CN101183216B

CN101183216B - 感光性组合物

Info

Publication number: CN101183216B
Application number: CN2007101872515A
Authority: CN
Inventors: 柴崎阳子; 加藤贤治; 有马圣夫
Original assignee: Taiyo Holdings Co Ltd
Current assignee: Taiyo Holdings Co Ltd
Priority date: 2006-11-15
Filing date: 2007-11-15
Publication date: 2011-11-02
Anticipated expiration: 2027-11-15
Also published as: TWI366741B; TW200846823A; KR100963354B1; KR20080044195A; CN101183216A; JP5153304B2; KR20100038187A; JP2008146044A

Abstract

本发明提供一种感光性组合物，其特征在于，其通过使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法形成图案潜像，通过碱性水溶液使该图案潜像显影，其中，其曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，并且在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度。而且，提供一种干膜，其通过将该组合物涂布到载体膜上之后干燥而得到。

Description

感光性组合物

技术领域

本发明涉及一种感光性组合物，其通过使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法形成图案潜像，通过碱性水溶液使该图案潜像显影，以及涉及一种干膜，其通过将该组合物涂布到载体膜上之后干燥而得到。

背景技术

印刷电路板的最外层设有称为阻焊膜的永久保护膜。为了形成该阻焊膜，普遍采用可正确地形成细微图案的光致抗蚀剂法。其中，从环境方面考虑等，碱显影型的光致抗蚀剂法成为主流。

作为光致抗蚀剂法中的一种方法，众所周知一种使用产生紫外线的灯所发出的光的一次性曝光法(日本特开平01-141904号)。该一次性曝光法是在基材上涂布感光性组合物并使其干燥之后，插入光掩模而对该干燥涂膜整面曝光紫外光，因此，可以用非常短的时间形成图案潜像。但是，该一次性曝光法需要光掩模对基材的位置对齐，该位置对齐需要时间。进而，基材由于在其电路形成时受热而尺寸改变，易产生从设计值偏离。相对于此，光掩模不产生上述的尺寸变化，因此不能应对该基材的偏离进行位置的修正。越是细微的图案，越深受偏离的影响，难以形成正确的图案潜像。为了形成正确的图案潜像，需要分别测定各基材的电路形成后的尺寸，并对每个基材制作与该尺寸对应的光掩模，是非常烦杂的。

针对于此，也使用一种直接描绘法，其基于电脑的数据，使用产生紫外线的灯所发出的光，对于干燥阻焊剂涂膜直接描绘图案潜像。该直接描绘法中，对于上述那样的基材尺寸从设计值的偏离，测定电路形成后的基材的尺寸，通过计算机修正从设计值的偏离，可形成所期望的正确的图案潜像。因此，直接描绘法与一次性曝光法相比，可以更正确并且容易地形成细微的图案潜像。

但是，直接描绘法由于在基材上扫描紫外光而描绘图像潜像，因此用于在1张基材上形成图案潜像的时间与一次性曝光法相比变得更长，有生产率变差的倾向。因此，为了提高生产率，要求一种可用于高速的直接描绘中的高感光度的感光性组合物。感光性组合物的感光度低，则不能进行高速的直接描绘，即，不能通过短时间的紫外光照射充分地形成图案潜像。通常的紫外线固化型的感光性组合物具有200mJ～600mJ的感光度。该感光度范围对于用直接描绘法将厚膜的干燥阻焊剂涂膜曝光并使其固化来说是低的。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高感光度的感光性组合物，其可以适宜用于使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法中。

即，提供一种感光性组合物，其特征在于，所述感光性组合物通过使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法形成图案潜像，通过碱性水溶液使该图案潜像显影，其中，其曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，并且在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度。

另外，根据本发明的其他侧面，提供一种干膜，其通过将本发明第一侧面的感光性组合物涂布到载体膜上之后干燥而得到。

附图说明

图1是对感光性组合物的干燥涂膜曝光，将其显影后得到的阻焊膜的截面形状的示意图。

具体实施方式

下面更详细地说明本发明。

本发明的感光性组合物是通过使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法形成图案潜像、通过碱性水溶液使该图案潜像显影的感光性组合物，其中，其曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，并且在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度。本发明的感光性组合物的曝光前的干燥涂膜每25μm厚度显示上述范围的吸光度，从而可适宜用于紫外线直接描绘法中。详细地说，曝光前的干燥涂膜在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，从而入射的光在干燥涂膜的表层部被大量吸收，并使表面固化，并且，在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度，从而使光透过到干燥涂膜的底部，得到充分的固化深度，由此实现高感光度。

在此，本发明中的“曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，并且在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度”的含义将在后述的实施例中详细叙述，是指：对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长355nm～375nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到的吸光度在0.6～1.2的范围，并且，对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长405nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到的吸光度在0.3～0.6的范围。

另外，本发明中的“曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在波长355nm～375nm的波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上”的含义将在后述的实施例中详细叙述，是指：对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长355nm～375nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到最大吸光度，对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长405nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度，上述最大吸光度与该吸光度之差为0.3以上。

另外，本发明中的“曝光前的所述干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，以及在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度，并且，在355nm～375nm波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上且小于0.6”的含义将在后述的实施例中详细叙述，是指：对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长355nm～375nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到的吸光度在0.6～1.2的范围，以及对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长405nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到的吸光度在0.3～0.6的范围，并且，对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长355nm～375nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度而得到最大吸光度，对于涂布、干燥感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同厚度和各干燥涂膜的厚度时在波长405nm下的吸光度的图表，由其近似式计算出膜厚25μm的干燥涂膜的吸光度，上述最大吸光度和该吸光度之差为0.3以上且小于0.6。

