SE522645C2 - Ljuskänslig hartskomposition, lödresist, färgfilterresist, belagt underlag och färgfilter innefattande kompositionen samt förfarande för fotopolymerisation, framställning av reliefbilder och framställning av bilder - Google Patents

Description

25 30 o u ~ n n | nu 522 645 2 substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; eller nämnda Có-Czoaryl eller Cö-Czoaryloyl är substituerad med fenoxikarbonyl, OR3, SR4, SOR4, SO2R4 eller NR5R6, vari substituentema OR3, SR4 eller NR5R6 eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över grupperna Rg, R4, R, och/eller Rs med ytterligare substituenter på arylringen av Có-Czoaryl- eller Cfi-Czo. aryloylgruppen eller med en av kolatomerna i arylringen hos Cs-Cgoaryl- eller Có-Czo. aryloylgrupper; eller Ar; betecknar Cg-Cgheteroaryl, förutsatt att R; betecknar acetyl, nämnda C3-C9. heteroaryl är osubstituerad eller substituerad l till 7 gånger med halogen, Cl-Cgoalkyl, bensyl, Cl-Czoalkanoyl eller Cg-Cgcykloalkyl; eller nämnda Cg-Cgheteroaryl är substituerad med fenyl eller bensoyl, vilka var och en eventuellt är substituerad med en eller flera ORg, SR., eller NR5R6; eller nämnda Cg-Cgheteroaryl är substituerad med Cz-Cualkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; eller nämnda Có-Czoaryl eller Có-Cgoaryloyl är substituerad med fenoxikarbonyl, OR3, SR4, SOR4, SO2R4 eller NRgRó; x har värdet 2 eller 3; M1, när x har värdet 2, betecknar Q; t «~®M@t aïiiíš* »en i fiolês i i o Q Q M "Q " \C_ få ä , the: IEC ärm i QWC? / M3 \ = vilka var och en eventuellt är substituerad 1 till 12 gånger med halogen, Cl-Cualkyl, Cg-Cg. cykloalkyl, bensyl; fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NR5R6; bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera ORg, SR4 eller NR5R6; Cl-Clgalkanoyl; Cz-Cnalkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller C:\l l0049l00.SAH 20 25 30 . - « - .a n | » v | .o 645 522 3 flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera OH, fenoxikarbonyl, OR;, SR4, SCR-z, SÛ2R4 eller NR;R¿; eller M1, när x har värdet 3, betecknar M4 Q vilka var och en eventuellt är substituerad l till 12 gånger med halogen, Cl-Cnalkyl, C;-Cg- cykloalkyl; fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR;, SR4 eller NRsRs; bensyl, bensoyl, Cl-Cualkanoyl; Cz-Cnalkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper, fenoxikarbonyl, OR;, SR4, SOR4, SO2R4 eller NR;R6, M2 betecknar en direkt bindning, -O-, -S-, -SS-, -NT;-, -(CO)-, Cl-Cnalkylen, cyklo- hexylen, fenylen, naftylen, -(CO)O-(C2-C12alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O),,-(CO)- eller -(CO)-(C2-C1;alkylen)-(CO)-; eller M; betecknar C4-Cnalkylen eller: C4-Cualkylendi- oxi-, vilken var och en eventuellt är bruten av 1 till 5 -O-, -S- och/eller -NR;-; M; betecknar en direkt bindning, -CH;-, -O-, -S-, -SS-, -NR - eller -(CO)-; M4betecknar \N/ _ NÅN eller l /LNÅ R; betecknar väte eller Ci-Czoalkyl; eller R; betecknar Cz-Cnalkyl som är sub- stituerad med -OH, -SI-I, -CN, C;-C6alkenoxi, -OCH2CH;CN, -OCH;CH;(CO)O(C;-C4alkyl), -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH, -(CO)O(C1-C4alkyl), -N(C1-C4alkyl)2, -N(CH;CH2OH);, -N[CH;CH2O-(CO)-C1-C4alkyl]2 eller morfolinyl; eller R; betecknar C;-C12alkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O)n+1H, -(CH2CH;O).,(CO)-Cl-Cgalkyl, Cl-Cgalknoyl, C;-C1;alkenyl, C;-C6alkenoyl, C;-C;cykloalkyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera Cl-Có. alkyl, halogen, -OH eller C1-C4alkoxi; eller R; betecknar fenyl eller nafiyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med halogen, -OH, Cl-Cnalkyl, Cl-Clgalkoxi, fenyl-C1-C;. alkoxi, fenoxi, Cl-Cnalkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C12alkyl)2, difenylamino eller -(CO)R7; eller R; betecknar fenyl-C1-C;alkyl, eller Si(C1-C6alkyl),(fenyl);.,; r har värdet 0, 1, 2 eller 3; C:\l l0049l00.SAH 20 25 30 o a a a . n n n I I ul v | o u u u 522 645 n har värdet 1 till 20; R4 betecknar väte, Cl-Czoalkyl, Cz-Cualkenyl, Cg-Cgcykloalkyl, fenyl-C1-C3alkyl; Cz-Cgalkyl som är substituerad med -OH, -SH, -CN, C3-C6alkenoxi, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C4alkyl), -O-(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH eller -(CO)O(C1-C4alkyl); eller R4 betecknar Cg-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O- eller -S-; eller R4 betecknar -(CI-I2CH2O),,+1H, -(CH2CH2O),1(CO)-Cl-Cgalkyl, Cz-Cgalkanoyl, C3-C12alkenyl, C3-C6alkenoyl; eller R4 betecknar fenyl eller naftyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Ci-Cnalkyl, Cl-Cnalkoxi eller -(CO)R-;; R; och Ró oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Czoalkyl, C2-C4hydroxialkyl, C2-C10alkoxialkyl, Cg-Cgalkenyl, Cg-Cgcykloalkyl, fenyl-Cl-Cgalkyl, C1-C4alkanoyl, Cg-Cn- alkenoyl, bensoyl; eller betecknar fenyl eller naftyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med C1-Cnalkyl eller Cl-Clzalkoxi; eller R; och Ró tillsammans betecknar Cz-CG- alkylen som eventuellt är bruten av -O- eller -NRg- och/eller eventuellt är substituerad med hydroxyl, Cl-C4alkoxi, C2-C4alkanoyloxi eller bensoyloxi; Rv betecknar väte, Cl-Cggalkyl; eller betecknar Cz-Cgalkyl som änsubstituerad med halogen, fenyl, -OH, -SH, -CN, C3-C6alkenoxi, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1- C4alkyl), -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH eller -(CO)O(C1-C4alkyl); eller Ry betecknar Cg-Cnalkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller Rv betecknar -(CH2CH2O).,+1H, -(CH2CH2O),,(CO)-Cl-Cgalkyl, Cg-Cnalkenyl, Cg-Cgcykloalkyl; fenyl som eventuellt är sub- stituerad med en eller flera halogen, -OH, C1-C12alkyl, Cl-Cnalkoxi, fenoxi, Cl-Cu- alkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C12alkyl)2 eller difenylamino; och en fotopolymeriserbar förening. uppvisar oväntat goda prestanda.

Cr-Czoalkyl är linjär eller grenad och utgöres exempelvis av C1-C1g-, C1-C|4-, Cl-Clr, C1-Cg-, Cj-Có- eller C1-C4alkyl, eller av C4-C12- eller C4-Cgalkyl. Exempel utgöres av metyl, etyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sek-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, 2,4,4-trimetylpentyl, 2-etylhexyl, oktyl, nonyl, decyl, dodecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, oktadecyl och ikosyl. Cl-Cnalkyl, Cl-Cóalkyl, C2-C6alkyl och C1-C4alkyl har samma betydelser som angivits ovan for Cl-Cmalkyl upp till det motsvarande antalet C- atomer.

C1-C20alkyl som är bruten av en eller flera -O- är exempelvis bruten 1-9, 1-5, l-3 eller en eller två gånger med -O-, Två O-atomer är åtskilda av minst två metylengrupper, nämligen etylen. Alkylgruppema är linjära eller grenade. Exempelvis kommer följande strukturenheter att uppkomma, -CHz-CHz-O-CHzCHg, -[CH2CH2O]y-CH3, vari y = 1-9, -(CH2-CH2O)7-CH2CH3, -CH2-CH(CH3)-O-CH2-CH2CH3 eller -CH2CH(CH3)-O-CH2-CH3.

C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 . . o - n o u c I v nu 522 645 e | » o o se 5 Cz-Cóalkyl som är bruten av 1 eller 2 -O- utgöres exempelvis av -CH2CH2-O-CH2CH2- OCH2CH3 eller -CH2CH2-O-CH2CH3.

C2-C4hydroxia1kyl betecknar C2-C4alkyl som är substituerad med en eller två O- atomer. Alkylgruppen är linjär eller grenad. Exempel utgöres av 2-hydroxietyl, 1-hydroxietyl, 1-hydroxipropyl, 2-hydroxipropyl, S-hydroxipropyl, 1-hydroxibutyl, 4-hydroxibutyl, 2- hydroxibutyl, 3-hydroxibutyl, 2,3-dihydroxipropyl eller 2,4-dihydroxibutyl.

Cg-Cgcykloalkyl utgöres exempelvis av cyklopropyl, cyklobutyl, cyklopentyl, cyklohexyl, cyklooktyl, och speciellt då av cyklopentyl och cyklohexyl.

C1-C4a1koxi är linjär eller grenad, exempelvis då metoxi, etoxi, propoxi, isopropoxi, n-butyloxi, sek-butyloxi, isobutyloxi eller tert-butyloxi.

Cz-Cmalkoxialkyl utgöres av Cz-Cloalkyl som är bruten av en O-atom. Cz-Cmalkyl har samma betydelser som angivits ovan för Cj-Cmalkyl upp till det motsvarande antalet C- atomer. Exempel utgöres av metoximetyl, metoxietyl, metoxipropyl, etoximetyl, etoxietyl, etoxipropyl, propoximetyl, propoxietyl och propoxipropyl.

Cl-Cgoalkanoyl är linjär eller grenad och utgöres exempelvis av :Cz-CW, C2-C14-, C2-C12-, Cz-Cr, Cz-Có- eller C2-C4alkanoyl, eller av C4-C12- eller Clt-Cgalkanoyl. Exempel utgöres av formyl, acetyl, propionyl, butanoyl, isobutanoyl, pentanoyl, hexanoyl, heptanoyl, oktanoyl, nonanoyl, dekanoyl, dodekanoyl, tetradekanoyl, pentadekanoyl, hexadekanoyl, oktadekanoyl, ikosanoyl, företrädesvis då acetyl, C1-C12alkanoyl, Cj-Cgalkanoyl, Cj-Ca. alkanoyl och C2-C4alkanoyl har samma betydelser som angivits ovan för Cz-Czoalkanoyl upp till det motsvarande antalet C-atomer.

C4-C9cykloalkanoyl utgöres exempelvis av cyklopropanoyl, cyklobutanoyl, cyklopentanoyl, cyklohexanoyl eller cyklooktanoyl.

C2-C4alkanoyloxi är linjär eller grenad, exempelvis då acetyloxi, propionyloxi, butanoyloxi, isobutanoyloxi, och företrädesvis acetyloxi.

Cz-Cualkoxikarbonyl är linjär eller grenad, och utgöres exempelvis av metoxi- karbonyl, etoxikarbonyl, propoxikarbonyl, n-butyloxikarbonyl, isobutyloxikarbonyl, 1,l-di- metylpropoxikarbonyl, pentyloxikarbonyl, hexyloxikarbonyl, heptyloxikarbonyl, oktyloxi- karbonyl, nonyloxikarbonyl, decyloxikarbonyl eller dodecyloxikarbonyl, och speciellt då av metoxikarbonyl, etoxikarbonyl, propoxikarbonyl, n-butyloxikarbonyl eller iso-butyloxi- karbonyl och företrädesvis då metoxikarbonyl.

Cg-Clzalkoxikarbonyl som är bruten av en eller flera -O- är linjär eller grenad. Två O-atomer är åtskilda av minst två metylengrupper, nämligen etylen.

C:\1l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 . , ; . , . | n u . nu o 522 645 a n u c v nu 6 Có-Cmaryl utgöres exempelvis av fenyl, 1-nafiyl-, Z-naftyl, 9-antryl, 9-fenantryl, 1- pyrenyl, 2-pyrenyl, l-perylenyl eller 3-perylenyl, företrädesiv då fenyl eller nafiyl. Cw-Cm. aryl och Có-Cuaryl har samma betydelser som angivits ovan för CG-Czoaryl, upp till motsvarande antal kolatomer.

Có-Cgoaryloyl utgöres exempelvis av bensoyl, l-naftoyl, Z-nafioyl, 9-antracen- karbonyl, 9-fenantrenkarbonyl, 1-pyrenkarbonyl, 2-pyrenkarbonyl, l-perylenkarbony eller 3- perylenkarbonyl, och företrädesvis då av bensoyl eller naftoyl. Cw-Czoaryloyl har samma betydelser som angivits ovan för C5-C20aryloyl, upp till motsvarande antal kolatomer.

Substituerade arylgrupper Ar; och Ar; är substituerade l till 12 gånger. Det är uppenbart att en definierad arylgrupp inte kan ha flera substituenter än fria positioner i arylringen. Gruppema är Substituerade 1 till 12 gånger, exempelvis då 1 till 9 gånger, 1 till 6 gånger, l till 4 gånger, och speciellt då en, två eller tre gånger.

Cg-Cgheteroaryl utgöres exempelvis av Z-fiiryl, 3-fi1ryl, 2-pyrrolyl, 3-pyrrolyl, 2- tienyl, 3-tienyl, 2-tiazolyl, Z-bensofuranyl, Iš-bensofuranyl, 2-indolyl, 3-indolyl, 2-benso- tiofenyl, Ii-bensotiofenyl, 2-bensotiazolyl, 2-pyridyl, 3-pyridyl, 2-kinolyl, 3-kinolyl, 4-kinolyl, l-isokinlyl, 3-isokinolyl och 4-isokinlyl. å O Fenoxikarbonyl utgöres av -ë-O-Q - Substituerade fenoxikarbonylgrupper är substituerade en till fyra gånger, exempelvis en, två eller tre gånger, och speciellt då två eller tre gånger. Substituenter på fenylgruppen föreligger lämpligen i ställningarna 4 eller i 3,4-, 3,4,5-, 2,6-, 2,4- eller 2,4,6-ställning i fenylringen, speciellt då i 4- eller 3,4-ställning.

Fenyl-Cl-Cgalkyl utgöres exempelvis av bensyl, fenyletyl, or-metylbensyl eller ot,ot- dimetylbensyl, speciellt då av bensyl.

Cg-Cgoalkenylgrupper kan vara mono- eller fleromättade, och utgöres exempelvis av C;-C12-, Cz-Cóalkenyl, t.ex. allyl, metallyl, Ll-dimetylallyl, l-butenyl, 3-butenyl, 2-butenyl, lß-pentadienyl, S-hexenyl, 7-oktenyl eller dodecenyl, tetradecenyl, pentadecenyl, hexa- decenyl, oktadecenyl och ikosenyl, och speciellt då av allyl. Cg-Cualkenylgrupper och C3-C5. alkenylgrupper har samma betydelser som angivits ovan för Cz-Cmalkenylgrupper, upp till motsvarande antal kolatomer.

Cz-Czoalkynylgnipper utgöres exempelvis av Cz-Cn- eller Cz-Cóalkynyl, och kan vara mono- eller fleromättade, och utgöres exempelvis av etynyl, propargyl, l-butynyl, 3- butynyl, 2-butynyl, 5-hexynyl, 7-oktynyl eller dodecynyl, tetradecynyl, pentadecynyl, hexa- decynyl, oktadecynyl eller ikosynyl.

C:\l lO049l00.SAH 10 15 20 25 30 o a u u n u | n u I nu n 522 645 a s u v o v nu 7 C3-C6alkenoxigrupper kan vara mono- eller fleromättade och utgöres exempelvis av allyloxi, metallyloxi, butenyloxi, pentenyloxi, 1,3-pentadienyloxi eller S-hexenyloxi.

Cg-Cóalkenoylgrupper kan vara mono- eller fleromättade och utgöres exempelvis av propenoyl, Z-metylpropenoyl, butenoyl, pentenoyl, 1,3-pentadienoyl eller S-hexenoyl.

Halogen utgöres av fluor, klor, brom eller jod, speciellt då fluor, klor och brom, och företrädesvis fluro och klor.

Om substituentema OR3, SR4 och NR5R6 på en fenylring bildar 5- eller 6-lediga ringar över grupperna Rg, R4, R; och/eller R6 med ytterligare substituenter på fenylringen eller med en av kolatomerna i fenylringen, erhålles uppbyggnader som innehåller två till fyra ringar (innefattande fenylringen eller nafiyl-, antracyl- eller fenantrylringen). Exempel utgöres av de följande o O 5 ' s gg 'EOÛ ' msß ' Cíoø ' i Oximestrar med formlerna I och II framställes medelst metoder* som beskrives i litteraturen, exempelvis genom reaktion av motsvarande oximer (Rl = H) med en acylklorid eller en anhydrid i ett inert lösningsmedel, såsom t-butylmetyleter, tetrahydrofiiran (THF) eller dimetylformamid (DMF), i närvaro av en bas, t.ex. trietylamin eller pyridin, eller i ett basiskt lösningsmedel, såsom pyridin.

O_H cl-R, N eller (å-Ri m Årf-'ö-H RFC-R' Arf-'ö-H > < bas Q-H se lt* ty (m) Affe-R, Affe-R, Sådana reaktioner är välkända för fackmannen, och genomfores vanligen vid temperaturer från -15 till 50°C, företrädesvis då vid 0 till 25°C.

De oximer som erfordras som utgångsmaterial kan framställas medelst olika metoder som beskrives i standardböcker inom kemin (exempelvis i J. March, Advanced Organic Chemistry, 4:e uppl., Wiley Interscience, 1992), eller i specialiserade monografier, C:\l l0049100.SAH 10 15 20 25 30 | o v n v o n v I n so u YO 52645 | u | v o v- 8 exempelvis S.R. Sandler & W. Karo, Organic functional group preparations, vol. 3, Academic Press.

En av de mest lämpliga metoderna utgöres exempelvis av reaktionen mellan aldehyder eller ketoner och hydroxylamin eller dess salt i polära lösningsmedel, såsom etanol eller vattenhaltig etanol. I detta fall tillsättes en bas, såsom natriumacetat eller pyridin, för att reglera reaktionsblandningens pH. Det är välkänt att reaktionshastigheten är pH-beroende, och basen kan tillsättas vid början eller kontinuerligt under reaktionen. Basiska lösningsmedel, såsom pyridin, kan även användas som bas och/eller lösningsmedel eller samlösningsmedel. Reaktionstemperaturen är vanligen återloppstemperaturen hos bland- ningen, vanligen då 60-120°C.

En annan lämplig syntes av oximer utgöres av nitrosering av ”aktiva” metylen- grupper med salpetersyrlighet eller ett alkylnitrit. Såväl alkaliska betingelser, såsom beskrives i Organic Syntheses coll. vol. VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), sid 199 och 840, och sura betingelser, såsom beskrives i Organic Synthesis coll. vol. V, sid 32 och 373, coll. vol III, sid 191 och 513, coll. vol II, sid 202, 204 och 363, är lämpliga för framställning av de oximer som användes som utgångsmaterial iuppfmningen. Salpetersyrlighet framställes vanligen från natriumnitrit. Alkylnitritet kan exempelvis utgöras av metylnitrit, etylnitrit, isopropylnitrit, butylnitrit eller isoamylnitrit.

Varje oximestergrupp kan föreligga i två konfigurationer, (Z) eller (E). Det är möjligt att åtskilja isomerema medelst konventionella metoder, men det är även möjligt att använda isomerblandningen som fotoinitierande medel. Därför hänför sig uppfinningen även till blandningar av konfigurationsisomerer av föreningar med formlerna I och II.

Av speciellt intresse som fotoinitiatorer för beredningarna enligt föreliggande uppfinning är föreningarna med formel I och II.

En föredragen beredning som komponent (B) innefattar en förening med formel I eller II, vari Rl betecknar Cz-Cóalkanoyl eller Cz-Cgalkoxikarbonyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad av en eller flera Cl-Cóalkyl eller halogen; Ar; betecknar fenyl eller nafiyl, varvid var och en av dessa grupper är osubstituerad eller är substituerad 1 till 5 gånger med halogen, Cl-Czoalkyl, bensyl eller Cl-Czoalkanoyl; eller nämnda fenyl eller naftyl är substituerad med fenyl eller bensoyl, av vilka var och en eventuellt är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NR5R6; eller nämnda fenyl eller nafiyl är substituerad med Cz-Cu. alkoxikarbonyl, som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är C-\l l0049l00.SAH 20 30 522 645 n - . | n | n 9 substituerad med en eller flera OH; eller nämnda fenyl eller naftyl är substituerad med OR3, SR., eller NR5R6, vari substituentema OR3, SR4 eller NR5R6 eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över grupperna Rg, R4, R; och/eller Rs med vidare substituenter på fenyl- eller nafiylringen eller med en av kolatomerna i fenyl- eller naftylringen; eller Ar; betecknar furyl, pyrrolyl, tienyl, bensofilranyl, indolyl, bensotiofenyl eller pyridyl, förutsatt att R; betecknar acetyl; varvid var och en av dessa grupper är osubstituerad eller är substituerad 1 till 4 gånger med halogen, Cl-Czoalkyl, bensyl, Cg-Cgcykloalkyl, fenyl, C1-C20alkanoyl, bensoyl, Cz-Cnalkoxikarbonyl, fenoxikarbonyl, ORg, SR4, SOR4, SO2R4 eller NRsRsš x har värdet 2; Mr o i i eller care eller M ' varvid var och en eventuellt är substituerad 1 till 4 gånger med halogen, Cr-Cnalkyl, bensyl, ORg, SR4 eller NR5R6; eller med fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NR5R6; eller med bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NRsRis; eller med C1-C12. alkanoyl; eller Cg-Cualkoxikarbonyl, eventuellt bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; M2 betecknar en direkt bindning, -O-, -S-, -SS-, -NR3-, -(CO)-, C1-Cualkylen, fenylen, -(CO)O-(C2-C12alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH2CH;O)n-(CO)- eller -(CO)-(C2-C12. alkylen)-(CO); eller M2 betecknar C4-C12alkylen eller C4-C12alkylendioxi-, vilka var och en eventuellt är bruten av 1 till 5 -O-, -S- och/eller -NR3-; M3 betecknar en direkt bindning, -CH2-, -O-, -S-, -NRg- eller -(CO)-; R3 betecknar väte eller Cl-Czoalkyl; eller R; betecknar Cg-Cnalkyl som är sub- stituerad med -OH, -SH, -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)O(C1-C4alkyl), -N(C1-C4. alkyl)2, -N(CH2CH2OH)2, -N[CH2CH;O-(CO)-C1-C4alkyl]2 eller morfolinyl; eller R; beteck- nar C2-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O),.+1H, -(CH;CH2O),.(CO)-Cl-Cgalkyl, fenyl-Cl-Cgalkyl, Cg-Cgalkanoyl, Cg-Cnalkenyl eller C3-C6. alkenoyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera Cl-Cfialkyl, halogen eller C1-C4alkoxi; eller R; betecknar fenyl eller naftyl som är substituerad med en eller flera Cl-Cóalkyl, halogen eller C1-C4alkoxi; eller R; betecknar fenyl eller naltyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Cl-Cualkyl, C:\l l0049l00.SAH 20 25 30 n r I v co u n 522 645 š*?åšf%?*" 1 o c o :v nu s v | | 0 I u 10 Cl-Cnalkoxi, fenyl-Cl-Cgalkoxi, fenoxi, Cl-Cnalkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C12alkyl)2, difenylamino eller -(CO)R7; n har värdet l till 20; Ra betecknar väte, Cl-Cgoalkyl, Cg-Cnalkenyl, fenyl-Cl-Cgalkyl; Cz-Cgalkyl som är substituerad med -OH, -SH, -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl eller -(CO)O(C1-C4alky1); eller R4 betecknar Cz-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O- eller -S-; eller R4 betecknar -(CH2CH2O),,.1H, -(CH2CH2O),,(CO)-Cl-Cnalkyl, Cz-Cgalkanoyl, Cg-Cizalkenyl, Cg-Cfi. alkenoyl; eller R4 betecknar fenyl eller nafiyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Cl-Cizalkyl, Cl-Cualkoxi eller -(CO)R7; R; och R6 oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Czoalkyl, C2-C4hydroxialkyl, Cz-Cwalkoxialkyl, fenyl-C1-C3alkyl, C1-C4alkanoyl, Cg-Cnalkenoyl, bensoyl; eller betecknar fenyl eller naflyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med Cl-Cualkyl eller Cl-Cnalkoxi; eller R; och Ró tillsammans betecknar Cz-Cöalkylen, eventuellt bruten av -O- eller -NR3- och/eller eventuellt substituerad med hydroxyl, C1-C4alkoxi, Cz-Caalkanoyloxi eller bensoyloxi; och b* R-i betecknar väte, Cl-Cgoalkyl; eller betecknar Cg-Cgalkyl som är substituerad med halogen, fenyl, -OH, -SH, Cg-Cóalkenoxi, -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl eller -(CO)O- (C1-C4alkyl); eller R7 betecknar Cz-Cnalkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller Ry betecknar -(CH2CH2O),,+1H, -(CH2CH2O),.(CO)-Ci-Cgalkyl eller C3-C12alkeny1; eller beteck- nar fenyl som eventuellt är substituerad med en eller flera halogen, Cl-Cualkyl, Cl-Cnalkoxi, fenoxi, Cl-Cnalkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C|-C12alkyl)2 eller difenylamino.

