DE602004011160T2

DE602004011160T2 - Photosensible Zusammensetzung und lithographischer Druckplattenvorläufer, der diese Zusammensetzung verwendet.

Info

Publication number: DE602004011160T2
Application number: DE602004011160T
Authority: DE
Inventors: Hiromitsu Yoshida-cho Haibara-gun Yanaka; Takahiro Yoshida-cho Haibara-gun Goto
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2003-09-24
Filing date: 2004-09-24
Publication date: 2008-12-24
Anticipated expiration: 2024-09-25
Also published as: ATE383246T1; JP2005099287A; EP1518704A1; DE602004011160D1; US20050064331A1; US7279266B2; EP1518704B1; JP4384464B2

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtempfindliche Zusammensetzung und einen lithographischen Druckplattenvorläufer unter Verwendung derselben. Im Einzelnen betrifft die vorliegende Erfindung eine lichtempfindliche Zusammensetzung, die als lichtempfindliche Schicht eines negativen lithographischen Druckplattenvorläufers nützlich ist, und betrifft zudem einen negativen lithographischen Druckplattenvorläufer unter Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
Als lithographische Druckplattenvorläufer sind diejenigen, die einen hydrophilen Träger mit darauf bereitgestellter lipophiler lichtempfindlicher Harzschicht umfassen, bisher weithin verwendet worden. Als die Plattenherstellungsverfahren werden Verfahren zum Erhalten gewünschter Druckplatten durch Maskenbelichtung (Belichtung mit offenem Rahmen) über einen Lithfilm und dann Auflösen und Entfernen der Nicht-Bildfläche gewöhnlich verwendet.
Digitalisierungstechniken zum elektronischen Verarbeiten, Akkumulieren und Ausgeben von Bilddaten unter Verwendung eines Computers sind in den letzten Jahren vorherrschend geworden, und verschiedene Bildausgabesysteme, die diesen Digitalisierungstechniken entsprechen, sind zur praktischen Anwendung gelangt. Folglich besteht eine große Nachfrage nach einer Computer-zu-Platten (CTP) Technik zum direkten Herstellen einer Druckplatte durch Abtasten digitalisierter Bilddaten ohne Verwendung eines Lithfilms mit hochkonvergentem Licht, wie etwa Laserstrahl. Bei einer solchen Tendenz ist es ein wichtiges technisches Unterfangen gewesen, einen Druckplattenvorläufer zu erhalten, der einen solchen Zweck gut angepasst ist.
Als ein solcher lithographischer Druckplattenvorläufer, mit dem eine Abtastbelichtung durchgeführt werden kann, sind ein lithographischer Druckplattenvorläufer mit einer Zusammensetzung, die einen hydrophilen Träger mit darauf bereitgestellter lipophiler lichtempfindlicher Harzschicht (nachstehend manchmal als "eine lichtempfindliche Schicht" bezeichnet) umfasst, die eine lichtempfindliche Verbindung enthält, mit der eine aktive Spezies, wie etwa ein Radikal und eine Bronsted Säure, durch Laserbelichtung erzeugt werden kann, bisher vorgeschlagen worden und Druckplattenvorläufer dieser Art sind auf den Markt gelangt. Eine negative lithographische Druckplatte kann durch Abtastbelichten des lithographischen Druckplattenvorläufers mit Laserstrahlen auf der Basis von digitalen Daten unter Erzeugung aktiver Spezies erhalten werden, wobei so physikalische oder chemische Änderungen in der lichtempfindlichen Schicht durch die Wirkung der aktiven Spezies hervorgerufen werden, und so die lichtempfindliche Schicht unlöslich gemacht wird, und dann eine Entwicklungsbearbeitung des lithographischen Druckplattenvorläufers durchgeführt wird.
Als ein negativer lithographischer Druckplattenvorläufer ist ein negativer lithographischer Druckplattenvorläufer bekannt, der einen hydrophilen Träger mit einer darauf bereitgestellten lichtempfindlichen Schicht vom Photopolymerisationstyp umfasst, die einen Hochgeschwindigkeitspolymerisationsinitiator, eine additionspolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindung, und ein Binderpolymer, das in Alkalientwicklungslösung löslich ist, und gegebenenfalls eine Sauerstoffabschirmschutzschicht (siehe z. B. Patentdruckschrift 1) umfasst. Lithographische Druckplattenvorläufer dieser Art besitzen erwünschte Druckeigenschaften, z. B. herausragende Produktivität und führen ferner ein Entwicklungsverfahren leicht aus, besitzen eine herausragende Auflösungsleistung und Tintenaufnahmefähigkeit.
Als das Binderpolymer werden Alkali entwickelbare organische Polymere, z. B. ein Methacrylsäurecopolymer, ein Acrylsäurecopolymer, ein Itaconsäurecopolymer, ein Crotonsäurecopolymer, ein Maleinsäurecopolymer, und ein partiell verestertes Maleinsäurecopolymer verwendet (siehe z. B. Patentdruckschriften 2 bis 9).
Zudem ist es zum Verbessern der Filmbeschichtungseigenschaften, Alterungsstabilität und Drucklebensdauer offenbart, ein Polyurethanharz mit einer Allylgruppe als das Binderpolymer in einer lichtempfindlichen Schicht zu verwenden (siehe z. B. Patentdruckschrift 10).
Jedoch ist eine lichtempfindliche Zusammensetzung, mit der Aufzeichnen mit hoher Empfindlichkeit durchgeführt werden kann und sowohl Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und Filmerzeugungseigenschaften erfüllt werden können, bisher noch nicht erhalten worden. Demgemäß ist, zum jetzigen Zeitpunkt, ein negativer lithographischer Druckplattenvorläufer, mit dem hochempfindliches Aufzeichnen mit IR-Laserstrahlen und herausragender Lagerstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und Drucklebensdauer erreicht werde können, bisher noch nicht erhalte worden.
[Patentdruckschrift 1]

JP-A-10-195119 (Der Ausdruck "JP-A", wie hierin verwendet, bezeichnet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung".)

[Patentdruckschrift 2]

JP-A-59-44615

[Patentdruckschrift 3]

JP-B-54-34327 (Der Ausdruck "JP-B", wie hierin verwendet, bezeichnet eine "geprüfte japanische Patentveröffentlichung".

[Patentdruckschrift 4]

JP-B-58-12577

[Patentdruckschrift 5]

JP-B-54-25957

[Patentdruckschrift 6]

JP-A-54-92723

[Patentdruckschrift 7]

JP-A-59-53836

[Patentdruckschrift 8]

JP-A-59-71048

[Patentdruckschrift 9]

JP-A-2002-40652

[Patentdruckschrift 10]

JP-A-2712564

US-A1-2003/0068575 beschreibt einen lithographischen Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit darauf bereitgestellter lichtempfindlicher Schicht, die mindestens (A) ein IR-Absorptionsmittel, (B) ein Oniumsalz, (C) eine radikalisch polymerisierbare Verbindung, (D) ein binderpolymer und (E) einen organischen Farbstoff oder dessen Vorläufer, mit denen eine Farbtonänderung bei Belichtung durchgeführt werden kann, enthält, umfasst.
US-A1-2003/0082475 betrifft eine lithographische Druckplatte, die ein Substrat und eine lichtempfindliche Schicht umfasst, die einen in Alkali unlöslichen Polymerbinder, ein durch freies Radikal polymerisierbares ethylenisch ungesättigtes Monomer mit mindestens einer endständigen ethylenischen Gruppe, ein IR-Absorptionsfarbstoff, und einen freien radikalischen Initiator, der aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Oniumsalz und Boratsalz besteht, umfasst.
EP-A2-1 176 007 betrifft ein negatives Bildaufzeichnungsmaterial, das ein IR-Absorber, einen thermischen radikalischen Generator und eine radikalisch polymerisierbare Verbindung einschließt.
EP-A2-1 182 032 beschreibt eine negative Flachdruckdruckplatte, die ein Substrat umfasst, das darauf einer Aufzeichnungsschicht trägt, die eine polymerisierbare Verbindung und ein IR-Absorptionsmittel enthält.
EP-A2-1 285 749 betrifft einen negativen Flachdruckdruckplattenvorläufer, der eine negative Aufzeichnungsschicht und einen Träger einschließt, worin der Träger eine hydrophile Oberfläche mit hydrophilen Pfropfpolymerketten, die darauf vorhanden sind, besitzt, und worin die negative Aufzeichnungsschicht einen radikalischen Generator, eine radikalisch polymerisierende Verbindung, und ein fotothermisches Umwandlungsmittel enthält.
Die vorliegende Erfindung zielt auf die Lösung der vorstehenden Probleme und das Erreichen der folgenden Aufgaben ab.
Im Einzelnen ist es ein erfindungsgemäßes Ziel, eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit guter Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und mit der ein gehärteter Film mit hoher Empfindlichkeit durch Belichtung erzeugt werden kann, bereitzustellen.
Ein anderes erfindungsgemäßes Ziel ist es, einen negativen Typ bereitzustellen, mit dem hochempfindliches Aufzeichnen mit IR-Laserstrahlen und herausragender Lagerstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und Drucklebensdauer erreicht werden kann.
Andere erfindungsgemäße Aufgaben werden aus der folgenden Beschreibung ersichtlich.
Die vorstehenden Aufgaben können durch die folgenden Mittel erreicht werden.
Im Einzelnen umfasst die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung:

(A) eine polymerisierbare Verbindung der folgenden Formel (I): A-{O-[(CH(-R¹)CH(-R²))_m-O)_n-C(=O)-C(-R³)=CH₂}_p (I)worin R¹, R² und R³ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellen, A einen mehrwertigen Alkoholrest oder eine mehrwertigen Phenolrest darstellt, m eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt, n eine ganze Zahl von 2 bis 10 darstellt, und p eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt; und worin die Menge von (A) 50 bis 100 Gew.-%, basierend auf den gesamten polymerisierbaren Verbindungen in der Zusammensetzung beträgt;
(B) ein IR-Absorptionsmittel; und
(C) ein Oniumsalz.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung enthält vorzugsweise (D) ein Binderpolymer mit einer vernetzbaren Gruppe.
Ferner enthält die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung eine polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst.
Der erfindungsgemäße lithographische Druckplattenvorläufer umfasst einen Träger mit einer darauf bereitgestellten lichtempfindlichen Schicht, die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung enthält und ferner andere Schichten aufweisen kann, die je nach Anforderungen bereitgestellt sind (z. B. eine Schutzschicht, eine Zwischenschicht, eine rückwärtige Beschichtungsschicht und dergleichen). Es ist bevorzugt, dass der erfindungsgemäße lithographische Druckplattenvorläufer eine Schutzschicht besitzt.
Die vorliegende Erfindung kann eine lichtempfindliche Zusammensetzung mit guter Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und mit der ein gehärteter Film mit hoher Empfindlichkeit durch Belichtung erzeugt werden kann, bereitstellen. Die vorliegende Erfindung kann zudem einen lithographischen Druckplattenvorläufer vom negativen Typ bereitstellen, mit dem Aufzeichnen mit hoher Empfindlichkeit durch IR-Laserstrahlen und herausragende Lagerstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) und Drucklebensdauer erhalten werden kann.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend detailliert beschrieben.
Lichtempfindliche Zusammensetzung:
Die lichtempfindliche Zusammensetzung umfasst erfindungsgemäß:

(A) eine polymerisierbare Verbindung der folgenden Formel (I): A-{O-[(CH(-R¹)CH(-R²))_m-O]_n-C(=O)-C(-R³)=CH₂}_p (1)worin R¹, R² und R³ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellen, A einen mehrwertigen Alkoholrest oder einen mehrwertigen Phenolrest darstellt, m eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt, n eine ganze Zahl von 2 bis 10 darstellt und p eine ganze Zahl von 1 bis 6 darstellt;
(B) ein IR-Absorptionsmittel; und
(C) ein Oniumsalz.

In einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die ein IR-Absorptionsmittel und einen Polymerisationsinitiator enthält, agglomerieren das IR-Absorptionsmittel und der Polymerisationsinitiator gewöhnlich mit dem Verstreichen der Zeit.
Jedoch wird angenommen, dass die Agglomeration eines IR-Absorbers und eines Polymerisationsinitiators mit der Zeit in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung beschränkt wird, indem eine polymerisierbare Verbindung der Formel (I) verwendet wird, die ein Alkylenoxid in dem Molekül (die polymerisierbare Verbindung der Formel (I)) enthält, wodurch die Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) verbessert wird.
Es wird auch angenommen, dass die Verschlechterung der Entwicklungseigenschaften inhibiert wird und die Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung) in dem lithographischen Druckplattenvorläufer unter Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung aus dem gleichen Grund verbessert wird.
Jede Komponente, die in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung enthalten ist, wird der Reihe nach erläutert.
Polymerisierbare Zusammensetzung:
(A) polymerisierbare Verbindung der Formel (I):
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung muss eine polymerisierbare Verbindung der Formel (I) enthalten. Indem die polymerisierbare Verbindung der Formel (I) enthalten ist, zeigt die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung eine herausragende Lagerungsstabilität (Lagerungsstabilität vor Belichtung). Der erfindungsgemäße lithographische Druckplattenvorläufer, der die lichtempfindliche Zusammensetzung enthält, besitzt zudem eine herausragende Drucklebensdauer.
Die polymerisierbare Verbindung der Formel (I) wird nachstehend detailliert beschrieben.
R¹ stellt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, und vorzugsweise ein Wasserstoffatom dar.
R² stellt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, und vorzugsweise ein Wasserstoffatom dar.
R³ stellt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe, und vorzugsweise ein Wasserstoffatom dar.
Als der mehrwertige Alkoholrest, der durch A dargestellt wird, werden z. B. Glycerol, 1,4-Butandiol, 1,6-Hexandiol, 1,9-Nonandiol, Neopentylglycol, Trimethylolpropan, Dimethyloldicyclopentan, Cyclohexandiol, Xylose, Pentaerythritol, Dipentaerythritol, und Polypropylenglycol beispielhaft dargestellt. Als der mehrwertige Phenolrest, der durch A dargestellt werden, werden z. B. 4,4-Bisphenol, Bisphenol A, Hydrochinon, Bis(4-hydroxyphenylmethan), Catechol, Dihydroxynaphthalen, Pyrogallol, und Resorcinol beispielhaft dargestellt. von diesen Verbindungen ist Bisphenol A weiter bevorzugt.
m ist eine ganze Zahl von 1 bis 6, und vorzugsweise eine ganze Zahl von 1.
n stellt eine ganze Zahl von 2 bis 10 dar.
p stellt eine ganze Zahl von 1 bis 6, und vorzugsweise eine ganze Zahl von 2 bis 6 dar.
Als die polymerisierbare Verbindung der Formel (I) können kommerziell verfügbare Produkte verwendet werden.
Die spezifischen Beispiele für die kommerziell verfügbare Produkten schließen EO-modifiziertes oder PO-modifiziertes Bisphenol A Diacrylat, z. B. ABE-300, A-BPE-4, A-BPE-20 ABPE-30 und A-BPP-3 (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.); EO-modifiziertes oder PO-modifiziertes Bisphenol A Dimethacrylat, z. B. BPE-200, BPE-500 und BPE-1500 (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.); EO-modifiziertes Bisphenol S Diacrylat, z. B. M205 (hergestellt von TOAGOSEI CO., LTD.); EO-modifiziertes Biphenol F Diacrylat, z. B. R-712 (hergestellt von NIPPON KAYAKU CO, LTD.); PO-modifiziertes Trimethylolpropantriacrylat, z. B. M-310 (hergestellt von TOAGOSEI CO., LTD.); Bis(acryloyloxyneopentylglycol)adipat, z. B. R-526 (hergestellt von NIPPON KAYAKU CO LTD.); ethoxyliertes Glyceroltriacrylat, z. B. A-GLY-3E (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.); EO-modifiziertes oder PO-modifiziertes Trimethylolpropantriacrylat, z. B. A-TMPT-9E0 und A-TMPT-3P0 (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.); EO-modifiziertes oder PO-modifiziertes Bisphenol A Diacrylat, z. B. A-B1206PE (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.); und ethoxyliertes Cyclohexandiacrylat, z. B. A-CHD-4E (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.)
Die Zugabemenge der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung beträgt von 50 bis 100 Gew.-%, und vorzugsweise von 80 bis 100 Gew.-%, basierend auf allen polymerisierbaren Verbindungen, die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind. Neben der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) können andere polymerisierbare Verbindungen, z. B. eine polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst, die nachstehend beschrieben wird, in Kombination in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden.
Die spezifischen Beispiele für die polymerisierbaren Verbindungen der Formel (I) (Verbindungen (1-1) bis (1-9)) werden nachstehend gezeigt, aber die folgende Erfindung ist nicht hierauf begrenzt.
Polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst:
Vom Standpunkt der Drucklebensdauer ist es bevorzugt, dass die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung eine polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst zusammen mit der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) enthält.
Die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst ist eine additionspolymerisierbare Verbindung mit mindestens einer Urethanbindung und mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung in der Verbindung. Eine Urethanbindung ist für die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst zur erfindungsgemäßen Verwendung ausreichend, aber eine Mehrzahl von Urethanbindungen können enthalten sein. Ferner ist es bevorzugt, dass zwei oder mehrere ethylenisch ungesättigten Bindungen enthalten sind, und es ist weiter bevorzugt, dass vier ethylenisch ungesättigte Bindungen (tetrafunktional) enthalten sind. Die chemische Form der polymerisierbaren Verbindung kann eine beliebige aus z. B. einem Monomer, einem Prepolymer, d. h. einem Dimer, einem Trimer, einem Oligomer, und einer Mischung und deren Copolymer sein.
Als die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst zur erfindungsgemäßen Verwendung ist eine Urethan basierte additionspolymerisierbare Verbindung, die durch die Additionsreaktion aus Isocyanat und einer Hydroxylgruppe hergestellt wurde, bevorzugt. Als das spezifische Beispiel für eine Urethan basierte additionspolymerisierbare Verbindung zur erfindungsgemäßen Verwendung wird z. B. eine Vinylurethanverbindung, die zwei oder mehrere polymerisierbare Vinylgruppen in einem Molekül, das durch Zugabe eines Vinylmonomers mit einer Hydroxylgruppe der folgenden Formel (II) zu einer Polyisocyanatverbindung mit zwei oder mehreren Isocyanatgruppen in einem Molekül erhalten wurde, enthält, wie in JP-B-48-41708 offenbart, beispielhaft dargestellt. CH₂=C(R³)COOCH₂CH(R⁴)OH (II)worin R³ und R⁴ jeweils H oder CH₃ darstellen.
Ferner können Urethanacrylate, wie in JP-A-51-37193 , JP-B-2-32293 und JP-B-2-16765 offenbart, und Urethanverbindungen mit einem Ethylenoxid basierten Gerüst, wie in JP-B-58-49860 , JP-B-56-17654 , JP-B-62-39417 und JP-B-62-39418 offenbart, auch vorzugsweise als die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst verwendet werden. Zudem können durch Verwenden additionspolymerisierbare Verbindung mit einer Aminostruktur oder einer Sulfidstruktur in dem Molekül, wie in JP-A-63-277653 , JP-A-63-260909 und JP-A-1-105238 offenbart, mit extrem hoher Geschwindigkeit fotopolymerisierbare Zusammensetzungen erhalte werden.
Zusätzlich zu den vorstehenden Verbindungen kann jede der nachstehend gezeigten Verbindungen auch als die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet werden. Die Beispiele schließen Urethanacrylat M-1100, M-1200, M-1210 und M-1310 (hergestellt von TOAGOSEI CO., LTD.), Urethanacrylat EB210, EB4827, EB6700 und EB220 (hergestellt von DAICEL UCB CO., LTD.), UVITHANE-782, UVITHANE-783, UVITHANE-788 und UVITHANE-893 (hergestellt von NORTON THIOKOL Inc.), Art Resin UN-9000EP, Art Resin UN-9200A, Art Resin UN-9000H, Art Resin UN-1255, Art Resin UN-5000,. Art Resin UN-2111A, Art Resin UN-2500, Art Resin UN-3320HA, Art Resin UN-3320HB, Art Resin UN-3320HC, Art Resin UN-3320HS, Art Resin UN-6060P, Art Resin UN-6060PTM, Art Resin SH-380G, Art Resin SH-500, und Art Resin SH-9832 (hergestellt von Negami Chemical Industrial Co., Ltd.), NK Oligo U-4H, NK Oligo U-4HA, NK Oligo U-4P, NK Oligo U-4PA, NK Oligo U-4TX, NK Oligo U-4TXA, NK Oligo U-6LHA, NK Oligo U-6LPA-N, NK Oligo U-6LTXA, NK Oligo UA-6ELP, NK Oligo UA-6ELH, NK Oligo UA-6ELTX, NK Oligo UA-6PLP, NK Oligo U-6ELP, NK Oligo U-6ELH, NK Oligo U-8MDA, NK Oligo U-8MD, NK Oligo U-12LMA, NK Oligo U-12LM, NK Oligo U-6HA, NK Oligo U-108A, NK Oligo U-1084A, NK Oligo U-2O0AX, NK Oligo U-122A, NK Oligo U-340A, NK Oligo U-324A, und NK Oligo TJA-100 (hergestellt von SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.), und AH-600, AT-600, UA-306H, AI-600, UA-101T, UA-101I, UA-101H, UA-306T, UA-306I, UF-8001 und UF-8003 (hergestellt von KYOEISHA CHEMICAL CO., LTD.) ein.
Die spezifischen Beispiele für die polymerisierbare Verbindung mit einem Urethangerüst, die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, werden nachstehend gezeigt (Verbindungen M-1 bis M-22), aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
Die Zugabemenge der polymerisierbaren Verbindung mit Urethangerüst beträgt vorzugsweise 2 bis 50 Gew.-%, und weiter bevorzugt 5 bis 20 Gew.-%, basierend auf allen polymerisierbaren Verbindungen, die in der lichtempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind. Die polymerisierbaren Verbindungen mit Urethangerüst können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Betreffend des Mischverhältnisses einer polymerisierbaren Verbindung in einer lichtempfindlichen Zusammensetzung gilt, dass je höher die Menge ist, desto höher die Empfindlichkeit ist, aber eine zu große Menge führt manchmal zu unvorteilhafter Phasenseparierung, Problemen in dem Herstellungsverfahren aufgrund des Anhaftens einer lichtempfindlichen Schicht, wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung in einen lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet wird (z. B. Herstellungsversagen, das aus der Übertragung und dem Anhaften der lichtempfindlichen Schichtkomponenten herrührt), und es ist wahrscheinlich, dass die Ausfällung in einer Entwicklungslösung auftritt.
Aus diesen Gesichtspunkten heraus beträgt die Gesamtmischmenge der polymerisierbaren Verbindungen (die Mengen der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I), die polymerisierbare Verbindung mit Urethangerüst, und andere polymerisierbare Verbindungen, die in Kombination verwendbar sind, die nachstehend beschrieben werden) vorzugsweise 5 bis 80 Gew.-%, und weiter bevorzugt 25 bis 75 Gew.-%, basierend auf den nicht-flüchtigen Komponenten in der Zusammensetzung.
Ferner beträgt das Verhältnis (Gewichtsverhältnis) der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) zu der polymerisierbaren Verbindung mit Urethangerüst vorzugsweise 50/50 bis 100/0, und weiter bevorzugt 75/25 bis 95/5.
Andere polymerisierbare Verbindungen, die in Kombination verwendbar sind:
Neben der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) und der polymerisierbaren Verbindung mit Urethangerüst können andere polymerisierbare Verbindungen erfindungsgemäß in dem Bereich verwendet werden, der die erfindungsgemäßen Effekte nicht verschlechtert.
Erfindungsgemäß sind andere polymerisierbaren Verbindungen, die in Kombination mit der polymerisierbaren Verbindung der Formel (I) und der polymerisierbaren Verbindung mit Urethangerüst verwendbar sind, additionspolymerisierbare Verbindungen mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, und sie werden aus den Verbindungen mit mindestens einer ethylenisch ungesättigten Bindung, vorzugsweise zwei oder mehreren ethylenisch ungesättigten Bindungen ausgewählt.
Diese Verbindungen sind auf dem Gebiet der Technik wohlbekannt, und sie können ohne besondere Beschränkung verwendet werden. Diese anderen polymerisierbaren Verbindungen besitzen chemische Formeln von z. B. einem Monomer, einem Prepolymer, d. h. einem Dimer, einem Trimer, einem Oligomer, und deren Mischung und Copolymer. Als die Beispiele für Monomere und deren Copolymere werden ungesättigte Carbonsäuren (z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure, etc.), und Ester und Amide dieser ungesättigten Carbonsäure beispielhaft dargestellt, und vorzugsweise werden Ester von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindungen, und Amiden von ungesättigten Carbonsäuren und aliphatischen mehrwertigen Aminverbindungen verwendet. Zudem werden auf die Additionsreaktionsprodukte von Estern und Amiden von ungesättigten Carbonsäuren mit einem nukleophilen Substituenten, wie etwa einer Hydroxylgruppe, einer Aminogruppe oder einer Mercaptogruppe mit monofunktionalen oder polyfunktionalen Isocyanaten oder Epoxiden, und die Dehydrationskondensationsreaktionsprodukte mit monofunktionalen oder polyfunktionalen Carbonsäuren auch vorzugsweise verwendet. Ferner werden die Additionsreaktionsprodukte von ungesättigten Carbonsäureestern oder Amiden mit einem elektrophilen Substituenten, wie etwa einer Isocyanatgruppe oder einer Epoxidgruppe, mit monofunktionalen oder polyfunktionalen Alkoholen, Aminen oder Thiolen, und die Substitutionsreaktionsprodukte von ungesättigten Carbonsäureestern oder -amiden mit einem separierbaren Substituenten, wie etwa einer Halogengruppe oder einer Tosyloxygruppe, mit monofunktionalen oder polyfunktionalen Alkoholen, Aminen oder Thiolen auch vorzugsweise verwendet. Als anderes Beispiel ist es auch möglich, Verbindungen zu verwenden, worin die ungesättigte Carbonsäure durch eine ungesättigte Phosphonsäure, Styrol, Vinylether, etc. ersetzt wird.
Die spezifischen Beispiele für Monomere der Ester von aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindungen und ungesättigten Carbonsäuren schließen als Acrylate, Ethylenglycoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Propylenglycoldiacrylat, Neopentylglycoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Pentaerythritoldiacrylat, Pentaerythritoltriacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat, Dipentaerythritoldiacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat, Sorbitoltriacrylat, Sorbitoltetraacrylat, Sorbitolpentaacrylat, Sorbitolhexaacrylat, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Polyesteracrylatoligomer, etc. ein.
Als Methacrylate schließen die Beispiele Neopentylglycoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglycoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritoldimethacrylat, Pentaerythritoltrimethacrylat, Pentaerythritoltetramethacrylat, Dipentaerythritoldimethacrylat, Dipentaerythritolhexamethacrylat, Sorbitoltrimethacrylat, Sorbitoltetramethacrylat, Bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethan, Bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan, etc. ein Als Itaconate schließen die Beispiele Ethylenglycoldiitaconat, Propylenglycoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglycoldiitaconat, Pentaerythritoldiitaconat, Sorbitoltetraitaconat, etc. ein.
Als Crotonate schließen die Beispiele Ethylenglycoldicrotonat, Tetramethylenglycoldicrotonat, Pentaerythritoldicrotonat, Sorbitoltetradicrotonat, etc. ein Als Maleate schließen die Beispiele Ethylenglycoldimaleat, Triethylenglycoldimaleat, Pentaerythritoldimaleat, Sorbitoltetramaleat, etc. ein.
Als die Beispiele für andere Ester werden z. B. die aliphatischen Alkohol basierten Ester, die in P-B-46-27926, JP-B-51-47334 und JP-A-57-196231 offenbart sind, die Ester mit aromatischem Gerüst, die in JP-A-59-5240 , JP-A-59-5241 und JP-A-2-226149 offenbart sind, und die Ester, die eine Aminogruppe enthalten, die in JP-A-1-165613 offenbart sind, auch vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet. Ferner können die vorstehenden Estermonomere auch als Mischungen verwendet werden.
Ferner schließen die spezifischen Beispiele für die Amidmonomere der aliphatischen mehrwertigen Aminverbindungen und ungesättigten Carbonsäuren Methylenbis-Acrylamid, Methylenbis-Methacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid, Xylylenbismethacrylamid, etc. ein. Als andere bevorzugte Amidmonomere können diejenigen mit einer Cyclohexylenstruktur, die in JP-B-54-21726 offenbart sind, beispielhaft dargestellt werden.
Als andere Beispiele können die polyfunktionalen Acrylate und Methacrylate, wie etwa Polyesteracrylate, und Epoxidacrylate, die durch Umsetzen von Epoxidharzen mit (Meth)acrylsäuren erhalten wurden, wie in JP-A-48-64183 , JP-B-49-43191 und JP-B-52-30490 offenbart, beispielhaft dargestellt werden. Die spezifischen ungesättigten Verbindungen, die in JP-B-46-43946 , JP-B-1-40337 und JP-B-1-40336 offenbart sind, und die Vinylsulfonsäureverbindungen, die in JP-A-2-25493 offenbart sind, können auch beispielhaft dargestellt werden. Ferner werden gegebenenfalls die Strukturen, die eine Perfluoralkylgruppe enthalten, die in JP-A-61-22048 offenbart sind, vorzugsweise verwendet. Darüber hinaus können die fotohärtbaren Monomere und Oligomere, die in Bulletin of Nippon Setchaku Kyokai, Band 20, Nr. 7, Seiten 300–308 (1984) beschrieben sind, auch verwendet werden.
Die Details bei der Verwendung der polymerisierbaren Verbindung, z. B. welche Struktur zu verwenden ist, ob die Verbindung allein oder in Kombination zu verwenden ist, oder welche Menge zu verwenden ist, können gegebenenfalls gemäß der Endauslegung der Leistungen der lichtempfindlichen Zusammensetzung eingestellt werden.
Zum Beispiel werden die Bedingungen aus folgenden Gesichtspunkten ausgewählt. Bezüglich der lichtempfindlichen Geschwindigkeit ist die Struktur, die viele ungesättigte Gruppen pro Molekül enthält, bevorzugt und bifunktionale oder höherfunktionale Gruppen sind in vielen Fällen bevorzugt. Zum Erhöhen der Festigkeit eines Bildteils, d. h. eines gehärteten Films, sind trifunktionale oder höherfunktionale Gruppen bevorzugt, und es ist effektiv, unterschiedliche funktionale Zahlen und unterschiedliche polymerisierbare Gruppen (z. B. Acrylat, Methacrylat, Styrolverbindungen, Vinyletherverbindungen) in Kombination zur Steuerung sowohl der Lichtempfindlichkeit als auch der Festigkeit, zu verwenden. Verbindungen mit großem Molekulargewicht oder Verbindungen mit hoher Hydrophobizität besitzen eine herausragende lichtempfindliche Geschwindigkeit und Filmfestigkeit, aber sie sind in einigen Fällen vom Standpunkt der Entwicklungsgeschwindigkeit und Ausfällung in einer Entwicklungslösung nicht bevorzugt. Ferner sind die Auswahl und die Verwendung der additionspolymerisierbaren Verbindung wichtige Faktoren für die Kompatibilität mit anderen Komponenten (z. B. einem Binderpolymer, einem Initiator, einem Farbstoff, etc.) in der Zusammensetzung und der Dispergierfähigkeit, z. B. kann die Kompatibilität manchmal verbessert werden, indem eine Verbindung mit niedriger Reinheit oder zwei oder mehrere Verbindungen in Kombination verwendet werden. Ferner ist es bei Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung in einem lithographischen Druckplattenvorläufer auch möglich, eine feine Verbindung mit einer spezifischen Struktur zum Zweck der Verbesserung der Adhäsionseigenschaften an einen Träger und eine Überbeschichtungsschicht, die später beschrieben wird, auszuwählen.
Zudem können geeignete Strukturen, Mischungsverhältnisse und Zugabemengen von zu verwendenden polymerisierbaren Verbindungen willkürlich vom Standpunkt des Grads der Polymerisationshinderung aufgrund von Sauerstoff, Auflösung, Trübungseigenschaften, Brechungsindexänderung und Oberflächenklebrigkeit ausgewählt werden. Ferner kann bei Verwendung der lichtempfindlichen Zusammensetzung in einem lithographischen Druckplattenvorläufer ein Schichtaufbau, wie eine Unterbeschichtungsschicht und eine Überbeschichtungsschicht, und ein Beschichtungsverfahren auch in geeigneter Weise ausgewählt werden.
(B) IR-Absorptionsmittel:
Es ist wesentlich, dass ein IR-Absorptionsmittel in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendet wird. Das IR-Absorptionsmittel besitzt die Funktion des Umwandelns der absorbierten IR-Strahlen in Wärme. Ein Radikal wird durch die thermische Zersetzung eines Polymerisationsinitiators (eines radikalischen Erzeugungsmittels), das nachstehend beschrieben wird, durch die zu dieser Zeit erzeugte Wärme erzeugt. Die IR-Absorptionsmittel, die erfindungsgemäß verwendet werden, sind vorzugsweise Farbstoffe oder Pigmente mit einem Absorptionsmaximum zwischen den Wellenlängen von 760 bis 1200 nm.
