WO2015108114A1 - ポリアミドイミド溶液、多孔質ポリアミドイミドフィルム、およびその製造方法 - Google Patents

ポリアミドイミド溶液、多孔質ポリアミドイミドフィルム、およびその製造方法 Download PDF

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直史 藤岡
健太 柴田
山田 宗紀
朗 繁田
雅弘 細田
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ユニチカ株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a polyamideimide solution and a production method thereof, a porous polyamideimide film obtained from the polyamideimide solution, and a production method thereof (hereinafter, polyamideimide may be abbreviated as “PAI”).
  • PAI polyamideimide
  • Polyimide-based porous films use electronic materials and optical materials, lithium secondary battery separators, filters, separation membranes, wire coatings, and other industrial materials and medical materials by utilizing their excellent heat resistance and high porosity. It is used in the field of materials.
  • thermosetting polyimides (PI) using a polyimide precursor (polyamic acid) among polyimide porous films an amide solvent and an ether solvent are used as a method for producing this porous film.
  • a PI precursor solution contained as a solvent is applied on a substrate having a heat resistance of 300 ° C. or higher, and then dried to induce a phase separation phenomenon, and then thermoset at a high temperature of about 300 ° C. to be porous.
  • Patent Document 1 a method for obtaining a high quality PI film (hereinafter, this method may be abbreviated as “dry pore forming process”) (Patent Document 1).
  • This method is different from a wet porous process in which a coating film formed on a substrate is immersed in a coagulating liquid containing a poor solvent to produce a porous film when producing a porous PI film.
  • a coagulation bath for conversion. Therefore, since no waste liquid is generated from the coagulation bath during the production of the porous PI film, the dry porosification process is an excellent method with good environmental compatibility.
  • the PI precursor coating film formed on the base material contracts during thermosetting, which limits the range of application in some cases. There was.
  • the present inventors have found that the above problems can be solved by setting the PAI solution to a specific composition, particularly a specific solvent content, and have completed the present invention.
  • the present invention has the following objects.
  • a PAI solution containing a nitrogen-containing polar solvent and an ether solvent The solid content concentration of the PAI is 25% by mass or less based on the mass of the PAI solution, The content of the nitrogen-containing polar solvent is 15% by mass or more based on the mass of the PAI solution, The PAI solution, wherein the content of the ether solvent is more than 30% by mass with respect to the mass of the PAI solution.
  • a porous PAI film can be easily obtained from the PAI solution of the present invention by a simple process at a low temperature.
  • the obtained porous PAI film has excellent heat resistance, high porosity, excellent permeability, and good mechanical properties based on excellent uniformity of pores. It can be suitably used in the fields of industrial materials such as secondary battery separators, filters, separation membranes, wire coatings, and medical materials.
  • FIG. 2 is an enlarged SEM image of a cross section of the porous PAI film in FIG. 1. It is a SEM image of the porous PAI film surface of this invention.
  • the present invention relates to a PAI solution and a production method thereof, a porous PAI film obtained from the PAI solution, and a production method thereof.
  • aromatic tricarboxylic acid component examples include a benzene tricarboxylic acid component and a naphthalene tricarboxylic acid component.
  • benzenetricarboxylic acid component examples include, for example, trimellitic acid, hemimellitic acid, anhydrides thereof, and monochlorides thereof.
  • naphthalene tricarboxylic acid component examples include, for example, 1,2,3-naphthalene tricarboxylic acid, 1,6,7-naphthalene tricarboxylic acid, 1,4,5-naphthalene tricarboxylic acid, and anhydrides and monochlorides thereof. Is mentioned.
  • aromatic tricarboxylic acid components are preferred.
  • aromatic tricarboxylic acid components trimellitic acid and trimellitic anhydride chloride (TAC) are preferred.
  • the tricarboxylic acid component may be used alone or in combination of two or more.
  • As the tricarboxylic acid component a part of which is substituted with a component such as pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, or biphenyl tetracarboxylic acid may be used.
  • the diamine component of PAI is an organic compound having two primary amino groups (including derivatives thereof) and one or more aromatic rings or aliphatic rings per molecule.
  • a diamine component shall be used by the concept including an aromatic diamine component and an alicyclic diamine component.
  • aromatic diamine component examples include, for example, 4,4′-diaminodiphenyl ether (DADE), m-phenylenediamine (MDA), p-phenylenediamine, 4,4′-diphenylmethanediamine (DMA), 4,4 ′. -Diphenyl ether diamine, diphenyl sulfone-4,4'-diamine, diphenyl-4,4'-diamine, o-tolidine, 2,4-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, xylylenediamine, naphthalenediamine, and These diisocyanate derivatives are mentioned.
  • DADE 4,4′-diaminodiphenyl ether
  • MDA m-phenylenediamine
  • DMA 4,4′-diphenylmethanediamine
  • DADE 4,4′. -Diphenyl ether diamine, diphenyl sulfone-4,4'-
  • aromatic diamine components are preferred.
  • DADE, MDA and DMA are preferred.
  • the diamine component may be used alone or in combination of two or more.
  • PAI usually has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher.
  • a value measured by DSC differential thermal analysis
  • PAI is different from thermosetting polyimide that requires a high temperature of about 300 ° C. in order to imidize its precursor polyamic acid during molding.
  • the PAI solution of the present invention is a solution containing a mixed solvent containing a nitrogen-containing polar solvent and an ether solvent, wherein the solid content concentration of the PAI is 25% by mass or less with respect to the mass of the PAI solution,
  • the content of the polar solvent is 15% by mass or more with respect to the mass of the PAI solution, and the content of the ether solvent is more than 30% by mass with respect to the mass of the PAI solution.
  • the content of the nitrogen-containing polar solvent is preferably 17% by mass or more based on the mass of the PAI solution.
