TW201724123A - 包括金屬跡線之透明導體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
提供一種透明導體,其包括一可見光透明基材、及設置於該基材上之金屬跡線、以及沉積於該等金屬跡線之至少一部分上的一層第二金屬。透明導體進一步包括一層第二金屬,該層第二金屬適形於其所沉積於上之該金屬跡線之表面結構。可選地,該透明導體亦包括設置於該等金屬跡線之一部分及該基材表面上的一塗覆層(coating layer)。該塗覆層包括自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包含至少一種離子性液態單體。亦提供一種形成一透明導體之方法,其包括:獲得一可見光透明基材,該可見光透明基材具有設置於該基材上之金屬跡線;及施加塗料組成物於該等金屬跡線及基材之一部分上。該塗料組成物含有至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
Description
本揭露係關於透明導體及製造透明導體之方法,該等透明導體係諸如用於觸控感測器中的透明導體。
本技術領域需要經改善的透明導體。目前已在某些應用的產品中採用銀奈米線(AgNW)、Cu網、Ag網、及Ag鹵化物(亦稱作銦錫氧化物(ITO)替代物)來代替ITO。此反映出日益增加的電容式觸控面板應用,其允許藉由手指滑過螢幕而觸控輸入。包括ITO的導體具有過高的電阻而無法在一些大型應用中被採用。然而,包括上述非ITO材料之導體具有較ITO低的電阻,因此這些導體可允許電容式觸控面板在諸如單機全備(all-in-one)個人電腦及電子板之大型應用中獲採用。非ITO導體亦可以是可撓性,使其本身供下一代可撓性顯示器所用。
本揭露提供透明導體及製造透明導體之方法。更具體而言,透明導體包括金屬跡線。
在第一態樣中,本揭露提供一種透明導體。透明導體包括一可見光透明基材及設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線。金屬跡線包含第一金屬且具有一結構化表面。透明導體進一步包括沉積於該複數個金屬跡線之該結構化表面之一部分上的一層第二金屬,且該層適形於其所沉積於上之該結構化表面之該部分。
在第二態樣中,本揭露提供另一透明導體。透明導體包括一可見光透明基材及設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線。金屬跡線包含第一金屬。透明導體進一步包括沉積於該複數個金屬跡線之一部分上的一層第二金屬;及設置於該層該第二金屬及至少一部分該可見光透明基材之上的一塗覆層(coating layer)。塗覆層包括自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包括至少一種離子性液態單體。
在第三態樣中,本揭露提供一種形成一透明導體之方法之方法。本方法包括獲得一可見光透明基材,其包括設置於該基材之一主表面上的複數個金屬跡線;及施加塗料組成物於該複數個金屬跡線及至少一部分該可見光透明基材之上。該塗料組成物包括至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
本揭露之例示性實施例獲得各種無法預期的結果及優點。本揭露例示性實施例之一項此類優點係達成某些光學性質,諸如低霧度及低反射率。
本揭露之上述概述並非意欲說明本揭露之各個所揭示實施例或是各實施方案。以下的描述更具體地例示說明性實施例。在本
申請案全文的數個地方透過實例清單來提供指引,該等實例可以各種組合之方式使用。在各種情況下,所引述的清單僅作為代表性群組,且不應將其詮釋為排他性的清單。
10‧‧‧可見光透明基材
11‧‧‧主表面
12‧‧‧金屬跡線
13‧‧‧結構化表面
14‧‧‧一層第二金屬
20‧‧‧可見光透明基材
21‧‧‧主表面
22‧‧‧金屬跡線
24‧‧‧一層第二金屬
26‧‧‧塗覆層
30‧‧‧可見光透明基材
31‧‧‧主表面
32‧‧‧金屬跡線
33‧‧‧繞線棒
35‧‧‧塗料組成物/塗料