Als Farbstoffe für diesen Zweck können kommerziell verfügbare Farbstoffe und wohlbekannte Farbstoffe, die in Druckschriften, z. B. in Senryo Binran (Dye Handbook), herausgegeben von Yuki Gosei Kagaku Kyokai (1970), beschrieben sind, verwendet werden. Im Einzelnen werden Azofarbstoffe, Metallkomplexazofarbstoffe, Pyrazolonazofarbstoffe, Naphthochinonfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumsalze und Metallthiolatkomplexe beispielhaft dargestellt.
Als bevorzugte Farbstoffe werden z. B. die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-58-125246 , JP-A-59-84356 , JP-A-59-202829 und JP-A-60-78787 offenbart sind, die Methinfarbstoffe, die in JP-A-58-173696 , JP-A-58-181690 und JP-A-58-194 595 offenbart sind, die Naphthochinonfarbstoffe, die in JP-A-58-112793 , JP-A-58-224793 , JP-A-59-48187 , JP-A-59-73996 , JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744 offenbart sind, die Squaryliumfarbstoffe, die in JP-A-58-112792 offenbart sind, und die Cyaninfarbstoffen, die in GB-PS 434 87 beispielhaft dargestellt.
Ferner werden die Nah-IR absorbierenden Sensibilisierungsmittel, die in US-PS 5 156 938 offenbart sind, auch vorzugsweise verwendet. Zudem werden die substituierten Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die in US-PS 3 881 924 offenbart sind, die Trimethinthiapyryliumsalze, die in JP-A-57-14265 (entsprechend US-PS 4 321 169 ) offenbart sind, die Pyrylium basierten Verbindungen, die in JP-A-58-181051 , JP-A-58-220143 , JP-A-59-413 63 , JP-A-59-84 24 8 , JP-A-59-84249 , JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061 offenbart sind, die Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-59-216146 offenbart sind, die Pentamethinthiopyryliumsalz, die in US-PS 4 283 475 offenbart sind, und die Pyryliumverbindungen, die in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702 offenbart sind, auch vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet. Als andere Beispiele für bevorzugte Farbstoffe können die Nah-IR absorbierenden Farbstoffe, die in US-PS 4 756 993 als die Verbindungen der Formeln (I) und (II) offenbart sind, beispielhaft dargestellt werden.
Als andere Beispiele für bevorzugte IR-absorbierende Farbstoffe werden erfindungsgemäße die spezifischen Indolenincyaninfarbstoffe, die in JP-A-2002-278057 offenbart sind, beispielhaft dargestellt.
Von diesen Farbstoffen sind ein Cyaninfarbstoff, ein Squaryliumfarbstoff, ein Pyryliumsalz, ein Nickelthiolatkomplex und ein Indolenincyaninfarbstoff insbesondere bevorzugt. Ein Cyaninfarbstoff und ein Indolenincyaninfarbstoff sind weiter bevorzugt, und ein Cyaninfarbstoff der folgenden Formel (a) ist insbesondere bevorzugt.
worin X¹ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, -NPh₂, X²-L¹, oder eine nachstehend gezeigte Gruppe darstellt; X² ein Sauerstoffatom, ein Stickstoffatom oder ein Schwefelatom darstellt; und L¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, einen aromatischen Ring mit einem Heteroatom, oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die ein Heteroatom enthält, und 1 bis 12 Kohlenstoffatome besitzt, darstellt. Das hierbei verwendete Heteroatom bedeutet N, S, O, ein Halogenatom oder Se. X_a ^– besitzt die gleiche Bedeutung wie X^1–, das nachstehend definiert wird, und R^a stellt ein Wasserstoffatom, ein Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe oder ein Halogenatom dar.
R¹ und R² stellen jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen dar. Angesichts der Lagerungsstabilität einer lichtempfindlichen Schicht erzeugenden Beschichtungslösung stellen R¹ und R² jeweils vorzugsweise eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 2 oder mehreren Kohlenstoffatomen dar, und insbesondere bevorzugt sind R¹ und R² aneinander unter Bildung eines 5- oder 6-gliedrigen Rings gebunden.
Ar¹ und Ar², die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils eine aromatische Kohlenwasserstoffgruppe dar, die einen Substituenten besitzen kann. Bevorzugte Beispiele für die aromatische Kohlenwasserstoffgruppe schließen einen Benzolring und einen Naphthalenring ein. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten für die aromatische Kohlenwasserstoffgruppe schließen eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, ein Halogenatom, und eine Alkoxylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Y¹ und Y², die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils ein Schwefelatom oder eine Dialkylmethylengruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. R³ und R⁴, die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die einen Substituenten besitzen können, dar. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten für die Kohlenwasserstoffgruppe schließen eine Alkoxylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe und eine Sulfogruppe dar. R⁵, R⁶, R⁷ und R⁸, die gleich oder verschieden sein können, stellen jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, vorzugsweise ein Wasserstoffatom aufgrund der Verfügbarkeit des Rohmaterials, dar. Z^1- stellt ein Gegenanion dar, vorausgesetzt, dass, wenn ein Cyaninfarbstoff der Formel (a) einen anionischen Substituenten in seiner Struktur besitzt und die Neutralisierung der elektrischen Ladung nicht notwendig ist, Z^1- nicht notwendig ist. Z^1- stellt vorzugsweise ein Halogenion, ein Perchloration, ein Tetrafluorboration, ein Hexafluorphoshation oder ein Sulfonation, und insbesondere bevorzugt ein Perchloration, ein Hexafluorphosphation oder ein Arylsulfonation dar.
Als spezifische Beispiele für den Cyaninfarbstoff der Formel (a), der vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden kann, können diejenigen, die in JP-A-2001-133969 , Absätze [0017] bis [0019] offenbart sind, beispielhaft dargestellt werden.
Ferner werden als insbesondere bevorzugte andere Beispiele die Indolenincyaninfarbstoffe, die in JP-A-2002-278057 offenbart sind, beispielhaft dargestellt.
Als die erfindungsgemäß verwendeten Pigmente können kommerziell verfügbare Pigmente und die Pigmente, die in Colour Index (C. I.), Shaishin Ganryo Binran (The Latest Pigment Handbook), herausgegeben von Nippon Ganryo Gijutsu Kyokai (1977), Shaishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Techniques), CMC Publishing Co. Ltd. (1986), Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Techniques), CMC Publishing Co. Ltd. (1984) beschrieben sind, verwendet werden.
Verschiedene Arten von Pigmenten können erfindungsgemäß verwendet werden, z. B. schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orangene Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, purpurfarbene Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente, und Polymer gebundene Pigmente können beispielhaft dargestellt werden. Im Einzelnen können unlösliche Azopigmente, Azobeizenfarbstoffpigmente, Kondensationsazopigmente, Chelatazopigmente, Phthalocyaninpigmente, Anthrachinonpigmente, Perylen- und Perionpigmente, Thioindigopigmente, Chinacridonpigmente, Dioxazinpigmente, Isoindolinopigmente, Chinophthalonpigmente, Beizenfarbstoffpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente und Ruß verwendet werden. Von diesen Pigmenten wird Ruß vorzugsweise verwendet.
Die Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet werden oder können oberflächenbehandelt werden. Als Verfahren zur Oberflächenbehandlung können ein Verfahren zum Beschichten der Oberfläche von Pigmenten mit Harzen oder Wachsen, ein Verfahren zum Anbringen von Tensiden, und ein Verfahren zum Binden reaktiver Substanzen (z. B. Silankupplungsmittel, Epoxidverbindungen, oder Polyisocyanat) auf die Oberflächen der Pigmenten beispielhaft dargestellt werden. Die Oberflächenbehandlungsverfahren werden beispielhaft in Kinzoku Sekken no Seishitsu to Oyo (Natures und Applications of Metal Soaps), Saiwai Shobo Co., Ltd., Insatsu Ink Gijutsu (Printing Ink Techniques), CMC Publishing Co., Ltd. (1984), und Shaishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Techniques), CMC Publishing Co., Ltd. (1986) beschrieben.
Die Teilchengröße von Pigmenten beträgt vorzugsweise 0,01 bis 10 μm, weiter bevorzugt 0,05 bis 1 μm, und insbesondere bevorzugt 0,1 bis 1 μm angesichts der Dispersionsstabilität von Pigmenten und der Film erzeugenden Eigenschaften.
Wohlbekannte Dispergierverfahren, die bei der Herstellung von Tinten und Tonern verwendet werden, können als die Dispergierverfahren für Pigmente verwendet werden. Die Beispiele für Dispergiergeräte schließen eine Ultraschalldispergiervorrichtung, eine Sandmühle, einer Zerkleinerungsvorrichtung, eine Perlenmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, ein Propeller, eine Dispergiervorrichtung, eine KD Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, und eine Pressknetvorrichtung ein, und Details werden in Shaishin Ganryo Oyo Gijutsu (The Latest Pigment Applied Techniques), CMC Publishing Co., Ltd. (1986) beschrieben.
Wenn die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung in einem lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet wird, kann der IR-Absorber zu der gleichen Schicht, die andere Komponenten enthält, zugegeben werden, oder kann in eine unabhängige unterschiedliche Schicht gegeben werden. Wenn jedoch ein negativer lithographischer Druckplattenvorläufer hergestellt wird, wird der IR-Absorber so zugegeben, dass das Absorptionsvermögen der lichtempfindlichen Schicht bei der maximalen Absorptionswellenlänge in dem Bereich der Wellenlänge von 760 bis 1200 nm von 0,5 bis 1,2, und vorzugsweise von 0,6 bis 1,15, durch ein Reflexionsmessverfahren beträgt.
Wenn das Absorptionsvermögen in dem Bereich von 0,5 bis 1,2 liegt, werden die Festigkeit der Bildfläche und die Adhäsion zwischen einem Träger und der fotopolymerisierbaren Schicht verbessert, wodurch eine ausreichende Anzahl von Druckblättern beim Drucken sichergestellt werden kann.
Das Absorptionsvermögen der lichtempfindlichen Schicht kann durch eine Menge des IR-Absorbers, der zu der lichtempfindlichen Schicht zuzugeben ist, und die Dicke der lichtempfindlichen Schicht eingestellt werden. Das Absorptionsvermögen kann durch gewöhnliche Verfahren gemessen werden. Als die Messverfahren für das Absorptionsvermögen werden z. B. ein Verfahren zum Erzeugen einer lichtempfindlichen Schicht mit einer geeigneten Schichtdicke einer Trockenbeschichtungsmenge, die als eine lithographische Druckplatte auf einem reflektierenden Träger, wie etwa Aluminium, notwendig ist und Messen der Reflexionsdichte durch ein optisches Dichtemessgerät, und ein Verfahren zum Messen des Absorptionsvermögens durch ein Reflexionsverfahren unter Verwendung einer integrierenden Kugel mit einem Spektrophotometer beispielhaft dargestellt.
Die Gesamtmenge des IR-Absorbers, der zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung zuzugeben ist, beträgt vorzugsweise 0,1 bis 40 Gew.-%, weiter bevorzugt 0,5 bis 30 Massen%, und insbesondere bevorzugt 1 bis 10 Massen%, basierend auf dem gesamten Feststoffgehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
(C) Oniumsalz:
Als ein Polymerisationsinitiator zum Initiieren und Voranschreiten einer Härtungsreaktion der polymerisierbaren Verbindung enthält die lichtempfindliche Zusammensetzung ein Oniumsalz, das ein radikalisches Erzeugungsmittel vom Wärme zersetzbarem Typ ist, das durch Wärme unter Erzeugung eines Radikals zersetzt wird. Erfindungsgemäß fungiert das Oniumsalz als ein radikalischer Polymerisationsinitiator, nicht als ein Säureerzeugungsmittel. Unter Verwendung des Oniumsalzes in Kombination mit dem vorstehend beschriebenen IR-Absorber erzeugt der IR-Absorber Wärme durch Bestrahlung mit IR-Laserstrahlen und das Oniumsalz erzeugt ein Radikal durch die Wärme. Durch die Kombination des Oniumsalzes und des IR-Absorbers, wird das Aufzeichnen im Wärmemodus mit hoher Empfindlichkeit erfindungsgemäß möglich.
Als das erfindungsgemäß vorzugsweise verwendete Oniumsalz werden ein Sulfoniumsalz, ein Iodoniumsalz und ein Diazoniumsalz beispielhaft dargestellt. Von diesen Oniumsalzen ist ein Sulfoniumsalz erfindungsgemäß weiter bevorzugt.
Im Fall der Verwendung eines Sulfoniumsalzes schreitet bei Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung in der lichtempfindlichen Schicht eines lithographischen Druckplattenvorläufers, der nachstehend beschrieben wird, eine radikalische Polymerisationsreaktion effektiv voran und die Festigkeit des erzeugten Bildbereichs wird aufgrund der hohen Empfindlichkeit des Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiators, der in der lichtempfindlichen Zusammensetzung enthalten ist, sehr hoch. Wenn ein lithographischer Druckplattenvorläufer eine Schutzschicht auf der lichtempfindlichen Schicht besitzt, kann zusammen mit einer Sauerstoffabschirmfunktion der Schutzschicht eine lithographische Druckplatte mit einem Bildbereich von hoher Festigkeit erhalten werden, was zu einer Verbesserung der Druckpressenlebensdauer führt. Da der Sulfoniumsalzpolymerisationsinitiator ferner selbst eine herausragende Alterungsstabilität besitzt, kann das Auftreten einer unerwünschten Polymerisationsreaktion beschränkt werden, sogar wenn der lithographische Druckplattenvorläufer nach der Herstellung aufbewahrt wird.
Das erfindungsgemäß vorzugsweise verwendete Oniumsalz wird nachstehend beschrieben.
Ein Oniumsalz der folgenden Formel (1) wird vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet.
In Formel (1) können R¹¹, R¹² und R¹³, gleich oder verschieden sein, jedes stellt eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können. Bevorzugte Beispiele für den Substituenten schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, und eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^11- stellt ein Gegenion dar, das aus der Gruppe ausgewählt ist die aus einem Halogenion, einem Perchloration, einem Tetrafluorboration, einem Hexafluorphosphation, einem Carboxylation und einem Sulfonation, und vorzugsweise einem Perchloration, ein Hexafluorphosphation, einem Carboxylation und einem Arylsulfonation besteht.
Spezifische Beispiele für das Oniumsalz der Formel (1) (Verbindungen [OS-1] bis [OS-10]) werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Beispiele begrenzt.
Zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen werden auch spezifische aromatische Sulfoniumsalze, die in JP-A-2002-148790 , JP-A-2002-350207 und JP-A-2002-6482 offenbart sind, vorzugsweise verwendet.
Als das erfindungsgemäß verwendete Oniumsalz werden auch Oniumsalze der folgenden Formeln (2) und (3) vorzugsweise verwendet. Ar²¹-I⁺-Ar²² Z^21- (2) Ar³¹-N⁺≡N Z^31- (3)
In Formel (2) stellen Ar²¹ und Ar²² jeweils eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen dar, die einen Substituenten besitzen können.
Bevorzugte Beispiele für den Substituenten für die Arylgruppe schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, und eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen ein. Z^21- stellt ein Gegenion mit der gleichen Bedeutung wie Z^11- dar.
In Formel (3) stellt Ar³¹ eine Arylgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die einen Substituenten besitzen kann, dar. Bevorzugte Beispiele für die Substituenten für die Arylgruppe schließen ein Halogenatom, eine Nitrogruppe, eine Alkylgruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkoxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Aryloxygruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Alkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Dialkylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, eine Arylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen, und eine Diarylaminogruppe mit 12 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. Z^31- stellt ein Gegenion mit der gleichen Bedeutung wie Z^11- dar.
Spezifische Beispiele für das Oniumsalz der Formel (2) (Verbindungen [OI-1] bis [OI-10]) und das Oniumsalz der Formel (3) (Verbindungen [ON-1] bis [ON-5]) können, die vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden, werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Beispiele begrenzt.
Als spezifische Beispiele für das Oniumsalz, das vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet werden kann, werden Oniumsalze, die in JP-A-2001-133696 offenbart sind, beispielhaft dargestellt.
Es ist bevorzugt, dass die maximale Absorptionswellenlänge des Oniumsalzes (Radikalerzeugungsmittel) zur erfindungsgemäßen Verwendung 400 nm oder weniger, und weiter bevorzugt 360 nm oder weniger beträgt. Durch Herstellen der Absorptionswellenlänge in dem UV-Bereich kann die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung unter Weißlicht gehandhabt werden, wenn sie auf einen lithographischen Druckplattenvorläufer aufgetragen wird.
Die Gesamtmenge des Oniumsalzes in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung beträgt von 0,1 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 30 Gew.-%, und insbesondere bevorzugt von 1 bis 20 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt der lichtempfindlichen Zusammensetzung.
In dem vorstehenden Bereich kann eine gute Empfindlichkeit sichergestellt werden, und das Auftreten von Flecken in dem Nicht-Bildbereich beim Drucken kann beschränkt werden, wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung in einem lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet wird.
Die Oniumsalze können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon erfindungsgemäß verwendet werden. Wenn zwei oder mehrere Oniumsalze in Kombination verwendet werden, können eine Mehrzahl der gleichen Arten von Oniumsalzen (z. B. Sulfoniumsalze allein) zusammen verwendet werden, oder eine Mehrzahl unterschiedlicher Arten von Oniumsalzen kann in Kombination verwendet werden.
Erfindungsgemäß können neben dem Oniumsalz, das als die wesentliche Komponente enthalten ist, andere Polymerisationsinitiatoren (andere radikalische Erzeugungsmittel) in Kombination verwendet werden.
Als andere Polymerisationsinitiatoren werden Triazinverbindungen mit einer Trihalomethylgruppe, Peroxide, Azo basierte Polymerisationsinitiatoren, Azidverbindungen, Chinondiazid, Oximesterverbindungen und Triarylmonoalkylboratverbindungen beispielhaft dargestellt.
Wenn das Oniumsalz in Kombination mit einem anderen Polymerisationsinitiator verwendet wird, beträgt das Verhältnis (Gewichtsverhältnis) davon vorzugsweise 100/1 bis 100/50, und weiter bevorzugt 100/5 bis 100/25.
Wenn die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung ferner auf einen lithographischen Druckplattenvorläufer aufgetragen wird, kann der Polymerisationsinitiator, wie etwa das Oniumsalz, zusammen mit anderen Komponenten zu der gleichen Schicht gegeben werden oder, das Oniumsalz kann zu einer unabhängigen unterschiedlichen Schicht gegeben werden.
(D) Binderpolymer mit einer vernetzbaren Gruppe:
Es ist bevorzugt, dass die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung ferner ein Binderpolymer mit einer vernetzbaren Gruppe (nachstehend manchmal als "spezifisches Binderpolymer" bezeichnet) angesichts der Verbesserung der Schichteigenschaften enthält.
Als das spezifische Binderpolymer sind Binderpolymere, die eine Struktureinheit mit einer radikalisch polymerisierbaren Gruppe enthalten, bevorzugt.
Die radikalisch polymerisierbare Gruppe ist nicht besonders beschränkt, solange wie sie durch ein Radikal polymerisiert werden kann, aber eine α substituierte Methylacrylgruppe [-OC(=O)-C(-CH₂Z=CH₂, worin Z eine Kohlenwasserstoffgruppe darstellt, die durch ein Heteroatom verbunden ist], eine Acrylgruppe, eine Methacrylgruppe, eine Allylgruppe und eine Styrylgruppe werden beispielhaft dargestellt. Von diesen Gruppen sind eine Acrylgruppe und eine Methacrylgruppe bevorzugt.
Die Menge einer radikalisch polymerisierbaren Gruppe, die in dem spezifischen Binderpolymer enthalten ist (Menge der radikalisch polymerisierbaren ungesättigten Doppelbindung gemäß einem indometrischen Titrationsverfahren) beträgt vorzugsweise 0,1 bis 10,0 mmol, weiter bevorzugt 1,0 bis 7,0 mmol, und insbesondere bevorzugt 2,0 bis 5,5 mmol pro Gramm des Binderpolymers vom Standpunkt der Kompatibilität der Empfindlichkeit und Konservierbarkeit.
Es ist auch bevorzugt, dass das spezifische Binderpolymer ferner eine Struktureinheit mit einer Alkali löslichen Gruppe zusätzlich zu der Struktureinheit mit der radikalisch polymerisierbaren Gruppe enthält.
eine Struktureinheit, die mindestens eine Alkali lösliche Gruppe enthält, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus den folgenden (1) bis (6) besteht, ist vom Standpunkt der Löslichkeit des spezifischen Binderpolymers in einer Alkalientwicklungslösung bevorzugt.