  • the upper limit of the content of the nitrogen-containing polar solvent is not particularly limited, but from the viewpoint of further increasing the porosity of the film, it is 50% by mass or less, particularly 30% by mass or less, based on the mass of the PAI solution. It is preferable that
  • the content of the ether solvent is preferably more than 40% by mass, more preferably more than 50% by mass, and more preferably more than 60% by mass with respect to the mass of the PAI solution.
  • the upper limit of the content of the ether solvent is not particularly limited, but from the viewpoint of further increasing the porosity of the film, it is 80% by mass or less, particularly 75% by mass or less, based on the mass of the PAI solution. Preferably there is.
  • the ether solvent (poor solvent) remaining in the coating film acts at a temperature of 200 ° C. or lower. Phase separation occurs efficiently. Accordingly, a PAI film having a high porosity can be obtained.
  • an amide solvent or a urea solvent can be used as the nitrogen-containing polar solvent used in the present invention.
  • amide solvents include N-methyl-2-pyrrolidone (NMP boiling point: 202 ° C.), N, N-dimethylformamide (boiling point: 153 ° C.), and N, N-dimethylacetamide (DMAc boiling point: 166 ° C.).
  • urea solvents include tetramethylurea (TMU boiling point: 177 ° C) and dimethylethyleneurea (boiling point: 220 ° C).
  • TMP and DMAc are preferably used, and NMP is particularly preferable.
  • ether solvent used in the present invention a solvent having a boiling point higher than that of the nitrogen-containing polar solvent is preferably used.
  • the boiling point difference is preferably 5 ° C or higher, more preferably 20 ° C or higher, and 50 ° C or higher. Further preferred.
  • ether solvents alone are poor solvents that cannot dissolve PAI.
  • examples of the ether solvent include diethylene glycol dimethyl ether (DEGM boiling point: 162 ° C), triethylene glycol dimethyl ether (TRGM boiling point: 216 ° C), tetraethylene glycol dimethyl ether (TEGM boiling point: 275 ° C), diethylene glycol (DEG boiling point: 244 ° C).
  • solvents such as triethylene glycol (TEG boiling point: 287 ° C.). These may be used alone or in combination of two or more. Among these, TRGM and TEGM are preferably used, and TEGM is particularly preferable.
  • the mixed solvent may contain other solvents as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the PAI solution of the present invention is preferably produced, for example, by the following production method. That is, solid PAI is dissolved in the mixed solvent to obtain a PAI solution.
  • solid PAI for example, commercially available PAI powder (for example, Torlon 4000T series, Torlon 4000TF, Torlon AI-10 series, etc. manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd.) can be used.
  • PAI powder for example, Torlon 4000T series, Torlon 4000TF, Torlon AI-10 series, etc. manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd.
  • the production method using the solid PAI as described above is preferable, but the tricarboxylic acid component and the diamine component as raw materials are blended in approximately equimolar amounts, A solution obtained by polymerization reaction in a mixed solvent can also be used.
  • a polymerization reaction is obtained only in a nitrogen-containing polar solvent to obtain a solution, and then an ether solvent is added thereto, or a suspension is obtained by polymerization reaction only in an ether solvent, and then contained in this.
  • a PAI solution can be obtained by adding a nitrogen polar solvent, a method using a solid PAI as described above is preferred.
  • PAI solution of the present invention known additives such as various surfactants and organic silane coupling agents may be added to the PAI solution of the present invention as long as the effects of the present invention are not impaired. Moreover, you may add other polymers other than PAI to a PAI solution in the range which does not impair the effect of this invention as needed.
  • the porous PAI film of the present invention can be produced by a low-temperature dry porosity process using the PAI solution. That is, the PAI solution of the present invention is applied to the surface of a substrate and dried at 80 to 200 ° C., preferably 100 to 160 ° C. for 10 to 60 minutes, so that the porosity is 40 to 90% by volume. A quality PAI film can be formed. Thereafter, the porous PAI film can be peeled from these substrates to form a porous PAI film alone. Moreover, the porous PAI film formed on the base material can be used by being laminated and integrated with the base material without peeling from the base material. In addition, since the porous PAI film is excellent in heat resistance, after the drying, heat treatment may be performed at a temperature of 200 ° C. or higher, for example, about 300 ° C.
  • the substrate examples include a metal foil, a metal wire, a glass plate, a thermoplastic resin film (a thermoplastic resin film having a melting point or a softening point of 300 ° C. or less such as polyester, polypropylene, polycarbonate), a thermosetting resin such as polyimide.
  • a film, various textiles, various nonwoven fabrics, etc. are mentioned.
  • As the metal gold, silver, copper, platinum, aluminum, or the like can be used.
  • the substrate may be porous or non-porous. Among these, a polyester film is preferable, and a polyethylene terephthalate (PET melting point: 260 ° C.) film is particularly preferable.
  • the PET film may be subjected to surface treatment such as corona discharge treatment.
  • a dip coater, a bar coater, a spin coater, a die coater, a spray coater or the like can be used, and the coating can be applied continuously or batchwise.
  • the porosity of the porous PAI film obtained by the production method is preferably 40 to 90% by volume, more preferably 45 to 85% by volume, and still more preferably 60 to 85% by volume. .
  • the porous PAI film having the porosity set in this way can ensure good mechanical properties and permeability at the same time, and can be used for a separator for a lithium secondary battery, a filter, and the like.
  • the porosity of the porous PAI film is a value calculated from the apparent density of the porous PAI film and the true density (specific gravity) of the PAI constituting the porous PAI film. Specifically, the porosity (volume%) is calculated by the following formula when the apparent density of the porous PAI film is A (g / cm 3 ) and the true density of the PAI is B (g / cm 3 ).
