TWI388425B

TWI388425B - 積層薄膜

Info

Publication number: TWI388425B
Application number: TW94133632A
Authority: TW
Inventors: Yasushi Takada; Masato Yanagibashi; Masato Ushijima; Yutaka Harada
Original assignee: Toray Industries
Priority date: 2004-09-29
Filing date: 2005-09-28
Publication date: 2013-03-11
Also published as: WO2006035684A1; US20070202297A1; KR101164017B1; US8137788B2; TW200619021A; KR20070063519A; JPWO2006035684A1; JP4784511B2

Description

積層薄膜

本發明係關於積層薄膜，尤其係關於設置經由塗佈的積層膜之積層薄膜。更詳而言，係關於用作為在液晶電視機、汽車導航用顯示器、攜帶式電話之液晶顯示器、電腦顯示器等所使用的偏光板等之加工、安裝時使用於表面保護用之積層薄膜。

此外，本發明之積層薄膜係使用於經藉由直接熱轉印在成型構件之熱壓印刷輪法，或與射出成型同時轉印印刷的模內轉印法，或經減壓轉印用薄膜與成型構件之間的空氣後，予以加壓加熱來轉印印刷的真空加壓轉印法等。

與近年來之顯示器革命互起作用，從所謂的顯像管型電視機邁向液晶顯示器之轉換是非常顯著。關於液晶顯示器，雖然其係必須經過屬主要構成構件的偏光板等光學用薄片之加工、組裝之步驟，惟通常其係以保護表面為目的而在聚乙烯薄膜或聚丙烯薄膜、或聚酯薄膜等之透明的保護用薄膜亦即所謂的表面保護薄膜上，為與該構件相貼合而塗佈黏著劑等、或積層來實施。此外，在結束液晶顯示器等之組裝後，則將該保護薄膜加以剝離、移除，惟在剝離其時，則將產生所謂的「剝離帶電」現象，以致造成因靜電而附著垃圾、或在已貼附之狀態下就已呈帶電，以致有垃圾等會附著之問題存在。該垃圾之附著問題，例如在檢查製品時就不易識別是否為液晶構件本身之缺陷，或是為附著在表面上的垃圾所造成，並且也是不能順利執行檢查等之製程上的重大問題。此外，特別是在近年之高精細顯示器等方面，除上述垃圾之附著所導致問題以外，也會產生剝離帶電所引起之顯示器電子元件之破壞問題。

另一方面，在聚乙烯薄膜或聚丙烯薄膜將抗靜電劑捏合入者，因其透明性較差，以致造成在進行經搭配液晶顯示器等之後的製品缺陷檢查時，由於該保護薄膜之透明性差，將造成檢查精確度下降、或檢查速度緩慢等之問題。

此外，即使在使用具有優越的透明性之聚酯薄膜時，若為未經處理者時，則因為並無抗靜電性，以致經常發生垃圾的附著等之源於帶電現象的失效。因此，為解決此問題，已經加以檢討一種經捏合入抗靜電劑的聚酯薄膜、或經塗佈抗靜電劑的聚酯薄膜，並且揭示一種例如在抗靜電劑使用離子傳導型之情形下，只要與丙烯酸系樹脂等併用時，則即使在適合於在薄膜製膜步驟中加以塗佈、乾燥、延伸、熱處理的線上塗佈法時，也能設置具有優越的透明性之抗靜電層等之方法(發明專利文獻1)。

另一方面，使用電子傳導型之抗靜電劑者，則已有提案揭示例如：聚苯胺系抗靜電劑(發明專利文獻2)、氧化錫系抗靜電劑(發明專利文獻3)、聚噻吩系抗靜電劑(發明專利文獻4)等。特別是也有經塗佈含有電子傳導型之聚噻吩系抗靜電劑與乳膠聚合物的塗液之提案(發明專利文獻5)。

此外，一種上述之在貼合時雖然必須使用黏著劑，但是此時因不小心所附著的黏著劑，尤其是附著在相反面的積層薄膜面之黏著劑也能簡單地加以擦去等之所謂的防污性，也與上述相同理由而被要求，因此也有設置具有防污性層等之提案(發明專利文獻6)。

接著，就轉印用薄膜說明如下。

一般而言，所謂「轉印薄膜」係意謂以轉印用薄膜作為基材而預先在其表面上積層被轉印物，然後必要時則將該被轉印物轉印在所希望的製品等上來使用。在近年來之環境意識提高中，以作為可在最終製品化製程等不再需要使用有機溶劑等即可設置圖案之方法是近年來特別受到重新評估。

例如，使用於家庭用電化製品、汽車用製品、住宅建材製品、繪畫製品、證劵製品、安全標示關係製品等之塑膠製品或金屬構件等，其新式樣性之多樣化已進展到被使用在表面施加與先前不能相提並論的精細圖案之地步。對該塑膠製品或金屬構件等施加圖案印刷之方法係使用模內轉印法、真空加壓轉印法、熱壓印刷輪法等。例如，「模內轉印法」係一種預先使轉印箔定位在供成型的模具內，其後則以射出成型機對模具內壓入樹脂，以與成型同時使轉印箔之圖案加以繪畫之方法。「真空加壓轉印法」係一種使轉印箔相對於成型品，藉由減壓轉印箔與成型品之間的空氣來使轉印箔接觸於成型品表面，並加以加熱加壓以使轉印箔之圖案加以繪畫之方法。

此外，不僅是止於以往之圖案轉印，在IT(輸入終端機)．平面面板顯示器．攜帶式電話．光學用途等之市場快速擴大中，也演變成例如以往在最終製品組裝時塗佈含有有機溶劑之硬塗塗料並予以UV硬化以賦予耐擦性者，及在廢棄物處理設備完備的製程中預先使硬質塗層與黏著劑層設置在該轉印用薄膜上，然後將其積層體在組裝製品時予以轉印等之方法，也被用作為迄今為止所無法得到的品質要求嚴格的光學相關用途等。

可用於該等轉印箔之基材薄膜，熱塑性樹脂薄膜係適合於使用，特別是從耐熱性或成型性的觀點來看，則以聚酯薄膜為適合於使用，該轉印箔之基本構成係在作為基材的聚酯薄膜之一面上將離型層、圖案層、黏著劑層依此順序設置。此外，圖案層係可全面設置，也有設置在表面之一部份的情形。

已揭示一種在聚酯薄膜之至少一面塗佈聚酯系樹脂的轉印箔用薄膜，但是其係為改善基材聚酯薄膜與離型層的接著性為其目的(發明專利文獻7)。

另一方面，因隨著製程之高速化而在開捲時的剝離帶電所引起之放電現象或火花之產生、或隨著圖案高精細化的垃圾之附著問題，已演變到為大眾極端厭惡之地步。因此，對於轉印箔則要求抗靜電性，並且近年來其所要求的功能越來越多，例如要求在低濕度下之抗靜電性、或要求10⁶ Ω/□以下之導電性層級之情形。關於賦予抗靜電性，已揭示一種例如在聚酯樹脂添加低分子量之抗靜電劑並予以塗佈之方法(發明專利文獻8)、塗佈屬並無濕度相依性的電子傳導型抗靜電劑之經摻雜銻的氧化錫系導電劑之方法(發明專利文獻9)、塗佈屬電子傳導型抗靜電劑之聚噻吩系導電劑之方法等(發明專利文獻10)。

〔發明專利文獻1〕日本發明專利特開昭第61－204240號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻2〕日本發明專利特開平第7－330901號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻3〕日本發明專利特開平第7－329250號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻4〕日本發明專利特開平第1－313521號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻5〕日本發明專利特開平第6－295016號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻6〕日本發明專利特開第2003－154616號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻7〕日本發明專利特開平第10－114039號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻8〕日本發明專利特開昭第60－141525號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻9〕日本發明專利特開平第7－329250號公報(第1頁、申請專利範圍等)〔發明專利文獻10〕日本發明專利特開平第9－31222號公報(第1頁、申請專利範圍等)

然而，上述先前技術卻有如下列問題存在。

關於抗靜電性之賦予，就上述迄今為止之技術而言，若使用離子傳導型之抗靜電劑時，由於其導電機構係相依於離子所造成之空氣中水份的吸附，必然存在濕度相依性，特別是使用低分子量型者時，則將顯現得更為明顯，以致在冬季期間等濕度較低的環境下則有完全不能獲得導電性等之問題存在。

此外，導電機構採用共軛電子之電子傳導性導電劑，例如使用經摻雜銻的氧化錫系抗靜電劑或聚噻吩系抗靜電劑時，則雖然並無上述濕度相依性，但是組成物本身為剛性，以致例如若使用在薄膜製膜步驟中施加塗佈、乾燥、延伸、熱處理之線上塗佈法時，由於並無延伸追隨性，則將造成因延伸而在塗膜產生龜裂而使得塗膜白化，以致在上述製品檢查時將發生障礙等之問題。

另一方面，就僅塗佈抗靜電劑之技術而言，由於該抗靜電層並無防污性或離型性，以致如上所述例如在偏光板保護用薄膜等方面，在檢查製品時，則將造成不易識別究竟是屬液晶構件本身之缺陷、或是附著在表面的黏著劑，使得檢查不能順利進行等之製程上的重大問題。

此外，在使用表面呈粗糙之薄膜、或具有粗大突起的薄膜等時，也有不易識別其缺陷狀究竟是屬液晶構件本身之缺陷、或僅是薄膜之缺陷，例如是否為源於突起之缺陷之相同問題存在。

此外，在轉印用薄膜等方面，與供設置圖案層或黏著劑層成相反面的基材聚酯薄膜面，則將與黏著劑層黏連在一起而造成不能從捲筒退捲等之重大問題。亦即，為防止與近年來之會顯現出非常強固的黏著性之黏著劑層之該黏連現象，在基材聚酯薄膜之相反面側當需要所謂的「離型功能層」，但是尚未獲得能符合該等條件。