En ljuskänslig beredning såsom beskrivits ovan foredrages, vari komponenten (B) utgör en förening med fonnel I, vari Rl betecknar Cz-C4alkanoyl; Ar; betecknar fenyl eller nafiyl, vilka var och en är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Cl-Cgalkyl, NR5R6 eller 0R3, vari substituentema OR; eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över gruppema R; med ytterligare substituenter i fenyl- eller naftylringen; eller Ar; betecknar Z-furyl, 2-pyrrolyl, 2-tienyl, 3-indolyl, förutsatt att R; betecknar acetyl; M1 betecknar Ü ; x har värdet 2; R; betecknar Ci-Cmalkyl; eller R; betecknar Cz-Cnalkyl som är substituerad med OH, -O(C0)-C1-C4alky1, -N(C1-C4alkyl)2, -N(CH2CH2OH);, -N[CH2CH2O-(CO)-C1-C4a1kyl] C:\l l0049l0O.SAH 10 15 20 25 30 1 . a - o o u u ø u .n 522 645 ll eller morfolinyl; eller R; betecknar Cg-Clzalkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O)..+1H eller -(CH2CH2O),,(CO)-C1-C4alkyl; n har värdet 1 till 3; och R; och Ró betecknar C1-C4alkyl.

Föreningama med formlerna I och II kan användas som fotoinitiatorer för fotopolymerisation av eteniskt omättade föreningar eller av blandningar som innehåller sådana föreningar.

Komponenten (A) i beredningen enligt uppfinningen utgöres av en monomer, oligomer eller polymer, som år löslig i vattenhaltig alkalisk framkallare.

Exempel på lämpliga komponenter (A) utgöres av oligomerer och polymerer som har en molvikt av ca 500 till 2 000 000, lämpligen 1000 till 1 000 000. Exempel på alkaliframkallningsbara bindemedel utgöres av akrylpolymerer som har en karboxyl- syrafunktion som alkalisolubiliserande, vidhängande grupp, såsom konventionellt kända sampolymerer som erhålles genom sampolymerisation av en eteniskt omättad karboxylsyra, såsom (met)akrylsyra, 2-karboxietyl(met)akrylsyra, 2-karboxipropyl(met)akrylsyra, itakon- syra, krotonsyra, maleinsyra och fumarsyra, med en eller flera monomerer, valda bland estrar av (met)akrylsyra, såsom metyl(met)akrylat, etyl(met)akrylat, propyl(met)akrylat, butyl(met)- akrylat, bensyl(met)akrylat, 2-etylhexyl(met)ak1ylat, hydroxietyl(met)akrylat, hydroxipropyl- (met)akrylat; vinylaromatiska föreningar, såsom styren, ot-metylstyren, vinyltoluen, p- klorstyren; omättade föreningar av amidtyp, (met)akrylamid, diacetonakrylamid, N- metylolakrylamid, N-butoximetakrylamid; och föreningar av polyolefintyp, såsom butadien, isopren, kloropren och liknande; metakrylnitril, metylisopropenylketon, vinylacetat, vinylpropionat eller vinylpivalat. Exempel på sampolymerer utgöres av sampolymerer av akrylater och metakrylater med akrylsyra eller metakrylsyra och med styren eller substituerad styren, fenolhartser, exempelvis novolak, (poly)hydroxistyren, och sampolymerer av hydroxistyren med alkylakrylater, akrylsyra och/eller metakrylsyra. Föredragna exempel på sampolymerer utgöres av sampolymerer av metylmetakrylat/metakrylsyra, sampolymerer av bensylmetakrylat/metakrylsyra, sampolymerer av metylmetakrylat/etylakiylat/metakrylsyra, sampolymerer av bensylmetakrylat/metakrylsyra/styren, sampolymerer av bensylmetakrylatl- metakrylsyra/hydroxietylmetakrylat, sampolymerer av metylmetakrylat/butylmetakrylat/- metakrylsyra/styren, och metylmetakrylat/bensylmetakrylatl- metakrylsyra/hydroxifenylmetakrylat. sampolymerer av C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 12 Föreningen (A) kan även utgöra en alkalilöslig, monomer förening, förutsatt att dess halt i beredningen är tillräckligt hög för göra hela beredningen löslig i den alkaliska framkallaren.

De funktionella grupper i föreningen (A) som medför en god alkalilöslighet utgöres företrädesvis av karboxylgrupper. Även andra grupper som medför alkalilöslighet är dock möjliga. Exempel på sådana grupper är fenolgrupper, sulfonsyragrupper och anhydridgrupper.

Vidare kan föreningen (A) utgöra en alkalilöslig polyimidförförening, t.ex. en poly(aminsyraester)förening, eventuellt med fotopolymeriserbara sidogrupper som antingen är bundna till huvudkedjan eller till estergruppema i molekylen och tillräckligt av fria fenolgrupper eller karboxylgrupper för att göra detta material lösligt i vattenhaltigt alkali, eller det kan exempelvis utgöras av en poly(aminosyra).

Andra exempel på alkalilösliga föreningar (A) innefattar sampolymerer av hydroxistyren med styren, alkylakrylater, akrylsyra, alkylmetakrylater och metakrylsyra.

Vidare exempel på komponenten (A) utgöres av oligomerer eller polymerer, erhållna genom reaktion av en mättad eller omättad, flerbasig syraanhydrid med en reaktionsprodukt av en epoxiförening och en omättad monokarboxylsyra. Som epoxiföreningar som användes för beredningen utgöres de mest intressanta av epoxiföreningar av novolaktyp.

Det i det föregående nämnda harts som är härdbart medelst en aktiverad energistråle erhålles genom att en reaktionsprodukt av en epoxiförening av novolaktyp (såsom beskrives i det följande) och en omättad monokarboxylsyra bringas att reagera med en dibasisk syra- anhydrid, såsom fialsyraanhydrid eller en aromatisk polykarboxylsyraanhydrid, såsom trimellitsyraanhydrid eller pyromellitsyraanhydrid. I detta fall visar sig hartset vara speciellt lämpligt när vid dess framställning den mängd av den i det föregående nämnda syraanhydrid som användes för reaktionen överstiger 0,15 mol per vardera av de hydroxylgrupper som föreligger i reaktionsprodukten av epoxiföreningen av novolaktyp och den omättade karboxylsyran.

Syratalet hos det sålunda framställda hartset ligger lämpligen inom området från 45 till 160 mg KOH/g, företrädesvis då 50 till 140 mg KOI-I/g (syratalet angives som den mängd kaliumhydroxid i milligram som erfordras för att neutralisera l g harts).

När antalet av de eteniskt omättade bindningar som föreligger i den molekylenhet av hartset som kan härdas medelst den aktiverade energistrålningen är litet, eñersom fotohärdningen fortskrider långsamt, är det lämpligt att använda en epoxiförening av novolaktyp som utgångsmaterial. För att sänka viskositeten hos tryckfärgen är det möjligt att i stället använda epoxiföreningar av bisfenol A-typ.

C:\1lO049l00.SAH 10 15 20 25 30 35 522 645 13 Epoxiföreningarna av novolaktyp representeras av epoxihartser av fenolnovolaktyp och expoxihartser av kresolnovolaktyp. Sådana föreningar framställes typiskt genom att epiklorhydrin bringas att reagera med ett novolakharts.

Typiska exempel på den i det föregående nämnda syraanhydriden utgöres av tvåbasiga syraanhydrider, såsom maleinsyraanhydrid, bämstenssyraanhydrid, itakon- hexahydrofialsyraanhydrid, syraanhydrid, ftalsyraanhydrid, tetrahydroftalsyraanhydrid, metylhexahydrofialsyraanhydrid, endo-metylentetrahydroftalsyraanhydrid, metyl-endo- metylentetrahydrofialsyraanhydrid, klorendosyraanhydrid och metyltetrahydroftalsyra- anhydrid; aromatiska polykarboxylanhydrider, t.ex. trimellitsyraanhydríd, pyromellitsyra- anhydrid och bensofenon-tetrakarboxylsyradianhydrid; och polykarboxylsyraanhydridderivat, såsom 5-(2,5-dioxotetrahydrofi1ryl)-3 -metyl-3-cyklohexen-1,2-dikarboxylsyraanhydrid.

Vidare exempel på komponent (A) utgöres av reaktionsprodukter som erhålles genom tillsats av akrylsyraester- eller metakrylsyraesterföreningar som innehåller epoxi- grupper till en del av karboxylgrupperna i en sampolymer erhållen genom reaktion mellan akrylat eller metakrylat och akrylsyra eller metakrylsyra. Exempel på sådana föreningar åskådliggöres av de allmänna formlem (1) och (2).

Ra l CH; == C-COORb (1), vari Ra betecknar en väteatom eller en metylgrupp, Rr, betecknar an alifatisk kolvätegrupp med 1-6 kolatomer, och akrylsyra och/eller metakrylsyra som åskådliggöres av den allmänna formeln (2); Ra l CH; == C--COOH (2), vari R, har ovan angiven betydelse, medelst rutinmetoder, såsom lösningspolymerisation.

Företrädesvis är molforhållandet mellan akrylsyraestem och/eller metakrylsyraestem och akrylsyran och/eller metakrylsyran från 30:70 till 70:30.

Estergruppen i var och en av akrylsyraestrama och/eller metakrylsyraestrama kan lämpligen väljas bland olika alifatíska grupper som innehåller 1-6 kolatomer.

Reaktionsprodukten erhålles genom att till den sålunda erhållna sampolymeren sättes C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 - - u « u u - ~ e a nu C71 ik) FO akrylsyraester och/eller metakiylsyraester som har en ändställd epoxigrupp, åskådliggjord av följande allmänna formel (3); Ffia cHz-:c-coo-Rc-Q) (3), vari R, har tidigare angiven betydelse; och Rc betecknar en alifatisk kolvâtegiupp eller en aromatisk kolvätegrupp med 1-12 kolatomer.

För erhållande av den reaktionsprodukt som är lämplig för föreliggande uppfinning sättes en förening med formel (3) till de i det föregående nämnda monomererna med formel (1) och (2) i ett förhållande av 10 till 40 mol-%, för att förläna sampolymeren ultraviolett härdbarhet.

Den sålunda erhållna reaktionsprodukten har lämpligen en medelmolvikt inom ornrådet från 20 000 till 70 000; mjukningspunkten ligger lämpligen inom området från 35°C till 130°C, och syratalet är 50 till 150. g Ytterligare exempel på komponenten (A) utgöres av hartser som har ogß-omättade dubbelbindningar på sidokedjoma och som har ett syratal av 50-200. Det fotopolymeriserbara hartset består exempelvis av 70-95 vikt-% av en eteniskt omättad syrakomponent och en därmed sampolymeriserbar komponent. Det utgör en additionsprodukt som bildats mellan ett karboxylgrupphaltigt harts som har ett syratal av minst 500, företrädesvis då minst 600, och speciellt minst 620, och som har en numerisk medelmolvikt av 1000 - 100 000, företrädesvis då 3000 - 70 000, och en omättad förening som har en ouß-omättad dubbelbindning och en epoxigrupp. Halten av den eteniskt omättade syrakomponenten i det karboxylgrupphaltiga hartset av det fotopolymeriserbara hartset är 70-96 vikt-%, genom vilket det fotopolymeriserbara hartset (A) icke blir olösligt i vatten eller utspädd alkalisk vattenlösning även efter det att en omättad förening som har en ogß-omättad dubbelbindning och en epoxigrupp sättes därtill, och bibehåller sin löslighet. Exempel på sådana hartser beskrives i JP 8-339081-A.

Ett karboxylgrupphaltigt harts (A) framställes exempelvis genom att 70-95 vikt-%, företrädesvis då 78-88 vikt-%, och speciellt 80-85 vikt-% av en eteniskt omättad syra- monomer och 5-30 vikt-%, företrädesvis då 12-22 vikt-%, och speciellt 15-20 vikt-% av en sampolymeriserbar monomer löses i ett lämpligt icke-reaktivt lösningsmedel och lösningen terrniskt polymeriseras vid 45-120°C i närvaro av en initiator för termisk polymerisation. På C:\l l0049l00.SAH Am 15 20 25 30 n u u n u c - n u = -u o n 522 645 < u ~ q - u. 15 detta sätt kan ett karboxylgrupphaltigt harts som har ett syratal av minst 500 och en numerisk medelmolvikt av 1000 - 100 000 framställas med hög säkerhet och en hög stabilitet.

Specifika exempel på den eteniskt omättade monomer som är lämplig for framställning av det karboxylgrupphaltiga hartset (A) innefattar akrylsyra, metakrylsyra, krotonsyra, isokrotonsyra, angelikasyra, tiglisyra, Z-etylakrylsyra, 3-propylakrylsyra, 3- isopropylakrylsyra, bärnstenssyra-monohydroxietylakrylat, fialsyra-monohydroxietylakrylat, dihydroftalsyra-monohydroxietylakrylat, tetrahydroftalsyra-monohydroxietylakrylat, hexa- hydroñalsyra-monohydroxietylakrylat, akrylsyradimer, akrylsyratrimer, m-karboxi-poly- kaprolaktonmonoakrylat och m-karboxi-polykaprolaktonmonometakrylat. Bland dessa mono- merer fóredrages aklylsyra, metakrylsyra, krotonsyra, isokrotonsyra, angelikasyra, tiglisyra, 2-etylakrylsyra, 3-propylakrylsyra, 3-isopropylakrylsyra, co-karboxi-polykarprolaktonmono- akrylat, co-karobxi-polykaprolaktonmonometakrylat och liknande, och speciellt foredrages akrylsyra, metakrylsyra, krotonsyra, isokrotonsyra, angelikasyra, tiglisyra, 2-etylakrylsyra, 3- propylakrylsyra, 3-isopropylakrylsyra, w-karboxi-polykaprolakton-monoakrylat, och co-kar- boxi-polykaprolaktonmonometakrylat. Dessa monomerer kan användas antingen ensamma eller i blandning av två eller flera.

Lämpliga sampolymeriserbara monomerer utgöres av akrylestrar, metakrylestrar, vinylmonomerer, monomerer av styrentyp och cykliska estermonomerer. Specifika exempel på dessa innefattar hydroximetylakrylat, hydroximetylmetakrylat, Z-hydroxietylakrylat, 2- hydroxietylmetakrylat, 2-hydroxipropylakrylat, Z-hydroxipropylmetakrylat, etylenglykol- monometyleterakrylat, etylenglykolmonometyletermetakrylat, etylenglykolmonoetyleter- akrylat, etylenglykolmonoetyletermetakrylat, glycerolakrylat, glycerolmetakrylat, dipenta- erytritolpentametakrylat, dipentaerytritolpentaakrylat, aminoetylmetakrylat, tetrahydrofixrfiirylakrylat, tetrahydrofiarfiirylmetakrylat, akrylsyraamid, metakiylsyraamid, akrylnitril, metakrylnitril, metylakrylat, metylmetakrylat, etylakrylat, etyl- metakrylat, butylakrylat, butylmetakrylat, isobutylakxylat, isobutylmetakrylat, Z-etylhexyl- akrylat, 2-etylhexylmetakrylat, bensylakiylat, bensylmetakrylat, akrylsyrakarbitol, metakryl- syrakarbitol, e-kaprolaktonmodifierat tetrafurfurylakrylat, a-kaprolaktonmodifierat tetra- dimetylarninoetylakrylat, dimetyl- furfurylmetakrylat, dietylenglykoletoxylakrylat, isodecylakrylat, isodecylmetakrylat, oktyl- akrylat, oktylmetakrylat, laurylakrylat, laurylmetakrylat, tridecylakxylat, tridecylmetakrylat, stearylakrylat, stearylmetakrylat och liknande. Dessa monomerer kan användas antingen ensamma eller i blandningar av två eller flera.

C:\110049l00.SAH .lO 15 20 25 30 » a o n v n v o - n nu o o (TI i\.") [O C7\ -iå (Ti Lämpliga initiatorer för termisk polymerisation utgöres exempelvis av 2,2'-azobis- (2,4-dimetylvaleronitril) (användbar temperatur 45-70°C), 2,2'-azobis(isobutyronitri1) (an- vändbar temperatur 60-90°C), 2,2'-azobis(2-metylisobutyronitril) (användbar temperatur 60- 95°C), tert-butylperoktoat (användbar temperatur 75-100°C), 1,1'-azobis(cyklohexan-1- karbonitril) (användbar temperatur 80-110°C) eller 1-[(1-diazo-1-metyletyl)azo]-formamid (användbar temperatur 95-l20°C). Minst en av de nämnda föreningarna användes.

Det karboxylgrupphaltiga harts som framställes medelst den i det föregående nämnda metoden modifieras därefter till ett fotopolymeriserbart harts, vars karboxylgrupp är förestrad och vars sidokedjor har (Juli-omättad dubbelbindningar, genom en förestring med en omättad förening som har en ogß-omättade dubbelbindning och en epoxigrupp. Exempel på lämpliga föreningar som har en ogß-omättad dubbelbindning och en epoxigrupp gives i det följande.

Minst en förening användes som är vald ur den grupp som består av glycidylakrylat, glycidylmetakrylat och föreningar med formel 4, 5 och 6, såsom definieras nedan.

Ra THHCï i* 1' li i cH2=c-c~o-â2-c\~/CH2 (4): CHï-C_C*0_(CH2),J<:ÄO (Sw/ad O Rl' betecknar väte eller metyl och n' utgör ett heltal med värdet 1-10; läfi ll CHFC-'C °'_l°H2lF° O-'fi-Q (6) vari n" 2 0 , Rz' betecknar väte eller metyl och n" betecknar ett heltal med värdet 1-3.

Bland dessa föreningar föredrages speciellt föreningar som har alicykliska epoxigrupper, eftersom dessa föreningar har en hög reaktivitet med karboxylgrupphaltiga hartser, varigenom reaktionstiden kan förkortas. Dessa föreningar orsakar heller icke gelning i reaktionsprocessen och gör det möjligt att genomföra reaktionen stabilt. Å andra sidan är glycidylakrylat och glycidylmetakrylat fördelaktiga med avseende på känslighet och värmeresistens, efiersom de har en låg molvikt och kan ge en hög omsättning vid förestring.

Det fotopolymeriserbara harts som erhålles medelst den ovan angivna metoden har onß-omättade dubbelbindningar på sina sidokedjor. Dess syratal är 50-200, företrädesvis då 70-150, och speciellt 85-120. Dess numeriska medelmolvikt är 7000 - 10 000, och dess glasomvandlingspunkt (i det följande benämnd Tg) är 30-120°C. När det fotopolymeriserbara C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 n u c « u o o o u o un o o 522 64-5 17 v e n . a o .n hartset användes som lödresist föredrages ett syratal av minst 70, eflersom andra tillsatser vidare kan sättas till beredningen.

Ett inert organiskt lösningsmedel användes vid genomförandet av förestringen och framställningen av den ljuskänsliga hartskompositionen.

Kommersiellt tillgängliga, omättade monomer-, oligomer- och polymerkomponenter (A), såsom beskrivits i det föregående, utgöres exempelvis av M-5300, M-5400, M-5600 (TOAGOSEI), EB3800, EB9692, EB9694, EB9695, EB9696 (UCB Chemicals), KAYARAD TCR1025 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), NEOPOL8319 (U-Pica); EA-6340 (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd), ACA200M, ACA250 (Daicel Industries, Ltd.).

Av speciellt intresse är en ljuskänslig komposition, vari föreningen (A) utgör en oligomer eller polymer förening.

En komposition föredrages, vari oligomeren eller polymeren (A) utgör en binde- medelspolymer, speciellt då en sampolymer av (met)akrylat och (met)akrylsyra, eller ett harts som erhålles genom reaktion mellan en mättad eller omättad flerbasig syraanhydrid och en reaktionsprodukt av en epoxiförening och en omättad monokarboxylsyra, eller utgör en additionsprodukt, bildad mellan karboxylhaltigt harts och en omättad förening som har en aß-omättad dubbelbindning och en epoxigrupp.

Exempel på föreningar (C) som är lämpliga i beredningama enligt uppfinningen utgöres av fotopolymeriserbara monomerer av vinyltyp. Representativa exempel på de fotopolymeriserbara monomerema av vinyltyp utgöres av hydroxialkylakrylater, såsom 2- hydroxietylakrylat, Z-hydroxibutylakrylat, etc; mono- eller diakrylater av glykoler, såsom etylenglykol, metoxitetraetylenglykol, polyetylenglykol, propylenglykol, etc; akrylamider, såsom N,N-dimetylakrylamid, N-metylolakrylamid, etc; aminoalkylakrylater, såsom N,N- dimetylaminoetylakrylat, etc; flervärda akrylater av flervärda alkoholer eller etylenoxid- eller propylenoxidaddukter därav, såsom hexandiol, trimetylolpropan, pentaerytritol, dipenta- erytritol, tris-hydroetylisocyanurat, etc; fenoxiakiylat, bisfenol A diakiylat och akrylater av etylenoxid- eller propylenoxidaddukter till dessa fenoler, etc; akrylater av glycidyletrar, så- som glyceroldiglycidyleter, trimetylolpropantriglycidyleter, triglycidylisocyanurat, etc; och melaminakrylat, och/eller metakrylater som svarar mot ovan nämnda akrylater, etc.

Andra exempel på komponenten (C) utgöres av fleromättade föreningar med relativt hög molvikt, t.ex. oligomerer eller polymerer, vilka utgöres av akrylerade epoxihartser, polyesterhaltiga akrylat-, vinyleter- eller epoxigrupper, och även polyuretaner och polyetrar.

Ytterligare exempel på omättade oligomerer är omättade polyesterhartser, vilka vanligen framställes från maleinsyra, ftalsyra och en eller flera dioler och som har molvikter från ca C:\l lO049l00.SAH 10 15 20 25 30 o c o u v u v n u ~ oo n n 522 645 o > ø : n ø .o 18 500 till 3000. Dessutom är det även möjligt att använda vinyletermonomerer och -oligomerer, och även maleatterminerade oligomerer med polyester-, polyuretan-, polyeter-, polyvinyleter- och epoxihuvudkedjor. Speciellt lämpliga är kombinationer av oligomerer som uppbär vinyletergrupper och av sådana polymerer som beskrivas i WO 90/01512. Sampolymerer av vinyleter och maleinsyrafuntionaliserade monomerer är dock även lämpliga. Omättade oligomerer av denna typ kan även benämnas förpolymerer.