  • the average pore diameter of the pores of the porous PAI film is preferably from 0.1 to 10 ⁇ m, more preferably from 0.5 to 5 ⁇ m.
  • the formed pores may be continuous pores or independent pores, but are preferably continuous pores.
  • pores are preferably formed on the film surface.
  • the thickness of the porous PAI film is preferably 1 to 300 ⁇ m, more preferably 10 to 100 ⁇ m.
  • the porosity and pore diameter can be adjusted by selecting the type and amount of the mixed solvent (nitrogen-containing polar solvent and ether solvent) in the PAI solution.
  • a porous PAI film can be easily obtained from the PAI solution of the present invention. Since this porous PAI film manufacturing method is based on a dry porous process, waste liquid from a coagulation bath containing a poor solvent is not generated during pore formation. Therefore, the environmental compatibility is good and the process is very simple. The resulting porous PAI film has high porosity and good mechanical properties.
  • This solution was applied onto a PET film (Unitika Ltd. thickness: 100 ⁇ m) whose surface was subjected to corona discharge treatment, dried at 130 ° C. for 30 minutes, and then peeled off the coating film from the PET film to give a porous film having a thickness of 50 ⁇ m.
  • a quality PAI film was obtained.
  • the measurement results of the porosity of this porous PAI film are shown in Table 1. 1 to 3 show SEM images of the cross section and the surface (PET film contact surface) of the porous PAI film. It can be seen that uniform continuous pores having a pore diameter of about 2 to 3 ⁇ m are formed over the entire cross section, and pores are also formed on the surface.
  • this porous PAI film When the mechanical properties of this porous PAI film were evaluated based on the provisions of JIS-C-2151, the tensile strength was 14.1 MPa and the elongation was 38.8%. Was confirmed. Furthermore, when the Gurley value of this porous PAI film was measured based on the provisions of JIS-P8117, it was 1580 seconds, and it was confirmed that the film showed good permeability based on continuous pores.
  • Examples 2 to 8 In the same manner as in Example 1, PAI solutions (A-2 to A-8) were prepared with the compositions shown in Table 1. From these solutions, porous PAI films were obtained under the same conditions as in Example 1. Table 1 shows the measurement results of the porosity of these porous PAI films.
  • Example 9 As PAI powder, PAI powder obtained by polymerizing TAC and DMA (Tolon AI-10 manufactured by Solvay Advanced Polymers Co., Ltd., glass transition temperature 272 ° C.) was used in the same manner as in Example 1. Thus, a PAI solution (A-9) was prepared. From this solution, a porous PAI film was obtained under the same conditions as in Example 1. Table 1 shows the porosity measurement results of this porous PAI film.
  • a PAI solution (B-10) was prepared according to the description in Example 1 of JP2013-187029 (Patent Document 2). That is, by adding 51.2 g of TRGM to 200 g of a commercially available PAI solution (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .: HI-406, PAI solid content: 32 mass%, solvent: NMP, PAI glass transition temperature: 288 ° C.), PAI A uniform PAI solution (B-10) having a solid content concentration of about 25% by mass with respect to the PAI solution and an ether solvent content ratio of about 21% by mass with respect to the PAI solution was obtained. From this solution, a porous PAI film was obtained under the same conditions as in Example 1. The results of measuring the porosity of this PAI film are shown in Table 1.
  • a PAI solution (B-10) was prepared according to the description in Example 2 of JP2013-210493 (Patent Document 3). That is, NMP 15 g, TRGM 10 g, and TEGM 30 g are added to 200 g of a commercially available PAI solution (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd .: HI-406, PAI solid content: 32 mass%, solvent: NMP, glass transition temperature of PAI: 288 ° C.).
  • a uniform PAI solution (B-11) having a PAI solid content concentration of about 25% by mass in the PAI solution ratio and an ether solvent content ratio of about 16% by mass in the PAI solution ratio was obtained. From this solution, a porous PAI film was obtained under the same conditions as in Example 1. The results of measuring the porosity of this PAI film are shown in Table 1.
  • the porous PAI film obtained from the PAI solution of the present invention has a high porosity (40% by volume or more), and can be suitably used for secondary battery separators, filters, and the like. I know that there is. On the other hand, the porosity (less than 40 volume%) of the porous PAI film obtained from the PAI solution shown in the comparative example is low, and it can be seen that application to a secondary battery separator, a filter or the like is difficult.