此外，在IT．平面面板顯示器．攜帶式電話．光學用途等市場快速擴大之用途方面，例如在由轉印用薄膜剝下用作為構件而以積層狀態來使用之光學薄膜或其保護薄膜等來使用時等，雖然其經剝離後的構件表面之平滑性或光澤性係非常受到重視，但是迄今為止尚未出現能以高水準符合抗靜電性或平滑性之條件。

本發明之積層薄膜係由下列構成所構成：(1)其係在熱塑性樹脂薄膜之至少一面設置含有組成物(A)、環氧系交聯劑(B)、具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)之積層膜，且組成物(A)係至少含有聚噻吩與聚陰離子之組成物和/或含有聚噻吩衍生物與聚陰離子之組成物，且在積層膜中，相對於100重量份之組成物(A)與交聯劑(B)和/或其反應產物之合計，含有15~100重量份之具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)，且該積層薄膜之至少一面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~50奈米，且包含在該積層薄膜中之平均粒徑為100微米以上之內部異物為少於10個/m² 。

(2)如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中相對於組成物(A)與環氧交聯劑(B)和/或其反應產物，以固體成份重量比計，環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物之總量為50~95重量%。

(3)如第(1)或(2)項之積層薄膜，其在積層膜中，相對於100重量份之組成物(A)與交聯劑(B)和/或其反應產物之合計，含有15~40重量份之具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)。

(4)如第(1)至(3)項中任一項之積層薄膜，其中積層薄膜之霧度為5%以下。

(5)如第(1)至(4)項中任一項之積層薄膜，其中積層薄膜之三次元10點平均粗糙度(SRz)為1,000奈米以下。

(6)如第(1)至(5)項中任一項之積層薄膜，其中積層薄膜之至少一面之三次元10點平均粗糙度(SRz)為500奈米以下。

(7)如第(1)至(6)項中任一項之積層薄膜，其中三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~15奈米。

(8)如第(1)至(7)項中任一項之積層薄膜，其中積層膜之導電性為1×10³ ~1×10⁷ Ω/□。

(9)如第(1)至(8)項中任一項之積層薄膜，其中關於對積層薄膜之TD所測定之剖面厚度變化，朝TD每隔3公分所測定之0.3微米以上的厚度不均勻性之個數為5個以下/m。

(10)如第(1)至(9)項中任一項之積層薄膜，其中100微米以上之附著異物為少於10個/m² 。

(11)如第(1)至(10)項中任一項之積層薄膜，其中熱塑性樹脂薄膜之樹脂聚合觸媒係使用鈦化合物。

(12)如第(1)至(11)項中任一項之積層薄膜，其係以同時雙軸向延伸法所製造。

(13)如第(1)至(12)項中任一項之積層薄膜，其在積層薄膜之至少一面設置黏著劑層。

(14)如第(1)至(13)項中任一項之積層薄膜，其在積層薄膜中，在設置積層膜的面之相反面設置黏著劑層。

(15)如第(1)至(14)項中任一項之積層薄膜，其中熱塑性樹脂薄膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜或聚－2,6－萘二甲酸乙二醇酯薄膜。

(16)如第(1)至(15)項中任一項之積層薄膜，其係偏光板保護用薄膜。

(17)如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其係轉印用薄膜。

(18)如第(17)項之積層薄膜，其中三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~10奈米。

(19)如第(17)項之積層薄膜，其係用作為轉印箔用。

(20)如第(19)項之積層薄膜，其在與設置積層膜的面之相反面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~15奈米。

(21)如第(1)至(20)項中任一項之積層薄膜，其在積層薄膜之與設置積層膜的面之相反側，設置由選自聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸系樹脂中之至少一種所構成之層。

本發明之積層薄膜係可在不受濕度變化下顯現高水準之導電性，且具有優越的防污性、離型性、耐水性、平滑性、加熱時之低聚合物之析出抑制性、透明性，此外，由於薄膜內部之異物少，最適合於供檢查，因此非常適合用作為偏光板保護用積層薄膜或轉印用積層薄膜。

【本發明之最佳實施方式〕

在本發明所謂「熱塑性樹脂薄膜」係意謂會因熱而熔融或軟化的薄膜之總稱，且並無特殊的限定。其具代表性者可使用：聚酯薄膜、聚丙烯薄膜或聚乙烯薄膜等之聚烯烴薄膜，聚乳酸薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、或聚苯乙烯薄膜等之丙烯酸系薄膜，耐綸等之聚醯胺薄膜，聚氯乙烯薄膜、聚胺甲酸酯薄膜、氟系薄膜、聚苯硫醚薄膜等。

該等可為單體聚合物或共聚合物。此等之中，從機械特性、尺寸安定性、透明性等的觀點來看，則較佳為聚酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚醯胺薄膜等，從機械強度、泛用性等的觀點來看，則特佳為聚酯薄膜。

茲就本發明之積層薄膜，以聚酯薄膜為代表實例加以說明，但是本發明並不受限於此等。

關於適用於本發明之積層薄膜的聚酯薄膜，所謂「聚酯」係意謂以酯鍵結為主鏈之主要鍵結鏈的高分子之總稱。本發明之積層薄膜是適合使用以選自對苯二甲酸乙二醇酯、對苯二甲酸丙二醇酯、2,6－萘二甲酸乙二醇酯、對苯二甲酸丁二醇酯、2,6－萘二甲酸丙二醇酯、α,β－雙(2－氯苯氧基)乙烷－4,4’－二甲酸乙二醇酯等中之至少一種之構成成份為主要構成成份。該等構成成份雖然可僅使用一種，也可併用兩種以上。此等之中，若從品質、經濟性等來總合加以判斷時，則較佳為使用以對苯二甲酸乙二醇酯為主要構成成份之聚酯，亦即，特佳為聚對苯二甲酸乙二醇酯。此外，熱或收縮應力等會作用到基材時，則更佳為具有優越的耐熱性或剛性的聚－2,6－萘二甲酸乙二醇酯。該等聚酯也可又使其他之二羧酸成份或二醇成份共聚合於一部份，較佳為20莫耳%以下。

此外，對該聚酯中，可在不致於導致其特性惡化範圍內添加各種添加劑，例如抗氧化劑、耐熱安定劑、耐氣候安定劑、紫外線吸收劑、有機易滑劑、顏料、染料、有機或無機之微粒、塡充劑、抗靜電劑、晶核劑等。

上述聚酯之極限黏度(在25℃之鄰－氯苯酚中測定)較佳為0.4~1.2 dl/g，且更佳為在0.5~0.8 dl/g之範圍者為可適用於實施本發明。

使用上述聚酯之聚酯薄膜，在經設置積層膜之狀態下較佳為經加以雙軸向配向。所謂「雙軸向配向聚酯薄膜」係意謂一般將未經延伸狀態之聚酯薄片或薄膜朝長度方向及寬度方向分別以約2.5~5倍加以延伸，其後，則施加熱處理以完成結晶配向，且在廣角X射線繞射會顯現雙軸向配向圖型。

聚酯薄膜之厚度，並無特殊限制，可根據使用本發明積層薄膜之用途或種類作適當的選擇，但是從機械強度、使用操作性等的觀點而言，通常較佳為1~500微米，更佳為5~250微米，且最佳為9~50微米。此外，聚酯薄膜基材也可為經共擠出的複合薄膜。尤其是製成為兩層以上之複合薄膜時，則例如在表皮層添加易滑性微粒，在芯層則製成為不含微粒等，可容易使易滑性與表面粗糙度並存。此外，進一步製成為三層複合薄膜時，例如在表皮層添加易滑性微粒，芯層則不含微粒或使用回收原料等時，則有可容易使易滑性與表面粗糙度並存等之優點。另一方面，也可以各種方法來貼合所製得之薄膜來使用。

在本發明中，所謂「積層膜」係意謂在作為基材的熱塑性樹脂薄膜之表面上以積層結構所形成而存在的膜狀者。該膜本身可為單層或由數層所構成。

本發明積層薄膜之積層膜係含有組成物(A)、環氧交聯劑(B)、具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)之積層膜。此外，組成物(A)係至少由聚噻吩與聚陰離子所構成之組成物和/或由聚噻吩衍生物與聚陰離子所構成之組成物。在本發明中，較佳為在含有環氧交聯劑(B)和/或其反應產物之狀態下，亦即，積層膜中之組成物(A)、具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)、環氧交聯劑(B)和/或其反應產物之含量為積層膜全體之50重量%以上，更佳為70重量%以上，且最佳為80重量%以上。

本發明積層薄膜之積層膜之組成物(A)，較佳為聚噻吩、及含有聚噻吩衍生物。

可使用於本發明積層薄膜之積層膜之組成物(A)，係將以下述化學式1 和/或，下述化學式2 所示之化合物，在聚陰離子之存在下予以聚合即可獲得。在化學式1中，R₁ 、R₂ 係分別獨立地代表氫、碳原子數為1~12之脂肪族烴基、脂環族烴基、或芳香族烴基，例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、環己基、苯等。在化學式2中，n為1~4之整數。

在本發明之積層薄膜，較佳為使用由以化學式2所代表之結構式所構成之聚噻吩、和/或聚噻吩衍生物，例如，以化學式2中較佳為n＝1(亞甲基)、n＝2(伸乙基)、n＝3(伸丙基)之化合物。其中，特佳為n＝2之伸乙基之化合物，亦即，聚－3,4－伸乙基二氧基噻吩。

本發明之積層薄膜，其聚噻吩和/或聚噻吩衍生物，可例示例如具有噻吩環之3－位與4－位之位置被取代之結構的化合物，且如上所述氧原子係鍵結於該3－位與4－位之碳原子的化合物。氫原子或碳原子直接鍵結於該碳原子者，有時則有塗液不容易加以水性化之情形。

在使用於本發明積層薄膜之積層膜之組成物(A)中，關於聚陰離子說明如下。

本發明積層薄膜之聚陰離子係游離酸狀態之酸性聚合物，亦即高分子羧酸、或高分子磺酸、聚乙烯基磺酸等。高分子羧酸可例示例如聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚順丁烯二酸，高分子磺酸可例示例如聚苯乙烯磺酸，從導電性的觀點來看，則特佳為聚苯乙烯磺酸。此外，游離酸在本發明中也可為一部份是加以中和化的鹽之形態。