(1) Eine phenolischen Hydroxylgruppe (-Ar-OH)
(2) Eine Sulfonamidogruppe (-SO₂NH-R)
(3) Eine substituierte Sulfonamido basierte Säuregruppe (nachstehend auch als eine "aktive Imidogruppe" bezeichnet) (-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R oder -CONHSO₂R),
(4) Eine Carbonsäuregruppe (CO₂H)
(5) Eine Sulfonsäuregruppe (SO₃H)
(6) Eine Phosphorsäuregruppe (OPO₃H₂)

In den vorstehenden (1) bis (6) stellt Ar eine zweiwertige Arylverbindungsgruppe dar, die einen Substituenten besitzen kann, und R stellt ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe dar, die einen Substituenten besitzen können.
Es ist notwendig, dass die Struktureinheit mit der Alkali löslichen Gruppe, die aus den vorstehenden (1) bis (6) ausgewählt ist, eine Art ist, und zwei oder mehrere Struktureinheiten mit der gleichen Alkali löslichen Gruppe oder zwei oder mehrere Struktureinheiten mit unterschiedlichen Alkali löslichen Gruppen können copolymerisiert werden.
Die Menge einer Alkali löslichen Gruppe, die in dem spezifischen Binderpolymer enthalten ist (ein Säurewert gemäß einem Neutralisationstitrationsverfahren) beträgt vorzugsweise 0,1 bis 3,0 mmol, weiter bevorzugt 0,2 bis 2,0 mmol, und insbesondere bevorzugt 0,45 bis 1,0 mmol pro Gramm des Binderpolymers vom Standpunkt der Verhinderung des Auftretens von Entwicklungsverschmutzung und der Druckpressenlebensdauer.
Zur Einführung der alkalilöslichen Gruppe in dem spezifischen Binderpolymer ist eine Ausführungsform, bei der das Polymer eine Struktureinheit der folgenden Formel (i) enthält, insbesondere bevorzugt.
worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt, R² eine Verbindungsgruppe darstellt, die ein oder mehrere Atome umfasst, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom besteht, A ein Sauerstoffatom oder -NR³- darstellt, R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen darstellt und n eine ganze Zahl von 1 bis 5 darstellt.
R¹ in Formel (i) stellt ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe dar, und insbesondere bevorzugt eine Methylgruppe dar.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² in Formel (i) dargestellt wird, ist vorzugsweise eine Verbindungsgruppe, die ein oder mehrere Atome umfasst, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom besteht, und die Anzahl von Atomen unter Ausschluss eines Substituenten beträgt vorzugsweise von 2 bis 82. Die Anzahl von Atomen, die das Hauptgerüst von R² zusammensetzt, beträgt vorzugsweise 1 bis 30, weiter bevorzugt 3 bis 25, insbesondere bevorzugt 4 bis 20, und höchstbevorzugt 5 bis 10. Die Anzahl von Atomen, die als Hauptgerüst von R² darstellt, bedeutet die Anzahl von Atomen, die A und das endständige COOH durch den kürzesten Weg verbinden. Im Einzelnen werden Alkylen, substituiertes Alkylen, Arylen und substituiertes Arylen beispielhaft dargestellt, und eine Mehrzahl von diesen zweiwertigen Gruppen kann durch eine Amidobindung und eine Esterbindung verbunden sein.
Als eine Verbindungsgruppe mit einer Kettenstruktur werden Ethylen und Propylen beispielhaft dargestellt. Eine Struktur, bei der Alkylen durch eine Esterbindung verbunden sind, ist auch bevorzugt.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² in Formel (i) dargestellt wird, ist vorzugsweise eine (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe mit einer alicyclischen Struktur mit 3 bis 30 Kohlenstoffatomen. Im Einzelnen kann eine (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe, die durch Entfernen einer (n + 1) Zahl von Wasserstoffatomen auf beliebigen Kohlenstoffatomen, die eine Verbindung mit alicyclischer Struktur, z. B. Cyclopropan, Cyclopentan, Cyclohexan, Cycloheptan, Cyclooctan, Cyclodecan, Dicyclohexyl, Tricyclohexyl und Norbornan, die durch eine oder mehrere Substituenten substituiert sein können, zusammensetzen, erhalten wurde, beispielhaft dargestellt werden. Es ist auch bevorzugt, dass die Kohlenstoffatomzahl einschließlich der Kohlenstoffatome des/der Substituenten von R² 3 bis 30 beträgt.
Die Kohlenstoffatome, die die Verbindung mit alicyclischer Struktur zusammensetzen, können mit einem oder mehreren Heteroatomen, die aus einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom und einem Schwefelatom ausgewählt sind, substituiert sein. Vom Standpunkt der Druckpressenlebensdauer ist es bevorzugt, dass R² eine (n + 1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe mit alicyclischer Struktur, die einen Substituenten besitzen kann mit von 5 bis 30 Kohlenstoffatomen, die zwei oder mehrere Ringe enthalten, z. B. kondensierten polycyclischen aliphatischen Kohlenwasserstoff, vernetzten cyclischen aliphatischen Kohlenwasserstoff, aliphatischen Spirokohlenwasserstoff, einen Satz von aliphatischen Kohlenwasserstoffringen (einen Satz, der eine Mehrzahl von ringen umfasst, die mit Bindungen oder Verbindungsgruppen verbunden sind) und dergleichen darstellen. In diesem Fall ist die Kohlenstoffatomzahl auch die Anzahl einschließlich der Kohlenstoffatomanzahl des Substituenten.
Die Verbindungsgruppe, die durch R² dargestellt wird, besitzt weiter bevorzugt 5 bis 10 Kohlenstoffatome, und eine cyclische Struktur mit Esterbindungen in der Struktur und denjenigen mit einer cyclischen Struktur, wie vorstehend beschrieben, sind bevorzugt.
Als der Substituent, der in die Verbindungsgruppe eingeführt werden kann, die durch R² dargestellt wird, werden einwertige nicht-metallische Atomgruppen ausschließlich eines Wasserstoffatomes beispielhaft dargestellt. Beispiele für den Substituenten schleißen ein Halogenatom (-F, -Br, -Cl, -I), eine Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Mercaptogruppe, eine Alkylthiogruppe, eine Arylthiogruppe, eine Alkyldithiogruppe, eine Aryldithiogruppe, eine Aminogruppe, eine N-Alkylaminogruppe, eine N,N-Dialkylaminogruppe, eine N-Arylaminogruppe, eine N,N-Diarylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-arylaminogruppe, eine Acyloxygruppe, eine Carbamoyloxygruppe, eine N-Alkylcarbamoyloxygruppe, eine N-Arylcarbamoyloxygruppe, eine N,N-Dialkylcarbarooyloxygruppe, eine N,N-Diarylcarbamoyloxygruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoyloxygruppe, eine Alkylsulfoxygruppe, eine Arylsulfoxygruppe, eine Acylthiogruppe, eine Acylaminogruppe, eine N-Alkyl-acylaminogruppe, eine N-Arylacylamiogruppe, eine Ureidogruppe, eine N'-Alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkylureidogruppe, eine N'-Arylureidogruppe, eine N',N'-Diarylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-arylureidogruppe, eine N-Alkylureidogruppe, eine N-Arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-alkylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N-arylureidogruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-alkylureidogruppe, eine N',N'-Dialkyl-N-arylureidogruppe, eine N'-Aryl-N-alkylureidogruppe, eine N'-Aryl-N-arylureidogruppe, eine N',N'-Diaryl-N-alkylureidogruppe, eine N',N'-Diaryl-N-arylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-alkylureidogruppe, eine N'-Alkyl-N'-aryl-N-arylureidogruppe, eine Alkoxycarbonylaminogruppe, eine Aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, eine N-Alkyl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, eine N-Aryl-N-alkoxycarbonylaminogruppe, eine N-Aryl-N-aryloxycarbonylaminogruppe, eine Formylgruppe, eine Acylgruppe, eine Carboxylgruppe und deren konjugierte Basengruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Aryloxycarbonylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine N-Alkylcarbamoylgruppe, eine N,N-Dialkylcarbamoylgruppe, eine N-Arylcarbamoylgruppe, eine N,N-Diarylcarbamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylcarbamoylgruppe, eine Alkylsulfinylgruppe, eine Arylsulfinylgruppe, eine Alkylsulfonylgruppe, eine Arylsulfonylgruppe, eine Sulfogruppe (-SO₃H) und deren konjugierte Basengruppe, eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Aryloxysulfonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine N-Alkylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfinamoylgruppe, eine N-Arylsulfinamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfinamoylgruppe, eine N-Alkyl-N-arylsulfinamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine N-Alkylsulfamoylgruppe, eine N,N-Dialkylsulfamoylgruppe, eine N-Arylsulfamoylgruppe, eine N,N-Diarylsulfatnoylgruppe, eine N-Alkyl-N-aryl-sulfamoylgruppe, eine N-Acylsulfamoylgruppe und deren konjugierte Basengruppe, eine N-Alkylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(alkyl)) und deren konjugierte Basengruppe, eine N-Arylsulfonylsulfamoylgruppe (-SO₂NHSO₂(aryl)} und deren konjugierte Basengruppe, eine N-Alkylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe, eine N-Arylsulfonylcarbamoylgruppe (-CONHSO₂(aryl)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Alkoxysilylgruppe (-Si(Oalkyl)₃), eine Aryloxysilylgruppe (-Si)Oaryl)₃), eine Hydroxysilylgruppe (-Si(OH)₃) und eine konjugierte Basengruppe, eine Phosphonogruppe (-PO₃H₂) und deren konjugierte Basengruppe, eine Dialkylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)₂), eine Diarylphosphonogruppe (-PO₃(aryl)₂), eine Alkylarylphosphonogruppe (-PO₃(alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonogruppe-(-PO₃H(alkyl)) und eine konjugierte Basengruppe, eine Monoarylphosphonogruppe (-PO₃H(aryl)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Phosphonooxygruppe (-OPO₃H₂) und deren konjugierte Basengruppe, eine Dialkylphosphonooxygruppe (-OPO₃(alkyl)₂), eine Diarylphosphonooxygruppe (-OPO₃(aryl)₂), eine Alkylarylphosphonooxygruppe (-OPO₃(alkyl)(aryl)), eine Monoalkylphosphonooxygruppe (-OPO₃H(alkyl)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Monoarylphosphonooxygruppe (-OPO₃H(aryl)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Cyanogruppe, eine Nitrogruppe, eine Dialkylborylgruppe (-B(alkyl)₂), eine Diarylborylgruppe (-B(aryl)₂), eine Alkylarylborylgruppe (-B(alkyl)(aryl)), eine Dihydroxyborylgruppe (-B(OH)₂) und deren konjugierte Basengruppe, eine Alkylhydroxyborylgruppe (-B(alkyl)(OH)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Arylhydroxyborylgruppe (-B(aryl)(OH)) und deren konjugierte Basengruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, und eine Alkynylgruppe ein.
Wenn die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung auf einen lithographischen Druckplattenvorläufer aufgetragen wird, ist es wahrscheinlich, obwohl dies von der Auslegung der lichtempfindlichen Schicht abhängt, dass Substituenten mit einem Wasserstoffatom, das eine Wasserstoffbindung erzeugen kann, und insbesondere Substituenten mit einer Acidität mit einer Säuredissoziationskonstante (pKa), die kleiner als diejenigen der Carbonsäure ist, die Drucklebensdauer herabsetzen, daher sind diese Substituenten nicht bevorzugt. Andererseits besitzen hydrophobe Substituenten, z. B. ein Halogenatom, eine Kohlenwasserstoffgruppe (z. B. eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe, eine Alkenylgruppe), eine Alkoxylgruppe, und eine Aryloxygruppe die Tendenz, die Drucklebensdauer zu verbessern, so dass sie bevorzugt verwendet werden. Insbesondere ist sie in dem Fall, dass die cyclische Struktur ein 6-gliedriger oder niedrigerer monocyclischer aliphatischer Kohlenwasserstoff, z. B. Cyclopentan und Cyclohexan ist, bevorzugt, dass der hydrophobe Substituent vorhanden ist. Die Substituenten können, soweit möglich, aneinander oder an die Kohlenwasserstoffgruppe, worauf sie substituiert sind, unter Bildung eines Rings gebunden sein, und die Substituenten können ferner substituiert sein.
In dem Fall, das A in Formel (i) NR³- darstellt, stellt R³ ein Wasserstoffatom oder eine einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen dar. Als die einwertige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, die durch R³ dargestellt wird, werden eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkenylgruppe und eine Alkynylgruppe beispielhaft dargestellt.
Als spezifische Beispiele für die Alkylgruppen werden geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen beispielhaft dargestellt, z. B. werden eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Propylgruppe, eine Butylgruppe, eine Pentylgruppe, eine Hexylgruppe, eine Heptylgruppe, eine Octylgruppe, eine Nonylgruppe, eine Decylgruppe, eine Isopropylgruppe, eine Isobutylgruppe, eine sec-Butylgruppe, eine tert-Butylgruppe, eine Isopentylgruppe, eine Neopentylgruppe, eine 1-Methylbutylgruppe, eine Isohexylgruppe, eine 2-Ethylhexylgruppe, eine 2-Methylhexylgruppe, eine Cyclopentylgruppe-, eine Cyclohexylgruppe, eine 1-Adamantylgruppe und eine 2-Norbornylgruppe beispielhaft dargestellt.
Als spezifische Beispiele für die Arylgruppen werden Arylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Phenylgruppe, eine Naphthylgruppe und eine Indenylgruppe, und Heteroarylgruppen mit einem Heteroatom, das aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einem Stickstoffatom, einem Sauerstoffatom und einem Schwefelatom besteht, und mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Furylgruppe, eine Thienylgruppe, eine Pyrrolylgruppe, eine Pyridylgruppe und eine Chinolylgruppe beispielhaft dargestellt.
Als spezifische Beispiele für die Alkenylgruppen werden geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkenylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Vinylgruppe, eine 1-Propenylgruppe, eine 1-Butenylgruppe, eine 1-Methyl-1-propenylgruppe, eine 1-Cyclopentenylgruppe und 1-Cyclohexenylgruppe beispielhaft dargestellt.
Als spezifische Beispiele für die Alkynylgruppen werden Alkynylgruppen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. B. eine Ethynylgruppe, eine 1-Propynylgruppe, eine 1-Butynylgruppe und eine 1-Octynylgruppe beispielhaft dargestellt. Die Substituenten, die R³ besitzen kann, sind die gleichen wie diejenigen, die als der Substituent für R² beispielhaft dargestellt wurden, vorausgesetzt, dass die Kohlenstoffatomzahl von R³ 1 bis 10 einschließlich der Kohlenstoffatomzahl des Substituenten beträgt.
A in Formel (i) stellt vorzugsweise ein Sauerstoffatom oder -NH- zur Erleichterung der Synthese dar.
n in Formel (i) stellt eine ganze Zahl von 1 bis 5, vorzugsweise 1 vom Standpunkt der Druckpressenlebensdauer dar.
Bevorzugte spezifische Beispiele für die Wiederholungseinheiten der Formel (i) werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
Die Wiederholungseinheiten der Formel (i) können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon in dem spezifischen Binderpolymer enthalten sein. Die Gesamtmenge der Wiederholungseinheit der Formel (i) in dem spezifischen Binderpolymer beträgt vorzugsweise von 1 bis 99 mol-%, weiter bevorzugt von 5 bis 40 mol-%, und insbesondere bevorzugt von 5 bis 20 mol-%, basierend auf der gesamten molaren Menge der Polymerkomponenten, obwohl die Menge in zweckmäßiger Weise gemäß er Struktur des Polymers und der Auslegung und der Zusammensetzung bestimmt werden kann.
Neben den vorstehenden Komponenten kann das spezifische Binderpolymer andere polymerisierbare Komponenten enthalten. Als andere polymerisierbare Komponenten können herkömmlicherweise wohlbekannte polymerisierbare Komponenten ohne Begrenzung verwendet werden, solange wie sie radikalische polymerisierbare Monomere sind. Im Einzelnen werden Monomere, die in Kobunshi Handbook – Kiso-Hen (Polymer Handbook – Elementary Course), herausgegeben von Kobunshi Gakkai und veröffentlicht von Baifukan (1986) beschrieben sind, beispielhaft dargestellt werden. Solche anderen polymerisierbaren Komponenten können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Das Molekulargewicht des spezifischen Binderpolymers wird in geeigneter Weise aus den Gesichtspunkten von z. B. den Bilderzeugungseigenschaften und der Druckpressenlebensdauer eines lithographischen Druckplattenvorläufers bestimmt. Das Molekulargewicht beträgt vorzugsweise 2 000 bis 1 000 000, weiter bevorzugt 5 000 bis 500 000, und insbesondere bevorzugt 10 000 bis 200 000.
Der Glasübergangspunkt (Tg) des spezifischen Binderpolymers beträgt vorzugsweise 70 bis 300°C, weiter bevorzugt 80 bis 250°C, und insbesondere bevorzugt 90 bis 200°C. Wenn der Glasübergangspunkt weniger als 70°C beträgt, wird die Lagerungsstabilität herabgesetzt, und manchmal verringert sich die Druckpressenlebensdauer, wenn die lichtempfindliche Zusammensetzung in einem lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet wird. Wenn diese höher als 300°C ist, verringert sich der Grad des Radikaltransfers in die Zusammensetzung und manchmal kann sich die Empfindlichkeit verringern.
Zum Erhöhen des Glasübergangspunktes des spezifischen Binderpolymers ist es bevorzugt, eine Amidogruppe oder eine Imidogruppe, insbesondere bevorzugt ein Methacrylamid oder ein Methacrylamidderivat in das spezifische Binderpolymer einzubauen.
Das spezifische Binderpolymer kann allein oder in Kombination mit einem oder mehreren anderen Binderpolymeren verwendet werden. Andere Binderpolymere werden in einer Menge von 1 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise 1 bis 40 Gew.-%, und weiter bevorzugt 1 bis 20 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der Polymerkomponente verwendet. Als ein anderes Binderpolymer werden vorzugsweise herkömmlicherweise wohlbekannte Binderpolymere ohne Begrenzung verwendet, und im Einzelnen werden ein Binder mit Acrylhauptkette und eine Urethanbinder, der weithin auf dem Gebiet der Technik verwendet wird, vorzugsweise verwendet.
Die Gesamtmenge des spezifischen Binderpolymers und anderen Binderpolymers, das in Kombination in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung verwendbar ist, können in geeigneter Weise bestimmt werden, und die Menge beträgt gewöhnlich 10 bis 90 Gew.-%, vorzugsweise 20 bis 80 Gew.-%, und weiter bevorzugt 30 bis 70 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der nicht-flüchtigen Komponente in der Zusammensetzung.
Zusätzlich zu den vorstehenden Grundkomponenten kann die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung ferner gegebenenfalls andere Komponenten enthalten, die für die Verwendung und deren Herstellungsverfahren geeignet sind. Bevorzugte Additive werden nachstehend beschrieben.
Polymerisationsinhibitor:
