WO2001014484A1 - Agent adhesif, technique de raccordement pour bornes de fil et structure de fils - Google Patents

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WO2001014484A1
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adhesive
wiring
connection
particles
silicone particles
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PCT/JP2000/005766
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Motohiro Arifuku
Itsuo Watanabe
Kouji Motomura
Kouji Kobayashi
Yasushi Goto
Tohru Fujinawa
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Hitachi Chemical Company, Ltd.
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    • Y10T428/28Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer
    • Y10T428/2852Adhesive compositions

Definitions

  • the present invention relates to an adhesive for wiring connection, a method for connecting wiring terminals using the same, and a wiring structure.
  • these conventional wiring connection members have a problem in that the adhesive strength varies depending on the type of material constituting the wiring to be connected.
  • the substrate that supports the wiring terminals is made of insulating organic material such as polyimide resin or glass, or the surface of the wiring member is made of silicon nitride, silicone resin, or polyimide resin.
  • the adhesive strength is significantly reduced.
  • the present invention is suitable for electric and electronic applications, and in particular, a wiring member in which a substrate for supporting a wiring terminal is made of an insulating organic material or glass, and a silicon nitride or silicon at least partially on the surface.
  • An adhesive capable of obtaining high adhesive strength even when bonding a wiring member including a resin and / or polyimide resin, and a method of connecting a wiring terminal and a wiring structure using the same. The purpose is to provide.
  • an adhesive for connecting a wiring terminal comprising: (1) a curing agent that generates free radicals by heating; (2) a radical polymerizable substance; and (3) silicone particles.
  • the adhesive of the present invention is interposed between the wiring boards arranged so that the wiring terminals provided on the surface thereof are opposed to each other, and the wiring board is heated while being pressurized. Can be used for electrical connection.
  • the terminal may be an electrode.
  • the adhesive of the present invention may further include (4) a film-forming material. As a film forming material, a phenoxy resin is preferable.
  • the adhesive of the present invention may further include (5) conductive particles.
  • the conductive particles preferably have at least a surface comprising at least one of gold, silver and a platinum metal, the surface of which is covered by one of these metals. That is Desirable.
  • the content of the silicone particles in the adhesive of the present invention is 100 parts by weight of the radical polymerizable substance (when the film forming material is contained, the radical polymerizable substance and the film forming material are mixed). It is preferably from 5 to 200 parts by weight (based on 100 parts by weight in total).
  • the silicone particles used in the adhesive of the present invention have an elastic modulus at 25 ° C. (room temperature) of 0.1 to: L 0 0 MPa.
  • the first layer comprising (1) a curing agent which generates free radicals by heating, (2) a radical polymerizable substance, and (3) a composition containing silicone particles is provided. And (5) a conductive film, (2) a radical polymerizable substance, and (3) an adhesive film for wiring terminal connection laminated with a second layer comprising a composition containing silicone particles. Is provided.
  • the present invention provides a wiring terminal connection method for electrically connecting, using the adhesive of the present invention, between connection terminals provided on two or more wiring members.
  • connection method of the present invention includes a first wiring member having a first connection terminal and a second connection terminal having a first connection terminal arranged so that the terminals face each other with the adhesive of the present invention interposed therebetween.
  • the second wiring member is heated while being pressed in the bonding direction to electrically connect the first connection terminal and the second connection terminal.
  • connection method of the present invention is particularly suitable when at least one of the connection terminals has a surface made of gold, silver, tin, a platinum group metal, and / or indium-tin oxide (ITO). is there.
  • at least one of the wiring members has an insulating property. It is suitable when a substrate including equipment and / or glass is provided. Further, in the connection method of the present invention, at least one of the wiring members has at least one of silicon nitride, a silicon compound, and a polyimide resin on the surface. Even in this case, excellent adhesive strength can be obtained.
  • the present invention provides a wiring structure including two or more wiring members each having a connection terminal, wherein the connection terminals of the wiring members are electrically connected using the adhesive of the present invention. You.
  • the wiring structure of the present invention includes, for example, a first wiring member having a first connection terminal and a second wiring member having a second connection terminal with a cured product of the adhesive of the present invention interposed therebetween.
  • the second wiring member has a structure in which a first connection terminal and a second connection terminal are arranged to face each other, and the first connection terminal and the second connection terminal are electrically connected.
  • FIG. 1 and FIG. 2 are explanatory diagrams showing a process of connecting wiring terminals.
  • the curing agent included in the adhesive of the present invention that generates free radicals by heating is a substance that generates free radicals by being decomposed by heating such as a peroxide or an azo compound.
  • This curing agent is Temperature, connection time, pot life, etc. can be selected as appropriate.However, from the viewpoint of high reactivity and the length of the pot life, a temperature with a half-life of 10 hours is required. Organic peroxides with a temperature of at least 40 ° C and a half-life of 1 minute of 180 ° C or less are preferred, and a temperature of half-life of 10 hours is at least 60 ° C and a half-life. Organic peroxides with a 1 minute temperature of 170 ° C or lower are more preferred.
  • the amount of the curing agent is determined by the amount of the radical polymerizable material (if the film forming material is blended, the amount of the radical polymerizable material is required) to obtain a sufficient reaction rate.
  • the film forming material is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight. If the amount of the curing agent is less than 0.1 part by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength and small connection resistance tend to be hardly obtained. If the amount exceeds 30 parts by weight, the fluidity of the adhesive tends to decrease, the connection resistance increases, and the pot life of the adhesive tends to shorten.
  • curing agent suitable for the present invention examples include dicarboxylic acid, peroxy dicarbonate, peroxy ester, peroxy ketal, dialkyl peroxyside, hydroperoxide, and silyl peroxyside.
  • the amount of chlorine ions and organic acids contained in the curing agent is 500 ppm or less, and that the organic acids generated after thermal decomposition are reduced. Fewer are better.
  • peroxyester, dialkyl peroxyside, hydroperoxide, and silyl peroxyside are suitable.
  • a peroki that can provide high reactivity It is desirable to select a curing agent from the ester.
  • the curing agent is
  • One kind of compound may be used, or two or more kinds of compounds may be appropriately used in combination.
  • Preferred peroxyesters for the present invention include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3—tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl 1-methylethyl peroxy neodecanoate, t-hexyl peroxy cine neodecanoate, t-butyl peroxy-bivalate, 1,1,3,3—tetramethylbutyl vinyloxy 2—ethyl Hexanone, 2,5-dimethyl-1,2,5-di (2-ethylhexanolyloxy) hexane, 1-cyclohexyl-1 1-methylethylbenzoyl 2-ethylethylhexanone T-hexylsiloxy-oxy 2 -ethylhexanonone, t-butylperoxy-2- 2-ethylhexanone, t-butylbutyloxybutyrate, 1,1-bis
  • dialkyl peroxides suitable for the present invention include, but are not limited to, 2,5-bis (t-butylperoxy) diisopropylpropylbenzene, dicumylperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t —Butylperoxy) hexane, t-butylalkyl miloxide, and the like.
  • hydroperoxides for the present invention include diisop-opened pyrbenzenebenzene dropperoxide, cumenodidropper oxide and the like.
  • disilver oxides suitable for the present invention include isobutyl peroxide, 2,4-dichloro mouth benzoyl peroxide, 3,5,5—trimethylhexanoyl peroxide, and Kutanoisolepaxide, Lauroinolepaxide, Stearoylpaxide, Skjnykpaxide, Benzolpoxytoluene, Penzolpaxide and the like.
  • Peroxydicarbonates suitable for the present invention include di (n-propyl) peroxydicarbonate, di (isoprobiyl) peroxydicarbonate, bis (4-t) —Butyl cyclohexyl) Veroxy dicarbonate, di (2—ethoxyhexyl) peroxydicarbonate, di (2—ethylhexyl) veroxy dicarbonate, di (methoxybutyl) bioxydicarbonate And di (3-methyl-13-methoxybutyl) oxydicarbonate.
  • the silyl peroxides include t-butyl trimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t_butyl) divinylsilyl peroxide, and Lithium (t_butyl) vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl oxalate bis (t-butyl) diaryloxyside, tris (t-butyl) arylsilyl peroxide, etc. .
  • one compound may be used alone, or two or more compounds may be used in combination. Further, a decomposition accelerator, an inhibitor and the like may be used in combination with these curing agents.
  • Microcapsules obtained by coating these curing agents with a high molecular compound such as a polyurethane or polyester compound are suitable for the present invention because the pot life is extended.
  • the radical polymerizable substance contained in the adhesive of the present invention is a substance having a functional group that can be polymerized by a radical.
  • examples of the radical polymerizable substance include acrylates, methacrylates, and maleimide compounds, and may be in any state of a monomer and an oligomer. A monomer and an oligomer can be used in combination.
  • acrylates and methacrylates suitable for the adhesive of the present invention include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, and isobutyl acrylate.
  • Non-, 2,2-bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxypolyethoxy) phenyl] pronon, dicyclopentenylylac Relate, tricyclodecanyl acrylate, tris (Acryloy kisse), isocyanurate, urethane acrylate, etc., and equivalent methacrylates Are mentioned.
  • Maleimide compounds suitable for the adhesive of the present invention are those containing at least two maleimide groups in the molecule.
  • maleimide compounds include, for example, 1-methyl-1,2,4-bismaleimide benzene, N, N, 1 m-phenylenebismaleimide, N, N, 1p-phenyl Nile bismaleide, N, N '— m—Truille Lenvismaleide, N, N, 1-4, 4-biphenyl Nylene bismaleide, N, N' — 4, 4-(3, 3, 1 dimethyl) 1-biphenylene) bismaleide, N, N'-4,4- (3,3,1-dimethyldiphenylmethane) bismaleide, N, N, 1-4,4- (3,3, -diethyldiphenyl) Bis maleimide, N, N'-4,4 diphenylmethane Bismalei mid, N, N, 14,4-diphenylprononbismaleimid, N, N'-13,3,1-dip
  • compounds having at least one of a dicyclopentenyl group, a tricyclodecanyl group and a triazine ring have improved heat resistance of the cured adhesive. It is preferable.
  • radically polymerizable substances may be used alone or in combination of two or more. If necessary, a polymerization inhibitor such as hydridoquinone or methyl ether hydroquinone may be appropriately used.
  • n 1, 2 or 3
  • Such a radically polymerizable substance having a phosphate structure can be obtained by reacting phosphoric anhydride with 2-hydroxylethyl (meth) acrylate.
  • 2-hydroxylethyl (meth) acrylate Is the mono (2-methacrylic lenoreoxyethyl) acid phosphate, di (2 —Metacryloyloxetil) Acid phosphate.
  • One of these compounds may be used alone, or two or more of them may be used in combination.
  • the compounding amount of the radical polymerizable substance having a phosphate structure is the total amount of the radical polymerizable substance (when the film forming material is contained, the total of the film forming material and the radical polymerizable substance) 100 weight It is preferred to use from 0.01 to 50 parts by weight, and more preferably from 0.5 to 5 parts by weight, per part by weight. If the amount is less than 0.01 part by weight, it is difficult to improve the adhesive strength to an inorganic surface such as a metal, and it may not be possible to obtain the curing properties expected to exceed 50 parts by weight. is there.
  • Silicone particles can be converted to a silane compound (methyltrialkoxysilane, methyltrialkoxysilane, etc.) in an aqueous alcohol solution whose pH has been adjusted to more than 9 with a basic substance such as sodium hydroxide or ammonia.
  • a basic substance such as sodium hydroxide or ammonia.
  • the adhesive of the present invention has an improved dispersibility in the film-forming material / radical polymerizable substance, and has a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a ketimine, a carboxyl group, or a mercapto group at a molecular terminal or a molecular inner chain. Silicone particles having a group are preferred.
  • the surface can be made of silicon nitride or silicon nitride. Very high bonding strength can be obtained even for wiring members containing silicone compounds or polyimide resins.
  • the film is formed using a film forming material. When the film-like adhesive is used, the releasability from the support material is improved, so that the transferability to the electronic material to be connected using the film-like adhesive is improved.
  • spherical or irregular fine particles can be used as the silicone particles, and it is preferable to use fine particles having an average particle diameter of 0.1 to 20 jum. . Further, silicone particles in which particles having an average particle size of not more than 80% by weight or more of the particle size distribution are preferable, and dispersibility in resin is improved. Therefore, the surface of the particles is coated with a silane capping agent. Treated is particularly preferred.