本发明的感光性组合物在曝光前其干燥涂膜在355nm～375nm的波长范围下显示小于0.6的吸光度的情况下，存在表层部的光的吸收不充分、表面固化不充分的倾向。在显示超过1.2的吸光度的情况下，过度地进行表面固化，存在阻碍光透过到底部的倾向，故不优选。另外，曝光前的干燥涂膜在405nm波长下显示小于0.3的吸光度的情况下，未被干燥涂膜吸收的光例如被基板上的铜箔反射，有阻焊剂形状改变的倾向，故不优选。另外，显示超过0.6的吸光度的情况下，存在不能使光充分透过到干燥涂膜的底部的倾向，故不优选。

另外，本发明的感光性组合物优选曝光前的干燥涂膜的每25μm厚度在355nm～375nm波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上。通过该吸光度之差为0.3以上，可有效地得到上述的表面固化和固化深度，可将本发明的感光性组合物制成更高感光度的组合物。该吸光度之差小于0.3时，为了得到充分的表面固化和固化深度，存在需要更长的曝光时间的倾向。

另外，本发明的感光性组合物优选曝光前其干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，以及在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度，并且在355nm～375nm波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上且小于0.6。通过吸光度满足上述条件，本发明的组合物成为更高感光度。吸光度之差超过0.6时，存在难以同时得到充分的表面固化和固化深度的倾向，故不优选。

作为本发明的感光性组合物，可使用包含(A)含羧酸树脂、(B)光聚合引发剂以及(C)颜料的感光性组合物。

作为含羧酸树脂(A)，可使用分子中含有羧基的公知常用的树脂化合物。另外，从光固化性、耐显影性方面出发，更优选分子中还具有烯属不饱和双键的含羧酸感光性树脂。

具体而言，可列举出下述列举的树脂。

(1)通过将(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸和1种以上其以外的具有不饱和双键的化合物进行共聚而得到的含羧酸树脂、

(2)通过使(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸与1种以上其以外的具有不饱和双键的化合物的共聚物与(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯等具有环氧基和不饱和双键的化合物、(甲基)丙烯酸氯化物反应，加成烯属不饱和基团作为侧链，从而得到的含羧酸感光性树脂、

(3)使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯等具有环氧基和不饱和双键的化合物与其以外的具有不饱和双键的化合物共聚，使该共聚物与(甲基)丙烯酸等不饱和羧酸反应，所生成的仲羟基与多元酸酐反应而得到的含羧酸感光性树脂、

(4)使马来酸酐等具有不饱和双键的酸酐与其以外的具有不饱和双键的化合物共聚，使该共聚物与(甲基)丙烯酸2-羟乙酯等具有羟基和不饱和双键的化合物反应而得到的含羧酸感光性树脂、

(5)使多官能团环氧化合物与(甲基)丙烯酸等不饱和单羧酸反应，所生成的羟基与饱和或不饱和多元酸酐反应而得到的含羧酸感光性树脂、

(6)使聚乙烯醇衍生物等含羟基聚合物与饱和或不饱和多元酸酐反应，然后使生成的羧酸与一分子中具有环氧基和不饱和双键的化合物反应而得到的含羟基的含羧酸感光性树脂，

(7)使多官能团环氧化合物、(甲基)丙烯酸等不饱和单羧酸、一分子中具有至少1个醇羟基和与环氧基反应的醇羟基以外的1个反应性基团的化合物(例如，二羟甲基丙酸等)反应，使该反应产物与饱和或不饱和多元酸酐反应而得到的含羧酸感光性树脂、

(8)使一分子中具有至少2个氧杂环丁烷环的多官能团氧杂环丁烷化合物与(甲基)丙烯酸等不饱和单羧酸反应，使所得的改性氧杂环丁烷树脂中的伯羟基与饱和或不饱和多元酸酐反应所得的含羧酸感光性树脂、以及

(9)使多官能团环氧树脂(例如，甲酚酚醛清漆型环氧树脂等)与不饱和单羧酸(例如，(甲基)丙烯酸等)反应，然后使其与多元酸酐(例如，四氢邻苯二甲酸酐等)反应而得到的含羧酸感光性树脂再与分子中具有1个环氧乙烷环和1个以上烯属不饱和基团的化合物(例如，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等)反应从而得到的含羧酸感光性树脂等，但并不受这些限定。

这些树脂中优选的树脂是上述(2)、(5)、(7)、(9)的含羧酸感光性树脂，从光固化性、固化涂膜特性出发，尤其优选上述(9)的含羧酸感光性树脂。

另外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸酯是统称丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的用语，对于其它类似的表达也一样。这些丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物可以单独使用，也可以混合2种以上使用。

上述那样的含羧酸树脂(A)由于在主链聚合物的侧链具有羧基，因此可通过碱性水溶液显影。

另外，上述含羧酸树脂(A)的酸值优选为40～200mgKOH/g的范围，更优选为45～120mgKOH/g的范围。含羧酸树脂的酸值不足40mgKOH/g时，碱显影变困难，故不优选。另一方面，超过200mgKOH/g时，显影液导致曝光部进行溶解，因此线过细，根据情况，曝光部和未曝光部没有区别地被显影液溶解剥离，难以描绘正常的阻焊图案，故不优选。