藉由在聚合時使用該等聚陰離子，即可使本來不溶於水的聚噻吩系化合物易於使其以水分散或水性化，且作為酸應有之功能也能執行作為聚噻吩系化合物的摻雜劑應有之功能。

此外，在本發明中，高分子羧酸或高分子磺酸係也可以經與可進行共聚合的其他單體，例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯等共聚合的形態來使用。

作為聚陰離子所使用之高分子羧酸或高分子磺酸之分子量，雖然並無特殊限制，但是從塗劑之安定性或導電性的觀點來看，則其重量平均分子量較佳為1,000~1,000,000，且更佳為5,000~150,000。在不致於阻礙本發明之特性範圍內，一部份可含有鋰鹽或鈉鹽等之鹼鹽或銨鹽等。在加以中和化的鹽之情形下，已知也會作為非常強的酸而發生作用之聚苯乙烯磺酸與銨鹽，其平衝將因中和後的平衡反應之進行而向酸性側移動，藉此即可用作為摻雜劑而發生作用。

在本發明中，從導電性的觀點來看，聚陰離子較佳為相對於聚噻吩、或聚噻吩衍生物，以固體成份重量比計，應使其含有過量。亦即，相對於聚噻吩和/或聚噻吩衍生物為1重量份，聚陰離子則較佳為1重量份以上、5重量份以下，更佳為1重量份以上、3重量份以下。

當然在不致於損及本發明之功效範圍內，在組成物(A)中也可使用其他成份。

此外，上述組成物(A)，係可以例如在日本發明專利特開平第6－295016號公報、特開平第7－292081號公報、特開平第1－313521號公報、特開第2000－6324號公報、歐洲發明專利第602713號、美國發明專利第5,391,472號等所揭示之方法來製造，但是也可為該等以外之方法。例如，由聚－3,4－伸乙基二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸所構成之複合物之水性塗液，可使用售自Bayer公司/H.C.Starck公司(德國)之商品名為「Baytron」P者等。

組成物(A)係例如將3,4－二羥基噻吩－2,5－二羧基酯之鹼金屬鹽作為起始物質以獲得3,4－伸乙基二氧基噻吩後，在聚苯乙烯磺酸水溶液導入過氧二硫酸鉀與硫酸鐵，與先前所獲得之3,4－伸乙基二氧基噻吩進行反應，即可獲得在聚(3,4－伸乙基二氧基噻吩)等之聚噻吩，使聚苯乙烯磺酸等之聚陰離子複合物化之組成物。

使用於本發明積層薄膜之積層膜的具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)係包括例如在側鏈具有碳原子數為18~25之烷基的丙烯酸系單體，與能與該丙烯酸系單體進行共聚合的單體之共聚合丙烯酸系樹脂。

共聚合丙烯酸系樹脂中之在側鏈具有碳原子數為18~25之烷基的丙烯酸系單體之共聚合比率較佳為35重量%以上。而且該共聚合量在防污性或共聚合化等方面，則更佳為35~85重量%，且最佳為60~80重量%。

在側鏈具有如此之碳原子數為18~25之烷基鏈(下文也有稱為「長鏈烷基」之情形)之丙烯酸系單體，只要為能符合上述絛件者，則並無特殊限制。例如，在本發明係使用：丙烯酸十八酯、丙烯酸十九酯、丙烯酸二十酯、丙烯酸二十一酯、丙烯酸二十二酯、丙烯酸二十三酯、丙烯酸二十四酯、丙烯酸二十五酯、甲基丙烯酸十八酯、甲基丙烯酸十九酯、甲基丙烯酸二十酯、甲基丙烯酸二十一酯、甲基丙烯酸二十二酯、甲基丙烯酸二十三酯、甲基丙烯酸二十四酯、甲基丙烯酸二十四酯等之含有長鏈烷基之丙烯酸系單體。至於碳原子數為大於25者，由於工業上取得不容易，應以碳原子數約為25者為其上限。

在本發明所使用之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂，基於環境方面之顧慮，較佳為使用水系之塗劑。例如，為加以乳液化，其他之可供進行共聚合的單體，可使用下述丙烯酸系單體或乙烯基系單體。單體可使用：丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸2－環氧基乙酯、丙烯酸2－甲氧基乙酯、丙烯酸2－丁氧基乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、醋酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸酯、苯乙烯、伊康酸、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸－2－羥基乙酯、二甘醇一(甲基)丙烯酸酯、N－羥甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯、磷酸(甲基)丙烯醯氧基乙酯、乙烯基磺酸鈉、苯乙烯磺酸鈉、順丁烯二酸酐等。

較佳的含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂係包括選自甲基丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸二十二酯、丙烯酸二十二酯、甲基丙烯酸－2－羥基乙酯、甲基丙烯酸、丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯之共聚合物等。

可供使用於本發明積層薄膜之積層膜之環氧系交聯劑(B)雖然並無特殊限制，但是在本發明中較佳為分子量為1,000以下。特別是將環氧系交聯劑(B)設定為水溶性且分子量為1,000以下，即可顯現在延伸步驟時之柔軟性或流動性，提高用以形成積層膜的混合體在乾燥後之延伸追隨性，抑制因塗膜龜裂所引起之白化現象，以賦予透明性。另一方面，例如，若分子量為太大時，經塗佈、乾燥後在進行延伸時，則將造成塗膜產生龜裂等之現象，使得透明性下降。此外，將分子量設定為800以下，更佳為600以下時，組成物(A)或含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂(C)與環氧交聯劑(B)，則將更加容易相容，以提高透明性。

在本發明中，由於透明性、導電性等將提高，環氧系交聯劑(B)則較佳為水溶性之交聯劑。

此外，在本發明中，所謂水溶性之交聯劑係意謂水溶率為80%以上之交聯劑，所謂「水溶率」係意謂在23℃下將10份之交聯劑固體成份可溶解於90份之水時，交聯劑所溶解的比率。亦即，水溶率為80%係表示在23℃下10份之交聯劑中有80重量%係可溶解於90份之水，其餘之20重量%的交聯劑則為未溶解物而殘留之狀態。此外，100%水溶率係表示所使用的10份之交聯劑是全部可溶解於90份之水的狀態。此外，在本發明中，環氧系交聯劑(B)之水溶率較佳為90%以上，且更佳為100%。若水溶率高時，則不僅能使塗液本身加以水性化，且也能獲得優異的透明性或導電性。

上述之水溶性環氧系交聯劑，若與添加例如甘油等之高沸點溶劑等相比較，由於不會造成黏連且不會污染用以執行熱處理步驟的拉幅機內部、或大氣，因此適合於使用。

此外，本發明之積層薄膜，係適合於使用下述環氧系交聯劑(B)。例如：山梨糖醇聚縮水甘油基醚系、聚甘油聚縮水甘油基醚系、二甘油聚縮水甘油基醚系、聚乙二醇二縮水甘油基醚系等。具體而言，適合於使用Nagasechemtechs公司製造之環氧化合物「Denacall」(EX－611、EX－614、EX－614B、EX－512、EX－521、EX－421、EX－313、EX－810、EX－830、EX－850等)、坂本藥品工業公司製造之Diepoxy．Polyepoxy系化合物(SR－EG、SR－8EG、SR－GLG等)、大日本油墨化學公司製造之環氧交聯劑「EPICLON」EM－85－75W、或CR－5L等，其中較佳為具有水溶性。

從反應性的觀點來看，環氧系交聯劑(B)之環氧當量(Weight Per Epoxy equivalent)較佳為100~300 WPE。環氧當量更佳為110~200 WPE。

可使用於製造本發明積層薄膜之塗液，較佳為實質的以水為主要介質之水性塗液。可使用於製造本發明積層薄膜之塗液，可以提高塗佈性、透明性等為目的而含有不致於影響到本發明功效範圍內的程度之有機溶劑。例如可使用異丙醇、三級－丁基賽路蘇、正－丁基賽路蘇、乙基賽路蘇、丙酮、N－甲基－2－吡咯啶酮、乙醇、甲醇等。此等之中，從提高塗佈性的觀點來看，則較佳為異丙醇，其含量則較佳為在塗液中為20重量%以下，且更佳為10重量%以下。此外，若在塗液中含有大量有機溶劑時，在適用於所謂的線上塗佈法之情形下，在用以施加預熱、乾燥、延伸及熱處理步驟等之拉幅機，則有爆炸之危險性，因此不佳。

本發明積層薄膜之環氧系交聯劑(B)，在積層膜之狀態下，可為與包含在用以構成積層膜的成份之官能基鍵結之狀態，也可為未經反應之狀態，或已局部性地形成交聯結構。環氧系交聯劑(B)在積層膜之狀態下，從塗膜之強度、耐黏連性或發黏感及耐水性等的觀點來看，則較佳為已成交聯之狀態。此外，交聯可為與包含在其他成份中的官能基鍵結之狀態、或為交聯劑本身之自交聯結構。

此外，在本發明中，可併用數種交聯劑，例如併用環氧系交聯劑(B)與三聚氰胺系交聯劑、或環氧系交聯劑(B)併用不同種類之環氧系交聯劑時，則由於會顯現兩者特性，因此為較佳。此時所使用之交聯劑可為例如三聚氰胺系交聯劑、環氧系交聯劑、吖環丙烷系交聯劑、胺基環氧化合物、鈦螯合物等之鈦酸酯系偶合劑、噁唑啉系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、羥甲基化或烷基醇化之尿素系、丙烯醯胺系等。

本發明積層薄膜之積層膜，在積層膜中，環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物較佳為相對於組成物(A)與環氧交聯劑(B)和/或其反應產物，以固體成份重量比計則為50~95重量%。例如，若環氧交聯劑(B)和/或其反應產物為小於50重量%時，則有可能不易顯現導電性。並且，若環氧交聯劑(B)和/或其反應產物為極小時，例如小於10重量%時，則將變成與未經處理的聚酯薄膜等相同之絶緣體水準，且塗膜之白化較大，透明性也不佳。另一方面，若環氧交聯劑(B)和/或其反應產物為超過95重量%時，透明性雖然會趨於良化，但是有助於導電性的組成物(A)之量太少，使得導電性不易顯現。此外，根據本發明之發明人等之檢討，就透明性或導電性的觀點而言，則環氧交聯劑(B)和/或其反應產物較佳為50~80重量%，且更佳為60~80重量%。只要使積層膜中環氧系交聯劑(B)之含量設定為50~90重量%，即可在極高的水準下使透明性與導電性並存。