50‧‧‧基材
51‧‧‧主表面
52‧‧‧銀奈米線/導電區域
56‧‧‧寬線/非導電區域/經印製聚合物
100‧‧‧透明導體
200‧‧‧透明導體
500‧‧‧透明導體
配合附圖,思考如下所述本揭露各個實施例之實施方式,可更完整地理解本揭露,其中:
圖1係根據本揭露之一例示性透明導體(通過一金屬跡線者擷取)的示意性剖面圖。
圖2係根據本揭露之另一例示性透明導體(通過一金屬跡線者擷取)的示意性剖面圖。
圖3係根據本揭露之例示性施加塗料組成物於一透明導體之步驟的示意性透視圖。
圖4A係一透明導體的掃描電子顯微鏡(SEM)影像,該透明導體包括一經銀奈米線塗佈之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜。
圖4B係根據本揭露之一例示性透明導體之一部分的SEM影像。
圖5係根據本揭露之一例示性透明導體之一部分的示意性透視圖,該透明導體具有經選定之非導電區。
雖然上述所提出之圖(其可能未按比例繪製)關於本揭露之某些實施例,其他在實施方式中所提到的實施例亦被考慮。
基於金屬奈米線之透明導體及基於金屬網之透明導體兩者都可能具有以下問題,諸如高霧度(例如,>1.5%)及當顯示器關
閉(亦即,具有黑色背景)時由於來自金屬跡線之高度反射而明顯可看的跡線。此等問題在某些用途上,例如用於顯示器中,對於金屬跡線及金屬網之導體有所限制。改善霧度及/或反射率,可協助加速這些材料於透明導體中的發展。
對於下文所定義用語的詞彙,這些定義應適用於整份申請書,除非在申請專利範圍或說明書中的別處提供不同定義。
詞彙
說明書及申請專利範圍中使用某些用語,雖然這些用語大多數已為人所熟知,但可能需要一些解釋。應了解的是,如本文中所使用者:
如本說明書及隨附實施例中所用者,單數形式「一(a/an)」及「該(the)」包括複數的指涉,除非內容另有清楚指定。因此,例如提及含有「一化合物」之組分時包括二或更多種化合物之混合物。如本說明書及所附實施例中所使用者,用語「或(or)」通常是用來包括「及/或(and/or)」的意思,除非內文明確地另有指示。
如本說明書中所使用,以端點敘述之數字範圍包括所有歸於該範圍內的數字(例如,1至5包含1、1.5、2、2.75、3、3.8、4及5)。
除非另有所指,否則本說明書及實施例中所有表達量或成分的所有數字、屬性之測量及等等,在所有情形中都應予以理解成以用語「約(about)」進行修飾。因此,除非另有相反指示,在前述說
明書及隨附實施例清單所提出的數值參數,可依據所屬技術領域中具有通常知識者運用本揭露的教示而欲獲得之理想特性而有所變化。起碼,至少應鑑於有效位數的個數,並且藉由套用普通捨入技術,詮釋各數值參數,但意圖不在於限制所主張實施例範疇均等論之應用。
在本說明書及申請專利範圍中之用語「包含、組成(comprises)」及其變化形並不具限制意思。
用語「丙烯醯基(acryloyl)」係以一般意義使用,不僅意指丙烯酸之衍生物,亦分別指胺衍生物、及醇衍生物。
用語「(甲基)丙烯醯基((meth)acryloyl)」包括丙烯醯基和甲基丙烯醯基兩者;亦即包括酯和醯胺兩者在內。
用語「聚(甲基)丙烯醯基(poly(meth)acryloyl)」意指具有二或更多個(甲基)丙烯醯基的化合物,該等(甲基)丙烯醯基可作為麥可受體(Michael acceptors)。
用語「可固化(curable)」意指,可藉由冷卻(以固化熱熔物)、加熱(以使溶劑中之材料乾燥並固化)、化學交聯、輻射交聯、或類似者而轉化成固態、實質上不流動材料之可塗佈材料。
用語「烷基(alkyl)」包括直鏈烷基、支鏈烷基、和環烷基,且包括未經取代及經取代烷基兩者。除非另有說明,烷基通常含有1至20個碳原子。如本文中所使用的「烷基(alkyl)」基團之實例包括但不限於甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、異丁基、第三丁基、異丙基、正辛基、正庚基、乙基己基、環戊基、環己基、環庚
基、金剛烷基、及降莰基、以及類似者。除非另有指明,烷基可以是單價或多價。