  • the silicone particles in the adhesive of the present invention preferably have a modulus of elasticity at room temperature (25 ° C.) of 0.1 to 100 MPa, which reduces the dispersibility of the particles and the reduction of interfacial stress during connection.
  • a pressure of 1 to 30 MPa is more preferable.
  • the elastic modulus specified here is the elastic modulus of a silicone rubber obtained by polymerizing a silane compound (alkoxysilane compound, its partial hydrolysis condensate, etc.), which is a raw material of silicone particles. It is measured by dynamic wide area viscoelasticity measurement.
  • the silicone particles can be directly mixed with a radical polymerizable substance, a curing agent that generates free radicals by heating, and a film forming material, but can be easily mixed with the film forming material and the radical polymerizable substance. Because they can be dispersed, it is preferable that they are dispersed in an organic solvent and then mixed with these.
  • the blending amount of the silicone particles is 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable substance (when the film forming material is included, the total of the radical polymerizable substance and the film forming material). ⁇ 200 parts by weight are preferred, and 100-50 parts by weight are more preferred. If the amount is less than 5 parts by weight, the surface of the substrate or the wiring member supporting the connection terminals is good. Good adhesive strength and poor releasability from the support material will result. On the other hand, if the content exceeds 200 parts by weight, the cohesive force of the adhesive is reduced, so that good adhesion may not be obtained.
  • Examples of the film-forming material suitable for the present invention include polyvinyl formal resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, polyamide resin, xylene resin, phenolic resin, and polystyrene.
  • Examples include urethane resins.
  • the film forming material is a material that can be handled as a film in a normal state when a liquid composition is solidified into a film shape. Good mechanical properties (the film is easy to handle, and the film does not easily tear, crack, or stick). Is given to the film.
  • a film that can form a self-supporting film is particularly preferable because of its easy handling as a film.
  • a phenoxy resin because of its excellent adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength.
  • the phenoxy resin can be obtained by reacting a bifunctional phenol and an epihalohydrin to a high molecular weight, or by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol.
  • the reaction can be carried out at 40 to 120 ° C.
  • catalysts such as aluminum metal compounds, organic phosphorus compounds, and cyclic amine compounds, amides and ethers with boiling points of 120 ° C or more.
  • organic solvents such as ketones, ketones, lactones, and alcohols, the reaction solids are reduced to 50 parts by weight or less and heated to 50 to 200 ° C to effect a weight addition reaction. The one you got is preferred.
  • bifunctional epoxy resin examples include a bisphenol A epoxy resin, a bisphenol F epoxy resin, a bisphenol A epoxy resin, and a bisphenol S epoxy resin.
  • Bifunctional phenols are compounds having two phenolic hydroxyl groups, such as hydroquinones, bisphenol 8, bisphenol, bisphenol AD, and bisphenol. And bisphenols such as S.
  • the phenoxy resin may be modified with a radically polymerizable functional group.
  • the adhesive of the present invention can provide conduction by direct contact of the wiring terminals to be connected, and thus does not need to include conductive particles in particular.However, when the conductive particles are included, more stable connection is achieved. It is preferable because it can be obtained.
  • the conductive particles suitable for the present invention include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, and carbon particles.
  • the surface layer be made of noble metals such as Au, Ag, and white metal, rather than transition metals such as Ni, Cu, etc. Is preferably A u. Also, N i etc. Particles in which the surface of the transition metal is coated with a noble metal such as Au are also suitable for the present invention.
  • metal particles are suitable for the present invention because they have a deformability due to heating and pressurizing, so that the contact area with the electrode at the time of connection increases and the reliability improves.
  • the thickness of the coating layer is preferably 100 ⁇ or more in order to obtain good resistance.
  • a layer of a noble metal is provided on a transition metal such as Ni, free radicals are generated by oxidation-reduction caused by defects in the noble metal layer generated during mixing and dispersion of conductive particles, and are preserved.
  • the thickness of the coating layer of the noble metal is not less than 300 angstroms in order to avoid deterioration of the properties.
  • the thickness is more than 1 zm, the effect is not improved in proportion to the thickness.Therefore, it is usually desirable that the thickness of the coating layer be l / m or less. The present invention is not limited to this.
  • the conductive particles are properly used in a range of 0.1 to 30 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the adhesive resin component. In order to prevent a short circuit between adjacent wirings due to excessive conductive particles, a volume of 0.1 to 10 is more preferable.
  • the pot life can be further improved. That is, a first layer made of the adhesive of the present invention containing no conductive particles and a second layer made of an adhesive mixed with conductive particles instead of the curing agent are laminated.
  • a film adhesive having a multilayer structure of two or more layers is preferred because of its longer pot life.
  • the adhesive of the present invention may be blended with aryl acrylate and / or aryl methacrylate, if necessary, to improve the adhesive strength.
  • the compounding amount is 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the radical polymerizable substance (when the film-forming material is contained, the total of the film-forming material and the radical polymerizable material).
  • L is preferably 0 parts by weight, more preferably 0.5 to 5 parts by weight.
  • the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of improving the adhesive strength is not sufficiently exhibited.
  • the amount is more than 10 parts by weight, the radical polymerization reactivity is low, so that the reaction is insufficient and good adhesive strength is not obtained. It becomes bad.
  • the adhesive of the present invention includes a polymer or copolymer containing at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methyl acrylate and acrylonitrile as a monomer component.
  • a polymer can be blended.
  • glycidyl acrylate containing a glycidyl ether group and / or copolymer-based acryl rubber containing glycidyl methacrylate monomer is excellent in stress relaxation, so that it is preferable to mix it.
  • the weight average molecular weight of these acrylic rubbers is preferably 200,000 or more from the viewpoint of increasing the cohesive strength of the adhesive.
  • the adhesive of the present invention further includes a filler, a softening agent, an accelerator, an antioxidant, a coloring agent, a flame retardant, a thixotropic agent, a cutting agent, and a resin (fiber).
  • a resin such as a melamine resin), an isocyanate, and the like.
  • the addition of a filler is preferable because connection reliability and the like are improved.
  • the maximum diameter of the particles is less than the size of the conductive particles. Be full. It is preferable that the compounding amount is 5 to 60 parts by volume with respect to 100 parts by volume of the resin component in the adhesive. If it exceeds 60 parts by volume, the effect of improving reliability may be saturated, and if it is less than 5 parts by volume, the effect of addition is small.
  • ketimin, vinyl group, acryl group, amino group, epoxy group and isocyanate group-containing substances are suitable for the present invention from the viewpoint of improving the adhesiveness.
  • silane coupling agent having an amino group examples include N-? (Aminoethyl) dimethylaminosilane and N-5 (aminoethyl) dimethylaminosilane. P-methyldimethoxysilane, phenylaminopropyl triethoxysilane, N-phenylaminopropyl trimethoxysilane, etc.
  • silane coupling agent having a ketimine a silane coupling agent having an amino group described above is reacted with a ketone compound such as acetone, methylethylketone, or methylisobutylketone. Obtained by the above method.
  • the adhesive of the present invention can also be used as a film-like adhesive for bonding an IC (integrated circuit) chip to a chip mounting board or bonding electrical wirings to each other. That is, a filter is provided between a first wiring member having a first connection terminal and a second wiring member having a second connection terminal, the connection terminals being arranged so as to face each other.
  • the first connection terminal and the second connection terminal can be electrically connected by heating and pressurizing with the adhesive (film adhesive) of the present invention formed into a film shape interposed therebetween.
  • Suitable wiring members to be connected according to the present invention include chip components such as semiconductor chips, resistor chips, and capacitor chips, and substrates such as print substrates.
  • connection terminals are usually provided with a large number of connection terminals (in some cases, one connection terminal may be provided). At least one set of the wiring members is arranged with the adhesive of the present invention interposed therebetween so that at least a part of the connection terminals provided on the wiring members face each other, and is heated and heated. By pressing and electrically connecting the opposing connection terminals, a wiring structure (such as a wiring board) including two or more wiring members can be manufactured. The conduction of the wiring terminals thus formed may be realized by direct contact of the wiring terminals, or may be realized through conductive particles in the adhesive.
  • an adhesive layer is formed on the surface of the first connection terminal (circuit electrode), and the second connection terminal (circuit electrode) is opposed to this surface. It can be done by arranging them in such a way as to perform the heating and pressing and heating.
  • the formation of the adhesive layer may be performed by applying a liquid adhesive or the like, or may be performed by placing a film adhesive.
  • the adhesive of the present invention melts and flows at the time of connection to connect the opposed wiring terminals, and then cures to maintain the connection. For this reason, the flowability of the adhesive is an important factor.
  • the adhesive of the present invention is obtained by sandwiching the adhesive of the present invention having a thickness of 35 zm and 5 mm x 5 mm between two glasses having a thickness of 0.7 mm and 15 mm x 15 mm, and When heating and pressurizing under the conditions of ° C, 2 MPa, and 10 seconds, a table is calculated using the initial area (A) and the area after heating and pressurizing (B).
  • the value of the fluidity (B) / (A) to be obtained is preferably from 1.3 to 3.0, more preferably from 1.5 to 2.5. If it is less than 1.3, the fluidity is poor and good connection may not be obtained. If it is more than 3.0, air bubbles are likely to be generated and the reliability may be poor.
  • the adhesive of the present invention preferably has an elastic modulus at 25 ° C. of 100 to 300 MPa after curing, and preferably has an elastic modulus of 300 to 200 MPa. Something is better. When the elastic modulus is in this range, the internal stress of the resin after connection is reduced, which is advantageous for improving the adhesive force, and provides good conduction characteristics.
  • the adhesive of the present invention has a rising temperature (T a) of 70 when measured at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC). C to 110 ° C, the beak temperature (T p) is Ta + 5 to 30 ° C, and the end temperature (T e) is less than 160 ° C. I like it.
  • the silicone particles are hydrolyzed and condensed by adding methyltrimethoxysilane to the aqueous solution of alcohol at pH 12 kept at 20 ° C while stirring at 300 rpm. Obtained by The elastic modulus of the obtained silicone particles at 25 ° C was 8 MPa, and the average particle size was 2 / m.
  • the conductive particles consist of a 0.2 m-thick nickel layer provided on the surface of the polystyrene core particles, and a 0.04 m-thick gold layer provided outside the nickel layer. Prepared. The average particle size of the obtained conductive particles was 10 / m.
  • the urethane acrylate A obtained in the step (1) was 99 g
  • the phosphate ester acrylate manufactured by Kyoeisha Yushi Co., Ltd., trade name: P2M
  • the phosphate ester acrylate was 1 g. g, 30 g of silicone particles, and 5 g of t-hexyloxy1-2-ethylhexanenone (free radical generator), and obtained in step (3).
  • 3% by volume of dispersed conductive particles Agent was obtained.
  • a phenoxy resin manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name: PKHC, average molecular weight: 450,000
  • PKHC average molecular weight: 450,000
  • Z ethyl acetate was dissolved in a mixed solvent of 50/50 to obtain a solution having a solid content of 40% by weight.
  • phenoxy resin 50 g of phenoxy resin, 49 g of urethane acrylate A, lg of phosphate ester acrylate of lg, t-hexyl peroxy-1-ethylhexanoney And 5% of silicone particles, and 3% by volume of conductive particles were mixed and dispersed, and the resulting liquid was treated with PET (polyethylene) with a surface treated on one side with a thickness of 80 / m. Telefilm rate) The film was applied using a coating device and dried with hot air at 70 ° C for 10 minutes to obtain a film adhesive with a thickness of 20 ⁇ m. .
  • Phenoxy resin Z urethane acrylate A / phosphate ester type acrylate / silicone particles / t-hexyl peroxy-1-ethyl hexanoate with a solid weight ratio of 50 g / 49 g / 1 g / 20 g / 5 g (Example 3), 30 g / 69 g / lg / 10 g / 5 g (Example 4), 30 g / 40 g / 3
  • a film-like adhesive was obtained in the same manner as in Example 2 except that 0 g / 10 g / 5 g (Example 5) was used.
  • a film adhesive was obtained in the same manner as in Example 2 except that silicone particles were not used.
  • an IT0 substrate (surface resistance ⁇ 20 ⁇ / port) 10 with an indium-tin oxide (ITO) wiring 12 formed on the surface of 1.1 mm thick glass 11 by vapor deposition Fig.
