösliches Polymer, das in der Entwicklungslösung aufgelöst wird und aus der Schutzschicht stammt, begrenzt werden.
Es gibt ein Problem, dass, wenn ein Gel in einer Entwicklungslösung hergestellt wird, die Entwicklungslösung in der Entwicklungsleistung verschlechtert wird, was zum Auftreten von Flecken auf der Nicht-Bildfläche führt. Es gibt auch das Problem, dass wegen des Vorhandenseins eines Gels in der Entwicklungslösung Rohre und Spülröhre verstopft werden, es notwendig ist, die Bearbeitungslösung zur Entfernung des Gels auszutauschen, was die Bearbeitungseffizienz verringert. Wenn die Monoalkoholverbindung oder Monoketonverbindung zur Verhinderung von Gelbildung auf die vorstehende Weise verwendet wird, ist ein Austauschverfahren der Entwicklungslösung für eine lange Zeitdauer nicht notwendig und es ist daher möglich, das Auftreten von Flecken in dem Nicht-Bildbereich und eine Verringerung der Arbeitseffizienz zu unterdrücken.
Spezifische Beispiele für die Monoalkoholverbindung und die Monoketonverbindung schließen n-Propylalkohol, Isopropylalkohol, n-Butylalkohol, Isobutylalkohol, sek-Butylalkohol, tert-Butylalkohol, n-Amylalkohol, sek-Amylalkohol, tert-Amylalkohol, Cyclohexanol und seine Derivate, Phenoxyethanol und seine Derivate, Phenol und seine Derivate, Diethylketon und Cyclohexanon und seine Derivate ein.
Diese Verbindungen können entweder allein oder in Kombinationen aus zwei oder mehreren verwendet werden. Der Gehalt des Monoalkohols und/oder Monoketons in der Entwicklungslösung beträgt vorzugsweise 0,01 bis 10 Massen-%, weiter bevorzugt 1 bis 8 Massen-% und insbesondere bevorzugt 2 bis 8 Massen-%.
Zudem enthält die erfindungsgemäß verwendete Entwicklungslösung vorzugsweise ein aromatisches anionisches Tensid zusätzlich zu der vorstehend erwähnten Monoalkoholverbindung und Monoketonverbindung.
(Aromatisches anionisches Tensid)
Das aromatische anionische Tensid, das in der erfindungsgemäßen Entwicklungslösung verwendet wird, besitzt einen Entwicklungsförderungseffekt und den Effekt zum Stabilisieren der Dispersion der Komponenten der polymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht vom negativen Typ und die Komponenten der Schutzschicht und ist daher angesichts der Stabilisierung der Entwicklungsbehandlung erwünscht. Von diesen Verbindungen sind Verbindungen der folgenden Formel (A) oder (B) als das erfindungsgemäß verwendete aromatische anionische Tensid bevorzugt.
Formel (A)
Formel (B)

In der Formel (A) oder (B) stellen R¹ und R³ jeweils unabhängig eine geradkettige oder verzweigte Alkylengruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen dar. Spezifische Beispiele für die Alkylengruppe schließen eine Ethylengruppe, Propylengruppe, Butylengruppe und Pentylengruppe ein. Von diesen Gruppen sind eine Ethylengruppe und Propylengruppe insbesondere bevorzugt.
m und n bezeichnen jeweils unabhängig eine ganze Zahl von 1 bis 100, vorzugsweise 1 bis 30 und weiter bevorzugt 2 bis 20. Wenn m 2 oder mehr beträgt, können die mehreren R³ gleich oder verschieden sein. Wenn n genauso 2 oder mehr ist, können die mehreren R⁵ gleich oder verschieden sein.
R² und R⁴ stellen jeweils unabhängig eine geradkettige oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen dar. Spezifische Beispiele für die Alkylgruppe schließen eine Methylgruppe, Ethylgruppe, Propylgruppe, Butylgruppe, Hexylgruppe und Dodecylgruppe ein. Von diesen Gruppen sind eine Methylgruppe, Ethylgruppe, Isopropylgruppe, n-Propylgruppe, n-Butylgruppe, Isobutylgruppe und tert-Butylgruppe insbesondere bevorzugt.
p und q bezeichnen jeweils unabhängig eine ganze Zahl, die aus 0 bis 2 ausgewählt ist. Y¹ und Y² stellen jeweils unabhängig eine Einfachbindung oder eine Alkylengruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar. Im Einzelnen sind eine Einfachbindung, Methylengruppe und Ethylengruppe bevorzugt und eine Einfachbindung ist insbesondere bevorzugt.
(Z¹)^r+ und (Z²)^s+ stellen jeweils unabhängig ein Alkalimetallion, ein Erdalkalimetall oder ein unsubstituiertes Ammoniumion oder ein Ammoniumion, das mit einer Alkylgruppe substituiert ist, dar. Spezifische Beispiele für (Z¹)^r+ oder (Z²)^s+ schließen ein Lithiumion, Natriumion, Kaliumion, Magnesiumion, Calciumion, Ammoniumion und sekundäre bis quartäre Ammoniumionen, die mit einer Alkylgruppe/Arylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen oder einer Aralkylgruppe substituiert sind, ein. Im Einzelnen ist ein Natriumion bevorzugt. r und s bezeichnen jeweils unabhängig 1 oder 2.

