CH694673A5

CH694673A5 - Lichtempfindliche Harzzusammensetzung.

Info

Publication number: CH694673A5
Application number: CH02411/00A
Authority: CH
Inventors: Hisatoshi Kura; Hidetaka Oka; Masaki Ohwa
Original assignee: Ciba Sc Holding Ag
Priority date: 1999-12-15
Filing date: 2000-12-11
Publication date: 2005-05-31
Also published as: AU773749B2; DE10061948A1; FR2802655B1; FI20002731A0; GB0029801D0; BR0005866A; CN1305124A; SE0004565D0; ES2189609A1; KR20010082582A; AU7226800A; SE522645C2; FR2802655A1; FI20002731A; GB2357293B; US7829257B2; MY123712A; US20020020832A1; AT410146B; GB2357293A

Description


  



   Die Erfindung betrifft lichtempfindliche, alkalisch entwickelbare  Zusammensetzungen, die Oximesterverbindungen als Photostarter umfassen.                                                        



   Aus US-Patenten 3 558 309, 4 202 697, 4 255 513, 4 590 145 ist bekannt,  dass Oximesterderivate Photostarter darstellen. In JP Kokai Hei 8-272  095 werden Lötresist-Druckfarbenzusammensetzungen, umfassend unter  anderem 1-Phenyl-1,2-propandion-2-O-benzoyloxim und 1-Phenyl-1,2-propandion-2-O-ethoxycarbonyloxim,  als Photostarter offenbart. In JP Kokai Hei 8-339081 wird in einer  ähnlichen Zusammensetzung 1-Phenyl-1,2-propandion-2-O-ethoxy-carbonyloxim  angewendet. 



   In der Photopolymerisationstechnologie gibt es noch einen Bedarf  für Zusammensetzungen, die insbesondere als Bilderzeugungsformulierungen  geeignet sind, die reaktiv, alkalisch entwickelbar, leicht zu handhaben  sind, gute Auflösungseigenschaften zeigen und den hohen Anforderungen  der Industrie bezüglich Eigenschaften, wie beispielsweise thermische  Stabilität und Lagerungsstabilität, genügen. 



   Überraschenderweise wurde gefunden, dass alkalisch entwickelbare,  lichtempfindliche Zusammensetzungen, umfassend 



   (A) mindestens eine alkalisch lösliche Bindemittelharz-, Prepolymer-  oder Monomerkomponente; 



   (B) mindestens eine Verbindung der Formel I oder II 



   
EMI1.1
 



   worin 



     R 1  C 4 -C 9 Cycloalkanoyl, C 3 -C 1  2 Alkenoyl; C 1 -C 2  0  Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen,  CN oder Phenyl substituiert ist, darstellt; oder R 1  Benzoyl, das  unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1 -C 6 Alkyl, Halogen,  CN, OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  substituiert ist, darstellt; oder  R 1  C 2 -C 1  2 Alkoxycarbonyl oder Benzyloxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl,  das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1 -C 6 Alkyl oder  Halogen substituiert ist, darstellt;Ar 1  C 6 -C 2  0 Aryl oder C  6 -C 2  0 Aryloyl, wobei beide Reste unsubstituiert oder 1- bis 12-fach  mit Halogen, C 1 -C 2  0 -Alkyl, Benzyl, C 1 -C 2  0 -Alkanoyl, C  3 -C 8 -Cycloalkyl substituiert sind;

   oder das C 6 -C 2  0 Aryl oder  C 6 -C 2  0 Aryloyl mit Phenyl oder Benzoyl substituiert ist, wobei  jeder davon gegebenenfalls mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4  oder  NR 5 R 6  substituiert ist, oder das C 6 -C 2  0 Aryl oder C 6 -C  2  0 Aryloyl mit C 2 -C 1  2 Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen  durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit  einer oder mehreren Hydroxylgruppen, substituiert ist;

   oder das C  6 -C 2  0 Aryl oder C 6 -C 2  0 Aryloyl mit Phenoxycarbonyl, OR 3  , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4  oder NR 5 R 6  substituiert ist, wobei  die Substituenten OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  gegebenenfalls 5- oder  6-gIiedrige Ringe über die Reste R 3 , R 4 , R 5  und/oder R 6  mit  weiteren Substituenten am Arylring der C 6 -C 2  0 Aryl- oder C 6  -C 2  0 Aryloylgruppe oder mit einem der Kohlenstoffatome des Arylrings  der C 6 -C 2  0 Aryl- oder C 6 -C 2  0 Aryloylgruppe bilden, darstellt;

    oderA 1  C 3 -C 9 Heteroaryl darstellt, mit der Massgabe, dass R  1  Acetyl darstellt, wobei das C 3 -C 9 Heteroaryl unsubstituiert  oder- 1- bis 7-fach mit Halogen, C 1 -C 2  0 AIkyl, Benzyl, C 1 -C  2  0 Alkanoyl oder C 3 -C 8 Cycloalkyl substituiert ist, oder das  C 3 -C 9 Heteroaryl mit Phenyl oder Benzoyl substituiert ist, wobei  jeder davon gegebenenfalls mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4  oder  NR 5 R 6  substituiert ist, oder das C 3 -C 9 Heteroaryl mit C 2  -C 1  2 Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder  mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einer oder mehreren  Hydroxylgruppen, substituiert ist, oder das C 6 -C 2  0 Aryl oder  C 6 -C 2  0 Aryloyl mit Phenoxycarbonyl, OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO  2 R 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist; 



   x 2 oder 3 ist, 



   M 1 , wenn x 2 ist, 



   
EMI3.1
 



   
EMI3.2
 



   
EMI3.3
 



   
EMI3.4
 



   darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls 1- bis 12-fach mit Halogen,  C 1 -C 1  2 Alkyl, C  3  -C  8  Cycloalkyl, Benzyl; Phenyl, das unsubstituiert  oder mit einem oder mehreren OR  3  , SR  4  oder NR 5 R 6  substituiert  ist; Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren OR  3  , SR  4   oder NR  5  R 6  substituiert ist; C 1 -C 1  2 AIkanoyl;  C  2  -C  12  Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein  oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einem oder  mehreren OH, Phenoxycarbonyl, OR  3  , SR  4  , SOR  4  , SO  2   R 4  oder NR  5  R 6 , substituiert ist;  oder M  1 , wenn x 3  ist, 



   
EMI3.5
 



   darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls 1- bis 12-fach mit Halogen,  C 1 -C  12  Alkyl, C  3  -C  8  Cycloalkyl; Phenyl, das unsubstituiert  oder mit einem oder mehreren OR  3  , SR  4   oder NR  5  R 6  substituiert  ist; Benzyl, Benzoyl, C 1 -C 1  2 Alkanoyl; C  2  -C  12  Alkoxycarbonyl,  gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls  substuiert mit einer oder    mehreren Hydroxylgruppen, Phenoxycarbonyl,  OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4  oder NR 5 R 6 , substituiert ist;                                                              



   M 2  eine direkte Bindung -O-, -S-, -SS-, -NR 3 -, -(CO)-, C 1 C  12 Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, Naphthylen, -(CO)O-(C 2 -C 12  Alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH 2 CH 2 O) n -(CO)- oder -(CO)-(C 2 -C  12 -Alkylen)-(CO)- darstellt; oder M 2  C 4 -C 12 -Alkylen oder C  4 -C 12 Alkylendioxy- darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls  durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR 3 - unterbrochen ist; 



   M 3  eine direkte Bindung -CH 2 -, -O-, -S-, -SS-, -NR 3 - oder -(CO)-  darstellt; 



   
EMI4.1
 



   R 3  Wasserstoff oder C 1 -C 20 Alkyl darstellt; oder R 3  C 2 -C  12 Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C 3 -C 6 Alkenoxy, -OCH 2 CH 2 CN,  -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 -C 4 Alkyl), -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl,  -(CO)OH, -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl), -N(C 1 -C 4 Alkyl) 2 , -N(CH 2 CH  2 OH) 2 , -N[CH 2 CH 2 O-(CO)-C 1 -C 4 Alkyl] 2  oder Morpholinyl  substituiert ist, darstellt; oder R 3  C 2 -C 12 Alkyl, das durch  ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 3  -(CH  2 CH 2 O) n+1 H, -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 1 -C 8 Alkanoyl,  C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 6 Alkenoyl, C 3 -C 8 CycloaIkyl darstellt;

    oder R 3  Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren  C 1 -C 6 Alkyl, Halogen, -OH oder C 1 -C 4 AIkoxy substituiert ist,  darstellt; oder R 3  Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder  davon unsubstituiert oder mit Halogen, -OH, C 1 -C 1  2 Alkyl, C  1 -C 12 Alkoxy, Phenyl-C 1 -C 3 alkoxy, Phenoxy, C 1 -C 1  2 Akylsulfanyl,  Phenylsulfanyl, -N(C 1 -C 12 Alkyl) 2 , Diphenylamino oder -(CO)R  7  substituiert ist; oder R 3  Phenyl-C 1 -C 3 alkyl oder Si(C 1  -C 6 AIkyl) r (phenyl) 3r darstellt; 



   r 0, 1, 2 oder 3 ist; 



   n 1 bis 20 ist; 



   R 4  Wasserstoff, C 1 -C 2  0 Alkyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 8  Cycloalkyl, Phenyl-C 1 -C 3 alkyl; C 2 -C 8 Alkyl, das mit -OH, -SH,  -CN, C 3 -C 6 Alkenoxy, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 -C  4 -Alkyl), -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C  1 -C 4 Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R 4  C 2 -C 12 Alkyl,  das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt;  oder R 4  -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl,  C 2 -C 8 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenyl,    C 3 -C 6 Alkenoyl darstellt;  oder R 4  Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert  oder mit Halogen, C 1 -C 12 Alkyl, C 1 -C 12 Alkoxy oder -(CO)R 7  substituiert ist; 



   R 5  und R 6  unabhängig voneinander Wasserstoff, C 1 -C 20 Alkyl,  C 2 -C 4 Hydroxyalkyl, C 2 -C 10 Alkoxyalkyl, C 3 -C 5 Alkenyl, C  3 -C 8 Cycloalkyl, Phenyl-C 1 -C 3 alkyl, C 1 -C 4 Alkanoyl, C 3  -C 12 Alkenoyl, Benzoyl darstellen; oder Phenyl oder Naphthyl, wobei  jeder davon unsubstituiert oder mit C 1 -C 1  2 Alkyl oder C 1 -C  12 Alkoxy substituiert ist, darstellen; oder R 5  und R 6  zusammen  C 2 -C 6 Alkylen, gegebenenfalls unterbrochen durch -O- oder -NR  3 - und/oder gegebenenfalls substituiert mit Hydroxyl, C 1 -C 4 Alkoxy,  C 2 -C 4 Alkanoyloxy oder Benzoyloxy, darstellen; 



   R 7  Wasserstoff, C 1 -C 20 Alkyl darstellt; oder C 2 -C 8 Alkyl,  das mit Halogen, Phenyl, -OH, -SH, -CN, C 3 -C 6 Alkenoxy, -OCH 2  CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 C 4 Alkyl), -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl,  -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl) substituiert ist,  darstellt; oder R 7  C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere  -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 7 -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH  2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl;  Phenyl, das gegebenenfalls mit einem oder mehreren Halogen, -OH,  C 1 -C 12 Alkyl, C 1 -C 1  2 AIkoxy, Phenoxy, C 1 -C 12 Alkylsulfanyl,  Phenylsulfanyl, -N(C 1 -C 12 Alkyl) 2  oder Diphenylamino substituiert  ist, darstellt; und (C) eine photopolymerisierbare Verbindung; eine  unerwartet gute Leistung zeigen. 



   C 1- C 20 Alkyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise  C 1 -C 1  8 -, C 1 -C 1  4 -, C 1 -C 12 -, C 1 -C 8 -, C 1 -C 6 -  oder C 1 -C 4 Alkyl oder C 4 -C 1  2 - oder C 4 -C 8 Alkyl. Beispiele  sind Methyl, Ethyl, Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sec-Butyl, Isobutyl,  tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, 2,4,4-Trimethylpentyl, 2-Ethylhexyl,  Octyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Pentadecyl, Hexadecyl,  Octadecyl und Icosyl. 



   C 1 -C 12 Alkyl, C 1 -C 6 Alkyl, C 2 -C 6 Alkyl und C 1 -C 4 Alkyl  haben die gleichen, wie vorstehend für C 1 -C 2  0 Alkyl, mit bis  zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen, angegebenen Bedeutungen.                                                             



   C 2 -C 2  0 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist,  ist beispielsweise 1-9-, 1-5-, 1-3- oder einmal oder zweimal durch  -O- unterbrochen. Zwei O-Atome sind durch mindestens zwei Methylengruppen,  nämlich Ethylen, getrennt. Die Älkylgruppen sind linear oder verzweigt.  Beispielsweise werden die nachstehenden Struktureinheiten vorkommen,  -CH 2 -CH 2 -   O-CH 2 CH 3 , -[CH 2 CH 2 O] y -CH 3 , worin y =  1-9, -(CH 2 -CH 2 O) 7 -CH 2 CH 3 , -CH 2 -CH(CH 3 )-O-CH 2 -CH 2  CH 3  oder -CH 2 -CH(CH 3 )-O-CH 2 -CH 3 . C 2 -C 6 Alkyl, das durch  1 oder 2 -O- unterbrochen ist, ist beispielsweise -CH 2 CH 2 -O-CH  2 CH 2 -OCH 2 CH 3 oder -CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 3 . 



   C 2 -C 4 Hydroxyalkyl bedeutet C 2 -C 4 Alkyl, das mit einem oder  zwei O-Atom(en) substituiert ist. Der Alkylrest ist linear oder verzweigt.  Beispiele sind 2-Hydroxyethyl, 1-Hydroxyethyl, 1-Hydroxypropyl, 2-Hydroxypropyl,  3-Hydroxypropyl, 1-Hydroxybutyl, 4-Hydroxybutyl, 2-Hydroxybutyl,  3-Hydroxybutyl, 2,3-Dihydroxypropyl oder 2,4-Dihydroxybutyl. 



   C 3 -C 8 Cycloalkyl ist beispielsweise Cyclopropyl, Cyclobutyl, Cyclopentyl,  Cyclohexyl, Cyclooctyl, insbesondere Cyclopentyl und Cyclohexyl. 



   C 1 -C 4 Alkoxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise Methoxy,  Ethoxy, Propoxy, Isopropoxy, n-Butyloxy, sec-Butyloxy, Isobutyloxy,  tert-Butyloxy. 



   C 2 -C 10 Alkoxyalkyl ist C 2 -C 10 Alkyl, das durch ein O-Atom unterbrochen  ist. C 2 -C 10 Alkyl hat die gleichen, wie vorstehend für C 1 -C  2  0 Alkyl, mit bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen angegebenen  Bedeutungen. Beispiele sind Methoxymethyl, Methoxyethyl, Methoxypropyl,  Ethoxymethyl, Ethoxy-ethyl, Ethoxypropyl, Propoxymethyl, Propoxyethyl,  Propoxypropyl. 



   C 1 -C 2  0 Alkanoyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise  C 2 -C 18 -, C 2 -C 14 -, C 2 -C 12 -, C 2 -C 8 -, C 2 -C 6 - oder  C 2 -C 4 Alkanoyl oder C 4 -C 12 - oder C 4 -C 8 Alkanoyl. Beispiele  sind Formyl, Acetyl, Propionyl, Butanoyl, Isobutanoyl, Pentanoyl,  Hexanoyl, Heptanoyl, Octanoyl, Nonanoyl, Decanoyl, Dodecanoyl, Tetradecanoyl,  Pentadecanoyl, Hexadecanoyl, Octadecanoyl, Icosanoyl, vorzugsweise  Acetyl. C 1 -C 12 Alkanoyl, C 1 -C 8 Alkanoyl, C 1 -C 4 Alkanoyl  und C 2 -C 4 Alkanoyl haben die gleichen, wie vorstehend für C 2  -C 20 Alkanoyl, mit bis zu der entsprechenden Anzahl von C-Atomen  angegebenen Bedeutungen. 



   C 4 -C 9 Cycloalkanoyl ist beispielsweise Cyclopropanoyl, Cyclobutanoyl,  Cyclopentanoyl, Cyclohexanoyl, Cyclooctanoyl. 



     C 2 -C 4 Alkanoyloxy ist linear oder verzweigt, beispielsweise  Acetyloxy, Propionyloxy, Butanoyloxy, Isobutanoyloxy, vorzugsweise  Acetyloxy. 



   C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl ist linear oder verzweigt und ist beispielsweise  Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyloxycarbonyl,  Isobutyloxycarbonyl, 1,1-Dimethyl-propoxycarbonyl, Pentyloxycarbonyl,  Hexyloxycarbonyl, Heptyloxycarbonyl, Octyloxycarbonyl, Nonyloxycarbonyl,  Decyloxycarbonyl oder Dodecyloxycarbonyl, insbesondere Methoxycarbonyl,  Ethoxycarbonyl, Propoxycarbonyl, n-Butyloxycarbonyl oder Isobutyloxycarbonyl,  vorzugsweise Methoxycarbonyl. 



   C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen  ist, ist linear oder verzweigt. Zwei O-Atome werden durch mindestens  zwei Methylengruppen, nämlich Ethylen, getrennt. 



   C 6 -C 20 Aryl ist beispielsweise Phenyl, 1-Naphthyl, 2-Naphthyl,  9-Anthryl, 9-Phenanthryl, 1-Pyrenyl, 2-Pyrenyl, 1-Perylenyl oder  3-Perylenyl, vorzugsweise Phenyl oder Naphthyl. C 1  0 -C 2  0 Aryl  und C 6 -C 12  Aryl haben die gleichen wie vorstehend für C 6 -C  2  0 Aryl mit bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen angegebenen  Bedeutungen. 



   C 6 -C 20 Aryloyl ist beispielsweise Benzoyl, 1-Naphthoyl, 2-Naphthoyl,  9-Anthracencarbonyl, 9-Phenanthrencarbonyl, 1-Pyrencarbonyl, 2-Pyrencarbonyl,  1-Perylencarbonyl oder 3-Perylencarbonyl, vorzugsweise Benzoyl oder  Naphthoyl. 



   C 10 -C 20 Aryloyl hat die gleichen wie vorstehend für C 6 -C 20  Aryloyl mit bis zu der entsprechenden Anzahl an C-Atomen angegebenen  Bedeutungen. 



   Substituierte Arylreste, Ar 1  und Ar 2 , sind 1- bis 12-fach substituiert.  Selbstverständlich kann ein definierter Arylrest nicht mehr Substituenten  als freie Positionen am Arylring aufweisen. Die Reste sind 1- bis  12-fach, beispielsweise 1- bis 9-fach, 1- bis 6-fach, 1- bis 4-fach,  insbesondere ein-, zwei- oder dreifach, substituiert. 



     C 3 -C 9 Heteroaryl ist beispielsweise 2-Furyl, 3-Furyl, 2-Pyrrolyl,  3-Pyrrolyl, 2-Thienyl, 3-Thienyl, 2-Thiazolyl, 2-Benzofuranyl, 3-Benzofuranyl,  2-lndolyl, 3-lndolyl, 2-Benzothiophenyl, 3-Benzothiophenyl, 2-Benzothiazolyl,  2-Pyridyl, 3-Pyridyl, 2-Chinolyl, 3-Chinolyl, 4-Chinolyl, 1-lsochinolyl,  3-lsochinolyl, 4-lsochinolyl. 



   Phenoxycarbonyl ist 
EMI8.1
  Substituierte Phenoxycarbonylreste sind ein- bis vierfach, bei-  spielsweise ein-, zwei- oder dreifach, insbesondere zwei- oder dreifach,  substituiert. Substituenten am Phenylring sind vorzugsweise in Stellung  4 oder in 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- oder 2,4,6-Stellung am Phenylring,  insbesondere in 4- oder 3,4-Stellung. 



   Phenyl-C 1 -C 3 alkyl ist beispielsweise Benzyl, Phenylethyl,  alpha  -Methylbenzyl oder  alpha , alpha -Dimethylbenzyl, insbesondere Benzyl.                                                        



   C 2 -C 20 Alkenylreste können einfach oder mehrfach ungesättigt sein  und sind beispielsweise C 2 -C 12 -, C 2 -C 6 -Alkenyl, beispielsweise  Allyl, Methallyl, 1,1-Dimethylallyl, 1-Butenyl, 3-Butenyl, 2-Butenyl,  1,3-Pentadienyl, 5-Hexenyl, 7-Octenyl oder Dodecenyl, Tetradecenyl,  Pentadecenyl, Hexadecenyl, Octadecenyl und Icosenyl, insbesondere  Allyl. 



   C 3 -C 12 Alkenylreste und C 3 -C5Alkenylreste haben die gleichen  wie vorstehend für C 2 -C 20 Alkenylreste mit bis zu der entsprechenden  Anzahl an C-Atomen angegebenen Bedeutungen. 



   C 2 -C 20 Alkinylreste sind beispielsweise C 2 -C 12 -, C 2 -C 6  -Alkinyl und können einfach oder mehrfach ungesättigt sein und sind  beispielsweise Ethinyl, Propargyl, 1-Butinyl, 3-Butinyl, 2-Butinyl,  5-Hexinyl, 7-Octinyl oder Dodecinyl, Tetradecinyl, Pentadecinyl,  Hexadecinyl, Octadecinyl oder Icosinyl. 



   C 3 -C 6 Alkenoxyreste können einfach oder mehrfach ungesättigt sein  und sind beispielsweise Allyloxy, Methallyloxy, Butenyloxy, Pentenoxy,  1,3-Pentadienyloxy, 5-Hexenyloxy. 



     C 3 -C 6 Alkenoylreste können einfach oder mehrfach ungesättigt  sein und sind beispielsweise Prope-noyl, 2-Methylpropenoyl, Butenoyl,  Pentenoyl, 1,3-Pentadienoyl, 5-Hexenoyl. Halogen ist Fluor, Chlor,  Brom und Jod, insbesondere Fluor, Chlor und Brom, vorzugsweise Fluor  und Chlor. 



   Wenn die Substituenten OR 3 , SR 4  und NR 5 R 6  am Phenylring über  die Reste R 3 , R 4 , R 5  und/oder R 6 , mit weiteren Substituenten  am Phenylring oder mit einem der Kohlenstoffatome des Phenylrings  5- oder 6-gliedrige Ringe bilden, werden Strukturen erhalten, die  zwei oder vier Ringe (einschliesslich des Phenylrings oder Naphthyl-,  Anthracyl- oder Phenanthrylrings) umfassen. Beispiele sind 



   
EMI9.1
 



   
EMI9.2
 



   Oximester der Formeln I und II werden durch in der Literatur beschriebene  Verfahren hergestellt, beispielsweise durch Umsetzen der entsprechenden  Oxime (R 1  = H) mit einem Acylchlorid oder einem Anhydrid in einem  inerten Lösungsmittel, wie beispielsweise t-Butylmethylether, Tetrahydrofuran  (THF) oder Dimethylformamid (DMF), in Gegenwart einer Base, beispielsweise  Triethylamin oder Pyridin, oder in einem basischen Lösungsmittel,  wie Pyridin. 



   
EMI9.3
 



   Solche Reaktionen sind dem Fachmann gut bekannt und werden im Allgemeinen  bei Temperaturen von -15 bis +50 DEG C, vorzugsweise 0 bis 25 DEG  C, ausgeführt. 



     Die als Ausgangsmaterialien erforderlichen Oxime können durch  eine Vielzahl von in Chemie-Standard-Lehrwerken (beispielsweise in  J. March, Advanced Organic Chemistry, 4. Ausgabe, Wiley Inter-science,  1992) oder in speziellen Monographien, beispielsweise S.R. Sandler  & W. Karo, Organic functional group preparations, Band 3, Academic  Press, beschriebenen Verfahren erhalten werden. 



   Eines der zweckmässigsten Verfahren ist beispielsweise die Reaktion  von Aldehyden oder Ketonen mit Hydroxylamin oder dessen Salz in polaren  Lösungsmitteln, wie Ethanol oder wässerigem Ethanol. In dem Fall  wird eine Base, wie Natriumacetat oder Pyridin, zur Steuerung des  pH-Werts des Reaktionsgemisches zugegeben. Es ist gut bekannt, dass  die Reaktionsgeschwindigkeit pH-Wert-abhängig ist und die Base am  Beginn oder während der Reaktion kontinuierlich zugegeben werden  kann. Basische Lösungsmittel, wie Pyridin, können auch als Base und/oder  Lösungsmittel oder Colösungsmittel verwendet werden. Die Reaktionstemperatur  ist im Allgemeinen die Rückflusstemperatur des Gemisches, gewöhnlich  etwa 60-120 DEG C. 



   Eine weitere zweckmässige Synthese von Oximen ist die Nitrosierung  von "aktiven" Methylengruppen mit salpetriger Säure oder einem Alkylnitrit.  Sowohl alkalische Bedingungen, wie beispielsweise in Organic Syntheses  coll. Band VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), Seiten 199 und  840, beschrieben, als auch saure Bedingungen, wie beispielsweise  in Organic Synthesis coll. Band V, Seiten 32 und 373, coll. Band  III, Seiten 191 und 513, coll. Band II, Seiten 202, 204 und 363,  beschrieben, sind zur Herstellung der als Ausgangsmaterialien in  der Erfindung verwendbaren Oxime geeignet. Salpetrige Säure wird  gewöhnlich aus Natriumnitrit hergestellt. Das Alkylnitrit kann beispielsweise  Methylnitrit, Ethylnitrit, Isopropylnitrit, Butylnitrit oder Isoamylnitrit  sein. 