De ljustvärlänkbara föreningar (C) som beskrivits i det föregående användes ensamma eller som en blandning av två eller flera därav. Den lämpliga mängden är från 5 till 300 viktdelar, företrädesvis då 10 till 150 viktdelar, räknat på 100 viktdelar av komponenten (A).

Om den ljustvärlänkbara föreningen (C) utgör en lågviskös vätska, kan den användas för att späda komponenterna i blandningen så att de lätt kan bilda en beläggning. Ett annat ändamål är att förbättra ljustvärlänkningens verkningsgrad.

En ljuskänslig förening, såsom beskrivits ovan, föredrages, vari den fotopolymeriserbara föreningen (C) utgör en vätska.

Fotopolymerisation kan även accelereras genom tillsats av ytterligare fotosensibilisatorer eller saminitiatorer (som komponent (D)), vilka förskjuter eller breddar den spektrala känsligheten. Dessa utgör speciellt aromatiska föreningar, exempelvis bensofenon och derivat därav, tioxanton och derivat därav, antrakinon och derivat därav, kumarin och fenotiazin och derivat därav, och även av 3-(aroylmetylen)tiazoliner, rodanin, kamferkinon, men även av färgämnen på basis av eosin, rodamin, etrytrosin, xanten, tioxanten, akridin, t.ex. 9-fenylakridin, 1,7-bis(9-akridinyl)heptan, 1,5-bis(9-akridinyl)pentan, cyanin och merocyanin.

Specifika exempel på sådana föreningar utgöres av 1. Tioxantoner Tioxanton, 2-isopropyltioxanton, Z-klortioxanton, 1-klor-4-propoxitioxanton, 2- dodecyltioxanton, 2,4-dietyltioxanton, ZA-dimetyltioxanton, 1-metoxikarbonyltioxanton, 2- etoxikarbonyltioxanton, 3-(2-metoxietoxikarbonyl)tioxanton, 4-butoxikarbonyltioxanton, 3- butoxikarbonyl-7-metyltioxanton, 1-cyano-3-klortioxanton, 1-etoxikarbonyl-3-klortioxanton, l-etoxikarbonyl-3- 1-etoxikarbonyl-Iš-etoxitioxanton, l-etoxikarbonyl-3-aminotioxanton fenyl-ulfhryltioxanton, 3,4-di.[2-(2-metoxietoxi)etoxikarbonyl]-tioxanton, l,3-dimetyl-2- hydroxi-9H-tioxanten-9-on-2-etylhexyleter, l-etoxikarbonyl-3 -(1-metyl-1 -morfolinoetyl)- tioxanton, 2-metyl-6-dimetoximetyl-tioxanton, 2-metyl-6-(1,1-dimetoxibensyl)-tioxanton, 2- morfolinometyltioxanton, 2-metyl-6-morfolinometyltioxanton, N-allyltioxanton-3,4-dikarbox- C2\1l0049100.SAH 10 15 20 25 30 ~ I I . | a I n u v no 522 645 u « | ; ; | n; 19 imid, N-oktyltioxanton-3A-dikarboximid, N-(1,1,3,3-tetrametylbutyl)-tioxanton-3,4-di- karboximid, 1-fenoxitioxanton, 6-etoxikarbonyl-Z-metoxitioxanton, 6-etoxikarbonyl-2-metyl- tioxanton, tioxanton-Z-karboxylsyra-polyetylenglykolester och 2-hydroxi-3-(3,4-dimetyl-9- oxo-9H-tioxanton-2-y1oxi)-N,N,N-trimetyl-l-propanaminiumklorid; 2. Bensofenoner Bensofenon, 4-fenylbensofenon, 4-metoxibensofenon, 4,4'-dimetoxibensofenon, 4,4'- 4,4'-dimetylbensofenon, 4,4'-diklorbensofenon, 4,4'-bis(dimetylamino)bensofenon, bis(dietylamino)bensofenon, 4,4'-bis(metyletylamino)bensofenon, 4,4'-bis(p-isopropyl- fenoxi)bensofenon, 4-metylbensofenon, 2,4,6-trimetylbensofenon, 4-(4-metyltiofenyl)benso- metyl-Z-bensoylbensoat, 4-(2-hydroxietyltio)- fenon, 3,3'-dimetyl-4-metoxibensofenon, bensofenon, 4-(4-tolyltio)bensofenon, 1-[4-(4-bensoylfeny1sulfanyD-fenyH-Z-metyl-2- (to1uen-4-sulfonyl)-propan-1-on, 4-bensoyl-N,N,N-trimetylbensenmetanaminiumklorid, 2- hydroxi-3-(4-bensoylfenoxi)-N,N,N-trimetyl-1-propanaminiumkloridmonohydrat, 4-(13- akryloyl-1,4,7,10,13-pentaoxatridecyl)bensofenon och 4-bensoyl-N,N-dimety1-N[2-(1-oxo-2- propenyl)oxi]etylbensenmetanaminiumklorid; 3. Kumariner Kumarin 1, kumarin 2, kumarin 6, kumarin 7, kumarin 30, kumarin 102, kumarin 106, kumarin 138, kumarin 152, kumarin 153, kumarin 307, kumarin 314, kumarin 314T, kumarin 334, kumarin 337, kumarin 500, 3-bensoylkumarin, 3-bensoyl-7-metoxikumarin, 3-bensoyl-S,7-dimetoxikumarin, 3-bensoyl-S,7-dipropoxikumarin, 3-bensoy1-6,8-dik1or- kumarin, 3-bensoyl-6-klorkumarin, 3,3'-karbonyl-bis 85,6-di(propoxi)kumarin, 3,3'-karbony1- bis(7-metoxikumarin), 3,3'-karbonyl-bis(7-dietylamino-kumarin), 3-isobutyroylkumarin, 3- bensoyl-ió-dimetoxikumarin, 3-bensoy1-SJ-dietoxikumarin, 3-bensoyl-5,7-dibutoxikumarin, 3-bensoyl-5,6-di(metoxietoxi)kumarin, 3-bensoyl-5,7-di(a1lyloxi)kumarin, 3-bensoyl-7-di- metylaminokumarin, 3-bensoyl-7-dietylaminokumarin, 3-isobutyroyl-7-dimetylamino- kumarin, 5,7-dimetoxi-3-(1-nafloyl)kumarin, 5,7-dietoxi-3-(l-nafioylflcumarin, 3-bensoyl- benso[f]kumarin, 7-díetylamino-3-tienoylkumarin, 3-(4-cyanobensoyl)-5,7-dimetoxikumarin, 3-(4-cyanobensoyl)-5,7-dipropoxikumarin, 7-dimetylamino-3-fenylkumarin, 7-dietylamino-3- fenylkumarin och de kumarinderivat som beskrives i JP 09-179299-A och JP 09-325209-A, exempelvis då 7-[{4-klor-6-(diety1amino)-S-triazin-2-yl}amino]-3-fenylkumarin; 4. 3-1aroylmetyleni-tiazoliner 3-metyl-2-bensoylmetylen-ß-nafiotiazolin, 3-metyl-2-bensoylmetylen-bensotiazolin och 3-etyl-2-propionylmetylen-ß-nafiotiazolin; C:\l l0049100.SAH 10 15 20 25 30 ~ u n s u: c o 20 5. Rodaniner 4-dimetylaminobensalrodanin, 4-dietylaminobensalrodanin, 3-etyl-5-(3-oktyl-2- bensotiazolinyliden)rodanin, och de rodaninderivat med formlern [l], [2] och [7], som beskrives i JP 08-305019A; 6. Andra föreningar Acetofenon, 3-metoxiacetofenon, 4-fenylacetofenon, bensil, 4,4'-bis(dimetyl- amino)bensil, Z-acetylnafialen, 2-nafialdehyd, dansylsyraderivat, 9,10-antrakinon, antracen, pyren, aminopyren, perylen, fenantren, fenantrenkinon, 9-fluorenon, dibensosuberon, kurkumin, xanton, tiomichlers keton, ot-(4-dimetylaminobensyliden)ketoner, t.ex. 2,5-bis(4- dietylaminobensyliden)cyklopentanon, 2-(4-dimetylaminobensyliden)-indan-1-on, 3-(4-di- metylaminofenyD-l-indan-S-yl-propenon, 3-fenyltiofialimid, N-metyl-3,5-di(etyltio)-ftalimid, N-metyl-3,5-di(etyltio)-Pcalimid, fenotiazin, metylfenotiazin, aminer, t.ex. N-fenylglycin, trietanolamin, N-metyldietanolamin, etyl-p-dimetylaminobensoat, 2-(dimetylamino)- etylbensoat, 2-etylhexyl-p-dimetylaminobensoat, oktyl-para-N,N-dimetylaminobensoat, N-(2- hydroxietyl)-N-metyl-para-toluidin, butoxietyl-4-dimetylaminobensoat, 4-dimetylaminoaceto- fenon, trietanolamin, metyldietanolamin, dimetylaminoetanol, 2-(dimetylamino)etylbensoat, poly(propylenglykol)-4-(dimetylamino)bensoat och Michlers keton. Aminernas verkan kan intensiñeras genom tillsats av aromatiska ketoner av bensofenontyp. Exempel på aminer som kan användas som syrebindande medel utgöres av substituerade N,N-dialkylaniliner, såsom beskrives i EP 339 841. Andra acceleratorer, saminitiatorer och autoxidationsmedel utgöres av tioler, tioetrar, disulñder, fosfoniumsalter, fosfmoxider eller fosfiner, såsom exempelvis beskrives i EP 438 123, i GB 2 180 358 och i JP Kokai Hei 6-68309.

En fotopolymeriserbar beredning, vilken som ytterligare tillsats (D) innehåller en ljussensibiliserande förening som är vald från den grupp som består av bensofenon och dess derivat, tioxanton och dess derivat, antrakinon och dess derivat eller kumaronderivat föredrages.

Komponenten (D) användes lämpligen i en mängd från 0,015 till 60 viktdelar, företrädesvis från 0,03 till 30 viktdelar, räknat på 100 viktdelar av summan av komponenterna (A), (B) och (C).

I en del fall kan vara lämpligt att använda sensibilisatorföreningar i kombination med föreningarna med formel I och II. Ett annat syfte hos uppfinningen utgöres därför av en beredning som förutom komponentema (A), (B) och (C) innefattar minst en ljus- sensibilisatorförening (D) och/eller andra tillsatser (E).

C:\l 10049l00.SAH 20 25 30 o o o a | n o u ø c nu n 522 645 a - . o v en 21 Förutom fotoinitiatom och/eller sensibilisatortöreningen kan de fotopolymeriserbara blandningarna innehålla olika tillsatser (E).

Komponenten (E) utgör exempelvis en förening som har en epoxigrupp och som ger beredningen värmehärdande egenskaper. En fast eller vätskeformig, känd epoxiförening kan användas, och nämnda epoxiförening användes beroende på erforderliga egenskaper. När exempelvis resistensen mot plätering skall förbättras, användes ett vätskeformigt epoxiharts, och när vattenresistens erfordras, användes ett epoxiharts som har ett stort antal metylgrupper på en bensenring eller cykloalkylring. Ett föredraget epoxiharts utgöres av expoxiharts av bisfenol S-typ, såsom BPS-ZOO, framställt av Nippon Kayaku Co., Ltd., EPX-30, framställt av ACR Co., Epiculon EXA-1514, framställt av Dainippon Ink & Chemicals Inc., etc; ett expoxiharts av bisfenol A-typ, såsom Epiculon N-3050, N-7050 eller N-9050, framställt av Dainippon Ink % Chemicals Inc., XAC-5005, GT-7004, 6484T och 6099, framställda av Ciba Specialty Chemicals Inc., etc; ett epoxiharts av bisfenol F-typ, såsom YDF-2004 eller YD2007, framställt av Tohto Kasei Co, etc; ett diglycidylfialatharts, såsom Blemmer DGT, framställt av Nippon Oil and Fats Co., Ltd., etc; ett heterocykliskt epoxiharts, såsom TEPIC, framställt av Nissan Chemical Industries, Ltd., Araldite PT8lO, framställt av Ciba Specialty Chemicals Inc., etc; ett epoxiharts av bixylenoltyp, såsom YX-4000, framställt av Yuka Shell Co., etc; ett epoxiharts av bifenoltyp, såsom YL-6056, framställt av Yuka Shell Co., etc; ett tetraglycidylxylenoyletanharts, såsom ZX-1063, framställt av Tohto Kasei Co., etc; ett epoxiharts av novolaktyp, såsom EPPN-201, EOCN-103, EOCN-1020, EOCN-1025 och BRRN, framställda av Nippon Kayaku Co., Ltd; ECN-278, ECN-292 och ECN-299, framställda av Asahi Chemical Industry Co., Ltd. GY-1180, ECN-l273 och ECN-1299, framställda av Ciba Specialty Chemicals Inc., YDCN-220L, YDCN-ZZOHH, YDCN-702, YDCN-704, YDPN-601 och YDPN-602, framställda av Tohto Kasei Co., Epiculon-673, N- 680, N-695, N-770 och N-775, framställda av Dainippon Ink & Chemicals Inc., etc; ett epoxiharts av novolaktyp och av bisfenol A, såsom EPX-8001, EPX-8002, EPPX-8060 och EPPX-8061, framställda av Asahi Chemical Industry Co., Ltd; Epiculon N-880, framställt av Dainippon Ink & Chemicals Inc., etc; ett epoxiharts av kelattyp, såsom EPX-49-69 och EPX- 49-30, framställda av Asahi Denka Kogyo K.K., etc; ett epoxiharts av glyoxaltyp, såsom YDG-414, framställt av Tohto Kasei Co., etc; ett aminogrupphaltigt epoxiharts, såsom YH- 1402 och ST-110, framställda av Tohto Kasei Co., YL-931 och YL-933, framställda av Yuka Shell Co., etc; ett gummimodifierat epoxiharts, såsom Epiculon TSR-601, framställt av Dainippon Ink & Chemicals Inc., EPX-84-2 och EPX-406l, framställda Asahi Denka Kogyo K.K., etc; ett epoxiharts av dicyklopentadienfenoltyp, såsom DCE-400, framställt av Sanyo- C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 n u v u o u Q » - - nu s 522 645 22 Kokusaku Pulp Co., Ltd., etc; ett silikonmodifierat epoxiharts, såsom X-1359, framställt av Asahi Denka Kogyo K.K., etc; ett e-kaprolaktonmodifierat epoxiharts, såsom Plaque G-402 och G-710, framställda av Dicel Chemical Industries, Ltd., etc och andra. Vidare kan delvis förestrade föreningar av dessa epoxiföreningar (t.ex. förestrade med (met)akrylater) användas i kombination.

Ett föremål för uppfinningen utgöres därför av en ljuskänslig komposition som beskrivits ovan, ytterligare innefattande en epoxiförening som innehåller minst två epoxigrupper i molekylen.

Den lämpliga mängden av termohärdande komponent att användas enligt föreliggande uppfinning utgör 10 till 150 viktdelar, företrädesvis då 20 till 80 viktdelar, räknat på 100 viktdelar av komponent (A).

Företrädesvis utgöres den terrnohärdande komponenten av en epoxiförening av bisfenol A-, bisfenol S-, bisfenol F- eller novolaktyp.

Exempel på ytterligare tillsatser (E) utgöres av värmeinhibitorer, vilka är avsedda att förhindra en förtidig polymerisation, exempelvis då hydrokinon, hydrokinonderivat, p- metoxifenol, ß-naftol eller steriskt hindrade fenoler, såsom 2,6-di-tert-butyl-p-kresol. För att förhöja stabiliteten vid lagring i mörker är det exempelvis möjligt att använda koppar- föreningar, såsom kopparnañenat, -stearat eller -oktoat, fosforföreningar, t.ex. trifenylfosñn, tributylfosfin, trietylfosñt, trifenylfosñt eller tribensylfosflt, kvatemära ammoniumföreningar, t.ex. tetrametylammoniumklorid eller trimetylbensylammoniumklorid, eller hydroxyl- aminderivat, t.ex. N-dietylhydroxylamin. För att utestänga atmosfäriskt syre under polymerisationen är det möjligt att tillsätta paraffin eller liknande vaxartade substanser, vilka eftersom de har en otillräcklig löslighet i polymeren migrerar till ytan vid polymerisationens början och bildar ett transparent ytskikt som förhindrar lufttillträde. Det är även möjligt att påföra ett syreogenomträngligt skikt. Ljusstabilisatorer som kan tillsättas i liten mängd utgöres av UV-absorbtionsmedel, exempelvis dem av typen hydroxifenylbensotriazol, hydroxifenylbensofenon, oxalamid eller hydroxifenyl-s-triazin. dessa föreningar kan användas individuellt eller i blandningar, med eller utan steriskt hindrade aminer (HALS).

Exempel på sådana UV-absorbtionsmedel och ljusstabilisatorer är de följ ande: 1. Z-(T-hvdroxifenvllbensotriazoler. t.ex. 2-(2'-hydroxi-5'-metylfenyl)bensotriazol, 2-(3',5'-di-tert-butyl-2'-hydroxifenyl)bensotriazol, 2-(5'-tert-butyl-2'-hydro-xifenyl)benso- triazol, 2-(2'-hydroxi-5'-(1,1,3,3-tetrametylbutyl)-fenyl)bensotriazol, 2-(3',5'-di-tert-butyl-2'- hydroxifenyl)-5-klorbensotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-5'-metylfenyl)-S-klorbensotria- C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 n | ø o v u ø - » ~ n» o 522 64-5 - « | u n .u 23 zol, 2-(3'-sek-butyl-5ïtert-butyl-Z'-hydroxifenyl)bensotraizol, 2-(2'-hydroxi-4'-oktoxifenyl)- bensotriazol, 2-(3',5'-di-tert-amyl-T-hydroxifenyl)bensotriazol, 2-(3',5'-bis(oL,oL-dimetyl- bensyl)-2'-hydroxifenyl)bensotriazol, blandning av 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-ï-(Z-olctyl- oxikarbonyletyDfenyl-S-klorbensotriazoL 2-(3ïtert-butyl-S'-[2-(2-etyl-hexyloxi)-karbonyl- etyl]-2'-hydroxifenyl)-5-klorobensotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-5'-(2-metoxikarbonyl- etyl)fenyl)-S-klorobensotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-5'-(2-metoxikarbonyletyl)fenyl)- bensotriazol, 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-5'-(2-oktyloxikarbonyletyl)fenyl)bensotriazol, 2-(3'- tert-butyl-S'-[2-(2-etylhexyloxi)karbonyletyl]-2'-hydroxifenyl)bensotriazol, 2-(3'-dodecyl-2'- hydroxi-S'-metylfenyl)bensotriazol och 2-(3'-tert-butyl-2'-hydroxi-5'-metylfenyl)bensotriazol, 5 '-(2-isooktyloxikarbonyletyl)fenylbensotriazol, 2,2'-metylenbis[4-(1, 1 ,3 ,3 -tetrametylbutyD- ó-bensotriazol-Z-ylfenofl; omforestringsprodukten av 2-[3'-tert-butyl-5'-(2-metoxikarbonyl- etyl)-2'-hydroxi-fenyflbensotriazol med polyetylenglykol 300; [R-CH;CH2-COO(CH1)3]2- vari R = 3'-tert-butyl-4'-hydroxi-5'-ZH-bensotriazol-2-yl-fenyl.. 2. Z-hydroxibensofenoner, t.ex. 4-hydroxi-, 4-metoxi-, 4-okty1oxi-, 4-decyloxi-, 4- dodecyloxi-, 4-bensyloxi-, 4,2',4'-trihydroxi- och 2'-hydroxi-4Afldimetoxiderivatet. t.ex. 4-tert- bis(4-tert- 3. Estrar av substituerade eller osubstituerade bensoesvror, butylfenylsalicylat, fenylsalicylat, oktylfenylsalicylat, dibensoylresorcinol, butylbensoyl)resorcinol, bensoylresorcinol, 2,4-di-tert-butylfenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxi- bensoat, hexadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxibensoat, oktadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxi- bensoat och 2-metyl-4,6-di-te11-buty1fenyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxibensoat. 4. later, tex. isooktyl- eller etyl-oc-cyano-ß,ß-difenylakrylat, metyl-on- karbometoxicinnamat, butyl- eller metyl-oL-cyano-ß-metyl-p-metoxicinnamat, metyl-oi- karboximetoxi-p-metoxicinnamat och N-(ß-karbometoxi-ß-cyanovinyl)-2-metylindolin. 5. Steriskt hindrade aminer, tex. bis-(2,2,6,ó-tetrametylpiperidyßsebacat, bis- (2,2,6,ó-tetrametylpiperidyl)succinat, bis-(l,2,2,6ß-pentametylpiperidyl)sebacat, bis- (1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-n-butyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxibensylmalonat, kondensa- tionsprodukt av 1-hydroxietyl-2,2,6,6-tetrametyl-4-hydroxipiperidin och bärnstenssyra, kondensationsprodukt av N,N'-bis-(2,2,6,ó-tetrametyl-4-piperidyl)hexa-metylendiamin och 4- teIt-oktylamino-Z,ó-diklor-1,3,5-s-triazin, tris-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidylynitrilotriacetat, 1,1'-(1,2-etandiyl)bis(3,3,5,5- 4-stearyloxi-2,2,6,6-tetra- tetrakis-(Z,2,6,6-tetrametyl-4-piperidyl)-l,2,3,4-butantetraoat, tetrametyl-piperazinon), 4-bensoyl-2,2,ófi-tetrametylpiperidin, metylpiperidin, bis-(1,2,2,6,6-pentametylpiperidyl)-2-n-butyl-2-(2-hydroxi-3,5-di-tert-butyl- C:\110049100.SAH 10 15 20 25 30 u n u ~ v u - n v u uu o 5222 645 « . u n n f» 24 bensy1)malonat, 3-n-oktyl-7,7,9,9-tetramety1-1,3,8-triazaspiro-[4.5]dikan-2,4-dion, bis(1- okty1oxi-2,2,ófi-tetrametylpiperidyl)sebacat, bis-(1-oktyloxi-2,2,6,6-tetrametylpiperidy1)- succinat, kondensationsprodukt av N,N'-bis-(2,2,6,6-tetrametyl-4-piperidy1)hexametylen- diamin och 4-morfolino-2,6-diklor-1,3,5-triazin, kondensationsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n- butylamino-2,2,6,ó-tetrametylpiperidyb-1,3,5-triazin och 1,2-bis-(3-aminopropy1-amino)etan, kondensationsprodukt av 2-klor-4,6-di-(4-n-butylamino-l,2,2,6,ó-pentametylpiperidyb-1,3,5- triazin och 1,2-bis-(3-aminopropylamino)etan, 8-acetyl-3-dodecyl-7,7,9,9~tetrametyl-1,3,8- triazaspiro[4.5]dekan-2,4-dion, 3-dodecyl-1-(2,2,6,ó-tetrametyl-4-piperidy1)pyrrolidin-2,5- dion och S-dodecyl-l-(l,2,2,6,6-penta-metyl-4-piperidyD-pyrrolidin-Z,5-dion. 6. Oxalarnider, t.ex. 4,4'-dioktyloxioxanilid, 2,2'-diexotioxani1id, 2,2'-dioktyloxi- 5,5'-di-tert-butyloxanilid, 2,2'-didodecy1oxi-5,Y-di-tert-butyloxanilid, Z-etoxi-T-etyl-oxan- ilid, N,N'-bis(3-dimetylaminopropyl)oxalamid, 2-etoxi-5-tert-butyl-2'-etyloxanilid och dess blandning med 2-etoxi-2'-etyl-5,4'-di-tert-butyloxanilid, samt blandningar av o- och p- metoxi- och av o- och p-etoxi-disubstituerade oxanalider. 7. 2-(2-hvdroxifenvD-1_3.5-triaziner, t.ex. 2,4,6-tris(2-hydroxi-4-oktyloxifenyl)- 1,3,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-okty1oxifenyl)-4,6-bis-(2,4-dimetylfenyl)-1,3,5-triazin, 2-(2,4- dihydroxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)-1,3 , 5-triazin, fenyl)-6-(2,4-dimetylfenyb-1,3,5-triazin, 2-(2-hydroxi-4-oktyloxifenyl)-4,6-bis(4-metyl- fenyl)-1 ,3 , S-triazin, 2-(2-hydroxi-4-dodecy1oxifenyl)-4,6-bis(2,4-dimety1fenyl)-1,3 ,5-triazin, 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-B-butyloxi-propyioxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimety1fenyl)-1,3,5- 2-[2-hydroxi-4-(2-hydroxi-3-oktyloxi-propyIoxi)fenyl]-4,6-bis(2,4-dimetylfenyl)- 1,3,5-triazin och 2-[4-dodecy1/tridecyl-oxi-(2-hydroxipropyDoxi-2-hydroxi-fenyl)-4,6-bis(2,4- 2,4-bis-(2-hydroxi-4-propyloxi- triazin, dimety1fenyl)-l,3 ,5-triazin. 8. Fosfiter och fosfoníter, t.ex. trifenylfosfit, difenylalkylfosñter, fenyldialkylfosfiter, tris(nonylfenyl)fosfit, trilaurylfosñt, trioktadecylfosfit, distearylpentaerytrityldifosfit, tris- (2,4-di-tert-butylfenyDfosfit, bis-(ZA-di-tert-butylfenyl)- pentaerytrityldifosfit, bis-(2,ó-di-tert-butyl-4-metylfenybpentaerytrityldifosfit, bis-isodecyl- diisodecylpentaerytrityldifosfit, oxipentaerytrityldifosñt, bis-(ZA-di-tert-butyl-ó-metylfenyl)pentaerytrityldifosfit, bis-(2,4,6- tri-tert-butylfenybpentaerytrityldifosñt, tetrakis-(ZA-di-tert- butylfenyl)-4,4'-bifenylendifosfonit, 6-isookty1oxi-2,4,8,IO-tetra-tert-butyl-12H-dibenso[d,g]- tristearylsorbityltrifosfit, 1,3,2-dioxafosfocin, 6-fluor-2,4,8,10-tetra-teit-butyl-l2-metyl-dibenso[d,g]-1,3,2-dioxafosfo- cin, bis-(ZA-di-tert-butyl-ó-metylfenyD-metylfosfit och bis-(2,4-di-tert-butyl-6-mety1fenyl)- etylfosñt.