用語「雜烷基(heteroalkyl)」包括具有一或多個獨立選自S、O、及N之雜原子的直鏈烷基、支鏈烷基、及環烷基,且該等烷基具有未經取代及經取代烷基兩者。除非另有指明,雜烷基一般含有自1至20個碳原子。「雜烷基」是下述「含有一或多個S、N、O、P、或Si原子的烴基」之子集。如本文中所使用「雜烷基」之實例包括但不限於甲氧基、乙氧基、丙氧基、3,6-二氧雜庚基、3-(三甲基矽基)-丙基、4-二甲基胺基丁基、及類似者。除非另有指明,雜烷基可係單價或多價。
用語「芳基(aryl)」是含有6至18個環原子的芳族基團,而且可以含有可選的稠合環,該等稠合環可以是飽和的、不飽和的、或芳族。芳基的實例包括苯基、萘基、聯苯基、菲基、及蒽基。雜芳基是含有1至3個雜原子(諸如氮、氧、或硫)的芳基,而且可以含有稠合環。雜芳基的一些實例為吡啶基、呋喃基、吡咯基、噻吩基、噻唑基、唑基、咪唑基、吲哚基、苯并呋喃基、及苯并噻唑基。除非另有指明,芳基及雜芳基可以是單價或多價。
「(雜)烴基((hetero)hydrocarbyl)」包括烴基烷基和芳基、以及雜烴基雜烷基和雜芳基,後者包含一或多個鏈中氧雜原子,諸如醚基或胺基。雜烴基可以可選地含有一或多個鏈中(在鏈中之)官能基,包括酯、醯胺、脲、胺甲酸酯、及碳酸酯官能基。除非另有指明,非聚合性(雜)烴基一般含有自1至60個碳原子。本文中使用的
此類雜烴基之一些實例除了如上所述之「烷基」、「雜烷基」、「芳基」、及「雜芳基」之外,尚包括但不限於甲氧基、乙氧基、丙氧基、4-二苯基胺基丁基、2-(2'-苯氧基乙氧基)乙基、3,6-二氧雜庚基、3,6-二氧雜己基-6-苯基。
用語「無規結構(random structure)」係指在形狀或大小上不一致之結構。因此,「具有無規結構」排除微複製結構及以其他方式規則形成的結構。
用語「奈米規格結構(nanoscale structure)」係指具有介於1奈米與999奈米之間(含端點)之尺寸的面或側的結構。
用語「透明(transparent)」係指具有以下光透射率之物品:至少2%、或至少5%、或至少10%、或至少15%、或至少20%、或至少30%、或至少40%、或至少50%、或至少60%、或至少70%、或至少80%、或至少90%、或高至100%、或高至99%、或高至98%、或高至95%、或高至92%。一般而言,光之波長係約390nm至700nm。
當一基團存在於本文所述的式中超過一次時,各基團係經「獨立地」選擇,無論是否有明確的陳述。例如,當多於一個R基團存在於一式中時,各R基團係經獨立地選擇。
本說明書全文提及的「一個實施例(one embodiment)」、「某些實施例(certain embodiments)」、「一或多個實施例(one or more embodiments)」、或「一實施例(an embodiment)」,不論在用語「實施例(embodiment)」之前是否包括有用語「例示性
(exemplary)」,皆意指與該實施例連結之所述特定特徵、結構、材料、或特性都包括在本揭露某些例示性實施例的至少一個實施例中。因此,在本說明書全文中的各處出現的用語,諸如「在一或多個實施例中(in one or more embodiments)」、「在某些實施例中(in certain embodiments)」、「在一個實施例中(in one embodiment)」、「在許多實施例中(in many embodiments)」或「在一實施例中(in an embodiment)」,並不必然參照本揭露某些例示性實施例的相同實施例。更進一步,該等特定特徵、結構、材料、或特性可在一或多個實施例中用任何合適的方式結合。
現將說明本揭露的各種例示性實施例。本揭示之例示性實施例可有各種修改及改變,而不悖離本揭示之精神及範疇。因此,應理解本揭示之該等實施例不受限於以下該等說明之例示性實施例,而是由該等申請專利範圍及任何其均等者所提限制所管制。