   Jede Oximestergruppe kann in zwei Konfigurationen, (Z) oder (E),  vorliegen. Es ist möglich, die Isomeren durch herkömmliche Verfahren  zu trennen, jedoch ist es auch möglich, das Isomerengemisch als solches  als photostartende Spezies zu verwenden. Deshalb betrifft die Erfindung  auch Gemische von Konfigurationsisomeren der Verbindungen der Formeln  I und II. 



     Besonders interessant als Photostarter für die erfindungsgemässen  Zusammensetzungen sind Verbindungen der Formeln I und II. 



   Eine bevorzugte Zusammensetzung als Komponente (B) umfasst eine Verbindung  der Formel I oder II, worin 



   R 1  C 2 -C 6 Alkanoyl oder C 2 -C 5 Alkoxycarbonyl darstellt; oder  R 1  Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1  -C 6 Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt; 



   A 1  Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei diese Reste unsubstituiert  oder 1- bis 5-fach mit Halogen, C 1 -C 2  0 Alkyl, Benzyl oder C  1 -C 2  0 Alkanoyl substituiert sind; oder das Phenyl oder Naphthyl  mit Phenyl oder Benzoyl substituiert ist, wobei jeder davon gegebenenfalls  mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  substituiert  ist;

   oder das Phenyl oder Naphthyl mit C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl,  gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls  substituiert mit einem oder mehreren OH, substituiert ist oder das  Phenyl oder Naphthyl mit OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  substituiert  ist, wobei die Substituenten OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  gegebenenfalls  5- oder 6-gliedrige Ringe über die Reste R 3 , R 4 , R 5  und/oder  R 6  mit weiteren Substituenten am Phenyl- oder Naphthylring oder  mit einem der Kohlenstoffatome des Phenyl- oder Naphthylrings bilden;                                                          



   oder Ar 1  Furyl, Pyrrolyl, Thienyl, Benzofuranyl, Indolyl, Benzothiophenyl  oder Pyrridyl darstellt, mit der Massgabe, dass R 1  Acetyl darstellt,  wobei jeder von diesen Resten unsubstituiert oder 1- bis 4-fach mit  Halogen, C 1 -C 2  0 Alkyl, Benzyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl, Phenyl,  C 1 -C 20 Alkanoyl, Benzoyl, C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl, Phenoxycarbonyl,  OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4  oder NR 5 R 6  substituiert ist;  x 2 ist; M 1 eine Gruppe 



   
EMI11.1
 



   
EMI11.2
 



   darstellt, wobei jede davon gegebenenfalls 1- bis 4-fach mit Halogen,  C 1 -C 1  2 Alkyl, Benzyl, OR  3  , SR  4   oder NR 5 R 6 ; oder  mit Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren    OR  3 , SR 4  oder NR 5 Re substituiert ist; oder mit Benzoyl, das unsubstituiert  oder mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4  oder NR 5 R 6  substituiert  ist; oder mit C 1 -C 12 Alkanoyl; oder mit C 2 -C 12 AIkoxycarbonyl,  gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls  substituiert mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen, substituiert  ist; 



   M 2  eine direkte Bindung, -O-, -S-, -SS-, -NR 3 -, -(CO)-, C 1 -C  1  2 Alkylen, Phenylen, -(CO)O- (C 2 -C 12 Alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH  2 CH 2 O) n -(CO)- oder -(CO)-(C 2 -C 12 -Alkylen)-(CO)-, darstellt;  oder M 2  C 4 -C 12 -Alkylen oder C 4 -C 12 Alkylendioxy- darstellt,  wobei jeder davon gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder  -NR 3 - unterbrochen ist, darstellt; 



   M 3  eine direkte Bindung, -CH 2 -, -O-, -S-, -NR 3 - oder -(CO)-  darstellt; R 3  Wasserstoff oder C 1 -C 2  0 Alkyl darstellt; oder  R 3  C 2 -C 12 Alkyl, das mit -OH, -SH, -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl,  -(CO)O(C 1 C 4 Alkyl), -N(C 1 -C 4 Alkyl) 2 , -N(CH 2 CH 2 OH) 2  , -N[CH 2 CH 2 O-(CO)-C 1 -C 4 Alkyl] 2  oder Morpholinyl substituiert  ist, darstellt; oder R 3  C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere  -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 3  -(CH 2 CH 2 O) n+1 H,  -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, Phenyl-C 1 -C 3 alkyl, C 2  -C 8 Alkanoyl, C 3 -C 12 AlkenyI oder C 3 -C 6 Alkenoyl darstellt;  oder R 3  Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren  C 1 -C 6 Alkyl, Halogen oder C 1 -C 4 AIkoxy substituiert ist, darstellt;

    oder R 3  Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert  oder mit Halogen, C 1 -C 1  2 Alkyl, C 1 -C 1  2 AIkoxy, Phenyl-C  1 -C 3 alkoxy, Phenoxy, C 1 -C 1  2 Alkylsulfanyl, Phenylsulfanyl,  -N(C 1 -C 1  2 Alkyl) 2 , Diphenylamino oder -(CO)R 7  substituiert  ist; 



   n 1 bis 20 ist; 



   R4 Wasserstoff, C 1 -C 2  0 Alkyl, C 3 -C 12 Alkenyl, Phenyl-C 1  -C 3 alkyl; C 2 -C 8 Alkyl, das mit -OH, -SH, -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl,  -O(CO)-Phenyl oder -(CO)O(C 1 C 4 Alkyl) substituiert ist, darstellt;  oder R 4  C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S-  unterbrochen ist, darstellt; oder R 4  -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH  2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 2 -C 8 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenyl,  C 3 -C 6 Alkenoyl darstellt; oder R 4  Phenyl oder Naphthyl darstellt,  wobei jeder davon unsubstituiert oder mit Halogen, C 1 C 12 Akyl,  C 1 C 12 Alkoxy oder -(CO)R 7 substituiert ist; 



   R 5  und R 6  unabhängig voneinander Wasserstoff, C 1 -C 1  2 Alkyl,  C 2 -C 4 Hydroxyalkyl, C 2 -C 10 Alkoxyalkyl, Phenyl-C 1 C 3 alkyl,  C 1 -C 4 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenoyl, Benzoyl darstellen; oder Phenyl  oder Naphthyl darstellen, wobei jeder davon unsubstituiert oder mit  C 1 -C 12 Alkyl oder C 1 C 12 Alkoxy substituiert ist; oder R 5   und R 6  zusammen C 2 -C 6 Alkylen, gegebenenfalls unter   brochen  durch -O- oder -NR 3 - und/oder gegebenenfalls substituiert mit Hydroxyl,  C 1 -C 4 Alkoxy, C 2 -C 4 Alkanoyloxy oder Benzoyloxy, darstellen;  und 



   R 7  Wasserstoff, C 1 C 20 Alkyl darstellt; oder C 2 -C 8 Alkyl darstellt,  das durch Halogen, Phenyl, -OH, -SH, C 3 -C 6 Alkenoxy, -O(CO)-C  1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl oder -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl) substituiert  ist; oder R 7  C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen  ist, darstellt; oder R 7  -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH 2 CH 2 O) n  (CO)-C 1 C 8 Alkyl oder C 3 -C 12 Alkenyl darstellt; oder Phenyl,  das gegebenenfalls mit einem oder mehreren Halogen, C 1 -C 1  2 Alkyl,  C 1 -C 12 Alkoxy, Phenoxy, C 1 -C 1  2 Alkylsulfanyl, Phenylsulfanyl,  -N(C 1 -C 12 Alkyl) 2  oder Diphenylamino substituiert ist, darstellt.                                                         



   Bevorzugt ist eine lichtempfindliche, wie vorstehend beschriebene  Zusammensetzung, worin Komponente (B) eine Verbindung der Formel  l darstellt, worin 



   R 1 C 2 -C 4 Alkanoyl darstellt; 



   Ar 1  Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert  oder mit Halogen, (C 1 -C 8 Alkyl, NR 5 R 6  oder OR 3  substituiert  ist, wobei die Substituenten OR 3  gegebenenfalls 5-oder 6-gliedrige  Ringe über die Reste R 3  mit weiteren Substituenten am Phenyl- oder  Naphthylring bilden; oder Ar 1  2-Furyl, 2-Pyrrolyl, 2-Thienyl, 3-lndolyl  darstellt, mit der Massgabe, dass R 1 Acetyl darstellt; 



   
EMI13.1
 



   x 2 ist; 



   R 3  C 1 -C 2  0 Alkyl darstellt; oder R 3  C 2 -C 12 Alkyl, das  mit OH, -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -N(C 1 -C 4 Alkyl) 2 , -N(CH 2 CH  2 OH) 2 , -N[CH 2 CH 2 O-(CO)-C 1 -C 4 Alkyl] 2  oder Morpholinyl  substituiert ist, darstellt; oder R 3  C 2 -C 12 Alkyl, das durch  ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 3  -(CH  2 CH 2 O) n+1 H oder -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 4 Alkyl darstellt;                                                           



   n 1 bis 3 ist; und 



   R 5 und R 6 C 1 -C 4 Alkyl darstellen. 



   Die Verbindungen der Formeln I und II können als Photostarter für  die Photopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen  oder von Gemischen, die solche Verbindungen umfassen, verwendet werden.                                                        



     Komponente (A) in der erfindungsgemässen Zusammensetzung ist ein  Monomer, Oligomer oder Polymer, das in einem wässerigen alkalischen  Entwickler löslich ist. 



   Beispiele für geeignete Komponenten (A) sind Oligomere und Polymere  mit einem Molekulargewicht von etwa 500 bis 2 000 000, vorzugsweise  1000 bis 1 000 000. Beispiele für Alkali-entwickelbare Bindemittel  sind Acrylpolymer mit Carbonsäurefunktion als Alkali-solubilisierende  seitenständige Gruppe, wie üblicherweise bekannte Copolymere, die  durch Copolymerisieren einer ethylenisch ungesättigten Carbonsäure,  wie (Meth)acrylsäure, 2-Carboxyethyl(meth)acrylsäure, 2-Carboxypropyl(meth)acrylsäure,  Itaconsäure, Crotonsäure, Maleinsäure und Fumarsäure, mit einem oder  mehreren Monomeren, ausgewählt aus Estern von (Meth)acrylsäure, wie  (Meth)acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäurepropylester,  (Meth)acrylsäurebutylester, (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäure-2-ethylhexylester,  (Meth)acrylsäurehydroxyethylester, (Meth)

  acrylsäurehydroxypropylester;  vinylaromatischen Verbindungen, wie Styrol,  alpha -Methylstyrol,  Vinyltoluol, p-Chlorstyrol; ungesättigten Verbindungen vom Amidtyp,  (Meth)acrylamiddiacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Butoxymethacrylamid,  und Verbindungen vom Polyolefintyp, wie Butadien, Isopren, Chloropren  und dergleichen; Methacrylnitril, Methyl-isopropenylketon, Vinylacetat,  Vinylpropionat und Vinylpivalat, erhalten werden. Beispiele für Copolymere  sind Copolymere von Acrylaten und Methacrylaten mit Acrylsäure oder  Methacrylsäure und mit Styrol oder substituiertem Styrol, Phenolharzen,  beispielsweise Novolak, (Poly)hydroxystyrol und Copolymere von Hydroxystyrol  mit Acrylsäurealkylestern, Acrylsäure und/oder Methacrylsäure.

   Bevorzugte  Beispiele von Copolymeren sind Copolymere von Methacrylsäuremethylester/Methacrylsäure,  Copolymere von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure, Copolymere  von Methacrylsäuremethylester/Acrylsäureethylester/Methacrylsäure,  Copolymere von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure/Styrol, Copolymere  von Methacrylsäurebenzylester/Methacrylsäure/Methacrylsäurehydroxyethylester,  Copolymere von Meth-acrylsäuremethylester/Methacrylsäurebutylester/Methacrylsäure/Styrol,  Copolymere von Methacrylsäuremethylester / Methacrylsäurebenzylester  / Methacrylsäure / Methacrylsäurehydroxyphenylester. 



     Verbindung (A) kann auch eine alkalisch lösliche monomere Verbindung  sein, mit der Massgabe, dass ihre Konzentration in der Formulierung  ausreichend hoch ist, um die gesamte Formulierung in dem alkalischen  Entwickler löslich zu machen. 



   Die funktionellen Gruppen in Verbindung (A), die zu einer guten Alkalilöslichkeit  führen, sind vorzugsweise Carbonsäuregruppen. Jedoch sind auch andere  Gruppen möglich, die zu einer Alkalilöslichkeit führen. Beispiele  für solche Gruppen sind phenolische Gruppen, Sulfonsäuregruppen und  Anhydridgruppen. 



   Weiterhin kann Verbindung (A) eine alkalisch lösliche Polyimidvorstufe  sein, beispielsweise eine Poly(amidcarboxylsäureester)verbindung,  die gegebenenfalls photopolymerisierbare Seitengruppen, entweder  am Gerüst oder den Estergruppen im Molekül aufweist, und ausreichend  freie phenolische oder Carbonsäuregruppen aufweist, um dieses Material  in wässeriger alkalischer Lösung löslich zu machen oder sie kann  beispielsweise eine Poly(amidcarboxylsäure) sein. 



   Weitere Beispiele für alkalisch lösliche Verbindungen (A) schliessen  Copolymere von Hydroxystyrol mit Styrol, Alkylacrylaten, Acrylsäure,  Methacrylaten und Methacrylsäure ein. 



   Weitere Beispiele für Komponente (A) sind Oligomere oder Polymere,  die durch Umsetzung eines gesättigten oder ungesättigten, mehrbasigen  Säureanhydrids mit einem Reaktionsprodukt einer Epoxyverbindung und  einer ungesättigten Monocarbonsäure erhalten werden. Als Epoxyverbindungen,  die zur Herstellung angewendet werden, sind die am meisten interessierenden  Epoxide vom Novolaktyp. 



   Das vorstehend erwähnte Harz, das durch aktivierte Energiestrahlung  härtbar ist, wird durch Umsetzung eines Reaktionsprodukts einer Epoxyverbindung  vom Novolaktyp (wie nachstehend beschrieben) und einer ungesättigten  Monocarbonsäure mit einem zweibasigen Säureanhydrid, wie Phthalsäureanhydrid,  oder einem aromatischen Polycarbonsäureanhydrid, wie Trimellitsäureanhydrid  oder Pyromellitsäureanhydrid, erhalten. In diesem Fall erweist sich  das Harz als besonders geeignet, wenn bei der Herstellung die Menge  des vorstehend erwähnten Säureanhydrids, das für die Reaktion verwendet  wird, 0,15 Mol pro jeder der Hy   droxylgruppen, die das Reaktionsprodukt  der Epoxyverbindung vom Novolaktyp und der ungesättigten Carbonsäure  besitzt, übersteigt. 



   Der Säurewert des so erhaltenen Harzes fällt geeigneterweise in den  Bereich von 45 bis 160 mg KOH/g, vorzugsweise 50 bis 140 mg KOH/g  (der Säurewert wird durch die Milligrammzahl Kaliumhydroxid ausgedrückt,  die notwendig ist, 1 Gramm Harz zu neutralisieren). Wenn die Anzahl  von ethylenisch ungesättigten Bindungen, die in der Moleküleinheit  des Harzes vorliegen, das durch aktivierte Energiestrahlung härtbar  ist, gering ist, da das Photohärten langsam verläuft, ist es erwünscht,  eine Epoxyverbindung vom Novolaktyp als Rohstoff zu verwenden. Zur  Senkung der Viskosität der Druckfarbe ist es möglich, anstatt dessen  Epoxyverbindungen vom Bisphenol-A-Typ zu verwenden. 



   Die Verbindungen vom Novolaktyp werden durch Epoxidharze vom Phenol-Novolaktyp  und Epoxidharze vom Cresol-Novolaktyp wiedergegeben. Solche Verbindungen  werden im Allgemeinen durch Umsetzen von Epichlorhydrin mit einem  Novolakharz hergestellt. Typische Beispiele des vorstehend erwähnten  Säureanhydrids sind zweibasige Säureanhydride, wie beispielsweise  Maleinsäureanhydrid, Bernsteinsäureanhydrid, Itaconsäureanhydrid,  Phthalsäureanhydrid, Tetrahydrophthalsäureanhydrid, Hexahydrophthalsäureanhydrid,  Methylhexahydrophthalsäureanhydrid, Endomethylentetrahydrophthalsäureanhydrid,  Methylendo-methylentetrahydrophthalsäureanhydrid, Chlorendisäureanhydrid  und Methyltetrahydrophthalsäureanhydrid; aromatische Polycarbonsäureanhydride,  wie beispielsweise Trimellitsäureanhydrid, Pyromellitsäureanhydrid  und Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid;

   und Polycarbonsäure- anhydridderivate,  wie 5-(2,5-Dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-3-cyclohexen-1,2-dicarbonsäureanhydrid.                                              



   Weitere Beispiele für Komponente (A) sind Reaktionsprodukte, die  durch Addition von Epoxygruppen enthaltenden Acrylsäureester- oder  Methacrylsäureesterverbindungen an einen Teil der Carboxylgruppen  eines Copolymers, das bei der Reaktion von Acrylat oder Methacrylat  mit Acrylsäure oder Methacrylsäure entsteht, erhalten werden. Beispiele  für solche Verbindungen werden durch die allgemeinen Formeln (1)  und (2) wiedergegeben. 



   
EMI16.1
 



   R a  ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt, R b  eine  aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen  darstellt    und Acrylsäure und/oder Methacrylsäure, die durch die  allgemeine Formel (2) widergegeben wird; 



   
EMI17.1
 



   R a  die gleiche wie vorstehend angegebene Bedeutung aufweist, copolymerisiert  gemäss Routineverfahren wie Lösungspolymerisation. 



   Vorzugsweise ist das Molverhältnis zwischen dem Acrylsäureester und/oder  Methacrylsäureester und der Acrylsäure und/oder Methacrylsäure 30:70  bis 70:30. 



   Die Estergruppe von jedem der Acrylsäureester und/oder Methacrylsäureester  kann geeigneterweise aus verschiedenen aliphatischen Gruppen, die  1 bis 6 Kohlenstoffatome enthalten, ausgewählt werden. 



   Das Reaktionsprodukt wird durch Zugeben von Acrylsäureester und/oder  Methacrylsäureester mit einer endständigen Epoxygruppe, wiedergegeben  durch die nachstehende allgemeine Formel (3), 



   
EMI17.2
 



   R a die gleiche wie vorstehend beschriebene Bedeutung aufweist; 



   R c  eine aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe oder aromatische Kohlenwasserstoffgruppe  mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen darstellt, zu dem so erhaltenen Copolymer  erhalten. Um das Reaktionsprodukt für die vorliegende Erfindung geeignet  zu machen, wird eine Verbindung der Formel (3) zu den vorstehend  erwähnten Monomeren der Formeln (1) und (2) in einem Verhältnis von  10 bis 40 Mol% gegeben, um das Copolymer mit Ultravioletthärtbarkeit  bereitzustellen. 



   Das so erhaltene Reaktionsprodukt hat vorzugsweise ein mittleres  Molekulargewicht im Bereich von 20 000 bis 70 000; der Erweichungspunkt  liegt geeigneterweise im Bereich von 35 DEG C bis 130 DEG C und der  Säurewert ist 50 bis 150. 



   Weitere Beispiele für Komponente (A) sind Harze mit  alpha , beta  -ungesättigten Doppelbindungen an den Seitenketten und mit einem  Säurewert von 50-200. Das photopolymerisierbare Harz besteht beispielsweise  aus 70-95 Gewichtsprozent einer ethylenisch ungesättigten Säurekomponente  und einer copolymerisierbaren Komponente davon. Es ist ein Additionsprodukt,  das    zwischen einem Carboxylgruppen enthaltenden Harz mit einem  Säurewert von nicht weniger als 500, vorzugsweise nicht weniger als  600 und insbesondere nicht weniger als 620, und mit einem zahlenmittleren  Molekulargewicht von 1 000-100 000, vorzugsweise 3 000-70 000, und  einer ungesättigten Verbindung mit einer  alpha , beta -ungesättigten  Doppelbindung und einer Epoxygruppe gebildet wird.

   Der Anteil der  ethylenisch ungesättigten Säurekomponente in dem Carboxylgruppen-enthaltenden  Harz des photopolymerisierbaren Harzes ist 70-95 Gewichtsprozent,  wodurch das photopolymerisierbare Harz (A) in Wasser oder verdünnter  alkalischer wässeriger Lösung auch, nachdem eine ungesättigte Verbindung  mit einer  alpha , beta -ungesättigten Doppelbindung und einer Epoxygruppe  addiert wurde, nicht unlöslich wird und seine Löslichkeit behält.  Beispiele solcher Harze werden in JP 8-339 081-A beschrieben.

   Ein  Carboxylgruppen-enthaltendes Harz (A) wird beispielsweise durch Auflösen  von 70-95 Gewichtsprozent, vorzugsweise 78-88 Gewichtsprozent und  insbesondere 80-85 Gewichtsprozent, eines ethylenisch ungesättigten  Säuremonomers und 5-30 Gewichtsprozent, vorzugsweise 12-22 Gewichtsprozent  und insbesondere 15-20 Gewichtsprozent eines copolymerisierbaren  Monomers in einem geeigneten, nicht reaktiven Lösungsmittel und thermisches  Polymerisieren der Lösung bei 45-120 DEG C in Gegenwart eines thermischen  Polymerisationsstarters hergestellt. Somit kann ein Carboxylgruppen  enthaltendes Harz mit einem Säurewert von nicht weniger als 500 und  einem zahlenmittleren Molekulargewicht von 1000-100 000 mit hoher  Sicherheit und hoher Stabilität hergestellt werden. 



   Spezielle Beispiele von ethylenisch ungesättigtem Monomer, das zur  Herstellung des Carboxylgruppen-enthaltenden Harzes (A) geeignet  ist, schliessen Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure,  Angelikasäure, Tiglinsäure, 2-Ethylacrylsäure, 3-Propylacrylsäure,  3-lsopropylacrylsäure, Bernsteinsäuremonohydroxyethylacrylat, Phthalsäuremonohydroxyethylacrylat,  Dihydrophthalsäuremonohydroxyethylacrylat, Tetrahydrophthalsäuremonohydroxyethylacrylat,  Hexahydrophthalsäuremonohydroxyethylacrylat, Acrylsäuredimer, Acrylsäuretrimer,  w-Carboxypolycaprolactonmonoacrylat und  lambda -Carboxypolycaprolactonmonomethacrylat  ein.

   Unter diesen Monomeren sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure,  Isocrotonsäure, Angelikasäure, Tiglinsäure, 2-Ethylacrylsäure, 3-Propylacrylsäure,  3-lsopro- pylacrylsäure,  lambda -Carboxypolycaprolactonmonoacrylat,  lambda -Carboxypolycaprolactonmonomethacrylat und dergleichen bevorzugt;  und besonders bevorzugt sind Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure,  Isocrotonsäure, Angelikasäure, Tiglinsäure, 2-   Ethylacrylsäure,  3-Propylacrylsäure, 3-lsopropylacrylsäure,  lambda -Carboxypolycaprolactonmonoacrylat  und w-Carboxypolycaprolactonmonomethacrylat. Diese Monomere können  entweder einzeln oder im Gemisch von zwei oder mehreren verwendet  werden. Geeignete copolymerisierbare Monomere sind Acrylester, Methacrylester,  Vinylmonomere, Monomere vom Styroltyp und cyclische Estermonomere.

    Spezielle Beispiele davon schliessen Acrylsäurehydroxymethylester,  Methacrylsäurehydroxymethylester, Acrylsäure-2-hydroxyethylester,  Methacrylsäure-2-hydroxyethylester, Acrylsäure-2-hydroxypropylester,  Methacrylsäure-2-hydroxypropylester, Ethylenglycolmonomethyletheracrylat,  Ethylenglycolmonomethylethermethacrylat, Ethylenglycolmonoethyletheracrylat,  Ethylenglycolmonoethylethermethacrylat, Acrylsäureglycerinester,  Methacrylsäureglycerinester, Pentamethacrylsäuredipentaerythritylester,  Pentaacrylsäuredipentaerythritylester, Acrylsäuredimethylaminoethylester,  Methacrylsäuredimethylaminoethylester, Tetrahydrofurfurylacrylat,  Tetrahydrofurfurylmetha-crylat, Acrylsäureamid, Methacrylsäureamid,  Acrylnitril, Methacrylnitril, Acrylsäuremethylester, Methacrylsäuremethylester,  Acrylsäureethylester, Methacrylsäureethylester, Acrylsäurebutylester,

    Methacrylsäurebutylester, Acrylsäureisobutylester, Methacrylsäureisobutylester,  Acrylsäure-2-ethylhexylester, Methacrylsäure-2-ethylhexylester, Acrylsäurebenzylester,  Methacrylsäurebenzylester, Acrylsäurecarbitol, Methacrylsäurecarbitol,  epsilon -Caprolacton-modifiziertes Tetrafurfurylacrylat,  epsilon  -Caprolacton-modifiziertes Tetrafurfurylmethacrylat, Diethylenglycolethoxylacrylat,  Acrylsäureisodecylester, Methacrylsäureisodecylester, Acrylsäureoctylester,  Methacrylsäureoctylester, Acrylsäurelaurylester, Methacrylsäurelaurylester,  Acrylsäuretridecylester, Methacrylsäuretridecylester, Acrylsäurestearylester,  Methacrylsäurestearylester und dergleichen ein. Diese Monomere können  entweder einzeln oder in Gemischen von zwei oder mehreren verwendet  werden. 