本發明積層薄膜之積層膜，除上述組成物(A)與環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物以外，必須含有具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)。只要相對於100重量份之組成物(A)與環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物之合計含有15~100重量份時，即能顯現出防污性，但是進一步含有15~40重量份時，則可對偏光板保護用積層薄膜賦予極為高度的防污性，同時也能賦予導電性。此外，對於轉印用積層薄膜，則能賦予極其高度的離型性，同時也能賦予導電性。並且，若進一步設定成較佳為15~30重量份時，則對於加熱時的低聚合物之析出抑制性、導電性，也能獲得極高水準。其係可推斷為聚噻吩系組成物(A)或環氧系交聯劑(B)等之具有親水性的化合物，亦即，物質表面能量較高者，與如具有碳原子數為18~25之烷基鏈的丙烯酸系樹脂(C)等之疏水性化合物，亦即，物質表面能量較低者雙方之相分離現象所造成。特別是可推斷只要適用於可進行線上塗佈法之在高溫下的熱處理之製程時，此現象即會顯著地出現。

此外，本發明積層薄膜之積層膜，雖然以組成物(A)、環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物、具有碳原子數為18~25之烷基鏈的丙烯酸系樹脂(C)為其必要成份，但是也可又含有其他樹脂、尤其是聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸系樹脂等之至少一種。但是例如關於偏光板保護用積層薄膜，若在積層膜中有聚酯樹脂等之其他樹脂成份超過20重量%時，則本發明之特性，特別是防污性即有不易顯現之傾向，因此若欲添加時，則較佳為10重量%以下，且更佳為5重量%以下；關於轉印用積層薄膜，基於離型性的觀點，則較佳為70重量%以下，且更佳為50重量%以下。

此外，在本發明中，在與設置在熱塑性樹脂薄膜之至少一面的積層膜成相反之側，也可設置由選自聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸系樹脂之至少一種所構成之層。此種情形下，即可獲得設置積層膜之一側係具有並無濕度相依性的高水準之導電性、防污性、平滑性、耐水性、低聚合物之析出抑制性，且相反側則具有黏著性等之其他功能層。例如，若在該層上設置黏著劑層、或設置印刷層時，即可提高黏著性等，因此是有用。

此外，在積層膜中也可在不致於損及本發明功效之範圍內混合各種添加劑，例如抗氧化劑、耐熱安定劑、耐氣候安定劑、紫外線吸收劑、有機易滑劑、顏料、染料、有機或無機之微粒、塡充劑、抗靜電劑、晶核劑等。

特別是在實施本發明時，在塗液中添加混合無機微粒且加以雙軸向延伸，即能提高易滑性，因此為更佳。

可添加之無機微粒係可使用代表性的二氧化矽、膠態二氧化矽、氧化鋁、氧化鋁溶膠、高嶺土、滑石、雲母、碳酸鈣等。所使用之無機微粒只要為不致於損及本發明功效範圍者即可。

其次，就表面粗糙度加以說明。

在本發明中關於積層薄膜之表面粗糙度，其至少一面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)必須為3~50奈米。藉此，若使用於例如以本發明所製得之薄膜於偏光板保護用途等時，則因其係重視表面平滑性而特別適合於使用。

此外，三次元10點平均粗糙度(SRz)係代表大的突起或凹處等之特徵。若該值為大時，則有可能導致例如在偏光板之缺陷檢查時等，該突起即被識別成異物。在本發明中，若用作為偏光板保護用時，則SRa更佳為10~35奈米，且最佳為00~30奈米；SRz為1,500奈米以下，較佳為1,000奈米以下，且更佳為800奈米以下。SRa、SRz係可使用光觸針式三次元粗糙度計ET－30HK(小坂研究所(股)製造)來測定。此外，如測定方法篇段之項目所揭示，係根據JIS－B－0601進行。

此外，在由本發明之轉印用薄膜剝下例如作為構件而以積層狀態使用之光學薄膜或其保護薄膜等來使用時等，由於本發明非常重視其剝離後的構件表面之平滑性或光澤性，因此關於積層薄膜之表面粗糙度，則較佳為至少一面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~15奈米。此外，在本發明中，供設置轉印物的一側之薄膜面表面粗糙度是非常重要，更佳為3~10奈米，且最佳為3~6奈米。此外，三次元10點平均粗糙度(SRz)係代表大的突起或凹處等之特徵，若此值為大時，則有轉印物之表面將局部性地變得粗糙並喪失光澤感等之特徵。在本發明中，用作為轉印用時，則宜將SRz設定為500奈米以下，更佳為300奈米以下。只要設定為上述表面粗糙度(SRa與SRz)，即可使例如剝離後的構件表面之平滑性或光澤性、或轉印箔之光澤性等變得極其優異。當然在本發明中，也可將設置本發明積層薄膜之積層膜的面作為供設置轉印物之面來加以利用，也可將設置該積層膜之相反面作為供設置轉印物之面來加以利用。

為達成上述表面粗糙度，添加在積層膜之微粒，在本發明中則較佳為平均粒徑為0.01~0.3微米者，更佳為0.02~0.15微米，且最佳為0.05~0.1微米；相對於固體成份之混合比，也是並無特殊限制，但是以重量比計則較佳為0.05~20重量份，且更佳為0.1~10重量份。

在本發明中，積層薄膜之霧度較佳為5%以下。更佳為4%以下，且最佳為0.9~3.5%。若大於5%時，則有因透射光之散亂較大且透明性較差而導致缺陷等的檢查性較差之傾向。與此相對，若具有極優越透明性時，則有即使薄膜中之異物等在偏光板保護用途上並不致於成問題的層級之缺陷也可觀察得到之適得其反的結果之傾向。

包含在本發明積層薄膜中平均粒徑為100微米以上之內部異物必須為少於10個/m² ，更佳為少於5個/m² ，且進一步更佳為少於2個/m² 。若為10個/m² 以上時，例如在檢查製品時雖然並非為液晶構件本身之缺陷，但是卻有誤將本發明之偏光板保護薄膜內部異物加以計數，使製品判定為不良品之顧慮。

為使內部異物控制在上述範圍之內，採用在擠出機至擠嘴之間設置高精度的濾網、使用雜質較少的原料、或設定為適當的擠出溫度，即可達成上述範圍內。例如，製膜時的聚酯樹脂之濾網使用平均網眼為3~15微米，較佳為5~10微米之不銹鋼纖維加以燒結壓縮之濾網(FSS)。並且，在上述經燒結壓縮不銹鋼纖維的濾網之後，將平均網眼為10~30微米之不銹鋼鋼粉體加以燒結之濾網(PSS)依此順序配置並作連續過濾、或使用在一容器中同時具有上述兩種濾網之複合濾網(FP)。藉此即可移除觸媒凝集物或粗大微粒，同時可有效率地移除樹脂之凝膠化物或熱劣化物，且可延長濾網壽命。藉此即可提高生產性，因此為特別佳。此外，作為如上所述不容易生成凝集物的金屬觸媒而使用例如以鈦化合物或鍺(Ge)化合物作為聚合時之觸媒是更有效之方法。

關於對本發明積層薄膜之寬度方向(TD)所測定之剖面厚度變化，朝TD每3公分所測定的0.3微米以上之厚度不均勻性之個數較佳為5個以下/m，更佳為3個以下/m，且進一步更佳為1個以下/m。當用作為偏光板保護薄膜時，若例如產生該厚度不均勻性時，在進行檢查時則有可能導致將其部份當作條紋狀缺陷而加以計數，以致偏光板雖然並無問題，但是卻被判定為不合格品之情形。此缺陷係因擠嘴產生痕、或劣化聚合物附著在擠嘴之模唇部份所產生，因此例如採取使用異物較少的原料、淨化擠嘴、或擴大擠嘴之模唇間隙以使劣化聚合物不容易附著等措施即可控制在上述範圍內。

上述「厚度不均勻性」係意謂在連續地測定薄膜厚度時，在其測定範圍內的厚度最大值與厚度最小值之差。

在本發明中，積層薄膜之100微米以上之附著異物較佳為少於10個/m² ，更佳為少於5個/m² ，且進一步更佳為少於2個/m² 。若為10個/m² 以上時，用作為偏光板保護薄膜時，例如在進行製品檢查時，則有可能導致雖然並非為液晶構件本身之缺陷，但是卻誤將本發明偏光板保護薄膜之附著異物加以計數，使得製品被判定為不良品。為使附著異物符合上述範圍內，採取改善製膜室之潔淨度、減少在拉幅機內之低聚合物含量、在製膜生產線中使用黏著輥來移除附著異物、或在製膜生產線中以除塵器等之空氣移除附著異物之措施，即可達成上述範圍內。

此外，實施本發明時，水系樹脂之塗佈方法可使用例如逆向塗佈法、噴塗法、棒塗法、照相凹版塗佈法、桿塗法、模具塗佈法等。

積層膜之厚度雖然並無特殊限制，但是通常較佳為在0.005~0.2微米之範圍，更佳為0.01~0.1微米，且最佳為0.01微米~0.05微米。若積層膜之厚度為太薄時，則有可能導致導電性不良之情形。

在製造本發明積層聚酯薄膜時，為設置積層膜較為可行的方法是在聚酯薄膜之製程中加以塗佈並與基材薄膜一起加以延伸之方法。例如，將經熔融擠出之結晶配向前的聚酯薄膜朝長度方向加以延伸約2.5~5倍，並將塗液連續塗佈在經單軸向延伸之薄膜上。經塗佈的薄膜將通過階段性加熱之區域同時加以乾燥，並朝寬度方向加以延伸約2.5~5倍。此外，藉由連續地導入150~250℃之加熱區以完成結晶配向之方法(線上塗佈法)即可獲得。此時所使用之塗佈液，從環境污染或防爆性的觀點來看，則較佳為水系。