  • the adhesive layer 15 was formed by applying the adhesive in Example 1 and Comparative Example 1 in which the adhesive was in a liquid state, and in Example 2 in which the adhesive was in a film form.
  • the adhesive was stuck, the connection was made temporarily by heating and pressing at 70 ° C and 0.5 MPa for 5 seconds, and then the PET film was peeled off. I went.
  • a polyimide layer 18 and a copper foil (thickness 18 mm) are adhered to the surface of the adhesive layer 15 with an adhesive 17 and the copper foil is patterned and lined.
  • Wiring board (three-layer FPC) 19 on which wiring 16 with wiring width 50 / m and pitch 100 ⁇ 111 is formed (Fig.
  • a polyimide film (thickness 100 Urn) 22 has a line width 50/111, a pitch 100 mm, and a thickness 18 mm.
  • a flexible wiring board (two-layer FPC) 24 on which 500 copper circuits 23 are formed Fig. 2 (a)
  • the wiring structure 25 is similarly connected to the IT0 board. (Fig. 2 (b)).
  • the resistance between adjacent circuits of the FPC including the wiring connection part was measured with a multimeter immediately after fabrication, and the wiring structure was heated to 85 ° C. After holding for 500 hours in a high-temperature, high-humidity bath at 85% RH, the resistance value was measured in the same manner. In addition, the resistance value was represented by an average of 150 points of resistance between adjacent circuits.
  • a printed circuit board having a comb-shaped circuit having 250 combs each having a line width of 50 ⁇ m, a pitch of 100 mm, and a thickness of 18 / m is alternately arranged with 250 copper circuits.
  • an adhesive layer was formed in the same manner as in (1).
  • a flexible wiring board (FPC) having 500 copper circuits with a line width of 50 / m, a pitch of 100 m, and a thickness of 180 m is placed on the surface of the adhesive layer.
  • heating and pressurization were performed at 160 ° C. and 3 MPa for 10 seconds, and connection was performed over a width of 2 mm to obtain a wiring structure.
  • a voltage of 100 V was applied to the comb-shaped circuit of this wiring structure to measure the insulation resistance, and a high-temperature and high-humidity test at 85 ° C and 85% RH was performed for 500 hours. The subsequent insulation resistance value was measured.
  • the liquid adhesive (Example 1, Comparative Example 1) was poured into a mold, heated at 160 ° C. for 1 minute, and cured to obtain a rod-shaped cured product.
  • the film-like adhesive (Examples 2 to 5, Comparative Example 2) was immersed in a 160-oil oil for 1 minute and cured to obtain a film-like cured product.
  • the storage elastic modulus of these cured products was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (heating rate: 5 ° C / min, 10 Hz), and the elastic modulus at 25 ° C was determined.
  • T a rising temperature
  • T p peak temperature
  • T e end temperature
  • Table 1 shows the results of each of the above evaluation methods.
  • the adhesives of Comparative Examples 1 and 2 did not contain silicone particles.
  • Examples 1 to 5 in which the silicone particles were blended a two-layer FPC in which the polyimide resin was exposed on the surface of the substrate supporting the connection terminals, and a three-layer FPC in which the adhesive was exposed. Even so, the adhesive strength was significantly improved as compared with the comparative example. The adhesive strength after moisture absorption was also large.
  • the substrate supporting the connection terminals is a wiring member made of an insulating organic material such as polyimide resin or glass
  • the surface of the substrate is made of silicone resin or polyimide. Even though the wiring member has a metal resin, it is possible to obtain a good adhesive strength and to manufacture a wiring structure having high connection reliability.

Description

明細書 接着剤、 配線端子の接続方法
及び
配線構造体
技術分野 本発明は、 配線接続用の接着剤と、 それを用いた配線端子の 接続方法及び配線構造体とに関する。
背景技術 近年、 精密電子機器の分野では配線の高密度化が進んでお り 電極幅及び電極間隔がきわめて狭く なつているため、 配線の脱 落、 剥離や位置ずれが生じる恐れがある。 この問題を解決する ため、 低温速硬化性に優れ、 かつ、 可使時間を有する電気 , 電 子用の接着剤組成物が開発されている (例えば特開平 1 1 — 9 7 8 2 5号公報) 。
しかし、 これら従来の配線接続部材は、 接続する配線を構成 する材料の種類によ り接着強度が異なる という問題があった。 特に、 配線端子を支持する基板がポリ イ ミ ド樹脂等の絶縁性有 機物やガラスの場合、 又は、 配線部材表面に窒化シ リ コ ン、 シ リ コーン樹脂、 ポリ イ ミ ド樹脂がコ一ティ ングされ若し く は付 着している場合、 著し く接着強度が低下する という問題があつ た。
発明の開示 本発明は、 電気 , 電子用に適し、 特に配線端子を支持する基 板が絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材や、 表面の少な く とも一部に窒化シ リ コン、 シ リ コーン樹脂及び/又はポリ イ ミ ド樹脂を備える配線部材を接着する場合であっても高い接着 強度を得るこ とができる接着剤と、 それを用いた配線端子の接 続方法及び配線構造体とを提供するこ とを 目的とする。
本発明では、 ( 1 ) 加熱によ り遊離ラジカルを発生する硬化 剤と、 ( 2 ) ラジカル重合性物質と、 ( 3 ) シ リ コーン粒子と を含有する配線端子接続用の接着剤が提供される。 本発明の接 着剤は、 表面に設けられた配線端子が対向するよう に配置され た配線基板の間に介在させ、 この配線基板を加圧しつつ加熱す るこ とによ り、 端子間を電気的に接続するのに用いるこ とがで きる。 なお、 本明細書において、 端子は電極であっても よい。 本発明の接着剤は、 ( 4 ) フ ィ ルム形成材をさ らに含んでい ても よい。 フ ィ ルム形成材と しては、 フ エノキシ樹脂が好適で ある。
また、 本発明の接着剤は、 ( 5 ) 導電性粒子をさ らに含んで いてもよい。 導電性粒子は、 少な く ともその表面が、 金、 銀及 び白金属金属のう ちの少な く ともいずれかを含むこ とが好ま し く、 これらの金属のいずれかによ り表面が覆われている こ とが 望ま しい。
本発明の接着剤におけるシ リ コーン粒子の含有量は、 ラジカ ル重合性物質 1 0 0重量部に対し (フ ィ ルム形成材を含む場合 は、 ラジカル重合性物質とフ ィ ルム形成材との合計 1 0 0重量 部に対し) 、 5 〜 2 0 0重量部である こ とが好ま しい。
また、 本発明の接着剤に用いられるシ リ コーン粒子は、 2 5 °C (室温) での弾性率が 0 . 1 〜 : L 0 0 M P aであるこ とが 望ま しい。
また、 本発明では、 ( 1 ) 加熱によ り遊離ラジカルを発生す る硬化剤、 ( 2 ) ラジカル重合性物質及び ( 3 ) シ リ コーン粒 子を含有する組成物からなる第 1 の層と、 ( 5 ) 導電性粒子、 ( 2 ) ラジカル重合性物質及び ( 3 ) シ リ コーン粒子を含有す る組成物からなる第 2の層とが積層されている、 配線端子接続 用接着フ ィ ルムが提供される。
さ らに、 本発明では、 二以上の配線部材にそれそれ設けられ た接続端子の間を、 本発明の接着剤を用いて電気的に接続する 配線端子の接続方法が提供される。
本発明の接続方法は、 間に本発明の接着剤を介在させた状態 で互いに端子が対向するよう に配置された第一の接続端子を有 する第一の配線部材と第二の接続端子を有する第二の配線部材 とを、 接着方向に加圧しつつ加熱して、 第一の接続端子と第二 の接続端子を電気的に接続させる ものである。
本発明の接続方法は、 特に、 接続端子の少な く とも一つが、 表面が金、 銀、 錫、 白金族の金属、 及び/又は、 イ ンジユウム —錫酸化物 (ITO ) からなる場合に好適である。 また、 本発明 の接続方法は、 配線部材のう ちの少な く とも一つが、 絶縁性有 機物及び/又はガラスを含む基板を備える場合に好適である。 さ らに、 本発明の接続方法は、 配線部材の少な く とも一つが、 表面に、 窒化シ リ コ ン、 シ リ コ一ン化合物及びポリイ ミ ド樹脂 のう ちの少な く ともいずれかを備える場合であっても、 優れた 接着強度を得ることができる。
さ らに、 本発明では、 それぞれ接続端子を有する二以上の配 線部材を備え、 配線部材の接続端子間が本発明の接着剤を用い て電気的に接続されている配線構造体が提供される。
本発明の配線構造体は、 例えば、 間に本発明の接着剤の硬化 物を介在させた状態で、 第一の接続端子を有する第一の配線部 材と、 第二の接続端子を有する第二の配線部材とが、 第一の接 続端子と第二の接続端子が対向配置され、 第一の接続端子と第 二の接続端子が電気的に接続されているという構造を有する。
図面の簡単な説明 図 1及び図 2は、 配線端子の接続工程を示す説明図である
発明を実施するための最良の形態
( 1 ) 加熱によ り遊離ラジカルを発生する硬化剤
本発明の接着剤に含まれる、 加熱によ り遊離ラジカルを発生 する硬化剤は、 過酸化物、 ァゾ化合物などの加熱によ り分解し て遊離ラジカルを発生する物質である。 この硬化剤は、 目的と する接続温度、 接続時間、 ポッ ト ライ フ等によ り適宜選定する こ とができるが、 反応性の高さ及びポッ ト ライ フの長さの点か ら、 半減期 1 0時間の温度が 4 0 °C以上、 かつ、 半減期 1分の 温度が 1 8 0 °C以下の有機過酸化物が好ま し く、 半減期 1 0時 間の温度が 6 0 °C以上、 かつ、 半減期 1分の温度が 1 7 0 °C以 下の有機過酸化物がよ り好ま しい。