   Geeignete thermische Polymerisationsstarter sind beispielsweise 2,2'-Azobis(2,4-dimethylvaleronitril)  (Anwendungstemperatur 45-70 DEG C), 2,2'-Azobis(isobutyronitril)  (Anwendungstemperatur 60-90 DEG C), 2,2'-Azobis(2-methylisobutyronitril)  (Anwendungstemperatur 60-95 DEG C), tert-Butylperoctoat (Anwendungstemperatur  75-100 DEG C), 1,1'-Azobis(cyclohexan-1-carbonitril) (Anwendungstemperatur  80-110 DEG C) oder 1-[(1-Diazo-1-methylethyl)azo]formamid (Anwendungstemperatur  95-120 DEG C). Mindestens eine der zitierten Verbindungen wird verwendet.

    Das gemäss dem vorstehend erwähnten Verfahren hergestellte Carboxylgruppen-enthaltende  Harz wird dann zu einem photopolymerisierbaren Harz, dessen Carboxylgruppe    verestert ist und dessen Seitenketten a,b-ungesättigte Bindungen  aufweisen, durch Veresterung mit einer ungesättigten Verbindung mit  einer a,b-ungesättigten Doppelbindung und einer Epoxygruppe modifiziert.  Beispiele für geeignete Verbindungen mit einer a,b-ungesättigten  Doppelbindung und einer -Epoxygruppe werden nachstehend angeführt.  Mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus  Acrylsäureglycidylester, Methacrylsäureglycidylester, Verbindungen  der Formeln 4, 5, 6, wie nachstehend ausgewiesen, wird angewendet.                                                             



   
EMI20.1
 



   R 1 ' Wasserstoff oder Methyl darstellt und n' eine ganze Zahl von  1-10 ist; 



   
EMI20.2
 



   R 2 ' Wasserstoff oder Methyl darstellt und n" eine ganze Zahl von  1-3 ist. 



   Unter diesen Verbindungen sind Verbindungen mit alicyclischen Epoxygruppen  besonders bevorzugt, weil diese Verbindungen eine hohe Reaktivität  mit Carboxylgruppen-enthaltenden Harzen aufweisen; folglich kann  die Reaktionszeit verkürzt werden. Diese Verbindungen verursachen  in dem Reaktionsverfahren ausserdem keine Gelbildung und machen es  möglich, die Reaktion stabil auszuführen. Andererseits sind Acrylsäureglycidylester  und Methacrylsäureglycidylester vom Standpunkt der Empfindlichkeit  und Wärmebeständigkeit vorteilhaft, da sie ein niedriges Molekulargewicht  aufweisen und einen hohen Veresterungsumsatz ergeben können. 



   Das durch das vorstehend erwähnte Verfahren erhaltene photopolymerisierbare  Harz hat  alpha , beta -ungesättigte Doppelbindungen an seinen Seitenketten.  Sein Säurewert ist 50-200, vorzugsweise 70-150 und insbesondere 85-120.  Sein zahlenmittleres Molekulargewicht ist 7000 bis 10 000 und sein  Glasübergangspunkt (anschliessend als Tg bezeichnet) ist 30-120 DEG  C. Wenn das photopolymerisierbare Harz als ein Lötresist verwendet  wird, ist ein Säurewert von nicht weniger als 70 bevorzugt, weil  weiterhin andere Additivbestandteile zu der Zusammensetzung gegeben  werden können. 



     Ein inertes organisches Lösungsmittel wird gleichzeitig zum Ausführen  der Veresterung und Herstellung der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung  angewendet. 



   Kommerziell erhältliche ungesättigte Monomer-, Oligomer- und Polymerkomponenten  (A), wie vorstehend beschrieben, sind beispielsweise M-5300, M-5400,  M-5600 (TOAGOSEI), EB3800, EB9692, EB9694, EB9695, EB9696 (UCB Chemicals),  KAYARAD TCR1025 (Nippon Kayaku Co., LTD.), NEOPOL8319 (U-Pica), EA-6340  (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), ACA200M, ACA250 (Daicel Industries,  Ltd.). 



   Von besonderem Interesse ist eine lichtempfindliche Zusammensetzung,  in der Verbindung (A) eine oligomere oder polymere Verbindung ist.                                                             



   Bevorzugt ist eine Zusammensetzung, worin das Oligomer oder Polymer  (A) ein Bindemittelpolymer, insbesondere ein Copolymer von (Meth)acrylat  und (Meth)acrylsäure, oder ein Harz, das durch Umsetzung eines gesättigten  oder ungesättigten mehrbasigen Säureanhydrids mit einem Reaktionsprodukt  einer Epoxyverbindung und einer ungesättigten Monocarbonsäure erhalten  wird, oder ein Additionsprodukt, das zwischen einem Carbonsäuregruppen-enthaltenden  Harz und einer ungesättigten Verbindung mit einer  alpha , beta -ungesättigten  Doppelbindung und einer Epoxygruppe gebildet wird, darstellt. 



   Beispiele für Verbindungen (C), die als erfindungsgemässe Zusammensetzungen  geeignet sind, sind mit Monomeren vom Vinyltyp photopolymerisierbar.  Repräsentative Beispiele von Monomeren vom photopolymerisierbaren  Vinyltyp sind Acrylsäurehydroxyalkylester, wie Acrylsäure-2-hydroxyethylester,  Acrylsäure-2-hydroxybutylester, usw.; Mono- oder Diacrylate von Glycolen,  wie Ethylenglycol, Methoxytetraethylenglycol, Polyethylenglycol,  Propylenglycol, usw.; Acrylamide, wie N,N-Dimethylacrylamid, N-Methylolacrylamid,  usw.; Acrylsäureaminoalkylester, wie Acrylsäure-N,N-dimethylaminoethylester,  usw.; mehrwertige Acrylate von mehrwertigen Alkoholen oder Ethylenoxid-  oder Propylenoxid-Addukten davon, wie Hexandiol, Trimethylolpropan,  Pentaerythrit, Dipentaerythrit, Trishydroxyethylisocyanurat, usw.;

    Phenoxyacrylat, Bisphenol-A-diacrylat und Acrylate von Ethylenoxid-  oder Propylenoxid-Addukten von diesen Phenolen, usw.; Acrylate von  Glycidylethern, wie Glycerin   diglycidylether, Trimethylolpropantriglycidylether,  Triglycidyletherisocyanurat, usw.; und Melaminacrylat, und/oder Methacrylate,  die den vorstehend erwähnten Acrylaten entsprechen, usw. 



   Weitere Beispiele für Komponente (C) sind mehrfach ungesättigte Verbindungen  mit relativ hoher Molekülmasse, beispielsweise Oligomere oder Polymere,  die acrylierte Epoxidharze, Polyester, die Acrylat-, Vinylether-  oder Epoxygruppen enthalten, und auch Polyurethane und Polyether  darstellen. Weitere Beispiele von ungesättigten Oligomeren sind ungesättigte  Polyesterharze, die aus Maleinsäure, Phthalsäure und einem oder mehreren  Diolen hergestellt werden und Molekulargewichte von etwa 500 bis  3000 aufweisen. Zusätzlich ist es auch möglich, Vinylethermonomere  und -oligomere und auch Maleatendständige Oligomere mit Polyester-,  Polyurethan-, Polyether-, Polyvinylether- und Epoxy-Hauptketten anzuwenden.  Besonders geeignet sind Kombinationen von Oligomeren, die Vinylethergruppen  tragen und Polymere, wie in WO 90/01512 beschrieben.

   Jedoch sind  auch Copolymere von Vinylether und Maleinsäure-funktionalisierten  Monomeren geeignet. Ungesättigte Oligomere dieser Art sind auch als  Prepolymere bevorzugt. 



   Die wie vorstehend beschriebenen photovernetzbaren Verbindungen (C)  werden einzeln oder als ein Gemisch von zwei oder mehreren von ihnen  verwendet. Die geeignete Menge ist 5 bis 300 Gewichtsteile, vorzugsweise  10 bis 150 Gewichtsteile, bezogen auf 100 Gewichtsteile von Komponente  (A). 



   Wenn die photovernetzbare Verbindung (C) eine niederviskose Flüssigkeit  ist, kann sie zum Verdünnen der Komponenten des Gemisches angewendet  werden, so dass sie leicht aufgetragen werden können. Ein weiterer  Zweck ist es, die photovernetzende Wirkung zu verbessern. 



   Bevorzugt ist eine, wie vorstehend beschriebene, lichtempfindliche  Zusammensetzung, worin die photopolymerisierbare Verbindung (C) eine  Flüssigkeit darstellt. 



     Die Photopolymerisation kann auch durch die Zugabe weiterer Photosensibilisatoren  oder Costarter (als Komponente (D)) beschleunigt werden, die die  spektrale Empfindlichkeit verschieben oder verbreitern. Diese sind  insbesondere aromatische Verbindungen, beispielsweise Benzophenon  und Derivate davon, Thioxanthon und Derivate davon, Anthrachinon  und Derivate davon, Cumarin und Phenothiazin und Derivate davon,  und auch 3-(Aroylmethylen)thiazoline, Rhodanin, Campherchinon, jedoch  auch Eosin, Rhodamin, Erythrosin, Xanthen, Thioxanthen, Acridin,  z.B. 9-Phenylacridin, 1,7-Bis(9-acridinyl)heptan, 1,5-Bis(9-acridinyl)pentan,  Cyanin- und Merocyanin-Farbstoffe. Spezielle Beispiele solcher Verbindungen  sind  1. Thioxanthone  



   Thioxanthon, 2-lsopropylthioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 1-Chlor-4-propoxythioxanthon,  2-Dodecylthioxanthon, 2,4-Diethylthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon,  1-Methoxycarbonylthioxanthon, 2-Ethoxycarbonylthioxanthon, 3-(2-Methoxyethoxycarbonyl)thioxanthon,  4-Butoxycarbonylthioxanthon, 3-Butoxycarbonyl-7-methylthioxanthon,  1-Cyano-3-chlorthioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-chlorthioxanthon,  1-Ethoxycarbonyl-3-ethoxythioxanthon, 1-Ethoxycarbonyl-3-aminothioxanthon,  1-Ethoxycarbonyl-3-phenylsulfu- rylthioxanthon, 3,4-Di-[2-(2-methoxyethoxy)ethoxycarbonyl]thioxanthon,  1,3-Dimethyl-2-hydroxy-9H-thioxanthen-9-on-2-ethylhexylether, 1-Ethoxycarbonyl-3-(1-methyl-1-morpholinoethyl)thioxanthon,  2-Methyl- 6-dimethoxymethylthioxanthon, 2-Methyl-6-(1,1-dimethoxybenzyl)thioxanthon,  2-Morpholinomethylthioxanthon, 2-Methyl-6-morpholinomethylthioxanthon,  N-Allylthioxanthon-3,4-dicarboximid,

   N-Octylthioxanthon- 3,4-dicarboximid,  N-(1,1,3,3-Tetramethylbutyl)thioxanthon-3,4-dicarboximid, 1-Phenoxythioxanthon,  6-Ethoxycarbonyl-2-methoxythioxanthon, 6-Ethoxycarbonyl-2-methylthioxanthon,  Thioxanthon-2-carbonsäurepolyethylenglycolester, 2-Hydroxy-3-(3,4-dimethyl-9-oxo-9H-thioxanthon-2-yloxy)-N,N,N-trimethyl-1-  propanaminiumchlorid;  2. Benzophenone  



   Benzophenon, 4-Phenylbenzophenon, 4-Methoxybenzophenon, 4,4'-Dimethoxybenzophenon,  4,4'-Dimethylbenzophenon, 4,4'-Dichlorbenzophenon, 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenon,  4,4'-Bis(diethylamino)benzophenon, 4,4'-Bis(methylethylamino)benzophenon,    4,4'-Bis(p-isopropylphenoxy)benzophenon, 4-Methylbenzophenon,  2,4,6-Trimethylbenzophenon, 4-(4-Methylthiophenyl)benzophenon, 3,3'-Dimethyl-4-methoxybenzophenon,  Methyl-2-benzoylbenzoat, 4-(2-Hydroxyethylthio)benzophenon, 4-(4-Tolylthio)benzophenon,  1-[4-(4-Benzoylphenylsulfanyl)phenyl]-2-methyl-2-(toluol-4-sulfonyl)propan-1-on,  4- Benzoyl-N,N,N-trimethylbenzolmethanaminiumchlorid, 2-Hydroxy-3-(4-benzoylphenoxy)-N,N,N-trimethyl  1-propanaminiumchloridmonohydrat, 4-(13-Acryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxatridecyl)benzophenon,  4-Benzoyl- N,N-dimethyl-N-[2-(1-oxo-2-propenyl)oxy]ethylbenzolmethanaminiumchlorid;  3. Cumarine  



   Cumarin 1, Cumarin 2, Cumarin 6, Cumarin 7, Cumarin 30, Cumarin 102,  Cumarin 106, Cumarin 138, Cumarin 152, Cumarin 153, Cumarin 307,  Cumarin 314, Cumarin 314T, Cumarin 334, Cumarin 337, Cumarin 500,  3-Benzoylcumarin, 3-Benzoyl-7-methoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-dimethoxycumarin,  3-Benzoyl-5,7-dipropoxycumarin, 3-Benzoyl-6,8-dichlorcumarin, 3-Benzoyl-6-chlorcumarin,  3,3'-Carbonylbis[5,7-di(propoxy)cumarin], 3,3'-Carbonyl-bis(7-methoxycumarin),  3,3'-Carbonylbis(7-diethylaminocumarin), 3-lsobutyroylcumarin, 3-BenzoyI-5,7-dimethoxycumarin,  3-Benzoyl-5,7-diethoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-dibutoxycumarin, 3-Benzoyl-5,7-di(methoxyethoxy)cumarin,  3-Benzoyl-5,7-di(allyloxy)cumarin, 3-Benzoyl-7-dimethylaminocumarin,  3-Benzoyl-7-diethylaminocumarin, 3-lsobutyroyl-7-dimethyl-aminocumarin,  5,7-Dimethoxy-3-(1-naphthoyl)cumarin, 5,7-Diethoxy-3-(1-naphthoyl)cumarin,  3-Benzoylbenzo[f]cumarin,

   7-Diethylamino-3-thienoylcumarin, 3-(4-Cyanobenzoyl)-5,7-dimethoxycumarin,  3-(4-Cyanobenzoyl)-5,7-dipropoxycumarin, 7-Dimethylamino-3-phenylcumarin,  7-Diethylamino-3-phenylcumarin, die Cumarinderivate, die in JP-09-179  299-A und JP-09-325 209-A offenbart sind, beispielsweise 7-[{4-Chlor-6-(diethylamino)-S-triazin-2-yl}amino]-3-phenylcumarin;  4. 3-(Aroylmethylen)thiazoline  



   3-Methyl-2-benzoylmethylen- beta -naphthothiazolin, 3-Methyl-2-benzoylmethylenbenzothiazolin,  3-Ethyl-2- propionylmethylen- beta -naphthothiazolin;   5. Rhodanine  



   4-Dimethylaminobenzalrhodanin, 4-Diethylaminobenzalrhodanin, 3-Ethyl-5-(3-octyl-2-benzothiazolinyliden)rhodanin,  die Rhodaninderivate der Formeln [1], [2], [7], die in JP 08-305  019-A offenbart sind;  6. Andere Verbindungen  



   Acetophenon, 3-Methoxyacetophenon, 4-Phenylacetophenon, Benzil, 4,4'-Bis(dimethylamino)benzil,  2-Acetylnaphthalin, 2-Naphthaldehyd, Dansylsäurederivate, 9,10-Anthrachinon,  Anthracen, Pyren, Aminopyren, Perylen, Phenanthren, Phenanthrenchinon,  9-Fluorenon, Dibenzosuberon, Curcumin, Xanthon, Thio-Michler's-Keton,  alpha -(4-Dimethylaminobenzyliden)ketone, beispielsweise 2,5-Bis(4-diethylaminobenzyliden)cyclopentanon,  2-(4-Dimethylaminobenzyliden)indan-1-on, 3-(4-Dimethylaminophenyl)-1-indan-  5-yl-propenon, 3-Phenylthiophthalimid, N-Methyl-3,5-di(ethylthio)phthalimid,  N-Methyl-3,5-di(ethylthio) phthalimid, Phenothiazin, Methylphenothiazin,  Amine, beispielsweise N-Phenylglycin, Triethanolamin, N-Methyldiethanolamin,  p-Dimethylbenzoesäureethylester, Benzoesäure-2-(dimethylamino)ethylester,  p-Dimethylaminobenzoesäure-2-ethylhexylester, para-N,

  N-Dimethylaminobenzoesäureoctylester,  N-(2- Hydroxyethyl)-N-methyl-para-toluidin, 4-Dimethylaminobenzoesäurebutoxyethylester,  4-Dimethylaminoacetophenon, Triethanolamin, Methyldiethanolamin,  Dimethylaminoethanol, Benzoesäure-2-(dimethylamino)ethylester, Poly(propylenglycol)-4-(dimethylamino)benzoat  und Michler's Keton. Die Wirkung der Amine kann durch die Zugabe  von aromatischen Ketonen vom Benzophenontyp intensiviert werden.  Beispiele für Amine, die als Sauerstofffänger verwendet werden können,  sind substituierte N,N-Dialkylaniline, wie in EP 339 841 beschrieben.  Andere Beschleuniger, Costarter und Autoxidationsmittel sind Thiole,  Thioether, Disulfide, Phosphoniumsalze, Phosphinoxide oder Phosphine,  wie beispielsweise in EP 438 123, in GB 2 180 358 und in JP Kokai  Hei 6-68 309 beschrieben. 



   Eine photopolymerisierbare Zusammensetzung, die als weiteres Additiv  (D) eine Photosensibilisatorverbindung, ausgewählt aus der Gruppe,  bestehend aus Benzophenon und seinen Derivaten, Thioxanthon und seinen  Derivaten, Anthrachinon und seinen Derivaten oder Cumarinderivaten,  umfasst, ist bevorzugt. 



     Komponente (D) wird geeigneterweise in einer Menge von 0,015 bis  60 Gewichtsteilen, vorzugsweise 0,03 bis 30 Gewichtsteilen, bezogen  auf 100 Gewichtsteile der Summe der Verbindungen (A), (B) und (C),  angewendet. 



   In einigen Fällen kann es vorteilhaft sein, Sensibilisatorverbindungen  in Kombination mit den Verbindungen der Formeln I und II anzuwenden.  Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht deshalb in einer Zusammensetzung,  die, zusätzlich zu Komponenten (A), (B) und (C), mindestens eine  Photosensibilisatorverbindung (D) und/oder weitere Additive (E) umfasst.                                                       



   Zusätzlich zu der Photostarter- und/oder der Sensibilisatorverbindung  können die photopalymerisierbaren Gemische verschiedene Additive  (E) einschliessen. 



   Komponente (E) ist beispielsweise eine Verbindung mit einer Epoxygruppe,  welche die Wärme-härtenden Eigenschaften der Zusammensetzung ausmacht.  Es kann eine feste oder flüssige bekannte Epoxyverbindung verwendet  werden und die Epoxyverbindung wird in Abhängigkeit von den erforderlichen  Eigenschaften verwendet. Wenn beispielsweise die Plattierungsbeständigkeit  verbessert werden soll, wird ein flüssiges Epoxidharz angewendet  und wenn Wasserbeständigkeit gefordert wird, wird ein Epoxidharz  mit einer grossen Anzahl an Methylgruppen an einem Benzolring oder  einem Cycloalkylring angewendet.

   Ein bevorzugtes Epoxidharz ist ein  Epoxidharz vom Bisphenol-S-Typ, wie BPS-200, hergestellt von Nippon  Kayaku Co., Ltd., EPX-30, hergestellt von ACR Co., Epiculon EXA-1514,  hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals Inc., usw.; ein Epoxidharz  vom Bisphenol-A-Typ, wie Epiculon N-3050, N-7050, N-9050, hergestellt  von Dainippon Ink & Chemicals Inc., XAC-5005, GT-7004, 6484-T,  6099, hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Inc., usw.; ein Epoxidharz  vom Bisphenol-F-Typ, wie YDF-2004, YDF2007, hergestellt von Tohto  Kasei Co., usw.; ein Diglycidylphthalatharz, wie Blemmer DGT, hergestellt  von Nippon Oil and Fats Co., Ltd., usw; ein heterocyclisches Epoxidharz,  wie TEPIC, hergestellt von Nissan Chemicals Industries, Ltd., Araldite  PT810, hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Inc., usw.; ein Epoxidharz  vom Bixylenoltyp, wie YX-4000, hergestellt von Yuka Shell Co., usw.;

    ein Epoxidharz vom Bisphenoltyp, wie YL-6056, hergestellt von Yuka  Shell Co., usw.; ein Tetraglycidylxylenoylethanharz, wie ZX-1063,  hergestellt von Tohto Kasei Co., usw.; ein Epoxidharz vom    Novolak-Typ,  wie EPPN-201, EOCN-103, EOCN-1020, EOCN-1025 und BRRN, hergestellt  von Nippon Kayaku Co., Ltd., ECN-278, ECN-292 und ECN-299, hergestellt  von Asahi Chemical Industry Co., Ltd., GY-1180, ECN-1273 und ECN-1299,  hergestellt von Ciba Specialty Chemicals Inc., YDCN-220L, YDCN-220HH,  YDCN-702, YDCN-704, YDPN-601 und YDPN-602, hergestellt von Tohto  Kasei Co., Epiculon-673, N-680, N-695, N-770 und N-775, hergestellt  von Dainippon Ink & Chemicals Inc., usw.; ein Epoxidharz vom  Novolaktyp von Bisphenol-A, wie EPX-8001, EPX-8002, EPPX-8060 und  EPPX-8061, hergestellt von Asahi Chemical Industry Co., Ltd., Epiculon  N-880, hergestellt von Dainippon Ink & Chemicals Inc., usw.;

    ein Epoxidharz vom Chelattyp, wie EPX-49-69 und EPX-49-30, hergestellt  von Asahi Denka Kogyo K.K., usw.; ein Epoxidharz vom Glyoxaltyp,  wie YDG-414, hergestellt von Tohto Kasei Co., usw.; ein Aminogruppen-enthaltendes  Epoxidharz, wie YH-1402 und ST-110, hergestellt von Tohto Kasei Co.,  YL-931 und YL-933, hergestellt von Yuka Shell Co., usw.; ein Kautschuk-modifiziertes  Epoxidharz, wie Epiculon TSR-601, hergestellt von Dainippon Ink &  Chemicals Inc., EPX-84-2 und EPX-4061, hergestellt von Asahi Denka  Kogyo K.K., usw.; ein Epoxidharz vom Dicyclopentadienphenol-Typ,  wie DCE-400, hergestellt von Sanyo-Kokusaku Pulp Co., Ltd., usw.;  ein Silikon-modifiziertes Epoxidharz, wie X-1359, hergestellt von  Asahi Denka Kogyo K.K., usw.; ein  epsilon -Caprolacton-modifiziertes  Epoxidharz, wie Plaque G-402 und G-710, hergestellt von Daicel Chemical  Industries, Ltd., usw. und andere.

   Weiterhin können teilweise veresterte  Verbindungen dieser Epoxyverbindungen (z.B. verestert mit (Meth)acrylaten)  in Kombination verwendet werden. 



   Gegenstand der Erfindung ist deshalb, eine wie vorstehend beschriebene,  lichtempfindliche Zusammensetzung, die zusätzlich eine Epoxyverbindung  umfasst, welche mindestens zwei Epoxygruppen im Molekül enthält. 



   Die geeignete Menge der erfindungsgemäss zu verwendenden Wärme-härtenden  Komponente ist 10 bis 150 Gewichtsteile, vorzugsweise 20 bis 80 Gewichtsteile,  bezogen auf 100 Gewichtsteile Komponente (A). 



   Vorzugsweise ist die Wärme-härtende Komponente eine Epoxyverbindung  vom Bisphenol-A-, Bisphenol-S-, Bisphenol-F- oder Novolak-Typ. 



     Beispiele für weitere Additive (E) sind thermische Inhibitoren,  die vorzeitige Polymerisation verhindern sollen, wobei Beispiele  davon sind: Hydrochinon, Hydrochinonderivate, p-Methoxyphenol,  beta  -Naphthol oder sterisch gehinderte Phenole, wie 2,6-Di-tert-butyl-p-cresol.  Um die Stabilität bei der Lagerung im Dunkeln zu erhöhen, ist es  beispielsweise möglich, Kupferverbindungen, wie Kupfernaphthenat,  -stearat oder -octoat, Phosphorverbindungen, wie Triphenylphosphin,  Tributylphosphin, Triethylphosphit, Triphenylphosphit oder Tribenzylphosphit,  quaternäre Ammoniumverbindungen, beispielsweise Tetramethylammoniumchlorid  oder Trimethylbenzylammoniumchlorid, oder Hydroxylaminderivate, beispielsweise  N-Diethylhydroxylamin, zu verwenden.

   Um atmosphärischen Sauerstoff  während der Polymerisation auszuschliessen, ist es möglich, Paraffin  oder ähnliche wachsartige Substanzen zuzusetzen, die, da in dem Polymer  unzureichend löslich, am Beginn der Polymerisation zu der Oberfläche  wandern und eine transparente Oberflächenschicht bilden, die den  Zutritt von Luft verhindert. Es ist auch möglich, eine Sauerstoff-undurchlässige  Schicht auf das Obere der Beschichtung aufzutragen. Lichtstabilisatoren,  die in einer kleinen Menge zugegeben werden können, sind UV-Absorptionsmittel,  beispielsweise jene vom Hydroxyphenylbenzotriazol-, Hydroxyphenylbenzophenon-,  Oxalamid- oder Hydroxyphenyl-s-triazin-Typ. Diese Verbindungen können  einzeln oder in Gemischen mit oder ohne sterisch gehinderte Amine  (HALS) angewendet werden. 