已發現,具有諸如減少的霧度及/或反射率之有利光學性質的透明導體可使用金屬奈米線或金屬網作為導電材料而製造。更具體而言,在使得金屬網或金屬奈米線與能夠氧化金屬網或金屬奈米線之金屬的貴金屬鹽接觸之下,貴金屬鹽將與金屬奈米線或金屬網反應,以形成一結構化表面以及沉積於該結構化表面上之一層貴金屬。此反應通常導致減少之反射、下降之霧度、且使奈米線或網跡線變黑。因此,在某些實施例中,特別是當顯示器處於「關閉(off)」狀態時,此氧化反應使得組裝於觸控感測器中的金屬網或金屬奈米線電極之可見度得以降低。可聚合離子性液態單體、丙烯酸酯、及貴金屬鹽
(諸如HAuCl4、PdCl2、或H2PtCl6)一般包括於接觸金屬網或金屬奈米線的配方中,而可聚合離子性液態單體作用為貴金屬鹽的溶劑(例如主體基質)。此等配方通常可以調配成光學清透的塗料及/或黏著劑。
在某些實施例中,可使金的金屬鹽與銀跡線(奈米線或網)接觸,而發生以下化學反應:Au3++3Ag0→3Ag++Au0。對應每個金原子,會有三個銀原子自銀跡線流失,而由於銀原子在跡線表面上不均勻地流失的緣故,導致銀原子流失的位置中形成銀跡線的結構化表面。同樣地,根據以下化學反應,可使鈀鹽或鉑鹽與銀跡線接觸:Pd2++2Ag0→2Ag++Pd0;及Pt4++4Ag0→4Ag++Pt0。在銀原子經氧化成銀離子的位置,銀跡線將具有一結構化表面,其中在未經反應銀跡線之位置的厚度大於銀原子經氧化且自銀跡線移除之位置的厚度。貴金屬鹽沉積於跡線之結構化表面上,且適形於該金屬跡線之該結構化表面。在某些實施例中,由於金屬跡線被貴金屬鹽氧化而使得結構化表面包含無規結構、奈米規格結構、或無規結構及奈米規格結構兩者。
在第一態樣中,本揭露提供一種透明導體。透明導體包括一可見光透明基材及設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線。金屬跡線包含第一金屬且具有一結構化表面。透明導體進一步包括沉積於該複數個金屬跡線之該結構化表面之一部分上的一層第二金屬,且該層適形於其所沉積於上之該結構化表面之該部分。
參照圖1,其提供例示性透明導體的示意性剖面圖。透明導體100包含可見光透明基材10;設置於基材10之主表面11上之複數個金屬跡線12,該等金屬跡線12包含第一金屬且具有結構化表面13;及,沉積於該複數個金屬跡線12之結構化表面13之一部分上的一層第二金屬14,其中該層該第二金屬14適形於其所沉積於上之金屬跡線12之結構化表面13之部分。圖1之示意性剖面圖係沿著單一金屬跡線的軸線截取,以更佳繪示出金屬跡線上有結構化表面。
在第二態樣中,本揭露提供另一透明導體。透明導體包括一可見光透明基材及設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線。金屬跡線包含第一金屬。透明導體進一步包括沉積於該複數個金屬跡線之一部分上的一層第二金屬;及設置於該層該第二金屬及至少一部分該可見光透明基材之上的一塗覆層。該塗覆層包括自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包括至少一種離子性液態單體。
參照圖2,其提供根據第二態樣之例示性透明導體的示意性剖面圖。透明導體200包含可見光透明基材20;設置於基材20之主表面21上之複數個金屬跡線22,該等金屬跡線22包含第一金屬;沉積於金屬跡線20之一部分上的一層第二金屬24;及設置於該層第二金屬24及至少一部分可見光透明基材20之上的塗覆層26,塗覆層26包含自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包含至少一種離子性液態單體。圖2之示意性剖面圖係沿著單一金屬跡線的軸線截取,以更佳繪示出金屬跡線上有結構化表面。
在第三態樣中,本揭露提供一種形成一透明導體之方法之方法。本方法包括獲得一可見光透明基材,其包括設置於該基材之一主表面上的複數個金屬跡線;及施加塗料組成物於該複數個金屬跡線之一部分及至少一部分該可見光透明基材之上。該塗料組成物包括至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