Spezifische Beispiele für diese Verbindungen werden nachstehend erläutert: jedoch sollen diese Beispiele die Erfindung nicht begrenzen.
Die aromatischen anionischen Tenside können entweder unabhängig oder in Kombinationen aus zwei oder mehreren verwendet werden. Bezüglich der Menge des aromatischen anionischen Tensids ist es effektiv, die Menge des Tensids so auszulegen, dass sie in einem Bereich von 1,0 bis 10 Massen-% und weiter bevorzugt in einem Bereich von 2 bis 10 Massen-% ist. Wenn hierbei der Gehalt des Tensids weniger als 1,0 Massen-% beträgt, bewirkt dies Verringerung der Entwicklungseigenschaften und der Löslichkeit der lichtempfindlichen Schichtkomponente. Wenn der Gehalt 10 Massen-% oder mehr beträgt, wird die Druckhaltbarkeit der Druckplatte verringert.
Die erfindungsgemäße Entwicklungslösung kann zusätzlich zu dem vorstehenden aromatischen anionischen Tensid andere Tenside zusammen verwenden. Gegeben als Beispiele für diese anderen Tenside sind nicht-ionische Tenside einschließlich Polyoxyethylenalkylether, wie etwa Polyoxyethylennaphthylether, Polyoxyethylenalkylphenylether, Polyoxyethylenlaurylether, Polyoxyethylencetylether und Polyoxyethylenstearylether, Polyoxyethylenalkylester, wie etwa Polyoxyethylenstearat, Sorbitanalkylester, wie etwa Sorbitanmonolaurat, Sorbitanmonostearat, Sorbitandistearat, Sorbitanmonooleat, Sorbitansesquioleat und Sorbitantrioleat, und Monoglyceridalkylester, wie etwa Glycerinmonostearat und Glycerinmonooleat.
Der Gehalt dieser anderen Tenside in der Entwicklungslösung beträgt 0,1 bis 10 Massen-%, basierend auf der Menge der effektiven Komponenten.
(Chelatisierendes Mittel für zweiwertige Metalle)
Die erfindungsgemäße Entwicklungslösung ist vorzugsweise hergestellt, um ein Chelatisierungsmittel für ein zweiwertiges Metall mit der Absicht zu erhalten, dass die Einflüsse von z. B. Calciumionen, die im harten Wasser enthalten sind, zu unterdrücken. Beispiele für das chelatisierende Mittel für ein zweiwertiges Metall schließen Polyphosphate, wie etwa Na₂P₂O₇, Na₅P₃O₃, Na₃P₃O₉, Na₂O₄P(NaO₃P)PO₃Na₂ und Calgon (Natriumpolymethaphosphat); Aminopolycarbonsäuren, wie etwa Ethylendiamintetraessigsäure und ihre Kaliumsalze, Natriumsalze und Aminsalze, Diethylentriaminpentaessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, Triethylentetraminhexaessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, Nitrilotriessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze und 1,3-Diamino-2-propanoltetraessigsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze; und organische Phosphonsäuren, wie etwa 2-Phosphono-1,2,4-butantricarbonsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, 2-Phosphono-2,3,4-butantricarbonsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, 1-Phosphono-1,2,2-ethantricarbonsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze, 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze und Aminotri(methylenphosphonsäure) und ihre Kaliumsalze und Natriumsalze ein. Von diesen Verbindungen sind Ethylendiamintetraessigsäure und ihre Kaliumsalze, Natriumsalze und Aminsalze, Ethylendiamintetra(methylenphosphonsäure) und ihre Ammoniumsalze und Kaliumsalze; und Hexamethylendiamintetra(methylenphosphonsäure) und ihre Ammonuiumsalze und Kaliumsalze bevorzugt.
Die optimale Menge des chelatisierenden Mittels variiert entsprechend der Härte und Menge des zu verwendenden harten Wassers. Jedoch ist das chelatisierende Mittel in einer Menge von im Allgemeinen 0,01 bis 5 Massen-% und vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Massen-% in der Entwicklungslösung während der Verwendung enthalten.
Zudem können Alkalimetallsalze von organischen Säuren oder anorganischen Säuren als Entwicklungsregulatoren zu der Entwicklungslösung erfindungsgemäß zugegeben werden. Zum Beispiel können Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumcitrat, Kaliumcitrat und Ammoniumcitrat alleine oder in Kombination aus zwei oder mehreren verwendet werden.
(Alkalimittel)
Beispiele für das Alkalimittel, das in der erfindungsgemäßen Entwicklungslösung verwendet wird, schließen anorganische Alkalimittel, wie etwa tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Ammoniumhydroxid und Lithiumhydroxid und organische Alkalimittel, wie etwa Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin, Pyridin und Tetramethylammoniumhydroxid ein. Erfindungsgemäß können diese Verbindungen entweder allein oder in Kombinationen aus zwei oder mehreren verwendet werden.
Zudem schließen Beispiele für Alkalimittel, die sich von den vorstehenden Mitteln unterscheiden, Alkalisilikate ein. Diese Alkalisilikate können in Kombination mit einer Base verwendet werden. Beispiele für die zu verwendenden Alkalisilikate sind diejenigen, die eine Alkalinität zeigen, wenn sie in Wasser aufgelöst werden und schließen Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Lithiumsilikat und Ammoniumsilikat ein. Diese Silikate können entweder allein oder in Kombinationen aus zwei oder mehreren verwendet werden.
Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklungslösung kann leicht auf einen optimalen Bereich eingestellt werden, indem das Mischverhältnis aus Siliziumdioxid SiO₂, das eine Komponente des Silikats ist (Silikat ist eine Komponente, um den Träger Hydrophilizität zu verleihen) zu einem Alkalioxid M₂O (M stellt ein Alkalimetall oder eine Ammoniumgruppe dar), das eine Alkalikomponente ist, und die Konzentrationen dieser Komponenten gesteuert werden. Das Mischverhältnis (molares Verhältnis aus SiO₂/M₂O) aus Siliziumdioxid SiO₂ zu einem Alkalioxid M₂O liegt vorzugsweise in einem Bereich von 0,75 bis 4,0 und weiter bevorzugt in einem Bereich von 0,75 bis 3,5 vom Standpunkt des Unterdrückens des Auftretens von Flecken, die durch überschüssige Lösung (Ätzen) eines anodischen Oxidfilms des Trägers hervorgerufen werden und die Erzeugung von unlöslichem Gas, das durch die Erzeugung eines Komplexes aus aufgelöstem Aluminium und einem Silikat hervorgerufen wird.
Zudem liegt die Konzentration des Alkalisilikats in einer Entwicklungslösung vorzugsweise in einem Bereich von 0,01 bis 1 mol/l und weiter bevorzugt in einem Bereich von 0,05 bis 0,8 mol/l, wenn die Menge an SiO₂, die auf der Masse der Entwicklungslösung basiert, vom Standpunkt des Effektes des Unterdrückens der Auflösung (Ätzen) eines anodischen Oxidfilms des Trägers, Entwicklungsfähigkeit, Effekt des Unterdrückens der Ausfällung und Erzeugung von Kristallen und des Effektes des Verhinderns der Gelbildung, wenn der Entwicklungslösungsabfall neutralisiert wird.
Die erfindungsgemäß verwendete Entwicklungslösung kann die folgenden Komponenten zusammen gemäß dem Bedarf neben den vorstehenden Komponenten verwenden. Beispiele für diese Komponenten schließen organische Carbonsäuren, wie etwa Benzoesäure, Phthalsäure, p-Ethylbenzoesäure, p-n-Propylbenzoesäure, p-Isopropylbenzoesäure, p-n-Butylbenzoesäure, p-t-Butylbenzoesäure, p-2-Hydroxyethylbenzoesäure, Decanonsäure, Salicylsäure und 3-Hydroxy-2-naphthoinsäure; organische Lösungsmittel, wie etwa Propylenglykol; und andere einschließlich Reduktionsmitteln, Farbstoffen, Pigmenten, Wasserweichmachern und Antiseptika ein.
Die Entwicklungslösung, die erfindungsgemäß verwendet wird, besitzt einen pH-Wert in dem Bereich von vorzugsweise 10 bis 12,5 und weiter bevorzugt 11 bis 12,5 bei 25°C. Da die erfindungsgemäße Entwicklungslösung das vorstehend erwähnte Tensid enthält, werden herausragende Entwicklungseigenschaften in dem Nicht-Bildbereich entwickelt, sogar wenn eine Entwicklungslösung mit einem solch niedrigen pH-Wert verwendet wird. Solche Maßnahmen, um der Entwicklungslösung einen niedrigeren pH-Wert zu verleihen, verringern die Schäden an der Bildfläche während dem Entwickeln und verbessern die Handhabungseigenschaften der Entwicklungslösung.
Zudem erfüllt die Leitfähigkeit x der Entwicklungslösung die Gleichung 2 < x < 30 mS/cm und beträgt weiter bevorzugt 5 bis 25 mS/cm.
Hierbei ist es bevorzugt, Alkalimetallsalze von organischen Säuren oder anorganischen Säuren als Leitfähigkeitsregulationsmittel, die die Leitfähigkeit regulieren, zuzugeben.
Die vorstehende Entwicklungslösung kann als eine Entwicklungslösung für einen belichteten Flachdruck-Druckplattenvorläufer und als eine Entwicklungsauffülllösung verwendet werden und wird vorzugsweise auf eine automatische Entwicklungsmaschine angewendet. In dem Fall des Durchführens der Entwicklung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine wird die Entwicklungslösung entsprechend dem Durchlauf erschöpft und eine Wiederauffüllung oder frische Entwicklungslösung kann daher zum Wiederherstellen der Entwicklungsfähigkeit verwendet werden. Dieses Entwicklungssystem wird auch vorzugsweise in dem erfindungsgemäßen Plattenherstellungsverfahren verwendet.
Zur Wiedergewinnung der Entwicklungsfähigkeit der Entwicklungslösung unter Verwendung einer automatischen Entwicklungsmaschine, ist es bevorzugt, unter Verwendung eines Verfahrens, wie in US-PS 4,882,246 beschrieben, wiederaufzufüllen. Entwicklungslösungen, wie in jeder Veröffentlichung von JP-A-50-26601 und 58-54341 und JP-B-56-39464 , 56-42860 und 57-7427 sind auch bevorzugt.