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Abstract

 本発明は、耐熱性に優れ、かつ気孔率が高く、連続気孔を有する多孔質ポリアミドイミド(PAI)フィルムが得られるPAI溶液、およびその製造方法、ならびにこの溶液から得られる多孔質PAIフィルム、およびその製造方法を提供する。含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含有するPAI溶液であって、前記PAIの固形分濃度がPAI溶液質量に対し25質量%以下であり、前記含窒素極性溶媒の含有量がPAI溶液質量に対し15質量%以上であり、前記エーテル系溶媒の含有量がPAI溶液質量に対し30質量%超であるPAI溶液。固体状のPAIを、含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含む混合溶媒に溶解する前記PAI溶液の製造方法。前記PAI溶液を基材上に塗布後、200℃以下の温度で乾燥する多孔質PAIフィルムの製造方法。前記の方法によって製造された多孔質PAIフィルム。

Description

ポリアミドイミド溶液、多孔質ポリアミドイミドフィルム、およびその製造方法
 本発明は、ポリアミドイミド溶液およびその製造方法、ならびにこのポリアミドイミド溶液から得られる多孔質ポリアミドイミドフィルムおよびその製造方法に関するものである(以下、ポリアミドイミドを「PAI」と略記することがある)。
 ポリイミド系の多孔質フィルムは、その優れた耐熱性と高い気孔率を利用して、電子材料や光学材料、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜、電線被覆等の産業用材料、医療材料の素材等の分野で利用されている。ポリイミド系の多孔質フィルムの中で、ポリイミド前駆体(ポリアミック酸)を利用する熱硬化型のポリイミド(PI)については、この多孔質フィルムを製造する方法として、アミド系溶媒とエーテル系溶媒とを溶媒として含有するPI前駆体溶液を、300℃以上の耐熱性を有する基材上に塗布後、乾燥することによって、相分離現象を誘起せしめた後、300℃程度の高温で熱硬化して多孔質PIフィルムを得る方法(以下、この方法を「乾式多孔化プロセス」と略記することがある)が提案されている(特許文献1)。この方法は、多孔質PIフィルムを製造する際に、基材上に形成された塗膜を、貧溶媒を含む凝固液に浸漬し、多孔質化を図る湿式多孔化プロセスとは異なり、多孔質化のための凝固浴を用いる必要がない。そのため、多孔質PIフィルム製造の際、凝固浴から廃液が発生しないので、乾式多孔化プロセスは環境適合性の良好な優れた方法である。ただ、熱硬化型の多孔質ポリイミドフィルムを製造するには、熱硬化の際、基材上に形成されたPI前駆体塗膜の収縮がおこり、そのため、場合によっては、その適用範囲が限定されることがあった。
 そこで、前記したような塗膜製造の際に収縮が発生しないPAIを用いて多孔質フィルムや被膜を製造する方法が提案されている。例えば、特許文献2~4には、アミド系溶媒とエーテル系溶媒とを溶媒として含有するPAI溶液を、銅線やアルミ条等の基材上に塗布後、500℃程度の高温で熱処理することによって、多孔質PAI被膜やフィルムを得る方法が提案されている。これらの方法は、高温での溶媒の分解と揮発に起因する発泡現象を利用して多孔質PAI被膜を得ようとするものであった。またPAI溶液はエーテル系溶媒の含有量が極めて少ないものであった。
特許第4947989号公報 特開2013-187029号公報 特開2013-210493号公報 国際公開2013/133333号明細書
 しかしながら、公知のPAI溶液を、低温での多孔質化が容易な相分離現象を利用した乾式多孔化プロセスに適用した場合には、気孔率が低く、かつ独立気孔が多いため透過性の低いフィルムしか得られなかった。また、フィルム表面に気孔を形成させることは困難であった。従い、高い透過性が要求されるリチウム二次電池用セパレータやフィルタ等の用途に利用することは困難であった。さらに、発泡現象を利用して多孔質PAI被膜を基材から剥離して得られる多孔質PAIフィルムは、気孔の均一性に劣り、力学的強度が低いものであった。
 そこで本発明は、前記課題を解決するものであって、乾式多孔化プロセスへの適応が可能であり、耐熱性に優れ、かつ気孔率が高く、透過性に優れた多孔質PAIフィルムが得られるPAI溶液およびその製造方法、ならびにこの溶液から得られる多孔質PAIフィルム、およびその製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは、PAI溶液を特定の組成、特に特定の溶媒含有量、とすることにより前記課題が解決されることを見出し、本発明の完成に至った。
 本発明は下記を趣旨とするものである。
<1> 含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含有するPAI溶液であって、
 前記PAIの固形分濃度が、PAI溶液質量に対し25質量%以下であり、
 前記含窒素極性溶媒の含有量が、PAI溶液質量に対し15質量%以上であり、
 前記エーテル系溶媒の含有量が、PAI溶液質量に対し30質量%超であることを特徴とするPAI溶液。
<2> 固体状のPAIを、含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含む混合溶媒に溶解させることを特徴とする<1>に記載のPAI溶液の製造方法。
<3> <1>に記載のPAI溶液を基材上に塗布後、200℃以下の温度で乾燥することにより相分離現象を誘起せしめ多孔質化することを特徴とする多孔質PAIフィルムの製造方法。
<4> 基材がポリエステルフィルムであることを特徴とする<3>に記載の多孔質PAIフィルムの製造方法。
<5> <3>または<4>に記載の方法によって製造された多孔質PAIフィルム。
 本発明のPAI溶液から、低温での簡単なプロセスで容易に多孔質PAIフィルムを得ることができる。得られた多孔質PAIフィルムは、耐熱性に優れ、気孔率が高く、透過性に優れ、かつ気孔の優れた均一性に基づく良好な力学的特性を有するので、電子材料や光学材料、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜、電線被覆等の産業用材料、医療材料の素材等の分野で好適に使用することができる。
本発明の多孔質PAIフィルム断面のSEM像である。 図1の多孔質PAIフィルム断面の拡大SEM像である。 本発明の多孔質PAIフィルム表面のSEM像である。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 本発明はPAI溶液およびその製造方法、このPAI溶液から得られる多孔質PAIフィルム、およびその製造方法に関するものである。
[PAI溶液]
 PAIは、主鎖にイミド結合とアミド結合の両方を有する耐熱性高分子であり、例えば、原料であるトリカルボン酸成分とジアミン成分との重縮合反応を行うことにより得ることができる。