C:\l10049l00.SAH 10 15 20 25 30 522 645 25 För att förbättra sådana egenskaper som vidhäfining, hårdhet, etc i den ljuskänsliga hartsberedningen enligt uppfinningen kan man om så erfordras använda ett oorganiskt fyllmedel, t.ex. bariumsulfat, bariumtitanat, kiseldioxidpulver, partikelformig kiseloxid, amorñ kiseldioxid, talk, lera, magnesiumkarbonat, kalciumkarbonat, aluminiumoxid, aluminiumhydroxid, glimmerpulver, etc. Andelen av fyllmedlet i beredningen är O till 60 vikt- %, företrädesvis då 5 till 40 vikt-% av den ljuskänsliga värmehärdande hartsberedningen.

Vidare kan om så erfordras användas kända tillsatser, såsom kända färgämnen, t.ex. flalocyaninblått, fialocyaningrönt, diazogult, kristallviolett, titanoxid, kimrök, naflalensvart, etc.

Beredningen innehåller eventuellt dessutom som komponent CE) epoxihärdande promotorer, såsom en aminförening, en imdazolförening, en karboxylsyra, en fenol, ett kvaternärt ammoniumsalt eller en metylolgrupphaltig förening. Mängden av använt sådant härdningsmedel är inom området från 0 till 10 vikt-%, företrädesvis då 0,05 till 5 vikt-% av den ljuskänsliga värmehärdande hartsberedningen.

För att påskynda fotopolymerisationen är det möjligt att tillsätta aminer, t.ex. trietanolamin, N-metyldietanolamin, p-dimetylaminobensoat eller Michlers- keton och sådana föreningar som beskrivits i det föregående. Verkan av aminerna kan förstärkas genom tillsats av aromatiska ketoner av bensofenontyp. Exempel på aminer som kan användas som syrebindande medel utgöres av substituerade N,N-dialkylaniliner, såsom beskrives i EP 339 841. Andra acceleratorer, saminitiatorer och autoxidationsmedel utgöres av tioler, tioetrar, disulfider, fosfoniumsalter, fosfinoxider eller fosfiner, såsom beskrives i exempel EP 438 123, i GB 2 180 358 och i JP Kokai Hei 6-68309.

Det är vidare möjligt att till beredningarna enligt uppfinningen sätta kedje- överförande medel som konventionellt användes inom området. Exempel utgöres av merkaptaner och aminer.

Härdningen kan speciellt understödjas av kompositioner som är pigmenterade (t.ex. med titandioxid) och även genom tillsats av en komponent som under terrniska betingelser bildar fria radikaler, t.ex. en azoförening, såsom 2,2'-azobis(4-metoxi-2,4-dimetylvaleronitril), en triazen, diazosulfid, pentazadien eller en peroxiförening, såsom en hydroperoxid eller ett peroxikarbonat, t.ex. då t-butylhydroperoxid, såsom beskrives i EP 245 639.

Beredningarna enligt uppfinningen kan som ytterligare tillsats (E) innehålla ett fotoreducerbart fargämne, t.ex. xanten-, bensoxanten-, bensotioxanten-, tiazin-, pyronin-, porfyrin- eller akridinfargâmnen, och/eller trihalogenmetylföreningar som kan spjälkas genom bestrålning. Liknande beredningar finns exempelvis beskrivna i EP 445 624.

C:\1l0049l0O.SAH | ø v v ou 10 15 20 25 30 o o v ø o n a v o n vc u a 522 645 « . | u ø .o 26 Vidare konventionella tillsatser (E) utgöres, beroende på den avsedda användningen, av optiska vitmedel, vätmedel eller utjämningshjälpmedel, För att härda tjocka och pigmenterade beläggningar är det lämpligt att tillsätta mikrosfärer av glas eller pulveriserade glasfibrer, såsom beskrives i exempelvis US 5 013 768.

Följaktligen utgöres ett föremål för uppfinningen av beredningar som beskrivits i det föregående och som innehåller ytterligare tillsatser (E) vilka är valda från gruppen av epoxiföreningar, tenniska polymerisationsinhibitorer, oorganiska fyllmedel, färgämnen, epoxihärdningsmedel, aminer, kedjeöverföringsmedel, termiska radikalinitiatorer, foto- reducerbara färgämnen, optiska vitmedel, förtjockningsmedel, antiskumningsmedel och utjämningsmedel, och speciellt då oorganiska fyllmedel.

Valet av tillsatser (E) göres beroende på det avsedda användningsområdet och på de erforderliga egenskapema for detta ornråde. De i det föregående beskrivna tillsatserna är konventionella inom området, och tillsättes följaktligen i mängder som är vanliga för ifrågavarande tillämpning.

Ett föremål för uppfinningen utgöres även av en beredning som ytterligare innehåller minst en fotoinitiator (Bl).

I vissa fall kan det vara fördelaktigt att använda blandningar av två eller flera av de nya fotoinitiatorema. Det är givetvis även möjligt att använda blandningar med kända fotoinitiatorer (Bl), exempelvis blandningar med kamferkinon, bensofenon, bensofenon- derivat, acetofenon, acetofenonderivat, exempelvis ot-hydroxicykloalkylfenylketoner eller dialkoxiacetofenoner, ot-hydroxiacetofenoner, t.ex. 2-hydroxi-2-metyl-1-fenyl-propanon, eller ot-aminoacetofenoner, t.ex. (4-metyltiobensoyl)-1-metyl-1-morfolinoetan, (4-morfolinobenso- yl)-1-bensyl-1-dimetylaminopropan, 4-aroyl-1.3-dioxolaner, bensoinalkyletrar och bensil- ketaler, dimetylbenzilketal, och derivat därav, dimera t.ex. fenylglyoxalestrar fenylglyoxalestrar, diacetyl. perestrar, t.ex. bensofenontetrakarboxylsyraperestrar, såsom beskrives i exmpelvis EP 126 541, monoacylfostinoxider, t.ex. (2,4,6-tri- metylbensoy1)difenylfosfinoxid, bisacylfosñnoxider, bis(2,6-dimetoxi-bensoyl)-(2,4,4- trimetyl-pentyl)fosfinoxid, bis(2,4,6-trimetylbensoyl)-fenylfosfinoxid, bis(2,4,6-trimetyl- bensoyl)-ZA-dipentoxifenylfosfinoxid, trisacylfosñnoxider, halometyltriaziner, t.ex. 2-[2-(4- 2-(4-metoxi-fenyl)-4,6-bis-triklor- metyl-[l,3,5]triazin, 2-(3,4-dimetoxi-fenyl)-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, 2-metyl-4,6- 2-(4-N,N-di(etoxikarbonylmetyl)aminofenyl)-4,6-bis(triklor- 2-(l,3-benso- metoxi-fenyl)-vinyl]-4,6-bis-triklormetyl-[l,3,5]triazin, bis-triklormetyl-[ 1,3, 5]triazin, metyl)-[1,3,5]triazin, 2-(4-metoxi-nafiyl)-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, C:\1l0049100.SAH 10 15 20 25 30 u o u n :n c 522 645 27 dioxol-5-yl)-4,6-bis-triklormetyl-[l,3,5]triazin, 2-[2-[4-(pentyloxi)fenyl)etenyl]-4,6-bis-tri- klormetyl-[l,3,5]triazin, 2-[2-(3-metyI-Z-fiJranyD-etenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, 2-[-(5-mety1-2-fiJranyD-etenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, 2-[2-(2,4-dimetoxi-fenyl)- etenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, 2-[2-(2-metoxi-fenyl)etenyl]-4,6-bis-triklormetyl- [1,3,5]triazin, 2-[2-[4-isopropyloxi-fenyl]-etenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, 2-[2-(3- 2-[2-brom-4-N,N-di(etoxi- 2-[2-klor-4-N,N-di(etoxi- 2-[3-brom-4-N,N-di(etoxi- 2-[3-klor-4-N,N-di(etoxi- karbonylmetyl)amino-fenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin eller andra halometyltriaziner klor-4-metoxi-fenyl)etenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, karbonylmetyl)amino-fenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, karbonylmetyl)amino-fenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[l,3,5]triazin, karbonylmetyl)amino-fenyl]-4,6-bis-triklormetyl-[1,3,5]triazin, som exempelvis beskrives i G. Buhr, R. Dammel och C. Lindley, Polym. Mater. Sci. Eng. 61,269 (1989) och EP 0 262 788; halometyloxazolfotoinitiatorer, såsom beskrives i US 4 371 606 och US 4 371 607; 1,2-disulfoner, såsom beskrives i E.A. Bartmann, Synthesis 5, 490 (1993); klorhexafenyl-bisimidazol i kombination med Z-merkaptobenstiazol, ferrocenföreningar eller hexaarylbisimidazol och hexaarylbisimidazol/saminitiatorsystem, t.ex. orto- titanocener, t.ex. bis(cyklopentadienyl)-bis(2,6-difluor-3-pyrryl-fenylfiitan.

När de nya fotoinitiatorsystemen användes i hybridsystem, användes förutom de nya friradikalhärdarna även katjoniska fotoinitiatorer, peroxidföreningar, såsom bensoylperoxid (andra lämpliga peroxider beskrives i US patent 4 950 581, spalt 19, rad 17-25), aromatiska sulfonium-, fosfonium- eller jodoniumsalter som exempelvis beskrives i US patent 4 950 581, spalt 18, rad 60, till spalt 19, rad 10, eller cyklopentadienyl-aren-järn(II)komplexa salter, t.ex. (116-iso-propylbensen)(n5-cyklopentadienyl)-järn(H)hexafluorfosfat, liksom även sulfonsyra- oximestrar, som exempelvis beskrives i EP 780 729. Även pyridinium- och (iso)- kinoliniumsalter, som exempelvis beskrives i EP 497 531 och EP 441 232, kan användas i kombination med de nya fotoinitiatorema.

Fotoinitiatorerna (B), antingen ensamma eller i blandning med andra kända fotoinitiatorer (Bl) och sensibilisatorer (D), kan även användas i form av en dispersion eller emulsion i vatten eller vattenhaltiga lösningar.

Fotoinitiatom (B) tillsättes vanligen i en mängd av 0,015 till 60 viktdelar, företrädesvis då 0,03 till 30 viktdelar, räknat på 100 viktdelar av summan av komponenterna (A) och (C). Mängden hänför sig till summan av alla tillsatta fotoinitiatorer, om blandningar av initiatorer användes. Följaktligen avser mängden antingen fotoinitiatorn (B) eller fotoinitiatorema (B) + (Bl).

C:\l10049lO0.SAH v o v s »c 10 15 20 25 30 ø n u Q ou n 522 645 28 Uppfinningen hänför sig även till beredningar som innehåller 100 viktdelar av komponent (A), 0,015 till 120 viktdelar av komponent (B), 5 till 500 viktdelar, exempelvis då 5 till 300 viktdelar, av komponenten (C), och 0,015 till 120 viktdelar av komponenten (D).

De nya strålningskänsliga beredningarna finner användning som negativresister, eftersom de har en mycket hög ljuskänslighet och kan framkallas i ett vattenhaltigt alkaliskt medium utan att svälla. De är lämpliga som fotoresister för elektroniska tillämpningar (resist för strömlös plätering, elektropläteringsresist, etsresist, lödresist, samt isolerings- och dielektriska skikt där ljusbilder kan utbildas).

Beredningen anbringas jämnt på ett underlag medelst kända beläggningsförfaranden, t.ex. genom rotationsbeläggning, doppbeläggning, schaberbeläggning, ridåbeläggning, schablonbeläggning, pensling, sprutning, speciellt medelst elektrostatisk sprutning, och omvänd valsbeläggning, samt även medelst elektroforetisk avsättning. Det är även möjligt att anbringa det ljuskänsliga skiktet på en temporär, flexibel bärare, och sedan belägga det slutliga underlaget, tex. ett kopparklätt kretskort, genom överföring av skiktet medelst laminering.

Exempel på lämpliga organiska lösningsmedel som inställer beredningens viskositet till ett lämpligt värde för det använda beläggningsförfarandet, utgöres av ketoner, såsom etylmetylketon, cyklohexanon, cyklopentanon, 2-pentanon, 2-heptanon, etc; aromatiska kolväten, såsom toluen, xylen, tetrametylbensen, etc: glykoletrar, såsom metylcellosolv, etylcellosolv, butylcellosolv, bensylcellosolv, fenylcellosolv, metylkarbitol, butylkarbitol, propylenglykolmonometyleter, dipropylenglykolmonometyleter, dipropylenglykolmono- butyleter, trietylenglykolmonoetyleter, etc; estrar, såsom etylacetat, butylacetat, etyllaktat, metyl-3-metoxipropionat, etyl-3-etoxipropionat och förestrade produkter av ovan nämnda glykoletrar, såsom cellosölvacetat, butylcellosolvacetat, propylenglykolmonometyleteracetat, karbitolacetat, butylkarbitolacetat; alkoholer, såsom etanol, propanol, n-butanol, n-hexanol, n- heptanol, n-oktanol, etylenglykol, propylenglykol, etc; alifatiska kolväten, såsom oktan, dekan, etc; ett lösningsmedel av petroleumtyp, såsom petroleumeter, petroleumnafia, hydrerad petröleumnafta, lacknaña, etc; och andra, exempelvis N-metylpyrrolidinon och gammabutyrolakton. Det organiska lösningsmedlet användes för att späda hartset så, att det lätt kan påföras som en beläggning.

Den påförda mängden (beläggningstjocklek) och typen av underlag (bärarskikt) är beroende av det önskade användningsområdet. Området för skikttjockleken innefattar allmänt värden från ca 0,1 um till mer än 100 pm, exempelvis då 0,1 um till 1 cm, och företrädesvis 0,5 um till 1000 pm.

C:\I10049l00.SAH u n u v un o: 10 15 20 25 30 522 645 29 Efler beläggningen av underlagen avlägsnas lösningsmedlet, vanligen genom torkning, till att kvarlämna en film av fotoresisten på underlaget.

Uttrycket ”bildmässig” exponering innefattar såväl exponering genom en fotomask som innehåller ett förbestämt mönster, t.ex. en diapositiv, en krommask, en schablonmask eller ett nätmönster, liksom även exponering medelst laser- eller ljusstråle, vilken exempelvis förflyttas medelst datorstyriiing över ytan av de belagda underlaget och på detta sätt åstadkommer en bild, samt bestrâlning med datorstyrda elektronstrålar. Det är även möjligt att använda masker framställda av flytande kristaller som kan adresseras bildpunkt för bildpunkt till att ge digitala bilder, såsom exempelvis beskrives av A. Bertsch, J.Y. Jezequel, J.C. Andre i Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemisfly 1997, 107, sid 275-281 och av K.-P. Nicolay i Offset Printing 1997, 6, sid 34-37.

Som redan nämnts, kan beredningarna framkallas medelst vattenhaltigt alkali.

Speciellt lämpliga vattenalkaliska framkallarlösningar utgöres av vattenlösningar av tetraalkylammoniumhydroxider eller av alkalimetallsilikater-, -fosfater, -hydroxider och -kar- bonater. Smärre mängder av vätmedel och/eller organiska lösningsmedel kan även tillsättas, om så önskas, till dessa lösningar. Exempel på typiska organiska lösningsmedel, som i små mängder kan sättas till framkallarvätskorna utgöres av cyklohexanon, Z-etoxietanol, toluen, aceton, N-metylpyrrolidinon och blandningar av sådana lösningsmedel.

Ljuskänsligheten hos de nya beredningarna kan allmänt sträcka sig från 150 nm till 600 nm, exempelvis 190-600 nm (UV-synliga området). Lämplig bestrålning föreligger exempelvis i solljus eller ljus fi'ån konstljuskällor. Följaktligen kan ett stort antal av mycket olika typer av ljuskällor användas. Såväl punktforrniga ljuskällor som ljusuppsättningar (”lampmattor”) är lämpliga. Exempel utgöres av kolbåglampor, xenonbåglampor, superhög-, hög-, medel- och lågtryckkvicksilverlampor, eventuellt med dopning av metallhalid (metall- halogenlampor), mikrovågstimulerade metallånglampor, excimerlampor, superaktiniska lysrör, lysrörslampor, argonglödlampor, elektronblixtar, fotografiska flodljus, ljusemitterande dioder (LED), elektronstrålar och röntgenstrålar. Avståndet mellan lampan och det underlag som skall exponeras enligt uppfinningen kan variera beroende på den avsedda användningen och av typen och effekten hos lampan, och kan exempelvis vara från 2 cm till 150 cm.

Laserljuskällor, exempelvis excimerlasrar, såsom KIF-lastar för exponering vid 248 nm, ArF- lasrar för exponering vid 193 nm och Fz-lasrar for exponering vid 157 nm är även lämpliga.

Lasrar i det synliga området kan även användas.

Uppfinningen tillhandahåller därför även ett förfarande för fotopolymerisation av föreningar som innehåller minst en eteniskt omättad dubbelbindning, vilket innefattar att till C:\l l0049100.SAH 10 l5 20 25 30 o | r o r ø ø | o v av o n oc 522 645 30 de ovan nämnda föreningarna sättes minst en fotoinitiator med formel I eller II, såsom beskrivits i det föregående, och den erhållna beredningen bestrålas med elektromagnetisk strålning, speciellt då ljus av våglängden 150 till 600 nm, närmare bestämt ett forfarande for fotopolymerisation av föreningar som innehåller eteniskt omättade dubbelbindningar och som innefattar att en enligt ovan beskriven beredning bestrålas med elektromagnetisk strålning inom området från 150 till 600 nm.

Uppfinningen avser även ett belagt underlag, vilket på minst en yta är belagt med en beredning enligt ovan, liksom även till ett förfarande för fotografisk framställning av relietbilder, i vilket nämnda belagda underlag underkastas bildmässig exponering med elektromagnetisk strålning inom området från 150 till 600 nm, varefter öexponerade områden avlägsnas med ett lösningsmedel.

Beredningarna enligt uppfinningen har en hög känslighet och upplösningsförmåga även vid låga halter av fotoinitiatom, med eller utan sensibilisator, och är speciellt lämpliga i fotoresisttillämpningar med vattenhaltig framkallning. De har en god termisk stabilitet och en låg flyktighet.

De nya strålningskänsliga beredningarna finner användning som negativresister, och har en mycket hög ljuskänslighet och kan framställas i vattenhaltigt alkaliskt medium utan att svälla. De är lämpliga som fotoresister för elektroniska tillämpningar, såsom elektro- pläteringsresist, etsresist, såväl vätskeformiga som torra filmer, lödresist, som resister för framställning av färgfilter för olika presentationstillämpningar eller för att bilda uppbyggnader vid framställningsprocessen för plasmabildskärmar och elektroluminescens- presentation, for framställning av tryckformar for reliefiryck, planografiskt tryck, djuptryck eller schablontryckformar, for framställning av relieflropior, t.ex. för framställning av texter i blindskriñ, for framställning av stämplar, för användning vid kemisk fräsning eller som mikroresist vid framställning av integrerade kretsar. Kompositionerna kan vidare användas som dielektiiskt skikt eller beläggning när en fotobild kan åstadkommas, inkapslingsmaterial och isoleringsbeläggning vid framställning av datorkretsar, tryckta kretskoit och andra elektriska ' behandlingsbetingelserna for beläggningsunderlagen är lika varierande. eller elektroniska komponenter. De möjliga underlagsskikten och Eftersom de ljushärdbara beredningarna enligt uppfinningen har en god värme- stabilitet och är tillräckligt resistenta mot syreinhibering, är de speciellt lämpliga för framställning av färgfilter eller färgmosaiksystem, såsom exempelvis beskrives i EP 320 264.

Färgfilter användes vanligen vid framställning av ljusledardioder, projektionssystem och C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 _ I , , , , a n - « nu u a 522 645 31 bildavkännare. Färgfiltren kan exempelvis användas för presentation och bildavsökning i televisionsmottagare, videomonitorer eller datorer, i presentationsteknik med flatskärm, etc.

Ett föremål för föreliggande uppfinning utgöres följaktligen av en fargñlterresist som innehåller en beredning som beskrives i detalj i det föregående och det följande.

Färgfiltren framställes vanligen genom utformning av röda, gröna och blå bildpunkter och en svart matris på ett glasunderlag. I dessa förfaranden kan användas foto- härdbara beredningar enligt uppfinning. En speciellt föredragen användningsmetod innefattar beläggning av underlaget med beredningen enligt uppfinningen, torkning av beläggningen med en kort värmebehandling, mönstennässig exponering av beläggningen för aktinisk strålning och följande framkallning av mönstret i en alkalisk, vattenhaltig fiamkallare och eventuellt en värmebehandling. Genom successivt påförande av en röd-, grön- och blå- pigmenterad beläggning i någon önskad ordningsföljd ovanpå varandra medelst föreliggande process kan ett färgñlterskikt framställas med röda, gröna och blå färgbildpunkter.

Framkallningen genomföres genom borttvättning av de områden som icke polymeriserats medelst en lämplig alkalisk framkallarlösning. Denna process upprepas för att framställa bilden i flera färger.