Der Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der auf diese Weise entwickelt wurde, wird einer Nachbehandlung unterzogen, die unter Verwendung von laufendem Wasser, einer Abspüllösung, die Tenside und dergleichen enthält, und einer Schutzgummilösung, die arabischen Gummi und ein Stärkederivat als ihre Hauptkomponenten enthält, durchgeführt. Für die Nachbehandlung des erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers werden diese Behandlungen in verschiedenen Kombinationen verwendet. Die durch solche Behandlungen erhaltene Flachdruck-Druckplatte wird in einem Offset-Drucker platziert und zum Drucken einer Anzahl von Kopien verwendet.
In dem Verfahren zur Herstellung einer erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplatte kann das entwickelte Bild einer Nacherhitzungsbehandlung und Belichtung, die auf der gesamten Oberfläche zum Zweck des Verstärkens der Bildfestigkeit und Druckhaltbarkeit durchgeführt wird, unterzogen werden.
Sehr starke Bedingungen können bei dem Erhitzen nach Entwicklung des Bildes verwendet werden. Das Erhitzen wird gewöhnlich bei einer Temperatur in einem Bereich von 200 bis 500°C durchgeführt. Wenn die Erhitzungstemperatur nach der Entwicklungsbehandlung zu niedrig ist, wird nur ein unzureichender Bildverfestigungseffekt erhalten, wohingegen, wenn die Erhitzungstemperatur zu hoch ist, Befürchtungen einer Verschlechterung des Trägers und einer thermischen Zersetzung der Bildfläche bestehen.
Die durch solche Behandlungen erhaltene Flachdruck-Druckplatte wird in einem Offset-Drucker platziert und zum Drucken einer Anzahl von Kopien verwendet.
Als das Plattenreinigungsmittel, das zum Entfernen von Flecken auf der Platte während dem Drucken verwendet wird, wird ein herkömmliches bekanntes Plattenreinigungsmittel für PS-Patte verwendet. Beispiele für das Plattenreinigungsmittel schließen CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR und IC (hergestellt von Fuji Photo Film Co. Ltd.) ein.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird detaillierter anhand von Beispielen beschrieben, die jedoch den erfindungsgemäßen Umfang nicht beschränken sollen.
Beispiel 1
(Herstellung eines Trägers)
Eine 0,30 mm dicke und 1030 mm breite JIS A 1050-Aluminiumplatte wurde zum Durchführen der folgenden Oberflächenbehandlung verwendet.
<Oberflächenbehandlung>
Bei der Oberflächenbehandlung wurden die folgenden verschiedenen Behandlungen (a) bis (f) kontinuierlich durchgeführt. Nach jeder Behandlung und Waschen wurde eine Abquetschwalze für den Wasserablauf verwendet.

(a) Die Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterzogen, die unter der folgenden Bedingung durchgeführt wurde: Konzentration an kaustischem Soda: 26 Massen-%, Konzentration an Ammoniumionen: 6,5 Massen-% und Temperatur: 70°C, zum Auflösen von 5 g/m² der Aluminiumplatte, gefolgt vom Waschen mit Wasser.
(b) Die Aluminiumplatte wurde einer Schmutzentfernungsbehandlung unterzogen, die unter Verwendung einer wässrigen 1 Massen-%igen Salpetersäurelösung (einschließlich 0,5 Massen-% Aluminiumionen) unterzogen wurde, die bei 30°C unter Sprühen gehalten wurde, gefolgt vom Waschen mit Wasser.
(c) Die Aluminiumplatte wurde einer elektrochemischen Oberflächenaufrauungsbehandlung unterzogen, die unter Verwendung eines 60 Hz AC-Stroms durchgeführt wurde. Die Elektrolytlösung, die zu dieser Zeit verwendet wurde, war eine wässrige 1 Massen-%ige Salpetersäurelösung (einschließlich 0,5 Massen-% Aluminiumionen und 0,07 Massen-% Ammoniumionen), die bei 30°C gehalten wurden. Eine elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung wurde unter Verwendung einer AC-Stromquelle mit einer trapezförmigen rechteckigen AC-Stromwelle mit den folgenden Eigenschaften durchgeführt: die Zeit TP, die benötigt wurde, damit der Strom einen Peak von Null erreichte: 2 ms und das Lastverhältnis: 1:1 und zudem die Verwendung einer Kohlenstoffelektrode als die Gegenelektrode. Ferrit wurde als die Hilfsanode verwendet. Die Stromdichte betrug 25 A/dm², wenn der Strom einen Peak erreichte und die Elektrizitätsmenge betrug 250 C/cm² als die Summe der Elektrizitätsmenge, wenn die Aluminiumplatte als die Anode diente. 5% des Stroms, der von der Stromquelle strömte, wurde zu der Hilfsanode verteilt und dann wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(d) Die Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterzogen, die unter Sprühen unter den folgenden Bedingungen durchgeführt wurde: Konzentration an kaustischem Soda: 26 Massen-%, Konzentration an Ammoniumionen: 6,5 Massen-% und Temperatur: 35°C, zum Auflösen von 0,2 g/m² der Aluminiumplatte, um hierdurch die Schmutzkomponente zu entfernen, die hergestellt wurde, wenn die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung unter Verwendung des AC-Stroms in dem vorherigen Schritt und primär enthaltendes Aluminiumhydroxid zu entfernen und den Kantenteil der erzeugten Vertiefung aufzulösen, wodurch der Kantenteil geglättet wird. Dann wurde die Aluminiumplatte mit Wasser gewaschen.