接続時間を 1 0秒以下とする場合、 硬化剤の配合量は、 十分 な反応率を得るためにラ ジカル重合性物質 ( フ ィ ルム形成材が 配合されている場合は、 ラ ジカル重合性物質とフ ィ ルム形成材 との合計) 1 0 0重量部に対して、 0 . 1 ~ 3 0重量部とする こ とが好ま し く、 1 〜 2 0重量部がよ り好ま しい。 硬化剤の配 合量が 0 . 1重量部未満では、 十分な反応率を得るこ とができ ず良好な接着強度や小さな接続抵抗が得られに く く なる傾向に ある。 配合量が 3 0重量部を超える と、 接着剤の流動性が低下 した り、 接続抵抗が上昇した り、 接着剤のポッ ト ライ フが短く なる傾向にある。
本発明に好適な硬化剤と しては、 ジァシルバ一ォキサイ ド、 パ一ォキシジカーボネー ト、 パーォキシエステル、 パーォキシ ケタール、 ジアルキルパーォキサイ ド、 ハイ ドロパーォキサイ ド、 シ リルパーォキサイ ドなどが挙げられる。
配線部材の接続端子の腐食を押さえるため、 硬化剤中に含有 される塩素イオンや有機酸は 5 0 0 O p p m以下であるこ とが 好ま し く、 さ らに、 加熱分解後に発生する有機酸が少ないもの がよ り好ま しい。 具体的には、 パーォキシエステル、 ジアルキ ルパーォキサイ ド、 ハイ ド ロパーォキサイ ド、 シ リルパーォキ サイ ドなどが好適である。 特に、 高反応性が得られるパーォキ シエステルから硬化剤を選定するこ とが望ま しい。 硬化剤は、
1種類の化合物を用いても よ く 、 2種以上の化合物を適宜併用 しても よい。
本発明に好適なパーォキシエステルと しては、 ク ミルパ一ォ キシネオデカノエー 卜、 1 , 1 , 3 , 3 —テ トラメチルブチル パーォキシネオデカノエ一 ト、 1 ーシクロへキシルー 1 —メチ ルェチルパーォキシネオデカノエ一 ト、 t 一 へキシルパーォキ シネオデカノデー ト、 t —プチルパーォキシビバレー ト、 1 , 1 , 3 , 3 —テ トラメチルブチルバ一ォキシ一 2 —ェチルへキ サノネ一 ト、 2 , 5 —ジメチル一 2 , 5 —ジ ( 2 —ェチルへキ サノィルパ一ォキシ) へキサン、 1—シク ロへキシル一 1—メ チルェチルバ一ォキシ一 2 — ェチルへキサノネ一 ト、 t 一 へキ シルバーォキシ一 2 — ェチルへキサノネ一 ト、 t —ブチルパー ォキシ— 2 —ェチルへキサノネ一 ト、 t —ブチルバ一ォキシィ ソブチレー ト、 1 , 1 一ビス ( t —ブチルパーォキシ) シクロ へキサン、 t —へキシルバーォキシィ ソプロ ピルモノ カーボネ ー ト、 t 一プチルパ一ォキシ一 3 , 5 , 5 — ト リ メチルへキサ ノネー ト、 t ーブチルバ一ォキシラウ レー ト、 2 , 5 —ジメチ ル一 2 , 5 —ジ (m— トルオイルバーオキシ) へキサン、 t— ブチルパーォキシィ ソプロ ピルモノカーボネー ト、 t —ブチル パーォキシ一 2 一ェチルへキシルモノ カーボネー ト、 t —へキ シルパ一ォキシベンゾェ一 ト、 t —ブチルパーォキシァセテ一 ト等が挙げられる。
本発明に好適なジアルキルパーォキサイ ド と しては、 ひ , ひ , 一ビス ( t 一ブチルパ一ォキシ) ジイ ソプロ ピルベンゼン、 ジク ミルパ一オキサイ ド、 2 , 5 —ジメチルー 2 , 5 —ジ ( t —ブチルパーォキシ) へキサン、 t —プチルク ミルパ一ォキサ ィ ド等が挙げられる。
本発明に好適なハイ ドロパーォキサイ ド と しては、 ジイ ソプ 口 ピルベンゼンノヽィ ドロパーォキサイ ド、 クメ ンノヽィ ドロパー オキサイ ド等が挙げられる。
本発明に好適なジァシルバーォキサイ ド と しては、 イ ソプチ ルパーオキサイ ド、 2 , 4—ジク ロ口ベンゾィルパーォキサイ ド、 3 , 5 , 5 — ト リ メチルへキサノ ィルパーオキサイ ド、 ォ クタノィゾレパ一ォキサイ ド、 ラ ウロイノレパーォキサイ ド、 ステ ァロイルパ一ォキサイ ド、 スク シニッ クパーォキサイ ド、 ベン ゾィルパ一ォキシ トルエン、 ペンゾィルパ一ォキサイ ド等が挙 げられる。
本発明に好適なパーォキシジカーボネー ト と しては、 ジ ( n —プロビル) パーォキシジカーボネー ト、 ジ (イ ソプロ ビル) パーォキシジカーボネー ト、 ビス ( 4— t —プチルシク ロへキ シル) バーオキシジカーボネー ト、 ジ ( 2 —エ トキシェチル) パーォキシジカーボネー ト、 ジ ( 2 —ェチルへキシル) バーオ キシジカーボネー ト、 ジ (メ トキシプチル) バーオキシジ力一 ボネー ト、 ジ ( 3 —メチル一 3 メ トキシブチル) パ一ォキシジ カーボネー ト等が挙げられる。
パーォキシケ夕一ルと しては、 1 , 1 —ビス ( t — へキシル パーォキシ) 一 3 , 3 , 5 — ト リ メチルシク ロへキサン、 1 , 1 —ビス ( t—へキシルパーォキシ) シク ロへキサン、 1 , 1 — ビス ( t —プチルパ一ォキシ) _ 3 , 3 , 5 — ト リ メチルシ クロへキサン、 1 , 1一ビス ( t —ブチルパーォキシ) シク ロ ドデカン、 2 , 2 — ビス ( t—ブチルパーォキシ) デカ ン等が 挙げられる。
シ リルパーォキサイ ドと しては、 t —ブチル ト リメチルシ リ ルパ一ォキサイ ド、 ビス ( t —プチル) ジメチルシ リルパーォ キサイ ド、 t —ブチル ト リ ビニルシ リルパーオキサイ ド、 ビス ( t _プチル) ジビニルシ リルパーオキサイ ド、 ト リ ス ( t _ ブチル) ビニルシ リルパ一オキサイ ド、 t —ブチル ト リ アリル シ リル ォキサイ ビス ( t —プチル) ジァ ルシ ル ーォキサイ ド、 ト リス ( t —プチル) ァリルシ リルパーォキサ ィ ド等が挙げられる。
これらの加熱によ り遊離ラジカルを発生する硬化剤は、 その う ち 1種類の化合物を単独で用いても よ く、 2種以上の化合物 を併用してもよい。 また、 これらの硬化剤に分解促進剤、 抑制 剤等を併用 してもよい。
これらの硬化剤をポ リ ウ レタ ン系、 ポリエステル系などの高 分子化合物等で被覆してマイ ク ロカプセル化したものは、 可使 時間が延長されるために本発明に好適である。
( 2 ) ラジカル重合性物質
本発明の接着剤に含まれるラジカル重合性物質は、 ラジカル によ り重合するこ とのできる官能基を有する物質である。 この ラジカル重合性物質と しては、 ァク リ レー ト、 メ タク リ レー ト、 マレイ ミ ド化合物等が挙げられ、 モノマー及びオ リ ゴマーのい ずれの状態でも よい。 モノマーとオリ ゴマーとを併用するこ と もできる。
本発明の接着剤に好適なァク リ レー ト及びメ タ ク リ レー トの 具体例と しては、 メチルァク リ レー ト、 ェチルァク リ レー ト、 イ ソプロ ピルァク リ レー ト、 イ ソブチルァク リ レー ト、 ェチレ ングリコ一ルジァク リ レー ト、 ジエチレングリ コールジァク リ レー ト、 ト リメチロールプロノ ン ト リ ァク リ レー ト、 テ トラメ チロールメ タ ンテ ト ラァク リ レー ト、 2— ヒ ドロキシ一 1, 3 —ジァク リ ロキシプロ ノ ン、 2 , 2— ビス [ 4— (ァク リ ロキ シメ トキシ) フ エニル] プロパン、 2, 2— ビス [ 4— (ァク リ ロキシポ リエ トキシ) フ エニル] プロ ノ ン、 ジシク ロペンテ ニルァク リ レー ト、 ト リ シクロデカニルァク リ レー ト、 ト リス (ァク リ ロイ 口キシェチル) イ ソシァヌ レー ト、 ウ レ夕 ンァク リ レー ト等、 及びこれらに相当するメ 夕ク リ レー トが挙げられ る。
本発明の接着剤に好適なマレイ ミ ド化合物は、 分子中にマレ イ ミ ド基を少な く とも 2個以上含有するものである。 このよう なマレイ ミ ド化合物と しては、 例えば、 1 —メチル一 2, 4— ビスマレイ ミ ドベンゼン、 N, N, 一 m—フ エ二レンビスマレ イ ミ ド、 N, N, 一 p—フ エ二レ ンビスマレイ ミ ド、 N, N ' — m— トルイ レンビスマレイ ミ ド、 N, N, 一 4 , 4ービフ エ 二レンビスマレイ ミ ド、 N , N ' — 4, 4 - ( 3 , 3, 一ジメ チル一ビフ エ二レン) ビスマレイ ミ ド、 N, N ' - 4 , 4 - ( 3, 3, 一ジメチルジフ エニルメタ ン) ビスマレイ ミ ド、 N, N, 一 4, 4 - ( 3, 3, ージェチルジフ エニルメ タ ン) ビス マレイ ミ ド、 N, N ' - 4 , 4ージフ エニルメ タ ンビスマレイ ミ ド、 N, N, 一 4, 4—ジフ エニルプロ ノ ンビスマレイ ミ ド、 N, N ' 一 3 , 3, 一ジフ エニルスルホンビスマレイ ミ ド、 N, N' — 4, 4—ジフ エニルエーテルビスマレイ ミ ド、 2, 2 - ビス {4— ( 4—マレイ ミ ドフ ヱノキシ) フ エ二ル} プロパン、 2, 2— ビス { 3— s—ブチル一 4 , 8— ( 4—マレイ ミ ドフ エノキシ) フ エ二ル } プロ ノ ン、 1 , 1 —ビス { 4— ( 4—マ レイ ミ ドフ エノキシ) フエ二ル} デカン、 4, 4 , 一シクロへ キシ リデン一ビス { 1 — ( 4一マレイ ミ ド フ エ ノキシ) フ エ二 ル } — 2 —シク ロへキシルベンゼン、 2 , 2 —ビス { 4 一 ( 4 一マレイ ミ ドフ エノ キシ) フエ二ル} へキサフルォロプロパン 等が挙げられる。
これらのラジカル重合性物質のう ち 、 ジシクロペンテニル基. ト リ シク ロデカニル基及び ト リ アジン環のう ちの少な く とも一 つ以上を有する化合物は、 接着剤硬化物の耐熱性が向上するた め好ま しい。
なお、 これらのラジカル重合性物質は、 1種類を単独で用い ても よ く、 2種以上を併用してもよい。 必要によっては、 ノヽ ィ ドロキノ ン、 メチルエーテルハイ ドロキノ ン類などの重合禁止 剤を適宜用いてもよい。
また、 上述のラジカル重合性物質に 、 下記化学式 ( I ) で表 わされる リ ン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質を併 用する と、 金属等の無機物表面での接着強度が向上するので好 ま しい。
(
Figure imgf000011_0001
(ただし、 nは 1 , 2 又は 3である)
このよう な リ ン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質 は、 無水 リ ン酸と 2 — ヒ ド ロキシェチル (メ タ) ァク リ レー ト とを反応させる こ とによ り得られ、 具体的には、 モノ ( 2 —メ タク リ ロイノレオキシェチル) アシッ ドフォスフ エ一 ト、 ジ ( 2 —メ タク リ ロイルォキシェチル) ァシッ ドフォスフェー ト等が 挙げられる。 これらは 1種類の化合物を単独で用いて も よ く 、 2種以上を併用 しても よい。
リ ン酸エステル構造を有するラジカル重合性物質の配合量は、 ラジカル重合性物質の全量 (フ ィ ルム形成材を含む場合は、 フ イルム形成材とラジカル重合性物質との合計) 1 0 0重量部に 対し、 0 . 0 1 ~ 5 0重量部用いるのが好ま し く、 0 . 5〜 5 重量部がよ り好ま しい。 0 . 0 1 重量部未満では、 金属等の無 機物表面との接着強度の向上が得られに く く、 5 0重量部を超 える と期待される硬化特性が得られな く なる場合がある。
( 3 ) シ リ コーン粒子
シ リ コーン粒子は、 例えば、 水酸化ナ ト リ ウムやアンモニア 等の塩基性物質によ り p Hを 9 よ り大き く 調整したアルコール 水溶液に、 シラ ン化合物 (メ チル ト リ アルコ キシシラ ン、 その 部分加水分解縮合物など) を添加し、 これを加水分解して重縮 合させる方法や、 オルガノ シロキサンの共重合等によ り得るこ とができる。
本発明の接着剤には、 フ ィルム形成材ゃラジカル重合性物質 への分散性が向上するため、 分子末端又は分子内側鎖に水酸基、 エポキシ基、 ケチミ ン、 カルボキシル基、 メルカプ ト基などの 官能基を有するシ リ コーン粒子が好ま しい。
本発明では、 接着剤にシ リ コーン粒子を含有させるこ とで、 接続端子を支持する基板が絶縁性有機物又はガラスからなる配 線部材であっても、 また、 表面が窒化シ リ コ ン、 シ リ コーン化 合物又はポ リ イ ミ ド樹脂を含む配線部材であっても、 非常に高 い接着強度が得られる。 また、 フ ィ ルム形成材を用いてフ ィ ル ム状にした場合、 支持材との剥離性が向上するため、 このフ ィ ルム状接着剤を用いて接続する電子材料に対する転写性が向上 する。
本発明では、 シ リ コーン粒子と して球状又は不定形の微粒子 を用いるこ とができ、 粒子の平均粒径が 0 . l 〃 m〜 2 0 ju m の微粒子を使用するこ とが好ま しい。 また、 平均粒径以下の粒 子が微粒子の粒径分布の 8 0重量%以上を占めるシ リ コーン粒 子が好ま し く、 樹脂に対する分散性が向上するため、 粒子表面 をシランカ ヅプリ ング剤で処理したものが特に好ま しい。
本発明の接着剤におけるシ リ コーン粒子の室温 ( 2 5 °C ) に おける弾性率は 0 . 1 〜 1 0 0 M P aが好ま し く 、 粒子の分散 性や接続時の界面応力の低減のためには、 1 〜 3 0 M P a とす るこ とがよ り好ま しい。 なお、 ここで規定した弾性率は、 シ リ コーン粒子の原料であるシラ ン化合物 (アルコキシシラ ン化合 物、 その部分加水分解縮合物など) を重合させたシ リ コーンゴ ムの弾性率であ り、 動的広域粘弾性測定によ り測定される。
シ リ コーン粒子は、 ラジカル重合性物質、 加熱によ り遊離ラ ジカルを発生する硬化剤、 フ ィルム形成材に直接混合するこ と もできるが、 フ ィルム形成材ゃラジカル重合性物質に容易に分 散できるため、 有機溶剤に分散させた後にこれら と混合するこ とが好ま しい。
シ リ コーン粒子の配合量は、 ラジカル重合性物質の総量 (フ イルム形成材が含まれる場合には、 ラジカル重合性物質とフ ィ ルム形成材との合計) 1 0 0重量部に対し、 5 ~ 2 0 0重量部 が好ま し く、 1 0〜 5 0重量部がよ り好ま しい。 5重量部未満 である と、 接続端子を支持する基板や配線部材表面に対する良 好な接着強度や支持材との剥離性が劣るよう になる。 また、 2 0 0重量部を超える と、 接着剤の凝集力が低下するため良好な 接着が得られない恐れがある。
( 4 ) フ ィ ルム形成材
本発明に好適なフ ィ ルム形成材と しては、 ポリ ビニルホルマ —ル樹脂、 ポリスチレ ン樹脂、 ポリ ビニルプチラール樹脂、 ポ リエステル樹脂、 ポ リ アミ ド樹脂、 キシレ ン樹脂、 フ ヱノキシ 樹脂、 ポリ ウレタ ン樹脂等が挙げられる。