I den ljuskänsliga hartsberedningen enligt föreliggande uppfinning, med en process, i vilken åtminstone ett eller flera bildelement utbildas på ett transparent underlag och därefter en exponering åstadkommes från en sida av det transparenta underlaget, på vilken de ovan nämnda bildelementen icke är utbildade, kan de nämnda bildelementen användas som ljusavskärmande mask. I detta fall, exempelvis när en total exponering göres, blir en positionsjustering av en mask onödig, och problemet med en positionsförskjutning därav undanröjes. Det är även möjligt att hårda allt av den del, på vilken de nämnda bildelementen icke utbildas. Vidare är det i detta fall likaledes möjligt att framkalla och avlägsna en del av den andel, på vilken de ovan nämnda bildelementen icke är utbildade genom delvis användning av en ljusavskärmande mask.

Eftersom i vart fall icke något mellanrum bildas mellan de bildelement som tidigare utbildas och de som utbildas senare, är beredningen enligt föreliggande uppfinning lämplig exempelvis som material för utformning av ett färgfilter. I praktiken sättes färgmedlen, färgämnen och pigment med röd, grön och blå färg, till den ljuskänsliga hartsberedningen enligt uppfinningen, och förfarandena för framställning av en bild upprepas för att åstadkomma bildelementen med röd, grön och blå färg. Därefter tillföres den ljuskänsliga hartsberedningen, till vilken exempelvis satts svarta färgmedel, färgämnen och pigment på en totalyta. En total exponering (eller en partiell exponering genom en ljusavskärmande mask) C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 a L u s s ø .a 32 kan tillhandahållas därpå för att ge bildelementen med svart färg över alla utrymmen (eller alla utom ett speciellt område av den ljusavskärmande masken) mellan bildelementen med röd, grön och blå färg.

Förutom i ett förfarande, där den ljuskänsliga hartsberedningen påföres på ett underlag och torkas, kan den ljuskänsliga hartsberedningen enligt uppfinningen likaväl användas till ett skiktöverföringsmaterial. Detta innebär att den ljuskänsliga hartsberedningen bildmässigt anbringas direkt på en temporär bärare, företrädesvis på en polyetylen- tereltalatfilm, eller på en polyetylentereftalatfilm som försetts med ett syreavskärmande skikt och ett skalningsskikt, eller ett skalningsskikt och ett syreavskäramdne skikt tillhandahålles.

Vanligen lamineras därpå en avlägsningsbar täckfolie som framställs av syntetharts för att skydda vid hantering. Vidare kan likaväl anbringas en skiktuppbyggnad, i vilken ett alkalilösligt termoplastskikt och ett mellanskikt tillhandahålles på en temporär bärare och vidare ett skikt av ljuskänslig hartsberedning anordnas därpå (JP 5-173320-A).

Täckskiktet enligt ovan avlägsnas vid användning och skiktet av ljuskänslig hartsberedning lamineras på ett permanent underlag. Därefter genomföres skalning mellan dessa skikt och en temporär bärare när ett syreavskärmande skikt och ett skalningsskikt har tillhandahållits, mellan skalningsskiktet och det syreavskärmande skiktet när skalningsskiktet och det syreavskärmande skiktet tillhandahålles, och mellan den temporära bäraren och skiktet av ljuskänslig hartsberedning när endera skalningsskiktet eller det syreavskärmande skiktet icke tillhandahålles, och den temporära bäraren avlägsnas.

Ett metallunderlag, glas, kermik och en syntetisk hartsfolie kan användas som bärare för ett färgfilter. Glas och en syntethartsfolie som är transparent och har en utmärkt dimensionsstabilitet är speciellt att föredraga.

Tjöckleken av den ljuskänsliga hartsberedningens skikt är vanligen 0,1 till 50 um, speciellt då 1 till 5 um.

En utspädd vattenlösning av en alkalisk substans användes som framkallarlösning för den ljuskänsliga hartsberedningen enligt föreliggande uppfinning, och vidare innefattas även en lösning som framställs genom tillsats därtill av en liten mängd av ett med vatten blandbart organiskt lösningsmedel.

Exempel på lämpliga alkalimaterial innefattar alkalimetallhydroxider (t.ex. natriumhydroxid och kaliumhydroxid), alkalimetallkarbonater (t.ex. natriumkarbonat och kaliumkarbonat), alkalimetallbikarbonater (tex. natriumbikarbonat och kaliumbikarbonat), alkalimetallsilikater (t.ex. natriumsilikat och kaliumsilikat), alkalimetallmetasilikater (t.ex. natriummetasilikat och kaliummetasilikat), trietanolamin, dietanolamin, monoetanolamin, C:\l l0O49l00.SAH 10 15 20 25 30 | o : u Q | I I ° ' " v n | Q o c fl I' 522 645 33 morfolin, tetraalkylammoniumhydroxider (t.ex. tetrametylammoniumhydroxid) eller trinatriumfosfat. Halten av det alkalíska medlet är 0,01 till 30 vikt-%, och pH är företrädesvis 8 till 14.

Lämpliga organiska lösningsmedel som är blandbara med vatten innefattar metanol, etanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetonalkohol, etylenglykolmonometyleter, etylenglykolmonoetyleter, etylenglykolmono-n-butyleter, bensylalkohol, aceton, metyletyl- keton, cyklohexanon, epsilon-kaprolakton, gamma-butylolakton, dimetylformamid, dimetyl- acetamid, hexametylfosforamid, etyllaktat, metyllaktat, epsilon-kaprolaktam och N-metyl- pyrrolidon. Halten av det med vatten blandbara organiska lösningsmedlet är 0,1 till 30 vikt-%.

Vidare kan ett för fackmannen känt ytaktivt medel tillsättas. Halten av det ytaktiva medlet är lämpligen 0,001 till 10 vikt-%.

Framkallarlösningen kan användas antingen i form av en badlösning eller en besprutningslösning. För att avlägsna den icke-härdade andelen av skiktet av ljuskänslig hartsberedning kan man kombinera sådana metoder som gnidning med roterande borste och gnidning med våt svamp. Vanligen är framkallarlösningens temperatur helst vid och omkring rumstemperatur till 40°C. Framkallningstiden kan förändras beroende av den specifika typen av ljuskänslig hartskomposition, samt framkallarlösningens alkalinitet och temperatur, samt typen och halten av organiskt lösningsmedel i det fall där sådant tillsättes. Vanligen är den 10 s till 2 min. Det är möjligt att inlägga ett sköljningssteg efter framkallningsbehandlingen.

En slutlig värmebehandling genomföres lämpligen efter framkallningsbehandlingen.

Enligt denna värmes ett underlag med ett skikt som fotopolymeriserats genom exponering (i det följande benämnt det fotohärdade skiktet) i en elektrisk ugn och en tork, eller det fotohärdade skiktet bestrâlas med infraröd lampa eller värmes på värmeplatta.

Värmningstemperaturen och tiden är beroende av den använda beredningen och tjockleken av det utbildade skiktet. I allmänhet genomföres värmning lämpligen vid ca 120 till ca 250°C under ca 5 till ca 60 min.

Det pigment som kan ingå i beredningen enligt föreliggande uppfinning, innefattande en pigmenterad färgfilterresistberedning, utgöres företrädesvis av ett behandlat pigment, exempelvis en pulverformig eller pastaformig produkt som framställts genom findispergering av ett pigment i minst ett harts, valt bland akrylharts, vinylklorid-vinylacetatsampolymer, maleinsyraharts och etylcellulosaharts.

Det röda pigmentet innefattar exempelvis ett pigment av antrakinontyp enbart, ett pigment av perylentyp enbart, eller en blandning bestående av minst ett av dem och gult pigment av diazotyp eller ett gult pigment av isoindolintyp, speciellt då C.I. Pigment Red 177 C:\l10049l00.SAH 10 15 20 25 30 : q a | e n ~ a n . v: o 522 645 u o n u n nu 34 enbart, C.I. Pigment Red 155 enbart eller en blandning bestående av minst en av C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 155 och C.I. Pigment Yellow 83 eller C.I. Pigment Yellow 139 (”C.I.” hänvisar till Color Index, vilken är känd for fackmannen och allmänt tillgänglig).

Ytterligare lämpliga exempel på pigment är C.I. Pigment Red 105, 144, 149, 176, 177, 185, 202, 209, 214, 222, 242, 254, 255, 264, 272 och C.I. Pigment Yellow 24, 31, 53, ss, 93, 95, 109, 110, 128, 129, 138, 139, 166 och C.I. Pigment Orange 43.

Det gröna pigmentet innefattar exempelvis ett pigment av halogenerad ftalocyanintyp enbart eller dess blandning med ett gult pigment av diazotyp eller ett gult pigment av isoindolintyp, speciellt då C.I. Pigment Green 7 enbart, C.I. Pigment Green 36 enbart, C.I.

Pigment Green 37 enbart eller en blandning, bestående av minst ett av C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 37, C.I. Pigment Green 136 och C.I. Pigment Yellow 83 eller C.I. Pigment Yellow 139. Andra lämpliga gröna pigment utgöres av C.I.

Pigment Green 15 och 25.

Exempel på lämpliga blå pigment utgöres av pigment av ftalocyanintyp, använda antingen enbart eller i kombination med ett violett pigment av dioxazintyp, exempelvis då en kombination av C.I Pigment Blue l5:3 och C.I. Pigment Violet 23. Ytterligare exempel på blå pigment är sådana som C.I. Blue 15:3, 15:4, 15:6, 16 och 60, dvs ftalocyanin C.I. Pigment Blue l5:3 eller ftalocyanin C.I. Pigment Blue 15:6. Ytterligare lämpliga pigment utgöres av sådana som C.I. Pigment Blue 22, 28, C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 37, 177 och C.I.

Orange 73.

Pigmentet i den fotopolymera beredningen för den svarta matrisen innehåller lämpligen minst ett av materialen från gruppen kol, titansvart och järnoxid. En blandning av andra pigment som totalt ger det svarta utseendet kan dock även användas. Exempelvis kan även C.I. Pigment Black 1 och 7 användas ensamma eller i kombination.

För varje färg kan kombinationer av fler än två pigment även användas. Speciellt lämpliga i fárgfiltertillämpningar är pulverformiga, behandlade pigment som framställts genom fmdispergering av de i det föregående nämnda pigmenten i ett harts.

Halten av pigmentet i den totala fasta komponenten (pigment av olika färger och harts) är exempelvis inom området från 5 till 80 vikt-%, företrädesvis då 10 till 50 vikt-%, och speciellt inom området från 20 till 45 vikt-%.

Pigmenten i fargfilterresistberedningen har företrädesvis en medelpartikeldiameter som är mindre än våglängden hos synligt ljus (400 nm till 700 nm). Speciellt föredrages en medelpigmentdiameter av <10O nm.

C:\l lO049l00.SAH 10 15 20 25 30 , , , , , . u n | v en n u 522 645 35 ~ I ~ u n n: Om så erfordras, kan pigmenten stabiliseras i den ljuskänsliga beredningen genom att de förbehandlas med ett dispersionsmedel för att förbättra dispersionsstabiliteten hos pigmentet i den vätskeformiga beredningen.

Exempel på fargfilterresister, sammansättningen hos sådana resister och be- handlingsbetingelser visas av T. Kudo et al., Jpn. J. Appl. Phys. vol. 37 (1998) 3594; T. Kudo et al., J. Photopolym. Sci. T echnol. vol. 9 (1996) 109; K. Kobayashi, Solid State Technol., nov. 1992, sid Sl5-Sl8; US 5 368 976; US 5 800 952; US 5 882 843; US 5 879 855; US 5 866 298; US 5 863 678; JP 06-230212-A; EP 320 264; IP O9-2694lO-A; JP 10-221843-A; JP 01-090516-A; JP 10-171119-A, US 5 831 016, US 5 847 015, US 5 882 843, US 5 719 008, EP 881 541 eller EP 902 327.

Fotoinitiatorema enligt föreliggande uppfinning kan användas i färgfilterresister, exempelvis sådana som visats som exempel i det föregående, eller kan delvis eller helt ersätta de kända fotoinitiatorerna i sådana resister. Det inses av fackmannen, att användningen av de nya fotoinitiatorema enligt föreliggande uppfinning icke är begränsad till de specifika bindemedelsharts, tvärlänkningsmedel och sammansättningar i exempel på fargfilterresister som givits i det föregående, utan kan användas i förening med varje radikalpolymeriserbar komponent i kombination med ett fargämne eller färgpigment eller latent pigment till att bilda en ljuskänslig, färgad filtertryckfarg eller färgad filterresist.

Följaktligen utgöres föremål för uppfinningen även av ett färgfilter, framställt genom tillhandahållande av röda, gröna och blå (RGB) fargelement och eventuellt en svart matris, samtliga innefattande ett ljuskänsligt harts och ett pigment på ett transparent underlag, och tillhandahållande av en transparent elektrod på endera ytan av underlaget eller på ytan av fargfilterskiktet, varvid nämnda ljuskänsliga harts innefattar en flerfunktionell akrylat- monomer, ett organiskt, polymert bindemedel och en fotopolymerisationsintiator med formel I eller II såsom beskrivits i det föregående. Monomer- och bindemedelskomponentema, liksom även lämpliga pigment har även beskrivits i det föregående. Vid framställning av fargfilter kan det transparenta elektrodskiktet antingen anbringas på ytan av det transparenta underlaget eller kan tilhandahållas på ytan av de röda, gröna och blå bildelementen och den svarta matrisen. Det transparenta underlaget utgöres exempelvis av ett glasunderlag, vilket dessutom kan ha ett elektrodskikt på sin yta. Det föredrages att anbringa en svart matris mellan färgområdena med olika färg för att förbättra kontrasten hos ett fargfilter.

I stället för att utbilda en svart matris med användning av en ljuskänslig komposition och utformning av mönstret av svart ljuskänslig komposition fotolitografiskt genom mönstermässig exponering (dvs genom en lämplig mask) för att bilda det svarta mönster som C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 522 645 36 åtskiljer de röda, gröna och blå färgade områdena på det transparenta underlaget är det altemativt möjligt att använda en Oorganisk svart matris. En sådan oorganisk svart matris kan utbildas från avsatt (dvs förstoftad) metall (dvs krom) i form av en film på det transparenta underlaget medelst en lämplig bildprocess, t.ex. med användning av fotolitografisk mönsterbildning medelst en etsresist, etsning av det oorganiska skiktet i de områden som icke är skyddade av etsresisten och därefter avlägsnande av återstående etsresist.

Det finns olika kända metoder för och vid vilket steg i framställningen av färgfiltret som den svarta matrisen kan anbringas. Den kan antingen anbringas direkt på det transparenta underlaget före utformningen av det röda, gröna och blå (RGB) färgfiltret, såsom redan nämnts, eller den kan påföras efter det att RGB-färgfiltret är utformat på underlaget.

I en olika utföringsform av ett fargfilter för presentation med flytande kristaller, enligt US 5 626 796, kan den svarta matrisen även anbringas på underlaget motsatt mot det underlag som uppbär RGB-färgfilterelementet, vilket åtskiljes från det föregående medelst ett flytande kristallskikt.

Om det transparenta elektrodskiktet avsättes efier påförandet av RGB-färg- filterelementen och - eventuellt - svarta matrisen, kan en ytterligare överskiktsfilm som skyddsskikt anbringas på färgfilterskiktet före avsättningen av elektrodskiktet, exempelvis såsom beskrives iUS 5 650 263.

För utbildande av ett överskikt på ett färgfilter, användes ljuskänsliga eller värmehärdande hartskompositioner. Den ljuskänsliga beredningen enligt föreliggande uppfinning kan även användas för att utbilda sådana överskikt, eftersom en härdad film av beredningen har en utmärkt jämnhet, hårdhet, kemisk och termisk resistens, transparens, speciellt i det synliga området, vidhäftning till ett underlag och lämplighet för utbildande av en transparent ledande film, t.ex. en ITO-film därpå. Vid utformning av ett skyddsskikt har det efizerfrågats att onödiga delar av skyddsskiktet, exempelvis på ritslinjer för kapning av underlaget och på förbindningsytor av fasta bildavkännare bör avlägsnas från underlaget, såsom beskrives i JP 57-42009-A, IP 1-l30103-A och JP 1-l34306-A. I detta avseende är det svårt att selektivt utforma ett skyddsskikt med god precision och användning av de ovan nämnda värmehärdande hartsema. Den ljuskänsliga beredningen möjliggör dock ett lätt avlägsnande av onödiga delar av skyddsskiktet genom fotolitografi.

Det framgår klart för fackmannen, att de ljuskänsliga beredningarna enligt föreliggande uppfinning kan användas för att bilda röda, gröna och blå fárgbildpunkter och en svart matris, för framställning av ett fargfilter oavsett de ovan beskrivna skillnaderna i behandling, oavsett ytterligare skikt som kan påföras, och oavsett skillnader i fárgfiltrets C:\1 l0049100.SAH 10 15 20 25 30 u c u | e ø o o a u no 522 645 n u s s n ø no 37 konstruktion. Användningen av en beredning enligt föreliggande uppfinning för att utbilda färgade element skall icke anses vara begränsad genom olika konstruktioner och framställningsförfaranden för sådana fargfilter.

Som den i färgfilterresistberedningen använda föreningen (A), vilken är löslig i alkalisk vattenlösning och olöslig i vatten kan exempelvis användas en homopolymer av en polymeriserbar förening som har en eller flera sura grupper och en eller flera polymeriserbara omättade bindningar i molekylen, eller en sampolymer av två eller flera typer därav, och en sampolymer av en eller flera polymeriserbara föreningar som har en eller flera omättade bindningar som är sampolymeriserbara med dessa föreningar och icke innehåller någon sur grupp. Sådana föreningar kan erhållas genom sampolymerisation av en eller flera typer av lågmolekylär förening som har en eller flera sura grupper och en eller flera polymeriserbara omättade bindningar i molekylen med en eller flera polymeriserbara föreningar som har en eller flera omättade bindningar som är sampolymeriserbara med dessa föreningar och icke innehåller någon sur grupp. Exempel på sura gnipper utgöres av gruppen COOH, gruppen SOgH, gruppen SOzNHCO, en fenolisk hydroxigrupp, en grupp SOzNH och en grupp CO- NH-CO. Bland dessa föredrages speciellt en högmolekylär förening som har :en COOH-grupp.

Det organiska polymerbindemedlet som förening (A) i resistberedningen för färgfilter innefattar lämpligen en alkalilöslig sampolymer, vilken som additionspoly- meriserbar mcnomerenheter innehåller minst en omättad organisk syraförening, såsom akrylsyra, metakrylsyra och liknande. Det föredrages att som vidare sammonomer för polymerbindemedlet använda en omättad organisk syraesterförening, såsom metylakrylat, etyl(met)akrylat, bensyl(met)akrylat, styren och liknande för att utbalansera egenskaperna, såsom alkalilöslighet, vidhäñningshållfasthet, kemisk resistens, etc.

Det organiska polymerbindemedlet kan utgöra antingen en slumpvis sampolymer eller en segmentsampolymer, t.ex. en sådan som beskrives i US 5 368 976.

Exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera syragrupper och en eller flera polymeriserbara, omättade bindningar i molekylen innefattar följande föreningar: akrylsyra, metakrylsyra, itakonsyra, krotonsyra, maleinsyra, vinylbensoesyra och kanelsyra utgör exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera COOH-grupper och en eller flera polymeriserbara, omättade bindningar i molekylen.

Vinylbensensulfonsyra och 2-(met)akrylamid-2-metylpropansulfonsyra utgör exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera SOgH-grupper och en eller flera polymeriserbara, omättade bindningar. N-metylsulfonyl(met)akrylamid, N-etylsulfonyl- (met)akrylamid, N-fenylsulfonyl(met)akrylamid och N-(p-metylfenylsulfonyl)(met)akryl- C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 n o n u n o 0 I ' ' " n n 522 645 ss amid utgör exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera SOzNHCO-grupper och en eller flera polymeriserbara omättade bindningar.

Exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera fenoliska hydroxigrupper och en eller flera polymeriserbara omättade bindningar i molekylen innefattar hydroxifenyl(met)akrylamid, dihyrodifenyl(met)akrylamid, hydroxifenylkarbonyletyl(met)- akrylat, hydroxifenyloxietyl(met)akrylat, hydroxifenyltioetyl(met)akrylat, dihydroxifenyl- karbonyloxietyl(met)akrylat, tioetyl(met)akrylat. dihydroxifenyloxietyl(met)akrylat och dihydroxifenyl- Exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera SOgNH-grupper och en eller flera polymeriserbara omättade bindningar i molekylen innefattar föreningar som åskådliggöres av formel (a) eller (b): CH2=CHA1-Y1-A2-SO2-NH-Å3 (a) CH2 = CHA4-Y2-A5-NH-SO2-A5 vari Y; och Y; vardera betecknar C00-, CONAv- eller en enkel bindning; A1 och A4 vardera betecknar H eller CH3; A2 och A5 vardera betecknar Cl-Cnalkylen som eventuellt har en substituent, cykloalkylen, arylen eller aralkylen, eller Cg-Cualkylen, i vilken är införd en etergrupp och en tioetergrupp, cykloalkylen, arylen eller aralkylen; A3 och A6 vardera betecknar H, C1-C12alkyl som eventuellt har en substituent, en cykloalkylgrupp, en arylgrupp eller en aralkylgrupp; och A1 betecknar H, C1-C12alkyl som eventuellt har en substituent, en cykloalkylgrupp, en arylgrupp eller en aralkylgrupp.

De polymeriserbara föreningar som har en eller flera CO-NH-CO-grupper och en eller flera polymeriserbara, omättade bindningar innefattar maleinimid och N-akryloyl- akrylamid. Dessa polymeriserbara föreningar blir högmolekylära föreningar som innefattar en CO-NH-CO-grupp, i vilken en ring bildas tillsammans med en primärkedja genom polymerisatiön. Vidare kan likaledes användas ett metakrylsyraderivat och ett akryl- syraderivat, vilka vardera har en CO-NH-CO-grupp. Sådana metakrylsyraderivat och akrylsyraderivat innefattar exempelvis ett metakrylamidderivat, såsom N-acetylmetakrylamid, N-propionylmetakrylamid, N-butanoylmetakrylamid, N-pentanoylmetakrylamid, N-dekanoyl- metakrylamid, N-dodekanoylmetakrylamid, N-bensoylmetakrylamid, N-(p-metylbensoyl)- metakrylamid, N-(p-klorbensoy1)metakrylamid, N-(nafiylkarbonyl)metakrylamid, N-(fenyl- acetyD-metakrylamid och 4-metakryloylaminoñalimid, och ett akrylamidderivat som har samma substituent som dessa. Dessa polymeriserbara föreningar polymeriseras till att bilda föreningar som har en CO-NH-CO-grupp i en sidokedja.