在本發明中，從提高積層膜之與基材薄膜的黏著性的觀點來看，較佳為在塗佈塗液之前，在基材薄膜之表面(在上述實例之情形時，則為單軸向延伸薄膜)施加電暈放電處理等，以使該表面之潤濕張力控制在47 mN/m以上，且更佳為50 mN/m以上。此外，也可在塗液中含有若干量之異丙醇、丁基賽路蘇、N－甲基－2－呲咯啶酮等之有機溶劑，以提高潤濕性或與基材薄膜之黏著性。

其次，關於本發明積層薄膜之製造方法，以聚對苯二甲酸乙二醇酯(在下文中簡稱為「PET」)作為基材薄膜之實例更詳加說明如下，但是並不受限於此等實例。

茲以具體例示說明本發明積層薄膜之製造方法如下。將極限黏度為0.5~0.8 dl/g之PET酯粒加以真空乾燥後，供應至擠出機且在260~300℃加以熔融。其後，以切斷為3~15微米之不銹鋼纖維燒結濾網(FSS)過濾後，由T字型擠嘴擠出成薄片狀，並使用外加靜電流延法纏繞在表面溫度為10~60℃之鏡面流延轉筒上，並使其冷卻固化以製造未延伸PET薄膜。將該未延伸薄膜在加熱至70~120℃之輥間朝縱方向(薄膜之進行方向)施加2.5~5倍之延伸。然後對薄膜之至少一面施加電暈放電處理，使該表面之潤濕張力為47 mN/m以上，並在其處理面塗佈本發明之水性塗液。以夾具夾持該經塗佈的薄膜並導入經加熱至70~150℃之熱風區加以乾燥後，則朝寬度方向延伸2.5~5倍，接著導入160~250℃之熱處理區進行1~30秒鐘之熱處理，以使其完成結晶配向。在該熱處理步驟中，必要時也可朝寬度方向或長度方向施加1~10%之鬆弛處理。雙軸向延伸係可採用縱、橫逐次延伸、或同時雙軸向延伸中之任一方法，而且經縱、橫延伸後，也可朝縱、橫任一方向再行延伸。此外，聚酯薄膜之厚度雖然並無特殊限制，但是較佳為1~500微米。所謂「同時雙軸向延伸法」係意謂朝縱方向與橫方向同時加以延伸之方式，且採取同時雙軸向法時之延伸溫度較佳為70~180℃，延伸倍率較佳為9~35倍之範圍。

此外，在設置積層膜之基材薄膜中，使其含有選自積層膜形成組成物、或積層膜形成組成物之反應產物之至少一種物質，藉此即可提高積層膜與基材薄膜之黏著性、或提高易滑性。積層膜形成組成物、或該反應產物之添加量，從黏著性、易滑性的觀點來看，則較佳為其添加量之合計為5 ppm以上且少於20重量%。特別是若考慮到環境保護、生產性時，則較佳為使用含有該積層膜形成組成物的再生酯粒之方法。

藉由此方法所獲得本發明之偏光板保護用積層薄膜，由於可在不受濕度變化之影響下顯現出高水準導電性，且具有防污性、平滑性、透明性，並且令人驚奇的是也兼備低聚合物之析出抑制性，因此特別適合用作為偏光板保護用途之基材薄膜。

此外，藉由此方法所獲得本發明之轉印用積層薄膜，係具有高水準之導電性、具有優越的離型性、耐水性、光澤性，並且也兼備加熱時之低聚合物之析出抑制性。因此，適合用作為用以熱壓印刷輪法、模內轉印法或真空加壓轉印法等的轉印箔。並且，也可在IT．平面面板顯示器．攜帶式電話．光學用途等方面，預先在本發明積層薄膜上設置例如硬質塗層與黏著劑層，然後在進行組裝製品時加以轉印該積層體來使用。另外，也可預先在本發明積層薄膜之積層面上以塗佈等方法直接積層將用作為光學用構件之薄膜狀或薄片狀物，然後在必要時則利用本發明積層膜之離型性來予以剝離，且也可利用其平滑性而以剝離法或溶液流延法等來獲得具有優越的光澤性之光學用構件。

在本發明中之特性測定方法及功效評估方法如下。

(1)積層膜之厚度將試料，例如積層聚酯薄膜之剖面予以裁切超薄切片，並藉由RuO₄ 染色、OsO₄ 染色、或兩者之雙重染色的染色超薄切片法，以TEM(透射型電子顯微鏡)加以觀察攝影。然後以其剖面照片進行積層膜之厚度測定。並採用測定視野中的10處之平均值。

觀察方法．裝置：透射型電子顯微鏡(日立(股)製造之H－7100FA型)．測定條件：加速電壓100 kV．試料調整：超薄切片法．觀察倍率：20萬倍。

(2)表面粗糙度評估測定積層薄膜之積層膜表面之表面粗糙度。根據JIS－B－0601，三次元中心線平均粗糙度(SRa)及三次元10點平均粗糙度(SRz)係使用光觸針式三次元粗糙度計ET－30HK(小坂研究所(股)製造)，並在測定長度為0.5毫米、測定支數為80支、截止為0.25毫米、供應間距為5微米、觸針荷重為10 mg、速率為100微米/秒鐘下進行測定。此外，實行3次測定，並採用其平均值。

(3)導電性評估測定積層薄膜之積層膜表面之導電性。導電性使用表面電阻率之值。表面電阻率之測定係在常態(23℃、相對濕度為65%)下放置24小時後，在該氣氛下，根據JIS－K－7194之準則，使用Rorester表面電阻計－EP(三菱化學(股)公司製造，型號：MCP－T360)來實施。單位為Ω/□。此外，本測定器係可測定1×10⁶ Ω/□以下。

至於1×10⁶ Ω/□以上之區域，則使用數位式超高電阻/微電流計R8340A(Advantest(股)製造)，並藉由100 V之施加電壓施加10秒鐘後，進行測定。單位為Ω/□。在本發明中，則將屬1×10⁶ Ω/□以下者判斷為具有良好導電性，且屬1×10⁵ Ω/□以下是判斷為具有極其優異的導電性。

此外，為測定導電性之濕度相依性，則在23℃、相對濕度為20%之環境放置1小時後，實施與上述相同測定。上述測定係採用各2次測定值之平均值。

(4)耐水性將積層薄膜使用自來水在流水下洗淨1分鐘後，在60℃風乾5分鐘後，實施第(3)項所揭示之導電性評估。與實施耐水性評估前之導電性相比較，結果實施該耐水性評估後的導電性變化為小者是具有優越的耐水性。

(5)防污性(水滴接觸角)評估積層薄膜之積層膜表面之防污性。防污性係以低表面能量者為優異，且以疏水性表面為優越。在本發明中，則將水滴接觸角用作為防污性之參數，即水滴接觸角愈大愈會顯現優異的防污性。此外，在本發明中，若達95度以上時，則判斷為防污性良好，且以98度以上為具有優越的防污性，以100度以上為會顯現極其優異的防污性。此外，測定係在23℃、相對濕度為65%之條件下，以接觸角計CA－D型(協和界面科學(股)製造)實施，並採用3次測定之平均值。

(6)離型性(水滴接觸角)評估積層薄膜之積層膜表面之離型性。離型性係以低表面能量者為優異，且以疏水性表面為優越。在本發明中，則將水滴接觸角用作為離型性之參數，即水滴接觸角愈大愈會顯現優異的離型性。此外，在本發明中，若達95度以上時則判斷為離型性良好，且以98度以上為具有優越的離型性，以100度以上為會顯現極其優異的離型性。此外，測定係在23℃、相對濕度為65%之條件下，以接觸角計CA－D型(協和界面科學(股)製造)實施，並採用3次測定之平均值。

(7)霧度透明性之指標係使用霧度。霧度之測定係在常態(23℃、相對濕度為65%)，將積層薄膜放置2小時後，使用Suga試驗機(股)製造之全自動直讀式霧度電腦「HGM－2DP」來實施。採用經測定3次之平均值為該試料之霧度值。

(8)低聚合物之析出抑制性－1評估積層薄膜之積層膜表面之低聚合物之析出抑制性。將藉由本發明所製得之積層薄膜放置在180℃之熱風爐中歷時30分鐘，使低聚合物由基材薄膜析出。相反面(但是對相反面也設置積層膜或塗佈層者，則為其表面)則使用經浸漬DMF(N,N－二甲基甲醯胺)的「Vencotton」(旭化成工業(股)製造)來拭取該面，然後根據上述霧度測定方法測定霧度。此外，霧度上升為較小者，則予以判斷為具有優越的低聚合物之析出抑制性。

(9)低聚合物之析出抑制性－2係加以評估積層薄膜之積層膜表面之低聚合物之析出抑制性。將經以本發明所製得之積層薄膜歷時30分鐘放置於180℃之熱風爐中，使低聚合物由基材薄膜析出。將尺寸為10公分×10公分之該積層膜表面浸漬於DMF(N,N－二甲基甲醯胺)3分鐘，然後將經洗提之該DMF中的低聚合物量，供HPLC(高性能液體層析儀)測定，以加以定量。此外，單位係換算為經浸漬的薄膜表面每1 m² 之析出量(mg)。此外，評估係將每單位面積之析出量愈少者則判斷為低聚合物之析出抑制性為愈高，例如，若為約2 mg/m² 時則視為具有充分的低聚合物之析出抑制性。

(10)光澤性將本發明積層薄膜用作為轉印用途時的轉印物之光澤性模型試驗，而在本發明積層薄膜之積層膜實施0.5微米之鋁蒸鍍，並以下述基準評估該表面之光澤感：(優)：均勻地具有極其優越的光澤性；(良)：具有優越的光澤性；(不可)：無光澤性，呈被消光之狀態。