Es ist bevorzugt, dass die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung eine kleine Menge eines thermischen Polymerisationsinhibitors zum Zweck des Inhibierens einer unerwünschten thermischen Polymerisation einer Verbindung mit einer polymerisierbaren ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, d. h. einer polymerisierbare Verbindung, enthält. Als der geeignete thermische Polymerisationsinhibitor können Hydrochinon, p-Methoxphenol, Di-tert-butyl-p-cresol, Pyrogallol, tert-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2'-Methylenbis(4-methyl-6-tert-butylphenol) und N-Nitrosophenylhydroxyamin primäres Cersalz beispielhaft dargestellt werden. Die Menge des thermischen Polymerisationsinhibitors beträgt vorzugsweise 0,01 bis ungefähr 5 Gew.-%, basierend auf dem Gewicht der nicht-flüchtigen Komponente in der gesamten Zusammensetzung. Ferner kann, wenn erwünscht, ein höheres Fettsäurederivat, wie etwa Beheninsäure und Beheninsäureamid, zugegeben und auf der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht während dem Trocknungsverfahren nach der Beschichtung lokalisiert werden, um so die Polymerisationshinderung aufgrund von Sauerstoff zu inhibieren. Die Menge des höheren Fettsäurederivats beträgt vorzugsweise ungefähr 0,5 Gew.-% bis ungefähr 10 Gew.-%, basierend auf den nicht-flüchtigen Komponente in der gesamten Zusammensetzung.
Farbstoff:
Ferner kann ein Farbstoff oder ein Pigment zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung zum Zweck der Färbung zugegeben werden. Sogenannte Plattenuntersuchungseigenschaften, z. B. Sichtbarkeit nach der Plattenherstellung und Geeignetheit für ein Bilddichtemessgerät als eine Druckplatte können aufgrund der Zugabe des Farbstoffs verbessert werden. Da es wahrscheinlich ist, dass viele Farbstoffe die Empfindlichkeit einer fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht verringern, ist die Verwendung eines Pigments als der Farbstoff insbesondere bevorzugt. Spezifische Beispiele für den Farbstoff schließen z. B. Pigmente, wie etwa Phthalocyaninpigmente, Azopigmente, Ruß und Titanoxid, und Farbstoffe, wie etwa Ethylviolett, Kristallviolett, Azofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe ein. Die Menge des Farbstoffs und Pigments beträgt vorzugsweise von ungefähr 0,5 bis ungefähr 5 Gew.-%, basierend auf den nicht-flüchtigen Komponenten in der gesamten Zusammensetzung.
Andere Additive:
Wohlbekannte Additive, wie etwa anorganische Füllstoffe zum Verbessern der physikalischen Eigenschaften eines gehärteten Films, Weichmacher, und Ölsensibilisierungsmittel, mit denen die Tintenaufnahmeeigenschaften einer lichtempfindlichen Schichtoberfläche verbessert werden können, können ferner zu der lichtempfindlichen Zusammensetzung zugegeben werden. Als der Weichmacher werden z. B. Dioctylphthalat, Didodecylphthalat, Triethylenglycoldicaprylat, Dimethylglycolphthalat, Tricresylphosphat, Dioctyladipat, Dibutylsebacat, Triacetylglycerin beispielhaft dargestellt, und dieser kann gewöhnlich in einem Bereich von 10 Gew.-% oder weniger, basierend auf dem Gesamtgewicht des Binderpolymers und der additionspolymerisierbaren Verbindung zugegeben werden. Zudem kann ein UV-Initiator und ein thermisches Vernetzungsmittel auch zu der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzung zum Verstärken des Effektes des Erhitzens oder der Belichtung nach Entwicklung zum Zweck des Verbesserns der Filmfestigkeit (Verlängerung der Druckpressenlebensdauer) in dem nachstehend beschriebenen lithographischen Druckplattenvorläufer zugegeben werden.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung kann vorzugsweise als eine lichtempfindliche Schicht in einem nachstehend beschriebenen lithographischen Druckplattenvorläufer verwendet werden.
Lithographischer Druckplattenvorläufer:
Der erfindungsgemäße lithographische Druckplattenvorläufer ist ein lithographischer Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer darauf bereitgestellten lichtempfindlichen Schicht und einer Schutzschicht in dieser Reihenfolge umfasst, und die lichtempfindliche Schicht enthält die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung. Der lithographische Druckplattenvorläufer kann durch Beschichten einer Beschichtungslösung für die lichtempfindliche Schicht, die die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung enthält, oder einer Lösung, die durch Auflösen der Komponenten einer erwünschten Schicht, z. B. einer Schutzschicht und dergleichen, in einem Lösungsmittel auf einem geeigneten Träger, oder einer Zwischenschicht hergestellt werden.
Lichtempfindliche Schicht:
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht ist vorzugsweise eine negative lichtempfindliche Schicht vom thermischen Polymerisationstyp, die den IR-Absorber, das Oniumsalz (Polymerisationsinitiator), die polymerisierbare Verbindung (auch als eine additionspolymerisierbare bezeichnet) der Formel (I), und ein Binderpolymer enthält. Eine solche negative lichtempfindliche Schicht vom thermischen Polymerisationstyp besitzt einen Mechanismus, das der IR-Absorber IR-Laserstrahlen absorbiert und die absorbierten IR-Laserstrahlen in Wärme umwandelt, der Polymerisationsinitiator durch die Wärme unter Erzeugung eines Radikals zersetzt wird, und die polymerisierbare Verbindung eine Polymerisationsreaktion durch das erzeugte Radikal hervorruft. Ferner ist der erfindungsgemäße lithographische Druckplattenvorläufer zur Plattenherstellung durch direktes Beschreibung mit IR-Laserstrahlen mit einer Wellenlänge von 760 bis 1 200 nm geeignet, und zeigt eine hohe Druckpressenlebensdauer und bilderzeugende Eigenschaften, verglichen mit herkömmlichen lithographischen Druckplattenvorläufern.
Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Zusammensetzung wird in verschiedenen organischen Lösungsmitteln aufgelöst und die lichtempfindliche Schicht wird auf einem Träger einer Zwischenschicht beschichtet. Beispiele für das verwendete Lösungsmittel schließen Aceton, Methylethylketon, Cyclohexan, Ethylacetat, Ethylendichlorid, Tetrahydrofuran, Toluol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, Ethylenglycoldimethylether, Propylenglycolmonomethylether, Propylenglycolmonoethylether, Acetylaceton, Cyclohexanon, Diacetonalkohol, Ethylenglycolmonomethyletheracetat, Ethylenglycolethyletheracetat, Ethylenglycolmonoisopropylether, Ethylenglycolmonobutyletheracetat, 3-Methoxypropanol, Methoxymethoxyethanol, Diethylenglycolmonomethylether, Diethylenglycolmonoethylether, Diethylenglycoldimethylether, Diethylenglycoldiethylether, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Propylenglycolmonoethyletheracetat, 3-Methoxypropylacetat, N,N-Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Methyllactat und Ethyllactat ein. Die Lösungsmittel können allein oder als Mischung aus zwei oder mehreren davon verwendet werden. Die Konzentration des Feststoffgehalts in der Beschichtungslösung beträgt gewöhnlich 2 bis 50 Gew.-%.
Die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht beeinflusst hauptsächlich die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht, die Entwicklungseigenschaften, die Festigkeit des belichteten Films und die Druckpressenlebensdauer, daher ist es bevorzugt, die Beschichtungsmenge gemäß den Zwecken in geeigneter Weise auszuwählen. Eine zu kleine Beschichtungsmenge führt zu einer unzureichenden Druckpressenlebensdauer. Wenn die Menge zu groß ist, verringert sich die Empfindlichkeit, die Belichtung benötigt eine zu lange Zeit, und es wird eine lange Zeit zur Entwicklungsbearbeitung benötigt, was nicht vorteilhaft ist. Als ein lithographischer Druckplattenvorläufer zur Abtastbelichtung, was eine Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung ist, beträgt die Beschichtungsmenge der lichtempfindlichen Schicht vorzugsweise von ungefähr 0,1 bis ungefähr 10 g/m², weiter bevorzugt 0,5 bis 5 g/m² hinsichtlich des Nachtrocknens.
Träger:
Als der Träger für den erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufer können herkömmlicherweise wohlbekannte hydrophile Träger, die weithin in lithographischen Druckplattenvorläufern verwendet werden, ohne irgendeine Beschränkung verwendet werden.
Der Träger zur erfindungsgemäßen Verwendung ist vorzugsweise ein plattenähnlicher Träger mit Größenabmessungsstabilität. Zum Beispiel können Papier, mit Kunststoffen (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol, etc.) laminiertes Papier, eine Metallplatte (z. B. Aluminium, Zink, Kupfer, etc.), ein Kunststofffilm (z. B. Celluloseacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal, etc.), und Papier oder ein Kunststofffilm, das mit dem vorstehenden Metall laminiert ist oder das darauf abgeschieden ist, beispielhaft dargestellt werden. Die Oberfläche des Trägers kann chemisch oder physikalisch durch wohlbekannte Verfahren zum Zweck des Bereitstellens von Hydrophilizität oder Verbesserung der Festigkeit, wenn erwünscht, behandelt werden.
Als insbesondere bevorzugt den Träger werden Papier, eine Polyesterfolie und ein Aluminiumblatt beispielhaft dargestellt, und ein Aluminiumblatt, das größenabmessungsstabil ist, vergleichsweise kostengünstig ist, und mit dem eine hochhydrophile und starke Oberfläche durch Oberflächenbehandlung gemäß der Notwendigkeit bereitgestellt werden kann, weiter bevorzugt verwendet. Ein Kompositblatt, das eine Polyethylenterephthalatfolie umfasst, worauf ein Aluminiumblatt gebunden ist, wie in JP-B-48-18327 offenbart, ist auch bevorzugt.
Ein Aluminiumblatt ist ein Metallblatt, das größenabmessungsstabiles Aluminium als eine Hauptkomponente umfasst, und das Aluminiumblatt ist neben einem reinen Aluminiumblatt aus einem Aluminiumblatt, das Aluminium als eine Hauptkomponente und eine Spurenmenge unterschiedlicher Elemente enthält, und einem Kunststofffilm oder Papier, das mit Aluminium (Legierung) laminiert oder abgeschieden ist, ausgewählt. In der folgenden Erläuterung werden Substrate, die Aluminium oder Aluminiumlegierungen umfassen, kollektiv Aluminiumsubstrate genannt. Beispiele für das unterschiedliche Element, das in der Aluminiumlegierung enthalten ist, schließen Silicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismuth, Nickel und Titan ein. Der Gehalt des unterschiedlichen Elementes in der Aluminiumlegierung beträgt 10 Gew.-% oder weniger. Erfindungsgemäß ist ein reines Aluminiumblatt bevorzugt, aber 100. reines Aluminiumblatt ist angesichts der Raffiniertechniken schwer herzustellen, demgemäß kann eine geringfügige Menge unterschiedlicher Elemente enthalten sein. So ist die Zusammensetzung des verwendeten Aluminiumblattes erfindungsgemäß nicht besonders beschränkt, und Aluminiumblätter aus herkömmlicherweise wohlbekannten und gewöhnlich verwendeten z. B. JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103 und JIS A 3005, können in geeigneter Weise verwendet werden.
Das Aluminiumsubstrat zur erfindungsgemäßen Verwendung besitzt eine Dicke von ungefähr 0,1 bis ungefähr 0,6 mm. Die Dicke kann in geeigneter Weise gemäß der Größe einer Druckpresse, der Größe einer Druckplatte und den Wünschen des Verwenders ausgewählt werden. Das Aluminiumsubstrat kann eine Oberflächenbehandlung, wie nachstehend beschrieben, wenn erwünscht, unterzogen werden, oder es kann auf eine solche verzichtet werden.
Oberflächenaufrauungsbehandlung:
Als Oberflächenaufrauungsbehandlungsverfahren gibt es mechanisches Oberflächenaufrauen, chemisches Ätzen, und elektrolytisches Körnen, wie in JP-A-56-28893 offenbart. Ferner können ein elektrochemisches Oberflächenaufrauungsverfahren zum Durchführen von Oberflächenaufrauen auf elektrochemische Weise in einem Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten, und mechanische Oberflächenaufrauungsverfahren, z. B. Drahtbürstenkornungsverfahren zum Zerkratzen einer Aluminiumoberfläche mit Metalldraht, ein Kugelkörnungsverfahren zum Körnen einer Aluminiumoberfläche mit Abrasionskugeln und einem Schleifmittel, und einem Bürstenkörnungsverfahren zum Körnen einer Aluminiumoberfläche mit einer Nylonbürste und einem Schleifmittel verwendet werden. Die Oberflächenaufrauungsverfahren können allein oder in Kombination verwendet werden.
Von diesen Verfahren ist ein nützliches Oberflächenaufrauungsverfahren das elektrochemische Oberflächenaufrauungsverfahren zum Durchführen eines Oberflächenaufrauens auf elektrochemische Weise in Salzsäure- oder Salpetersäureelektrolyten. Eine bevorzugte Menge an Anodenelektrizität beträgt von 50 bis 400 C/dm². Im Einzelnen ist es bevorzugt, eine Elektrolyse in einem Elektrolyten, der 0,1 bis 50% Salzsäure oder Salpetersäure enthält, durch Direktstrom und/oder alternierenden Strom unter den Bedingungen von 20 bis 80°C für 1 Sekunde bis 30 Minuten und einer elektrischen Stromdichte von 100 bis 400 C/dm² durchzuführen.
Die Aluminiumplatte, die der Oberflächenaufrauungsbehandlung auf eine solche Weise unterzogen wurde, kann dann chemischen Ätzen mit einer Säure oder einem Alkali unterzogen werden. Ein Ätzmittel, das vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, schließt Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriummetasilicat, Natriumphosphat, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein, und bevorzugte Bereiche der Konzentration und Temperatur betragen jeweils von 1 bis 50% und von 20 bis 100°C. Zur Entfernung von Schmutz, der auf der Oberfläche des Aluminiumsubstrats nach der Ätzbehandlung verbleibt, wird das Aluminiumblatt mit einer Säure gewaschen. Als die zum Waschen verwendete Säure können z. B. Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorsäure und Borfluorsäure beispielhaft dargestellt werden. Insbesondere werden als ein bevorzugtes Schmutzentfernungsverfahren nach dem elektrochemischen Oberflächenaufrauungsverfahren ein Verfahren zum Bringen des Aluminiumssubstrats in Kontakt mit einer 15 bis 65 gew.-%igen Schwefelsäure bei 50 bis 90°C, wie in JP-A-53-12739 offenbart, und ein Alkaliätzverfahren, wie in JP-B-48-28123 offenbart, beispielhaft dargestellt.
Oberflächenaufrauungsverfahren und Bedingungen sind nicht besonders beschränkt, solange wie die durchschnittliche Mittellinienoberflächenrauhigkeit (Ra) der behandelten Oberfläche nach der Behandlung 0,2 bis 0,5 um beträgt.
Andodisierbehandlung:
Das so behandelte Aluminiumsubstrat, worauf ein Oxid erzeugt wird, wird ferner einer Anodisierbehandlung unterzogen.
Bei der Anodisierbehandlung wird eine wässrige Lösung aus Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, oder Borsäure/Natriumborat allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren als eine Hauptkomponente eines Elektrolytbads verwendet. Zu dieser Zeit können die Komponenten, die gewöhnlich in einem Al Legierungsblatt enthalten sind, Elektrode, Leitungswasser und Grundwasser mindestens in dem Elektrolyten enthalten sein. Ferner können die zweiten und dritten Komponenten enthalten sein. Die zweiten und dritten Komponenten schließen ein Kation, z. B. ein Metallion von z. B. Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu oder Zn oder ein Ammoniumion; und ein Anion, z. B. ein Nitration, ein Carbonation, ein Chlorion, ein Phosphation, ein Fluorion, ein Sulfition, ein Titanation, ein Silication oder ein Boration ein. Das Ion kann in einer Konzentration von 0 bis 10 000 ppm oder so enthalten sein. Die Bedingungen für die Anodisierbehandlung sind nicht besonders beschränkt, aber vorzugsweise beträgt die Konzentration einer Säure als die Hauptkomponente des Elektrolytbads von 30 bis 500 g/Liter, die Temperatur der Lösung von 10 bis 70°C, die Stromdichte von 0,1 bis 40 A/dm², und die Behandlung wird durch den Direktstrom- oder alternierende Stromelektrolyse durchgeführt. Die Dicke des anodischen Oxidfilms, der erzeugt wird, beträgt von 0,5 bis 1,5 μm, vorzugsweise von 0,5 bis 1,0 μm. Die Behandlungsbedingungen sollten so ausgewählt werden, dass der Porendurchmesser der Mikroporen auf dem anodischen Oxidfilm des Trägers, der durch die Behandlung erzeugt wurde, von 5 bis 10 nm beträgt, und die Porendichte im Bereich von 8 × 10¹⁵ bis 2 × 10¹⁶/m² erreicht.
Als die Hydrophilisierungsbehandlung einer Trägeroberfläche können wohlbekannte Verfahren verwendet werden. Als insbesondere bevorzugte Behandlung wird eine Hydrophilisierungsbehandlung mit Silicat oder Polyvinylphosphonsäure durchgeführt. Die Menge des erzeugten Films beträgt vorzugsweise 2 bis 40 mg/m², weiter bevorzugt 4 bis 30 mg/m², als Si oder P Element. Die Beschichtungsmenge kann gemäß einem fluoreszierenden Röntgenstrahlanalysierverfahren gemessen werden.
Die Hydrophilisierungsbehandlung wird durch Eintauchen des Aluminiumsubstrats mit einem darauf gezeigten anodischen Oxidfilm in einer wässrigen Lösung aus Alkalimetallsilicat oder Polyvinylphosphonsäure in eine Konzentration von 1 bis 30 Gew.-%, vorzugsweise 2 bis 15 Gew.-% mit einem pH-Wert von 10 bis 13 bei 25°C, bei 15 bis 80°C von 0,5 bis 120 Sekunden durchgeführt.
Als das bei der Hydrophilisierungsbehandlung verwendete Alkalimetallsilicat werden Natriumsilicat, Kaliumsilicat und Lithiumsilicat verwendet. Bei der Hydrophilisierungsbehandlung wird ein Hydroxid, z. B. ein Natriumhydroxid, ein Kaliumhydroxid oder ein Lithiumhydroxid zu der wässrigen Alkalimetallsilicatlösung zum Erhöhen des pH-Werts der Lösung gegeben. Ferner kann ein Erdalkalimetallsalz oder Metallsalz, das zur Gruppe IVb gehört, zu der wässrigen Alkalimetallsilicatlösung gegeben werden. Als das Erdalkalimetallsalz werden das Nitrat von Erdalkalimetallsalz, z. B. Calciumnitrat, Strontiumnitrat, Magnesiumnitrat, und Bariumnitrat, und das wasserlösliche Salz von Erdalkalimetallsalz, z. B. Sulfat, Hydrochlorid, Phosphat, Acetat, Oxalat und Borat beispielhaft dargestellt. Als das Metallsalz, das zur Gruppe IVb gehört werden Titantetrachlorid, Titantrichlorid, Kaliumtitanfluorid, Kaliumtitanoxalat, Titansulfat, Titantetraiodid, Zirkonchloridoxid, Zirkondioxid, Zirkonoxychlorid, und Zirkontetrachlorid beispielhaft dargestellt.
Die Erdalkalimetallsalze und Metallsalze, die zu der Gruppe IVb gehören, können allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet werden. Das Metallsalz wird vorzugsweise in einer Menge von 0,01 bis 10 Gew.-%, weiter bevorzugt von 0,05 bis 5,0 Gew.-% verwendet. Die Silicatelektroabscheidung, wie in US-PS 3 658 662 offenbart, ist auch effektiv. Träger, die dem elektrolytischen Körnen unterzogen werden, Anodisierbehandlung und Hydrophilisierungsbehandlung, unterzogen worden, wie in JP-B-46-27481 , JP-A-52-58602 und JP-A-52-30503 offenbart, sind auch nützlich.
Zwischenschicht (Unterbeschichtungsschicht):
In dem lithographischen Druckplattenvorläufer kann eine Zwischenschicht zum Zweck der Verbesserung der Adhäsion zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger, und der Schmutzbeständigkeit bereitgestellt werden. Als spezifische Beispiele für die Zwischenschicht können diejenigen, die in den folgenden Patentschriften offenbart sind, vorzugsweise verwendet werden.