參照圖3,其提供根據第三態樣之例示性方法的示意性透視圖。本方法包括獲得可見光透明基材30,其包括設置於基材30之主表面31上之複數個金屬跡線32;及施加塗料組成物35於複數個金屬跡線32之一部分及至少一部分可見光透明基材30之上。舉例來說,可以採用繞線棒33以將塗料35在圖3中箭頭所指方向上跨基材30施加。該塗料組成物包括至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
下文之揭露係關於第一至第三態樣之各者。
有利的是,在塗料組成物中,離子性液態單體溶解了貴金屬鹽,而不必然需要有任何一般溶劑存在。在某些實施例中,塗料組成物包含小於5重量%的溶劑、或小於3重量%的溶劑、或小於重量2%的溶劑、或小於1重量%的溶劑。
合適的離子性液態單體包括例如但不限於可聚合陰離子及下式之陽離子:
其中Z包含酮、酯、醯胺、腈、或吖內酯(azlactone)官能基,R1係H或C1-C25烷基,R2係H或-CO-X1-R5,其中R5係H或C1-C25烷基,且X1係-O-或-NR6-,其中R6係H或C1-C6烷基;且R3係H或CH3,R8係(雜)烴基,且w係0、1、2、或3;條件是當Z包含腈或吖內酯官能基時,則R1及R2係H。
在某些實施例中,可聚合陰離子包含乙烯系不飽和可聚合基團及選自下列之酸性基團:羧酸基團(-COOH)、磺酸基團(-SO3H)、硫酸基團(-SO4H)、膦酸基團(-PO3H2)、磷酸基團(-OPO3H)、或其鹽。
在某些選定實施例中,該至少一種離子性液態單體包含三甲基丙烯醯氧基乙基銨雙(三氟甲基)磺醯胺。
在某些實施例中,如美國申請公開案第2012/0288675號(Klun等人)所揭示,該至少一種離子性液態單體包含至少一種具有陰離子之可聚合鎓鹽。合適的鎓鹽可選自由下列所組成之群組:銨
鹽、鋶鹽、鏻鹽、吡啶鎓鹽、及咪唑鎓鹽。用作為離子性液態單體的特別合適鎓鹽具有下式:(R1) a-b G+[(CH2)qDR2]bX-其中各R1獨立地包含烷基部分、脂環部分、芳基部分、烷基脂環部分、烷芳基部分、脂環烷基部分、芳基脂環部分、或脂環芳基部分,其中此類部分可包含一或多個雜原子,諸如例如氮、氧、或硫,或可包含磷或鹵素(因而本質上可具氟有機性),R1可係環狀或芳族且可包括G+於環中;G係氮、硫、或磷;當G係硫時,a係3,而當G係氮或磷時,a係4;當G係硫時,b係1至3之整數,而當G係氮或磷時,b係1至4之整數;q係自1至4之整數;D係氧、硫、或NR,其中R係H或1至4個碳原子之低級烷基;R2係(甲基)丙烯醯基;且X-係陰離子,較佳的是有機陰離子,且更佳的是氟有機性陰離子。
在一些環中包括有G+的實施例中,鎓鹽具有下式之一者:
本文中有用陰離子之說明性實例包括烷基硫酸根、甲烷磺酸根、甲苯磺酸根、氟有機陰離子、氟無機陰離子、及鹵離子。
最佳的是,陰離子係氟化學陰離子。適合用於本文中的氟有機陰離子包括美國專利第6,924,329號(Klun等人)第8欄第2至65行中所描述者。氟有機離子提供較大之鎓鹽與非鎓可聚合單體、寡聚物、或聚合物的溶解度及相容性。這對提供具良好清透度的塗層而言是重要的。一些說明性實例包括-C(SO2CF3)3、-O3SCF3、-O3SC4F9、及-N(SO2CF3)2。相較於該等替代方案的一些者,-N(SO2CF3)2提供了範圍更寬廣的溶解度,因而使得包含其之組成物某種程度上較容易製備與使用。
可聚合組成物一般含有至少足夠的離子性液態單體以溶解貴金屬鹽,且可進一步包括額外組分。舉例來說,在某些實施例中,可聚合組成物進一步包含至少一種丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯單體。合適的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯單體包括例如但不限於:(a)羥基終端之丙烯酸(低級烷基或低級烷氧基低級烷基)酯或甲基丙烯酸(低級烷基或低級烷氧基低級烷基)酯,例如丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥伸乙酯(2-hydroxyethylene methacrylate)、二乙二醇單丙烯酸酯、