   Beispiele solcher UV-Äbsorptionsmittel und Lichtstabilisatoren sind                                                            



   1. 2-(2'-Hydroxyphenynbenzotriazole , zum Beispiel 2-(2'-Hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazol,  2-(3<>,5'-Di-tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(5'-tert-Butyl-2'-hydroxyphenyl)-benzotriazol,  2-(2'- Hydroxy-5'-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenyl)benzotriazol,  2-(3',5'-Di-tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol, 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-methylphenyl)-5-chlorbenzotriazol , 2-(3'-sec-Butyl-5'-tert-butyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(2'-Hydroxy-4'-octoxyphenyl)benzotriazol,  2-(3',5'-Di-tert-amyl-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, 2-(3',5'-Bis-(  alpha , alpha -dimethylbenzyl)-2'-hydroxyphenyl)benzotriazol, Gemisch  von 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-octyloxycarbonylethyl)phenyl)-5-chlorbenzotriazol,  2-(3'-tert-Butyl-5'-[2- (2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2'-hydroxyphenyl)-5-chlorbenzotriazol,  2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2- methoxycarbonylethyl)phenyl)

  -5-chlorbenzotriazol,  2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-methoxycarbonylethyl) phenyl)benzotriazol,  2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-(2-octyloxycarbo   nylethyl)phenyl)benzotriazol,  2-(3'-tert- Butyl-5'-[2-(2-ethylhexyloxy)carbonylethyl]-2'-hydro-xyphenyl)benzotriazol,  2-(3'-Dodecyl-2'-hydroxy-5'- methylphenyl)benzotriazol und 2-(3'-tert-Butyl-2'-hydroxy-5'-methylphenyl)benzotriazol,  5'-(2-lsooctyloxycarbonylethyl)phenylbenzotriazol, 2,2'-Methylen-bis[4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)-6-benzotriazol-2-ylphenol];  das Umesterungsprodukt von 2-[3'-tert-Butyl-5'-(2-methoxycarbonylethyl)-2'-hydroxyphenyl]-2H-benzotriazol  mit Polyethylenglycol 300; [R-CH 2 CH 2 -COO-CH 2 CH 2  - ] 2  worin  R = 3'-tert-Butyl-4'-hydroxy-5'-2H-benzotriazol-2-ylphenyl. 



   2.2-Hydroxybenzophenone  zum Beispiel die 4-Hydroxy-, 4-Methoxy-,  4-Octoxyv-, 4- Decyloxy-, 4-Dodecyloxy-, 4-Benzyloxy-, 4,2',4'-Trihydroxy-  und 2'-Hydroxy-4,4'-dimethoxy-Derivate. 



   3. Ester von substituierten und unsubstituierten Benzoesäuren ,  zum Beispiel 4-tert-Butylphenylsalicylat, Phenylsalicylat, Octylphenylsalicylat,  Dibenzoylresorcin, Bis(4-tert-butylbenzoyl)resorcin, Benzoylresorcin,  2,4-Di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat, Hexadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat,  Octadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat und 2-Methyl-4,6-di-tert-butylphenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoat.          



   4. Acrylate , zum Beispiel Isooctyl- oder Ethyl- alpha -cyano- beta  , beta -diphenylacrylat, Methyl- alpha -carbomethoxycinnamat, Butyl-  oder Methyl- alpha -cyano- beta -methyl-p-methoxycinnamat, Methyl-  alpha -carboxymethoxy-p-methoxycinnamat und N-( beta -Carbomethoxy-  beta -cyanovinyl)-2-methylindolin. 



   5. Sterisch gehinderte Amine , zum Beispiel Bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat,  Bis-(2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat, Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)sebacat,  Bis-(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-n-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzylmalonat,  Kondensationsprodukt von 1-Hydroxyethyl-2,2,6,6- tetramethyl-4-hydroxypiperidin  und Bernsteinsäure, Kondensationsprodukt von N,N'-Bis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)hexamethylendiamin  und 4-tert-Octylamino-2,6-dichlor-1,3,5-s-triazin, Tris(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)nitrilotriacetat,  Tetrakis(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-1,2,3,4-butantetraoat,  1,1'-(1,2-   Ethandiyl)-bis(3,3,5,5-tetramethylpiperazinon), 4-Benzoyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidin,  4-Stearyl   oxy- 2,2,6,6-tetramethylpiperidin, Bis(1,2,2,6,6-pentamethylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroxy-3,5-di-tert-butylben zyl)malonat, 3-n-Octyl-7,7,9,

  9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro-[4.5]decan-2,4-dion,  Bis(1-octyloxy- 2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)sebacat, Bis(1-octyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)succinat,  Kondensationsprodukt von N,N'-Bis-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)-hexamethylendiamin  und 4-Morpholino-2,6-dichlor-1,3,5-triazin, Kondensationsprodukt  von 2-Chlor-4,6-di(4-n-butylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidyl)-1,3,5-triazin  und 1,2-Bis(3-aminopropylamino)ethan, Kondensationsprodukt von 2-Chlor-4,6-di-  (4-n-butylamino-1,2,2,6,6- pentamethylpiperidyl)-1,3,5-triazin und  1,2-Bis-(3-aminopropylamino)ethan, 8-Acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9-tetramethyl-1,3,8-triazaspiro[4.5]decan-2,4-dion,  3-Dodecyl-1-(2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl)pyrrolidin-2,5- dion  und 3-Dodecyl-1-(1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl)pyrrolidin-2,5-dion.                                                        



   6. Oxamide , zum Beispiel 4,4'-Dioctyloxyoxanilid, 2,2'-Diethoxyoxanilid,  2,2'-Dioctyloxy-5,5'-di- tert-butoxanilid, 2,2'-Didodecyloxy-5,5'-di-tert-butoxanilid  ,  2-Ethoxy-2'-ethyloxanilid, N,N'-Bis(3-dimethylaminopropyl)oxalamid,  2-Ethoxy-5-tert-butyl-2'-ethyloxaniIid und dessen Gemisch mit 2-Ethoxy-2'-ethyl-  5,4'-di-tert-butoxanilid, Gemische von o- und p-Methoxy- und o- und  p-Ethoxy-disubstituierten Oxaniliden. 



   7. 2-(2-Hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine , zum Beispiel 2,4,6-Tris(2-hydroxy-4-octyloxyphenyl)-1,3,5-triazin,  2-(2-Hydroxy-4-octyloxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin,  2-(2,4-Dihydroxyphenyl)-4,6-bis (2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin,  2,4-Bis(2-hydroxy-4-propyloxyphenyl)-6-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin,  2-(2-Hydroxy-4-octyloxyphenyl)-4,6-bis(4-methylphenyl)-1,3,5-triazin,  2-(2-Hydroxy-4-dodecyloxyphenyl)-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin,  2-[2-Hydroxy-4-(2-hydroxy-3-butyloxypropyloxy) phenyl]-4,6- bis-(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin,  2-[2-Hydroxy-4-(2-hydroxy-3-octyloxypropyloxy)phenyl]-4,6-bis (2,4-  dimethylphenyl)-1,3,5-triazin, 2-[4-Dodecyl/Tridecyloxy-(2-hydroxypropyl)oxy-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis  (2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin. 



   8. Phosphite und Phosphonite , zum Beispiel Triphenylphosphit, Diphenylalkylphosphite,  Phenyldialkylphosphite, Tris(nonylphenyl)phosphit, Trilaurylphosphit,  Trioctadecylphosphit, Distearylpentaerythrityldiphosphit, Tris(2,4-di-tert-butylphenyl)phosphit,  Diisodecylpentaery   thritdiphosphit, Bis(2,4-di-tert-butylphenyl)pentaerythritdiphosphit,  Bis(2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit, Bisisodecyloxypentaerythrityldiphosphit,  Bis-(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)pentaerythrityldiphosphit,  Bis(2,4,6-tri- tert-butylphenyl)-pentaerythrityl-diphosphit, Tristearylsorbityltriphosphit,  Tetrakis(2,4-di-tert-butylphenyl)- 4,4'-biphenylendiphosphonit, 6-Isooctyloxy-2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12H-dibenz[d,g]-1,3,2- dioxaphosphocin, 6-Fluor-2,4,8,10-tetra-tert-butyl-12-methyldibenzo[d,g]-1,3,2-dioxaphosphocin,  Bis(2,4-di-tert-butyl-6- methylphenyl)

  methylphosphit und Bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl)ethylphosphit.                   



   In der erfindungsgemässen lichtempfindlichen Harzzusammensetzung  können zur Verbesserung der Eigenschaften, wie der Anhaftungseigenschaft,  Härte, usw., falls erforderlich, ein anorganisches Füllstoff, wie  beispielsweise Bariumsulfat, Bariumtitanat, Siliziumoxidpulver, teilchenförmiges  Siliziumoxid, amorphes Siliziumdioxid, Talkum, Ton, Magnesiumcarbonat,  Calciumcarbonat, Aluminiumoxid, Aluminiumhydroxid, Glimmerpulver,  usw., angewendet werden. Der Anteil des Füllstoffs in der Formulierung  ist 0 bis 60 Gewichtsprozent, vorzugsweise 5 bis 40 Gewichtsprozent  der lichtempfindlichen, Wärmehärtenden Harzzusammensetzung. 



   Falls erforderlich, können weiterhin bekannte Additive, wie bekannte  Färbemittel, beispielsweise Phthalocyaninblau, Phthalocyaningrün,  Diazogelb, Kristallviolett, Titanoxid, Russ, Naphthalin-Russ, usw.,  angewendet werden. 



   Die Zusammensetzung umfasst gegebenenfalls als Komponente (E) Epoxyhärtungsförderer,  wie beispielsweise eine Aminverbindung, eine Imidazolverbindung,  eine Carbonsäure, ein Phenol, ein quaternäres Ammoniumsalz oder eine  Methylolgruppen enthaltende Verbindung. Die Menge des zu verwendenden  Härtungsmittels liegt im Bereich von 0 bis 10 Gewichtsprozent, vorzugsweise  0,05 bis 5 Gewichtsprozent der lichtempfindlichen Wärmehärtbaren  Harzzusammensetzung. 



   Um die Photopolymerisation zu beschleunigen, ist es möglich, Amine  zuzusetzen, beispielsweise Triethanolamin, N-Methyldiethanolamin,  p-Dimethylaminobenzoesäureester oder Michler's Keton. Die Wirkung  der Amine kann durch die Zugabe von aromatischen Ketonen    vom Benzophenontyp  intensiviert werden. Beispiele für Amine, die als Sauerstofffänger  verwendet werden können, sind substituierte N,N-Dialkylaniline, wie  in EP 339 841 beschrieben. Weitere Beschleuniger, Costarter und Autoxidationsmittel  sind Thiole, Thioether, Disulfide, Phosphoniumsalze, Phosphinoxide  oder Phosphine, wie beispielsweise in EP 438 123, in GB 2 180 358  und in JP Kokai Hei 6-68 309 beschrieben. 



   Es ist weiterhin möglich, den erfindungsgemässen Zusammensetzungen  auf dem Fachgebiet übliche Kettenübertragungsmittel zuzusetzen. Beispiele  sind Mercaptane und Amine. 



   Das Härtungsverfahren kann durch Zugeben von Photosensibilisatoren,  insbesondere in Zusammensetzungen, die pigmentiert sind (beispielsweise  mit Titandioxid), und auch durch Zugeben einer Komponente, die unter  thermischen Bedingungen freie Radikale bildet, beispielsweise eine  Azoverbindung, wie 2,2'-Azobis(4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitril),  ein Triazen, Diazosulfid, Pentazadien oder eine Peroxyverbindung,  beispielsweise ein Hydroperoxid oder Peroxycarbonat, beispielsweise  t-Butylhydroperoxid, wie z.B. in EP 245 639 beschrieben, unterstützt  werden. 



   Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können als weiteres Additiv  (E) einen photoreduzierbaren Farbstoff, beispielsweise Xanthen-,  Benzoxanthen-, Benzothioxanthen-, Thiazin-, Pyronin-, Porphyrin-  oder Acridin-Farbstoffe und/oder Trihalogenmethylverbindungen, die  durch Bestrahlung gespalten werden können, umfassen. Ähnliche Zusammensetzungen  werden beispielsweise in EP 445 624 beschrieben. 



   Weitere übliche Additive (E) sind, in Abhängigkeit von der beabsichtigten  Verwendung, optische Aufheller, Benetzungsmittel oder Nivellierhilfen.                                                         



   Um dicke und pigmentierte Beschichtungen zu härten, ist es geeignet,  wie beispielsweise in US 5 013 768 beschrieben, Glasmikrokugeln oder  pulverisierte Glasfasern zuzusetzen. 



   Folglich sind wie vorstehend beschriebene Zusammensetzungen Gegenstand  der Erfindung, umfassend weiterhin Additive (E), die aus der Gruppe,  bestehend aus Epoxyverbindungen, thermischen Polymerisationsinhibitoren,  anorganischen Füllstoffen, Färbemitteln, Epoxy   härtungsmitteln,  Aminen, Ketten-übertragungsmitteln, thermischen Radikalstartern,  photoreduzierbaren Farbstoffen, optischen Aufhellern, Verdickungsmitteln,  Antischaummitteln und Nivelliermitteln, insbesondere anorganischen  Füllstoffen, ausgewählt sind. 



   Die Auswahl von Additiv(en) (E) erfolgt in Abhängigkeit vom Anwendungsgebiet  und von den auf diesem Gebiet erforderlichen Eigenschaften. Die vorstehend  beschriebenen Additive sind im Stand der Technik üblich und werden  folglich in Mengen angewendet, die bei der entsprechenden Anwendung  verwendbar sind. 



   Gegenstand der Erfindung ist auch eine Zusammensetzung, umfassend  mindestens einen Photostarter (B1). 



   In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, Gemische von zwei  oder mehreren der neuen Photostarter zu verwenden. Es ist natürlich  ebenfalls möglich, Gemische mit bekannten Photostartern (B1), beispielsweise  Gemische mit Campherchinon, Benzophenon, Benzophenonderivaten, Acetophenon,  Acetophenonderivaten, beispielsweise  alpha -Hydroxycycloalkylphenylketonen  oder Dialkoxyacetophenonen,  alpha -Hydroxyacetophenonen, z.B. 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanon  oder  alpha -Aminoacetophenonen, beispielsweise (4-Methylthiobenzoyl)-1-methyl-1-morpholinoethan,  (4-Morpholinobenzoyl)-1-benzyl-1-dimethylaminopropan, 4-Aroyl-1,3-dioxolanen,  Benzoinalkylethern und Benzilketalen, z.B. Dimethylbenzilketal, Phenylglyoxalsäureester  und Derivate davon, dimere Phenylglyoxalsäureester, Diacetyl, Perester,  z.B.

   Benzophenontetracarbonsäureperester, wie beispielsweise in EP  126 541 beschrieben, Monoacylphosphinoxiden, z.B. (2,4,6-Trimethylbenzoyl)diphenylphosphinoxid,  Bisacylphosphinoxiden, Bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-(2,4,4-trimethylpentyl)-phosphinoxid,  Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphinoxid, Bis(2,4,6- trimethylbenzoyl)-2,4-dipentoxyphenylphosphinoxid,  Trisacylphosphinoxiden, Halogenmethyltriazinen, z.B.

   2-[2-(4-Methoxyphenyl)vinyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-(4-Methoxyphenyl)-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin, 2-(3,4-Dimethoxyphenyl)-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-Methyl-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin, 2-(4-N,N-Di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl)-4,6-bis(trichlormethyl)-[1.3.5]t riazin, 2- (4-Methoxynaphthyl)-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-(1,3-Benzodioxol-5-yl)-4,6-bis-trichlormethyl- [1.3.5]triazin,  2-[2-[4-(Pentyloxy)phenyl]-   ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-(3-Methyl-2-furanyl)-ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-(5-Methyl-2-furanyl)-ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl- [1.3.5]triazin,  2-[2-(2,4-Dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-(2-Methoxy- phenyl)-ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-[4-lsopropyloxyphenyl]ethenyl]-4,

  6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-(3-Chlor-4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2- Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[2-Chlor-4-N,N- di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[3-Brom-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  2-[3-Chlor-4-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl]-4,6-bis-trichlormethyl-[1.3.5]triazin,  oder andere Halogenmethyltriazine, wie beispielsweise in G. Buhr,  R. Dammel und C. Lindley Polym. Mater. Sci. Eng. 61, 269 (1989) und  EP 0 262 788 beschrieben; Halogenmethyloxazol-Photostartern, wie  in US 4 371 606 und US 437 1607 beschrieben; 1,2-Disulfone, wie in  E.A. Bartmann, Synthesis 5, 490 (1993) beschrieben; Hexaarylbisimidazol  und Hexaarylbisimidazol/Costartersystemen, z.B.

   Orthochlorhexaphenylbisimidazol,  kombiniert mit 2-Mercaptobenzthiazol, Ferroceniumverbindungen oder  Titanocenen, beispielsweise Bis(cyclopentadienyl)-bis (2,6-difluor-3-pyrrylphenyl)titan  einzusetzen. 



   Wenn die neuen Photostartersysteme in Hybridsystemen angewendet werden,  erfolgt Anwendung, zusätzlich zu den neuen freien radikalischen Härtern,  von kationischen Photostartern von Peroxidverbindungen, wie Benzoylperoxid  (wobei andere geeignete Peroxide in US-Patent 4 950 581 Spalte 19,  Zeilen 17-25 beschrieben sind), von aromatischen Sulfonium-, Phosphonium-  oder Jodoniumsalzen, wie beispielsweise in US-Patent 4 950 581, Spalte  18, Zeile 60 bis Spalte 19, Zeile 10 beschrieben, oder Cyclopentadienylaren-Eisen(ll)komplexsalzen,  beispielsweise ( eta <6>-lsopropylbenzol)( eta <5>-cyclopentadienyl)-Eisen(II)hexafluorophosphat,  sowie von Oximsulfonsäureestern, wie beispielsweise in EP 780 729  beschrieben.

   Ebenfalls werden beispielsweise Pyridinium- und (Iso)chinoliniumsalze,  wie beispielsweise in EP 497 531 und EP 441 232 beschrieben, in Kombination  mit den neuen Photostartern, verwendet. 



     Die Photostarter (B) können entweder einzeln oder in Gemischen  mit bekannten anderen Photostartern (B1) und Sensibilisatoren (D)  auch in Form einer Dispersion oder Emulsion in Wasser oder wässerigen  Lösungen angewendet werden. 



   Der Photostarter (B) wird gewöhnlich in einer Menge von 0,015 bis  60 Gewichtsteilen, vorzugsweise 0,03 bis 30 Gewichtsteilen, bezogen  auf 100 Gewichtsteile der Summe der Komponenten (A) und (C) zugesetzt.                                                         



   Die Menge bezieht sich auf die Summe aller zugegebener Photostarter,  falls Gemische von Startern angewendet werden. Folglich bezieht sich  die Menge entweder auf den Photostarter (B) oder die Photostarter  (B) + (B1). 



   Die Erfindung betrifft auch Zusammensetzungen, die 100 Gewichtsteile  von Komponente (A), 0,015 bis 120 Gewichtsteile von Komponente (B),  5 bis 500 Gewichtsteile, beispielsweise 5 bis 300 Gewichtsteile,  von Komponente (C) und 0,015 bis 120 Gewichtsteile von Komponente  (D) umfassen. 



   Die neuen strahlungsempfindlichen Zusammensetzungen finden Anwendung  als Negativresists mit einer sehr hohen Empfindlichkeit gegenüber  Licht und können in einem wässerigen alkalischen Medium ohne Quellen  entwickelt werden. Sie sind als Photoresists in der Elektronik (Resist  für stromlose Plattierung, Elektroplattierungsresist, Ätzresist,  Lötresist, Licht-bebilderbare Isolierungs- und dielektrische Schicht)  verwendbar. 



   Die Zusammensetzung wird gleichförmig auf ein Substrat mit Hilfe  bekannter Beschichtungstechniken, beispielsweise durch Schleuderbeschichten,  Tauchbeschichten, Messerbeschichten, Vorhangbeschichten, Siebbeschichten,  Streichen, Sprühen, insbesondere durch elektrostatisches Sprühen  und Umkehrwalzenbeschichten und auch mit Hilfe von elektrophoretischer  Abscheidung aufgetragen. Es ist auch möglich, die lichtempfindliche  Schicht auf einen temporären biegsamen Träger aufzutragen und anschliessend  das fertige Substrat, beispielsweise eine mit Kupfer kaschierte Leiterplatte,  durch Übertragen der Schicht über Laminierung zu beschichten. 



     Die Beispiele für geeignete organische Lösungsmittel, die die  Viskosität der Zusammensetzung, die für die verwendete Beschichtungstechnik  geeignet ist, einstellen, sind Ketone, wie Methylethylketon, Cyclohexanon,  Cyclopentanon, 2-Pentanon, 2-Heptanon, usw.; aromatische Kohlenwasserstoffe,  wie Toluol, Xylol, Tetramethylbenzol, usw.; Glycolether, wie Methylcellosolv,  Ethylcellosolv, Butylcellosolv, Benzylcellosolv, Phenylcellosolv,  Methylcarbitol, Butylcarbitol, Propylenglycolmonomethylether, Dipropylenglycolmonomethylether,  Dipropylenglycolmonobutylether, Triethylenglycolmonoethylether, usw;

    Ester, wie Essigsäureethylester, Essigsäurebutylester, Milchsäureethylester,  Methyl-3-methoxypropionat, Ethyl-3- ethoxypropionat und veresterte  Produkte der vorstehenden Glycolether, wie Cellosolvacetat, Butylcellosolvacetat,  Propylenglycolmonomethyletheracetat, Carbitolacetat, Butylcarbitolacetat,  Alkohole, wie Ethanol, Propanol, n-Butanol, n-Hexanol, n-Heptanol,  n-Octanol, Ethylenglycol, Propylenglycol, usw.; aliphatische Kohlenwasserstoffe,  wie Octan, Decan, usw.; ein Lösungsmittel vom Erdölprodukttyp, wie  Petrolether, Naphthabenzin, hydriertes Naphthabenzin, Solventnaphtha  usw. und andere, wie beispielsweise N-Methylpyrrolidinon und  gamma  -Butyrolacton. Das organische Lösungsmittel wird zum Verdünnen des  Harzes verwendet, so dass es leichter aufgetragen werden kann. 



   Die aufgetragene Menge (Beschichtungsdicke) und die Art des Substrats  (Schichtträger) sind von dem gewünschten Anwendungsgebiet abhängig.  Der Bereich der Schichtdicke umfasst im Allgemeinen Werte von etwa  0,1 um bis mehr als 100  mu m, beispielsweise 0,1  mu m bis 1 cm,  vorzugsweise 0,5 mu m bis 1000 mu m. 



   Nach dem Beschichten der Substrate wird das Lösungsmittel im Allgemeinen  durch Trocknen unter Hinterlassen eines Films des Photoresists auf  dem Substrat entfernt. 



   Der Ausdruck "bildmässige" Belichtung schliesst sowohl Belichtung  durch eine Photomaske, umfassend ein vorbestimmtes Muster, beispielsweise  ein Dia, eine Chrommaske, eine Schablonenmaske oder eine Strichplatte  sowie Belichtung mit Hilfe eines Laser- oder Lichtstrahls, der beispielsweise  unter Computersteuerung über die Oberfläche des beschichteten Substrats  bewegt wird und auf diese Weise ein Bild erzeugt, und Bestrahlung  mit Computer-gesteuerten Elektronenstrahlen, ein. Es ist auch möglich,  Masken anzuwenden, die aus    Flüssigkristallen hergestellt wurden,  die Pixel für Pixel zur Erzeugung digitaler Bilder angesteuert werden,  wie beispielsweise von A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C. Andre in Journal  of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry 1997, 107, Seiten  275-281 und von K.-P. Nicolay in Offset Printing 1997, 6, Seiten  34-37, beschrieben. 



   Wie bereits erwähnt, können die Zusammensetzungen durch wässerige  Alkali entwickelt werden. Besonders geeignete wässerige alkalische  Entwicklerlösungen sind wässerige Lösungen von Tetraalkylammoniumhydroxiden  oder von Alkalimetallsilikaten, -phosphaten, -hydroxiden und -carbonaten.  Geringe Mengen an Netzmitteln und/oder organischen Lösungsmitteln  können, falls erwünscht, auch zu diesen Lösungen gegeben werden.  Beispiele für typische organische Lösungsmittel, die zu den Entwicklerflüssigkeiten  in kleinen Mengen gegeben werden können, sind Cyclohexanon, 2-Ethoxyethanol,  Toluol, Aceton, N-Methylpyrrolidinon und Gemische solcher Lösungsmittel.                                                       



   Die Lichtempfindlichkeit der neuen Zusammensetzungen kann im Allgemeinen  auf etwa 150 nm bis 600 nm, beispielsweise 190-600 nm, (UV-vis-Bereich)  ausgedehnt werden. Geeignete Strahlung liegt beispielsweise im Sonnenlicht  oder Licht von künstlichen Lichtquellen vor. Folglich werden eine  grosse Anzahl von sehr verschiedenen Arten von Lichtquellen angewendet.  Sowohl Punktquellen als auch Gruppierungen ("Lampenteppiche") sind  geeignet.

   Beispiele sind Kohlebogenlampen, Xenonbogenlampen, Superhoch-,  Hoch-, Mittel- und Niederdruck-Quecksilberlampen, die gegebenenfalls  mit Metallhalogenid dotiert sind (Metall-Halogen-Lampen), Mikrowellen-stimulierte  Metalldampflampen, Exzimerlampen, superaktinische Fluoreszenzröhren,  Fluoreszenzlampen, Argon-Glühlampen, elektronische Blitzlichter,  photographische Flutlichtlampen, Licht-emittierende Dioden (LED),  Elektronenstrahlen und Röntgenstrahlen. Der Abstand zwischen der  Lampe und dem Substrat gemäss der Erfindung, das belichtet werden  soll, kann in Abhängigkeit von der beabsichtigten Anwendung und der  Art und der Ausgangsleistung der Lampe schwanken und kann beispielsweise  2 cm bis 150 cm sein.