 PAIのトリカルボン酸成分は、1分子あたり3個のカルボキシル基(その誘導体を含む)および1個以上の芳香環または脂肪族環を有する有機化合物であって、当該3個のカルボキシル基のうち、少なくとも2個のカルボキシル基が共に酸無水物形態を形成し得る位置に配置されたものである。トリカルボン酸成分は芳香族トリカルボン酸成分および脂環族トリカルボン酸成分を包含する概念で用いるものとする。
 芳香族トリカルボン酸成分として、例えば、ベンゼントリカルボン酸成分、ナフタレントリカルボン酸成分が挙げられる。
 ベンゼントリカルボン酸成分の具体例として、例えば、トリメリット酸、ヘミメリット酸、ならびにこれらの無水物およびそのモノクロライドが挙げられる。
 ナフタレントリカルボン酸成分の具体例として、例えば、1,2,3‐ナフタレントリカルボン酸、1,6,7-ナフタレントリカルボン酸、1,4,5-ナフタレントリカルボン酸、ならびにこれらの無水物およびそのモノクロライドが挙げられる。
 脂環族トリカルボン酸成分の具体例として、例えば、1,2,4-シクロペンタントリカルボン酸、1,2,3-シクロヘキサントリカルボン酸、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸、1,3,5-シクロヘキサントリカルボン酸、1,2,4-デカヒドロナフタレントリカルボン酸、1,2,5-デカヒドロナフタレントリカルボン酸ならびにこれらの無水物およびそのモノクロライドが挙げられる。
 トリカルボン酸成分の中では、芳香族トリカルボン酸成分が好ましい。
 芳香族トリカルボン酸成分の中では、トリメリット酸および無水トリメリット酸クロライド(TAC)が好ましい。
 トリカルボン酸成分は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。トリカルボン酸成分は、その一部がピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、またはビフェニルテトラカルボン酸等の成分で置換されたものを用いてもよい。
 PAIのジアミン成分は、1分子あたり2個の1級アミノ基(その誘導体を含む)および1個以上の芳香環または脂肪族環を有する有機化合物である。ジアミン成分は芳香族ジアミン成分および脂環族ジアミン成分を包含する概念で用いるものとする。
 芳香族ジアミン成分の具体例として、例えば、4,4′-ジアミノジフェニルエーテル(DADE)、m-フェニレンジアミン(MDA)、p-フェニレンジアミン、4,4′-ジフェニルメタンジアミン(DMA)、4,4′-ジフェニルエーテルジアミン、ジフェニルスルホン-4,4′-ジアミン、ジフェニルー4,4′-ジアミン、o-トリジン、2,4-トリレンジアミン、2,6-トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ナフタレンジアミン、ならびにこれらのジイソシアネート誘導体が挙げられる。
 脂環族ジアミン成分の具体例として、例えば、1,3-ジアミノシクロヘキサン、1,4-ジアミノシクロヘキサン、ならびにこれらのジイソシアネート誘導体が挙げられる。
 ジアミン成分の中では、芳香族ジアミン成分が好ましい。
 芳香族ジアミン成分の中では、DADE、MDAおよびDMAが好ましい。
 ジアミン成分は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
 PAIは、通常、200℃以上のガラス転移温度を有する。ガラス転移温度は、DSC(示差熱分析)により測定された値を用いている。
 PAIの中でも、力学的特性や耐熱性に優れた芳香族PAIが好ましい。芳香族PAIとは、前記した芳香族トリカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分との重縮合反応を行うことにより得ることができるものである。芳香族PAIは、熱可塑性であっても非熱可塑性であってもよいが、前記したガラス転移温度を有する芳香族PAIを好ましく用いることができる。
 本発明においては、PAIを溶媒に溶解したPAI溶液から、後で詳述するように、200℃以下の温度により、溶媒を除去することにより、力学的特性の優れた耐熱性フィルムを、容易に得ることができる。PAIは、この点において、成形の際、その前駆体であるポリアミック酸をイミド化するために300℃程度の高温を必要とする熱硬化型ポリイミドとは異なるものである。
 本発明のPAI溶液は、含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含む混合溶媒を含有する溶液であって、前記PAIの固形分濃度が、PAI溶液質量に対し25質量%以下であり、前記含窒素極性溶媒の含有量が、PAI溶液質量に対し15質量%以上であり、かつ、前記エーテル系溶媒の含有量が、PAI溶液質量に対し30質量%超である。
 PAIの固形分濃度が高すぎると、均一な溶液を得ることができず、フィルム形成のための使用に耐えない。PAIの固形分濃度は、フィルムにおける気孔率のさらなる増大の観点から、PAI溶液質量に対し、20質量%以下とすることが好ましい。ただ、PAIの固形分濃度を必要以上に低下させると、生産性が低下するので、PAIの固形分濃度は、5質量%以上とすることが好ましい。
 含窒素極性溶媒の含有量が少なすぎると、均一なPAI溶液を得ることができない。均一なPAI溶液を得るためには、含窒素極性溶媒の含有量は、PAI溶液質量に対し17質量%以上であることが好ましい。本発明において、含窒素極性溶媒の含有量における上限値は特に限定されるものではないが、フィルムにおける気孔率のさらなる増大の観点から、PAI溶液質量に対し50質量%以下、特に30質量%以下であることが好ましい。
 エーテル系溶媒の含有量が少なすぎると、十分な気孔率を有するフィルムを得ることができない。エーテル系溶媒の含有量は、フィルムにおける気孔率のさらなる増大の観点から、PAI溶液質量に対し40質量%超であることが好ましく、50質量%超、特に60質量%以上とすることがより好ましい。本発明において、エーテル系溶媒の含有量における上限値は特に限定されるものではないが、フィルムにおける気孔率のさらなる増大の観点から、PAI溶液質量に対し80質量%以下、特に75質量%以下であることが好ましい。
 溶媒組成を前記のようにすることにより、PAI溶液から得られる塗膜を乾燥して固化させる際に、塗膜中に残存するエーテル系溶媒(貧溶媒)の作用により、200℃以下の温度で効率よく相分離が起こる。従い、高い気孔率を有するPAIフィルムを得ることができる。
 本発明で用いられる含窒素極性溶媒としては、アミド系溶媒や尿素系溶媒を用いることができる。アミド系溶媒としては、例えば、N-メチル-2-ピロリドン(NMP 沸点:202℃)、N,N-ジメチルホルムアミド(沸点:153℃)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc 沸点:166℃)が挙げられる。尿素系溶媒としては、例えば、テトラメチル尿素(TMU 沸点:177℃)、ジメチルエチレン尿素(沸点:220℃)が挙げられる。含窒素極性溶媒は、これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、NMPおよびDMAcが好ましく用いられ、NMPが特に好ましい。