(11)內部異物檢查係以正交尼科耳法實施異物檢查。亦即，在兩片偏向板之間裝入試料以供檢查。測定器係使用新東科學(股)公司製造之「HEIDON－13型應變檢查機」。使用空氣吹塵器移除表面之塵埃等後，將試料之10 m² 份面積進行檢查，若有異物時則以光學顯微鏡(50~400倍)測定其尺寸。尺寸係測定異物的最長部份的長度(長軸)，然後將其為屬100微米以上之個數加以計數，並以其全部個數為A個且根據下式加以換算，然後比較該值：內部異物個數〔個/m² 〕＝A〔個〕/10〔m² 〕。

(12)厚度不均勻性使用接觸式連續厚度計Anritz(股)公司製造之「KG601B」。試料之評估方向係寬度方向(TD)，且對製品之全寬度實施測定。測定頻率係對長度方向(MD)每隔10公尺、測定1次全寬度，且重複5次。由其測定結果將薄膜每3公分長度的0.3微米以上之厚度不均勻性個數加以計數，並以其全部個數為B個，且根據下式加以換算，然後比較該值：厚度不均勻性〔個/m〕＝B〔個：5次份之合計〕/5〔次〕/測定1次之寬度長度〔m〕。

(13)附著異物檢查在暗室使用3波長螢光燈之反射光來實施目視檢查。對試料每10 m² 份實施檢查，若有異物時，則以光學顯微鏡(50~400倍)測定其尺寸大小。尺寸大小係測定異物之最長部份之長度(長軸)，然後將長軸長度為屬100微米以上之個數加以計數，並以其全部個數為C個，且根據下式加以換算，然後比較該值：附著異物個數〔個/m² 〕＝C〔個〕/10〔m² 〕。

(14)偏光板檢查性使用所製得之聚酯薄膜，將由100份之硬化型聚矽氧樹脂(信越化學工業(股)製造之「KS－779H」)、1份之硬化劑(信越化學工業(股)製造之「CAT－PL－8」、2,200份之由甲基乙基酮/甲苯混合溶劑所構成之離型劑予以塗佈成塗佈量為0.2 g/mm² ，並在175℃下乾燥15秒鐘，以獲得離型薄膜。預先準備兩片之無異物．亮點缺陷之偏光板，且命名為偏光板A、偏光板B。然後以能使離型薄膜之寬度方向與偏光薄膜之配向軸成為平行之方式，使離型薄膜隔著黏著劑密著在偏光板A上。其次，則以能使配向軸與薄膜寬度方向成正交之方式將偏光板B疊合在該偏光板A之下面，並由偏光板B下側照射白色光。從偏光板A之上側由3檢查員各自以目視進行觀察，若發現缺陷則作記號，其後以光學顯微鏡測定其尺寸大小，並將其結果加以平均，然後根據下述基準來評估目視檢查性。測定面積係每人負責觀察10 m² 。此外，光學顯微鏡之測定倍率係使用50~400倍來測定缺陷尺寸大小。

(優)：缺陷之長軸長度為100微米以上者具有0~3個/m² 以下；(良)：缺陷之長軸長度為100微米以上者具有3個/m² 以上、10個/m² 以下；(不良)：缺陷之長軸長度為100微米以上者具有10個/m² 以上。

(15)剝離帶電評估法在藉由上述第(14)項所製得之離型薄膜之離型層面貼附聚酯黏著帶(Nitto－31B)，然後以5公斤壓接輥加以壓接，並保持在70℃、24小時之條件下後，使離型薄膜側朝下加以水平固定，以500毫米/分鐘之拉伸速度加以180度剝離後，將聚酯黏著帶之黏著劑面的電位從黏著劑面，使用測定器Simuco日本(股)公司製造之「FMX－002」由25毫米之距離加以測定，以作為剝離帶電量。測定次數係實施10次。

(良)：剝離帶電量為－2 KV~2 KV之範圍內，並可在無異音下加以剝離；(不良)：剝離帶電量為低於－2 KV、或大於2 KV時。

(16)條紋狀缺陷評估與上述第(14)項相同方法製造離型薄膜，並以與上述第(14)項相同方法以目視觀察。

(良)：未觀察到條紋狀缺陷；(不良)：觀察到條紋狀缺陷。

《實施例》

其次，將根據實施例加以說明本發明，但是本發明並不受限於此等。

〔實施例1〕

相對於100公斤之高純度對苯二甲酸，將45公斤之乙二醇漿體，以歷時4小時逐漸地供應至預先裝入約123公斤之對苯二甲酸雙(羥基乙酯)，且保持在溫度為250℃、壓力為1.2×10⁵ Pa之酯化反應槽中。供應結束後再進行酯化反應歷時1小時，然後將該酯化反應產物移送於聚縮合反應槽中。接著，在經移送酯化反應產物之上述聚縮合反應槽添加入0.01重量份之醋酸二乙基磷酸基乙酯，再添加0.04重量份之醋酸鎂四水合鹽，並且將三氧化二銻(住友金屬鑛山(股)製造)作為聚合觸媒添加成相對於所製得之聚酯為以銻原子換算計能成為400 ppm。此外，將平均粒徑為0.4微米之二氧化矽微粒作為添加劑添加成相對於聚酯為能成為0.015重量%，再將平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒添加成相對於聚酯為能成為0.006重量%。其後，則將低聚合物邊以30 rpm加以攪拌，邊以歷時60分鐘使反應系統從250℃升溫至285℃，同時使壓力降低至40 Pa。另外，到達最終壓力所需之時間係設定為60分鐘。在到達特定之攪拌轉矩時，則以氮氣清洗反應系統，然後恢復至常壓以使聚縮合反應停止，然後以股條狀吐出於20℃之冷水，並立即加以切斷以獲得聚酯之酯粒。此外，自開始減壓起直至到達特定的攪拌轉矩所需之時間為3小時。

所獲得聚酯酯粒係極限黏度為0.63 dl/g，羥基末端基量為40當量/噸，玻璃轉移溫度(Tg)為78℃，環狀三聚物含量為1.1重量%。

將該聚酯酯粒以真空乾燥至水份率為20 ppm後，供應至擠出機，並在285℃之溫度加以熔融。其後，則以8微米切割不銹鋼纖維燒結濾網(FSS)過濾後，由模唇間隙為3.5毫米之T字型擠嘴擠出成薄片狀。經擠出之聚合物使用外加靜電流延法纏繞在表面溫度為20℃之鏡面流延轉筒上，並加以冷卻固化。將藉此所獲得之未延伸薄膜，加熱至88℃之溫度並朝長度方向加以延伸3.3倍，以作為單軸向延伸薄膜。對該單軸向延伸薄膜在空氣中施加電暈放電處理，然後在其處理面塗佈下述積層膜形成塗液。接著，一面以夾具夾持經塗佈積層膜形成塗液之單軸向延伸薄膜、一面導入預熱區，在95℃之溫度下加以乾燥後，緊接著連續地在110℃溫度之加熱區朝寬度方向加以延伸3.8倍。此外，在230℃溫度之加熱區施加熱處理，以獲得經結晶配向之積層PET薄膜。所獲得PET薄膜之厚度為38微米，積層膜之厚度為0.025微米。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

「積層膜形成塗液」．液A1：係由聚－3,4－伸乙基二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸所構成之複合物之水性塗液(Bayer公司/H.C.Starck公司(德國)製造之「Baytron」P)。

．塗液B1：係作為環氧交聯劑，將聚羥基烷聚縮水甘油基醚系環氧交聯劑(大日本油墨化學工業(股)製造之CR－5L(環氧當量為180、水溶率為100%))溶解於水之水性塗液。

．塗液C1：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有10重量之%異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝10/90之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液1」)。其後，則將該熟成塗液1和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液1/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。此外，此時之各塗液的固體成份重量比為塗液A1/塗液B1/塗液C1＝10/90/20。

〔實施例2〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代在實施例1所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B1和塗液C1係使用與實施例1相同者。

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例3〕

．塗液D1：係平均粒徑為45奈米之膠體二氧化矽的水性塗液。

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2、塗液C1和塗液D1，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C1/塗液D1＝100/20/3之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例4〕

除使用含有0.06重量%之平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)以作為在實施例1所使用之PET酯粒，且使用下述積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C1＝100/25之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例5〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代在實施例4所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例4相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B1和塗液C1係使用與實施例4相同者。

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C1＝100/30之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例6〕

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝40/60之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液3」)。其後，則將該熟成塗液3和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液3/塗液C1＝100/15之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例7〕

「積層膜形成塗液」．塗液A1和塗液B1係使用與實施例4相同者。

．塗液C2：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有5重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下艾中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C2，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C2＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例8〕

．塗液C3：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有5重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C3，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C3＝100/40之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例9〕

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C3，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C3＝100/100之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例10〕

．塗液C4：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有10重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C4，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C4＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例11〕

「積層膜形成塗液」．塗液A1係使用與實施例4相同者。

．塗液B2：係作為環氧交聯劑，將山梨糖醇聚甘油聚縮水甘油基醚系環氧交聯劑(Nagasechemtechs(股)製造之「Denacall」EX－614B(分子量為約550、環氧當量為173、水溶率為94%))溶解於水之水性塗液。

．塗液C4係使用與實施例9相同者。

將上述塗液A1和塗液B2，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B2＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液4」)。其後，則將該熟成塗液4和塗液C4，以固體成份重量比計，以熟成塗液4/塗液C4＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔實施例12〕

除作為以實施例1所使用之PET酯粒而使用未含微粒之PET酯粒(極限黏度為0.65 dl/g)，且使用下述積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。

〔實施例13〕

．塗液C5：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有10重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C5，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C5＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其係具有優越的導電性、防污性、透明性、檢查性、低聚合物之析出抑制性等。

〔比較例1〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代在實施例1所使用之積層膜形成塗液，且使塗佈層厚度變更為0.08微米以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液E1：係將聚苯乙烯磺酸銨鹽(重量平均分子量：65,000)溶解於水之水性塗液。