フ ィ ルム形成材とは、 液状の組成物を固形化してフ ィ ルム形 状と した場合に、 通常の状態でフ イルムと しての取扱いができ るようにするもの、 すなわち、 フ ィルムと しての良好な機械特 性 (形成されるフ ィ ルムの取扱いが容易であ り、 フ ィルムが容 易に裂けた り、 割れた り、 ベたついた り しないなどの特性) を 形成される フ ィルムに付与するものである。 フィ ルムと しての 取扱いの容易さから、 特に自己支持性フ ィ ルムを形成するこ と ができるものが好ま しい。
このような特性を付与するこ とのできる化合物の中でも、 接 着性、 相溶性、 耐熱性、 機械強度に優れるこ とから、 フ エノキ シ樹脂を用いるこ とが好ま しい。 フ エノキシ樹脂は、 二官能フ ェノール類とェピハロ ヒ ド リ ンとを高分子量まで反応させるか、 又は、 二官能エポキシ樹脂と二官能フ エノール類を重付加させ るこ とによ り得られる。
具体的には、 例えば、 二官能フ ヱノール類 1 モルとェピハ口 ヒ ド リ ン 0 . 9 8 5 ~ 1 . 0 1 5 モルとを、 アルカ リ金属水酸 化物の存在下、 非反応性溶媒中で 4 0〜 1 2 0 °Cで反応させる こ とによ り得る こ とができる。 樹脂の機械的特性や熱的特性の点からは、 特に、 二官能性ェ ポキシ樹脂と二官能性フエノール類との配合等量比をエポキシ 基/フ エ ノ ール水酸基 = 1 / 0 . 9〜 1ノ 1 . 1 と し、 アル力 リ金属化合物、 有機リ ン系化合物、 環状アミ ン系化合物等の触 媒の存在下で、 沸点が 1 2 0 °C以上のアミ ド系、 エーテル系、 ケ ト ン系、 ラク ト ン系、 アルコール系等の有機溶剤中で、 反応 固形分を 5 0重量部以下と し、 5 0〜 2 0 0 °Cに加熱して重付 加反応させて得たものが好ま しい。
二官能エポキシ樹脂と しては、 ビスフ エノール A型エポキシ 樹脂、 ビス フ エ ノール F型エポキシ樹脂、 ビス フ エノ ール A D 型エポキシ樹脂、 ビスフエノール S型エポキシ樹脂などが挙げ られる。 二官能フエノール類は、 2個のフ エノール性水酸基を 持つ化合物であ り、 例えば、 ハイ ドロキノ ン類、 ビス フ エノ ー ル八、 ビス フ エ ノール 、 ビス フ エノ ール A D、 ビス フ エノ ー ル S等のビスフ エノール類などが挙げられる。 フ エノキシ樹脂 はラジカル重合性の官能基によ り 変性されていてもよい。
( 5 ) 導電性粒子
本発明の接着剤は、 接続する配線端子の直接接触によ り導通 が得られるため、 特に導電性粒子を含んでいる必要はないが、 導電性粒子を含有する と、 よ り安定した接続が得られるため好 ま しい。
本発明に好適な導電性粒子と しては、 A u、 A g、 N i、 C u、 はんだ等の金属粒子や、 カーボン粒子等が挙げられる。 十 分なポッ ト ライ フを得るためには、 N i、 C u等の遷移金属類 ではな く A u、 A g、 白金属の貴金属類が表層であるこ とが好 ま し く、 特に表面が A uであるこ とが好ま しい。 また、 N i等 の遷移金属類の表面を A u等の貴金属類で被覆した粒子も、 本 発明に好適である。
また、 非導電性のガラス、 セラ ミ ック、 プラスチック等の粒 子表面に、 上述の金属からなる導通層を形成するこ とによ り、 最外層を貴金属類と した複合粒子や、 熱溶融金属粒子は、 加熱 加圧による変形性を有するので、 接続時に電極との接触面積が 増加し信頼性が向上するこ とから、 本発明に適している。
なお、 表面に貴金属類の被覆層を備える複合粒子を用いる場 合、 良好な抵抗を得るため、 当該被覆層の厚さは 1 0 0オング ス ト ローム以上とするこ とが好ま しい。 特に、 N i等の遷移金 属の上に貴金属類の層をも うける場合、 導電性粒子の混合分散 時に生じる貴金属類層の欠損等によ り生じる酸化還元作用で遊 離ラジカルが発生し保存性低下を引き起こすこ とを回避するた め、 貴金属類による被覆層の厚さは 3 0 0オングス ト ローム以 上とするこ とが好ま しい。 ただ し、 1 z mよ り厚く しても、 効 果が厚さに比例して改善される ものではないため、 通常、 被覆 層の厚さは l / m以下にするこ とが望ま しいが、 本発明はこれ に制限されるものではない。
導電性粒子は、 接着剤樹脂成分 1 0 0体積部に対して 0 . 1 - 3 0体積部の範囲で用途によ り使い分ける。 過剰な導電性粒 子による隣接配線の短絡等を防止するためには 0 . 1 〜 1 0体 積部とするのがよ り好ま しい。
なお、 導電性粒子が硬化剤と接触しない構造とする と、 さ ら にポッ ト ライ フを向上させるこ とができる。 すなわち、 導電性 粒子を含まない本発明の接着剤からなる第 1 の層と、 硬化剤に 代えて導電性粒子を配合した接着剤からなる第 2 の層とを積層 させた 2層以上の多層構造のフ ィ ルム状接着剤は、 さ らにポッ トライ フが長いため好ま しい。
( 6 ) その他の添加剤
本発明の接着剤には、 接着強度改善のため、 必要に応じてァ リルァク リ レー ト及び/又はァ リルメ 夕ク リ レー ト を配合して もよい。 その配合量は、 ラジカル重合性物質の総量 (フ ィルム 形成材を含有する場合は、 フ ィ ルム形成材とラ ジカル重合性物 質との合計) 1 0 0重量部に対し、 0 . 1 〜 : L 0重量部とする こ とが好ま し く、 0 . 5〜 5重量部とするこ とがよ り好ま しい。 0 . 1重量部未満である と接着強度改善の効果が十分発揮され ず、 1 0重量部を超える とラジカル重合反応性が低いために反 応不足が生じて良好な接着強度が得られに く く なる。
また、 本発明の接着剤には、 アク リル酸、 アク リル酸エステ ル、 メ夕ク リル酸エステル及びァク リ ロニ ト リソレのう ち少な く とも一つをモノマー成分と した重合体又は共重合体を配合する こ とができる。 特に、 グリ シジルエーテル基を含有するグリ シ ジルァク リ レー ト及び/又はグリ シジルメ タク リ レー トモノマ 一を含む共重合体系アク リルゴムは、 応力緩和に優れるため、 配合するこ とが好ま しい。 これらアク リルゴムの重量平均分子 量は、 接着剤の凝集力を高める点から 2 0万以上が好ま しい。
本発明の接着剤には、 さ らに、 充填剤、 軟化剤、 促進剤、 老 化防止剤、 着色剤、 難燃化剤、 チキソ ト ロ ピック剤、 カ ツプリ ング剤、 樹脂類 (フ エ ノ 一ル樹脂ゃメ ラ ミ ン樹脂など) 、 及び、 イ ソシァネー ト類等を配合して も よい。
充填剤の配合は、 接続信頼性等が向上するため好ま しい。 充 填剤を用いる場合、 その粒子の最大径は、 導電性粒子の粒径未 満とする。 また、 その配合量は、 接着剤における樹脂成分 1 0 0体積部に対して 5 〜 6 0体積部とするこ とが好ま しい。 6 0 体積部を超える と信頼性向上の効果が飽和するこ とがあ り、 5 体積部未満では添加の効果が少ない。
カ ヅプリ ング剤と してはケチミ ン、 ビニル基、 アク リル基、 アミ ノ基、 エポキシ基及びイ ソシァネー ト基含有物が、 接着性 の向上の点から本発明に好適である。
アミ ノ基を有するシランカ ップリ ング剤と しては、 例えば、 N - ? (アミ ノエチル) ァ 一ァミ ノ プロビル ト リ メ トキシシラ ン、 N— 5 (ア ミ ノ エチル) ァ 一ァ ミ ノ プロ ピルメ チルジメ ト キシシラ ン、 ァ 一ァ ミ ノ プロ ビル ト リ エ ト キシシラ ン、 N — フ ェニル一ァ 一アミ ノ プロ ビル ト リ メ トキシシラン等が挙げられ o
ケチミ ンを有するシランカ ップリ ング剤と しては、 上述のァ ミ ノ基を有するシラ ンカ ップリ ング剤に、 アセ ト ン、 メチルェ チルケ ト ン、 メチルイ ソプチルケ ト ン等のケ ト ン化合物を反応 させて得られたものが挙げられる。
( 7 ) 用途
本発明の接着剤は、 I C (集積回路) チッ プとチップ搭載基 板との接着や、 電気配線相互の接着用のフ ィ ルム状接着剤と し て使用するこ ともできる。 すなわち、 接続端子が互いに対向す るよう に して配置された第一の接続端子を有する第一の配線部 材と第二の接続端子を有する第二の配線部材との間に、 フ ィ ル ム状に成形した本発明の接着剤 ( フ ィ ルム状接着剤) を介在さ せ、 加熱加圧して第一の接続端子と第二の接続端子とを電気的 に接続させるこ とができる。 本発明による接続の対象と して好適な配線部材と しては、 半 導体チップ、 抵抗体チップ、 コ ンデンサチップといったチヅプ 部品や、 プリ ン ト基板等の基板などが挙げられる。 これらの配 線部材には、 接続端子が通常は多数 (場合によっては一つでも よい) 設けられている。 この配線部材の少な く とも 1組を、 そ れらに設けられた接続端子の少な く とも一部が対向するよう に、 間に本発明の接着剤を介在させて配置し、 加熱しつつ加圧して 対向する接続端子間を電気的に接続するこ とによ り、 2以上の 配線部材を備える配線構造体 (配線板など) を製造することが できる。 なお、 これによ り形成される配線端子の導通は、 配線 端子の直接接触によ り実現されてもよ く、 接着剤中の導電性粒 子を介して実現されてもよい。
本発明の配線端子の接続は、 例えば、 第 1の接続端子 (回路 電極) 表面に接着剤層を形成し、 この表面に、 第 2の接続端子 (回路電極) を、 接続端子どう しが対向するよう に位置合わせ して配置し、 加熱及び加圧するこ とによ り行う こ とができる。 接着剤層の形成は、 液状接着剤の塗布等によ り行っても よ く 、 また、 フ ィルム状接着剤を載置するこ とによ り行ってもよい。
( 8 ) 接着剤の物性
本発明の接着剤は、 接続時に溶融流動して相対向する配線端 子を接続させた後、 硬化してその接続を保持するものである。 このため、 接着剤の流動性は重要な因子である。 本発明の接着 剤は、 厚さ 0. 7 mm、 1 5 mmx l 5 mmのガラス 2枚の間 に、 厚さ 3 5 zm、 5 mmx 5 mmの本発明の接着剤を挟み、 1 5 0°C、 2 MP a、 1 0秒の条件で加熱及び加圧を行った場 合に、 初期の面積 (A) と加熱加圧後の面積 (B ) を用いて表 される流動性 ( B ) / ( A ) の値が 1 . 3〜 3 . 0であるこ と が好ま し く、 1 . 5〜 2 . 5であるこ とがよ り好ま しい。 1 . 3未満では流動性が悪く、 良好な接続が得られない場合があ り、 3 . 0を超える場合は、 気泡が発生しやすく信頼性に劣る場合 がある。
また、 本発明の接着剤は、 硬化後の 2 5 °Cでの弾性率が 1 0 0 ~ 3 0 0 0 M P aであるこ とが好ま し く、 3 0 0〜 2 0 0 0 M P aであるこ とがよ り好ま しい。 この範囲に弾性率がある場 合、 接続後の樹脂の内部応力が低減されるため接着力の向上に 有利であ り、 かつ、 良好な導通特性が得られる。
本発明の接着剤は、 示差走査熱量計 (DSC) による昇温速度 1 0 °C /分での測定において、 発熱量の立ち上が り温度 ( T a ) が 7 0。C〜 1 1 0 °Cであ り、 ビーク温度 ( T p ) が T a + 5〜 3 0 °Cであ り、 かつ、 終了温度 ( T e ) が 1 6 0 °C以下で あるこ とが好ま しい。
実施例
A . 接着剤の調製
<実施例 1 >
( 1 ) ウレタ ンァク リ レー トの合成
平均分子量 8 0 0のポリ 力プロ ラク ト ンジオール 4 0 0重量 部と、 2 —ヒ ドロキシプロ ピルァク リ レー ト 1 3 1重量部と、 触媒と してジブチル錫ジラ ウレー ト 0 . 5重量部と、 重合禁止 剤と してハイ ドロキノ ンモノメチルエーテル 1 . 0重量部とを 撹拌しながら 5 0 °Cに加熱して混合した。 次いで、 イ ソホロ ン ジイ ソシァネー ト 2 2 2重量部を滴下し、 さ らに撹拌しながら 8 0 °Cに昇温してウ レタン化反応を行った。 イ ソシァネー ト基 の反応率が 9 9 %以上になったこ とを確認後、 反応温度を下げ てウ レ夕 ンァク リ レー ト Aを得た。
( 2 ) シ リコ一ン粒子の合成
シ リコーン粒子は、 2 0 °Cに保持した p H 1 2 のアルコール 水溶液を 3 0 0 r p mで撹拌しつつ、 これにメチル ト リ メ トキ シシラ ンを添加して、 加水分解及び縮合させるこ とによ り得た。 得られたシ リ コーン粒子の 2 5 °Cにおける弾性率は 8 M P a 、 平均粒径は 2 / mであった。
( 3 ) 導電性粒子の調製
導電性粒子は、 ポ リ スチレンを核とする粒子の表面に、 厚さ 0 . 2 mのニッケル層を設け、 このニッケル層の外側に厚さ 0 . 0 4 mの金層を設けるこ とによ り調製した。 得られた導 電性粒子の平均粒径は 1 0 / mであった。
( 4 ) 接着剤の調製
工程 ( 2 ) で得られたシ リ コーン粒子 1 0 0重量部を、 重量 比で トルエン/酢酸ェチル = 5 0 / 5 0の混合溶剤 1 0 0重量 部に分散した。
固形重量比で、 工程 ( 1 ) で得られたウ レタンァク リ レー ト Aが 9 9 g、 リ ン酸エステル型ァク リ レー ト (共栄社油脂株式 会社製、 商品名 : P 2 M ) が 1 g、 シ リ コーン粒子が 3 0 g 、 t —へキシルバーォキシ一 2 — ェチルへキサノネ一ト (遊離ラ ジカル発生剤) が 5 g となるよう に配合し、 さ ら に工程 ( 3 ) で得られた導電性粒子を 3体積%配合分散させて、 液状の接着 剤を得た。
<実施例 2 >
フ エノ キシ樹脂 (ユニオンカーバイ ド株式会社製、 商品名 P K H C、 平均分子量 4 5 0 0 0 ) 5 0 gを、 重量比で トルエン (沸点 1 1 0. 6 °C、 S P値 8. 9 0 ) Z酢酸ェチル (沸点 7 7. 1 °C、 S P値 9. 1 0 ) = 5 0 / 5 0の混合溶剤に溶解し て、 固形分 4 0重量%の溶液と した。
固形重量比で、 フ エノキシ樹脂が 5 0 g、 ウレ夕ンァク リ レ — ト Aが 4 9 g、 リ ン酸エステル型ァク リ レー トが l g、 t - へキシルパーォキシ一 2—ェチルへキサノ ネー トが 5 g、 シ リ コーン粒子が 5 gとなるよう に配合し、 導電性粒子を 3体積% 配合分散させ、 得られた液体を厚さ 8 0 /mの片面を表面処理 した P E T (ポリエチレンテレフ夕 レー ト) フ ィ ルムに塗工装 置を用いて塗布し、 7 0°Cの熱風によ り 1 0分間乾燥させて、 厚さ 2 0〃mのフ ィ ルム状接着剤を得た。
<実施例 3〜 5 >