(e) Die Aluminiumplatte wurde einer Schmutzentfernungsbehandlun^g unterzogen, die unter Verwendung einer 25 Massen-%igen Schwefelsäurelösung (einschließlich 0,5 Massen-% Aluminiumionen), die bei 60°C unter Sprühen gehalten wurde, unterzogen, gefolgt vom Waschen mit Wasser.
(f) Die Aluminiumplatte wurde einer anodischen Oxidationsbehandlung unter den folgenden Bedingungen unterzogen: Konzentration an Schwefelsäure: 170 g/l (die 0,5 Massen-% Aluminiumionen enthielt), Temperatur: 33°C und Stromdichte: 5 (A/dm²9 für 50 Sekunden, gefolgt vom Waschen mit Wasser. Das Gewicht des anodischen Oxidfilms zu dieser Zeit betrug 2,7 g/m².

Die Oberflächenrauigkeit Ra des Aluminiumträgers, der auf diese Weise erhalten wurde, war 0,27 (Messvorrichtung: SURFCOM, hergestellt von TOKYO SEIMITSU Co., Ltd., Durchmesser des Spurkopfes: 2 mμm).
<Unterbeschichtungsschicht>
Als Nächstes wurde die folgende Unterbeschichtungsschicht-Beschichtungslösung auf diesen Aluminiumträger unter Verwendung eines Drahtstabs aufgetragen und bei 90°C 30 min getrocknet. Die Menge war 10 mg/m². (Unterbeschichtungsschicht-Beschichtungslösung)

– Hochmolekulare Verbindung A mit der folgenden Struktur

0,05 g

– Methanol 27 g

– Ionenaustauscherwasser 3 g

Verbindung A mit hohem Molekulargewicht
(Lichtempfindliche Schicht)

Als Nächstes wurde die folgende lichtempfindliche Schichtbeschichtungslösung (P-1) hergestellt und auf den vorstehenden Aluminiumträger unter Verwendung eines Drahtstabs aufgetragen. Ein Trocknungsverfahren wurde bei 115°C für 34 Sekunden in einer Heißlufttrocknungsvorrichtung durchgeführt und so eine Flachdruck-Druckplatte erhalten. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen des Films betrug 1,3 g/m². <Lichtempfindliche Schicht-Beschichtungslösung (P-1)>

– IR-Absorptungsmittel (IR-1)	0,074 g
– Fotopolymerisationsinitiator (OS-12)	0,280 g
– Additiv (PM-1)	0,151 g
– Polymerisierbare Verbindung (AM-1)	1,00 g
– Spezifisches Binderpolymer (BT-1)	1,00 g
– Ethyl Violet (C-1)	0,04 g
– Fluoriertes Tensid (MEGAFACE F-780-F,
hergestellt von Dainippon Ink and
Chemicals, Incorporated, Methylisobutylketon
(MIBK) 30 Massen-%ige Lösung)	0,015 g
– Methylethylketon	10,4 g
– Methanol	4,83 g
– 1-Methoxy-2-propanol	10,4 g

Der Fotopolymerisationsinitiator (OS-12), der in der vorstehenden lichtempfindlichen Schichtbeschichtungslösung verwendet wurde, gibt eine Verbindung an, die als Beispiele für das Oniumsalz der Formel (1) angegeben wird. Zudem wird jede Struktur des vorstehend erwähnten IR-Absorbers (IR-1), Additivs (PM-1), polymerisierbaren Verbindung (AM-1), Binderpolymer (BT-1) und Ethyl Violet (C-1) nachstehend gezeigt.
(Schutzschicht)
(1) Herstellung einer Dispersionslöung einer Glimmerverbindung
6,4 g synthetischer Glimmer (Handelsname: SOMASIF ME-100, hergestellt von Cope Chemical, Aspektverhältnis: 1000 oder mehr) wurden zu 19,36 g Wasser gegeben und dispergiert bis der durchschnittliche Teilchendurchmesser (kreisäquivalenter Durchmesser) 3 μm betrug (Laserströmungsverfahren), und so eine Glimmerdispersionslösung erhalten.
(2) Auftragen einer Schutzschicht-Beschichtungslösung
Eine wässrige Mischungslösung (Schutzschicht-Beschichtungslösung) der erhaltenen Glimmerdispersionslösung, ein spezifischer Polyvinylalkohol (Handelsname: PVA-203, hergestellt von Kuraray Co., Ltd., Verseifungswert: 88 mol%, Polymerisationsgrad: 300), ein Copolymer aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat (Handelsname: LUVITEC VA64W, hergestellt von ICP, Polyvinylpyrrolidon/Vinylacetat = 6/4) und ein Tensid (Handelsname: Emalex 710) wurden auf die Oberfläche der vorstehenden lichtempfindlichen Schicht durch einen Drahtstab aufgetragen und bei 125°C 75 Sekunden in einer Heißluft-Trocknungsvorrichtung getrocknet.
Das Verhältnis des Feststoffgehalts des Glimmer/spezifischen Polyvinylalkohol/Copolymers aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat/Tensid in dieser wässrigen Mischungslösung betrug 16/80/2/2 (Massen-%) und die gesamte Beschichtungsmenge (Beschichtungsmenge nach dem Trocknen) betrug 1,15 g/m².