．塗液F1：係將由下述共聚合組成所構成之丙烯酸系樹脂(玻璃轉移溫度：42℃)以微粒狀分散於水之水性塗液(乳液粒徑為50奈米)。

(共聚合成份)甲基丙烯酸甲酯(烷基鏈之碳原子數為1) 62重量%丙烯酸乙酯(烷基鏈之碳原子數為2) 35重量%丙烯酸 2重量% N－羥甲基丙烯醯胺 1重量%

將上述塗液E1和塗液F1，以固體成份重量比計，以塗液E1/塗液F1＝20/80之比率加以混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表2。其導電性、防污性係極差。

〔比較例2〕

「積層膜形成塗液」．塗液A1係使用與實施例1相同者。

．塗液B3：係作為環氧交聯劑，將聚甘油聚縮水甘油基醚系環氧交聯劑(Nagasechemtechs(股)製造之「Denacall」EX－512(分子量約為630，環氧當量為168、水溶率為100%))溶解於水之水性塗液。

．塗液G1：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有5重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液G1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液G1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表2。其防污性係較差。

〔比較例3〕

除作為以實施例1所使用之PET酯粒而使用含有14重量%之氧化鈦，且含有0.5重量%之平均粒徑為4微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.62 dl/g)，且使用下述積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。此外，所製得之PET薄膜厚度為188微米，且積層膜厚度為0.025微米。將其結果展示於表2，其導電性或防污性雖然良好，但是卻因氧化鈦而顯現出隱蔽性，以致完全不能獲得透明性，因此不適合於用作為偏光板保護用薄膜。而且內部異物量也不能加以定量化。

「積層膜形成塗液」．塗液A1係使用與實施例1相同者。

．塗液C1係使用與實施例1相同者。

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。

〔比較例4〕

除作為實施例1所使用之PET酯粒而使用含有0.2重量%之平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)，且使用下述積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。所製得之PET薄膜厚度為7微米，且積層膜厚度為0.025微米。將其結果展示於表2。其導電性或防污性雖然良好，但是透明性、檢查性是較差。此外，透明性不佳，且內部異物量也不能加以定量化之程度。

「積層膜形成塗液」．塗液A1係使用與實施例1相同者。

．塗液C1係使用與實施例1相同者。

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。。

〔比較例5〕

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝40/60之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液3」)。其後，則將該熟成塗液3和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液3/塗液C1＝100/10之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其防污性係較差。

〔比較例6〕

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B1係使用與實施例4相同者。

．塗液G2：將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有5重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液G2，以固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液G2＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表1。其防污性係較差。

〔實施例14〕

相對於100公斤之高純度對苯二甲酸，將45公斤之乙二醇漿體，以歷時4小時逐漸地供應至預先裝入約123公斤之對苯二甲酸雙(羥基乙基)酯，且保持在溫度為250℃、壓力為1.2×10⁵ Pa之酯化反應槽中。供應結束後也再以歷時1小時進行酯化反應，然後將該酯化反應產物移送於聚縮合槽中。接著，在經移送酯化反應產物之上述聚縮合反應槽中，添加0.01重量份之醋酸二乙基磷酸基乙酯，再添加0.04重量份之醋酸鎂四水合鹽，並且將作為聚合觸媒之三氧化二銻(住友金屬鑛山(股)製造)添加成相對於所製得之聚酯為以銻原子換算計能成為400 ppm。此外，再將平均粒徑為2.3微米、比表面積為300 m² /g之二氧化矽微粒添加成相對於聚酯為能成為0.04重量%。其後，則將低聚合物邊以30 rpm加以攪拌，邊以歷時60分鐘使反應系統從250℃升溫至285℃，同時使壓力降低至40 Pa。另外，到達最終壓力所需之時間係設定為60分鐘。在到達特定之攪拌轉矩時，則以氮氣清洗反應系統，然後恢復至常壓以使聚縮合反應停止，然後以股條狀吐出於20℃之冷水，並立即加以切斷以獲得聚酯之酯粒。此外，自開始減壓起直至到達特定的攪拌轉矩所需之時間為3小時。

所製得之聚酯酯粒係極限黏度為0.62 dl/g、羧基末端基量為40當量/噸、玻璃轉移溫度(Tg)為78℃、環狀三聚物含量為1.1重量%。

將該聚酯酯粒以真空乾燥成水份率為20 ppm後，供應至擠出機並在285℃之溫度加以熔融。其後、則以8微米切割不銹鋼纖維燒結濾網(FSS)過濾後，由模唇間隙為3.5毫米之T字型擠嘴擠出成薄片狀。經擠出之聚合物使用外加靜電流延法纏繞在表面溫度為25℃之鏡面流延轉筒上，並加以冷卻固化。將藉此所獲得之未延伸薄膜，予以加熱至92℃之溫度並朝長度方向加以延伸3.5倍，以作為單軸向延伸薄膜。對該單軸向延伸薄膜在空氣中施加電暈放電處理，使其潤濕張力為50 mN/m以上，並在其處理面塗佈下述積層膜形成塗液。接著，一面以夾具夾持經塗佈積層膜形成塗液之單軸向延伸薄膜、一面導入預熱區，在115℃之溫度下加以乾燥。其後，緊接著連續地在100℃溫度之加熱區朝寬度方向加以延伸3.8倍，再在225℃溫度為2.6秒鐘，230℃溫度為2.6秒鐘之加熱區施加熱處理。以上述方法獲得經結晶配向之積層PET薄膜，並在予以捲取之前使用除塵器移除表面塵埃。所獲得之PET薄膜厚度為38微米，積層膜厚度為0.025微米。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的導電性、離型性、100微米以上之內部異物、霧度、厚度不均勻性、100微米以上之附著異物者。

「積層膜形成塗液」．塗液A1：係由聚－3,4－伸乙基二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸所構成的複合物之水性塗液(Bayer公司/H.C.Starck公司(德國)製造之「Baytron」P)。

．塗液B3：係作為環氧交聯劑，將聚甘油聚縮水甘油基醚系環氧交聯劑(Nagasechemtechs(股)製造之「Denacall」EX－512(分子量為約630、環氧當量為168、水溶率為100%))溶解於水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C2，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C2＝100/25之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例15〕

除作為以實施例14所使用之PET酯粒而使用含有0.07重量%之平均粒徑為2.3微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.62 dl/g)以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例16〕

除在聚合實施例14所使用之PET酯粒時使用鈦系聚合觸媒以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例17〕

除將在實施例14所採用之「逐次雙軸向延伸法」變更為「同時雙軸向延伸法」以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例18〕

除在實施例14中變更為不使用除塵器以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例19〕

除作為以實施例14所使用之PET酯粒而使用含有0.06重量%之平均粒徑為2.3微米之膠態二氧化矽，及0/03重量%之平均粒徑為3.8微米之膠態二氧化矽之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔實施例20〕

除作為以實施例14所使用之PET酯粒而使用未含有微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其係具有優越的偏光檢查性、條紋狀缺陷、剝離帶電評估和光澤性。

〔比較例7〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代實施例14所使用之積層膜形成塗液，且變更塗佈層厚度為0.08微米以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。

(共聚合成份)甲基丙烯酸甲酯(烷基鏈之碳原子數為1) 62重量%甲基丙烯酸乙酯(烷基鏈之碳原子數為2) 35重量%丙烯酸 2重量% N－羥甲基丙烯醯胺 1重量%

將以上述塗液E1和塗液F1，以固體成份重量比計，以塗液E1/塗液F1＝20/80之比率加以混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表3和表4。結果其係剝離帶電評估為較差。

〔比較例8〕

除使用14微米切割不銹鋼粉體燒結濾網(PSS)以取代在實施例14所使用之8微米切割不銹鋼纖維燒結濾網(FSS)以外，其餘則以與實施例14相同方法製造積層PET薄膜。將其結果展示於表3和表4。其偏光檢查性係較差。

〔實施例21〕

相對於100公斤之高純度對苯二甲酸，將45公斤之乙二醇漿體，以歷時4小時逐漸地供應至預先裝入約123公斤之對苯二甲酸雙(羥基乙基)酯，且保持在溫度為250℃、壓力為1.2×10⁵ Pa之酯化反應槽中。供應結束後也再以歷時1小時進行酯化反應，然後將該酯化反應產物移送於聚縮合槽中。接著，在經移送酯化反應產物之上述聚縮合反應槽中，添加0.01重量份之醋酸二乙基磷酸基乙酯，再添加0.04重量份之醋酸鎂四水合鹽，並且將作為聚合觸媒之三氧化二銻(住友金屬鑛山(股)製造)添加成相對於所製得之聚酯為以銻原子換算計能成為400 ppm。此外，將作為添加劑之平均粒徑為0.4微米之二氧化矽微粒添加成相對於聚酯為能成為0.015重量%，再將平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒添加成相對於聚酯為能成為0.006重量%。其後，則將低聚合物邊以30 rpm加以攪拌，邊以歷時60分鐘使反應系統從250℃升溫至285℃，同時使壓力降低至40 Pa。另外，到達最終壓力所需之時間係設定為60分鐘。在到達特定之攪拌轉矩時，則以氯氣清洗反應系統，然後恢復至常壓以使聚縮合反應停止，然後以股條狀吐出於20℃之冷水，並立即加以切斷以獲得聚酯之酯粒。此外，自開始減壓起直至到達特定的攪拌轉矩所需之時間為3小時。

所製得之聚酯酯粒係極限黏度為0.63 dl/g、羧基末端基量為40當量/噸、玻璃轉移溫度(Tg)為78℃、環狀三聚物含量為1.1重量%。

將該聚酯酯粒以真空乾燥成水份率為20 ppm後，供應至擠出機並在285℃之溫度加以熔融。其後、則以8微米切割不銹鋼纖維燒結濾網(FSS)過濾後，由模唇間隙為3.5毫米之T字型擠嘴擠出成薄片狀。經擠出之聚合物使用施加靜電流延法纏繞在表面溫度為20℃之鏡面流延轉筒上，並加以冷卻固化。將藉此所獲得之未延伸薄膜，予以加熱至92℃之溫度並朝長度方向加以延伸3.3倍，以作為單軸向延伸薄膜。對該單軸向延伸薄膜在空氣中施加電暈放電處理，使其潤濕張力為55 mN/m，並在其處理面塗佈下述積層膜形成塗液。接著，一面以夾具夾持經塗佈積層膜形成塗液之單軸向延伸薄膜、一面導入預熱區，在95℃之溫度下加以乾燥。其後緊接著連續地在100℃溫度之加熱區朝寬度方向加以延伸3.5倍，再在225℃溫度之加熱區施加熱處理，以獲得經結晶配向之積層PET薄膜。所獲得之PET薄膜厚度為38微米，積層膜厚度為0.025微米。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