另外，上述含羧酸树脂(A)的重均分子量因树脂骨架而不同，通常优选在2000～150000、进而在5000～100000的范围。重均分子量不足2000时，不粘手性能差，曝光后的涂膜的耐湿性不好，显影时产生膜减少，解像力非常差。另一方面，重均分子量超过150000时，显影性显著变差，而且贮存稳定性差。

以本发明的感光性组合物的全部质量为基准，这样的含羧酸树脂(A)的配合量可以从20～60质量％、优选为30～50质量％的范围选择。不足20质量％的情况下，有涂膜强度降低的倾向，故不优选。另一方面，超过60质量％时，粘性变高，涂布性等降低，故不优选。

作为光聚合引发剂(B)，优选使用选自下组中的1种以上光聚合引发剂：具有下述通式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂、具有下述通式(II)表示的基团的α-氨基苯乙酮系光聚合引发剂、以及具有下述式(III)表示的基团的酰基氧化膦系光聚合引发剂。

式中，R¹表示氢原子、苯基(可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代)、碳原子数1～20的烷基(可以被1个以上羟基取代，可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子)、碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基(可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代)；

R²表示苯基(可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代)、碳原子数1～20的烷基(可以被1个以上羟基取代，可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子)、碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基(可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代)；

R³和R⁴各自独立地表示碳原子数1～12的烷基或芳烷基；

R⁵和R⁶各自独立地表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、或者两者结合而成的环状烷醚基；

R⁷和R⁸各自独立地表示碳原子数1～10的直链状或支链状的烷基、环己基、环戊基、芳基、或者被卤原子、烷基或烷氧基取代的芳基，其中，R⁷和R⁸之一可以表示R-C(＝O)-基团(其中，R为碳原子数1～20的烃基)。

作为前述具有通式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂，优选可以列举出下述式(IV)表示的2-(乙酰氧基亚氨基甲基)噻吨-9-酮、

下述通式(V)所表示的化合物、

(式中，R⁹表示氢原子、卤原子、碳原子数1～12的烷基、环戊基、环己基、苯基、苄基、苯甲酰基、碳原子数2～12的烷酰基、碳原子数2～12的烷氧羰基(构成烷氧基的烷基的碳原子数为2以上的情况下，烷基可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子)、或者苯氧羰基；

R¹⁰、R¹²各自独立地表示苯基(可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代)、碳原子数1～20的烷基(可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子)、碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基(可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代)；

R¹¹表示氢原子、苯基(可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代)、碳原子数1～20的烷基(可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子)、碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基(可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代))、

下述通式(VI)表示的化合物

(式中，R¹³和R¹⁴各自独立地表示碳原子数1～12的烷基；

R¹⁵、R¹⁶、R¹⁷、R¹⁸和R¹⁹各自独立地表示氢原子或碳原子数1～6的烷基；

M表示O、S或NH，以及

m和n表示0～5的整数)其中，更优选式(IV)表示的2-(乙酰氧基亚氨基甲基)噻吨-9-酮以及式(V)表示的化合物。作为市售品，可列举出西巴特殊化学品公司生产的CGI-325、IRGACURE OXE01、以及IRGACURE OXE02等。这些肟酯系光聚合引发剂可以单独使用或组合2种以上使用。

作为前述具有通式(II)表示的基团的α-氨基苯乙酮系光聚合引发剂，可列举出2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁烷-1-酮、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮、以及N，N-二甲氨基苯乙酮等。作为市售品，可列举出西巴特殊化学品公司生产的IRGACURE907、IRGACURE369以及IRGACURE379等。

作为前述具有通式(III)表示的基团的酰基氧化膦系光聚合引发剂，可列举出2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦以及双(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-三甲基-戊基氧化膦等。作为市售品，可列举出BASF公司生产的Lucirin TPO、西巴特殊化学品公司生产的IRGACURE819等。

相对于100质量份所述含羧酸树脂(A)，这样的光聚合引发剂(B)的配合量可选自0.01～30质量份、优选为0.5～15质量份的范围。不足0.01质量份的话，铜上的光固化性不足，涂膜剥离，耐化学试剂性等涂膜特性降低，故不优选。另一方面，超过30质量份时，光聚合引发剂(B)在阻焊剂涂膜表面的光吸收变剧烈，存在深部固化性降低的倾向，故不优选。

另外，在前述具有式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂的情况下，其配合量相对于100质量份前述含羧酸树脂(A)选自优选为0.01～20质量份、更优选为0.01～5质量份的范围是理想的。这样的肟酯系光聚合引发剂(I)与铜原子在与铜箔的界面反应，作为光聚合引发剂的功能钝化，因此优选与α-氨基苯乙酮系光聚合引发剂(II)等组合使用。

作为本发明的感光性组合物所含的颜料(C)，优选含有酞菁蓝系颜料。本发明人们发现，对于405nm波长的光，添加酞菁蓝系颜料能以更低的曝光量得到表面固化性。该酞菁蓝系颜料的敏化效果的理由并不清楚，但是，例如对于每25μm膜厚吸光度不足0.3的感光性组合物添加酞菁蓝而使吸光度为0.3以上，这样就能以低曝光量同时得到充分的表面固化性和固化深度。另外，该敏化效果，对表面的反应性(光泽改善)有效，而固化深度相反而变差。即，起到了反射曝光的光的作用。该作用对阻焊膜的形状的稳定化也有效。作为酞菁蓝系颜料，可列举出α型铜酞菁蓝、α型单氯铜酞菁蓝、β型铜酞菁蓝、ε型铜酞菁蓝、钴酞菁蓝以及无金属酞菁蓝等。