C:\ll0049l00.SAH 10 15 20 25 30 v e v . ø c n u - I no n n | » I ~ - nu 39 Exempel på polymeriserbara föreningar som har en eller flera polymeriserbara, omättade bindningar och icke innehåller någon syragrupp innefattar en förening som har en polymeriserbar, omättad bindning, vald bland (met)akrylater, (met)akrylamider, en allyl- förening, vinyletrar, vinylestrar, styrener och krotonater, och innefattar specifikt (met)- akrylater, såsom alkyl(met)akrylat eller substituerad alkyl(met)akrylat (t.ex. metyl(met)- akrylat, etyl(met)akrylat), propyl(met)akrylat, isopropyl(met)ak1ylat, butyl(met)akrylat, amyl- (met)akrylat, hexyl(met)akrylat, cyklohexyl(met)akiylat, etylhexyl(met)akrylat, okty1(met)- akrylat, t-oktyl(met)akrylat, kloretyl(met)akrylat, allyl(met)akrylat, 2-hydroetyl(met)akrylat, 2-hydroxipropyl(met)akrylat, 4-hydroxibutyl(met)akrylat, 2,2-dimetyl-3-hydroxipropyl(met)- akrylat, 5-hydroxipentyl(met)akrylat, trimetylolpropanmono(met)akrylat, pentaerytritolmono- (met)akrylat, bensyl(met)akrylat, metoxibensyl(met)akrylat, klorbensyl(met)akrylat, furfuryl- (met)akrylat, tetrahydrofi1rfi1ryl(met)akrylat, fenoxietyl(met)akrylat, och ary1(met)akrylat (t.ex. fenyl(met)akrylat, kresyl(met)ak1ylat och nafiyl(met)akrylat); (met)akrylamider, såsom (met)akrylamid, N-alkyl(met)akrylamid (alkylgruppen innefattar exempelvis metyl, etyl, propyl, butyl, t-butyl, heptyl, oktyl, etylhexyl, cyklohexyl, hydroxietyl och bensyl), N- aryl(met)akrylamid (arylgruppen innefattar exempelvis fenyl, tolyl, nitrofenyl, naftyl och hydroxifenyl), N,N-dialkyl(met)akrylamid (alkylgruppen innefattar exempelvis metyl, etyl, butyl, isobutyl, etylhexyl och cyklohexyl), N,N-diaryl(met)akrylamid (arylgruppen innefattar exempelvis fenyl), N-metyl-N-fenyl(met)akiylamid, N-hydroxietyl-N-metyl(met)akrylamid, N-2-acetoamidetyl-N-acetyl(met)akrylamid, N-(fenylsulfonyl(met)akrylamid och N-(p- metylfenyl-sulfonyl)(met)akrylamid; en allylforening, såsom allylestrar (t.ex. allylacetat, allylkaproat, allylkaprylat, allyllaurat, allylpalmitat, allylstearat, allylbensoat, allylacetoacetat och allyllaktat) och allyloxietanol; vinyletrar, såsom alkylvinyleter (alkylgruppen innefattar exempelvis hexyl, oktyl, decyl, etylhexyl, metoxietyl, etoxietyl, kloretyl, 1-metyl-2,2-dimetylpropyl, 2-etylbutyl, hydroxietyl, hydroxietoxietyl, dimetylaminoetyl, dietylaminoetyl, butylaminoetyl, bensyl och tetra- hydrofiirfuryl), och vinylaryleter (arylgruppen innefattar exempelvis fenyl, tolyl, klorfenyl, 2,4-diklorfenyl, naflyl och antranyl); vinylestrar, såsom vinylbutylat, vinylisobutylat, vinyltrimetylacetat, vinyldietylacetat, vinylbarat, vinylkaproat, vinylkloracetat, vinyldikloracetat, vinylmetoxiacetat, vinyl- butoxiacetat, vinylfenylacetat, vinylacetoacetat, vinyllaktat, vinyl-b-fenylbutylat, vinycyklo- hexylkarboxilat, vinylbensoat, vinylsalicylat, vinyklorbensoat, vinyltetraklorbensoat och vinylnafioat; C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 , , , . . . u u | : nu . u. 522 645 40 styrener, såsom styren, alkylstyren (exempelvis metylstyren, dimetylstyren, trimetylstyren, etylstyren, dietylstyren, isopropylstyren, butylstyren, hexylstyren, cyklohexylstyren, de- etoximetylstyren och cylstyren, bensylstyren, klormetylstyren, trifluormetylstyren, acetoximetylstyren), alkoxistyren (t.ex. metoxistyren, 4-metoxi-3-metylstyren och dimetoxistyren) och halogenstyren (t.ex. klorstyren, diklorstyren, triklorstyren, tetraklorstyren, pentaklorstyren, bromstyren, dibromstyren, jodstyren, fluorstyren, trifluorstyren, 2-brom-4-trifluormetylstyren och 4-flur-3-trifluormetylstyren); krotonater, såsom alkylkrotonat (tex. butylkrotonat, hexylkrotonat och glycerol- monokrotonat); dialkylitakonater (t.ex. dimetylitakonat, dietylitakonat och dibutylitakonat); dialkylmaleater eller -fi1marater(tex. dimetylmaleat och dibutylfi1marat); och (met)akiylnitril.

Likaledes kan användas homo- eller sampolymerer av hydroxistyren eller ett fenolharts poly(hydroxistyren) och poly(hydroxistyren-sam- av novolaktyp, t.ex. vinylcyklohexanol), ett novolakharts, ett kresolnovolakharts och ett halogenerat fenolnovolakharts. Närmare bestämt innefattas exempelvis metakrylsyrasampolymerer, akrylsyrasampolymerer, itakonsyrasampolymerer, krotonsyrasampolymerer, maleinsyra- anhydridsampolymerer, t.ex. med styren som sammonomer, och maleinsyrasampolymerer, samt delvis forestrade maleinsyrasampolymerer, vilka vardera beskrives i exempelvis JP 59- 44615-B4 (betecknínten ”JP-B4” användes här for att beteckna en granskad japansk patentpublikation). JP-54-34327-B4, JP 58-12577-B4 och JP 54-25957-B4, JP 59-53836-A, JP 59-72048-A, JP 60-159743-A, JP 60-258539-A, JP l-152449-A, JP 2-199403-A och JP 2- 199404-A, vilka sampolymerer vidare kan bringas att reagera med en amin, såsom t.ex. visas i US 5 650 263; vidare kan användas ett cellulosaderivat som har en karboxylgrupp på en sidokedja, och speciellt foredrages sampolymerer av bensyl(met)akrylat och (met)akrylsyra och sampolymerer av bensyl(met)akrylat, (met)akrylsyra och andra monomerer, tex. sådana som beskrives i US 4 139 391, JP 59-44615-B4, JP 60-159743-A och JP 60-258538-A.

Med avseende på dem bland de ovan nämda organiska bindemedelspolymerer som har karboxylsyragrupper, är det möjligt att bringa en del eller alla av karboxylsyragrupperna att reagera med glycidyl(met)akrylat eller ett epoxi(met)akrylat for erhållande av fotopolymeriserbara organiska bindemedelspolymerer med avsikt att förbättra ljus- känsligheten, hållfastheten hos beläggningsñlmen, beläggningslösningsmedlet och den kemiska resistensen och vidhäfiningen till underlaget. Exempel visas i JP 50-34443-B4 och JP C:\l l0049lOO.SAH 10 15 20 25 30 9 Q G Q Q I I I Û ' V. 522 645 41 so-34444-B4, Us 5 153 095, av T. Kudø e: al. 1.1. Appl. Phys., v01. 37 (1998), sid. 3594- 3603, US 5 677 385 och US 5 650 233.

Den viktmässiga medelmolvikten hos bindemedlen är lämpligen 500 till 1 000 000, t.ex. då 3000 till 1 000 000, och mera föredraget 5000 till 400 000.

Dessa föreningar kan användas ensamma eller som en blandning av två eller flera typer. Halten av bindemedlet i den ljuskänsliga hartskompositionen är lämpligen 10-95 vikt- %, och mer föredraget då 15-90 vikt-%, räknat på totalmängden torrsubstans.

Som förening (C) innehåller färgfilterresistberedningen enligt föreliggande uppfinningen ytterligare minst en additionspolymeriserbar monomerförening.

Exempelvis kan följande föreningar användas enbart eller i kombination med de andra monomererna som additionspolymeriserbar monomer som har en eteniskt omättad dubbelbindning som användes i föreliggande uppfinning. Specifikt innefattas t- butyl(met)akrylat, etylenglykoldi(met)akrylat, Z-hydroxipropyl(met)akrylat, trietylenglykol- di(met)akrylat, 2-etyl-2-butylpropandioldi(met)akrylat, pentaerytritoltri(met)akrylat, pentaerytritoltetra(met)akrylat, dipentaerytritolhexa(met)akrylat, trimetylolpropantri(met)ak1ylat, dipentaerytritolpenta(met)akrylat, polyoxietylerad trimetylolpropantri(met)akrylat, tris(2)- 1,4-dihyroxibensen(met)akrylat, dekametylenglykoldi(met)akrylat, styren, diallylfiimarat, triallyltrimellitat, lauryl(met)akrylat, (met)akryloyloxietyl)isocyanurat, 1,4-diisopropeylbensen, (met)akrylamid och xylenbis(met)ak1ylamid. Vidare kan användas en reaktionsprodukt av en förening som har en hydroxylgrupp, såsom 2-hydroxietyl(met)akrylat, 2-hydroxipropyl- (met)akrylat och polyetylenglykolmono(met)akry1at, med diisocyanat, såsom hexa- metylendiisocyanat, toluendiisocyanat och xylendiisocyanat. Speciellt föredrages penta- erytritoltetraakrylat, dipentaerytritolhexaakrylat, dipentaerytritolpentaakrylat och tris(2- acyloyloxietyl)-isocyanurat.

I en fårgfilterresistberedning är hela mängden av de monomerer som ingår i den fotopolymeriserbara kompositionen lämpligen 5-80 vikt-%, och speciellt då 10 till 70 vikt-%, räknat på beredningens totalmängd av torrsubstans.

I färgfiltret kan vidare den totala mängden fast komponent av varje färg innehålla ett joniskt bindemedel för föroreningar, t.ex. en organisk förening som har en epoxigrupp. Halten av bindemedlet för joniska föroreningar i den totala mängden fast komponent är vanligen inom området från 0,1 till 10 vikt-%.

Exempel på färgñlter, speciellt med avseende på de i det föregående beskrivna kombinationerna av pigment och bindemedel för joniska föroreningar visas i EP 320 264. Det C:\l lO049l00.SAH 10 15 20 25 30 _ _ _ _ , , , . | o na o - u 1 n v qv 522 645 42 inses att fotoinitiatorema enligt föreliggande uppfinning, dvs föreningarna med formel I och II i de färgfilterberedningar som beskrives i EP 320 264 kan ersätta triazininitiatorföreningarna.

Beredningarna enligt uppfinningen kan ytterligare innehålla ett tvärbindningsmedel som aktiveras av en syra, exempelvis som beskrives i JP 10 221843-A, och en förening som bildar syra termiskt eller genom aktinisk bestrålning och som aktiverar en tvär- länkningsreaktion.

Beredningarna enligt föreliggande uppfinning kan även innehålla latenta pigment som överföres till findispergerade pigment under värmebehandlingen av det ljuskänsliga mönster eller skikt som innehåller det latenta pigmentet. Värmebehandlingen kan genomföras eñer exponering eller efter framkallning av det fotobildkänsliga skikt som innehåller latent pigment. Sådana latenta pigment utgör lösliga pigmentförföreningar som kan överföras till olösliga pigment medelst kemiska, termiska, fotolytiska eller strålningsinducerade metoder, såsom exempelvis beskrives i US 5 879 855. Denna omvandling av sådana latenta pigment kan förstärkas genom tillsats av en förening som bildar syra vid aktinisk exponering eller genom tillsats av en sur förening till beredningen. Därför kan en färgfilterresist även framställas som innehåller ett latent pigment i en beredning enligt föreliggande uppfinning.

Efter beläggningen av underlagen avlägsnas lösningsmedlet, vanligen genom torkning, till att kvarlämna en väsentligen torr resistfilm av fotoresisten på underlaget.

Den ljuskänsliga beredningen enligt föreliggande uppfinning kan lämpligan användas för framställning av ett fargfilter, men kommer icke att vara begränsad till denna användning. Den är likaledes användbar för andra tillämpningar, t.ex. registreringsmaterial, fotoresister, presentationer, presentationselement, målningsfarger och tryckfärger.

De ljuskänsliga beredningarna enligt uppfinningen är även lämpliga för framställning av mellanliggande isoleringsskikt eller dielektriska skikt i en presentationsanordning av vätskekristalltyp, och närmare bestämt då i en vätskekristallanordning av reflektionstyp som innefattar en presentationsanordning av aktiv matristyp som har en tunnfilmtransistor (TFT) som kopplingsanordning, och en passiv matristyp utan kopplingsanordning, Under senare år har visningsanordningar av vätskekristalltyp exempelvis fått en utbredd användning för TV-apparater i fickformat och terminalanordningar för kommunikation på grund av deras ringa tjocklek och låga vikt. En vätskekristallpresentation av reflektionstyp utan behov att använda bakgrundsljus är speciellt efterfrågad, efiersom den är ultratunn och har låg vikt, och väsentligt kan minska energiåtgången. Även om bakgrundsljuset avlägsnas från en för närvarande tillgänglig färgpresentation av vätskekristalltyp för transmission och en ljusreflektionsplatta tillägges till en nedre yta av C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 ~ u o . ; n n | e a nu u 522 645 a - a o a ø en 43 presentationsanordningen, skulle det medföra problem i det att verkningsgraden för utnyttjande av ljus är låg, och det är icke möjligt att ha en praktiskt användbar ljushet.

Som lösning till detta problem har föreslagits olika vätskekristallanordníngar av reflektionstyp för att förbättra verkningsgraden vid ljusutnyttjandet. Exempelvis är en speciell vätskekristallanordning av reflektionstyp konstruerad att innefatta en bildpunktelektrod som har reflekterande fiinktion. Vätskekristallanordningen av reflektionstyp innefattar ett isole- rande underlag och ett motliggande underlag på avstånd från det isolerande underlaget. Ett utrymme mellan underlagen är fyllt med vätskekristaller. En grindelektrod är utbildad på det isolerande underlaget, och såväl grindelektroden som det isolerande underlaget är belagda med en grindisolerande film. Ett halvledande skikt utformas sedan på den grindisolerande filmen ovanför grindelektroden. En källelektrod och en sänkelektrod utbildas även på den grindisolerande filmen i kontakt med det halvledande skiktet. Kållelektroden, sänkelektroden, det halvledande skiktet och grindelektroden samverkar med varandra till att därigenom bilda en TFT av bottengrindtyp som kopplingsanordning.

En mellanliggande isoleringsfilm utbildas som täcker källelektroden, sänkelektroden, det halvledande skiktet och den grindisolerande filmen. Ett kontakthål upptages genom den mellanliggande isoleringsfilmen vid sänkelektroden. En bildpunktelektrod utförd av aluminium utbildas på såväl den mellanliggande isoleringsfilmen och en inre sidovägg av kontakthålet. TFT bringas bildpunktelektroden genom den mellanliggande isoleringsfilmen. Det mellanliggande Sänkelektroden hos såsmåningom i kontakt med isoleringsskiktet är allmänt utfört till att ha en grov yta, genom vilken bildpunktelektroden verkar som en reflektionsplatta som sprider ljus till att ge en större betraktningsvinkel (synlighetsvinkel). En vätskekristallpresentation av reflektionstyp förbättrar markant verkningsgraden vid användning av ljus genom att bildpunktelektroden verkar som en ljusreflekterande platta.

I den ovan nämnda vätskekristallpresentationen av reflektionstyp är den mellanliggande isoleringsfilmen utformad till att ha utsprång och fördjupningar medelst fotolitografi. För att utforma och kontrollera ett findetaljerat utförande av utsprången och fördjupningarna i storleksordningen mikrometer för ytråhet och for att bilda kontakthål användes fotolitograñmetoder med utnyttjande av positiva och negativa fotoresister. För dessa resister är beredningarna enligt uppfinningen speciellt lämpliga.

De ljuskänsliga beredningarna enligt uppfinningen kan vidare användas för framställning av distansstycken, vilka styr ett cellgap hos vätskekristalldelen i paneler för vätskekristallpresentation. Eflersom egenskapema hos ljus som transmitterats eller reflekterats C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 o u v a a n Q u 0 ø II I » ~ . - o en 522 645 44 genom vätskekristallskiktet i den vätskekristallpresentation är beroende av cellgapet, utgör noggrannheten i tjocklek och enhetligheten över arrangemanget av bildpunkter kritiska parametrar för prestanda hos presentationsenheten med vätskekristaller. I en vätskekristall upprätthålles mellanrummet mellan underlagen i cellen konstant genom utspridd fördelning av glas- eller polymersfärer med en diameter av några um som distansstycken mellan underlagen. Distansstyckena hålles på detta sätt mellan underlagen för att upprätthålla avståndet mellan underlagen vid ett konstant värde. Avståndet bestämmes av diametem hos distansstyckena. Distansstyckena säkerställer ett minimalt mellanrum mellan underlagen, dvs de förhindrar en minskning av avståndet mellan underlagen. De kan dock icke förhindra att underlagen skiljes från varandra, dvs en ökning av avståndet mellan underlagen. Dessutom medför denna metod med användning av distanspärlor problem i fråga om enhetligheten i diameter hos distanspärlorna och en svårighet att jämnt fördela distanspärlor på plattan, liksom även en oenhetlig orientering och minskning i ljushet och/eller optisk apertur, beroende på förekomsten av distansstycken i området för bildpunktema. Vätske- kristallanordningar som har en stor area för bildpresentation har nyligen blivit mycket uppmärksammade. Ökningen i area hos en vätskekristallcell medför :dock vanligen en distortion av de underlag som bildar cellen. Skiktstrukturen hos vätskekristallcellen tenderar att förstöras på grund av deförmeringen av underlaget. Även när mellanstycken användes för att upprätthålla avståndet mellan underlagen konstant, är en vätskekristallanordning med stor presentationsyta för bild icke möjlig, eñersom presentationen är utsatt för stömingar. I stället för den nämnda metoden med fördelning av distanssfarer, har en metod med framställning av pelare i cellmellanrummet som distansstycken föreslagits. I denna metod utbildas pelare av ett harts som distansstycken i området mellan bildpunktsområdet och mot elektroden till att bilda ett bestämt cellmellanrum. Ljuskänsliga material som har vidhäftande egenskaper vid fotolitografi användes vanligen, exempelvis vid framställning av färgfilter. Denna metod har fördelar i jämförelse med den konventionella metoden som använder distanspärlor, genom att läge, antal och höjd hos distansstyckena fritt kan styras. I en färgpanel för presentation med vätskekristaller utformas sådana distansstycken i det bildfria området under den svarta matrisen hos fargfilterelement. De distansstycken som utformats med användning av ljuskänsliga beredningar minskar därför icke ljusheten och den optiska aperturen.

Ljuskänsliga beredningar för framställning av skyddsskikt med distansstycken för färgfrlter beskrives i JP 2000-81701-A, och torra fotoresister av frlmtyp för distansmaterial beskrives även i JP ll-l74459-A och IP ll-l74464-A. Som beskrives i dokumenten innefattar de ljuskänsliga beredningarna, vätskefonniga och torra filmfotoresister minst en C:\l 10049100.SAH 10 15 20 25 30 ø u I u | n e u I ø II a u ø o u u n en 522 64-5 45 alkali- eller syralöslig bindemedelspolymer, en radikalpolymeriserbar monomer, och en radikalinitiator. I vissa fall kan även termiskt tvärlänkbara komponenter ingå, såsom epoxid och karboxylsyra.

Stegen för utbildning av distansstycken med användning av en ljuskänslig komposition är följande: en ljuskänslig beredning anbringas på underlaget, t.ex. en färgfilterpanel, och efier det att underlaget först värmebehandlats, exponeras det för ljus genom en mask. Därefter framkallas underlaget med en framkallare och förses med mönster till att bilda de önskade distansstyckena. När beredningen innehåller några värmehärdande komponenter, genomföres vanligen en eftervärmningsbehandling för att termiskt härda beredningen.

De fotohärbara beredningama enligt uppfinningen är lämpliga för framställning av distansstycken för presentationsanordningar av vätskekristalltyp (såsom beskrivits ovan) på grund av deras höga känslighet.

De ljuskänsliga beredningarna enligt uppfinningen är även lämpliga för framställning av uppsättningar av mikrolinser som användes i presentationspaner för vätskekristaller, bildavkännare och liknande. i Mikrolinser utgör mikroskopiska, passiva optiska komponenter som anbringas på aktiva optoelektroniska anordningar, såsom detektorer, presentationsanordningar och ljusemitterande anordningar (lysdioder, lasrar med transversell och vertikal hålighet) för att förbättra deras inkommande eller utgående optiska kvalitet. Användningsområdena är utbredda och täcker sådana områden som telekommunikationer, informationsteknik, audiovisuella anordningar, solceller, detektorer, fasta tillståndets ljuskällor och optiska förbindningar.

För närvarande använda optiska system utnyttjar olika förfaranden för att uppnå en verksam koppling mellan mikrolinser och mikrooptiska anordningar.

Uppsättningarna av mikrolinser användes for att samla belysande ljus på bildelementområdena av en icke-lysande prsentationsanordning, såsom en vätskekristall- presentationsanordning, for att öka anordningens ljushet, för att samla inkommande ljus eller som en anordning för att åstadkomma en bild på de fotoelektriska omvandlingsområdena hos en avkännare för linjära bilder som exempelvis användes i faxar och liknande för att förbättra känsligheten hos dessa anordningar, och för att åstadkomma en bild som skall tryckas på en ljuskänslig anordning som användes i vätskekristalltryckverk eller tryckverk med lysdioder (LED).

C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 I a ø | o c - v v | nu n n v ; c o u I s! 522 645 46 Den vanligaste tillämpningen är deras användning för att förbättra verkningsgraden hos uppsättningar av fotodetektorer i en fast bildavkännande anordning, såsom en kaskadkopplad anordning (CCD). I en detektoruppsättning önskar man uppsamla så mycket ljus som möjligt i varje detektorelement eller bildelement. Om en mikrolins anbringas ovanpå varje bildelement, uppsamlar linsen inkommande ljus och fokuserar det på en aktiv area som är mindre än linsens storlek.

Enligt teknikens ståndpunkt kan uppsättningar av mikrolinser framställas medelst olika metoder: (1) En metod för erhållande av konvexa linser, vari ett mönster av linsema i en plan konfiguration uppritas på ett tennoplastiskt harts medelst ett konventionellt fotolitografiskt forfarande eller liknande, vareñer det tennoplastiska hartset värmes till en temperatur över hartsets mjukningspunkt så att det blir flytbart, varigenom åstadkommes en nedsjunkning i mönstrets kantområden (s.k. ”reflowing”) (se t.ex. JP 60-38989-A), JP 60-165623-A, JP 61- 67003-A och JP 2000-39503-A). När det termoplastiska hartset användes som ljuskänsligt material, kan vid denna metod ett mönster av linserna åstadkommes genom exponering av detta harts för ljus. (2) En metod för formning av ett plast- eller glasmaterial genom användning av en form eller stämpel. Som linsmaterial kan i denna metod användas ett fotohärdbart harts och ett värmehärdande harts (se t.ex. WO 99/38035). (3) En metod för framställning av konvexa linser på basis av ett fenomen, i vilket när ett ljuskänsligt harts exponeras för ljus i ett önskat mönster med användning av en mall, oreagerade monomerer flyttar sig från de oexponerade områdena till de exponerade områdena, vilket medför en svällning av exponerade områden (se t.ex. Journal of theResearch Group in Microoptics Japanese Society of Applied Physics, Colloquium in Optics, vol. 5, nr 2, sid 118-123 (1987) och vol. 6, nr 2, sid 87-92 (1988)).

På den övre ytan av ett bärande underlag utbildas ett ljuskänsligt hartsskikt. Med användning av en separat skuggmask belyses därefler den övre ytan av det ljuskänsliga hartsskiktet med ljus från kvicksilverlampa eller liknande, så att det ljuskänsliga hartsskiktet exponeras för ljuset. Som resultat sväller de exponerade områdena av det ljuskänsliga hartsskiktet till form av konvexa linser, så att det ljussamlande skiktet med ett flertal mikrolinser bildas. (4) En metod för framställning av konvexa linser, vari ett ljuskänsligt harts exponeras för ljus medelst ett närexponeringsförfarande, i vilket en fotomask icke bringas i kontakt med hartset, så att en oskärpa åstadkommes vid mönsterkantema, varigenom mängden av C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 o o u u vu n 64-5 47 fotokemiska reaktionsprodukter fördelas beroende på oskärpegraden vid mönsterkanten (se t.ex. JP 61-153602-A). (5) En metod för åstadkommande av en linseffekt, vari ett ljuskänsligt harts exponeras för ljus med en specifik intensitetsfördelning till att bilda ett fördelningsmönster av brytningsindex som är beroende av ljusintensiteten (se t.ex. JP 60-72927-A och JP 60- 166946-A).