   Laserlichtquellen, beispielsweise Exzimerlaser,  wie KrF-Exzimerlaser zur Belichtung bei 248 nm, ArF-Exzimerlaser  zur Belichtung bei 193 nm und F 2 -Exzimerlaser zur Belichtung bei  157 nm, sind auch geeignet. Laser im sichtbaren Bereich können auch  angewendet werden. 



     Die Erfindung stellt deshalb auch ein Verfahren für die Photopolymerisation  von Verbindungen bereit, die mindestens eine ethylenisch ungesättigte  Doppelbindung enthalten, das Zugeben von mindestens einem Photostarter,  wie vorstehend beschrieben, der Formel I oder II zu den vorstehend  erwähnten Verbindungen und Bestrahlen der erhaltenen Zusammensetzung  mit elektromagnetischer Strahlung, insbesondere Licht von der Wellenlänge  150 bis 600 nm, nämlich ein Verfahren für die Photopolymerisation  von Verbindungen, die ethylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten,  das Bestrahlen einer vorstehend beschriebenen Zusammensetzung mit  elektromagnetischer Strahlung im Bereich von 150 bis 600 nm umfasst.                                                           



   Die Erfindung betrifft auch ein beschichtetes Substrat, das auf mindestens  eine Oberfläche mit einer wie vorstehend beschriebenen Zusammensetzung  beschichtet ist, sowie ein Verfahren für die photographische Erzeugung  von Reliefbildern, worin das beschichtete Substrat bildmässiger Belichtung  mit elektromagnetischer Strahlung im Bereich von 150 bis 600 nm unterzogen  wird und dann die unbelichteten Teile mit einem Lösungsmittel entfernt  werden. 



   Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen haben eine hohe Empfindlichkeit  und eine Auflösung auch bei niederer Konzentration des Photostarters,  mit oder ohne einen Sensibilisator, und sind insbesondere in wässerigen  entwickelbaren Photoresist-Anwendungen geeignet. Sie haben gute thermische  Stabilität und geringe Flüchtigkeit. 



   Die neuen Strahlungs-empfindlichen Zusammensetzungen finden als Negativresists  mit einer sehr hohen Lichtempfindlichkeit Anwendung und können ohne  zu quellen in einem wässerigen alkalischen Medium entwickelt werden.  Sie sind als Photoresists für elektronische Teile, wie Elektroplattierungsresist,  Ätzresist, sowohl flüssige als auch trockene Filme, Lötresist, als  Resists zur Herstellung von Farbfiltern für eine Vielzahl von Anzeigeanwendungen  oder zum Erzeugen von Aufbauten bei dem Herstellungsverfahren von  Plasma- und Elektrolumineszenz-Displays, zur Herstellung von Druckplatten,  wie Offset-Druckplatten oder Siebdruckplatten, für die Herstellung  von Druckformen für Reliefdruck, planographischen    Druck, Photogravurdruck  oder von Siebdruckformen, zur Herstellung von Reliefkopien, beispielsweise  zur Herstellung von Texten in Blindenschrift,

   zur Herstellung von  Briefmarken, zur Verwendung beim Konkturätzen oder als ein Mikroresist  bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen geeignet. Die  Zusammensetzungen können weiterhin als durch Licht mit einem Muster  versehbare dielektrische Schicht oder Beschichtung, Einkapselungsmaterial  und Isolierungsbeschichtung bei der Herstellung von Computerchips,  Leiterplatten und andere elektrische oder elektronische Komponenten  angewendet werden. Die möglichen Schichtträger und die Verarbeitungsbedingungen  für die Beschichtungssubstrate sind beliebig. 



   Weil die erfindungsgemässen photohärtbaren Zusammensetzungen eine  gute thermische Stabilität aufweisen und gegen eine Inhibierung durch  Sauerstoff ausreichend beständig sind, sind sie besonders für die  Herstellung von Farbfiltern oder Farbmosaiksystemen, wie beispielsweise  in EP 320 264 beschrieben, geeignet. Gewöhnlich werden Farbfilter  zur Herstellung von LCD-Anzeigen, Projektionssystemen und Bildsensoren  verwendet. Die Farbfilter können beispielsweise für ein Display und  einen Bildscanner in Fernsehempfängern, Videomonitoren oder Computern,  in der Flachbildschirmtechnologie usw. angewendet werden. 



   Folglich ist ein Gegenstand der Erfindung ein Farbfilterresist, der  eine wie vorstehend und nachstehend im Einzelnen beschriebene Zusammensetzung  umfasst. 



   Die Farbfilter werden gewöhnlich durch Erzeugen von roten, grünen  und blauen Pixeln und einer schwarzen Matrix auf einem Glassubstrat  hergestellt. In diesen Verfahren können erfindungsgemässe photohärtbare  Zusammensetzungen angewendet werden. Ein besonders bevorzugtes Verwendungsverfahren  umfasst die Beschichtung des Substrats mit der erfindungsgemässen  Zusammensetzung, Trocknen der Beschichtung mit einer kurzen Wärmebehandlung,  musterweises Belichten der Beschichtung mit aktinischer Strahlung  und anschliessender Entwicklung des Musters in einer wässerigen alkalischen  Entwicklerlösung und gegebenenfalls eine Wärmebehandlung.

   Somit kann  mit diesem Verfahren durch anschliessendes Auftragen einer rot, grün  und blau pigmentierten Beschichtung in beliebiger gewünschter     Reihenfolge auf das Obere von jedem eine Farbfilterschicht mit rot-,  grün- und blaufarbigen Pixeln erzeugt werden. 



   Die Entwicklung erfolgt durch Auswaschen von Flächen, die nicht polymerisiert  wurden, mit einer geeigneten alkalisch entwickelnden Lösung. Dieses  Verfahren wird wiederholt, um das Bild mit mehreren Farben zu erzeugen.                                                        



   In der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung der vorliegenden Erfindung  können mit einem Verfahren, bei dem mindestens eines oder mehrere  Bildelemente auf einem transparenten Substrat gebildet und anschliessend  von einer Seite des transparenten Substrats, auf dem die vorstehenden  Bildelemente nicht gebildet wurden, belichtet werden, die vorstehenden  Bildelemente als Licht abschirmende Masken genutzt werden. Wenn in  diesem Fall beispielsweise eine Totalbelichtung vorgenommen wird,  wird eine Positionseinstellung einer Maske unnötig und deshalb besteht  keine Sorge um eine Positionsverschiebung und es ist möglich, alles  auf dem Teil, auf dem die vorstehenden Bildelemente nicht gebildet  wurden, zu härten.

   Weiterhin ist es in diesem Fall ebenfalls möglich,  einen Teil des Bereichs, auf dem die vorstehend genannten Bildelemente  unter teilweiser Verwendung einer Lichtschutzmaske nicht gebildet  wurden, zu entwickeln und zu entfernen. 



   Da in jedem Fall kein Spalt zwischen den Bildelementen, die vorher  gebildet wurden, und jenen, die sich später bildeten, erzeugt wurde,  ist die vorliegende Erfindung beispielsweise zur Bildung von Material  für ein Farbfilter geeignet. Das heisst, die färbenden Stoffe, Farbstoffe  und Pigmente von Rot-, Grün- und Blaufarben werden zu der erfindungsgemässen  lichtempfindlichen Harzzusammensetzung gegeben und das Verfahren  zur Erzeugung eines Bildes wird wiederholt, unter Gewinnung von Bildelementen  in den Farben Rot, Grün und Blau. Dann wird die lichtempfindliche  Harzzusammensetzung, auf die beispielsweise die schwarz färbenden  Materialien, Farbstoffe und Pigmente aufgetragen werden, auf die  Gesamtfläche gegeben.

   Eine Totalbelichtung (oder eine Teilbelichtung  über eine Lichtschutzmaske) kann darauf vorgenommen werden, um die  Bildelemente einer schwarzen Farbe über die gesamten Räume (oder  alles, jedoch ein Teilbereich der Lichtschutzmaske) zwischen den  Bildelementen von Rot-, Grün- und Blaufarben zu bilden. 



     Zusätzlich zu einem Verfahren, bei dem die lichtempfindliche Harzzusammensetzung  auf ein Substrat aufgetragen und getrocknet wird, kann die erfindungsgemässe  lichtempfindliche Harzzusammensetzung ebenso als Übertragungsmaterialschicht  dienen. Das heisst, die erfindungsgemässe Harzzusammensetzung wird  schichtweise direkt auf einem temporären Träger, vorzugsweise auf  einem Polyethylenterephthalatfilm oder auf einem Polyethylenterephthalatfilm,  auf dem eine Sauerstoff-abschirmende Schicht und eine Trennschicht  oder die Trennschicht und die Sauerstoff-abschirmende Schicht vorliegen,  bereitgestellt. Gewöhnlich wird darauf eine entfernbare Deckschicht,  die aus einem synthetischen Harz hergestellt wird, zum Schutz bei  der Handhabung laminiert.

   Weiterhin kann ebenso eine Schichtstruktur,  in der eine alkalisch lösliche thermoplastische Harzschicht und eine  Zwischenschicht auf einem temporären Träger bereitgestellt werden,  aufgetragen werden, und weiterhin wird eine lichtempfindliche Harzzusammensetzung  darauf bereitgestellt (JP5-173 320-A). 



   Die vorstehend genannte Deckschicht wird bei Verwendung entfernt  und die lichtempfindliche Harzzusammensetzungsschicht wird auf einen  permanenten Träger laminiert. Anschliessend erfolgt Abziehen zwischen  jener Schicht und einem temporären Träger, wenn eine Sauerstoffschutzschicht  und eine Trennschicht bereitgestellt werden, zwischen der Trennschicht  und der Sauerstoffschutzschicht, wenn die Trennschicht und die Sauerstoffschutzschicht  bereitgestellt werden und zwischen dem temporären Träger und der  lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht, wenn entweder die  Trennschicht oder die Sauerstoffschutzschicht nicht bereitgestellt  werden und der temporäre Träger entfernt wird. 



   Ein Metallträger, Glas, Keramik und ein Kunstharzfilm können als  Träger für einen Farbfilter verwendet werden. Glas und ein Kunstharzfilm,  der transparent ist und ausgezeichnete Masshaltigkeit aufweist, ist  besonders bevorzugt. 



   Die Dicke der lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht ist  gewöhnlich 0,1 bis 50 Mikrometer und insbesondere 0,5 bis 5 Mikrometer.                                                        



     Eine verdünnte wässerige Lösung einer alkalischen Substanz wird  als eine Entwicklerlösung für die erfindungsgemässe lichtempfindliche  Harzzusammensetzung verwendet und weiterhin ist eine durch Zugeben  einer kleinen Menge eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittels  dazu hergestellten Lösung ebenfalls eingeschlossen. 



   Beispiele für geeignete alkalische Stoffe schliessen Alkalimetallhydroxide  (beispielsweise Natriumhydroxid und Kaliumhydroxid), Alkalimetallcarbonate  (beispielsweise Natriumcarbonat und Kaliumcarbonat), Alkalimetallbicarbonate  (beispielsweise Natriumbicarbonat und Kaliumbicarbonat), Alkalimetallsilicate  (beispielsweise Natriumsilicat und Kaliumsilicat), Alkalimetallmetasilicate  (beispielsweise Natriummetasilicat und Kaliummetasilicat), Triethanolamin,  Diethanolamin, Monoethanolamin, Morpholin, Tetraalkylammoniumhydroxide  (beispielsweise Tetramethylammoniumhydroxid) oder Trinatriumphosphat,  ein. Die Konzentration der alkalischen Substanz ist 0,01 bis 30 Gewichts-%  und der pH-Wert ist vorzugsweise 8 bis 14. 



   Geeignete organische Lösungsmittel, die mit Wasser mischbar sind,  schliessen Methanol, Ethanol, 2-Propanol, 1-Propanol, Butanol, Diacetonalkohol,  Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmono-ethylether, Ethylenglycolmono-n-butylether,  Benzylalkohol, Aceton, Methylethylketon, Cyclohexanon,  epsilon -Caprolacton,  gamma -Butylolacton, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Hexamethylphosphoramid,  Milchsäure-ethylester, Milchsäuremethylester,  epsilon -Caprolactam  und N-Methylpyrrolidinon ein. Die Konzentration des organischen Lösungsmittels,  das mit Wasser mischbar ist, ist 0,1 bis 30 Gewichts-%. 



   Weiterhin können Tenside des Standes der Technik, die dem Fachmann  bekannt sind, zugesetzt werden. Die Konzentration des Tensids ist  vorzugsweise 0,001 bis 10 Gewichts-%. 



   Die entwickelnde Lösung kann entweder in Form einer Badlösung oder  einer Sprühlösung verwendet werden. Um den nicht gehärteten Anteil  der lichtempfindlichen Harzzusammensetzungsschicht zu entfernen,  können die Verfahren, wie Reiben mit einer Rotationsbürste und Reiben  mit einem feuchten Schwamm, kombiniert werden. Gewöhnlich liegt die  Temperatur der Entwicklerlösung vorzugsweise bei und um Raumtemperatur  bis 40 DEG C. Die Ent   wicklungszeit ist gemäss der speziellen Art  der lichtempfindlichen Harzzusammensetzung, der Alkalinität und der  Temperatur der Entwicklerlösung und der Art und Konzentration des  organischen Lösungsmittels, falls zugegeben, veränderbar. Gewöhnlich  ist sie 10 Sekunden bis 2 Minuten. Es ist möglich, einen Spülschritt  nach dem Entwicklungsvorgang einzufügen. 



   Eine letzte Wärmebehandlung wird vorzugsweise nach der Entwicklung  ausgeführt. Folglich wird ein Träger mit einer Schicht, die durch  Belichten (nachstehend als eine photogehärtete Schicht bezeichnet)  photopolymerisiert wird, in einem Elektroofen und einem Trockner  erhitzt oder die lichtgehärtete Schicht wird mit einer Infrarotlampe  bestrahlt oder auf einer Heizplatte erhitzt. Die Heiztemperatur und  -zeit hängen von der verwendeten Zusammensetzung und der Dicke der  gebildeten Schicht ab. Im Allgemeinen wird vorzugsweise Erhitzen  bei etwa 120 DEG C bis etwa 250 DEG C für etwa 5 bis etwa 60 Minuten  angewendet. 



   Das Pigment, das in der erfindungsgemässen Zusammensetzung enthalten  sein kann, einschliesslich einer pigmentierten Farbfilterresistzusammensetzung,  ist vorzugsweise ein verarbeitetes Pigment, beispielsweise ein pulverförmiges  oder pastenartiges Produkt, das durch feines Dispergieren eines Pigments  in mindestens einem Harz, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus  Acrylharz, Vinylchlorid-Vinylacetat-Copolymer, Maleinsäureharz und  Ethylcelluloseharz, hergestellt wird. 



   Das rote Pigment umfasst beispielsweise ein Pigment vom Anthrachinontyp  allein, ein Pigment vom Perylentyp allein oder ein Gemisch, bestehend  aus mindestens einem von ihnen und einem gelben Pigment vom Disazotyp  oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbesondere C.I. Pigment  Red 177 allein, C.I. Pigment Red 155 allein oder ein Gemisch, bestehend  aus mindestens einem Mitglied von C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment  Red 155 und C.I. Pigment Yellow 83 oder C.I. Pigment Yellow 139 ("C.I."  bezieht sich auf Color Index, der dem Fachmann bekannt und der Öffentlichkeit  verfügbar ist). 



   Weitere geeignete Beispiele für das Pigment sind C.l. Pigment Red  105, 144, 149, 176, 177, 185, 202, 209, 214, 222, 242, 254, 255,  264, 272 und C.l. Pigment Yellow 24, 31, 53, 83, 93, 95, 109, 110,  128, 129, 138, 139, 166 und C.l. Pigment Orange 43. 



     Das grüne Pigment umfasst beispielsweise ein Pigment vom halogenierten  Phthalocyanintyp allein oder dessen Gemisch mit einem gelben Pigment  vom Disazotyp oder einem gelben Pigment vom Isoindolintyp, insbesondere  C.I. Pigment Green 7 allein, C.I. Pigment Green 36 allein, C.I. Pigment  Green 37 allein oder ein Gemisch, bestehend aus mindestens einem  Mitglied von C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment  Green 37, C.l. Pigment Green 136 und C.I. Pigment Yellow 83 oder  C.I. Pigment Yellow 139. Andere geeignete grüne Pigmente sind C.l.  Pigment Green 15 und 25. 



   Beispiele für geeignete blaue Pigmente sind Pigmente vom Phthalocyanintyp,  die entweder einzeln oder in Kombination mit einem violetten Pigment  vom Dioxazintyp verwendet werden, beispielsweise eine Kombination  von C.I. Pigment Blue 15:3 und C.I. Pigment Violet 23. Weitere Beispiele  für blaue Pigmente sind jene von C.l. Blue 15:3, 15:4, 15:6, 16 und  60, d.h. Phthalocyanine C.l. Pigment Blue 15:3 oder Phthalocyanine  C.l. Pigment Blue 15:6. Andere geeignete Pigmente sind jene, wie  C.l. Pigment Blue 22, 28, C.l. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32,  37,177 und C.l. Orange 73. 



   Das Pigment der photopolymeren schwarzen Matrix-Zusammensetzung umfasst  vorzugsweise mindestens ein Mitglied, ausgewählt aus der Gruppe,  bestehend aus Russ, Titanschwarz und Eisenoxid. Jedoch kann auch  ein Gemisch von anderen Pigmenten, die insgesamt ein schwarzes Aussehen  ergeben, verwendet werden. Beispielsweise können auch C.l. Pigment  Black 1 und 7 einzeln oder in Kombination verwendet werden. 



   Für eine beliebige Farbe können Kombinationen von mehr als zwei Pigmenten  ebenfalls verwendet werden. Besonders geeignet in Farbfilteranwendungen  sind pulverförmig verarbeitete Pigmente, die durch feines Dispergieren  der vorstehend erwähnten Pigmente in einem Harz hergestellt werden.                                                            



   Die Konzentration des Pigments in der gesamten Feststoffkomponente  (Pigment von verschiedenen Farben und Harz) liegt beispielsweise  im Bereich von 5% bis 80 Gewichts-%, z.B. 10% bis 50 Gewichts%, insbesondere  im Bereich von 20% bis 45 Gewichts-%. 



     Die Pigmente in der Farbfilterresistzusammensetzung haben vorzugsweise  einen mittleren Teilchendurchmesser, der kleiner als die Wellenlänge  von sichtbarem Licht (400 nm bis 700 nm) ist. Besonders bevorzugt  ist ein mittlerer Pigmentdurchmesser von <100 nm. 



  * Falls erforderlich, können die Pigmente in der lichtempfindlichen  Zusammensetzung durch Vorerhitzen der Pigmente mit einem Dispersionsmittel,  um die Dispersionsstabilität des Pigments in der flüssigen Formulierung  zu verbessern, stabilisiert werden. 



   Beispiele für Farbfilterresists, die Zusammensetzung solcher Resists  und die Verarbeitungsbedingungen werden von T. Kudo et al., Jpn.  J. Appl. Phys. Band 37 (1998) 3594; T. Kudo et al., J. Photopolym.  Sei. Technol. Band 9 (1996) 109; K. Kobayashi, Solid State Technol.  Nov. 1992, Seiten S15-S18; US 5 368 976; US 5 800 952; US 5 882 843;  US 5 879 855; US 5 866 298; US 5 863 678; JP 06-230 212-A; EP 320  264; JP 09-269 410-A; JP 10-221 843-A; JP 01-090 516-A; JP 10-171  119-A, US 5 821 016, US 5 847 015, US 5 882 843, US 5 719 008, EP  881 541 oder EP 902 327 angegeben. 



   Die erfindungsgemässen Photostarter können als Farbfilterresists,  beispielsweise wie jene, die vorstehend als beispielhaft angegeben  wurden, verwendet werden oder können teilweise oder vollständig die  bekannten Photostarter in solchen Resists ersetzen. Es ist für den  Fachmann selbstverständlich, dass die Verwendung der neuen erfindungsgemässen  Photostarter nicht auf die speziellen Bindemittelharze, Vernetzer  und Formulierungen der Farbfilterresistbeispiele, die nachstehend  angegeben werden, begrenzt ist, sondern dass sie in Verbindung mit  einer beliebigen radikalisch polymerisierbaren Komponente, in Kombination  mit einem Farbstoff oder Farbpigment oder latenten Pigment, unter  Bildung einer lichtempfindlichen Farbfilterdruckfarbe oder eines  Farbfilterresists verwendet werden können. 



   Folglich ist ein Gegenstand der Erfindung auch ein Farbfilter, hergestellt  durch Bereitstellen von roten, grünen und blauen (RGB) Farbelementen  und gegebenenfalls einer schwarzen Matrix, wobei alle ein lichtempfindliches  Harz und ein Pigment auf einem transparenten Substrat umfassen, und  Bereitstellen einer transparenten Elektrode, entweder auf der Oberfläche  des Substrats oder auf der Oberfläche der Farbfilterschicht, wobei  das lichtempfindliche    Harz ein polyfunktionelles Acrylatmonomer,  ein organisches Polymerbindemittel und einen Photopolymerisationsstarter  der Formel I oder II, wie vorstehend beschrieben, umfasst. Die Monomer-  und Bindemittelkomponenten sowie geeignete Pigmente sind wie vorstehend  beschrieben.

   Bei der Herstellung der Farbfilter kann die transparente  Elektrodenschicht entweder auf die Oberfläche des transparenten Substrats  aufgetragen werden oder kann auf der Oberfläche der roten, grünen  und blauen Bildelemente und der schwarzen Matrix bereitgestellt werden.  Das transparente Substrat ist beispielsweise ein Glassubstrat, das  auf seiner Oberfläche zusätzlich eine Elektrodenschicht aufweisen  kann. 



   Es ist bevorzugt, zwischen den Farbflächen von verschiedener Farbe  eine schwarze Matrix aufzutragen, um den Kontrast eines Farbfilters  zu verbessern. 



   Anstelle des Erzeugens einer schwarzen Matrix unter Verwendung einer  lichtempfindlichen Zusammensetzung und Bemustern der schwarzen lichtempfindlichen  Zusammensetzung photolithographisch durch musterweise Belichtung  (das heisst durch eine geeignete Maske), um das schwarze Muster,  das die rot, grün und blau gefärbten Flächen auf dem transparenten  Substrat separiert, zu bilden, ist es alternativ möglich, eine anorganische  schwarze Matrix zu verwenden. Eine solche anorganische schwarze Matrix  kann aus abgeschiedenem (d.h. gesputtertem) Metall-(d.h.

   Chrom)-Film  auf dem transparenten Substrat durch ein geeignetes Bebilderungsverfahren,  beispielsweise durch Anwenden von photolithographischem Bemustern,  mit Hilfe eines Ätzresists, Ätzen der anorganischen Schicht auf den  durch den Ätzresist nicht geschützten Flächen und dann Entfernen  des verbleibenden Ätzresists, gebildet werden. 



   Es gibt andere bekannte Verfahren, wie und bei welchem Schritt in  dem Farbfilterherstellungsverfahren die schwarze Matrix aufgetragen  werden kann. Sie kann entweder direkt auf das transparente Substrat  vor der Bildung des roten, grünen und blauen (RGB) Farbfilters, wie  bereits vorstehend erwähnt, aufgetragen werden, oder kann nachdem  der RGB-Farbfilter auf dem Substrat gebildet ist, aufgetragen werden.                                                          



   In einer anderen Ausführungsform eines Farbfilters für eine Flüssigkristallanzeige  gemäss US 5 626 796 kann die schwarze Matrix auch auf das Substrat,  das dem RGB-Farbfilterelement   -tragenden Substrat gegenüberliegt,  aufgetragen werden, das von dem vorangehenden durch eine Flüssigkristallschicht  getrennt ist. 



   Wenn die transparente Elektrodenschicht nach dem Auftragen der RGB-Farbfilterelemente  und - gegebenenfalls - der schwarzen Matrix abgeschieden ist, kann  ein weiterer Überzugsfilm als Schutzschicht auf die Farbfilterschicht  vor der Abscheidung der Elektrodenschicht, beispielsweise wie in  US 5 650 263 beschrieben, aufgetragen werden. 



   Um eine Überzugsschicht eines Farbfilters zu bilden, werden lichtempfindliches  Harz oder Wärme-härtende Harzzusammensetzungen angewendet. Die erfindungsgemässe  lichtempfindliche Zusammensetzung kann auch verwendet werden, um  solche Überzugsschichten zu bilden, weil ein gehärteter Film der  Zusammensetzung in der Ebenheit, Härte, chemischen Beständigkeit  und Wärmebeständigkeit, Transparenz, insbesondere im sichtbaren Bereich,  Anhaftung an ein Substrat, ausgezeichnet ist und zur Bildung eines  transparenten leitfähigen Films, beispielsweise eines ITO-Films darauf,  geeignet ist.

   Bei der Herstellung einer Schutzschicht gab es eine  Forderung, dass nicht notwendige Teile der Schutzschicht, beispielsweise  beim Anreissen von Linien zum Schneiden des Substrats und beim Bonden  von Pads von Festkörperbildsensoren, von dem Substrat, wie in JP57-42  009-A, JP1-130 103-A und JP1-134 306-A beschrieben, entfernt werden  sollten. In dieser Hinsicht ist es schwierig, selektiv eine Schutzschicht  mit guter Präzision unter Verwendung der vorstehend erwähnten Wärme-härtenden  Harze zu bilden. Die lichtempfindliche Zusammensetzung ermöglicht  jedoch eine leichte Entfernung der nicht notwendigen Teile der Schutzschicht  durch Photolithographie. 