只要感光性组合物的干燥涂膜在405nm波长下的吸光度是每25μm为0.3～0.6的范围，则这样的颜料(C)的适当的添加量就可以任意添加，例如，相对于100质量份含羧酸树脂(A)为0.01～5质量份的范围。

另外，作为可适宜用于本发明的感光性组合物的光聚合引发剂、光引发助剂以及敏化剂，可列举出苯偶姻化合物、苯乙酮化合物、蒽醌化合物、噻吨酮化合物、缩酮化合物、二苯甲酮化合物、呫吨酮化合物以及叔胺合物等。

若列举出苯偶姻化合物的具体例子，则例如是苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚以及苯偶姻异丙醚。

若列举出苯乙酮化合物的具体例子，则例如是苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮以及1，1-二氯苯乙酮。

若列举出蒽醌化合物的具体例子，则例如是2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌以及1-氯蒽醌。

若列举出噻吨酮化合物的具体例子，则例如是2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮以及2，4-二异丙基噻吨酮。

若列举出缩酮化合物的具体例子，则例如是苯乙酮二甲基缩酮以及苯偶酰二甲基缩酮。

若列举出二苯甲酮化合物的具体例子，则例如是二苯甲酮、4-苯甲酰基二苯硫醚、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯硫醚、4-苯甲酰基-4’-乙基二苯硫醚以及4-苯甲酰基-4’-丙基二苯硫醚。

若列举出叔胺化合物的具体例子，则例如是乙醇胺化合物、具有二烷基氨基苯结构的化合物，例如4，4’-二甲基氨基二苯甲酮(日本曹达公司制造的NISSOCURE MABP)、4，4’-二乙基氨基二苯甲酮(Hodogaya Chemical Co.，LTD.制EAB)等二烷基氨基二苯甲酮、7-(二乙基氨基)-4-甲基-2H-1-苯并吡喃-2-酮(7-(二乙基氨基)-4-甲基香豆素)等含二烷基氨基的香豆素化合物、4-二甲基氨基安息香酸乙酯(日本化药公司KAYACURE EPA)、2-二甲基氨基安息香酸乙酯(InternationalBio-Synthetics公司制造的Quantacure DMB)、4-二甲基氨基安息香酸(正丁氧基)乙酯(International Bio-Synthetics公司制造的Quantacure BEA)、对二甲基氨基安息香酸异戊基乙酯(日本化药公司制KAYACURE DMBI)、4-二甲基氨基安息香酸-2-乙基己酯(Van Dyk公司制Esolol 507)以及4，4’-二乙基氨基二苯甲酮(Hodogaya Chemical Co.，LTD.制EAB)等。

上述这些当中，优选噻吨酮化合物和叔胺化合物。从深部固化性方面出发，优选本发明的组合物中含有噻吨酮化合物，其中，优选2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮以及2，4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮化合物。

相对于100质量份上述含羧酸树脂(A)，作为这样的噻吨酮化合物的配合量，优选为20质量份以下、更优选为10质量份以下的比例。噻吨酮化合物的配合量过多时，厚膜固化性降低，牵涉到产品的成本提高，故不优选。

作为叔胺合物，优选具有二烷基氨基苯结构的化合物，其中，特别优选二烷基氨基二苯甲酮以及最大吸收波长在350nm～410nm的含有二烷基氨基的香豆素化合物。作为二烷基氨基二苯甲酮化合物，4，4’-二乙基氨基二苯甲酮因毒性低而优选。最大吸收波长在350nm～410nm的含有二烷基氨基的香豆素化合物，由于最大吸收波长在紫外线区域，因此，提供着色少、无色透明的感光性组合物是毋庸置疑的，也可以提供在使用了着色颜料时反应着色颜料自身的颜色的着色阻焊膜。从对波长400nm～410nm的光显示优异的敏化效果出发，尤其优选7-(二乙基氨基)-4-甲基-2H-1-苯并吡喃-2-酮。

相对于100质量份上述含羧酸树脂(A)，作为这样的叔胺合物的配合量优选为0.1～20质量份、更优选为0.1～10质量份的比例。叔胺合物的配合量为0.1质量份以下时，存在不能得到充分的敏化效果的倾向。超过20质量份时，叔胺化合物导致在干燥阻焊剂涂膜的表面的光吸收变剧烈，存在深部固化性降低的倾向。

这些光聚合引发剂、光引发助剂以及敏化剂可以单独使用或者以2种以上混合物的形式使用。

相对于100质量份前述含羧酸树脂(A)，这样的光聚合引发剂、光引发助剂以及敏化剂的总量优选为35质量份以下的范围。超过35质量份时，它们的光吸收导致深部固化性降低的倾向。

为了赋予耐热性，本发明的光固化性树脂组合物可以配合分子中具有2个以上环状醚基和/或环状硫醚基(以下简称为环状(硫)醚基)的热固性成分(D)。

这样的分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)是分子中具有2个以上三元环、四元环或五元环的环状醚基或环状硫醚基的任一种或2种基团的化合物，可列举出例如，分子中具有至少2个以上环氧基的化合物即多官能团环氧化合物(D-1)、分子中具有至少2个以上氧杂环丁烷基的化合物即多官能团氧杂环丁烷化合物(D-2)、分子中具有2个以上硫醚基的化合物即环硫化物树脂(D-3)等。