「積層膜形成塗液」．塗液A1：係由聚－3,4－伸乙基二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸所構成之複合物之水性塗液(Bayer公司/H.C.Starck公司(德國)製造之「Baytron」P)。

．塗液B3：係作為環氧交聯劑，將聚甘油聚縮水甘油基醚環氧交聯劑(Nagasechemtechs(股)製造之「Denacall」EX－512(分子量為約630、環氧當量為168、水溶率為100%))溶解於水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C2，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C2＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。此外，此時，各塗液之固體成份重量比係塗液A1/塗液B3/塗液C2＝25/75/20。

〔實施例22〕

除作為以實施例21所使用之PET酯粒而使用含有0.06重量%之平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)，使用下述積層膜形成塗液，且變更PET薄膜之厚度為16微米以外，其餘則以與實施例21相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B3係使用與與實施例21相同者。

．塗液C1：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有10重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝40/60之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液6」)。其後，則將該熟成塗液6和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液6/塗液C1＝100/15之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例23〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代以實施例22所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例22相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B3、塗液C1係使用與實施例22相同者。

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例24〕

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/40之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例25〕

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/100之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例26〕

除作為以實施例22所使用之PET酯粒而使用未含有微粒之PET酯粒(極限黏度為0.65 dl/g)，使用下述積層膜形成塗液，且變更PET薄膜之厚度為100微米以外，其餘則以與實施例22相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1和塗液B3係使用與實施例22相同者。

．塗液C6：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有10重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C6，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C6＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例27〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代以實施例26所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例26相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B3、塗液C2係使用與實施例21相同者。

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C2，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C2＝100/30之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例28〕

「積層膜形成塗液」．塗液A1係使用與實施例21相同者。

．塗液B1：係作為環氧交聯劑，將聚羥基烷聚縮水甘油基醚系環氧交聯劑(大日本油墨化學工業(股)製造之CR－5L(環氧當量為180，水溶率為100%))溶解於水之水性塗液。

．塗液C1係使用與實施例22相同者。

將上述塗液A1和塗液B1，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B1＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液2」)。其後，則將該熟成塗液2和塗液C1固體成份重量比計，以熟成塗液2/塗液C1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。

〔實施例29〕

除在實施例28中，在與設置積層膜之相反面，在與設置該積層膜同時以線上塗佈法設置由下述聚酯樹脂所構成之塗佈層以外，其餘則以與實施例28相同方法製造積層PET薄膜。此外，此時設置該塗佈層之一側的表面粗糙度為SRa＝5奈米、SRz＝70奈米。將其結果展示於表5和表6。其係具有優越的導電性、離型性、低聚合物之析出抑制性和光澤性。並且，若在設置於相反面的由聚酯樹脂所構成之塗佈層上設置氧化聚合型印刷油墨層時，則其係具有優越的黏著性。

「塗佈層形成塗液」．聚酯樹脂水分散體：係將由下述共聚合成份所構成之聚酯樹脂以微粒狀分散於水之水性塗液。

(共聚合成份)對苯二甲酸 70莫耳%間苯二甲酸 23莫耳% 5－磺基間苯二甲酸鈉 7莫耳%乙二醇 70莫耳%二甘醇 30莫耳%

〔實施例30〕

除作為以實施例21所使用之PET酯粒而使用含有0.016重量%之平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)，且使用下述積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例21相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1和塗液B3係使用與實施例21相同者。

．塗液C1係使用與實施例22相同者。

〔比較例9〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代以實施例21所使用之積層膜形成塗液，且變更塗佈層之厚度為0.08微米以外，其餘則以與實施例21相同方法製造積層PET薄膜。

將上述塗液E1和塗液F1，以固體成份重量比計，以塗液E1/塗液F1＝20/80之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係導電性、離型性為極差。

〔比較例10〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代以實施例21所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例21相同方法製造積層PET薄膜。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液G1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液G1＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係離型性、低聚合物之析出抑制性極差。

〔比較例11〕

除使用下述積層膜形成塗液以取代以實施例21所使用之積層膜形成塗液以外，其餘則以與實施例1相同方法製造積層PET薄膜。

．塗液G2：係將由下述共聚合組成所構成之含有長鏈烷基之丙烯酸系樹脂溶解於含有5重量%之異丙醇和5重量%之正－丁基賽路蘇的水之水性塗液。

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液G2，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液G2＝100/20之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其係離型性差。

〔比較例12〕

(共聚合成份)

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝25/75之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液5」)。其後，則將該熟成塗液5和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液5/塗液C1＝100/5之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其離型性係極差。

〔比較例13〕

除作為以比較例12所使用之PET酯粒而使用含有0.06重量%之平均粒徑為1.5微米之二氧化矽微粒之PET酯粒(極限黏度為0.63 dl/g)，使用下述積層膜形成塗液，且變更PET薄膜之厚度為16微米以外，其餘則以與比較例12相同方法製造積層PET薄膜。

「積層膜形成塗液」．塗液A1、塗液B3、塗液C1係使用與比較例12相同者。

將上述塗液A1和塗液B3，以固體成份重量比計，以塗液A1/塗液B3＝40/60之比率加以混合，在常溫下熟成歷時5日(在下文中則簡稱為「熟成塗液6」)。其後，則將該熟成塗液6和塗液C1，以固體成份重量比計，以熟成塗液6/塗液C1＝100/10之比率混合作為積層膜形成塗液。將其結果展示於表5和表6。其離型性差。

〔比較例14〕在東麗(股)製造之雙軸向延伸聚酯薄膜「Rumiller」U35之未經處理面，以直流磁控濺鍍法加以製膜由厚度為150奈米之ITO(銦．錫複合氧化物)膜所構成之導電性金屬氧化物層。

將其結果展示於表5和表6，其雖然具有優越的光澤性，但是離型性極差。此外，本製法係一種不但需要在高真空度下之作業，且達續製膜則有困難，在成本上也是非常不利之方法。

〔產業上之利用性〕

本發明係關於積層薄膜，尤其係關於設置藉由塗佈的積層膜之積層薄膜。

此外，本發明積層薄膜係具有優越的高水準之導電性、離型性、耐水性，且也兼備加熱時之低聚合物之析出抑制性。因此，適合用作為與使用於光學構件之表面保護的用途等相關之工程薄膜而發揮優越的功能。例如，適合用作為使用於液晶電視機、汽車導航用顯示器、攜帶式電話之液晶顯示器、電腦顯示器等偏光板等之加工及組裝時的表面保護用之偏光板保護用積層薄膜。

此外，本發明積層薄膜具有優越的高水準之導電性、離型性、耐水性、光澤性，且也兼備在加熱時之低聚合物之析出抑制性。因此，適合用作為與光學構件的轉印用途等相關之工程薄膜而發揮優越的功能。例如，在將使用於直接熱轉印於成型構件之熱壓印刷輪法、與射出成型同時加以轉印印刷之模內轉印法、或藉由減壓轉印用薄膜與成型構件之間的空氣後，加以加熱加壓來轉印印刷之真空加壓轉印法等之轉印箔用積層薄膜、光學用構件，加以轉印來使用時，適合用作為以剝離法或溶液流延法等來獲得所需之具有離型功能的轉印用積層薄膜。

Claims

一種積層薄膜，其特徵為：其係在熱塑性樹脂薄膜之至少一面上設置由含有組成物(A)、環氧系交聯劑(B)、具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)構成之積層膜而成，且組成物(A)係至少含有聚噻吩與聚陰離子之組成物和/或含有聚噻吩衍生物與聚陰離子之組成物，且在積層膜中，相對於100重量份之組成物(A)與交聯劑(B)和/或其反應產物之總合，為含有15~100重量份之具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)，且該積層薄膜之至少一面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~50奈米，且包含在該積層薄膜中之平均粒徑為100微米以上之內部異物為少於10個/m² 。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中相對於組成物(A)與環氧交聯劑(B)和/或其反應產物，以固體成份重量比計，環氧系交聯劑(B)和/或其反應產物之總量為50~95重量%。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其在積層膜中，相對於100重量份之組成物(A)與交聯劑(B)和/或其反應產物之總合，為含有15~40重量份之具有碳原子數為18~25之烷基鏈之丙烯酸系樹脂(C)。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中積層薄膜之霧度為5%以下。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中積層薄膜之三次元10點平均粗糙度(SRz)為1,000奈米以下。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中積層薄膜之至少一面之三次元10點平均粗糙度(SRz)為500奈米以下。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~15奈米。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中積層膜之導電性為1×10³ ~1×10⁷ Ω/□。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中關於對積層薄膜之TD所測定之剖面厚度變化，在TD每隔3公分所測定之0.3微米以上的厚度不均勻性之個數為5個/m以下。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中100微米以上之附著異物為少於10個/m² 。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其在熱塑性樹脂薄膜之樹脂聚合觸媒係使用鈦化合物。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其係以同時雙軸向延伸法製造。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其在積層薄膜之至少一面設置黏著劑層。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其在積層薄膜中，在設置積層膜的面之相反面設置黏著劑層。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其中熱塑性樹脂薄膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、或聚－2,6－萘二甲酸乙二醇酯薄膜。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其係偏光板保護用薄膜。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其係轉印用薄膜。
如申請專利範圍第17項之積層薄膜，其中三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~10奈米。
如申請專利範圍第17項之積層薄膜，其係用作為轉印箔用。
如申請專利範圍第19項之積層薄膜，其在與設置積層膜的面之相反面之三次元中心線平均粗糙度(SRa)為3~15奈米。
如申請專利範圍第1項之積層薄膜，其在積層薄膜之與設置積層膜的面之相反側，設置由選自聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸系樹脂中之至少一種所構成之層。