De ljuskänsliga beredningarna enligt föreliggande uppfinning kan användas i vilken som helst av de ovan nämnda metodema till att bilda uppsättningar av mikrolinser med användning av fotohärdbara hartsberedningar.

En speciell typ av förfaranden koncentrerar sig på att utforma mikrolinser i termoplasthartser som fotoresist. Ett exempel har publicerats av Popovic et al. i referensen SPIE 898, sid 23-25 (1988). Förfarandet, benämnt återflödesförfarande, innefattar de stegen att linsernas avtryck definieras i ett termoplastharts, t.ex. genom fotolitografi i ett ljuskänsligt harts, såsom en fotoresist, varefter detta material värmes över sin återflödestemperatur.

Ytspänningen drar samman ön av fotoresist till en sfärisk topp med en volym, lika den hos den ursprungliga ön före återflödet. Denna topp utgör en plankonvex mikrolins. Fördelarna hos förfarandet ligger bla. i enkelheten, reproducerbarheten och möjligheten till direkt integrering ovanpå en ljusemitterande eller ljusdetekterande optoelektronisk anordning. I vissa fall utbildas ett överbeläggningsskikt på de mönstrade linsenhetema med en rektangulär form före återflödet för att undvika en hopsjunkning av ön av harts i mitten utan återflöde till en sfärisk topp i återflödessteget. Överskiktet verkar som ett permanent skyddsskikt.

Beläggningsskiktet är även utfört av en ljuskänslig beredning.

Uppsättningar av mikrolinser kan även framställas med användning av en form eller stämpel, såsom beskrives i exempelvis EP 932 256. Ett förfarande för framställning av den plana mikrolinsuppsättningen är följande: ett släppmedel belägges på en formande yta av en stämpel, på vilken konvexa områden är tätt anordnade, och ett fotohärdbart, syntetiskt hartsmaterial som har ett högt brytningsindex härdas på den forrnande ytan av stämpeln.

Därefier pressas underlagsplattan av glas mot syntethartsmaterialet, varigenom syntethartsmaterialet utsprides, och syntethartsmaterialet härdas genom bestrålning med ultraviolett strålning eller genom värmning och formas till de konvexa mikrolinsema. Därefier avskalas stämpeln. Sedan påföres ett fotohärdbart syntethartsmaterial som har ett lågt brytningsindex som ytterligare skikt på de konvexa mikrolinserna som ett vidhäfiande skikt, och ett glasunderlag som är utfört som en täckglasplatta pressas mot syntethartsmaterialet, varigenom detta utsprides. Syntethartsmaterialet härdas sedan, och slutligen formas den plana C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 522 645 48 uppsättningen av mikrölinser. Som visas i US 5 969 867 användes en liknande metod med en form for fiamställning av en prismafolie, vilken användes som en del av bakgrundsljusenheter för färgade vätskekristallpresentationspaneler till att öka ljusheten. En prismafolie som bildar en rad prismor på ena sidan anbringas på den ljusemitterade ytan av bakgrundsbelysningen.

För framställning av en prismafolie giutes och utsprides en medelst aktiv energistrålning härdbar beredning i en linsform som är utförd av metall, glas eller harts och bildar linsens utformning för prisma, rad, etc, varefter ett transparent underlagsark anbringas därpå och aktiv energistrålning från en källa som emitterar aktiv energistrålning bestrålas genom arket for härdning. Det framställda linsarket frigöres därefier från linsformen för erhållande av ett linsark.

Den medelst aktiv energistrålning härdbara beredning som användes for att utbilda linsområdet måste ha ett antal egenskaper, innefattande vidhäfining till det transparenta underlaget och lämpliga optiska egenskaper.

Linser av åtminstone vissa fotoresister enligt teknikens ståndpunkt är icke lämpliga for vissa tillämpningar, eftersom den optiska transmittansen i den blåa änden av det optiska spektret är dålig. Eñersom de fotohärdbara beredningarna enligt uppfinningen har låga gulningsegenskaper, såväl termiskt som fotokemiskt, är de lämpliga for framställning av arrangemang av mikrolinser, såsom beskrivits i det föregående.

De nya strålningskänsliga beredningarna är även lämpliga for fotolitografiska steg som användes i framställningsprocessen for plasmapresentationspaneler (PDP), speciellt for den bildgivande processen av barriärribbor, lysämnesskikt och elektroder.

PDP utgör en plan anordning för presentation av bilder och information på grund av ljusemission genom gasurladdning. Genom uppbyggandet av panelen och arbetsmetoden är den känd som två typer, nämligen DC-typen (likström) och AC-typen (växelström).

Som exempel förklaras principen hos en färg-PDP av DC-typ kort. I en färg-PDP av DC-typ är utrymmet mellan två transparenta underlag (vanligen glasplattor) uppdelat i ett flertal små celler genom barriärribbor i ett gittermönster och anbragta mellan de transparenta underlagen. I de individuella cellerna är innesluten ur urladdningsgas, såsom He eller Xe. På den bakre väggen av varje cell är anbragt ett lysämnesskikt, vilket när det exciteras av det ultravioletta ljus som bildas genom urladdningen av urladdningsgasen avger synligt ljus av tre primärfärger. På de inre ytorna av de två underlagen är elektroder anbragta motsatt varandra över de relevanta cellerna. Vanligen är katoderna utbildade av en film av transparent elektroledande material, såsom NESA-glas. När en hög spänning pålägges mellan dessa elektroder som utbildats på framväggen och bakväggen inducerar den urladdningsgas som C:\l l0049lO0.SAH 10 15 20 25 30 v c o » nu n 522 645 u . = a o n .o 49 inneslutits i cellerna plasmaurladdning, och genom det ultravioletta ljus som därigenom utstrålas bringas de fluorescerande elementen av röd, blå och grön färg att avge ljus och åstadkomma presentation av en bild. I ett fisllfärgs presentationssystem bildar tre fluorescerande element, vart och ett av de tre primära färgema rött, blått och grönt som nämnts ovan, tillsammans ett bildelement.

Cellerna i en PDP av DC-typ är uppdelade av de ingående barriärribboma till ett gittermönster, medan de i en PDP av AC-typ är uppdelade av barriärribbor som är anordnade parallellt med varandra på ytoma av underlagen. I vardera fallet är cellerna uppdelade genom barriärribbor. Dessa barriärribbor är avsedda att innesluta ljusurladdningen inom ett bestämt område för att förhindra falska urladdningar eller stömingar mellan närliggande urladdningsceller och säkerställa en ideal presentation.

Den nya beredningen hänför sig även till en ljuskänslig, värmehärdande hartsberedning och en metod för framställning av ett lödresistmönster genom användning därav, och avser närmare bestämt en ny, ljuskänslig och värmehärdande hartsberedning som är användbar som material för framställning av tryckta kretskort, precisionsframställning av metallföremål, etsning av glas- och stenföremål, reliefer av plastföremål, och framställning av tryckplâtar, och är speciellt användbart som lödresist för tryckta kretskort, samt till ett förfarande för framställning av ett lödresistmönster genom de stegen att ett skikt av hartsberedningen selektivt exponeras för aktinisk strålning genom en fotomask som har ett mönster, och de oexponerade delama av skiktet framkallas.

Lödresisten utgör en substans som användes vid lödning av en bestämd del till ett tryckt kretskoit för att förhindra smält lödmetall från att häfta vid icke-önskade delar och att skydda kretsar. Den behöver därför ha sådana egenskaper som hög vidhäfining, isolerings- resistens, resistens mot lödtemperatur, resistens mot lösningsmedel, resistens mot alkali, resistens mot syror, och resistens mot plätering.

Ett föremål för uppfinningen utgöres även av en lödresist som innefattar en beredning som beskrivits i det föregående.

Det föredrages att använda beredningama, innefattande värmehärdande element som beskrivits som förening (E) enligt uppfinningen, i en bildgivande process, t.ex. en process för framställning av lödmasker, vari (l) komponenterna i den enligt ovan beskrivna beredningen blandas (2) den erhållna beredningen anbringas på underlaget (”underlaget belägges”) (3) lösningsmedlet, om sådant föreligger, avdrives vid förhöjd temperatur, t.ex. vid en temperatur mellan 80-90°C C:\l l0049l0O.SAH 10 15 20 25 30 ~ o n v se n 522 645 o . n . .- »cc- . . , , | . . n v .- 50 (4) det belagda underlaget mönstermässigt exponeras för elektromagnetisk strålning genom en negativ mask (varigenom akrylatets reaktion initieras) (5) det bestrålade föremålet framkallas genom tvättning med alkalisk vattenlösning, varigenom de ohärdade områdena avlägsnas, och (6) föremålet härdas termiskt, t. ex. vid en temperatur av ca 150°C.

Detta forfarande utgör ett annat föremål för uppfinningen.

Värmningssteget (6) genomföres vanligen vid temperaturer >100°C och <200°C, företrädesvis vid temperaturer av 130-170°C, t.ex. vid 150°C.

De följande exemplen åskådliggör uppfinningen i närmare detalj. Delar och procenttal som i återstoden av beskrivningen och i kraven, räknade efter vikt, såvida intet annat angives. När alkylgrupper som har fler än tre kolatomer nämnes utan att specifika isomerer nämnes, avses i vart fall n-isomerema.

Exempel 1: Framställning av 2,5-dimetoxibensaldehydoxim-0-acetat o-CH: 1 f0fmei (I), AI' 1 = Rl = COCH3 »go-o Q 2,5-dimetoxibensaldehydoxim Till 16,6 g (99,9 mmol) 2,5-dimetoxibensaldehyd i etanol (100 ml) sättes en blandning av 7,64 g (169 mmol) H2N0H-HCl och 13,9 g (169 mmol) natriumacetat i 50 ml H20. Denna reaktionsblandning värmes till återflöde under 2,5 h. Efter tillsats av H20 för att lösa det utfallda oorganiska saltet, avlägsnas etanol genom vakuumindunstning. Den återstående vita fasta produkten frånñltreras och tvättas med H20. 14,9 g vit, fast produkt erhålles (82%). lH-NMR (CDClg) ö [ppm]: 3,70 (s, 3H), 3,82 (s, 3H), 6,85 (d, IH), 6,92 (d, 1H), 7,25 (d, 1H), s,oo (bred s, 1H), 8,47 (s, 1H). _l_l¿ 2,5-dimetoxibensaldehydoxim-0-acetat 2,00 g (l1,0 mmol) 2,5-dimetoxibensaldehydoxim och 1,13 g (14,3 mmol) acetyl- klorid löses i 15 ml tetrahydrofiaran (THF). Till denna lösning sättes så småningom 1,67 g (16,5 mmol) trietylamin vid isbadstemperatur. Efter fullbordad tillsats omröres reaktions- blandningen vid rumstemperatur i 3 h, varefter H20 tillsättes för att lösa den bildade vita fasta produkten. Råprodukten extraheras med etylacetat. Denna organiska fas tvättas två gånger med mättad vattenlösning av NaHC03 och med saltlösning, följt av torkning över vattenfritt MgS04. Återstoden satsas på en kromatograñpelare med silikagel och etylacetat-hexan (1:4) C:\1l0049l00.SAH - n ø n « n n u 1 I II 0 o nu 51 som elueringsmedel. 2,03 g vit fast produkt med smältpunlcten 55-57°C erhålles (83%).

Strukturen bekräftas av lH-NMR-spektrum (CDClg) ö [ppm]: 2,23 (s, 3H), 3,81 (s, 3H), 3,83 (s, 3H), 6,87 (d, IH), 7,01 (dd, IH), 7,47 (d, IH), 8,75 (s, IH).

Exempel 2-30: Föreningarna enligt exempel 2-30 framställes medelst den metod som beskrivits i exempel 1 från motsvarande aldehyder. Föreningama och deras lH-NMR-data visas i tabell l.

C:\ll0O49l00.SAH | u v u av 5 2 2 6 4 5 52 Tabell 1 Exempel Struktur Tillstånd! lH-NMR Smp [°C] ö [ppm] Hacvo 2,27 (s, 3H), 4,05 (s, 3H), 2 N,ó 99-101 6,84 (d, 1H), 7,54 (t, 1H), Û 'CïH 7,65 (t, 1H), 7,81 (d, 1H), cHao 8,33 (d, 1H), 8,64 (d, HD, 8,85 (s, IH) occlcHa (S, 3H), (S, 3H), 3 Nja fafglds 3,94 (s, 3H), 6,88 (d, 1H), 60,6 öm vatska 7,14 (d, 1H), 7,39 (s, 1H), CHQÛ 8,23 (s, 1H) o_,c,cH, J 4 Nb färglös 2,22, (s, 3H), 3,85 (s, 3H), g, vätska 6,93 (d, 2H), 7,69 (d, zH), Û ” CHSQ 8,30 (s, 1H) N OfßH” 2 22 3H 6 03 2 6 84 5 O ä ö 104-107 ' <5' )> f <5* m* = (OÛ H (d, 1H), 7,09 (d, 1H), 7,36 (s, 1H), 8,25 (s, 1H) OWCH” 2 22 3 7 6 CH O Nió a (s: 31-1), »8 (s: 3H), 3 är' vätska 6,92 (d, 1H), 6,98 (dd, 1H), 7,43 (dd, 1H), 7,97 (d, 1H), 8,77 (s, 1H) O_.C,CH3 7 Nja fafglds 2,24 (s, 3H), 7,38-7,52 " vätska (m, 3H), 7,74 (d, 2H), 8,36 (s, 1H) C:\l l0049100.SAH o s q | ø : a: | - . . - . - n u n no 5 2 2 6 4 5 i s' -.=;::::= 53 Exempel Struktur Tillstånd/ IH-NMR smp [°C] ö [ppm] o_.c,cH, 8 ó 54-56 2.25 (s, 3H), 2,47 (s, 3H), °"= Q 7,21-7,26 (m, 2H), 7,36 (dr, Ü H 1H), 7,84 (d, 1H), 8,62 (S, IH) H3C\C$o 9 Ni, 83-84 2,30 (s, 3H), 7-50-7,59 (m, 0 ELH 2H), 7,65 (f, 111), 7,91 (d, Û 2H), 7,98 (d, 2H), 8,57 (d, 111), 8,99 (s, 1H) o_.C,c,H5 10 Nró (t: 3mz (q: zm: g 3,85 (s, 311), 6,93 (d, 2H), “H CHJOÛ 7,68 (d, 2H), 8,30 (s, 1H) o çcH, 11 N.0 103-106 2,21 (s, 311), 3,03 (s, 6H), ll °~H 6,68 (d, 2H), 7,59 (d, 2H), HßgH 8,23 (s, 1H) S? 12 O,c\CH 76-77 2,30 (s, 3H), 4,00 (s, 311), I H-C-N ° 7,28 (d, 1H), 7,40 (fd, 1H), 061, 762181, IH), 718010, 1H>, 7,96 (d, 1H), 9,04 (d, 1H), 9,15 (s, 111) C:\l l0049lO0.SAH 522 645 u ø ~ v s: 54 Exempel Struktur Tillstånd/ lH-NMR SHIP [°C] Ö [PPm] 13 °=ç«C"= 58-60 0,88 (1, 311), 1,30 (m, 811), 5r° 1,46 (n, 211), 1,86 (n, 211), Û°H 2,22 (s, 311), 3,92 (s, m), "'CaH17_ o O 4,05 (t, ZH), 6,90 (d, 1H), “H2 7,11 (dd, 111), 7,38 (d, 111), 8,27 (s, 111) osCfl-l, 14 Nj, 81-84 0,88 (s, 311), 1,26 (m, 24H), åíH 1,50 (m, 211), 1,86 (n, 211), ncwfiíaïoø 2,22 (s, 3H), 3,92,(s, 311), O-CH: 4,05 (1, 211), 6,87 (d, 111), 7,11 (dd, 111), 7,38 (d, 111), 8,24 (s, 111) 15 °°g'°H“ 59-89 2,22, (s, 311), 2,65 (br, 111), ÄH 3,69 (m, 2H), 3,76 (br, 211), HomfizcHzoh/Û 3,91 (s, 311), 3,93 (1, 211), °~6H, 4,21 (s, 211), 6,90 (d, un, 7,11 (dd, 111), 7,39 (d, 111), \ 8,27 (s, IH) i o,-C,cH3 16 1 N/g, 77-78 2,24 (s, 311), 7,13 (dd, 2H), l IC' 7,74 (dd, 211), 8,34 (s, 1H), I w “H F C:\l l0049l00.SAH 522 645 I o c | un u s | a o n .a ss Exempel suuldur Ti11s1ånd/ IH-NMR Smp [°C] ö [ppm] 0,89 (1, 311), 17 016-011, 68-71 1-2o-1,46 (m, 1411), I 1,1” 1,81 (m, 2H), 2,24 (s, 311), Cs ncfloHzß Û H 4,o1 (1, 211), 6,90 (d, 111), ° 6,96 (1, 111), 7,41 (1d, 111), 7,97 (dd, 111), 8,77 (s, 111) Û\ sc/ a 18 N15 vaska 1,42 (1, 311), 1,42 (s, 1811), 16,11, 1";,H 2,23 (s, 311), 3,76 (q, 211), CZHAO 7,57 (s, 211), 8,29 (s, 111) 10,11, 0,. ,cH_., 19 Nä 77-79 1,50 (1s, 311), 2,24 (s, 311), af åïH 4,13 (q, 211), 7,90 (s, 211), CZHßOÛ 8,21 (s, 111) Br O CH 0,88(1,2H>, *c' f* .. 20 nßmHzkø Nló vatska 1,20-1,46 (m, 14H), ä 1,79 (m, 211), 2,22 (s, 311), Ü H 3,99 (1, 2H), 6,92 (dd, 2H), 7,66 (dd, 211), 8,29 (s, 111), CH: 1,21 (I, 3I'I), 2,22 (S, 3H), l 21 (Iycw, OšC/CH, 62-63 3,52 (q, 211), 3,61 (m, 211), H /CHZ /5 3,73 (m, 211), 3,91 (s, 311), 2 N , H 3,93 1,2 ,4,24 1,2 9,2 Om ( H) ( H), 11,110 6,92 (d, 111), 7,11 (dd, 111), o, 7,39 (d, 111), 8,27 (s, 1H) CH, C:\l l0049l00.SAH u n « a v ac 5 2 2 6 4 5 ' 56 Exempel Struktur Tillstånd/ 'H-NMR smp [°C] ö [ppm] ma, 2,o7 (s, 311), 2,22 (s, 311), 22 6'°*6 Osç/CH, varska 3,75-3,85 (m, 211), H,ç'°"= Nß 3,85-3,95 (m, 511), ll mçH, C51, 4,2o-4,3o (m, 411), H Ck 2 ° O 6,92 (d, 111), 7,12 (dd, 111), °H= 7,39 (d, 111), 8,28 (s, 111) HlckççÛ oécacHa (s: óms (m: 2H): 23 H EH: Hzç-Ö °-ç-°"= vätska 2,74-2,78 (m, 611), ' °\1,1'°"= 1,1” 2,22 (s, 311), 3,91 (s, 311), .CH C\ :fb H 4,o8-4,14 (m, 611), o-cH, 6,89 (d, 111), 7,12 (dd, 111), 7,38 (d, 111), 8,27 (s, 111) O o CH 2,05 (m, 2H), 2,22 (s, 3H); 24 í j f' ° vafska 2,48, (m, 411), 2,54 (1, 211), gH ä' 3,72 (dd, 411), 3,91 (s, 311), 222' W* 4,13 11,211), 69961, 1H), 2 \ ° O\ 7,12 (dd, 111), 7,39 (d, 111), CH* 8,27 (s, 111) 0,88 (1, 311), 1,2o-1,4o 25 0,60% 66-69 (m, 1211), 1,46 (m, 211), 1,86 N/ö (m: ZI-I), (S: (S, Il RH 311), 4,05 (1, 211), 6,87 (d, 1H), n'C10H2l\o 7,11 (dd, 111), 7,38 (d, 111), 9, °”= 8,27 (s, 1H) 0,88 (1, 311), 26 OsCßH, 71-73 1,2o-1,5o (m, 1811), I wß 1,86 (m, 211), 2,22 (s, 311), QN 3,92 (s, 311), 4,05 (1, 211), “'°”H“\° O 6,87 (d, 111), 7,12 (d, 111), *C113 7,38 (d, 1H), 8,27 (s, IH) C:\l l0049l00.SAH n o o o vu a ø u 1 ø v. u: 1 I d n ø .a 5 2 6 4 5 57 Exempel Struktur Tillstånd/ 'H-NMR Smp [°C] ö [ppm] 27 Osqcfl, 9385 2,21 (s, 3H), 3,85 (s, 6H), "P5 ° 6,44 (s, 1H), 6,52 (dd, 1H), ' °\H 7,92 (d, 1H), 8,68 (s, 111) Hscso H3C\C,/O Oš ,CH3 28 ¿ g 11 ,1_1 19 2,25 (s, 6H>, 7,52 (t, IH), ä å* 7,89 (dd, 211), 8,06 (dd, 111), H Û H 8,34 (s, 2H) 016111, 2,22, (s, 3H), 6,53 (dd, 1H), 29 N,¿ vätska 6,93 (d, 1H), 7,28 (d, 1H), I ÛCÄH 8,22 (s, 1H) O C11 2,29 (s, 311), 7,28 (m, 211), 3o =°11 106-111 7,42 (dd, 1H), 7,54 (d, 1H), "d 8,14 (dd, 1H), 8,54 (s, 1H), C-H 8,67 (br s, IH) C:\l l0049100.SAH 10 15 20 25 - a | n - n ø u u v v; , . a. 522 645 ----- ~ 58 Följ ande sensibilisatorer användes i exempel 31 och 32: S-1 en blandning av 2-isopropyltioxanton och 4-isopropyltioxanton (RTMQUANTACURE irx, tillhandahållas av Iatamatiaaai Biaayathatiaa) S-2 4,4'-bis(dietylamino)bensofenon (Michlers keton) Exempel 31 En fotohärdbar beredning for ett känslighetsprov framställes genom blandning av följande komponenter: 200,0 viktdelar akrylerad akrylsampolymer (RTMACAZOOM, tillhandahållen av Daicel Industries, Ltd, torrsubstanshalt 50 vikt-%) 15,0 viktdelar dipentaerytritolhexaakrylat (DPHA), tillhandahålles av UCB Chemicals), 100,0 viktdelar aceton.

Till denna blandning sättes 0,5% (räknat på torrsubstanshalten) sensibilisator och 2% (räknat på torrsubstanshalten) av den initiator som skall prövas, och det hela omröres.

Samtliga forfaringssteg genomfores under gult ljus. Beredningarna anbringas på en aluminiumplåt. Lösningsmedlet avlägsnas genom värmning vid 80°C ,under 15 min i konvektionsugn. Tjockleken hos den torra filmen är 25 um. På denna beläggning anbringas en acetatfilm, över vilken placeras ett standardiserat testnegativ med 21 steg av varierande optisk densitet (Stouffer stegkil). Provet täckes med en andra, UV-transparent film och pressas mot en metallplatta medelst vakuum. Exponering genomfóres i en forsta testserie under 40 sek, i en andra serie under 80 sek., och i en tredje serie under 160 sek med användning av metallhalidlampa (ORC, modell SMX 3000) på ett avstånd av 60 cm. Efier exponering avlägsnas täckfilmema och masken, och den exponerade filmen framkallas med 1% vattenlösning av natriumkarbonat i 180 sek vid 30°C med användning av en framkallare av sprejtyp (Walter Lemmen, modell T21). Känsligheten hos det använda initiatorsystemet kännetecknas genom angivelse av det högsta stegnummer som återstod (dvs polymeriserades) efier framkallning. Ju högre antalet steg är, desto känsligare är det prövade systemet.

Resultaten sammanfattas i tabell 2.