So wurde ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Beispiel 1 erhalten.
Beispiele 2 bis 11
Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Beispielen 2 bis 11 wurden auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten bis darauf, dass die Art und der Gehalt der Glimmerverbindung, die Art der Binderkomponente (spezifischer Polyvinylalkohol) und die gesamte Beschichtungsmenge in diejenigen in der folgenden Tabelle 1 in der Zusammensetzung der wässrigen Mischungslösung (Schutzschicht-Beschichtungslösung) von Beispiel 1 geändert wurden. In dem Fall des Änderns des Gehalts der Glimmerverbindung wurde dieser Gehalt durch den Gehalt des Copolymers aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat eingestellt.
Vergleichsbeispiel 1
Ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Vergleichsbeispiel 1 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten bis darauf, dass in der wässrigen Mischungslösung (Schutzschicht-Beschichtungslösung) von Beispiel 1 die Binderkomponente in PVA-105 (Handelsname, hergestellt von Kuraray Co., Ltd., Verseifungsgrad: 98,5 mol%) von PVA-203 geändert wurde und die Zusammensetzung so geändert wurde, dass das Verhältnis von PVA-105/Copolymer aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat/Tensid 78/20/2 (Massen-%) betrug und die gesamte Beschichtungsmenge (Beschichtungsmenge nach dem Trocknen) wurde in 2,00 g/m² geändert.
Vergleichsbeispiel 2
Ein Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Vergleichsbeispiel 2 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten bis darauf, dass in der Mischungslösung (Schutzschicht-Beschichtungslösung) von Beispiel 1 die Binderkomponente in einen säuremodifizierten Polyvinylalkohol (Handelsname: KL-506, hergestellt von Kuraray Co., Ltd., Verseifungswert: 77 mol%) von PVA-203 geändert wurde und die Zusammensetzung so geändert wurde, dass das Verhältnis von KL-506/Copolymer aus Polyvinylpyrrolidon und Vinylacetat/Tensid 96/2/2 (Massen-%) betrug und die Gesamtbeschichtungsmenge (Beschichtungsmenge nach dem Trocknen9 wurde in 1,00 g/m² geändert.
Bewertung
(1) Bewertung der Empfindlichkeit
Der erhaltene Flachdruck-Druckplattenvorläufer wurde in einem TRENDSETTER 3244 (Handelsname, hergestellt von Creo) unter den folgenden Bedingungen belichtet: Auflösung: 2400 dpi und Rotation der äußeren Trommeloberfläche: 150 U/min, unter Variation der Leistung in Stufen von 0,15 als log E in einem Leistungsbereich von 0 bis 8 W. Der Vorläufer wurde unter den Bedingungen von 25°C und 50% relativer Feuchtigkeit belichtet. Nach dem Belichten wurde der Vorläufer bei einer Entwicklungstemperatur von 30°C bei einer Beförderungsgeschwindigkeit (Zeilengeschwindigkeit) von 2 m/min in einer automatischen Entwicklungsmaschine LP-1310HII, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd., ohne Durchführen einer Heizbehandlung und Wasserwaschbehandlung entwickelt. DH-N, verdünnt mit Wasser (1:4), wurde als die Entwicklungslösung verwendet und GN-2K (Handelsname, hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), verdünnt mit Wasser (1:1) wurde als das Endbehandlungsmittel verwendet.
Bezüglich der Dichte des Bildbereichs der nach Entwicklung erhaltenen Flachdruck-Druckplatte wurde die Cyandichte unter Verwendung eines Macbeth-Reflexionsdichtemessgeräts RD-918 gemessen und ein Rotfilter auf das Dichtemessgerät aufgesetzt. Der Umkehrwert der Belichtungsmenge, die zum Erhalt einer Cyandichte von 0,8 notwendig ist, ist als ein Index der Empfindlichkeit definiert. In den Ergebnissen der Bewertung wurde die Empfindlichkeit der Flachdruck-Druckplatte, die in Vergleichsbeispiel 1 erhalten wurde, auf 100 eingestellt, und so jeweils jede Empfindlichkeit von anderen Flachdruck-Druckplatten bewertet. Je größer der Wert ist, desto höher ist die Empfindlichkeit. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt.
(2) Bewertung der Bildqualität
80% des Schirmfarbtonbilds auf dem erhaltenen Flachdruck-Druckplattenvorläufer wurde in einem TRENDSETTER 3244 (Handelsname, hergestellt von Creo) unter den folgenden Bedingungen belichtet: Auflösung: 2400 dpi, Leistung: 7 W, Rotation der äußeren Oberfläche der Trommel: 150 U/min und Energie auf der Platte: 110 mJ/cm². Nach der Belichtung wurde der Vorläufer auf die gleiche Weise wie bei der vorstehenden Bewertung der Empfindlichkeit entwickelt. Die Schirmfarbton-Ungleichförmigkeit der resultierenden Flachdruck-Druckplatte wurde visuell beobachtet. Jede Platte wurde funktionell gemäß den Bewertungen 1 bis 5 bewertet, wobei die Bewertung 3 eine in der Praxis tolerierbare untere Grenze war und die Bewertung 2 eine in der Praxis nicht tolerierbares Niveau war.