 本発明で用いられるエーテル系溶媒としては、前記含窒素極性溶媒よりも沸点が高いものを用いることが好ましく、その沸点差は、5℃以上が好ましく、20℃以上がより好ましく、50℃以上が更に好ましい。これらのエーテル系溶媒は単独では、PAIを溶解できない貧溶媒である。エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DEGM 沸点:162℃)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(TRGM 沸点:216℃)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(TEGM 沸点:275℃)、ジエチレングリコール(DEG 沸点:244℃)、トリエチレングリコール(TEG 沸点:287℃)等の溶媒が挙げられる。これらを単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、TRGMおよびTEGMが好ましく用いられ、TEGMが特に好ましい。
 混合溶媒は、必要に応じて、他の溶媒を、本発明の効果を損なわない範囲で含んでもよい。
 本発明のPAI溶液は、例えば、以下のような製造方法で製造することが好ましい。すなわち、固体状のPAIを前記混合溶媒に溶解せしめてPAI溶液とする。固体状のPAIとしては、例えば、市販のPAI粉体(例えば、ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製トーロン4000Tシリーズ、トーロン4000TF、トーロンAI-10シリーズ等)を利用することができる。固体状のPAIを用いることにより、本発明の組成としたPAI溶液を容易に得ることができる。
 本発明のPAI溶液を得るには、前記したような固体状のPAIを用いて製造する方法が好ましいが、原料である前記トリカルボン酸成分および前記ジアミン成分を略等モルで配合し、それを前記混合溶媒中で重合反応させて得られる溶液も用いることができる。また、含窒素極性溶媒中のみで重合反応して溶液を得た後、これにエーテル系溶媒を加える方法や、エーテル系溶媒中のみで重合反応して懸濁液を得た後、これに含窒素極性溶媒を加える方法で、PAI溶液を得ることもできるが、前記したような固体状のPAIを用いて製造する方法が好ましい。
 本発明のPAI溶液には、必要に応じて、各種界面活性剤や有機シランカップリング剤のような公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で添加してもよい。また、必要に応じて、PAI溶液に、PAI以外の他のポリマーを、本発明の効果を損なわない範囲で添加してもよい。
[多孔質PAIフィルム]
 本発明の多孔質PAIフィルムは、前記PAI溶液を用いて低温乾式多孔化プロセスにより製造することができる。すなわち、本発明の前記PAI溶液を、基材の表面に塗布し、80~200℃、好ましくは100~160℃で、10~60分乾燥することにより、気孔率が40~90体積%の多孔質PAIフィルムを形成することができる。その後、これらの基材から多孔質PAIフィルムを剥離して多孔質PAIフィルム単体とすることができる。また、基材上に形成された多孔質PAIフィルムは、基材から剥離することなく、基材と積層一体化して使用することもできる。なお、多孔質PAIフィルムは、耐熱性に優れるので、前記乾燥後、200℃以上の温度、例えば300℃程度で熱処理を行っても良い。
 前記基材としては、例えば、金属箔、金属線、ガラス板、熱可塑性樹脂フィルム(ポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネート等融点または軟化点が300℃以下の熱可塑性樹脂フィルム)、ポリイミド等の熱硬化性樹脂フィルム、各種織物、各種不織布等が挙げられる。前記金属としては、金、銀、銅、白金、アルミニウム等を用いることができる。基材は、多孔質であっても非多孔質であってもよい。これらの中で、ポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレート(PET 融点:260℃)フィルムが特に好ましい。PETフィルムはコロナ放電処理等の表面処理が行われていても良い。これら基材への塗液の塗布方法としては、ディップコータ、バーコータ、スピンコータ、ダイコータ、スプレーコータ等を用い、連続式またはバッチ式で塗布することができる。
 前記製造方法により得られた多孔質PAIフィルムの気孔率は、40~90体積%であることが好ましく、45~85体積%であることがより好ましく、60~85体積%であることがさらに好ましい。気孔率がこのように設定された多孔質PAIフィルムは、良好な力学的特性と透過性とが同時に確保されるので、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ等に利用することができる。多孔質PAIフィルムの気孔率は、多孔質PAIフィルムの見掛け密度と、多孔質PAIフィルムを構成するPAIの真密度(比重)とから算出される値である。詳細には、気孔率(体積%)は、多孔質PAIフィルムの見掛け密度がA(g/cm)、PAIの真密度がB(g/cm)の場合、次式により算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
 多孔質PAIフィルムの気孔の平均孔径は、0.1~10μmが好ましく、0.5~5μmがより好ましい。
 また、形成される気孔は、連続気孔であっても、独立気孔であってもよいが、連続気孔であることが好ましい。また、フィルム表面には気孔が形成されていることが好ましい。
 多孔質PAIフィルムの厚みは1~300μmが好ましく、10~100μmがより好ましい。
 前記プロセスにおいて、PAI溶液中の混合溶媒(含窒素極性溶媒とエーテル系溶媒)の種類や配合量を選ぶことにより、気孔率や気孔径を調整することができる。
 以上述べた如く、本発明のPAI溶液から容易に多孔質PAIフィルムが得られる。この多孔質PAIフィルム製造方法は、乾式多孔化プロセスに基づくので、気孔形成の際、貧溶媒を含む凝固浴からの廃液が発生しない。従い、環境適合性が良好であり、しかも、プロセスが極めて簡単である。得られた多孔質PAIフィルムは、高い気孔率と良好な力学的特性を有する。
 以下に、実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明する。なお本発明は実施例により限定されるものではない。
<実施例1>
 TACと、DADEおよびMDAとを共重合(共重合モル比:DADE/MDA=7/3)して得られるPAI粉体(ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製トーロン4000T-HV、ガラス転移温度280℃)15gを、NMP25gとTEGM60gとからなる混合溶媒に、30℃で溶解して、PAIの固形分濃度が対PAI溶液比で15質量%であり、エーテル系溶媒の含有比率が対PAI溶液比で60質量%の均一なPAI溶液(A-1)を得た。