作为前述多官能团环氧化合物(D-1)，可以列举出例如，双酚A型环氧树脂，如Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的Epikote828、Epikote834、Epikote1001、Epikote1004，大日本油墨化学工业公司制造的Epiclon840、Epiclon850、Epiclon1050、Epiclon2055，东都化成公司制造的Epotote YD-011、YD-013、YD-127、YD-128，陶氏化学公司制造的D.E.R.317、D.E.R.331、D.E.R.661、D.E.R.664，西巴特殊化学品公司制造的Araldite6071、Araldite6084、AralditeGY250、AralditeGY260，住友化学工业公司制造的Sumiepoxy ESA-011、ESA-014、ELA-115、ELA-128，旭化成工业公司制造的A.E.R.330、A.E.R.331、A.E.R.661、A.E.R.664等(均为商品名)；溴化环氧树脂，如Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的EpikoteYL903，大日本油墨化学工业公司制造的Epiclon152、Epiclon165，东都化成公司制造的Epotote YDB-400、YDB-500，陶氏化学公司制造的D.E.R.542，西巴特殊化学品公司制造的Araldite8011，住友化学工业公司制造的Sumiepoxy ESB-400、ESB-700，旭化成工业公司制造的A.E.R.711、A.E.R.714等(均为商品名)；酚醛清漆型环氧树脂，如Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的Epikote152、Epikote154，陶氏化学公司制造的D.E.N.431、D.E.N.438，大日本油墨化学工业公司制造的Epiclon N-730、Epiclon N-770、Epiclon N-865，东都化成公司制造的EpototeYDCN-701、YDCN-704，西巴特殊化学品公司制造的AralditeECN1235、Araldite ECN1273、Araldite ECN1299、AralditeXPY307，日本化药公司制造的EPPN-201、EOCN-1025、EOCN-1020、EOCN-104S、RE-306，住友化学工业公司制造的Sumiepoxy ESCN-195X、ESCN-220，旭化成工业公司制造的A.E.R.ECN-235、ECN-299等(均为商品名)；双酚F型环氧树脂，如大日本油墨化学工业公司制造的Epiclon830，JapanEpoxy Resins Co.，Ltd.制造的Epikote807，东都化成公司制造的Epotote YDF-170、YDF-175、YDF-2004，西巴特殊化学品公司制造的Araldite XPY306等(均为商品名)；氢化双酚A型环氧树脂，如东都化成公司制造的Epotote ST-2004、ST-2007、ST-3000(商品名)等；缩水甘油胺型环氧树脂，如Japan EpoxyResins Co.，Ltd.制造的Epikote604，东都化成公司制造的EpototeYH-434，西巴特殊化学品公司制造的Araldite MY720，住友化学工业公司制造的Sumiepoxy ELM-120等(均为商品名)；西巴特殊化学品公司制造的Araldite CY-350(商品名)等乙内酰脲型环氧树脂；大赛璐化学工业公司制造的Celoxide2021，西巴特殊化学品公司制造的Araldite CY175、CY179等(均为商品名)脂环式环氧树脂；Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的YL-933，陶氏化学公司制造的T.E.N.、EPPN-501、EPPN-502等(均为商品名)三羟基苯基甲烷型环氧树脂；Japan EpoxyResins Co.，Ltd.制造的YL-6056、YX-4000、YL-6121(均为商品名)等联二甲苯酚型或联苯酚型环氧树脂或者它们的混合物；日本化药公司制造的EBPS-200，旭电化工业公司制造的EPX-30、大日本油墨化学工业公司制造的EXA-1514(商品名)等双酚S型环氧树脂；Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的Epikote157S(商品名)等双酚A酚醛清漆型环氧树脂；JapanEpoxy Resins Co.，Ltd.制造的Epikote YL-931、西巴特殊化学品公司制造的Araldite163等(均为商品名)四羟苯基乙烷型环氧树脂；西巴特殊化学品公司制造的Araldite PT810、日产化学工业公司制造的TEPIC等(均为商品名)杂环式环氧树脂；日本油脂公司制造的Blemmer DGT等邻苯二甲酸二缩水甘油酯树脂；东都化成公司制造的ZX-1063等四缩水甘油基二甲苯酰基乙烷(tetraglycidyl xylenoyl ethane)树脂；新日铁化学公司制造的ESN-190、ESN-360，大日本油墨化学工业公司制造的HP-4032、EXA-4750、EXA-4700等含萘基的环氧树脂；大日本油墨化学工业公司制造的HP-7200、HP-7200H等具有二环戊二烯骨架的环氧树脂；日本油脂公司制造的CP-50S、CP-50M等甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚系环氧树脂；以及环己基马来酰亚胺与甲基丙烯酸缩水甘油酯的共聚环氧树脂；环氧改性的聚丁二烯橡胶衍生物(例如大赛璐化学工业制造的PB-3600等)、CTBN改性环氧树脂(例如东都化成公司制造的YR-102、YR-450等)等，但并不限于这些物质。这些环氧树脂可以单独使用或组合2种以上使用。这些当中特别优选酚醛清漆型环氧树脂、杂环式环氧树脂、双酚A型环氧树脂或它们的混合物。

作为前述多官能团氧杂环丁烷化合物(D-2)，可以列举出双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]醚、双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]醚、1，4-双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯、1，4-双[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯、丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、它们的低聚物或共聚物等多官能团氧杂环丁烷类，以及氧杂环丁烷与酚醛清漆树脂、聚(对羟基苯乙烯)、cardo型双酚类、杯芳烃类、间苯二酚杯芳烃(calixresorcinarene)类和倍半硅氧烷(silsesquioxane)等具有羟基的树脂的醚化物等。另外，可以列举出具有氧杂环丁烷环的不饱和单体与(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物等。