JP-B-50-7481 , JP-A-54-72104 , JP-A-59-101651 , JP-A-60-149491 , JP-A-60-232998 , JP-A-3-56177 , JP-A-4-282637 , JP-A-5-16558 , JP-A-5-24 6171 , JP-A-7-159983 , JP-A-7-314937 , JP-A-8-202025 , JP-A-8-320551 , JP-A-9-34104 , JP-A-9-236911 , JP-A-9-269593 , JP-A-10-69092 , JP-A-10-115931 , JP-A-10-161317 , JP-A-10-260536 , JP-A-10-282682 , JP-A-11-84674 , JP-A-11-38635 , JP-A-11-38629 , JP-A-10-282645 , JP-A-10-301262 , JP-A-11-24277 , JP-A-11-109641 , JP-A-10-319600 , JP-A-11-327152 , JP-A-2000-10192 , JP-A-2000-235254 , JP-A-2000-352824 , JP-A-2001-175001 und JP-A-2001-209170 .

Schutzschicht (Überbeschichtungsschicht):
Da die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers eine negative lichtempfindliche Schicht vom thermischen Polymerisationstyp ist, wird die Belichtung in der Luft durchgeführt, demgemäß ist es bevorzugt, eine Schutzschicht (auch eine Überbeschichtungsschicht genannt) auf der lichtempfindlichen Schicht bereitzustellen. Die Schutzschicht wird grundsätzlich bereitgestellt, um die lichtempfindliche Schicht zu schützen, aber besitzt auch die Rolle einer Sauerstoffabschirmschicht, wenn die lichtempfindliche Schicht einen radikalisch polymerisierbaren bilderzeugenden Mechanismus wie in der vorliegenden Erfindung besitz, und fungiert als eine ablationsverhindernde Schicht, wenn die Belichtung mit IR-Laserstrahlen von hoher Leuchtstärke durchgeführt wird.
Neben dem Vorstehenden ist als die Eigenschaften, die für die Schutzschicht benötigt werden, es bevorzugt, dass die Schutzschicht nicht im Wesentlichen die Transmission von Licht für die Belichtung hindert, eine herausragende Adhäsion mit der lichtempfindlichen Schicht besitzt, und leicht während dem Entwickelungsverfahren nach Belichtung entfernt werden kann. Erfindung bezüglich der Schutzschicht sind bisher gemacht worden und detailliert in US-PS 3 458 311 und JP-A-55-49729 offenbart worden.
Als die Materialien für die Schutzschicht werden vorzugsweise wasserlösliche Polymerverbindung mit relativ herausragender Kristallierfähigkeit verwendet, im Einzelnen wasserlösliche Polymere, z. B. Polyvinylalkohol, Vinylalkohol/Vinylphthalatcopolymer, Vinylacetat/Vinylalkohol/Vinylphthalatcopolymer, Vinylacetat/Crotonsäurecopolymer, Polyvinylpyrrolidon, saure Cellulose, Gelatine, arabischer Gummi, Polyacrylsäure und Polyacrylamid sind bekannt, und sie können allein oder als Mischung verwendet werden. Von diesen Verbindungen können bei Verwendung von Polyvinylalkohol als eine Hauptkomponente die besten Resultate in den fundamentalen Eigenschaften, wie etwa Abschirmung von Sauerstoff und Entfernung der Schutzschicht durch Entwicklung, erhalten werden.
Eine Mischung aus Polyvinylalkohol, von dem 15 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise 10 bis 25 Gew.-% mit Polyvinylpyrrolidon substituiert ist, ist vom Standpunkt der Lagerungsstabilität bevorzugt.
Polyvinylalkohol zur Verwendung in der Schutzschicht kann teilweise durch Ester, Ether und Acetal substituiert werden, solange wie sie substituierte Vinylalkoholeinheiten zum Erhalten einer notwendigen Sauerstoffabschirmeigenschaften und Wasserlöslichkeit enthalten. Zudem kann ein Teil des Polyvinylalkohols eine andere Copolymerkomponente besitzen.
Als spezifische Beispiele für Polyvinylalkohol können diejenigen mit einer Hydrolysierungsrate von 71 bis 100% und einer Polymerisationswiederholungseinheit von 300 bis 2 400 beispielhaft dargestellt werden.
Im Einzelnen schließen Beispiele hierfür PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613, und L-8 (hergestellt von Kuraray Co., Ltd.) ein.
Die Komponenten für die Schutzschicht (die Auswahl von PVA und die Verwendung von Additiven) und die Beschichtungsmenge werden unter Berücksichtigung der Eintrübungseigenschaften, Adhäsion und Kratzbeständigkeit neben den Sauerstoffabschirmeigenschaften und der Entfernbarkeit durch Entwicklung ausgewählt. Im Allgemeinen gilt, dass je höher die Hydrolysierungsrate des verwendeten PVAs (je höher der Gehalt an unsubstituierte Vinylalkoholeinheit in der Sauerstoffabschirmschicht) ist, und je höher die Schichtdicke ist, desto höher die Sauerstoffabschirmeigenschaft ist, wobei die so hinsichtlich der Empfindlichkeit vorteilhaft ist. Eine zu hohe Sauerstoffabschirmeigenschaft führt jedoch zur Erzeugung einer unerwünschten Polymerisationsreaktion aufgrund der Herstellung und Lagerung vor Belichtung oder des Auftretens von unerwünschter Eintrübung und Verdicken von Bildlinien bei Bildbelichtung.
Demgemäß beträgt eine Sauerstoffpermeabilität (A) bei 25°C unter 1 Atom vorzugsweise 0,2 ≦ A ≦ 20 (ml/m²·Tag).
Das Molekulargewicht des (Co)polymers, wie etwa Polyvinylalkohol (PVA), beträgt gewöhnlich 2 000 bis 10 000 000, und vorzugsweise 20 000 bis 3 000 000.
Als andere Komponenten für die Schutzschicht können Glycerol und Dipropylenglycol, die einigen Gew.-% entsprechen, zu den (Co)polymeren zur Verleihung von Flexibilität gegeben werden. Ferner können anionische Tenside, z. B. Natriumalkylsulfat und Natriumalkylsulfonat; amphotere Tenside, z. B. Alkylaminocarboxylat und Alkylaminodicarboxylat; und nicht-ionische Tenside z. B. Polyoxyethylenalkylphenylether zu den (Co)polymeren jeweils in einer Menge von einigen Gew.-% zugegeben werden.
Die Schichtdicke der Schutzschicht beträgt vorzugsweise 0,5 bis 5 μm, und beträgt insbesondere bevorzugt 0,5 bis 2,5 μm.
Die Adhäsion der Schutzschicht an die lichtempfindliche Schicht und die Kratzbeständigkeit sind auch extrem wichtig beim Behandeln einer Druckplatte. Im Einzelnen ist es, wenn eine hydrophile Schicht, die wasserlösliches Polymer umfasst, auf eine lipophile lichtempfindliche Schicht laminiert wird, wahrscheinlich, das Schichtabschälen aufgrund unzureichender Adhäsion auftritt, und der abgeschälte Teil ruft einen solchen Defekt wie Filmhärtungsversagen aufgrund von Polymerisationshinderung durch Sauerstoff hervor. Verschiedene Vorschläge sind zum Verbessern der Adhäsion der lichtempfindlichen Schicht und der Schutzschicht gemacht worden. Zum Beispiel wird in US-PSen 292,501 und 44,563 offenbart, dass eine ausreichende Adhäsionseigenschaft erhalten werden kann, indem 20 bis 60 Gew.-% Acryl basierter Emulsion oder wasserunlöslichen Vinylpyrrolidon/Vinylacetatcopolymer mit einem hydrophilen Polymer, das hauptsächlich Polyvinylalkohol umfasst, vermischt werden und das resultierende Produkt auf die lichtempfindliche Schicht laminiert wird. Beliebige dieser wohlbekannten Techniken können auf die erfindungsgemäße Schutzschicht angewendet werden. Beschichtungsverfahren für die Schutzschicht werden detailliert z. B. in US-PS 3 458 311 und JP-B-55-49729 offenbart.
Zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte aus dem erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufer werden mindestens Verfahren zum Belichten und zur Entwicklung durchgeführt.
Als die Lichtquelle für die Belichtung des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers wird vorzugsweise ein IR-Laser verwendet, und die Belichtung mit einer UV-Lampe und thermisches Aufzeichnen mit einem thermischen Kopf sind auch möglich.
Vor allen wird Bildbelichtung mit einem Festzustandslaser und einem Halbleiterlaser, der IR-Strahlen der Wellenlänge von 750 bis 1 400 nm ausstrahlt, insbesondere bevorzugt erfindungsgemäß angewendet. Die Leistung des Lasers beträgt vorzugsweise 100 mW oder mehr, und es ist bevorzugt, eine Multistrahllaservorrichtung zum Verkürzen der Belichtungszeit zu verwenden. Die Belichtungszeit pro Pixel beträgt vorzugsweise nicht mehr als 20 μsec. Die Energiemenge, die auf dem lithographischen Druckplattenvorläufer bestrahlt wird, beträgt vorzugsweise 10 bis 300 mJ/cm². Wenn die Belichtungsenergie zu niedrig ist, schreitet das Härten der lichtempfindlichen Schicht nicht ausreichend voran. Wenn die Energie andererseits zu hoch ist, ist die lichtempfindliche Schicht gegenüber Ablation durch den Laser empfänglich, und das Bild wird manchmal beschädigt.
Bei der erfindungsgemäßen Belichtung können sich die Lichtstrahlen aus der Lichtquelle überlappen. Das Überlappen bedeutet, dass die Unterabtastungsabstandsbreite kleiner als der Strahldurchmesser ist. Wenn der Strahldurchmesser durch die Halbwärtsbreite (FWHM) der Strahlstärke ausgedrückt wird, kann das Überlappen quantitativ durch die FWHM/Unterabtastungsabstandsbreite (Überlappungsindex) ausgedrückt werden. Der Überlappungsindex ist vorzugsweise erfindungsgemäß 0,1 oder mehr.
Das Abtastverfahren der Lichtquelle für das Belichtungsgerät zur erfindungsgemäßen Verwendung ist nicht besonders begrenzt, z. B. ein Abtastverfahren für die äußere Oberfläche eines Zylinders, ein Abtastverfahren für die innere Oberfläche eines Zylinders, und ein Abtastverfahren für eine ebene Oberfläche können verwendet werden. Ein Kanal der Lichtquelle kann ein einzelner Kanal oder ein Multikanal sein, aber der Multikanal wird vorzugsweise im Fall des Abtastverfahrens für die äußere Oberfläche eines Zylinders verwendet.
Erfindungsgemäß kann ein Entwicklungsverfahren sofort nach der Belichtung durchgeführt werden, oder ein Heizverfahren kann zwischen der Belichtung und dem Entwicklungsverfahren durchgeführt werden. Das Heizverfahren wird vorzugsweise bei 60 bis 150°C für 5 Sekunden bis 5 Minuten durchgeführt.
Das Heizverfahren kann in geeigneter Weise aus verschiedenen wohlbekannten Verfahren ausgewählt werden. Im Einzelnen werden ein Verfahren zum Erhitzen des lithographischen Druckplattenvorläufers unter Kontakt mit einer Tafelheizvorrichtung oder einer keramischen Heizvorrichtung, und ein Verfahren zum Erhitzen des lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer Lampe oder Heißluft durch ein Nicht-Kontaktsystem beispielhaft dargestellt. Indem das Heizverfahren durchgeführt wird, kann die Verringerung der Menge an Laserenergie, die zum Bildaufzeichnen notwendig ist, erreicht werden.
Erfindungsgemäß kann die Schutzschicht durch Vorwaschen vor dem Entwicklungsverfahren entfernt werden. Zum Beispiel wird Leitungswasser beim Vorwaschen verwendet.
Der lithographische Druckplattenvorläufer wird erfindungsgemäß nach der Belichtung oder nach dem Unterziehen des Heizverfahrens und des Vorwaschverfahrens entwicklungsbearbeitet. Die Entwicklungslösung zur Verwendung beim Entwicklungsverfahren ist vorzugsweise eine wässrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von 14 oder weniger, und weiter bevorzugt eine wässrige Alkalilösung, die einen pH-Wert von 8 bis 12 besitzt, und ein anionisches Tensid enthält. Als Beispiele für das Alkalimittel werden anorganische Alkalimittel, z. B. tertiäres Natriumphosphat, tertiäres, Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres, Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumborat, Kaliumborat, Ammoniumborat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid, und Lithiumhydroxid beispielhaft dargestellt. Zudem werden auch organische Alkalimittel, z. B. Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin verwendet. Die Alkalimittel werden allein oder in Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet.
Ferner wird bei dem Entwicklungsbearbeiten des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers 1 bis 20 Gew.-%, weiter bevorzugt 3 bis 10 Gew.-% eines anionischen Tensids verwendet. Eine zu kleine Menge an anionischem Tensid führt zu einem Herabsetzen einer Entwicklungseigenschaft, deren eine zu große Menge mit Nachteilen, z. B. der Verschlechterung der Festigkeit, wie etwa Abrasionsbeständigkeit des Bildes, behaftet ist. Beispiele für das anionische Tensid schließen Natriumlaurylalkoholsulfat, Ammoniumlaurylalkoholsulfat, Natriumoctylalkoholsulfat, Alkyllaurylsulfonate, z. B. Natriumisopropylnaphthalensulfonat, Natriumisobutylnaphthalensulfonat, Natriumpolyoxyethylenglycolmononaphthylethersulfat, Natriumdodecylbenzolsulfonat, und Natriummetanitrobenzolsulfonat, höhere Alkoholsulfate mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen, z. B. sekundäres Natriumalkylsulfat, aliphatische Alkoholphosphate, z. B. Natriumcetylalkoholphosphat, Sulfonate von Alkylamid, z. B. C₁₇H₃₃CON(CH₃)CH₂CH₂SO₃Na, und Sulfonate von zweibasigen aliphatischen Ester, z. B. Natriumdioctylsulfosuccinat und Natriumdihexylsulfosuccinat ein.
Ferner können, soweit erwünscht, ein organisches Lösungsmittel, das mit Wasser mischbar ist, z. B. Benzylalkohol, zu der Entwicklungslösung zugegeben werden. Als das organische Lösungsmittel, wird vorzugsweise dasjenige mit einer Löslichkeit in Wasser von 10 Gew.-% oder weniger, vorzugsweise 5 Gew.-% oder weniger, verwendet. Zum Beispiel werden 1-Phenylethanol, 2-Phenylethanol, 3-Phenylpropanol, 1,4-Phenylbutanol, 2,2-Phenylbutanol, 1,2-Phenoxyethanol, 2-Benzyloxyethanol, o-Methoxybenzylalkohol, m-Methoxybenzylalkohol, p-Methoxybenzylalkohol, Benzylalkohol, Cyclohexanol, 2-Methylcyclohexanol, 4-Methylcyclohexanol und 3-Methylcyclohexanol beispielhaft dargestellt. Die Menge an organischem Lösungsmittel beträgt vorzugsweise 1 bis 5 Gew.-%, basierend auf der Gesamtmenge der Entwicklungslösung bei Verwendung. Da die Menge des organischen Lösungsmittels eng mit der Menge des anionischen Tensids zusammenhängt, ist es bevorzugt, die Menge an anionischem Tensid zu erhöhen, wenn die Menge an organischem Lösung erhöht wird. Der Grund hierfür ist, dass, wenn die Menge an organischem Lösungsmittel erhöht wird, während die Menge an anionischem Tensid klein ist, das organische Lösungsmittel nicht aufgelöst wird, dementsprechend eine gute Entwicklungseigenschaft nicht sichergestellt werden kann.
Ferner können, soweit erwünscht, Additive, z. B. ein Endschäumungsmittel und ein Wasserweichmacher zu der Entwicklungslösung auch zugegeben werden. Als Beispiele für den Wasserweichmacher werden Polyphosphat, z. B. Na₂P₂O₇, Na₅P₃O₃, Na₃P₃O₉, Na₂O₄P(NaO₃P)PO₃Na₂, und Calgon^® (Natriumpolymetaphosphat), Aminopolycarbonsäure (z. B. Ethylendiamintetraessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; Diethylentriaminpentaessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; Triethylentetraminhexaessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; Hydroxyethylethylendiamintriessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; Nitrilotriessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; 1,2-Diaminocyclohexantetraessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; 1,3-Diamino-2-propanoltetraessigsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz), andere Polycarbonsäuren {z. B. 2-Phosphonbutantricarbonsäure-1,2,4, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; 2-Phosphonbutanontricarbonsäure-2,3,4, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; organische Phosphonsäuren (z. B. 1-Phosphonethantricarbonsäure-1,2,2, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; 1-Hydroxyethan-1,1-diphosphonsäure, deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz; und Aminotri(methylenphosphonsäure), deren Kaliumsalz und deren Natriumsalz) beispielhaft dargestellt. Obwohl die optimale Menge für in Wasserweichmacher gemäß der Härte und der Menge des zu verwendenden harten Wassers variieren kann, beträgt dessen Menge gewöhnlich von 0,01 bis 5 Gew.-%, vorzugsweise 0,01 bis 0,5 Gew.-%, in der Entwicklungslösung bei Verwendung.
Ferner kann, wenn der lithographische Druckplattenvorläufer eine Entwicklung mit einer automatischen Entwicklungsmaschine unterzogen wird, da die Entwicklungslösung mit der Zunahme der Bearbeitungsmenge ermüdet, ein Auffüllmittel oder eine frische Entwicklungslösung zum Wiederherstellen der Bearbeitungsfähigkeit zugeführt werden. In einem solchen Fall ist es bevorzugt, eine Wiederauffüllung gemäß dem Verfahren, wie in US-PS 4 882 246 offenbart, durchzuführen. Ferner sind Entwicklungslösungen, wie in JP-A-50-26601 , JP-A-58-54341 , JP-B-56-39464 , JP-B-56-42860 und JP-B-57-7427 offenbart, auch bevorzugt.
Der so entwicklungsbearbeitete lithographische Druckplattenvorläufer kann eine Nachbehandlung mit Waschwasser, eine Abspüllösung, die ein Tensid enthält, und eine Desensibilisierungslösung, die arabischen Gummi oder ein Stärkederivat enthält, wie in JP-A-54-8002 , JP-A-55-115045 und JP-A-59-58431 offenbart, unterzogen werden. Bei der Nachbehandlung des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers können diese Verfahren auf verschiedene Weise kombiniert werden.
Bei der Plattenherstellung des erfindungsgemäßen lithographischen Druckplattenvorläufers ist es effektiv, dass das entwickelte Bild einer gesamten Nacherhitzung oder gesamten Belichtung zum Zweck der Verbesserung der Bildfestigkeit und Druckpressenlebensdauer unterzogen wird.
Extrem starke Bedingungen können bei der Nachentwicklungserhitzung verwendet werden. Die Heiztemperatur beträgt gewöhnlich 200 bis 500°C. Wenn die Temperatur des Nachentwicklungserhitzens zu niedrig ist, kann ein ausreichender Bildverfestigungseffekt nicht erhalten werden, während eine zu hohe Temperatur zur Verschlechterung des Trägers und zur thermischen Zersetzung des Bildbereichs führen kann.
Eine lithographische Druckplatte, die durch das Verfahren erhalten wurde, wird auf eine Offsetdruckmaschine montiert und beim Drucken zum Bereistellen einer Vielzahl von Blättern verwendet.
Als ein Plattenreinigungsmittel, das beim Drucken zum Entfernen von Flecken auf der Druckplatte verwendet wird, wird ein herkömmlicherweise wohlbekanntes PS-Plattenreinigungsmittel verwendet und z. B. werden CL-1, CL-2, CP, CU-A, CN, CG-1, PC-1, SR und IC (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) beispielhaft dargestellt.
Die vorliegende Erfindung wird detaillierter anhand der folgenden Beispiele erläutert, aber die vorliegende Erfindung ist hierauf nicht begrenzt.
BEISPIEL 1
Herstellung des Trägers:
Ein JIS A 1050 Aluminiumblatt mit einer Dicke von 0,30 mm und einer Breite von 1 030 mm wurde einer Oberflächenbehandlung wie folgt unterzogen.
Oberflächenbehandlung:
Die folgenden Oberflächenbehandlungen (a) bis (f) wurden kontinuierlich durchgeführt. Nach jeder Behandlung und dem Wasserwaschen wurde die Flüssigkeit mit Abquetschwalzen abgequetscht.