二乙二醇單甲基丙烯酸酯、丙烯酸2-羥丙酯、甲基丙烯酸2-羥丙酯、丙烯酸3-羥丙酯、甲基丙烯酸3-羥丙酯、與二丙二醇單甲基丙烯酸酯;及乙氧基化單體丙烯酸酯或乙氧基化單體甲基丙烯酸酯,例如丙烯酸2-乙氧基乙氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、烷氧基化丙烯酸四氫呋喃甲酯、苯酚(EO)n丙烯酸酯(n>2);(b)含二丙烯醯基之化合物,諸如聚乙二醇二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二甲基丙烯酸酯雙酚氟(EO)n二丙烯酸酯(n6)、新戊二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯;(c)含三丙烯醯基之化合物,諸如甘油三丙烯酸酯、乙氧基化三丙烯酸酯(例如乙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯)、季戊四醇三丙烯酸酯、丙氧基化三丙烯酸酯(例如丙氧基化甘油三丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三丙烯酸酯)、參(2-羥乙基)異氰脲酸酯三丙烯酸酯;(d)含較高官能性丙烯醯基之化合物,諸如二三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、經己內酯改質之二季戊四醇六丙烯酸酯;(e)寡聚丙烯醯基化合物,諸如例如胺甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯;前述之丙烯醯胺類似物;及其組合。較佳的是,採用至少一種親水性單體以增強與(多種)離子性液態單體的相容性。
此等化合物可購自諸如以下之廠商:Sartomer Company,Exton,Pa.;Miwon Specialty Chemical Co.,Ltd,Korea、
KPX Green Chemical Co.ltd,Seoul,Korea、UCB Chemicals Corporation,Smyrna,Ga.;及Aldrich Chemical Company,Milwaukee,Wis.。額外的有用丙烯酸酯材料包括含乙內醯脲部分之聚丙烯酸酯,例如美國專利第4,262,072號(Wendling等人)中所述者。
可聚合組成物在完全固化後可係固態之塗層或壓敏性黏著劑。就壓敏性黏著劑而言,可聚合組成物包含至少一種黏著劑單體,該至少一種黏著劑單體具有小於-10攝氏度、或小於-30攝氏度、或小於-50攝氏度之玻璃轉移溫度。較佳的單體包括例如但不限於,丙烯酸2-乙氧基乙氧基乙酯(Viscoat 190,可購自San Esters Corporation)、苯酚(EO)4丙烯酸酯與苯酚(EO)6丙烯酸酯(Miramer M144與Miramer 146,可購自Miwon specialty Chemical Co.ltd.)、烷氧基化丙烯酸四氫呋喃甲酯(SR611,可購自Sartomer Company)、及其組合。
在一些實施例中,本方法進一步包含使塗料暴露於輻照以聚合至少一種可聚合離子性液態單體,藉此形成一塗覆層(例如,如圖2所繪示的塗覆層26)。在此等實施例中,可聚合組成物進一步包括至少一種光起始劑。合適的光起始劑包括例如但不限於,可以商標名稱IRGACURE與DAROCUR購自Ciba Specialty Chemical Corp.,Tarrytown,N.Y.者,且包括1-羥基環己基苯基酮(IRGACURE 184)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(IRGACURE 651)、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦(IRGACURE 19)、1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙烷-1-酮(IRGACURE 2959)、2-苄基-2-二甲基