   Es ist dem Fachmann klar, dass die erfindungsgemässen lichtempfindlichen  Zusammensetzungen zum Erzeugen roter, grüner und blauer Farbpixel  und einer schwarzen Matrix zur Herstellung eines Farbfilters, ungeachtet  der vorstehend beschriebenen Unterschiede beim Verarbeiten, ungeachtet  der zusätzlichen Schichten, die aufgetragen werden können und ungeachtet  der Unterschiede in dem Aufbau des Farbfilters verwendet werden können.  Die Verwendung der erfindungsgemässen Zusammensetzung zur Bildung  gefärbter Elemente    sollte nicht als durch die jeweiligen Konstruktionen  und Herstellungsverfahren solcher Farbfilter eingeschränkt angesehen  werden. 



   Als die in der Farbfilterresist-Zusammensetzung verwendete Verbindung  (A), die in einer alkalischen wässerigen Lösung löslich ist und in  Wasser unlöslich ist, können beispielsweise ein Homopolymer einer  polymerisierbaren Verbindung mit einer oder mehreren Säuregruppen  und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten Bindungen  in dem Molekül, oder ein Copolymer von zwei oder mehreren Arten davon  und ein Copolymer von einer oder mehreren polymerisierbaren Verbindungen  mit einer oder mehreren ungesättigten Bindungen, die mit diesen Verbindungen  copolymerisierbar sind und die keine Säuregruppe enthalten, verwendet  werden.

   Solche Verbindungen können durch Copolymerisieren von einer  oder mehreren Arten einer Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht  mit einer oder mehreren Säuregruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren  ungesättigten Bindungen im Molekül mit einer oder mehreren polymerisierbaren  Verbindungen mit einer oder mehreren ungesättigten Bindungen, die  mit diesen Verbindungen copolymerisierbar sind und keine Säuregruppe  enthalten, erhalten werden. Beispiele für Säuregruppen sind eine  Gruppe -COOH, eine Gruppe -SO 3 H, eine Gruppe -SO 2 NHCO-, eine  phenolische Hydroxygruppe, eine Gruppe -SO 2 NH- und eine Gruppe  -CO-NH-CO-. Unter diesen ist eine hochmolekulare Verbindung mit einer  Gruppe -COOH besonders bevorzugt. 



   Vorzugsweise umfasst das organische Polymerbindemittel in der Farbfilterresist-Zusammensetzung  ein alkalisch lösliches Copolymer, das als Additions-polymerisierbare  Monomereinheiten mindestens eine ungesättigte organische Säureverbindung,  wie Acrylsäure, Methacrylsäure und dergleichen, umfasst. Es ist bevorzugt,  als ein weiteres Comonomer für das Polymerbindemittel eine ungesättigte  organische Säureesterverbindung, wie Acrylsäuremethylester, (Meth)acrylsäureethylester,  (Meth)acrylsäurebenzylester, Styrol und dergleichen, zum Ausgleich  der Eigenschaften, wie Alkalilöslichkeit, Adhäsionsfestigkeit, chemische  Beständigkeit, usw., anzuwenden. 



   Das organische Polymerbindemittel kann entweder ein statistisches  Copolymer oder ein Block-Copolymer, beispielsweise wie in US 5 368  976 beschrieben, sein. 



     Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren  Säuregruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten  Bindungen im Molekül schliessen die nachstehenden Verbindungen ein:                                                            



   Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Maleinsäure,  Vinylbenzoesäure und Zimtsäure sind Beispiele für die polymerisierbaren  Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen -COOH und einer oder  mehreren polymerisierbaren ungesättigten Bindungen in einem Molekül.                                                           



   Vinylbenzolsulfonsäure und 2-(Meth)acrylamid-2-methylpropansulfonsäure  sind Beispiele der polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder  mehreren Gruppen -SO 3 H und einer oder mehreren polymerisierbaren  ungesättigten Bindungen. 



   N-Methylsulfonyl(meth)acrylamid, N-Ethylsulfonyl(meth)acrylamid,  N-Phenylsulfonyl(meth)-acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfonyl)(meth)acrylamid  sind Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren  Gruppen -SO 2 NHCO- und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten  Bindungen. 

 Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren  phenolischen Hydroxygruppen und einer oder mehreren polymerisierbaren  ungesättigten Bindungen in einem Molekül schliessen Hydroxyphenyl(meth)acrylamid,  Dihydroxyphenyl(meth)acrylamid, (Meth)acrylsäurehydroxyphenylcarbonyloxyethylester,  (Meth)acrylsäurehydroxyphenyloxyethylester, (Meth)acrylsäurehydroxyphenylthioethylester,  (Meth)acrylsäuredihydroxyphenylcarbonyloxyethylester, (Meth)acrylsäuredihydroxyphenyloxyethylester  und (Meth)acrylsäuredihydroxyphenylthioethylester ein. 



   Beispiele für die polymerisierbare Verbindung mit einer oder mehreren  Gruppen -SO 2 NH- und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten  Bindungen im Molekül schliessen Verbindungen, die durch Formeln (a)  oder (b) wiedergegeben werden, ein: 



   



   CH 2 = CHA 1 -Y 1 -A 2 SO 2 -NH-A 3  (a)        CH 2  = CH 2 =CHA  4 -Y 2 -A 5 -NH-SO 2 -A 6 (b) 



   



   worin Y 1  und Y 2  jeweils -COO-, -CONA 7 - oder eine Einfachbindung  wiedergeben; A 1  und A 4  jeweils H oder CH 3  wiedergeben; A 2  und A 5  jeweils C 1 -C 1  2 Alkylen, gegebenenfalls mit einem Substituenten,  Cycloalkylen, Arylen oder Aralkylen oder C 2 -C 12 Alkylen, worin  eine Ethergruppe oder eine Thioethergruppe eingebaut sind, Cycloalkylen,  Arylen oder Aralkylen wie   dergeben; A 3  und A 6  jeweils H, C  1 -C 1  2 AIkyl, gegebenenfalls mit einem Substituenten, eine Cycloalkylgruppe,  eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe wiedergeben; und A 7  H,  C1-C 12 AIkyl, gegebenenfalls mit einem Substituenten, eine Cycloalkylgruppe,  eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe wiedergibt. 



   Die polymerisierbaren Verbindungen mit einer oder mehreren Gruppen  -CO-NH-CO- und einer oder mehreren polymerisierbaren ungesättigten  Bindungen schliessen Maleimid und N-Acryloylacrylamid ein. Diese  polymerisierbaren Verbindungen werden zu Verbindungen mit hohem Molekulargewicht,  umfassend eine Gruppe -CO-NH-CO-, worin ein Ring zusammen mit einer  primären Kette durch Polymerisation gebildet wird. Weiterhin kann  auch ein Methacrylsäurederivat und ein Acrylsäurederivat jeweils  mit einer Gruppe -CO-NH-CO- gebildet werden.

   Solche Methacrylsäurederivate  und die Acrylsäurederivate schliessen beispielsweise ein Methacrylamidderivat,  wie N-Acetylmethacrylamid, N-Propionylmethacrylamid, N-Butanoylmethacrylamid,  N-Pentanoylmethacrylamid, N-Decanoylmethacrylamid, N-Dodecanoylmethacrylamid,  N-Benzoylmethacrylamid, N-(p-Methylbenzoyl)methacrylamid, N-(p-Chlorbenzoyl)methacrylamid,  N-(Naphthylcarbonyl)methacrylamid, N-(Phenylacetyl)methacrylamid  und 4-MethacryIoylaminophthalimid und ein Acrylamidderivat mit dem  gleichen Substituenten wie diese ein. Diese polymerisierbaren Verbindungen  polymerisieren zu Verbindungen mit einer Gruppe -CO-NH-CO- in einer  Seitenkette. 



   Beispiele für polymerisierbare Verbindungen mit einer oder mehreren  polymerisierbaren ungesättigten Bindung(en) und ohne Säuregruppe  schliessen eine Verbindung mit einer polymerisierbaren ungesättigten  Bindung, ausgewählt aus (Meth)acrylaten, (Meth)acrylamiden, einer  Allylverbindung, Vinylethern, Vinylestern, Styrolen und Crotonaten,  ein und schliessen insbesondere (Meth)acrylate, wie (Meth)acrylsäureal-kylester  oder substituierten (Meth)acrylsäurealkylester (beispielsweise (Meth)acrylsäuremethylester,  (Meth)acrylsäureethylester, (Meth)acrylsäurepropylester, (Meth)acrylsäureisopropylester,  (Meth)acrylsäurebutylester, (Meth)acrylsäureamylester, (Meth)acrylsäurehexylester,  (Meth)acrylsäurecyclohexylester, (Meth)acrylsäureethylhexylester,  (Meth)acrylsäureoctylester, (Meth)acrylsäure-t-octylester, (Meth)acrylsäurechlorethylester,  (Meth)

  acrylsäureallylester, (Meth)acrylsäure-2-hydroxyethylester,  (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester, (Meth)acrylsäure-4-hydroxybutyl   ester, (Meth)acrylsäure-2,2-dimethyl-3-hydroxypropylester, (Meth)acrylsäure-5-hydroxypentylester,  (Meth)acrylsäuretrimethylolpropanmonoester, (Meth)acrylsäurepentaerythritmonoester,  (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäuremethoxybenzylester,  (Meth)acryl- säurechlorbenzylester, (Meth)acrylsäurefurfurylester,  (Meth)acrylsäuretetrahydrofurfurylester, (Meth)acrylsäurephenoxyethylester,  und (Meth)acrylsäurearylester (beispielsweise (Meth)-acrylsäurephenylester,  (Meth)acrylsäurecresylester und (Meth)acrylsäurenaphthylester;

   (Meth)acrylamide,  wie (Meth)acrylamid, N-Alkyl(meth)acrylamid (die Alkylgruppe schliesst  beispielsweise Methyl, Ethyl, Propyl, Butyl, t-Butyl, Hep-tyl, Octyl,  Ethylhexyl, Cyclohexyl, Hydroxyethyl und Benzyl ein), N-Aryl(meth)acrylamid  (die Arylgruppe schliesst beispielsweise Phenyl, Tolyl, Nitrophenyl,  Naphthyl und Hydroxyphenyl ein), N,N-Dialkyl(meth)acrylamid (die  Alkylgruppe schliesst beispielsweise Methyl, Ethyl, Butyl, Isobutyl,  Ethylhexyl und Cyclohexyl ein), N,N-Diaryl(meth)acrylamid (die Arylgruppe  schliesst beispielsweise Phenyl ein), N-Methyl-N-phenyl(meth)acrylamid,  N-Hydroxyethyl-N-methyl(meth)acrylamid, N-2-Acetamid-ethyl-N-acetyl(meth)acrylamid,  N-(Phenylsulfonyl)(meth)acrylamid und N-(p-Methylphenylsulfonyl)(meth)acrylamid;

    eine Allylverbindung, wie Allylester (beispielsweise Essigsäureallylester,  Capronsäureallylester, Caprylsäureallylester, Laurinsäureallylester,  Palmitinsäureallylester, Stearinsäureallylester, Benzoesäureallylester,  Acetessigsäureallylester und Milchsäureallylester), und Allyloxyethanol;  Vinylether, wie Alkylvinylether (die Alkylgruppe schliesst beispielsweise  Hexyl, Octyl, Decyl, Ethylhexyl, Methoxyethyl, Ethoxyethyl, Chlorethyl,  1-Methyl-2,2-dimethylpropyl, 2-Ethylbutyl, Hydroxyethyl, Hydroxyethoxyethyl,  Dimethylaminoethyl, Diethylaminoethyl, Butylaminoethyl, Benzyl und  Tetrahydrofurfuryl ein), und Vinylarylether (die Arylgruppe schliesst  beispielsweise Phenyl, Tolyl, Chlorphenyl, 2,4-Dichlorphenyl, Naphthyl  und Anthranyl ein); 



   Vinylester, wie Buttersäurevinylester, Isobuttersäurevinylester,  Trimethylessigsäurevinylester, Diethyl-essigsäurevinylester, Baratsäurevinylester,  Capronsäurevinylester, Chloressig-säurevinylester, Dichloressigsäurevinylester,  Methoxyessigsäurevinylester, Butoxyessigsäurevinylester, Phenylessigsäurevinylester,  Acetessigsäurevinylester, Milchsäurevinylester, b-Phenylbuttersäurevinylester,  Vinylcyclohexylcarboxylat, Benzoesäurevinylester, Salicylsäurevinylester,  Chlorbenzoesäurevinylester, Tetrachlorbenzoe- säurevinyl-ester und  Naphthoesäurevinylester; 



     Styrole, wie Styrol, Alkylstyrol (beispielsweise Methylstyrol,  Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Diethylstyrol, Isopropylstyrol,  Butylstyrol, Hexylstyrol, Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol,  Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol und Acetoxymethylstyrol),  Alkoxystyrol (beispielsweise Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol  und Dimethoxystyrol) und Halogenstyrol (beispielsweise Chlorstyrol,  Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Tetrachlorstyrol, Pentachlorstyrol,  Bromstyrol, Dibromstyrol, Jodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol,  2-Brom-4-trifIuormethylstyrol und 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol);                                                             



   Crotonate, wie Crotonsäurealkylester (beispielsweise Crotonsäurebutylester,  Crotonsäurehexylester und Monocrotonsäureglycerinester); 



   Itaconsäuredialkylester (beispielsweise Itaconsäuredimethylester,  Itaconsäurediethylester und Itaconsäuredibutylester); 



   Maleinsäure- oder Fumarsäuredialkylester (beispielsweise Maleinsäuredimethylester  und Fumarsäuredibutylester); und (Meth)acrylnitril ein. 



   Es können ebenso Hydroxystyrol-Homo- oder -Copolymere oder ein Phenolharz  vom Novolaktyp, beispielsweise Poly(hydroxystyrol) und Poly(hydroxystyrol-Covinylcyclohexanol),  ein Novolakharz, ein Cresolnovolakharz und ein halogeniertes Phenolnovolakharz  verwendet werden. Insbesondere schliesst dies beispielsweise die  Methacrylsäure-Copolymere, die Acrylsäure-Copolymere, die Itaconsäure-Copolymere,  die Crotonsäure-Copolymere, die Maleinsäureanhydrid-Copolymere, beispielsweise  mit Styrol als ein Comonomer, und Maleinsäure-Copolymere, und insbesondere  veresterte Maleinsäure-Copolymere, jeweils beispielsweise in JP 59-44  615-B4 (der Ausdruck "JP-B4", wie hierin verwendet, bezieht sich  auf geprüfte Japanische Patentveröffentlichung), JP 54-34 327-B4,  JP 58-12 577-B4 und JP 54-25 957-B4, JP 59-53 836-A, JP 59-71 048-A,  JP 60-159 743-A, JP 60-258 539-A, JP 1-152 449-A,

   JP 2-199 403-A  und JP 2-199 404-A beschrieben und deren Copolymere, die weiter mit  einem Amin umgesetzt werden, wie beispielsweise in US 5 650 263 offenbart,  ein; weiterhin kann ein Cellulosederivat mit einer Carboxylgruppe  an einer Seitenkette verwendet werden und insbesondere bevorzugt  sind Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester und (Meth)acrylsäure  und Copolymere von (Meth)acrylsäurebenzylester, (Meth)acrylsäure  und anderen Monomeren, beispielsweise in US 4 139 391, JP 59-44 615-B4,  JP 60-159 743-A und JP 60-258 539-A beschrieben. 



     Bezüglich jener mit Carbonsäuregruppen unter den vorstehenden  organischen Bindemittelpolymeren ist es möglich, einige oder alle  der Carbonsäuregruppen mit (Meth)acrylsäureglycidylester oder einem  Epoxy(meth)acrylat umzusetzen, unter Gewinnung von photopolymerisierbaren  organischen Bindemittelpolymeren zum Zweck der Verbesserung der Lichtempfindlichkeit,  Beschichtungsfilmfestigkeit, Beschichtungslösungsmittel- und chemischen  Beständigkeit und der Anhaftung an dem Substrat. Beispiele werden  in JP 50-34 443-B4 und JP 50-34 444-B4, US 5 153 095, von T. Kudo  et al. in J. Appl. Phys., Band 37 (1998), Seiten 3594-3603, US 5  677 385 und US 5 650 233 offenbart. 



   Das gewichtsmittlere Molekulargewicht der Bindemittel ist vorzugsweise  500 bis 1 000 000, z.B. 3000 bis 1 000 000, bevorzugter 5000 bis  400 000. 



   Diese Verbindungen können einzeln oder als ein Gemisch von zwei oder  mehreren Arten verwendet werden. Der Anteil des Bindemittels in der  lichtempfindlichen Harzzusammensetzung ist vorzugsweise 10 bis 95  Gewichts-%, bevorzugter 15 bis 90 Gewichts-%, bezogen auf die gesamten  Feststoffe. 



   Als Verbindung (C) enthält die erfindungsgemässe Farbfilterresist-Zusammensetzung  zusätzlich mindestens eine Additionspolymerisierbare monomere Verbindung.  Beispielsweise können die nachstehenden Verbindungen einzeln oder  in Kombination mit den anderen Monomeren als das Additions-polymerisierbare  Monomer mit einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, das in  der vorliegenden Erfindung verwendet wird, angewendet werden.

   Speziell  schliessen sie (Meth)acrylsäure-t-butylester, Di (meth)acrylsäureethylenglycolester,  (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester, Di(meth)acrylsäuretriethylenglycolester,  Tri(meth)acrylsäuretrimethylolpropanester, Di(meth)acrylsäure-2-ethyl-2-butylpropandiolester,  Tri(meth)acrylsäurepentaerythritester, Tetra(meth)acrylsäurepentaerythritester,  Hexa-(meth)acrylsäuredipentaerythritester, Penta(meth)acrylsäuredipentaerythritester,  Tri(meth)acrylsäurepolyoxyethylierter Trimethylolpropanester, Tris(2-(meth)acryloyloxyethyl)isocyanurat,  1,4-Diisopropenylbenzol, (Meth)acrylsäure-1,4-dihydroxybenzolester,  Di(meth)acrylsäuredecamethylenglycolester, Styrol, Fumarsäurediallylester,  Trimellitsäuretriallylester, (Meth)-   acrylsäurelaurylester, (Meth)acrylamid  und Xylolbis(meth)acrylamid ein.

   Weiterhin kann ein Reaktionsprodukt  einer Verbindung mit einer Hydroxylgruppe, wie (Meth)acrylsäure-2-hydroxyethylester,  (Meth)acrylsäure-2-hydroxypropylester und Mono(meth)acrylsäurepolyethylenglycolester  mit Diisocyanat, wie Hexamethylendiisocyanat, Toluoldiisocyanat und  Xyloldiisocyanat, angewendet werden. Besonders bevorzugt sind Tetraacrylsäurepentaerythritester,  Hexaacrylsäuredipentaerythritester, Pentaacrylsäuredipentaerythritester  und Tris(2-acyloyloxyethyl)isocyanurat. 



   In einer Farbfilterresist-Zusammensetzung ist die Gesamtmenge an  in der photopolymerisierbaren Zusammensetzung enthaltenen Monomeren  vorzugsweise 5 bis 80 Gewichtsprozent, insbesondere 10 bis 70 Gewichtsprozent,  bezogen auf die gesamten Feststoffkomponenten der Zusammensetzung.                                                             



   Weiterhin kann in dem Farbfilter die gesamte Feststoffkomponente  von jeder Farbe einen ionischen Verunreinigungsfänger, z.B. eine  organische Verbindung mit einer Epoxygruppe, enthalten. Die Konzentration  des ionischen Verunreinigungsfängers in der gesamten Feststoffkomponente  liegt im Allgemeinen im Bereich von 0,1 Gewichts-% bis 10 Gewichts-%.  Beispiele für Farbfilter, insbesondere bezüglich der vorstehend beschriebenen  Kombinationen von Pigmenten, und ionischen Verunreinigungsfänger  sind in EP 320 264 angegeben. Es ist selbstverständlich, dass die  erfindungsgemässen Photostarter, d.h. die Verbindungen der Formeln  I und II, in den in EP 320 264 beschriebenen Farbfilterformulierungen  die Triazinstarterverbindungen ersetzen können. 



   Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können zusätzlich ein Vernetzungsmittel,  das durch eine Säure, wie beispielsweise in JP 10 221 843-A beschrieben  ist, aktiviert wird, und eine Verbindung, die thermisch oder durch  aktinische Strahlung Säure erzeugt und die eine Vernetzungsreaktion  aktiviert, umfassen. 



   Die erfindungsgemässen Zusammensetzungen können auch latente Pigmente  umfassen, die während der Wärmebehandlung des latenten Pigments,  das ein lichtempfindliches Muster oder eine derartige Beschichtung  ausmacht, in fein dispergierte Pigmente überführt werden. Die Wärmebehandlung  kann nach Belichten oder nach Entwicklung der latenten, Pigment    enthaltenden, mit Licht bebilderbaren Schicht ausgeführt werden.  Solche latenten Pigmente sind lösliche Pigmentvorstufen, die mit  Hilfe von chemischen, thermischen, photolytischen oder Strahlungs-induzierten  Verfahren, wie beispielsweise in US 5 879 855 beschrieben, in unlösliche  Pigmente überführt werden können.

   Die Umwandlung solcher latenter  Pigmente kann durch Zugeben einer Verbindung, die bei aktinischer  Bestrahlung Säure erzeugt oder durch Zugeben einer sauren Verbindung  zu der Zusammensetzung verstärkt werden. Deshalb kann ebenfalls ein  Farbfilterresist hergestellt werden, der ein latentes Pigment in  einer erfindungsgemässen Zusammensetzung umfasst. 



   Nach der Beschichtung der Substrate wird das Lösungsmittel im Allgemeinen  durch Trocknen entfernt unter Hinterlassen eines im Wesentlichen  trockenen Resistfilms auf den Photoresist des Substrats. 



   Die erfindungsgemässe lichtempfindliche Zusammensetzung kann geeigneterweise  zum Bilden eines Farbfilters verwendet werden, ist jedoch nicht auf  diese Anwendung beschränkt. Sie ist ebenfalls für andere Anwendungen  verwendbar, beispielsweise Aufzeichnungsmaterialien, Photoresists,  Anzeigen, Anzeigeelemente, Anstrichstoffe und Druckfarben. 



   Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen sind  auch zur Herstellung isolierender Zwischenschichten oder dielektrischer  Schichten in einer Flüssigkristallanzeige und insbesondere einer  Flüssigkristallanzeige vom Reflexionstyp, einschliesslich eines Displays  vom aktiven Matrixtyp mit einem Dünnfilmtransistor (TFT) als schaltendes  Bauelement und passiven Matrixtyp ohne schaltendes Bauelement, geeignet.                                                       



   In den letzten Jahren wurden Flüssigkristallanzeigen aufgrund ihrer  geringen Dicke und ihres leichten Gewichts in breitem Umfang beispielsweise  für Taschenfernseher und Kommunikationsterminals verwendet. Eine  Flüssigkristallanzeige vom Reflexionstyp ohne das Erfordernis der  Anwendung von Hintergrundlicht wird besonders gefordert, da sie sehr  dünn und von geringem Gewicht ist und da sie die Leistungsaufnahme  deutlich vermindern kann. Auch wenn jedoch ein Hintergrundlicht bei  einer gegenwärtig erhältlichen Farbflüssigkristallanzeige vom Transmissionstyp  abgenommen wird und an die untere Fläche der Anzeige eine Lichtreflexionsplatte  angefügt wird, würde es dahingehend ein Problem geben, dass dann    der Wirkungsgrad der Nutzung von Licht gering ist und eine praktisch  verwendbare Helligkeit nicht möglich ist. 



   Als eine Lösung für dieses Problem wurden verschiedene Flüssigkristallanzeigen  vom Reflexionstyp zur Erhöhung des Wirkungsgrads der Nutzung von  Licht vorgeschlagen. Beispielsweise ist eine bestimmte Flüssigkristallanzeige  vom Reflexionstyp so ausgelegt, dass sie eine Pixelelektrode mit  Reflexionsfunktion einschliesst. 



   Die Flüssigkristallanzeige vom Reflexionstyp schliesst ein isolierendes  Substrat und ein gegenüber angeordnetes Substrat, das von dem isolierenden  Material beabstandet ist, ein. Der Raum zwischen den Substraten ist  mit Flüssigkristallen gefüllt. Eine Gateelektrode wird auf dem isolierenden  Substrat gebildet und sowohl die Gateelektrode als auch das isolierende  Substrat werden mit einem Gateisolationsfilm bedeckt. Eine Halbleiterschicht  wird dann auf dem Gateisolationsfilm auf der Gateelektrode gebildet.  Eine Sourceelektrode und eine Drainelektrode werden ebenfalls auf  dem Gateisolationsfilm in Kontakt mit der Halbleiterschicht gebildet.  Die Sourceelektrode, die Drainelektrode, die Halbleiterelektrode  und die Gateelektrode arbeiten miteinander und stellen somit ein  TFT vom Bodengatetyp als schaltendes Bauelement dar. 



   Ein Zwischenschichtisolationsfilm wird gebildet, der die Sourceelektrode,  die Drainelektrode, die Halbleiterschicht und den Gateisolationsfilm  damit bedeckt. Ein Kontaktloch wird durch den Zwischenschichtisolationsfilm  auf der Drainelektrode gebildet. Eine aus Aluminium hergestellte  Pixelelektrode wird auf sowohl dem Zwischenschichtisolationsfilm  als auch auf einer inneren Seitenwand des Kontaktlochs gebildet.  Die Drainelektrode des TFT ist schliesslich mit der Pixelelektrode  durch den Zwischenschichtisolationsfilm in Kontakt. Der Zwischenschichtisolationsfilm(-schicht)  ist im Allgemeinen so ausgelegt, dass er eine aufgeraute Oberfläche  aufweist, durch die die Pixelelektrode als eine Reflexionsplatte  wirkt, die Licht streut, um einen breiteren Betrachtungswinkel zu  erreichen. 