フ エノ キシ樹脂 Zウレ夕 ンァク リ レー ト A/リ ン酸エステル 型ァク リ レ一 ト /シ リ コーン粒子/ t— へキシルパーォキシ一 2—ェチルへキサノネー トの固形重量比を 5 0 g / 4 9 g/ 1 g/2 0 g/5 g (実施例 3 ) 、 3 0 g/ 6 9 g/ l g/ 1 0 g/ 5 g (実施例 4 ) 、 3 0 g/4 0 g/3 0 g/ 1 0 g/ 5 g (実施例 5 ) と した他は実施例 2 と同様にしてフ ィ ルム状接 着剤を得た。
<比較例 1 >
ウ レ夕 ンァク リ レー ト A/リ ン酸エステル型ァク リ レー ト / t— へキシルパ一ォキシ— 2— ェチルへキサノネ一卜の固形重 量比を 9 9 g/ l g/ 5 gと し、 シ リ コーン粒子を配合しなか つた他は、 実施例 1の工程 ( 4 ) と同様に して液状の接着剤を 得た。
<比較例 2 >
シ リ コーン粒子を用いない他は、 実施例 2 と同様に してフ ィ ルム状接着剤を得た。
B . 接着剤の評価方法
( 1 ) 配線構造体の作製
まず、 厚さ 1. 1 mmのガラス 1 1表面にイ ンジユウムー錫 酸化物 (ITO) の配線 1 2を蒸着によ り形成した I T 0基板 ( 表面抵抗 < 2 0 Ω /口) 1 0 (図 1 ( a) ) の配線 1 2が形成 された面に、 導電性粒子 1 4を含む接着剤 (各実施例及び比較 例において調製したもの) からなる接着剤層 1 5を成膜した ( 図 1 ( b ) ) 。
なお、 接着剤層 1 5の成膜は、 接着剤が液状の実施例 1及び 比較例 1では、 接着剤を塗布する こ とによ り行い、 接着剤がフ イ ルム状である実施例 2 ~ 5及び比較例 2では、 接着剤を貼 り 付け、 7 0 °C、 0. 5 M P aで 5秒間加熱及び加圧して仮接続 し、 その後、 P E Tフ ィ ルムを剥離するこ とによ り行った。 この接着剤層 1 5の表面に、 ポ リ イ ミ ド層 1 8 と銅箔 (厚さ 1 8〃m) とを接着剤 1 7によ り貼 り付け、 銅箔をパターニン グしてライ ン幅 5 0 /m、 ピッチ 1 0 0〃 111の配線 1 6を形成 したフ レキシブル配線板 ( 3層 F P C ) 1 9を載置し (図 1 ( c ) ) 、 1 6 0 °C、 3 M P aで 1 0秒間加熱及び加圧して、 幅 2 mmにわた り接続し、 図 1 ( d ) に示す配線構造体 2 1 を 得た。 また、 3層 F P Cに代えて、 ポリ イ ミ ドフ ィ ルム (厚さ 1 0 0 U rn ) 2 2の表面にラィ ン幅 5 0 / 111、 ピッチ 1 0 0〃m、 厚さ 1 8〃mの銅回路 2 3を 5 0 0本形成したフ レキシブル配 線板 ( 2層 F P C) 2 4を用い (図 2 ( a) ) 、 同様に して I T 0基板と接続し、 配線構造体 2 5を得た (図 2 ( b ) ) 。
( 2 ) 接続抵抗の測定
上述のよう にして配線構造体を作製した後、 配線接続部を含 む F P Cの隣接回路間の抵抗値を作製直後にマルチメータで測 定し、 さ らに、 配線構造体を 8 5 °C、 8 5 %R Hの高温高湿槽 中に 5 0 0時間保持した後、 同様に抵抗値を測定した。 なお、 抵抗値は隣接回路間の抵抗 1 5 0点の平均で示した。
( 3 ) 接着強度の測定
上述のよう にして作製した配線構造体につき、 剥離速度 5 0 mm /分での 9 0度剥離の剥離試験を行い接着強度を測定した。
( 4 ) 絶縁性の評価
まず、 ラ イ ン幅 5 0 ^m、 ピッチ 1 0 0 ΠΙ、 厚さ 1 8 /m の銅回路を交互に 2 5 0本配置した櫛形回路を有するプリ ン ト 基板の回路が形成された面に、 ( 1 ) と同様にして接着剤層を 成膜した。 次に、 この接着剤層の表面に、 ライ ン幅 5 0 / m、 ピッチ 1 0 0 m、 厚さ 1 8〃mの銅回路を 5 0 0本有するフ レキシブル配線板 ( F P C ) を載置し、 1 6 0 °C;、 3 M P aで 1 0秒間加熱及び加圧して幅 2 mmにわた り接続し、 配線構造 体を得た。 この配線構造体の櫛形回路に 1 0 0 Vの電圧を印加 して絶縁抵抗値を測定し、 さ ら に、 8 5 °C、 8 5 %R Hの高温 高湿試験を 5 0 0時間実施した後の絶縁抵抗値を測定した。
( 5 ) 流動性の評価 1 5 m m 1 5 mm、 厚さ 0. 7 mmのガラス 2枚の間に、 5 mmx 5 mm、 厚さ 3 5 /mの評価対象接着剤を挟み、 1 5 0 °C、 2 M P aで 1 0秒間加熱及び加圧し、 初期の面積 ( A ) と加熱加圧後の面積 ( B ) とを用いて流動性 (B ) / ( A ) の 値を求めた。
( 6 ) 硬化後の弾性率
液状の接着剤 (実施例 1、 比較例 1 ) は、 金型に流し込み、 1 6 0 °Cで 1分間加熱し、 硬化させて棒状の硬化物を得た。 フ イルム状の接着剤 (実施例 2〜 5、 比較例 2 ) は、 1 6 0 の オイル中に 1分間浸漬し、 硬化させフィルム状の硬化物を得た。 これらの硬化物の貯蔵弾性率を、 動的粘弾性測定装置を用いて 測定 (昇温速度 5 °C/分、 1 0 H z ) し、 2 5 °Cの弾性率を求 めた。
( 7 ) D S Cの測定
各実施例及び比較例で得られた接着剤を用い、 示差走査熱量 計 ( D S C、 T Aイ ンスヅルメ ン ト社製、 商品名 9 1 0型) で 発熱反応の立ち上がり温度 ( T a ) 、 ピーク温度 ( T p ) 、 終 了温度 ( T e ) を求めた。 なお、 測定における昇温速度は 1 0 °C /分とした。
し . 結果
上述の各評価方法による結果を表 1に示す。 表 1
実施例 比較例 接着剤組成物
1 2 3 4 5 1 2 初期 400 700 750 650 680 50 100
2層 FPC
吸湿後 200 400 550 450 400 10 20
(N/
m) 初期 900 1200 1300 1100 1250 600 700
3層 FPC
吸湿後 600 900 1000 1000 950 300 500 初期 0.9 1.2 1.7 1.1 1.2 0.9 1.2 接続抵抗(Ω )
吸湿後 1.3 1.4 1.8 1.3 1.3 1.3 1.4 絶縁抵抗(Ω ) >109 >109 >109 >109 >109 >109 >109 流動性(%) 2.5 1.9 1.7 1.8 1.9 2.6 1.8 弾性率(MPa) 500 800 700 800 800 600 700
Ta 88 87 90 89 89 87 88
DSC (°C) Tp 105 108 107 109 108 104 107
Te 140 148 147 147 148 143 148
比較例 1、 2の接着剤にはシ リ コーン粒子が配合されていな い。 これに対して、 シ リコーン粒子を配合した実施例 1〜 5は 接続端子を支持する基板表面にポリイ ミ ド樹脂が露出した 2層 F P C、 接着剤が露出した 3層 F P 。であっても、 比較例に比 ベて接着力が大幅に向上した。 また、 吸湿後の接着力も大きか つた。
産業上の利用可能性 上述のよう に、 本発明によれば、 接続端子を支持する基板が ポリ イ ミ ド樹脂等の絶縁性有機物又はガラスからなる配線部材 であっても、 また、 表面にシ リ コーン樹脂又はポリィ ミ ド樹脂 を有する配線部材であったも、 良好な接着強度を得るこ とがで き、 接続信頼性の高い配線構造体を製造するこ とができる。

Claims

請求の範囲
1 . 加熱によ り遊離ラジカルを発生する硬化剤と、
ラジカル重合性物質と、
シ リ コーン粒子とを含有する、 配線端子接続用接着剤。
2 . 上記シ リ コーン粒子の含有量は、
上記ラジカル重合性物質に対し、 5 〜 2 0 0重量部である、 請求項 1 に記載の接着剤。
3 . フ ィ ルム形成材をさ らに含有する、 請求項 1 に記載の接 着剤。
4 . 上記フ ィ ルム形成材がフ エノキシ樹脂である、 請求項 3 記載の接着剤。
5 . 上記シ リ コーン粒子の含有量は、
上記ラ ジカル重合性物質と上記フ ィ ルム形成材との合計 1 0 ◦重量部に対し、 5 〜 2 0 0重量部である、 請求項 3又は 4 に 記載の接着剤。
6 . 上記シ リ コーン粒子の 2 5 °Cでの弾性率が 0 . 1 〜 : L 0 0 M P aである、 請求項 1 〜 5 のいずれかに記載の接着剤。
7 . 導電性粒子をさ らに含有する、 請求項 1 ~ 6 のいずれか に記載の接着剤。
8 . 加熱によ り遊離ラジカルを発生する硬化剤、 ラジカル重 合性物質、 及び、 シ リ コーン粒子を含有する組成物からなる第 1 の層と、
導電性粒子、 ラ ジカル重合性物質、 及び、 シ リ コーン粒子を 含有する組成物からなる第 2 の層とが積層されている、 配線端 子接続用フ ィ ルム状接着剤。
9 . 二以上の配線部材にそれぞれ設けられた接続端子の間を 請求項 1 〜 8のいずれかに記載の接着剤を用いて電気的に接続 する、 配線端子の接続方法。
1 0 . 上記接続端子の少な く とも一つは、
表面が金、 銀、 錫、 白金族の金属、 及び、 イ ンジユ ウム—錫 酸化物から選ばれる少なく とも一種からなる、 請求項 9記載の 配線端子の接続方法。
1 1 . 上記配線部材のう ちの少な く とも一つは、
絶縁性有機物及びガラスのう ちの少な く ともいずれかを含む 基板を備える、 請求項 9又は 1 0記載の配線端子の接続方法。
1 2 . 上記配線部材の少な く とも一つは、
表面に、 窒化シ リ コ ン、 シ リ コーン化合物及びポリ イ ミ ド樹 脂から選ばれる少な く とも一種を備える、 請求項 9 〜 1 1 のい ずれかに記載の配線端子の接続方法。
1 3 . それそれ接続端子を有する二以上の配線部材を備え、 上記配線部材の上記接続端子間が、 請求項 1 〜 8のいずれか に記載の接着剤を用いて電気的に接続されている配線構造体。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003049151A (ja) * 2001-08-02 2003-02-21 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着剤及びそれを用いた接続方法、接続構造体
JP2005194393A (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体
JP2005290394A (ja) * 2005-07-04 2005-10-20 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及びそれを用いた回路板の製造方法
JP2005347273A (ja) * 2005-06-06 2005-12-15 Hitachi Chem Co Ltd 熱架橋型回路接続材料及びそれを用いた回路板の製造方法
JP2007317657A (ja) * 2007-05-08 2007-12-06 Hitachi Chem Co Ltd 熱架橋型回路接続材料及びそれを用いた回路板の製造方法
WO2008023565A1 (fr) 2006-08-25 2008-02-28 Hitachi Chemical Company, Ltd. Matériau de connexion de circuit, structure de connexion pour élément de circuit l'utilisant et son procédé de production
WO2009051043A1 (ja) 2007-10-15 2009-04-23 Hitachi Chemical Company, Ltd. 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体
WO2010038574A1 (ja) * 2008-09-30 2010-04-08 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 アクリル系絶縁性接着剤
US7967943B2 (en) 1997-03-31 2011-06-28 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit-connecting material and circuit terminal connected structure and connecting method
JP2012057161A (ja) * 2011-09-21 2012-03-22 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3587859B2 (ja) * 1997-03-31 2004-11-10 日立化成工業株式会社 回路接続材料並びに回路端子の接続構造及び接続方法
JP4499329B2 (ja) 1999-08-25 2010-07-07 日立化成工業株式会社 接着剤、配線端子の接続方法及び配線構造体
US20100025089A1 (en) * 2004-01-07 2010-02-04 Jun Taketatsu Circuit connection material, film-shaped circuit connection material using the same, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
DE102005021086A1 (de) * 2005-05-06 2006-11-09 Basf Coatings Ag Beschichtungsstoff, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung zur Herstellung haftfester, korrosionshemmender Beschichtungen
KR100733253B1 (ko) 2005-11-18 2007-06-27 삼성전기주식회사 고밀도 인쇄회로기판 및 그 제조방법
CN101432861B (zh) * 2006-04-27 2011-02-09 松下电器产业株式会社 连接构造体及其制造方法
ATE550401T1 (de) * 2006-07-21 2012-04-15 Hitachi Chemical Co Ltd Materiau de connexion de circuit, structure de connexion d'element de circuit et procede de connexion de l'element de circuit
US7727423B2 (en) * 2006-12-29 2010-06-01 Cheil Industries, Inc. Anisotropic conductive film composition and film including the same
JP5029691B2 (ja) * 2007-06-13 2012-09-19 日立化成工業株式会社 回路接続用フィルム状接着剤