作为前述分子中具有2个以上环状硫醚基的化合物(D-3)，可列举出例如，Japan Epoxy Resins Co.，Ltd.制造的双酚A型环硫化物树脂YL7000等。另外，也可以使用采用同样的合成方法将酚醛清漆型环氧树脂的环氧基的氧原子替换成硫原子的环硫化物树脂等。

相对于前述含羧酸树脂的1当量羧基，前述分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)的配合量优选为0.6～2.0当量、更优选为0.8～1.5当量的范围。分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)的配合量不足0.6的情况下，羧基残留在阻焊膜中，耐热性、耐碱性、电绝缘性等降低，故不优选。另一方面，超过2.0当量的情况下，低分子量的环状(硫)醚基残留在干燥涂膜中，从而涂膜的强度等降低，故不优选。

使用上述分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)时，优选含有热固化催化剂。作为这样的热固化催化剂，例如有咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等咪唑衍生物；双氰胺、苄基二甲胺、4-(二甲氨基)-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基苄基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等胺化合物；己二酸酰肼、癸二酸酰肼等酰肼化合物；三苯基膦等磷化合物等，以及作为市售品，例如有四国化成工业公司制造的2MZ-A、2MZ-OK、2PHZ、2P4BHZ、2P4MHZ(都是咪唑系化合物的商品名)，SAN-APRO公司制造的U-CAT3503N、U-CAT3502T(都是二甲基胺的嵌段异氰酸酯化合物的商品名)，DBU、DBN、U-CATSA102、U-CAT5002(都是二环式脒化合物及其盐)等。并不特别限定于这些化合物，只要是环氧树脂或氧杂环丁烷化合物的热固化催化剂、或促进环氧基和/或氧杂环丁烷基与羧基的反应的物质就可以，可以单独使用或混合2种以上使用。另外，也可以使用三聚氰二胺、甲基胍胺、苯并胍胺、密胺、2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-均三嗪、2-乙烯基-2，4-二氨基-均三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-均三嗪·异氰脲酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-均三嗪·异氰脲酸加成物等均三嗪衍生物，优选将这些还作为赋粘剂起作用的化合物与前述热固化催化剂组合使用。

这些热固化催化剂的配合量只要是通常量的比例就足够，例如相对于100质量份含羧酸树脂(A)或分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)，优选为0.1～20质量份、更优选为0.5～15.0质量份。

为了提高涂膜的物理强度等，本发明中的感光性组合物根据需要可配合填料。作为这样的填料，可使用公知常用的无机填料或有机填料，特别优选使用硫酸钡、球状硅石以及滑石。另外，还可以使用在具有1个以上烯属不饱和基团的化合物或前述多官能团环氧树脂(D-1)中分散有纳米二氧化硅的Hanse-Chemie公司生产的NANOCRYL(商品名)XP 0396、XP 0596、XP 0733、XP 0746、XP 0765、XP 0768、XP 0953、XP 0954、XP 1045(都是产品等级名)、Hanse-Chemie公司生产的NANOPOX(商品名)XP 0516、XP 0525、XP 0314(都是产品等级名)。这些可以单独使用或2种以上配合使用。

相对于100质量份前述含羧酸树脂(A)，这些填料的配合量优选为300质量份以下，更优选为0.1～300质量份，特别优选为0.1～150质量份。前述填料的配合量超过300质量份时，感光性组合物的粘度变高且印刷性降低，固化物变脆，故不优选。

进而，为了前述含羧酸树脂(A)的合成和组合物的调整，或者为了调整粘度以便涂布到基板、载体膜上，本发明的感光性组合物可以使用有机溶剂。

作为这样的有机溶剂，可以列举出酮类、芳香族烃类、二醇醚类、二醇醚乙酸酯类、酯类、醇类、脂肪族烃、石油系溶剂等。更具体地有甲乙酮、环己酮等酮类；甲苯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烃类；溶纤剂、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、卡必醇、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇二乙醚、三乙二醇单乙醚等二醇醚类；乙酸乙酯、乙酸丁酯、二丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丁醚乙酸酯等酯类；乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇等醇类；辛烷、癸烷等脂肪族烃；石油醚、石油石脑油、加氢石油石脑油、溶剂石脑油等石油系溶剂等。这样的有机溶剂可单独使用或以2种以上的混合物来使用。

本发明的感光性组合物进而还可以根据需要混合公知常用的添加剂类，如氢醌、氢醌单甲醚、叔丁基邻苯二酚、连苯三酚、吩噻嗪等公知常用的热阻聚剂，微粉二氧化硅、有机膨润土、蒙脱土等公知常用的增稠剂，硅酮系、氟系、高分子系等消泡剂和/或流平剂，咪唑系、噻唑系、三唑系等硅烷偶联剂，抗氧化剂、防锈剂等。

本发明的感光性组合物可通过例如，用前述有机溶剂调整为适合涂布方法的粘度，利用浸涂法、淋涂法、辊涂法、刮棒涂布法、丝网印刷法、帘涂法等方法涂布到形成有电路的基板上，在约60～100℃的温度下使组合物中所含的有机溶剂挥发干燥(临时干燥)，从而形成不粘手的涂膜。本发明的感光性组合物的干燥涂膜优选具有15～100μm的厚度。另外，通过将本发明的感光性组合物涂布到载体膜上、并使其干燥，可得到干膜。以薄膜状卷曲的干膜粘合在形成有电路的基板上，剥离载体膜，从而可在形成有电路的基板上形成阻焊膜。其后，用直接描绘装置(紫外线直接成像装置)描绘图案潜像，然后通过碱性水溶液(例如，0.3～3％碳酸钠水溶液)将未曝光部显影，可形成阻焊图案。进而，在含有热固性成分的情况下，加热到例如约140～180℃的温度使其热固化，从而前述含羧酸树脂(A)的羧基与分子中具有2个以上环状(硫)醚基的热固性成分(D)的环状(硫)醚基反应，可形成耐热性、耐化学药品性、耐吸湿性、密合性以及电特性等诸特性优异的固化涂膜。