(3) Bewertung der Druckleistungen
Die Flachdruck-Druckplatte, die in (2) Bewertung der Bildqualität Drucken unterzogen wird, das unter Verwendung eines Druckers (Handelsname: Lithron, hergestellt von Komori Corporation (K.K.) durchgeführt wurde, um den Grad an Flecken in der Nicht-Bildfläche und die Druckhaltbarkeit zu bewerten. Die Flecken in der Nicht-Bildfläche wurden funktional gemäß den Bewertungen 1 bis 5 bewertet, wobei die Rate 3 eine praktisch tolerierbare untere Grenze und die Bewertung 2 oder weniger eine praktisch nicht tolerierbare Grenze ist.
(4) Bewertung der Bindungsbeständigkeit
Die Feuchtigkeit der erhaltenen drei Flachdruck-Druckplattenvorläufer (10 × 10 cm) wurde unter den Bedingungen von 25°C und 75% relativer Feuchtigkeit für 2 Stunden gesteuert und dann wurden diese drei Vorläufer eine nach der anderen in den gleichen Richtungen unter solchen Bedingungen laminiert, dass kein Zwischenschichtblatt dazwischen eingefügt wurde. Dieses Laminat wurde in einer Verpackung von Al Kraftpapier versiegelt und bei 30°C 5 Tage unter einer Last von 4 kg stehen gelassen. Das resultierende Laminat wurde bezüglich des Adhäsionszustand zwischen der lichtempfindlichen Lichtseitenoberfläche (Schutzschichtoberfläche) eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers und der Trägerseitenoberfläche eines anderen Flachdruck-Druckplattenvorläufers, der benachbart zu dem ersten Flachdruck-Druckplattenvorläufer ist, bewertet. Die Bindungsbeständigkeit wurde funktionell gemäß den Bewertungen 1 bis 5 bewertet, wobei die Bewertung 3 eine praktisch tolerierbare untere Grenze war und die Bewertung 2 oder weniger ein praktisch nicht tolerierbares Niveau war.
(5) Bewertung der Verschmutzung in dem Entwicklungsbehälter
Unter Verwendung eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers, der auf die gleiche Weise wie in vorstehender (2) Bewertung der Bildqualität belichtet wurde, wurde der Flachdruck- Druckplattenvorläufer mit einer Menge entwickelt, die äquivalent zu 3000 m² in 45 L einer Entwicklungslösung war. Dann wurde die Entwicklungslösung entladen, um Verschmutzung in dem Entwicklungslösungsbehälter visuell zu beobachten. Die Verschmutzung wurde funktionell gemäß den Bewertungen 1 bis 5 bewertet, wobei die Bewertung 3 eine in der Praxis tolerierbare untere Grenze und Bewertung 2 oder weniger eine in der Praxis nicht tolerierbares Niveau war.
Die Bewertungen der vorstehenden Tests werden in Tabelle 1 gezeigt.
Es ist aus Tabelle 1 offensichtlich, dass die Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Beispielen 1 bis 11, d. h. die Flachdruck-Druckplattenvorläufer, die eine Schutzschicht umfassen, die eine Glimmerverbindung und einen spezifischen Polyvinylalkohol auf einer polymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht vom negativen Typ enthalten, eine hohe Empfindlichkeit und hohe Bildqualität besaßen, gegenüber Flecken in dem Nicht-Bildbereich während dem Drucken beständig waren und eine überlegende Druckhaltbarkeit besaßen. Zudem wurden auch bei Aufbewahrung unter der Bedingung vor Feuchtigkeit keine Anhaftung der Flachdruck-Druckplattenvorläufer aneinander festgestellt, und es wurde auch festgestellt, dass sogar wenn ein Vorwasser-Waschschritt weggelassen wurde und die Entwicklungsbehandlung kontinuierlich durchgeführt wurde, die Innenwand des Entwicklungslösungsbehälters nicht verschmutzt wurde.
Andererseits wurde festgestellt, dass der Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Vergleichsbeispiel 1, der mit einer Schutzschicht ausgestattet war, die nicht sowohl die Glimmerverbindung als auch den spezifischen Polyvinylalkohol enthielt, das praktische Problem besaß, dass die Flachdruck-Druckplattenvorläufer aneinander nach Aufbewahrung unter der Bedingung hoher Feuchtigkeit anhafteten, wobei die Bindungsbeständigkeit signifikant verschlechtert war, und es eine Verschmutzung auf der Innenseitenwand eines Entwicklungslösungsbehälters gab, wenn der Vorwasser-Waschschritt weggelassen wurde und kontinuierliche Entwicklungsbehandlung durchgeführt wurde. Es wird angenommen, dass die Erzeugung von Verschmutzung in dem Entwicklungslösungsbehälter durch die Ausfällung und Koagulation von Polyvinylalkohol zusammen mit einer Zunahme der Konzentration von Polyvinylalkohol, das in der Entwicklungslösung aufgelöst ist, hervorgerufen wird, da Polyvinylalkohol mit einem hohen Verseifungsgrad verwendet wird und die Menge der aufgetragenen Schutzschicht groß ist.