C:\1l0049l00.SAH 522 645 59 Tabell 2 F°t°initiat°r Antal återgivna steg efter från exempel Sensibilisator GXPOIIGYiIISSIiÖCH 40 sek 80 sek 160 sek 1 - 10 12 14 1 S-1 11 13 15 2 S-l 11 13 15 3 S-1 10 13 14 4 S-1 9 12 14 5 S-1 10 12 14 6 S-1 9 11 13 7 S-1 8 10 12 8 S-1 8 10 12 12 - 9 11 1.3 12 S-1 11 13 15 13 S-1 11 13 15 14 S-l 10 13 14 15 s-1 10 12 14 17 S-1 10 12 14 18 S-1 9 11 13 19 S-1 9 11 13 21 S-1 10 12 14 22 S-1 9 11 13 23 S-1 9 11 13 24 S-1 9 11 13 25 S-1 1 1 13 15 26 S-1 10 12 14 27 S-1 10 13 15 C:\110049l00.SAH v v n v vi q 10 15 20 25 30 n n n | | o o u ~ . n n o 522 645 60 . . . ~ u .o Exempel 32 Framställning av poly(bensylmetakrylat-sammetakrylsyra) 24 g bensylmetakrylat, 6 g metylakrylsyra och 0,525 g azobisisobutyronitril (AIBN) löses i 90 ml propylenglykol-1-monometyleter-2-acetat (PGMEA). Den erhållna lösnings- blandningen anbringas i förvärmt oljebad vid 80°C. Efier omröming i 5 h vid 80°C under kvävgas, kyles den erhållna viskösa lösningen till rumstemperatur och användes utan ytterligare rening. Halten av fast material är ca 25%.

En fotohärdbar beredning framställes genom blandning av följande komponenter: 240 viktdelar sampolymer av bensylmetakrylat akrylatimetakrylsyra = 80:20 eller vikt) 25% propylenglykol-1-monometyleter-2-acetat (PGMEA)-lösning framställdes så- och metylakrylsyra (bensylmet- som beskrivits ovan 40,0 viktdelar dipentaerytritolhexaakrylat ((DPHA) tillhandahålles av UCB Chemicals), 2,0 viktdelar fotoinitiator, 1,2 viktdelar sensibilisator, och 120,0 viktdelar PGMEA.

Samtliga forfarandesteg genomföres under gult ljus. Beredningarna påföres på en aluminiumplåt med användning av en elektrisk applikator med en trådlindad stång.

Lösningsmedlet avlägsnas genom värmning vid 100°C under 2 min i konvektionsugn.

Tjockleken hos den torra filmen är ca 2 um. En standardiserad testnegativfilm med 21 steg av olika optisk densitet (Stouffer stegkil) anbringas med ett luftgap av ca 100 um mellan filmen och resisten. Exponering genomföres med användning av en 250 W superhögtrycks kvicksilverlampa (USHIO, USH-250BY) på ett avstånd av 15 cm. En total exponeringsdos, mätt medelst optisk effektmätare (ORC UV Light Measure Model UV-M02 med UV-35 detektor) på testnegativfllmen är 500 rnJ/cmz. Efter exponeringen framkallas den exponerade filmen med 1% vattenlösning av natriumkarbonat i 100 sek vid 30°C med användning av en framkallare av sprejtyp (Walter Lemmen, modell T21). Känsligheten hos det använda initiatorsystemet uttryckes genom angivande av det högsta numret hos det steg som återstår (dvs polymeriserats) efter framkallningen. Ju högre antalet steg desto känsligare är det prövade systemet. Resultaten angives i tabell 3.

C:\l l0049l00.SAH 522 645 61 Tabell 3 Fotoinitiator Antal återgivna steg efter en från exempel Sensibilisator exponering av 500 mJ/cmz 1 - 10 l S-2 12 2 S-1 10 2 S-2 12 3 S-l 10 3 S-2 1 1 4 S-1 9 4 S-2 1 1 5 S-1 10 5 S-2 13 6 S-1 9 6 S-2 1 1 10 S-2 10 1 1 S-1 9 1 1 S-2 1 1 12 S-1 10 12 S-2 10 13 S-2 10 15 S-2 9 16 S-2 9 17 S-1 9 18 S-2 10 19 S-1 9 19 S-2 9 20 S-1 9 20 S-2 10 21 S-2 10 23 S-2 10 C:\l l0049l00.SAH u o ø . no » v ø | .n v | « o o .- 522 645 62 Fotoinitiator Antal återgivna steg efier en C:\1l0049l00.SAH från exempel Sensibilisator expønering av 500 mJ/cmz 24 S-1 9 24 S-2 10 25 S-2 9 26 S-2 9 27 S-1 10 27 S-2 1 1 28 S-2 9 30 S-2 10 I Q ~ u nu

Claims (17)

10 15 20 25 30 - . o ø u e v u o u u: 522 645 . ~ - . - .- 63 Patentkrav

1. Alikaliframkallningsbar, ljuskänslig beredning, innefattande (A) minst en alkalilöslig bindemedelsharts-, forpolymer- eller monomerkomponent; (B) minst en förening med formel I eller II o-R, o-R, | I N 'è-H (u), ll An-c-H (1) M, x Jm R; betecknar C4-C9cyk1oalkanoyl, Cg-Cnalkenoyl; C;-C20alkanoyl som är osub- stituerad eller är substituerad med en eller flera halogener, CN eller fenyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera C;-C6alkyl, halogen, CN, ORg, SR4 eller NRsRs; eller R; betecknar Cz-Cualkoxikarbonyl eller bensyloxikarbonyl; eller fenoxikarbonyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera C;-C.;alkyl eller halogen; Ar; betecknar CG-Cgoaryl eller Có-Cgoaryloyl, vilka båda grupper är osubstituerade eller substituerade 1 till 12 gånger med halogen, C;-C20alkyl, bensyl, C;-C20.alkanoyl, Cg-Cg. cykloalkyl; eller nämnda Có-Cmaryl eller C6-C20aryloyl är substituerad med fenyl eller bensoyl, vilka vardera eventuellt är substituerad med en eller flera ORg, SR4 eller NR5R6; eller nämnda Có-Czoaryl eller Có-Czoaryloyl är substituerad med Cg-Cßalkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; eller nämnda Cfi-Cmaryl eller Có-Cmaryloyl är substituerad med fenoxikarbonyl, OR3, SR4, SOR4, SO2R4 eller NR5R6, vari substituentema ORg, SR4 eller NR5R6 eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över gruppema R3, R4, R; och/eller Rá med ytterligare substituenter på arylringen i Có-Cmaryl- eller Cß-Cwaryloylgruppen eller med en av kolatomema i arylringen hos CG-Cmaryl- eller Có-Czo-aryloylgruppen; eller Ar; betecknar Cg-Cgheteroaryl, förutsatt att R; betecknar acetyl, och nämnda C3-C9-heteroaryl är osubstituerad eller är substituerad 1 till 7 gånger med halogen, C;-C20- alkyl, bensyl, Q-Cgoalkanoyl eller Cg-Cgcykloalkyl; eller nämnda C3-C9heteroaryl är substituerad med fenyl eller bensoyl, vilka vardera eventuellt är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NR5R6; eller nämnda Cg-Cgheteroaryl är substituerad med C2-C;2- alkoxikarbonyl, vilken eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; eller nämnda Có-Czoaryl eller Có-Cgoaryloyl är substituerad med fenoxikarbonyl, OR3, SR4, SOR4, SO2R4 eller NR5R5; C:\1l0049l00.SAH 5 20 25 30 35 o n o a .u 522 645 - ~ - . ø .n 64 x har värdet 2 eller 3; M1, när x har värdet 2, betecknar M Ü - gr; M3 \ 1,0 o g P Qt H -C c~ e» Mer: i ß®<~ ~ i o°c\ R 9 O\ M3 O N fp O\ /c C\ \C C" -C \C Ma 2 _ _ vilka vardera eventuellt är substituerad 1 till 12 gånger med halogen, Cl-Cnalkyl, Cg-Cg- cykloalkyl, bensyl,, fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NRgRó; bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NR5R6; Cl-Cnalkanoyl; Cz-Cualkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera OH, fenoxikarbonyl, ORg, SR4, SOR4, SO2R4 eller NR5R6; eller M1, när x har värdet 3, betecknar Ü-Mß Q vilka vardera eventuellt är substituerad 1 till 12 gånger med halogen, Cl-Cnalkyl, Cg-Cg. cykloalkyl; fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR3, SR4 eller NRgRó; bensyl, bensoyl, Cl-Cnalkanoyl; Cz-Cualkoxikarbonyl som eventuellt är bruten med en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper, fenoxikarbonyl, ORg, SR4, SOR4, SO2R4 eller NRSRG; M2 betecknar en direkt bindning, -O-, -S-, -SS-, -NT3-, -(CO)-, Cl-Cnalkylen, cyklo- hexylen, fenylen, naftylen, -(CO)O-(C2-C12alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH2CH2O),,-(CO)- i? C\ ß Q eller/ QMÖ , 9/ O C:\l l0049l00.SAH 20 30 | n n ø | u v v ~ v oo a . . ø a .n 522 645 65 eller -(CO)-(C2-C12alkylen)-(CO)-; eller M2 betecknar C4-Cizalkylen eller C4-C12alkylendi- oxi-, vilka vardera eventuellt är brutna av 1 till 5 -O-, -S- och/eller -NR3-; M3 betecknar en direkt bindning, -CH;-, -O-, -S-, -SS-, -NR3- eller -(CO)-; / NÅN _ \rï| ' /|LN//l\ eller , R; betecknar väte eller Cl-Czoalkyl; eller R; betecknar Cz-Cnalkyl som är sub- stituerad med -OH, -SI-I, -CN, Cg-Cfialkenoxi, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C4alkyl), -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH, -(CO)O(C1-C4alkyl), -N(C1-C4alkyl)2, -N(CH2CH2OH)2, -N[CH2CH;O-(CO)-C1-C4alkyl]2 eller morfolinyl; eller R3 betecknar Cz-Cualkyl som är bruten med en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O).,+1H, -(CH2CH2O),.(CO)-C1-CgalkyL Cl-Cgalknoyl, Cg-Cnalkenyl, Cg-Cfialkenoyl, Cg-Cgcykloalkyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera C1-C6- alkyl, halogen, -OH eller C1-C4alkoxi; eller R; betecknar fenyl eller naflyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med halogen, -OI-I, Cl-Cnalkyl, Cl-Cnalkoxi, fenyl-Cl-Cg. alkoxi, fenoxi, Cl-Cnalkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C1;alkyl)2, difenylamino eller -(CO)R7; eller R; betecknar fenyl-Cl-Cgalkyl, eller Si(C1-C6alkyl),(fenyl)3.,; r har värdet 0, 1, 2 eller 3; n har värdet 1 till 20; R4 betecknar väte, Cl-Czoalkyl, Cg-Cnalkenyl, Cg-Cgcykloalkyl, fenyl-Cl-Cgalkyl; Cz-Cgalkyl som är substituerad med -OH, -SH, -CN, Cg-Cóalkenoxi, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1-C4alkyl), -O-(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH eller -(CO)O(C1-C4alkyl); eller R4 betecknar Cg-Cnalkyl som är bruten av en eller flera -0- eller -S-; eller R4 betecknar -(CH2CH2O),,+1H, -(CH;CH2O),,(CO)-Cl-Cgalkyl, Cg-Cgalkanoyl, Cg-Cnalkenyl, Cg-Caalkenoyl; eller R4 betecknar fenyl eller nafiyl, vilken vardera är osubstituerad eller är substituerad med halogen, C l-Cnalkyl, Cl-Cualkoxi eller -(CO)R-;; R; och Rl; oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Cgoalkyl, C2-C4hydroxialkyl, Cz-Cwalkoxialkyl, Cg-Cgalkenyl, C3-Cgcykloalkyl, fenyl-Cl-Cgalkyl, C1-C4alkanoyl, Cg-Cu. alkenoyl, bensoyl; eller betecknar fenyl eller naftyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med Cl-Cualkyl eller C1-C1 zalkoxi; eller R; och Ró tillsammans betecknar Cg-Có- alkylen som eventuellt är bruten av -0- eller -NR3- och/eller eventuellt är substituerad med hydroxyl, C1-C4alkoxi, C2-C4alkanoyloxi eller bensoyloxi; M4 betecknar C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 522 645 66 : v | a ø .o Rv betecknar väte, Cl-Cggalkyl; eller betecknar Cg-Cgalkyl som är substituerad med halogen, fenyl, -OH, -SH, -CN, Cg-Cóalkenoxi, -OCH2CH2CN, -OCH2CH2(CO)O(C1- C4alkyl), -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)OH eller -(CO)O(C1-C4alkyl); eller R7 betecknar Cz-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller Rv betecknar -(CH2CH2O),,+|H, -(CH2CH2O),,(CO)-Cl-CgalkyL Cg-Cnalkenyl, Cg-Cgcykloalkyl; fenyl som eventuellt är sub- stituerad med en eller flera halogen, -OH, Cl-Cualkyl, Cl-Cnalkoxi, fenoxi, C1-C12. alkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C12alkyl)2 eller difenylamino; och (C) en fotopolymeriserbar förening.

2. Ljuskänslig beredning enligt krav l, vari föreningen (A) utgöres av en oligomer eller polymer förening.

3. Ljuskänslig beredning enligt krav 2, van' den fotopolymeriserbara föreningen (C) utgöres av en vätska.

4. Ljuskänslig beredning enligt något av krav 1-3, vari komponenten (B) utgör en förening med formel I eller II, vari R; betecknar Cz-Cáalkanoyl eller Cz-Cgalkoxikarbonyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad av en eller flera Cl-Cóalkyl eller halogen; Ar; betecknar fenyl eller naftyl, varvid var och en av dessa grupper är osubstituerad eller är substituerad 1-5 gånger med halogen, Cl-Czoalkyl, bensyl eller Cl-Czoalkanoyl; eller nämnda fenyl eller nafiyl är substituerad med fenyl eller bensoyl, vilka vardera eventuellt är substituerad av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera OH; eller nämnda fenyl eller naftyl är substituerad med OR3, SR., eller NRßRa; vari substituentema OR3, SR4 eller NR5R¿ eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över gruppema Rg, R4, Rg och/eller R6 med ytterligare substituenter på fenyl- eller nafiylringen eller med en av kolatomerna i fenyl- eller naftylringen; eller Ar; betecknar fiiryl, pyrrolyl, tienyl, bensofiiranyl, indolyl, bensotiofenyl eller pyrridyl, förutsatt att Rl betecknar acetyl; vari var och en av dessa grupper är osubstituerad eller är substituerad 1-4 gånger med halogen, C1-C20alkyl, bensyl, Cg-Cgcykloalkyl, fenyl, Cl-Czoalkanoyl, bensoyl, Cz-Cualkoxikarbonyl, fenoxikarbonyl, OR3, SR4, SOR4, SO2R4 eller NRSR6; x har värdet 2; M1 betecknar en gmpp Ü ' ' C:\l lO049100.SAH 20 25 30 - . - ~ | a ~ . | . .- I o v v u c ø u u u n o e u 522 645 67 ÛMÛ eller vilken var och en eventuellt är substituerad 1-4 gånger med halogen, Cl-Cnalkyl, bensyl, OR;, SR4 eller NRsRs; eller med fenyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR;, SR4 eller NR;R6; eller med bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera OR;, SR4 eller NR;R6; eller med Cl-Cwalkanoyl; eller med C;-C1;alkoxikarbonyl som eventuellt är bruten av en eller flera -O- och/eller eventuellt är substituerad med en eller flera hydroxylgrupper; M; betecknar en direkt bindning, -O-, -S-, -SS-, -NR;-, -(CO)-, Cl-Cnalkylen, fenylen, -(CO)O-(C2-C1;alkylen)-O(CO)-, -(CO)O-(CH;CH;O)n-(CO)- eller -(CO)-(C;-C12. alkylen)-(CO); eller M2 betecknar C4-Cnalkylen eller C4-C1;alkylendioxi-, vilken vardera eventuellt är bruten av 1-5 -O-, -S- och/eller -NR;-; M; betecknar en direkt bindning, -CH;-, -O-, -S-, -NR - eller -(CO)-; R; betecknar väte eller Cl-Czoalkyl; eller R; betecknar Cg-Cualkyl som är sub- stituerad med -OH, -SH, -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl, -(CO)O(C1-C4alkyl), -N(C1-C4. alkyl)2, -N(CH;CH;OH);, -N[CH2CH;O-(CO)-C1-C4alkyl]; eller morfolinyl; eller R; beteck- nar Cz-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O),,+1H, -(CH2CH2O),,(CO)-C1-Cgalkyl, fenyl-C1-C;alkyl, Cz-Cgalkanoyl, C;-C1;alkenyl eller C;-C6. alkenoyl; eller R; betecknar bensoyl som är osubstituerad eller är substituerad med en eller flera Cl-Cóalkyl, halogen eller C1-C4alkoxi; eller R; betecknar fenyl eller naflyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Ci-Cualkyl, Cl-Cnalkoxi, fenyl-C1-C;- alkoxi, fenoxi, Cl-Cnalkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C1-C1;alkyl)2, difenylamino eller -(CO)R1; n har värdet l till 20; R4 betecknar väte, Cl-Czoalkyl, C;-C1;alkenyl, fenyl-Cl-Qalkyl; Cg-Cgalkyl som är substituerad med -OH, -SH, -O(CO)-C1-C4alkyl, -O(CO)-fenyl eller -(CO)O(C1-C4alkyl); eller R4 betecknar Cz-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O- eller -S-; eller Ra betecknar -(CH;CH;O),,.1H, -(CH2CH;O)..(CO)-Cl-Cnalkyl, Cg-Cgalkanoyl, C;-C12alkenyl, C;-C.f,. alkenoyl; eller R4 betecknar fenyl eller nañyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med halogen, Cl-Clzalkyl, Cl-Cnalkoxi eller -(CO)R7; R; och R; oberoende av varandra betecknar väte, Cl-Czoalkyl, C2-C4hydroxialkyl, Cz-Cwalkoxialkyl, fenyl-C1-C;alkyl, C1-C4alkanoyl, C;-C12alkenoyl, bensoyl; eller betecknar fenyl eller naftyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med _C1-C1;alkyl eller Cl-Cnalkoxi; eller R; och Ró tillsammans betecknar Cz-Cfialkylen, som eventuellt är bruten av 1 | | - - u C:\l l0049l00.SAH 20 25 522 645 68 u » - v . .o -O- eller -NR3- och/eller eventuellt är substituerad med hydroxyl, C;-C4alkoxi, C2-C4- alkanoyloxi eller bensoyloxi; och R7 betecknar väte, C;-C20alkyl; eller betecknar Cg-Cgalkyl som är substituerad med halogen, fenyl, -OH, -SH, C3-C6alkenoxi, -O(CO)-C;-C4alky1, -O(CO)-fenyl eller -(CO)O- (C;-C4alkyl); eller R; betecknar Cz-Cualkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller Rv betecknar -(CH2CH2O).,+;H, -(CH2CH;O),,(CO)-C;-Cgalkyl eller Cg-Cualkenyl; eller beteck- nar fenyl som eventuellt är substituerad med en eller flera halogen, C;-C;2alkyl, C;-C;2alkoxi, fenoxi, C;-C;2alkylsulfanyl, fenylsulfanyl, -N(C;-C;2alkyl)2 eller difenylamino.

5. Ljuskänslig beredning enligt något av krav 1-4, vari komponenten (B) utgör en förening med formel I eller II, vari R; betecknar C2-C4alkanoyl; Ar; betecknar fenyl eller nafiyl, vilka vardera är osubstituerad eller är substituerad med halogen, C;-Cgalkyl, NR5R6 eller ORg, vari substituentema OR; eventuellt bildar 5- eller 6-lediga ringar över gruppema R; med ytterligare substituenter på fenyl- eller naítylringen; eller Ar; betecknar 2-furyl, 2-pyrrolyl, 2-tienyl, 3-indolyl, förutsatt att R; betecknar acetyl; M; betecknar Ü ; x har värdet 2; R; betecknar C;-C20alkyl; eller R; betecknar C2-C;2alkyl som är substituerad med OH, -O(CO)-C;-C4alkyl, -N(C;-C4alkyl)2, -N(CH2CH;OI-I)2, -N[CH2CH2O-(CO)-C;-C4alkyl] eller morfolinyl; eller R; betecknar Cz-Cnalkyl som är bruten av en eller flera -O-; eller R; betecknar -(CH2CH2O),.+;H eller -(CH;CH2O),,(CO)-C;-C4alkyl; n har värdet 1 till 3; och R; och Ró betecknar C;-C4a1kyl.

6. Ljuskänslig beredning enligt krav 1, vari oligomeren eller polymeren (A) utgör en bindemedelspolymer, speciellt då en sampolymer av (met)akrylat och (met)akrylsyra, eller ett harts, erhållet genom reaktion mellan en mättad eller omättad flerbasig syraanhydrid och en reaktionsprodukt av en epoxiforening och en omättad monokarboxylsyra, eller utgör en additionsprodukt, bildad mellan ett karboxylgrupphaltigt harts och en omättad förening som har en ogß-omättad dubbelbindning och en epoxigrupp.

7. Ljuskänslig beredning enligt krav 1, vilken förutom komponenterna (A), (B) och (C) innefattar åtminstone en fotosensibilisatorförening (D). C:\l l0049l00.SAH 10 15 20 25 30 5 2 2 6 4 5 f ' ~ @ | o 1 u; 69

8. Ljuskänslig beredning enligt krav 7, innefattande 100 viktdelar av komponenten (A), 0,015 till 120 viktdelar av komponenten (B), 5 till 500 viktdelar av komponenten (C) och 0,015 till 120 viktdelar av komponenten (D).

9. Ljuskänslig beredning enligt krav 1, innefattande ytterligare tillsatser (E), vilka är valda från gruppen bestående av epoxiföreningar, termiska polymerisationsinhibitorer, oorganiska fyllmedel, färgämnen, epoxihärdningsmedel, aminer, kedjeöverförande medel, termiska radikalinitiatorer, fotoreducerbara färgämnen, optiska vitmedel, förtjockningsmedel, antiskumningsmedel och utjämningsmedel, speciellt då oorganiska fyllmedel.

10. Ljuskänslig beredning enligt krav 1, ytterligare innefattande en epoxiförening som i molekylen innehåller minst två epoxigrupper.

11. Lödresist, innefattande en beredning enligt något av krav 1-10.

12. Färgfilterresist, innefattande en beredning enligt något av krav 1-10.

13. Förfarande för fotopolymerisation av föreningar som innehåller eteniskt omättade dubbelbindningar, vilket innefattar att en beredning enligt något av krav l-10 bestrålas med elektromagnetisk strålning inom området från 150 till 600 nm.

14. Belagt underlag, vilket på minst en yta är belagt med en beredning enligt något av krav 1-10.

15. Förfarande för framställning av reliefbilder, vari ett belagt underlag enligt krav 14 underkastas bildmässig exponering med elektromagnetisk strålning inom området från 150 till 600 nm, varefter de oexponerade områdena avlägsnas med ett lösningsmedel.

16. Färgfilter, framställt genom tillhandahållande av röda, gröna och blå (RGB) fargelement och eventuellt en svart matris, samtliga innefattande en ljuskänslig förening enligt något av krav 1-10 och ett pigment på ett transparent underlag och tillhandahållande av en transparent elektrod på antingen ytan av underlaget eller på ytan av fargfilterskiktet.

17. Förfarande för framställning av bilder, vari (1) komponenterna i en beredning enligt något av krav 1-10 blandas, (2) den erhållna beredningen pâföres på underlaget, (3) lösningsmedlet, om sådant finnes närvarande, avdunstas vid förhöjd temperatur, (4) det belagda underlaget mönstermässigt exponeras för strålning, (5) det bestrålade provet framkallas med alkalisk vattenlösning, varigenom de ohärdade områdena avlägsnas, och (6) provet värmehärdas. C:\l l0049l00.SAH