(a) Das Aluminiumblatt wurde einer Ätzbehandlung mit einer wässrigen Lösung unterzogen, die die Natriumhydroxid in einer Konzentration von 26 Gew.-% und Aluminiumionen in einer Konzentration von 6,5 Gew.-% bei 70°C enthält, wodurch das Aluminiumblatt in einer Menge von 5 g/m² aufgelöst wurde. Das Aluminiumblatt wurde dann mit Wasser gewaschen.
(b) Das Aluminiumblatt wurde einer Schmutzentfernungsbehandlung durch Sprühen mit einer wässrigen Lösung unterzogen, die Salpetersäure in einer Konzentration von 1 Gew.-% (die 0,5 Gew.-% Aluminiumionen enthielt) enthielt, bei 30°C unterzogen, und dann wurde das Aluminiumblatt mit Wasser gewaschen.
(c) Eine elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung wurde kontinuierlich durch eine alternierende Spannung von 60 Hz durchgeführt. Der verwendete Elektrolyt war eine wässrige Lösung, die 1 Gew.-% Salpetersäure (die 0,5 Gew.-% Aluminiumionen und 0,007 Gew.-% Ammoniumionen enthielt) enthielt, und die Temperatur betrug 30°C. Hinsichtlich der alternierenden elektrischen Stromquelle war die Zeit TP, die benötigt wurde, damit der elektrische Stromwert den Peak von 0 erreichte, 2 msec, das Nassverhältnis betrug 1/1, und die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung wurde unter Verwendung einer trapezförmigen rechteckigen alternierenden Stromwellenform mit einer Kohlenstoffelektrode als Gegenelektrode durchgeführt. Ferrit wurde als Hilfsanode verwendet. Die elektrische Stromdichte betrug 25 A/dm², bei einem Peakwert des elektrischen Stroms, und die Elektrizitätsmenge betrug 250 C/dm² der Elektrizitätsmenge der Gesamtsumme in dem Fall, dass das Aluminiumblatt die Anode war. Fünf Prozent des elektrischen Stroms aus der elektrischen Quelle wurde zur Hilfsanode umgeleitet. Das Aluminiumblatt wurde dann mit Wasser gewaschen.
(d) Das Aluminiumblatt wurde einer Ätzbehandlung durch Sprühen mit wässriger Lösung, die Natriumhydroxid in einer Konzentration von 26 Gew.-% und Aluminiumionen in einer Konzentration von 6,5 Gew.-% umfasste, bei 35°C unterzogen, wodurch das Aluminiumblatt in einer Menge von 0,2 g/m² aufgelöst wurde, und eine Schmutzkomponente, die hauptsächlich Aluminiumhydroxid umfasst, die erzeugt wurde, wenn die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung durch alternierenden Strom in der vorherigen Stufe durchgeführt wurde, wurde entfernt, und zudem wurden die Kantenteile der erzeugten Vertiefungen aufgelöst und so die Kantenteile geglättet, und dann wurde das Aluminiumblatt mit Wasser gewaschen.
(e) Eine Schmutzentfernungsbehandlung wurde durch Sprühen mit einer wässrigen Lösung, die Schwefelsäure in einer Konzentration von 25 Massen% (die 0,5 Gew.-% Aluminiumionen enthielt) enthielt, bei 60°C durchgeführt, und dann wurde das Aluminiumblatt mit Wasserbesprühen gewaschen.
(f) Eine Anodisierungsbehandlung wurde in einem Elektrolyten, der Schwefelsäure in einer Konzentration von 170 g/Liter (die 0,5 Gew.-% Aluminiumionen enthielt) enthielt, bei 33°C bei einer elektrischen Stromdichte von 5 A/dm² für 50 Sekunden durchgeführt. Das Aluminiumblatt wurde dann mit Wasser gewaschen. Die Menge des erzeugten anodischen Oxidfilms betrug 2,7 g/m².