 この溶液を、表面がコロナ放電処理されたPETフィルム(ユニチカ社製:厚み100μm)上に塗布し、130℃で30分乾燥後、PETフィルムから塗膜を剥離することにより、厚みが50μmの多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムの気孔率の測定結果を表1に示す。また、この多孔質PAIフィルム断面および表面(PETフィルム接触面)のSEM像を図1~図3に示す。断面全般にわたって、孔径2~3μm程度の均一な連続気孔が形成され、表面にも気孔が形成されていることが判る。JIS-C-2151の規定に基づき、この多孔質PAIフィルムの力学的特性を評価した所、引張強度は14.1MPa、伸度は38.8%と良好な力学的特性を有していることが確認された。さらに、JIS-P8117の規定に基づき、この多孔質PAIフィルムのガーレ値を測定した所、1580秒であり、連続気孔に基づく良好な透過性を示すことが確認された。
<実施例2~8>
 実施例1と同様にして、表1に示す組成で、PAI溶液(A-2~A-8)を作成した。これらの溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。これらの多孔質PAIフィルムの気孔率測定結果を表1に示す。
<実施例9>
 PAI粉体として、TACと、DMAとを重合して得られるPAI粉体(ソルベイアドバンストポリマーズ株式会社製トーロンAI-10、ガラス転移温度272℃)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、PAI溶液(A-9)を作成した。この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。この多孔質PAIフィルムの気孔率測定結果を表1に示す。
<比較例1~6>
 実施例1と同様にして、表1に示す組成で、PAI溶液(B-1~B-6)を作成した。これらの溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。これらの多孔質PAIフィルムの気孔率測定結果を表1に示す。
<比較例7~9>
 表1に示した組成で、実施例1と同様にしてPAI溶液(B-7~B-9)を作成しようとしたが、均一な溶液を得ることができなかった。
<比較例10>
 特開2013-187029(特許文献2)実施例1の記載に従って、PAI溶液(B-10)を作成した。すなわち、市販のPAI溶液(日立化成工業株式会社製:HI-406、PAI固形分:32質量%、溶媒:NMP、PAIのガラス転移温度:288℃)200gにTRGM51.2gを加えることにより、PAIの固形分濃度が対PAI溶液比で約25質量%であり、エーテル系溶媒の含有比率が対PAI溶液比で約21質量%の均一なPAI溶液(B-10)を得た。この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。このPAIフィルムの気孔率測定結果を表1に示す。
<比較例11>
 特開2013-210493(特許文献3)実施例2の記載に従って、PAI溶液(B-10)を作成した。すなわち、市販のPAI溶液(日立化成工業株式会社製:HI-406、PAI固形分:32質量%、溶媒:NMP、PAIのガラス転移温度:288℃)200gに、NMP15g,TRGM10g、TEGM30gを加えることにより、PAIの固形分濃度が対PAI溶液比で約25質量%であり、エーテル系溶媒の含有比率が対PAI溶液比で約16質量%の均一なPAI溶液(B-11)を得た。この溶液から、実施例1と同様の条件で多孔質PAIフィルムを得た。このPAIフィルムの気孔率測定結果を表1に示す。
 実施例で示した様に、本発明のPAI溶液から得られた多孔質PAIフィルムの気孔率(40体積%以上)は高いものであり、二次電池セパレータやフィルタ等に好適に使用できるものであることが判る。これに対し、比較例で示したPAI溶液から得られた多孔質PAIフィルムの気孔率(40体積%未満)は低いものであり、二次電池セパレータやフィルタ等への適用は難しいことが判る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 本発明のPAI溶液を用いて得られた多孔質PAIフィルムは、電子材料や光学材料、リチウム二次電池用セパレータ、フィルタ、分離膜、電線被覆等の産業用材料、医療材料の素材等の分野で有用である。

Claims (5)

  1.  含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含有するポリアミドイミド溶液であって、
     前記ポリアミドイミドの固形分濃度が、ポリアミドイミド溶液質量に対し25質量%以下であり、
     前記含窒素極性溶媒の含有量が、ポリアミドイミド溶液質量に対し15質量%以上であり、
     前記エーテル系溶媒の含有量が、ポリアミドイミド溶液質量に対し30質量%超であることを特徴とするポリアミドイミド溶液。
  2.  固体状のポリアミドイミドを、含窒素極性溶媒およびエーテル系溶媒を含む混合溶媒に溶解させることを特徴とする請求項1に記載のポリアミドイミド溶液の製造方法。
  3.  請求項1に記載のポリアミドイミド溶液を基材上に塗布後、200℃以下の温度で乾燥することにより相分離現象を誘起せしめ多孔質化することを特徴とする多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法。
  4.  基材がポリエステルフィルムであることを特徴とする請求項3に記載の多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法。
  5.  請求項3または4に記載の方法によって製造された多孔質ポリアミドイミドフィルム。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016108360A (ja) * 2014-12-02 2016-06-20 ユニチカ株式会社 イミド系高分子溶液、多孔質イミド系高分子フィルム、およびその製造方法
JP2018032627A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 ユニチカ株式会社 蓄電素子電極用ポリアミドイミド溶液、蓄電素子電極の製造方法および蓄電素子電極
JP2018190703A (ja) * 2016-12-09 2018-11-29 ユニチカ株式会社 バインダ溶液および塗液ならびに蓄電素子電極の製造方法
JP2019189730A (ja) * 2018-04-24 2019-10-31 ユニチカ株式会社 ポリアミドイミド組成物およびその使用
JP7436023B2 (ja) 2019-05-28 2024-02-21 ユニチカ株式会社 ポリアミドイミド溶液および多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102326790B1 (ko) * 2018-11-29 2021-11-15 주식회사 엘지화학 폴리아미드 공중합체 및 이를 포함하는 폴리아미드 필름
JP6974368B2 (ja) * 2019-01-11 2021-12-01 エセックス古河マグネットワイヤジャパン株式会社 絶縁塗料、及びこれを用いた絶縁電線の製造方法