   Die Flüssigkristallanzeige vom Reflexionstyp erhöht dadurch, dass  die Pixelelektrode als eine Lichtreflexionsplatte wirkt, den Wirkungsgrad  zur Nutzung von Licht deutlich. 



   In der vorstehend erwähnten Flüssigkristallanzeige vom Reflexionstyp  ist der Zwischenschichtisolationsfilm so konstruiert, dass er durch  Photolithographie erzeugte Vorsprünge und Einschnitte aufweist. Um  für eine Oberflächenrauigkeit und zur Bildung von Kontaktlöchern  eine geringe Grösse der Vorsprünge und Einschnitte in der Grössenordnung  von Mi   krometern zu bilden und zu steuern, werden Photolithographieverfahren  unter Verwendung von positiven und negativen Photoresists angewendet.  Für diese Resists sind die erfindungsgemässen Zusammensetzungen besonders  geeignet. 



   Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen können  weiterhin zur Herstellung von Abstandshaltern, die den Zellspalt  des Flüssigkristallteils in einem Flüssigkristallanzeigedisplay steuern,  verwendet werden. Da die Eigenschaften von durchgelassenem oder reflektiertem  Licht durch die Flüssigkristallschicht in einer Flüssigkristallanzeige  von dem Zellspalt abhängen, sind die genaue Dicke und Gleichförmigkeit  über dem Pixelarray kritische Parameter für die Leistung der Flüssigkristallanzeigeeinheit.  In einer Flüssigkristallzelle wird der Raum zwischen den Substraten  in der Zelle durch weiträumig verteilte wenige Glas- oder Polymerkugeln,  die etwa einige Mikrometer im Durchmesser aufweisen, als Abstandshalter  zwischen den Substraten gehalten.

   Die Abstandshalter werden somit  zwischen den Substraten gehalten, um den Abstand zwischen dem Substrat  auf einem konstanten Wert beizubehalten. Die Distanz wird durch den  Durchmesser der Abstandshalter bestimmt. Die Abstandshalter sichern  einen minimalen Raum zwischen den Substraten; das heisst, sie verhindern  eine Abnahme des Abstands zwischen den Substraten. Jedoch können  sie nicht verhindern, dass die Substrate voneinander getrennt werden,  d.h., die Erhöhung des Abstands zwischen den Substraten.

   Zusätzlich  hat dieses Verfahren der Anwendung von Abstandskugeln in Abhängigkeit  vom Ort der Abstandshalter auf dem Pixelarraybereich Probleme bezüglich  der Gleichförmigkeit im Durchmesser der Abstandskugeln und der Schwierigkeit  einer gleichförmigen Verteilung der Abstandskugeln auf dem Display  sowie einer ungleichförmigen Orientierung und einer Abnahme der Helligkeit  und/oder des optischen Spalts. Flüssigkristallanzeigen mit einer  grossen Bildanzeigefläche zogen seit kurzem viel Aufmerksamkeit auf  sich. Jedoch erzeugt die Erhöhung der Fläche einer Flüssigkristallzelle  eine Verwerfung der die Zelle aufbauenden Substrate. Die Schichtstruktur  des Flüssigkristalls wird in der Regel aufgrund der Verformung des  Substrats zerstört.

   Auch wenn somit der Abstandshalter zum Halten  des Abstands zwischen den Substraten konstant ist, ist eine Flüssigkristallanzeige  mit einer grossen Bildanzeigefläche nicht ausführbar, da das Display  Störungen unterliegt. Anstelle des vorstehend erwähnten Abstand-Kugel-Verteilungsverfahrens  wurde ein Verfahren zur Erzeugung von Säulen in dem Zellspalt als  Abstands   halter vorgeschlagen. In diesem Verfahren werden Säulen  eines Harzes als Abstandshalter in dem Bereich zwischen dem Pixel-anordnungsbereich  und der Gegenelektrode zur Erzeugung eines vorbeschriebenen Zellspalts  gebildet. Lichtempfindliche Materialien, die bei der Photolithographie  Hafteigenschaften aufweisen, werden üblicherweise beispielsweise  bei Herstellungsverfahren für Farbfilter angewendet.

   Dieses Verfahren  ist, verglichen mit dem herkömmlichen Verfahren unter Verwendung  von Abstandskugeln in den Punkten vorteilhaft, da Ort, Anzahl und  Höhe der Abstandshalter zwanglos gesteuert werden können. In einem  Flüssigkristallanzeigefarbdisplay werden solche Abstandshalter im  nicht-bildtragenden Bereich unter der schwarzen Matrix von Farbfilterelementen  gebildet. Deshalb vermindern die unter Verwendung von lichtempfindlichen  Zusammensetzungen gebildeten Abstandshalter die Helligkeit und die  optische Öffnung nicht. 



   Die lichtempfindlichen Zusammensetzungen zur Erzeugung von lichtempfindlicher  Schicht mit Abstandshaltern für Farbfilter werden in JP 2000-81 701-A  offenbart und Photoresists vom Trockenfilmtyp für Abstandsmaterialien  werden ebenfalls in JP 11-174 459-A und JP 11-174 464-A offenbart.  Wie in den Dokumenten beschrieben, umfassen die lichtempfindlichen  Zusammensetzungen flüssige und trockene Filmphotoresists mit mindestens  einem alkalisch oder sauer löslichen Bindemittelpolymer, einem radikalisch  polymerisierbaren Monomer und einem radikalischen Starter. In einigen  Fällen können thermisch vernetzbare Komponenten, wie ein Epoxid und  Carbonsäure, zusätzlich eingeschlossen sein. 



   Die Schritte der Bildung von Abstandshaltern unter Verwendung einer  lichtempfindlichen Zusammensetzung sind wie nachstehend: 



   Eine lichtempfindliche Zusammensetzung wird auf das Substrat aufgetragen,  beispielsweise eine Farbfilterplatte, und nachdem das Substrat vorher  wärmebehandelt wurde, wird es durch eine Maske belichtet. Dann wird  das Substrat mit einem Entwickler entwickelt und unter Bildung gewünschter  Abstände bemustert. Wenn die Zusammensetzung einige Wärme-härtende  Komponenten enthält, wird gewöhnlich eine nachfolgende Wärmebehandlung  (Postbaking) zur thermischen Härtung der Zusammensetzung ausgeführt.  Die erfindungsgemässen photohärtbaren Zusammensetzungen sind aufgrund  ihrer hohen Empfindlichkeit für die Erzeugung von Abstandshaltern  für Flüssigkristallanzeigen (wie vorstehend beschrieben) geeignet.                                                             



     Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen sind  auch zur Herstellung von Mikrolinsenarrays, die in Flüssigkristallanzeigedisplays,  Bildsensoren und dergleichen verwendet werden, geeignet. 



   Mikrolinsen sind mikroskopische passive optische Komponenten, die  auf aktive optoelektronische Vorrichtungen, wie Detektoren, Anzeigen  und Licht-aussendenden Bauelementen (Licht-emittierende Dioden, transversale  und vertikale Hohlraumlaser), aufgesetzt sind, um deren optische  Input- oder Output-Eigenschaften zu verbessern. Die Anwendungsgebiete  sind breit gefächert und decken Gebiete ab, wie Telekommunikation,  Informationstechnologie, Audio-visuelle Dienste, Solarzellen, Detektoren,  Festkörperlichtquellen und optische Verbinder. 



   Die vorliegenden optischen Systeme verwenden eine Vielzahl von Techniken,  um eine wirksame Kopplung zwischen Mikrolinsen und mikrooptischen  Vorrichtungen zu erlangen. Die Mikrolinsenarrays werden zum Bündeln  von illuminierendem Licht auf den Bildelementbereichen eines nicht  lumineszierenden Anzeigebauelements, wie eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung,  zur Erhöhung der Helligkeit der Anzeige, zum Bündeln von einfallendem  Licht oder als Mittel zur Erzeugung eines Bildes auf den photoelektrischen  Umwandlungsbereichen eines Zeilenbildsensors, der beispielsweise  für ein Faxgerät und dergleichen verwendet wird, um die Empfindlichkeit  dieser Bauelemente zu verbessern und zum Erzeugen eines auf einem  lichtempfindlichen Material zu druckenden Bildes, verwendet in Flüssigkristalldruckern  oder Licht emittierende Dioden (LED)-Druckern, eingesetzt.

   Die allgemeinste  Anwendung ist ihre Verwendung, um den Wirkungsgrad von Photodetektorarrays  auf einer bildempfindlichen Vorrichtung im festen Zustand, wie einer  Ladungsgekoppelten Vorrichtung (CCD), zu verbessern. In einem Detektorarray  ist die Sammlung von möglichst viel Licht in jedem Detektorelement  oder Pixel erwünscht. Wenn eine Mikrolinse auf dem Oberen von jedem  Pixel angeordnet ist, sammelt die Linse einfallendes Licht und fokussiert  es auf eine aktive Fläche, die kleiner als die Grösse der Linse ist.  Gemäss dem Stand der Technik können Mikrolinsenarrays durch eine  Vielzahl von Verfahren hergestellt werden; 



   (1) Ein Verfahren zum Gewinnen von konvexen Linsen, worin ein Muster  der Linsen in einer planaren Konfiguration auf ein thermoplastisches  Harz durch eine herkömmliche photolithographische Technik oder dergleichen  aufgetragen wird und anschliessend das thermoplasti   sche Harz auf  eine Temperatur oberhalb des Erweichungspunktes des Harzes erhitzt  wird, um Fliessvermögen zu erzielen, wodurch ein Herunterlaufen in  der Musterkante hervorgerufen wird (sogenanntes "reflowing") (siehe  z.B. JP 60-38 989-A, JP 60-165 623-A, JP61-67 003-A und JP 2000-39  503-A). In diesem Verfahren kann, wenn das verwendete thermoplastische  Harz lichtempfindlich ist, ein Muster der Linsen durch Belichten  dieses Bereichs erhalten werden. 



   (2) Ein Verfahren zur Erzeugung von Kunststoff- oder Glasmaterial  durch die Verwendung einer Form oder eines Stempels. Als Linsenmaterial  kann ein photohärtbares Harz oder ein Wärme-härtbares Harz in diesem  Verfahren verwendet werden (siehe z.B. WO99/38035). 



   (3) Ein Verfahren zur Erzeugung konvexer Linsen auf der Basis eines  Phänomens, bei dem sich, wenn ein lichtempfindliches Harz in einem  gewünschten Muster durch die Verwendung einer Ausrichtungsvorrichtung  belichtet wird, nicht umgesetzte Monomere von den nicht belichteten  Bereichen zu den belichteten Bereichen bewegen, was zu einem Quellen  der belichteten Bereiche führt (siehe beispielsweise Journal of the  Research Group in Microoptics, Japanese Society of Applied Physics,  Colloquium in Optics, Band 5, Nr. 2, Seiten 118-123 (1987) und Band  6, Nr. 2, Seiten 87-92(1988)). 



   Auf der oberen Oberfläche des getragenen Substrats wird eine lichtempfindliche  Harzschicht gebildet. Anschliessend wird mit der Verwendung einer  getrennten Schattierungsmaske die obere Fläche der lichtempfindlichen  Harzschicht mit Licht aus einer Quecksilberlampe oder dergleichen  bestrahlt, so dass die lichtempfindliche Harzschicht dem Licht ausgesetzt  ist. Als Ergebnis quellen die belichteten Teile der lichtempfindlichen  Harzschicht zu einer Form von konvexen Linsen unter Bildung der Licht-sammelnden  Schicht mit einer Vielzahl von Mikrolinsen. 



   (4) Ein Verfahren zum Gewinnen von konvexen Linsen, wobei ein lichtempfindliches  Harz durch eine Nah-Belichtungstechnik, bei der eine Photomaske mit  dem Harz nicht in Kontakt gebracht wird, belichtet wird, um ein Verwischen  (Verschwimmen) der Musterkanten zu verursachen, so dass sich die  Menge an photochemischen Reaktionsprodukten in Abhängigkeit vom Grad  des Verwischens der Musterkante verteilt (siehe beispielsweise JP  61-153 602-A). 



   (5) Ein Verfahren zum Erzeugen einer Linsenwirkung, wobei das lichtempfindliche  Harz mit einer teilweisen Intensitätsverteilung unter Erzeugung eines  Verteilungsmusters des Bre   chungsindexes, in Abhängigkeit von der  Lichtintensität belichtet wird (siehe beispielsweise JP 60-72 927-A  und JP 60-166 946-A). 



   Die erfindungsgemässen lichtempfindlichen Zusammensetzungen können  in jedem der vorstehend erwähnten Verfahren verwendet werden, um  Mikrolinsenarrays unter Verwendung von photohärtbaren Harzzusammensetzungen  zu erzeugen. 



   Eine besondere Klasse von Techniken konzentriert sich auf die Bildung  von Mikrolinsen in thermoplastischen Harzen, wie Photoresists. Ein  Beispiel wird von Popovic et al. in der Druckschrift SPIE 898, Seiten  23-25 (1988) veröffentlicht. Die Technik, genannt Reflow(Rückstrom)-Technik,  umfasst die Schritte des Definierens der Linsenabdrücke in einem  thermoplastischen Harz, beispielsweise durch Photolithographie, in  einem lichtempfindlichen Harz, wie einem Photoresist, und anschliessendes  Erhitzen dieses Materials oberhalb seiner Rückstromtemperatur. Die  Oberflächenspannung zieht die Insel des Photoresists zu einer kugelförmigen  Kappe mit einem Volumen, gleich der ursprünglichen Insel, vor dem  Rückstrom. Diese Kappe ist eine plan-konvexe Mikrolinse.

   Die Vorteile  der Technik sind unter anderem die Einfachheit, die Reproduzierbarkeit  und die Möglichkeit der direkten Integration auf dem Oberen eines  Licht-emittierenden oder Licht-detektierenden optoelektronischen  Bauelements. 



   In einigen Fällen wird eine Überzugsschicht auf den bemusterten Linseneinheiten  mit einer rechteckigen Form vor dem Rückströmen gebildet, um bei  dem Rückstromschritt das Herablaufen der Harzinsel in der Mitte ohne  Rückstrom zur kugelförmigen Kappe zu vermeiden. Dieser Überzug wirkt  als permanente Schutzschicht. Die Beschichtung wird ebenfalls aus  einer lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt. 



   Mikrolinsenarrays können auch durch die Verwendung einer Form oder  eines Stempels, beispielsweise wie in EP0932 256A2 offenbart, hergestellt  werden. Ein Verfahren zur Herstellung des planaren Mikrolinsenarrays  erfolgt wie nachstehend: Ein Trennmittel wird auf eine Formoberfläche  eines Stempels, auf dem konvexe Teile dicht angeordnet sind, aufgetragen  und ein mit Licht härtbares Kunstharzmaterial mit einem hohen Brechungsindex  wird in der Formoberfläche des Stempels angeordnet. Nun wird die  Basisglasplatte auf das Kunstharzmaterial geschoben, wodurch sich  das Kunstharzmaterial ausbreitet, und das Kunstharzmaterial wird  durch Bestrahlen mit Ultraviolettstrahlung oder durch Erhitzen gehärtet  und    wird unter Bildung von konvexen Mikrolinsen geformt. Anschliessend  wird der Stempel abgezogen.

   Danach wird ein photohärtbares Kunstharzmaterial  mit einem niedrigen Brechungsindex zusätzlich auf die konvexen Mikrolinsen  als eine Haftschicht aufgetragen und ein Glassubstrat, das zu einer  Deckglasplatte geformt ist, wird auf das Kunstharzmaterial unter  Verteilen desselben geschoben. Das Kunstharzmaterial wird dann gehärtet  und schliesslich wird das planare Mikrolinsenarray gebildet. 



   Wie in US 5 969 867 offenbart, wird ein ähnliches Verfahren unter  Verwendung einer Form für die Herstellung einer Prismenfolie angewendet,  die als ein Teil von Hintergrundlichteinheiten für Flüssigkristallanzeigefarbdisplays  zur Verstärkung der Helligkeit verwendet wird. Die eine Prismenreihe  auf einer Seite bildende Prismenfolie wird auf der Licht-emittierenden  Oberfläche des Hintergrundlichts befestigt. Zur Herstellung einer  Prismenfolie wird eine durch aktive Strahlungsenergie härtbare Zusammensetzung  gegossen und in einer Linsenform aus Metall, Glas oder Harz, die  die Linsenform der Prismenreihe, usw. ausbildet, verteilt, wonach  eine transparente Substratfolie darauf angeordnet wird und aktive  Energiestrahlen aus einer aktive Energiestrahlen emittierenden Quelle  durch die Folie zum Härten eingestrahlt werden.

   Die hergestellte  Linsenfolie wird dann unter Gewinnung der Linsenfolie aus der Linsenform  gelöst. 



   Die um den Linsenbereich zu bildende, verwendete, mit aktiver Energie  Strahlungs-härtbare Zusammensetzung muss eine breite Vielzahl von  Eigenschaften, einschliesslich Anhaftung an das transparente Substrat  und geeignete optische Eigenschaften, aufweisen. Linsen mit mindestens  etwas Photoresist vom Stand der Technik sind für einige Anwendungen  nicht erwünscht, da die optische Durchlässigkeit zum blauen Ende  des optischen Spektrums mangelhaft ist. 



   Weil die erfindungsgemässen photohärtbaren Zusammensetzungen geringe  Vergilbungseigenschaften, sowohl thermisch als auch photochemisch,  aufweisen, sind sie zur Herstellung von Mikrolinsen-arrays, wie vorstehend  beschrieben, geeignet. 



   Die neuen Strahlungs-empfindlichen Zusammensetzungen sind auch für  photolithographische Schritte, die in den Herstellungsverfahren von  Plasmabildschirmen (PDP) verwendet werden, insbesondere für bilderzeugende  Verfahren von Barrier-rib, Phosphorschicht und Elektroden, geeignet.                                                           



     Der PDP ist ein Flachbildschirm zum Anzeigen von Bildern und Informationen  aufgrund der Emission von Licht durch Gasentladung. Gemäss dem Aufbau  des Bildschirms und der Betriebsweise sind zwei Arten bekannt; d.h.  DC (Gleichstrom)-Typ und AC (Wechselstrom)-Typ. 



   Das Prinzip des Farb-PDP vom DC-Typ wird beispielhaft kurz erläutert.  In dem Farb-PDP vom DC-Typ wird der Abstand, der zwischen zwei transparenten  Substraten (im Allgemeinen Glasplatten) liegt, in zahlreiche kleine  Zellen durch gitterförmig angeordnete Barrier-ribs, zwischen den  transparenten Substraten angeordnet, aufgeteilt. In den einzelnen  Zellen ist ein Entladungsgas, wie He oder Xe, eingeschlossen. An  der Rückwand jeder Zelle gibt es eine Phosphorschicht, die nach Anregung  durch das Ultraviolettlicht, das durch Entladung des Entladungsgases  erzeugt wird, sichtbares Licht in den drei Primärfarben emittiert.  Auf der Innenfläche der zwei Substrate sind Elektroden abgeschieden,  die sich über der jeweiligen Zelle gegenüberstehen. Im Allgemeinen  werden die Kathoden aus einem Film aus transparentem elektrisch leitfähigem  Material, wie NESA-Glas, gebildet.

   Wenn eine hohe Spannung zwischen  diesen an der Vorderwand und der Rückwand gebildeten Elektroden angelegt  wird, induziert das in den Zellen eingeschlossene Entladungsgas eine  Plasmaentladung und regt aufgrund der Ultraviolettlichtstrahlung  folglich die fluoreszierenden Elemente von Rot-, Blau- und Grünfarben  zur Lichtemission und somit zur Bildanzeige an. In dem Vier-Farben-Anzeigesystem  bilden drei fluoreszierende Elemente, gesondert aus den vorstehend  erwähnten drei Primärfarben Rot, Blau und Grün, gemeinsam ein Bildelement.                                                     



   Die Zellen in dem PDP vom DC-Typ werden durch die gitterförmigen  Barrier-ribs des Bauteils geteilt, wohingegen jene im PDP vom AC-Typ  durch die Barrier-ribs, die parallel zueinander auf den Flächen der  Substrate angeordnet sind, geteilt werden. In jedem Fall werden die  Zellen durch Barrier-ribs geteilt. Diese Barrier-ribs sollen die  leuchtende Entladung innerhalb eines festgelegten Bereichs einschränken,  damit falsche Entladungen oder Querkopplung zwischen benachbarten  Entladungszellen vermieden werden und gewährleisten somit eine ideale  Anzeige. 



   Die neue Zusammensetzung betrifft auch eine lichtempfindliche Wärme-härtende  Harzzusammensetzung und ein Verfahren zur Herstellung eines Lötresistmusters  durch die Ver   wendung davon und insbesondere betrifft sie eine  neue lichtempfindliche Wärme-härtende Harzzusammensetzung, geeignet  als Materialien zur Herstellung von Leiterplatten, Präzisionsherstellung  von Metallgegenständen, Ätzen von Glas- und Steingegenständen, Relief  von Kunststoffgegenständen und Herstellung von Druckplatten und insbesondere  als Lötresist für Leiterplatten und ein Verfahren zum Bilden von  Lötresistmustern durch die Schritte der selektiven Belichtung einer  Schicht der Harzzusammensetzung durch aktinische Strahlung durch  eine Photomaske mit einem Muster und Entwickeln des unbelichteten  Teils der Schicht. 



   Der Lötresist ist eine Substanz, die während des Lötens eines gegebenen  Teils auf einer Leiterplatte verwendet wird, um das Anhaften von  geschmolzenem Lot an irrelevanten Teilen zu verhindern und Schaltkreise  zu schützen. Es ist deshalb erforderlich, dass er solche Eigenschaften,  wie starke Anhaftung, Isolierungsbeständigkeit, Beständigkeit gegenüber  Löttemperaturen, Beständigkeit gegenüber Lösungsmitteln, Beständigkeit  gegen Alkali, Beständigkeit gegen Säuren und Beständigkeit gegen  Plattieren, besitzt. 



   Gegenstand der Erfindung ist ebenfalls ein Lötresist, umfassend eine  wie vorstehend beschriebene Zusammensetzung. 



   Bevorzugt ist die Verwendung der Zusammensetzungen, die Wärme-härtende  Elemente, wie als Verbindung (E) gemäss der Erfindung beschrieben,  umfassen, in einem Bilderzeugenden Verfahren, beispielsweise ein  Verfahren zur Herstellung der Lötmasken, worin (1) die Komponenten  der wie vorstehend beschriebenen Zusammensetzung vermischt werden,  (2) die erhaltene Zusammensetzung auf das Substrat aufgetragen wird  ("Beschichtung des Substrats"), (3) das Lösungsmittel, falls vorliegend,  bei erhöhter Temperatur, beispielsweise bei einer Temperatur zwischen  80-90 DEG C1 verdampft wird, (4) das beschichtete Substrat bildmässig  mit elektromagnetischer Strahlung durch eine Negativmaske (wodurch  die Reaktion des Acrylats gestartet wird) belichtet wird, 



     (5) die belichtete Probe durch Waschen mit wässeriger alkalischer  Lösung entwickelt wird und damit nicht gehärteten Flächen entfernt  werden, und (6) die Probe thermisch gehärtet wird, beispielsweise  bei einer Temperatur von etwa 150 DEG C. Dieses Verfahren ist ein  weiterer Gegenstand der Erfindung. 



   Der Erwärmungsschritt (6) wird gewöhnlicher bei Temperaturen >100  DEG C und <200 DEG C, vorzugsweise bei Temperaturen von 130-170  DEG C, beispielsweise bei 150 DEG C, ausgeführt. 



   Die nachstehenden Beispiele erläutern die Erfindung genauer. Teile  und Prozentangaben sind, wie im Rest der Beschreibung und in den  Ansprüchen, auf das Gewicht bezogen, sofern nicht anders ausgewiesen.  Wenn Alkylreste mit mehr als drei Kohlenstoffatomen, ohne eine besondere  Erwähnung spezieller Isomere, angeführt sind, sind in jedem Fall  die n-Isomere gemeint.   Beispiel 1 : Synthese von 2,5-Dimethoxybenzaldehydoxim-O-acetat  



   
EMI65.1
 



   1.a 2,5-Dimethoxybenzaldehydoxim 



   Zu 16,6 g (99,9 mMol) 2,5-Dimethoxybenzaldehyd in Ethanol (100 ml)  wird ein Gemisch von 7,64 g (169 mMol) H 2 NOH-HCI und 13,9 g (169  mMol) Natriumacetat in 50 ml H 2 O gegeben. Dieses Reaktionsgemisch  wird 2,5 Stunden unter Rückfluss erhitzt. Nach Zugeben von H 2 O  zum Lösen des ausgefällten anorganischen Salzes wird Ethanol durch  Verdampfen im Vakuum entfernt. Der erhaltene weisse Feststoff wird  abfiltriert und mit H 2 O gewaschen. 14,9 g weisser Feststoff werden  erhalten (82%). <1>H-NMR (CDCl 3 ).  delta  [ppm]: 3,79 (s, 3H),  3,82 (s, 3H), 6,85 (d, 1H), 6,92 (d, 1H), 7,25 (d, 1H), 8,00 (breit,  s, 1H), 8,47 (s, 1H). 