作为用于上述基板的基材，可以列举出使用纸苯酚、纸环氧、玻璃布环氧、玻璃聚酰亚胺、玻璃布/无纺布环氧、玻璃布/纸环氧、合成纤维环氧、氟·聚乙烯·PPO·氰酸酯等的高频电路用覆铜层压板等材质的所有等级(FR-4等)的覆铜层压板，以及其它的聚酰亚胺膜、PET膜、玻璃基板、陶瓷基板、晶圆板等。

涂布本发明的感光性组合物之后进行的挥发干燥，可以使用热风循环式干燥炉、IR炉、电热板、对流烘箱等(使用具备利用蒸气进行空气加热方式的热源的装置并使干燥机内的热风进行对流接触的方法、以及由喷嘴吹到支撑体上的方式)而进行。

使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法中所使用的光源选自：高压汞灯、超高压汞灯、以及同时照射i射线(365nm)和h射线(405nm)的光源。另外，其曝光量因本发明的感光性组合物的干燥膜厚等而异，通常为5～100mJ/cm²、优选为5～60mJ/cm²、进一步优选为5～30mJ/cm²的范围内。作为直接描绘装置，可使用例如DAINIPPON S CREEN MFG.CO.，LTD.生产的装置。

作为前述显影方法，可列举出浸渍法、喷淋法、喷射法、涂刷法等，作为显影液，可使用氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、碳酸钾、磷酸钠、硅酸钠、氨、氢氧化四甲基铵等碱性水溶液。

[实施例]

以下，通过实施例对本发明进行说明，本发明并不限定于此。

<含羧酸树脂的合成>

在具备搅拌器、温度计、回流冷凝管、滴液漏斗以及氮气导入管的2升可拆式烧瓶中加入660g甲酚酚醛清漆型环氧树脂(日本化药(株)制造，EOCN-104S，软化点92℃，环氧当量＝220g/当量)、421.3g卡必醇乙酸酯和180.6g溶剂石脑油作为溶剂，加热到90℃并搅拌，溶解。然后，暂且冷却到60℃，加入216g丙烯酸、4.0g作为反应催化剂的三苯基膦、1.3g作为阻聚剂的甲基氢醌，于100℃反应12小时，得到酸值0.2mgKOH/g的反应产物。向其中加入241.7g四氢邻苯二甲酸酐，加热到90℃，反应6小时。由此，得到不挥发成分＝65质量％、固体成分酸值＝77mgKOH/g、双键当量(每1摩尔不饱和基团的树脂的g重量)＝400g/当量、重均分子量＝7000的含羧酸树脂的溶液。以下称该含羧酸树脂的溶液为A-1清漆。

实施例1～5、比较例1～2

将表1所示的成分以表1所示的量(质量份)配合、搅拌，通过3辊式辊磨机分散，分别得到感光性组合物。

表1

对使用实施例1～5、比较例1～2的组合物所形成的阻焊膜的诸性质进行考察，如下试验，进行评价。

<吸光度>

将各感光性组合物用均布器涂布到玻璃板上，然后使用热风循环式干燥炉在80℃干燥30分钟，在玻璃板上制备其干燥涂膜。关于该玻璃板上的各感光性组合物的干燥涂膜，使用紫外可见分光光度计(日本分光株式会社生产，Ubest-V-570DS)、以及积分球装置(日本分光株式会社生产，ISN-470)测定吸光度。另外，对于与涂布了各感光性组合物的玻璃板相同的玻璃板，测定在300nm～500nm波长范围下的吸光度基线。所制备的带有干燥涂膜的玻璃板的吸光度减去基线，由此计算出干燥涂膜的吸光度。将均布器涂布的涂布厚度分4个阶段改变而进行该操作，制作涂布厚度与吸光度的图表，从该图表计算出干燥阻焊膜厚为25μm时的吸光度。关于实施例1～5和比较例1～2，分别在表2中示出结果。

(2)固化深度和截面形状

将线(层叠有铜箔的部分)/间隔(没层叠铜箔的部分)为300μm/300μm的宽度、铜厚为70μm的电路图案基板用抛光辊研磨后，水洗、干燥。利用丝网印刷法将各组合物涂布到该电路图案基板上，在80℃的热风循环式干燥炉中干燥30分钟。干燥后，使用各种曝光装置对该干燥涂膜进行曝光。曝光图案使用对上述间隔部分别依次描绘30/40/50/60/70/80/90/100μm宽的线的图案。曝光后，通过使用1.0质量份％碳酸钠水溶液进行显影，从而得到阻焊图案。此时，将残留的最小线宽作为固化深度的评价。

另外，通过观察固化涂膜的线宽的设计值为100μm的线部的截面，进行截面形状的评价。在此，铜厚70μm时的阻焊膜的厚度为65μm。根据图1的示意图，用A～E五个等级评价截面形状。图中，1a表示线宽的设计值，1b表示曝光、显影后的阻焊膜的形状，1c表示基板。各评价的状态如下，即，