Lichtempfindliche Schicht:

Eine lichtempfindliche Schichtbeschichtungslösung (P-1), die nachstehend gezeigt wurde, wurde hergestellt, und die Beschichtungslösung wurde auf das vorstehende Aluminiumblatt mit einem Drahtstab beschichtet. Die beschichtete Schicht wurde mit einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 122°C 27 Sekunden getrocknet und so eine lichtempfindliche Schicht hergestellt. Die Beschichtungsmenge nach dem Trocknen betrug 1,3 g/m². Lichtempfindliche Schichtbeschichtungslösung (P-1):

IR-Absorber (IR-1)	0,074 g
Polymerisationsinitiator (OS-1)	0,311 g
Additiv (PM-1)	0,151 g
Polymerisierbare Verbindung (AM-1)	1,00 g
Binderpolymer (BT-1)	1,00 g
Ethylviolett (C-1)	0,04 g
Fluoriertes Tensid	0,015 g

(Megafac^TM F-780-F, hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals Inc., MIBK 30 gew.-%ige Lösung)

Methylethylketon	10,4 g
Methanol	4,83 g
1-Methoxy-2-propanol	10,4 g

Die Strukturen des IR-Absorbers (IR-1) Additivs (PM-1), der polymerisierbaren Verbindung (AM-1), des Binderpolymers (BT-1), und Ethylvioletts (C-1), die in der lichtempfindlichen Schichtbeschichtungslösung verwendet wurden, werden nachstehend gezeigt.
Schutzschicht (Beschichtungsschicht):
Auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht wurde eine gemischte wässrige Lösung, die Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad: 98 mol-%, Polymerisationsgrad: 500) und Polyvinylpyrrolidon (Rubiscole^TM K-30, hergestellt von BASF Japan Ltd.) enthielt, mit einem Drahtstab aufgetragen und mit einer Heißlufttrocknungsvorrichtung bei 125°C 75 Sekunden getrocknet.
Das Gewichtsverhältnis des Polyvinylalkohols/Polyvinylpyrrolidons betrug 4/1 und die Beschichtungsmenge (Beschichtungsmenge nach dem Trocknen) betrug 2,30 g/m².
So wurde ein lithographischer Druckplattenvorläufer für Beispiel 1 erhalten.
BEISPIELE 2 BIS 7 UND VERGLEICHSBEISPIEL 1
Jeder der lithographischen Druckplattenvorläufer für Beispiele 2 bis 7 und Vergleichsbeispiel 1 wurde durch Erzeugen einer lichtempfindlichen Schicht und einer Schutzschicht auf die gleiche Weise wie im Beispiel 1 hergestellt, bis auf die Verwendung einer lichtempfindlichen Schichtbeschichtungslösung, die durch Ändern der polymerisierbaren Verbindung (AM-1) und der Menge von 1,00 g, die in der lichtempfindlichen Schichtbeschichtungslösung (P-1) in Beispiel 1 verwendet wurde, in die polymerisierbare Verbindung und die Zugabemenge, die in nachstehender Tabelle 1 gezeigt wurde.
Polymerisierbare Verbindungen (AM-2) bis AM-4), die in Beispielen 2 bis 7 und Vergleichsbeispiel 1 verwendet wurden, werden nachstehend gezeigt.
Bewertung:
(1) Bewertung der Empfindlichkeit
Jeder der lithographischen Druckplattenvorläufer, der erhalten wurde, wurde einer Belichtung mit Trendsetter^TM 3244VX (hergestellt von Creo Products Incorporated), auf den ein 40 W IR-Halbleiterlaser vom Wasser gekühlten Typ montiert war, unter den Bedingungen einer Auflösung von 175 dpi, einer äußeren Trommelrotationsgeschwindigkeit von 150 U/min, und einer Leistung in dem Bereich von 0 bis 8 W, die das 0,15-Fache von log E variiert, bei 25°C und 50% relativer Feuchtigkeit durchgeführt. Die Schutzschicht wurde durch Waschen mit Leitungswasser nach der Belichtung entfernt, und jeder lithographische Druckplattenvorläufer wurde mit LP-1310HII (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) bei 30°C für 12 Sekunden entwickelt. Als eine Entwicklungslösung wurden 1/4 Wasserverdünnungslösung von DV-2 ((hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.), und aus einer Endbearbeitungslösung, 1/1 Wasserverdünnungslösung von GN-2K (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) jeweils verwendet.
Die Cyandichte des Bildbereichs der lithographischen Druckplatte, die durch Entwicklung erhalten wurde, wurde mit einem Macbeth^TM Dichtemessgerät RD-918 durch einen Rotfilter gemessen, der auf dem Dichtemessgerät montiert war. Das Umgekehrte der Belichtungsmenge, die notwendig war, um eine Dichte von gemessenen 0,8 zu erhalten, wurde als der Empfindlichkeitsindex genommen. Hinsichtlich des Verwertungsergebnisses wurde die Empfindlichkeit der lithographischen Druckplatte für Vergleichsbeispiel 1 als 100 genommen, und die Empfindlichkeiten von anderen lithographischen Druckplatten wurden als relative Werte ausgedrückt. Je größer der Wert desto höher ist die Empfindlichkeit. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 1 gezeigt.
(2) Bewertung der Lagerungsstabilität vor der Belichtung (Bewertung der Alterungsstabilität)
Ein unbelichteter lithographischer Druckplattenvorläufer wurde bei 45°C und 75% relativer Feuchtigkeit für drei Tage aufbewahrt, und dann einer Belichtung und Entwicklung, wie nachstehend beschrieben, unterzogen, und die Dichte des Nicht-Bildbereichs wurde mit einem Macbeth Dichtemessgerät RD-918 gemessen. Ferner wurde ein lithographischer Druckplattenvorläufer sofort nach Herstellung auch belichtet und entwickelt und die Dichte des Nicht-Bildbereichs wurde auf die gleiche Weise wie vorstehend gemessen. Der Unterschied der Dichte der Nicht-Bildbereiche (Δdmin) wurde erhalten und wurde als der Lagerungsstabilitätsindex vor Belichtung genommen. Je kleiner der Wert von Δdmin war, desto besser ist die Lagerungsstabilität vor Belichtung. Der Wert von 0,02 oder weniger ist ein praktisches Niveau. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 1 gezeigt.
Belichtung und Entwicklung:
Der lithographische Druckplattenvorläufer wurde einer Belichtung mit der Auflösung von 175 dpi eines Feststoffdichtebilds mit Trendsetter 3244VX (hergestellt von Creo Products Incorporated), auf dem ein wassergekühlter 40 W IR-Halbleiterlaser montiert war, unter den Bedingungen einer Leistung von 8 W, einer externen Rotationstrommelgeschwindigkeit von 206 U/min und einer Menge der Druckplattenbelichtungsenergie von 100 mJ/m² unterzogen. Die Schutzschicht wurde durch Waschen mit Leitungswasser nach der Belichtung entfernt, und der belichtete lithographische Druckplattenvorläufer wurde der Entwicklung auf die gleiche Weise wie bei dem Entwicklungsverfahren der Bewertung der Empfindlichkeit unterzogen.
(3) Bewertung der Druckplattenlebensdauer
Ein lithographischer Druckplattenvorläufer wurde einer Belichtung eines 80%igen Bildpunktbilds der Auflösung von 175 dpi mit einem Trendsetter 3244VX (hergestellt von Creo Products Incorporated), auf dem ein wassergekühlter 40 W IR-Halbleiterlaser montiert war, unter den Bedingungen einer Leistung von 8 W, einer externen Rotationstrommelgeschwindigkeit von 206 U/min und einer Menge der Druckplattenbelichtungsenergie von 100 mJ/m² unterzogen.
Die Schutzschicht wurde durch Waschen mit Leitungswasser nach der Belichtung entfernt, und der belichtete lithographische Druckplattenvorläufer wurde einer Entwicklung auf die gleiche Weise wie bei dem Entwicklungsverfahren der Bewertung der Empfindlichkeit unterzogen. Die lithographische Druckplatte, die erhalten wurde, wurde auf einen Drucker (Lithrone^TM, hergestellt von Komori Corporation) zum Durchführen von Drucken montiert, während Tinte von der Oberfläche der Druckplatte mit einer Multireinigungsvorrichtung (hergestellt von Fuji Photo Film Co., Ltd.) jede 10 000 Blätter Drucken abgewischt wurde.
Die Druckpressenlebensdauer wurde relativ bewertet, wobei eine Anzahl der gedruckten Blättern in Vergleichsbeispiel 1 als 100% genommen wurde. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 1 gezeigt. In Tabelle 1 bedeutet der Ausdruck "gewöhnlich" die Druckpressenlebensdauer der Druckplatte, die mit der Reinigungsvorrichtung nicht abgewischt wurde, und der Ausdruck "Reinigungsvorrichtung" bedeutet die Druckpressenlebensdauer der Druckplatte, die dem wiederholten Betrieb des Abwischens mit der Reinigungsvorrichtung unterzogen wurde.
Wie aus Tabelle 1 hervorgeht, können die lithographischen Druckplattenvorläufer von Beispielen 1 bis 7 eine Aufzeichnung mit hoher Empfindlichkeit bewirken und besitzen sowohl eine herausragende Druckpressenlebensdauer als auch eine herausragende Lagerungsstabilität vor Belichtung, verglichen mit dem lithographischen Druckplattenvorläufer für Vergleichsbeispiel 1.

Claims

Fotoempfindliche Zusammensetzung, umfassend: (A) eine polymerisierbare Verbindung, (B) einen Infrarotabsorber und (C) ein Oniumsalz, dadurch gekennzeichnet, dass die polymerisierbare Verbindung (A) durch die folgende Formel (I) repräsentiert wird: A-{O-[(CH(-R¹)CH(-R²))_m-O]_n-C(=O)-C(-R³)=CH₂}_p (I)worin R¹, R² und R³ jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe repräsentieren, A einen mehrwertigen Alkoholrest oder einen mehrwertigen Phenolrest repräsentiert, m eine ganze Zahl von 1 bis 6 repräsentiert, n eine ganze Zahl von 2 bis 10 repräsentiert und p eine ganze Zahl von 1 bis 6 repräsentiert, worin die Menge der durch die Formel (I) repräsentierten polymerisierbaren Verbindung 50 bis 100 Gew.-% beträgt, bezogen auf die gesamten polymerisierbaren Verbindungen, die in der fotoempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin die Menge der durch die Formel (I) repräsentierten polymerisierbaren Verbindung 80 bis 100 Gew.-% beträgt, bezogen auf die gesamten polymerisierbaren Verbindungen, die in der fotoempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, welche ferner eine polymerisierbare Verbindung, die ein Urethangerüst aufweist, umfasst.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 3, worin die Menge der polymerisierbaren Verbindung, die ein Urethangerüst aufweist, 2 bis 20 Gew.-% der gesamten polymerisierbaren Verbindungen, die in der fotoempfindlichen Zusammensetzung enthalten sind, beträgt.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin das Oniumsalz eine Verbindung ist, die durch die folgende Formel (1) repräsentiert wird:
worin R¹¹, R¹² und R¹³, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 20 oder weniger Kohlenstoffatomen, die einen Substituenten aufweisen kann, darstellen; und Z^11- ein Gegenion darstellt, das aus der Gruppe ausgewählt ist bestehend aus einem Halogenion, einem Perchloration, einem Tetrafluorboration, einem Hexafluorphosphation, einem Carboxylation und einem Sulfonation.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, welche ferner (D) ein Bindemittelpolymer, das eine vernetzbare Gruppe aufweist, umfasst.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 6, worin das Bindemittelpolymer, das eine vernetzbare Gruppe aufweist, eine alkalilösliche Gruppe enthält, die aus der Gruppe ausgewählt ist bestehend aus (1) einer phenolischen Hydroxylgruppe (-Ar-OH) (2) einer Sulfonamidogruppe (-SO₂NH-R) (3) einer substituierten, auf Sulfonamid basierenden Säuregruppe (-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R oder -CONHSO₂R), (4) einer Carbonsäuregruppe (CO₂H) (5) einer Sulfonsäuregruppe (SO₃H) und (6) einer Phosphorsäuregruppe (OPO₃H₂), worin Ar eine zweibindige Aryl-Verknüpfungsgruppe darstellt, die einen Substituenten aufweisen kann; und R ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe, die einen Substituenten aufweisen kann, darstellt.
Fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 6, worin das Bindemittelpolymer, das eine vernetzbare Gruppe aufweist, eine strukturelle Einheit enthält, die durch die folgende Formel (i) repräsentiert wird:
worin R¹ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; R² eine Verknüpfungsgruppe darstellt, die ein oder mehrere Atom(e) umfasst, das/die ausgewählt ist/sind aus der Gruppe bestehend aus einem Kohlenstoffatom, einem Wasserstoffatom, einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom und einem Schwefelatom; A ein Sauerstoffatom oder -NR³- darstellt; R³ ein Wasserstoffatom oder eine einbindige Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen darstellt; und n eine ganze Zahl von 1 bis 5 darstellt.
Lithographie-Druckplattenvorläufer, der einen Träger umfasst, auf dem eine fotoempfindliche Schicht vorgesehen ist, die die fotoempfindliche Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 enthält.
Lithographie-Druckplattenvorläufer gemäß Anspruch 9, der ferner eine Schutzschicht auf der fotoempfindlichen Schicht umfasst.
Lithographie-Druckplattenvorläufer gemäß Anspruch 10, worin die Schutzschicht ein wasserlösliches Polymer umfasst, das ausgewählt ist aus Polyvinylalkohol, Vinylalkohol/Vinylphthalat-Copolymer, Vinylacetat/Vinylalkohol/Vinylphthalat-Copolymer, Vinylacetat/Crotonsäure-Copolymer, Polyvinylpyrrolidon, saurer Cellulose, Gelatine, Gummi arabicum, Polyacrylsäure und Polyacrylamid.