KR100922226B1 (ko) * 2007-12-10 2009-10-20 주식회사 엘지화학 접착 필름, 다이싱 다이본딩 필름 및 반도체 장치
CA2765135C (en) * 2009-06-26 2017-11-07 Basf Se Paint coating system and method of producing multilayered paint coating
JP5532419B2 (ja) * 2010-06-17 2014-06-25 富士電機株式会社 絶縁材、金属ベース基板および半導体モジュール並びにこれらの製造方法
JP6159050B2 (ja) * 2010-07-26 2017-07-05 東京応化工業株式会社 接着剤組成物及び接着フィルム
JP6358535B2 (ja) * 2013-04-26 2018-07-18 パナソニックIpマネジメント株式会社 配線板間接続構造、および配線板間接続方法
DE102013219688B3 (de) * 2013-09-30 2015-02-05 Robert Bosch Gmbh Wärmeleitfähiges Verbindungsmittel, Verbindungsanordnung und Verfahren zum Herstellen einer wärmeleitenden Verbindung
CN103607856A (zh) * 2013-10-26 2014-02-26 溧阳市东大技术转移中心有限公司 一种复合挠性基板的制造方法
JP5974147B1 (ja) * 2015-07-31 2016-08-23 株式会社フジクラ 配線体アセンブリ、導体層付き構造体、及びタッチセンサ
US10930612B2 (en) * 2017-01-11 2021-02-23 Showa Denko Materials Co., Ltd. Copper paste for pressureless bonding, bonded body and semiconductor device
JP7185252B2 (ja) * 2018-01-31 2022-12-07 三国電子有限会社 接続構造体の作製方法
JP7046351B2 (ja) 2018-01-31 2022-04-04 三国電子有限会社 接続構造体の作製方法
JP7160302B2 (ja) 2018-01-31 2022-10-25 三国電子有限会社 接続構造体および接続構造体の作製方法
KR102514042B1 (ko) * 2018-08-01 2023-03-24 삼성전자주식회사 반도체 패키지 및 이의 제조 방법
KR102629350B1 (ko) 2018-12-12 2024-01-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
JP7370229B2 (ja) * 2018-12-28 2023-10-27 旭化成株式会社 半導体装置、及びその製造方法
CN111048499B (zh) * 2019-12-16 2022-05-13 业成科技(成都)有限公司 微发光二极管显示面板及其制备方法

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594611A (ja) * 1982-06-30 1984-01-11 Matsushita Electric Works Ltd 感光性組成物
JPH05140510A (ja) * 1991-11-21 1993-06-08 Nitto Denko Corp 光重合性接着剤組成物とこれを用いた感圧性接着剤およびその接着シ―ト類
JPH0790028A (ja) * 1993-09-22 1995-04-04 Sekisui Chem Co Ltd 光重合性組成物、それを用いた接着性テープおよび粘着性テープ
JPH09100326A (ja) * 1995-08-02 1997-04-15 Takeda Chem Ind Ltd 紫外線硬化型光ファイバ用テープ化材組成物
JPH10120983A (ja) * 1996-10-21 1998-05-12 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物
JPH10150007A (ja) * 1996-11-18 1998-06-02 Toyo Chem Co Ltd 半導体ウエハ固定用シート
JPH10273630A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料及び回路板の製造法
JPH10316959A (ja) * 1997-03-19 1998-12-02 Sekisui Chem Co Ltd 硬化型粘接着剤組成物及び硬化型粘接着シート
JPH10338853A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Toyo Chem Co Ltd 半導体ウエハ固定用シート
JPH1161060A (ja) * 1997-08-08 1999-03-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 異方導電性接着剤
JPH1197482A (ja) * 1997-09-16 1999-04-09 Hitachi Chem Co Ltd 電極の接続方法および電極の接続構造
JPH1197825A (ja) * 1997-09-18 1999-04-09 Hitachi Chem Co Ltd 回路電極の接続構造および回路電極の接続方法
JPH11140387A (ja) * 1997-11-11 1999-05-25 Shigeru Koshibe 半導体用接着剤成形体
JPH11265117A (ja) * 1998-03-18 1999-09-28 Konica Corp 現像装置及び画像形成装置
JPH11335641A (ja) * 1998-05-26 1999-12-07 Sekisui Chem Co Ltd 異方導電性光後硬化型ペースト及びそれを用いた接合方法

Family Cites Families (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4369300A (en) * 1979-11-26 1983-01-18 Union Carbide Corporation Acrylated urethane silicone compositions
JPS6018145B2 (ja) * 1980-09-22 1985-05-09 株式会社日立製作所 樹脂封止型半導体装置
JPS61173471A (ja) * 1985-01-28 1986-08-05 シャープ株式会社 熱圧着コネクタ−
JPH0791464B2 (ja) * 1989-10-31 1995-10-04 信越化学工業株式会社 導電性シリコーンゴム組成物およびその硬化物
US5700758A (en) * 1989-11-30 1997-12-23 Hoechst Aktiengesellschaft Pyrazolines for protecting crop plants against herbicides
JPH07123179B2 (ja) * 1990-10-05 1995-12-25 信越ポリマー株式会社 異方導電接着剤による回路基板の接続構造
AU653006B2 (en) * 1991-02-28 1994-09-15 Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Coating sheet and method of making molded product using said sheet
US5536568A (en) * 1991-03-12 1996-07-16 Inabagomu Co., Ltd. Variable-resistance conductive elastomer
JP3042039B2 (ja) * 1991-07-08 2000-05-15 三菱化学株式会社 熱転写記録用シート
JPH05145510A (ja) 1991-11-21 1993-06-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 伝送路位相変動吸収方法および伝送路位相変動吸収回路
JPH05347464A (ja) 1992-06-16 1993-12-27 Ricoh Co Ltd 電気回路基板の接続構造および接続方法
US5744557A (en) * 1993-06-16 1998-04-28 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy-curable cyanate/ethylenically unsaturated compositions
GB9312351D0 (en) * 1993-06-16 1993-07-28 Ici Plc Thermal transfer printing dyesheet
US5517744A (en) * 1994-11-04 1996-05-21 Cosco, Inc. Press-fit tube-connection system
EP0714125B1 (en) * 1994-11-24 1999-12-29 Dow Corning Toray Silicone Company Limited Method of fabricating a semiconductor device
CN1121671C (zh) * 1995-03-24 2003-09-17 松下电器产业株式会社 平板显示器与集成电路器件的接合方法、接合的检查方法
WO1996042107A1 (en) * 1995-06-13 1996-12-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Semiconductor device, wiring board for mounting semiconductor and method of production of semiconductor device
US20010028953A1 (en) * 1998-11-16 2001-10-11 3M Innovative Properties Company Adhesive compositions and methods of use
US5672400A (en) * 1995-12-21 1997-09-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Electronic assembly with semi-crystalline copolymer adhesive
JPH1020103A (ja) 1996-07-05 1998-01-23 Dainippon Printing Co Ltd 防眩フィルム
US5989304A (en) * 1996-08-05 1999-11-23 Kawasaki Steel Corporation Iron-based powder composition for powder metallurgy excellent in flowability and compactibility and method
US5869421A (en) 1996-08-22 1999-02-09 Ricoh Company, Ltd. Reversible thermosensitive recording material
JPH10178251A (ja) 1996-10-15 1998-06-30 Toray Ind Inc 半導体集積回路接続用基板およびそれを構成する部品ならびに半導体装置
US5985064A (en) * 1996-11-28 1999-11-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chip compression-bonding apparatus and method
US6635514B1 (en) * 1996-12-12 2003-10-21 Tessera, Inc. Compliant package with conductive elastomeric posts
US6417029B1 (en) * 1996-12-12 2002-07-09 Tessera, Inc. Compliant package with conductive elastomeric posts
US5922473A (en) 1996-12-26 1999-07-13 Morton International, Inc. Dual thermal and ultraviolet curable powder coatings
CN1198461A (zh) 1997-01-23 1998-11-11 日本石油株式会社 电色器件
JP2001503471A (ja) * 1997-02-07 2001-03-13 ロックタイト コーポレーション 伝導性樹脂組成物
US7604868B2 (en) * 1997-03-31 2009-10-20 Hitachi Chemical Company, Ltd. Electronic circuit including circuit-connecting material
JP3587859B2 (ja) 1997-03-31 2004-11-10 日立化成工業株式会社 回路接続材料並びに回路端子の接続構造及び接続方法
US6329829B1 (en) * 1997-08-22 2001-12-11 Micron Technology, Inc. Interconnect and system for making temporary electrical connections to semiconductor components
JPH11277905A (ja) * 1997-10-17 1999-10-12 Ricoh Co Ltd 感熱記録媒体
US5965064A (en) * 1997-10-28 1999-10-12 Sony Chemicals Corporation Anisotropically electroconductive adhesive and adhesive film
JPH11148058A (ja) * 1997-11-17 1999-06-02 Seiko Epson Corp 異方導電性接着剤、それを用いた液晶表示装置および電子機器
JPH11256117A (ja) 1998-03-13 1999-09-21 Sekisui Chem Co Ltd 異方導電性光後硬化型粘着シート及び電気部品の接合方法
TW459032B (en) * 1998-03-18 2001-10-11 Sumitomo Bakelite Co An anisotropic conductive adhesive and method for preparation thereof and an electronic apparatus using said adhesive