Darüber hinaus wurde festgestellt, dass der Flachdruck-Druckplattenvorläufer von Vergleichsbeispiel 2, der mit einer Schutzschicht ausgestattet war, die einen spezifischen Polyvinylalkohol und keine Glimmerverbindung enthielt, eine schwächere Empfindlichkeit, Bildqualität, Druckhaltbarkeit und Bindungsbeständigkeit, wenn mit jedem der Flachdruck-Druckplattenvorläufer, die in Beispielen 1 bis 11 erhalten wurden, besaß, obwohl festgestellt wurde, dass sie eine herausragende Beständigkeit gegenüber Flecken in dem Nicht-Bildbereich und Verschmutzung in dem Entwicklungsbehälter während dem Drucken besaßen.
Die Erfindung kann einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereitstellen, der Beschreiben unter Verwendung von IR-Laser ermöglicht, mit einer Schutzschicht ausgestattet ist und die Produktivität bei Plattenherstellungsverfahren verbessern kann, und stellt zudem ein Verfahren zur Herstellung eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers bereit.
Im Einzelnen kann die Erfindung einen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereitstellen, der Beschreiben unter Verwendung von IR-Laser ermöglicht, die Polymerisationsinhibierung verhindert, eine überlegene Entwicklungsentfernbarkeit besitzt und zudem mit einer Schutzschicht ausgestattet ist, die die Bindungsbeständigkeit der lichtempfindlichen Schichtseitenoberfläche (der Oberfläche der Schutzschicht) eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers gegenüber der Trägerseitenoberfläche eines Flachdruck-Druckplattenvorläufers, die zu dem vorstehenden Flachdruck-Druckplattenvorläufer benachbart ist, verbessert, wenn diese Flachdruck-Druckplattenvorläufer laminiert werden, und stellt zudem ein Verfahren zur Plattenherstellung aus dem Vorläufer bereit.

Claims

Planographie-Druckplattenvorläufer umfassend eine fotoempfindliche Schicht, die einen Infrarotabsorber, einen Polymerisationsstarter, eine polymerisierbare Verbindung und ein Bindemittelpolymer enthält, und eine Schutzschicht, die in dieser Reihenfolge auf einen Träger laminiert sind, wobei die Schutzschicht eine Glimmerverbindung und wenigstens einen Polyvinylalkohol ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Polyvinylalkohol mit einer Verseifungszahl von 90 mol% oder weniger und einem säuremodifizierten Polyvinylalkohol enthält.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, wobei die aufgetragene Menge der Schutzschicht 0,5 g/m² bis 1,5 g/m² beträgt.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1 oder 2, wobei der Gehalt der Glimmerverbindung von 5 Massen% bis 55 Massen%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der Schutzschicht, beträgt.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das Bindemittelpolymer eine sich wiederholende Einheit aufweist, die durch die folgende Formel (i) dargestellt wird:
wobei R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt, R² eine Verbindungsgruppe darstellt, die zwei oder mehr Atome ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom enthält und die Gesamtanzahl der Atome in R² 2 bis 82 beträgt, A ein Sauerstoffatom oder -NR³-darstellt, wobei R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen darstellt, und n eine ganze Zahl von 1 bis 5 darstellt.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Glimmerverbindung ein Seitenverhältnis von 20 oder mehr aufweist.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die fotoempfindliche Schicht ferner einen Farbstoff oder ein Pigment als farbgebende Substanz enthält.
Verfahren zum Herstellen einer Planographie-Druckplatte umfassend Belichten des Planographie-Druckplattenvorläufers, wie in einem der Ansprüche 1 bis 6 beansprucht, mit Licht einer Wellenlänge von 750 bis 1.400 nm und anschließendem Durchführen einer Entwicklungsbehandlung bei einer Fördergeschwindigkeit von 1,25 m/min oder mehr im wesentlichen ohne Wärmebehandlung und ohne Wasserwaschbehandlung.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der Infrarotabsorber durch die folgende Formel (a) dargestellt wird:
wobei X¹ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -NPh₂,X²-L¹ oder eine durch die folgende Strukturformel dargestellte Gruppe darstellt, X² ein Sauerstoffatom, ein Stickstoffatom oder ein Schwefelatom darstellt, L¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt, einen aromatischen Ring mit einem Heteroatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen enthaltend ein Heteroatom, das N, S, O, ein Halogenatom oder Se ist, R¹ und R² unabhängig voneinander eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellen, Ar¹ und Ar² gleich oder verschieden sein können und jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe darstellen, die eine Substituentengruppe aufweisen kann, Y¹ und Y² gleich oder verschieden sein können und jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellen, R³ und R⁴ gleich oder verschieden sein können und jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellen, die eine Substituentengruppe aufweisen können, R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸ gleich oder verschieden sein können und jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen darstellen, Za^– ein Gegenanion darstellt, außer wenn der durch die Formel (a) dargestellte Infrarotabsorber eine anionische Substituentengruppe in seiner Struktur aufweist und keine Ladungsneutralisation notwendig ist,
wobei Xa^– die gleiche Bedeutung wie Za^– hat und R^a eine Substituentengruppe darstellt, die aus einem Wasserstoffatom, einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe, einer substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe und einem Halogenatom ausgewählt ist.
Planographie-Druckplattenvorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei der in der Schutzschicht enthaltene wenigstens eine Polyvinylalkohol ein säuremodifizierter Polyvinylalkohol ist.