   1.b 2,5-Dimethoxybenzaldehydoxim-O-acetat 



   2,00 g (11,0 mMol) 2,5-Dimethoxybenzaldehydoxim und 1,13 g (14,3  mMol) Acetylchlorid werden in 15 ml Tetrahydrofuran (THF) gelöst.  Zu dieser Lösung werden schrittweise 1,67 g    (16,5 mMol) Triethylamin  bei einer Eisbadtemperatur gegeben. Nach Beendigung der Zugabe wird  das Reaktionsgemisch 3 Stunden bei Raumtemperatur gerührt und dann  wird zum Auflösen des erhaltenen weissen Feststoffes H 2 O zugesetzt.  Das Rohprodukt wird mit Essigsäureethylester extrahiert. Diese organische  Schicht wird zweimal mit gesättigter wässeriger NaHCO 3 -Lösung und  mit Salzlösung gewaschen, gefolgt von Trocknen über wasserfreiem  MgSO 4 . Der Rückstand wird Säulenchromatographie an Kieselgel mit  Essigsäureethylester-Hexan (1:4) als Elutionsmittel unterzogen. 2,03  g weisser Feststoff, der bei 55-57 DEG C schmilzt, werden erhalten  (83%).

   Die Struktur wird durch das <1>H-NMR-Spektrum (CDCI 3 ) bestätigt.  delta  [ppm]: 2,23 (s, 3H), 3,81 (s, 3H), 3,83 (s, 3H), 6,87 (d,  1H), 7,01 (dd, 1H), 7,47 (d, 1H), 8,75 (s,1H).   Beispiele 2-30  :  



   Die Verbindungen der Beispiele 2-30 werden gemäss dem in Beispiel  1 beschriebenen Verfahren aus den entsprechenden Aldehyden hergestellt.  Die Verbindungen und deren <1>H-NMR-Daten sind in Tabelle 1 angegeben.                                                         



   
EMI66.1
 Tabelle 1 



   



   
EMI67.1
 



   
EMI68.1
 



   
EMI69.1
 



   
EMI70.1
 



   
EMI71.1
 



   
EMI72.1
 



   Die folgenden Sensibilisatoren werden in Beispielen 31 und 32 verwendet:  S-1 ein Gemisch von 2-lsopropylthioxanthon und 4-lsopropylthioxanthon  (<<RTM>>QUANTACURE ITX, bereitgestellt von International Biosynthetics)  S-2 4,4'-Bis(diethylamino)benzophenon (Michler's Keton)     Beispiel 31 :  



   Eine photohärtbare Formulierung für einen Empfindlichkeitstest wird  durch Mischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 



   200,0 Gewichtsteile acryliertes Acryl-Copolymer (<RTM>ACA200M, bereitgestellt  von Daicel Industries, Ltd., Feststoffgehalt 50 Gewichtsprozent) 



   15,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritolester ((DPHA),  bereitgestellt von UCB Chemicals), 



   100,0 Gewichtsteile Aceton 



   Zu dem Gemisch werden 0,5% (bezogen auf den Feststoffgehalt) eines  Sensibilisators und 2% (bezogen auf den Feststoffgehalt) eines zu  testenden Starters gegeben und gerührt. Alle Vorgänge werden unter  gelbem Licht ausgeführt. Die Formulierungen werden auf eine Aluminiumplatte  aufgetragen. Das Lösungsmittel wird durch Erhitzen für 15 Minuten  in einem Umluftofen auf 80 DEG C entfernt. Die Dicke des Trockenfilms  ist 25  mu m. Auf diese Beschichtung wird ein Acetatfilm aufgetragen,  über den ein standardisiertes Testnegativ mit 21 Stufen unterschiedlicher  optischer Dichte (Stouffer-Stufen-Keil) angeordnet wird. Die Probe  wird mit einem zweiten UV-transparenten Film bedeckt und auf eine  Metallplatte mit Hilfe von Vakuum gepresst.

   Die Belichtung wird in  einer ersten Testreihe für 40 Sekunden, in einer zweiten Reihe für  80 Sekunden und in einer dritten Reihe für 160 Sekunden unter Verwendung  einer Metallhalogenidlampe (ORC, Modell SMX 3000) mit einem Abstand  von 60 cm ausgeführt. Nach der Belichtung werden die Deckfilme und  die Maske entfernt und der belichtete Film wird mit 1%iger wässeriger  Natriumcarbonatlösung für 180 Sekunden bei 30 DEG C unter Verwendung  eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell T21) entwickelt.  Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems wird durch Anzeigen  der höchsten Schrittzahl, die nach Entwickeln verbleibt (d.h. polymerisiert),  charakterisiert. Je höher die Anzahl der Schritte, um so empfindlicher  ist das getestete System. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 zusammengefasst.  Tabelle 2  



    <tb><TABLE> Columns = 5  <tb>Head Col 1: Photostarter von Beispiel <tb>Head  Col 2: Sensibilisator <tb>Head Col 3: Anzahl der reproduzierten  Stufen nach einer Belichtungszeit von 40 s             80 s                   160 s  <tb><SEP> 1<SEP> -<SEP> 10<SEP> 12<SEP>  14 <tb><SEP> 1<SEP> S-1<SEP> 11<SEP> 13<SEP> 15 <tb><SEP> 2<SEP>  S-1<SEP> 11<SEP> 13<SEP> 15 <tb><SEP> 3<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 13<SEP>  14 <tb><SEP> 4<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP> 5<SEP>  S-1<SEP> 10<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP> 6<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 11<SEP>  13 <tb><SEP> 7<SEP> S-1<SEP>   8<SEP> 10<SEP> 12 <tb><SEP> 8<SEP>  S-1<SEP>   8<SEP> 10<SEP> 12 <tb><SEP> 12<SEP> -<SEP>   9<SEP> 11<SEP>  13 <tb><SEP> 12<SEP> S-1<SEP> 11<SEP> 13<SEP> 15 <tb><SEP> 13<SEP>  S-1<SEP> 11<SEP> 13<SEP> 15 <tb><SEP> 14<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 13<SEP>  14 <tb><SEP> 15<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP> 17<SEP>  

  S-1<SEP> 10<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP> 18<SEP> S-1<SEP>   9<SEP>  11<SEP> 13 <tb><SEP> 19<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 11<SEP> 13 <tb><SEP>  21<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP> 22<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 11<SEP> 13 <tb><SEP> 23<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 11<SEP> 13 <tb><SEP>  24<SEP> S-1<SEP>   9<SEP> 11<SEP> 13 <tb><SEP> 25<SEP> S-1<SEP>  11<SEP> 13<SEP> 15 <tb><SEP> 26<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 12<SEP> 14 <tb><SEP>  27<SEP> S-1<SEP> 10<SEP> 13<SEP> 15  <tb></TABLE>   Beispiel  32  



   Herstellung von Poly(benzylmethacrylat-Comethacrylsäure) 



   24 g Benzylmethacrylat, 6 g Methacrylsäure und 0,525 g Azobisisobutyronitril  (AIBN) werden in 90 ml Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat  (PGMEA) gelöst. Das erhaltene Reaktionsgemisch wird in einem vorerhitzten  Ölbad bei 80 DEG C angeordnet. Nach Rühren für 5 Stunden bei 80 DEG  C unter Stickstoff wird die erhaltene viskose Lösung auf Raumtemperatur  gekühlt und ohne weitere Reinigung verwendet. Der Feststoffanteil  ist etwa 25%. Eine photohärtbare Zusammensetzung für einen Empfindlichkeitstest  wird durch Mischen der nachstehenden Komponenten hergestellt: 



   240,0 Gewichtsteile Copolymer von Methacrylsäurebenzylester und Methacrylsäure  (Methacrylsäurebenzylester: Methacrylsäure = 80 : 20, auf das Gewicht)                                                         



   25% Propylenglycol-1-monomethylether-2-acetat (PGMEA)-Lösung, hergestellt  wie vorstehend beschrieben, 40,0 Gewichtsteile Hexaacrylsäuredipentaerythritolester  ((DPHA), bereitgestellt durch UCB Chemicals), 



   2,0 Gewichtsteile des Photostarters, 1,2 Gewichtsteile des Sensibilisators  und 120,0 Gewichtsteile PGMEA 



   Alle Vorgänge werden unter gelbem Licht ausgeführt. Die Zusammensetzungen  werden auf eine Aluminiumplatte unter Verwendung eines elektrischen  Auftragers mit einem Draht-umwundenen Stab aufgetragen. Das Lösungsmittel  wird durch Erhitzen für 2 Minuten in einem Umluftofen auf 100 DEG  C entfernt. Die Dicke des Trockenfilms ist ungefähr 2  mu m. Ein  standardisierter Testnegativfilm mit 21 Stufen von unterschiedlicher  optischer Dichte (Stouffer-Stufen-Keil) wird mit einem Luftspalt  von rund 100  mu m zwischen dem Film und dem Resist angeordnet. Das  Belichten wird unter Verwendung einer 250W Super-Hochdruck-Quecksilber-Lampe  (USHIO, USH-250BY) bei einem Abstand von 15 cm ausgeführt. Die mit  einem optischen Strommesser (ORC UV Light Measure Model UV-M02 mit  UV-35 Detektor) gemessene Gesamtbelichtungsdosis des Testnegativfilms  ist 500mJ/cm<2>.

   Nach Belichten wird der belichtete Film mit 1%iger  wässeriger Natriumcarbonatlösung für 100 Sekunden bei 30 DEG C unter  Verwendung eines Entwicklers vom Sprühtyp (Walter Lemmen, Modell  T21) entwickelt. Die Empfindlichkeit des verwendeten Startersystems  wird durch Anzei   gen der höchsten Anzahl der verbliebenen Schritte  (d.h. polymerisiert) nach Entwickeln charakterisiert. Je höher die  Anzahl der Schritte, um so empfindlicher ist das getestete System.  Die Ergebnisse werden in Tabelle 3 angeführt.   Tabelle 3                                                              



    <tb><TABLE> Columns = 3  <tb>Head Col 1: Photostarter von Beispiel <tb>Head  Col 2: Sensibilisator <tb>Head Col 3: Anzahl der reproduzierten  Stufen nach Belichten von 500 mJ/cm<2> <tb><SEP> 1<SEP> -<SEP> 10 <tb><SEP>  1<SEP> S-2<SEP> 12 <tb><SEP> 2<SEP> S-1<SEP> 10 <tb><SEP> 2<SEP>  S-2<SEP> 12 <tb><SEP> 3<SEP> S-1<SEP> 10 <tb><SEP> 3<SEP> S-2<SEP>  11 <tb><SEP> 4<SEP> S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 4<SEP> S-2<SEP> 11 <tb><SEP>  5<SEP> S-1<SEP> 10 <tb><SEP> 5<SEP> S-2<SEP> 13 <tb><SEP> 6<SEP>  S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 6<SEP> S-2<SEP> 11 <tb><SEP> 10<SEP> S-2<SEP>  10 <tb><SEP> 11<SEP> S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 11<SEP> S-2<SEP> 11 <tb><SEP>  12<SEP> S-1<SEP> 10 <tb><SEP> 12<SEP> S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 13<SEP>  S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 15<SEP> S-2<SEP>   9 <tb><SEP> 16<SEP> S-2<SEP>   9 <tb><SEP> 17<SEP> S-2<SEP>   9 <tb><SEP> 18<SEP> S-2<SEP> 10 <tb><SEP>    19<SEP> S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 19<SEP> 

  S-2<SEP>   9 <tb><SEP>  20<SEP> S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 20<SEP> S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 21<SEP>  S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 23<SEP> S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 24<SEP> S-1<SEP>   9 <tb><SEP> 24<SEP> S-2<SEP> 10 <tb><SEP> 25<SEP> S-2<SEP>    9 <tb><SEP> 26<SEP> S-2<SEP>   9 <tb><SEP> 27<SEP> S-1<SEP> 10 <tb><SEP>  27<SEP> S-2<SEP> 11 <tb><SEP> 28<SEP> S-2<SEP>   9 <tb><SEP> 30<SEP>  S-2<SEP> 10  <tb></TABLE>

Claims

1. Alkalisch entwickelbare lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend (A) mindestens eine alkalisch lösliche Bindemittelharz-, Prepolymer- oder Monomerkomponente; (B) mindestens eine Verbindung der Formel I oder II EMI78.1 worin R 1 C 4 -C 9 Cycloalkanoyl, C 3 -C 12 AIkenoyl; C 1 -C

2 0 Alkanoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren Halogen, CN oder Phenyl substituiert ist, darstellt; oder R 1 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1 -C 6 Alkyl, Halogen, CN, OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist, darstellt; oder R 1 C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl oder Benzyloxycarbonyl; oder Phenoxycarbonyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1 C 6 Alkyl oder Halogen substituiert ist, darstellt;

Ar 1 C 6 -C 20 Aryl oder C 6 -C 2 0 Aryloyl, wobei beide Reste unsubstituiert oder 1- bis 12-fach mit Halogen, C 1 -C 2 0 -Alkyl, Benzyl, C 1 -C 2 0 -Alkanoyl, C 3 -C 8 -Cycloalkyl substituiert sind; oder das C 6 -C 2 0 Aryl oder C 6 -C 2 0 Aryloyl mit Phenyl oder Benzoyl substituiert ist, wobei jeder davon gegebenenfalls mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist, oder das C 6 -C 20 ArylI oder C 6 -C 20 Aryloyl mit C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen, substituiert ist;

oder das C 6 -C 2 0 Aryl oder C 6 -C 2 0 Aryloyl mit Phenoxycarbonyl, OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist, wobei die Substituenten OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 gegebenenfalls 5- oder 6-gliedrige Ringe über die Reste R 3 , R 4 , R 5 und/oder R 6 mit weiteren Substituenten am Arylring der C 6 -C 2 0 Aryl- oder C 6 -C 2 0 Aryloylgruppe oder mit einem der Kohlenstoffatome des Arylrings der C 6 -C 2 0 Aryl- oder C 6 -C 2 0 Aryloylgruppe bilden, darstellt;

oder Ar 1 C 3 -C 9 Heteroaryl darstellt, mit der Massgabe, dass R 1 Acetyl darstellt, wobei das C 3 -C 9 Heteroaryl unsubstituiert oder 1- bis 7-fach mit Halogen, (C 1 -C 2 0 Alkyl, Benzyl, C 1 - C 2 0 Alkanoyl oder C 3 -C 8 Cycloalkyl substituiert ist, oder das C 3 -C 9 Heteroaryl mit Phenyl oder Benzoyl substituiert ist, wobei jeder davon gegebenenfalls mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist, oder das C 3 -C 9 Heteroaryl mit C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen, substituiert ist, oder das C 6 -C 2 0 Aryl oder C 6 -C 20 Aryloyl mit Phenoxycarbonyl, OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist; x 2 oder 3 ist;

EMI79.1 EMI79.2 EMI79.3 EMI79.4 darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls 1- bis 12-fach mit Halogen, C 1 -C 1 2 Alkyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl, Benzyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist; Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist; C 1 -C 1 2 Alkanoyl; C 2 -C 12 AIkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einem oder mehreren OH, Phenoxycarbonyl, OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4 oder NR 5 R 6 , substituiert ist; oder M 1 wenn x 3 ist, EMI80.1 darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls 1- bis 12-fach mit Halogen, C 1 -C 1 2 Alkyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl; Phenyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren OR 3 , SR 4 oder NR 5 R 6 substituiert ist;

Benzyl, Benzoyl, C 1 -C 1 2 AIkanoyl; C 2 -C 12 Alkoxycarbonyl, gegebenenfalls unterbrochen durch ein oder mehrere -O- und/oder gegebenenfalls substituiert mit einer oder mehreren Hydroxylgruppen, Phenoxycarbonyl, OR 3 , SR 4 , SOR 4 , SO 2 R 4 oder NR 5 R 6 , substituiert ist; M 2 eine direkte Bindung -O-, -S-, -SS-, -NR 3 -, -(CO)-, C 1 -C 1 2 Alkylen, Cyclohexylen, Phenylen, Naphthylen, -(CO)O-(C 2 -C 12 Alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH 2 CH 2 O) n -(CO)- oder -(CO)-(C 2 -C 12 -Alkylen)-(CO)- darstellt; oder M 2 C 4 -C 12 -Alkylen oder C 4 -C 12 Alkylendioxy- darstellt, wobei jeder davon gegebenenfalls durch 1 bis 5 -O-, -S- und/oder -NR 3 - unterbrochen ist; M 3 eine direkte Bindung, -CH 2 -, -O-, -S-, -SS-, -NR 3 - oder -(CO)- darstellt; M 3 eine direkte Bindung, -CH 2 -. -O-, -S-, -SS-, -NR 3 - oder -(CO)- darstellt;

EMI80.2 R 3 Wasserstoff oder C 1 -C 2 0 Alkyl darstellt; oder R 3 C 2 -C 12 Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C 3 -C 6 AIkenoxy, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 -C 4 Alkyl), -O(CO)-C 1 C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH, -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl), -N(C 1 C 4 Alkyl) 2 , -N(CH 2 CH 2 OH) 2 , -N[CH 2 CH 2 O-(CO)-C 1 -C 4 Alkyl] 2 oder Morpholinyl substituiert ist, darstellt; oder R 3 C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 3 -(CH 2 CH 2 O) n+ 1 H, -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 1 -C 8 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 6 Alkenoyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl darstellt; oder R 3 Benzoyl, das unsubstituiert oder mit einem oder mehreren C 1 -C 6 Alkyl, Halogen, -OH oder C 1 -C 4 Alkoxy substituiert ist, darstellt;

oder R 3 Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert oder mit Halogen, -OH, C 1 -C 1 2 Alkyl, C 1 -C 12 Alkoxy, Phenyl-C 1 -C 3 alkoxy, Phenoxy, C 1 -C 12 Alkylsulfanyl, Phenylsulfanyl, -N(C 1 -C 12 AlkyI) 2 , Diphenylamino oder -(CO)R 7 substituiert ist; oder R 3 Phenyl-C 1 -C 3 alkyl oder Si(C 1 -C 6 Alky) r (phenyl) 3 -r darstellt; r 0,1,2 oder 3 ist; n 1 bis 20 ist; R 4 Wasserstoff, C 1 -C 2 0 Alkyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl, Phenyl-C 1 -C 3 alkyl;

C 2 -C 8 Alkyl, das mit -OH, -SH, -CN, C 3 -C 6 Alkenoxy, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 -C 4 -Alkyl), -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R 4 C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- oder -S- unterbrochen ist, darstellt; oder R 4 -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 2 -C 8 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 6 Alkenoyl darstellt; oder R 4 Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert oder mit Halogen, C 1 -C 1 2 Alkyl, C 1 C 12 Alkoxy oder -(CO)R 7 substituiert ist;

R 5 und R 6 unabhängig voneinander Wasserstoff, C 1 -C 20 Alkyl, C 2 -C 4 Hydroxyalkyl, C 2 -C 10 Alkoxyalkyl, C 3 -C 5 Alkenyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl, Phenyl-C 1 -C 3 alkyl, C 1 -C 4 Alkanoyl, C 3 -C 12 Alkenoyl, Benzoyl darstellen; oder Phenyl oder Naphthyl, wobei jeder davon unsubstituiert oder mit C 1 -C 1 2 Alkyl oder C 1 -C 1 2 AIkoxy substituiert ist, darstellen; oder R 5 und R 6 zusammen C 2 -C 6 AIkylen, gegebenenfalls unterbrochen durch -O- oder -NR 3 - und/oder gegebenenfalls substituiert mit Hydroxyl, C 1 -C 4 Alkoxy, C 2 -C 4 Alkanoyloxy oder Benzoyloxy, darstellen;

R 7 Wasserstoff, C 1 -C 2 0 Alkyl darstellt; oder C 2 -C 8 Alkyl, das mit Halogen, Phenyl, -OH, -SH, -CN, C 3 -C 6 Alkenoxy, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO)O(C 1 -C 4 Alkyl), -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -O(CO)-Phenyl, -(CO)OH oder -(CO)O(C 1 -C 4 Alkyl) substituiert ist, darstellt; oder R 7 C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 7 -(CH 2 CH 2 O) n+1 H, -(CH 2 CH 2 O)CO)-C 1 -C 8 Alkyl, C 3 -C 12 Alkenyl, C 3 -C 8 Cycloalkyl; Phenyl, das gegebenenfalls mit einem oder mehreren Halogen, -OH, C 1 -C 1 2 Akyl, C 1 -C 1 2 AIkoxy, Phenoxy, C 1 -C 12 Alkylsulfanyl, Phenylsulfanyl, -N(C 1 -C 12 Alkyl) 2 oder Diphenylamino substituiert ist, darstellt; und (C) eine photopolymerisierbare Verbindung. 2. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei Verbindung (A) eine oligomere oder polymere Verbindung darstellt.

3. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 2, wobei die photopolymerisierbare Verbindung (C) eine Flüssigkeit ist.

4. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-4, wobei Komponente (B) eine Verbindung der Formel I oder II ist, worin R 1 C 2 -C 4 Alkanoyl darstellt; Ar 1 Phenyl oder Naphthyl darstellt, wobei jeder davon unsubstituiert oder mit Halogen, C 1 -C 8 Alkyl, NR

5 R

6 oder OR 3 substituiert ist, wobei die Substituenten OR 3 gegebenenfalls 5-oder 6-gliedrige Ringe über die Reste R 3 mit weiteren Substituenten am Phenyl- oder Naphthylring bilden; oder Ar 1 2-Furyl, 2-Pyrrolyl, 2-Thienyl, 3-lndolyl darstellt, mit der Massgabe, dass R, Acetyl darstellt; EMI83.1 x 2 ist;

R 3 C 1 -C 2 0 Alkyl darstellt; oder R 3 C 2 -C 12 Alkyl, das mit OH, -O(CO)-C 1 -C 4 Alkyl, -N(C 1 -C 4 Alkyl) 2 , -N(CH 2 CH 2 OH) 2 , -N[CH 2 CH 2 O-(CO)-C 1 -C 4 Alkyl] 2 oder Morpholinyl substituiert ist, darstellt; oder R 3 C 2 -C 12 Alkyl, das durch ein oder mehrere -O- unterbrochen ist, darstellt; oder R 3 -(CH 2 CH 2 O) n+1 H oder -(CH 2 CH 2 O) n (CO)-C 1 -C 4 Alkyl darstellt; n 1 bis 3 ist; und R 5 und R 6 C 1 -C 4 Alkyl darstellen. 5.

Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, wobei das Oligomer oder Polymer (A) ein Bindemittelpolymer, insbesondere ein Copolymer von (Meth)acrylat und (Meth)acrylsäure oder ein Harz, das durch die Reaktion eines gesättigten oder ungesättigten mehrbasigen Säureanhydrids mit einem Reaktionsprodukt von einer Epoxyverbindung und einer ungesättigten Monocarbonsäure erhalten wird, darstellt, oder ein Additionsprodukt, das zwischen einem Carboxylgruppe-enthaltenden Harz und einer ungesättigten Verbindung mit einer alpha , beta -ungesättigten Doppelbindung und einer Epoxygruppe gebildet wird, darstellt. 6. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, die zusätzlich zu Komponenten (A), (B) und (C) mindestens eine Photosensibilisator-Verbindung (D) umfasst.

7.

Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 6, umfassend 100 Gewichtsteile Komponente (A), 0,015 bis 120 Gewichtsteile Komponente (B), 5 bis 500 Gewichtsteile Komponente (C) und 0,015 bis 120 Gewichtsteile Komponente (D).

8. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, umfassend weitere Additive (E), die aus der Gruppe, bestehend aus Epoxyverbindungen, thermischen Polymerisationsinhibitoren, anorganischen Füllstoffen, Färbemitteln, Epoxy-Härtungsmitteln, Aminen, Kettenübertragungsmitteln, thermischen radikalischen Startern, Licht-reduzierbaren Farbstoffen, optischen Aufhellern, Verdickungsmitteln, Antischäummitteln und Nivelliermitteln, insbesondere anorganischen Füllstoffen, ausgewählt sind.

9. Lichtempfindliche Zusammensetzung nach Anspruch 1, zusätzlich umfassend eine Epoxyverbindung, die mindestens zwei Epoxygruppen im Molekül enthält.

10. Lötresist, umfassend eine Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9.

11. Farbfilterresist, umfassend eine Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9.

12. Verfahren für die Photopolymerisation von Verbindungen, die ethylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten, das Bestrahlen einer Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9 mit elektromagnetischer Strahlung im Bereich von 150 bis 600 nm umfasst.

13. Beschichtetes Substrat, das auf mindestens einer Oberfläche mit einer Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9 beschichtet ist.

14. Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern, wobei ein beschichtetes Substrat nach Anspruch 13 bildmässiger Belichtung mit elektromagnetischer Strahlung im Bereich von 150 bis 600 nm ausgesetzt wird und anschliessend die unbelichteten Teile mit einem Lösungsmittel entfernt werden.

15.

Farbfilter, hergestellt durch Bereitstellen von roten, grünen und blauen (RGB)-Farbelementen und gegebenenfalls einer schwarzen Matrix, wobei alle eine lichtempfindliche Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9 und ein Pigment umfassen, auf einem transparenten Substrat, und Bereitstellen einer transparenten Elektrode, entweder auf der Oberfläche des Substrats oder auf der Oberfläche der Farbfilterschicht.

16.

Verfahren zur Erzeugung von Bildern, wobei (1) die Komponenten einer Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1-9 vermischt werden, (2) die erhaltene Zusammensetzung auf das Substrat aufgetragen wird, (3) das Lösungsmittel, falls vorliegend, bei erhöhter Temperatur verdampft wird, (4) das beschichtete Substrat durch Bestrahlung musterweise belichtet wird, (5) die bestrahlte Probe mit einer wässerigen alkalischen Lösung entwickelt wird, wodurch die nicht gehärteten Flächen entfernt werden und (6) die Probe thermisch gehärtet wird.