US6235387B1 (en) * 1998-03-30 2001-05-22 3M Innovative Properties Company Semiconductor wafer processing tapes
US6048949A (en) * 1998-05-11 2000-04-11 Morton International, Inc. Unsaturated polyester powder coatings with improved surface cure
US6017587A (en) * 1998-07-09 2000-01-25 Dow Corning Corporation Electrically conductive silicone compositions
US7144956B2 (en) * 1998-11-02 2006-12-05 Henkel Corporation Polymerizable compositions in non-flowable forms
WO2000034806A1 (fr) * 1998-12-09 2000-06-15 Tomoegawa Paper Co., Ltd. Lentille a microbilles et son procede de fabrication
US6441092B1 (en) 1999-06-18 2002-08-27 3M Innovative Properties Company Wet-stick adhesives
AU769249B2 (en) * 1999-07-02 2004-01-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Poly(meth)acrylic photochromic coating
US6395124B1 (en) 1999-07-30 2002-05-28 3M Innovative Properties Company Method of producing a laminated structure
JP4499329B2 (ja) 1999-08-25 2010-07-07 日立化成工業株式会社 接着剤、配線端子の接続方法及び配線構造体
US6762249B1 (en) 1999-08-25 2004-07-13 Hitachi Chemical Company, Ltd. Wiring-connecting material and process for producing circuit board with the same
US6517744B1 (en) * 1999-11-16 2003-02-11 Jsr Corporation Curing composition for forming a heat-conductive sheet, heat-conductive sheet, production thereof and heat sink structure
JP4734706B2 (ja) * 2000-11-01 2011-07-27 Jsr株式会社 電気抵抗測定用コネクター並びに回路基板の電気抵抗測定装置および測定方法
US8545583B2 (en) * 2000-11-17 2013-10-01 Wayne O. Duescher Method of forming a flexible abrasive sheet article
US6884833B2 (en) * 2001-06-29 2005-04-26 3M Innovative Properties Company Devices, compositions, and methods incorporating adhesives whose performance is enhanced by organophilic clay constituents
KR100559153B1 (ko) * 2002-02-28 2006-03-10 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 전극의 접속방법, 그것에 사용되는 표면처리 배선판 및접착필름 및 전극의 접속구조
US6809280B2 (en) * 2002-05-02 2004-10-26 3M Innovative Properties Company Pressure activated switch and touch panel
DE60310739T2 (de) * 2002-08-27 2007-10-11 Jsr Corp. Anisotrope leitfähige folie und impedanzmesssonde
JP4109576B2 (ja) * 2003-06-04 2008-07-02 三井金属鉱業株式会社 電子写真現像剤用キャリアおよびこれを用いた現像剤ならびに画像形成方法
KR20060026130A (ko) 2004-09-18 2006-03-23 삼성전기주식회사 칩패키지를 실장한 인쇄회로기판 및 그 제조방법
US7535462B2 (en) * 2005-06-02 2009-05-19 Eastman Kodak Company Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS594611A (ja) * 1982-06-30 1984-01-11 Matsushita Electric Works Ltd 感光性組成物
JPH05140510A (ja) * 1991-11-21 1993-06-08 Nitto Denko Corp 光重合性接着剤組成物とこれを用いた感圧性接着剤およびその接着シ―ト類
JPH0790028A (ja) * 1993-09-22 1995-04-04 Sekisui Chem Co Ltd 光重合性組成物、それを用いた接着性テープおよび粘着性テープ
JPH09100326A (ja) * 1995-08-02 1997-04-15 Takeda Chem Ind Ltd 紫外線硬化型光ファイバ用テープ化材組成物
JPH10120983A (ja) * 1996-10-21 1998-05-12 Hitachi Chem Co Ltd 接着剤組成物
JPH10150007A (ja) * 1996-11-18 1998-06-02 Toyo Chem Co Ltd 半導体ウエハ固定用シート
JPH10316959A (ja) * 1997-03-19 1998-12-02 Sekisui Chem Co Ltd 硬化型粘接着剤組成物及び硬化型粘接着シート
JPH10273630A (ja) * 1997-03-31 1998-10-13 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続材料及び回路板の製造法
JPH10338853A (ja) * 1997-06-09 1998-12-22 Toyo Chem Co Ltd 半導体ウエハ固定用シート
JPH1161060A (ja) * 1997-08-08 1999-03-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 異方導電性接着剤
JPH1197482A (ja) * 1997-09-16 1999-04-09 Hitachi Chem Co Ltd 電極の接続方法および電極の接続構造
JPH1197825A (ja) * 1997-09-18 1999-04-09 Hitachi Chem Co Ltd 回路電極の接続構造および回路電極の接続方法
JPH11140387A (ja) * 1997-11-11 1999-05-25 Shigeru Koshibe 半導体用接着剤成形体
JPH11265117A (ja) * 1998-03-18 1999-09-28 Konica Corp 現像装置及び画像形成装置
JPH11335641A (ja) * 1998-05-26 1999-12-07 Sekisui Chem Co Ltd 異方導電性光後硬化型ペースト及びそれを用いた接合方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1229095A4 *

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8142605B2 (en) 1997-03-31 2012-03-27 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit-connecting material and circuit terminal connected structure and connecting method
US7968196B2 (en) 1997-03-31 2011-06-28 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit-connecting material and circuit terminal connected structure and connecting method
US7967943B2 (en) 1997-03-31 2011-06-28 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit-connecting material and circuit terminal connected structure and connecting method
JP2003049151A (ja) * 2001-08-02 2003-02-21 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着剤及びそれを用いた接続方法、接続構造体
US7785708B2 (en) 2004-01-07 2010-08-31 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive film for circuit connection, and circuit connection structure
JP2005194393A (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体
US7776438B2 (en) 2004-01-07 2010-08-17 Hitachi Chemical Co., Ltd. Adhesive film for circuit connection, and circuit connection structure
JP2005347273A (ja) * 2005-06-06 2005-12-15 Hitachi Chem Co Ltd 熱架橋型回路接続材料及びそれを用いた回路板の製造方法
JP2005290394A (ja) * 2005-07-04 2005-10-20 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及びそれを用いた回路板の製造方法
EP2339695A1 (en) 2006-08-25 2011-06-29 Hitachi Chemical Company, Ltd. Circuit connecting material, connection structure for circuit member using the same and production method thereof
WO2008023565A1 (fr) 2006-08-25 2008-02-28 Hitachi Chemical Company, Ltd. Matériau de connexion de circuit, structure de connexion pour élément de circuit l'utilisant et son procédé de production
JP2007317657A (ja) * 2007-05-08 2007-12-06 Hitachi Chem Co Ltd 熱架橋型回路接続材料及びそれを用いた回路板の製造方法
WO2009051043A1 (ja) 2007-10-15 2009-04-23 Hitachi Chemical Company, Ltd. 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体
WO2010038574A1 (ja) * 2008-09-30 2010-04-08 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 アクリル系絶縁性接着剤
US8613623B2 (en) 2008-09-30 2013-12-24 Sony Chemical & Information Device Corporation Acrylic insulating adhesive
JP2012057161A (ja) * 2011-09-21 2012-03-22 Hitachi Chem Co Ltd 回路接続用接着フィルム及び回路接続構造体

Also Published As

Publication number Publication date
CN1377393A (zh) 2002-10-30
KR100660430B1 (ko) 2006-12-22
US20100326596A1 (en) 2010-12-30
US8120189B2 (en) 2012-02-21
JP4499329B2 (ja) 2010-07-07
KR100671312B1 (ko) 2007-01-19
CN101033376A (zh) 2007-09-12
US7241644B2 (en) 2007-07-10
CN101906274B (zh) 2012-05-30
EP1229095A1 (en) 2002-08-07
TWI278501B (en) 2007-04-11
US8115322B2 (en) 2012-02-14
CN101906274A (zh) 2010-12-08
EP1229095B1 (en) 2006-10-18
DE60031436D1 (de) 2006-11-30
KR20020042649A (ko) 2002-06-05
KR20050049452A (ko) 2005-05-25
US20100330364A1 (en) 2010-12-30
TWI291982B (ja) 2008-01-01
CN101037573B (zh) 2012-01-11
CN101037573A (zh) 2007-09-19
DE60031436T2 (de) 2007-08-30
US20050176882A1 (en) 2005-08-11
US6939913B1 (en) 2005-09-06
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