CN111514766B (zh) * 2020-02-21 2022-04-26 山西格瑞思科技有限公司 带羧酸基团的聚酰胺-聚酰亚胺煤层气脱氮浓缩分离膜

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01205080A (ja) * 1987-12-23 1989-08-17 Bayer Ag ポリイミド表面上に無電解析出された金属層の接着強さを改良するための方法
JPH08208984A (ja) * 1995-02-06 1996-08-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd ポリイミド樹脂組成物
JP2005281669A (ja) * 2004-03-03 2005-10-13 Toyobo Co Ltd 多孔質膜とその製造法及びこれを用いたリチウムイオン二次電池
JP2007269575A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Tomoegawa Paper Co Ltd 多孔質炭素膜の製造方法、燃料電池用電極、塩水電解用電極
JP2011006520A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Canon Inc 多孔質高分子膜の製造方法及びその製造方法で製造した多孔質高分子膜
JP2013209499A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Toyobo Co Ltd 半導体用コーティング剤

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4947989B1 (ja) 1970-09-22 1974-12-19
JP2001266949A (ja) * 2000-03-17 2001-09-28 Sumitomo Chem Co Ltd リチウムイオン二次電池
JP2004256750A (ja) * 2003-02-27 2004-09-16 Toppan Forms Co Ltd 金属ナノ微粒子を含む導電性塗工液、導電性金属箔
CN1922249B (zh) * 2004-02-23 2010-08-18 东洋纺织株式会社 多孔质膜及其制造方法和使用多孔质膜的锂离子二次电池
JP4812266B2 (ja) * 2004-07-01 2011-11-09 株式会社巴川製紙所 電子部品用セパレータ及びその製造方法
JP2007154029A (ja) * 2005-12-05 2007-06-21 Toyobo Co Ltd ポリアミドイミド樹脂
JP4947989B2 (ja) 2006-02-09 2012-06-06 ユニチカ株式会社 ポリイミド前駆体溶液、ポリイミド多孔質フィルム、およびそれらの製造方法
JP2008027766A (ja) * 2006-07-21 2008-02-07 Hitachi Maxell Ltd リチウム電池
JP2012111790A (ja) * 2010-11-19 2012-06-14 Daicel Corp 乾式ポリイミド系多孔性フィルム及びその製造方法
JP6010531B2 (ja) * 2011-04-20 2016-10-19 株式会社カネカ ポリアミドイミド溶液およびポリアミドイミド膜の製造方法
CA2864071C (en) * 2012-03-07 2017-08-01 Furukawa Electric Co., Ltd. Insulated wire having a layer containing bubbles, electrical equipment, and method of producing insulated wire having a layer containing bubbles
JP2013187029A (ja) 2012-03-07 2013-09-19 Furukawa Electric Co Ltd:The 気泡入り絶縁電線の製造方法
JP2013210493A (ja) 2012-03-30 2013-10-10 Furukawa Electric Co Ltd:The 光反射部材及びその製造方法
KR101905513B1 (ko) 2012-05-29 2018-10-10 삼성전자주식회사 휴대단말기의 영상 재생 방법 및 장치

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01205080A (ja) * 1987-12-23 1989-08-17 Bayer Ag ポリイミド表面上に無電解析出された金属層の接着強さを改良するための方法
JPH08208984A (ja) * 1995-02-06 1996-08-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd ポリイミド樹脂組成物
JP2005281669A (ja) * 2004-03-03 2005-10-13 Toyobo Co Ltd 多孔質膜とその製造法及びこれを用いたリチウムイオン二次電池
JP2007269575A (ja) * 2006-03-31 2007-10-18 Tomoegawa Paper Co Ltd 多孔質炭素膜の製造方法、燃料電池用電極、塩水電解用電極
JP2011006520A (ja) * 2009-06-23 2011-01-13 Canon Inc 多孔質高分子膜の製造方法及びその製造方法で製造した多孔質高分子膜
JP2013209499A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Toyobo Co Ltd 半導体用コーティング剤

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016108360A (ja) * 2014-12-02 2016-06-20 ユニチカ株式会社 イミド系高分子溶液、多孔質イミド系高分子フィルム、およびその製造方法
JP2018032627A (ja) * 2016-08-22 2018-03-01 ユニチカ株式会社 蓄電素子電極用ポリアミドイミド溶液、蓄電素子電極の製造方法および蓄電素子電極
JP2018190703A (ja) * 2016-12-09 2018-11-29 ユニチカ株式会社 バインダ溶液および塗液ならびに蓄電素子電極の製造方法
JP7116461B2 (ja) 2016-12-09 2022-08-10 ユニチカ株式会社 バインダ溶液および塗液ならびに蓄電素子電極の製造方法
JP2019189730A (ja) * 2018-04-24 2019-10-31 ユニチカ株式会社 ポリアミドイミド組成物およびその使用
JP7233071B2 (ja) 2018-04-24 2023-03-06 ユニチカ株式会社 ポリアミドイミド組成物およびその使用
JP7436023B2 (ja) 2019-05-28 2024-02-21 ユニチカ株式会社 ポリアミドイミド溶液および多孔質ポリアミドイミドフィルムの製造方法

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