A评价：如设计宽度那样的理想状态

B评价：耐显影性不足等导致表面层发生腐蚀

C评价：底切状态

D评价：晕影等导致线变粗

E评价：表面层的线变粗和产生底切。

在此，底切和晕影都是表示从设计值偏离的术语。所谓底切，表示尤其下部比设计值细，晕影表示上部、下部某一个或两者比设计值粗。

尤其在A评价中，从设计值的偏离，在线的上部、下部都在5μm以内。

不仅是A评价，C评价、D评价都是可以用作阻焊剂的水平。与此相对，B评价、E评价的阻焊膜，其线、底切部易剥离，是难以用作阻焊膜的水平，尤其E评价是不能使用的水平。

关于实施例1～5和比较例1～2，在表3中示出评价结果。

表2

表3

使用激光直接描绘机：DAINIPPON SCREEN MFG.CO.，LTD.生产的Mercurex

实施例6

用甲乙酮稀释表1所示的实施例1，涂布到载体膜上，在80℃的热风干燥机中加热干燥30分钟，形成厚度25μm的光固化性热固化性树脂组合物层，在其上贴合上膜(cover film)而得到干膜。其后，剥离上膜，对形成有图案的铜箔基板热层压薄膜而贴合后，用表3所示的实施例1的条件实施曝光，去掉载体膜之后，用1质量％的碳酸钠水溶液显影60秒而得到图像。进一步在150℃的热风干燥机中加热固化60分钟，制备试验基板。对于所得的具有固化覆膜的试验基板，通过前述的试验方法和评价方法进行各特性的评价试验。结果与表3的实施例1的结果相同。

如以上详细记载那样，根据本发明，可以提供一种高感光度的感光性组合物，其可以适用于使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法中。本发明的感光性组合物即使在照射低曝光量的紫外光的情况下，也能正确地形成所期望的图案潜像。

Claims

1.一种感光性组合物，其特征在于，所述感光性组合物包含含羧酸树脂、光聚合引发剂以及颜料，所述感光性组合物通过使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法形成图案潜像，通过碱性水溶液使该图案潜像显影，其中，其曝光前的干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，并且在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度，所述光聚合引发剂是选自具有式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂、具有式(II)表示的基团的α-氨基苯乙酮系光聚合引发剂、以及具有式(III)表示的基团的酰基氧化膦系光聚合引发剂所组成的组中的1种以上光聚合引发剂，

式中，R¹表示：氢原子；苯基，其可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代；碳原子数1～20的烷基，其可以被1个以上羟基取代，可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子；碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基，其可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代；

R²表示：苯基，其可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代；碳原子数1～20的烷基，其可以被1个以上羟基取代，可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子；碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基，其可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代；

R³和R⁴各自独立地表示碳原子数1～12的烷基或芳烷基；

R⁷和R⁸各自独立地表示碳原子数1～10的直链状或支链状的烷基、环己基、环戊基、芳基、或者被卤原子、烷基或烷氧基取代的芳基，其中，R⁷和R⁸之一可以表示R-C(＝O)-基团，其中，R为碳原子数1～20的烃基，

且所述光聚合引发剂的配合量相对于100质量份所述含羧酸树脂为0.01～30质量份，以及，所述颜料的配合量相对于100质量份所述含羧酸树脂为0.01～5质量份。

2.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，曝光前的所述干燥涂膜的每25μm厚度在355nm～375nm波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上。

3.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，曝光前的所述干燥涂膜每25μm厚度在355nm～375nm波长范围显示0.6～1.2的吸光度，以及在405nm波长显示0.3～0.6的吸光度，并且，在355nm～375nm波长范围的最大吸光度与在405nm波长的吸光度之差为0.3以上且小于0.6。

4.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，其包含敏化剂，该敏化剂选自噻吨酮化合物和最大吸收波长在350～410nm的含二烷基氨基的香豆素化合物所组成的组中的1种以上。

5.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述具有式(I)所示的基团的肟酯系光聚合引发剂的配合量相对于100质量份所述含羧酸树脂为0.01～20质量份。

6.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述具有式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂包含式(IV)的化合物。

7.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述具有式(I)表示的基团的肟酯系光聚合引发剂包含式(V)的化合物，

式中，R⁹表示氢原子、卤原子、碳原子数1～12的烷基、环戊基、环己基、苯基、苄基、苯甲酰基、碳原子数2～12的烷酰基、碳原子数2～12的烷氧羰基、或者苯氧羰基，其中，对于碳原子数2～12的烷氧羰基，构成烷氧基的烷基的碳原子数为2以上的情况下，烷基可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子；

R¹⁰、R¹²各自独立地表示：苯基，其可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代；碳原子数1～20的烷基，其可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子；碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基，其可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代；

R¹¹表示：氢原子；苯基，其可以被碳原子数1～6的烷基、苯基或卤原子取代；碳原子数1～20的烷基，其可以被1个以上羟基取代，也可以在烷基链的中间具有1个以上氧原子；碳原子数5～8的环烷基、碳原子数2～20的烷酰基或苯甲酰基，其可以被碳原子数1～6的烷基或苯基取代。

8.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述颜料包含酞菁蓝系颜料。

9.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，还包含分子中具有2个以上环状醚基和/或环状硫醚基的热固性成分。

10.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，所述使用产生紫外线的灯所发出的光的直接描绘法中所使用的光源选自：高压汞灯、超高压汞灯、以及同时照射365nm的i射线和405nm的h射线的光源。

11.根据权利要求1所述的感光性组合物，其特征在于，可作为厚度15μm～100μm的干燥涂膜适用。

12.一种干膜，其通过将权利要求1所述的感光性组合物涂布到载体膜上之后干燥而得到。