胺基-1-(4-N-嗎啉基苯基)丁酮(IRGACURE 369)、2-甲基-1-[4-(甲基硫基)苯基]-2-N-嗎啉基丙烷-1-酮(IRGACURE 907)、及2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮(DAROCUR 1173)。
施加塗料組成物(含有可聚合組成物)於金屬跡線及基材上可藉由任何習知技術而進行,包括例如但不限於棒塗佈、滾筒塗佈、簾塗佈、轉輪凹版印刷塗佈(rotogravure coating)、刀塗佈、噴塗佈、旋轉塗佈、浸漬塗佈、或斜板式塗佈技術。諸如棒塗佈、滾筒塗佈、及刀塗佈之塗佈技術,通常用於控制塗料厚度。經施加成可見光透明厚度的塗料組成物厚度不特別受限,且可係至少0.1微米、或至少0.2微米、或至少0.3微米、或至少0.5微米、或至少0.7微米、或至少1微米、或至少2微米、或甚至至少3微米;且高至10微米、或高至9微米、或高至8微米、或高至7微米、或高至6微米、或甚至高至5微米。在某些實施例中,塗料組成物係以介於約0.1微米與約10微米之間、或約0.2微米與約5微米之間的厚度施加。
施加塗料組成物之後,通常藉由根據所屬技術領域中具有通常知識者已知的習知技術(例如UV輻照、電子束輻照、等)使塗料經受光化輻射來聚合可聚合組成物而固化塗料。
可見光透明基材包括任何有用於導體之基材,例如但不限於包括聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、環烯烴膜、聚(甲基丙烯酸甲酯)、或其組合。
在某些實施例中,第一金屬包含銀。在某些實施例中,第二金屬包含金、鉑、或鈀。如上所述,當金屬跡線係銀製時,因為
金鹽、鉑鹽、及鈀鹽之各者會將銀氧化,因此各者適合用於作為貴金屬鹽而被包括於可聚合組成物中。在一些實施例中,於可見光透明基材上的複數個金屬跡線包含金屬網、複數個金屬奈米線、或金屬網及金屬奈米線兩者。在某些實施例中,獲得可見光透明基材之步驟包含形成複數個金屬跡線於該基材上。所屬技術領域中具有通常知識者將會了解適合用於形成金屬跡線於一基材上的方法,例如使用PCT公開案第WO 2014/088950號(Dodds等人)中所揭示的形成金屬奈米線導電層於基材上的方法或使用例如美國專利第5,126,007號(Schmulovich);美國專利第5,492,611號(Sugama等人);或美國專利第6,775,907號(Boyko等人)中所揭示的形成金屬網跡線之方法。
該層第二金屬係第一金屬與第二金屬之貴金屬鹽藉由施加可聚合組成物於複數個金屬跡線之一部分及至少一部分可見光透明基材之上之反應產物,該可聚合塗料組成物包含分散於至少一種離子性液態單體中之該第二金屬之至少一種貴金屬鹽。在許多實施例中,塗覆層進一步包含在貴金屬鹽(例如第二金屬)與金屬跡線(例如第一金屬)反應下所產生的第一金屬之鹽。第二金屬僅設置於金屬跡線(例如第一金屬)上之與可聚合組成物接觸之金屬跡線上之位置。與放置金屬跡線於含有貴金屬鹽之溶液中相比,施加可聚合組成物至設置於一基材上之金屬跡線之步驟限制了暴露於存在於可聚合組成物中之貴金屬鹽的金屬跡線表面。
合適的貴金屬鹽包括例如但不限於HAuCl4、PdCl2、及H2PtCl6。貴金屬鹽係以下量分別存在於塗覆層中或可聚合組成物中:可聚合組成物或聚合物之至少1百萬分點(ppm)、或至少5ppm、或至少10ppm、或至少15ppm、或至少20ppm、或至少25ppm、或至少30ppm,及可聚合組成物或聚合物之高至90ppm、或高至80ppm、或高至70ppm、或高至60ppm、或高至50ppm、或高至40ppm,諸如介於可聚合組成物或聚合物之1ppm與90ppm之間或介於可聚合組成物或聚合物之10ppm與40ppm之間。貴金屬鹽應以至少有效於形成一結構化表面於金屬跡線上之量,存在於可聚合組成物或聚合物中。如上所述,在某些實施例中,結構化表面包含無規結構、奈米結構、或無規結構及奈米結構兩者。
有利的是,結構化表面通常導致透明導體的霧度與反射率降低。更具體的是,透明導體較佳具有小於1.6%、或小於1.5%、或小於1.4%、或小於1.3%、或甚至小於1.2%之光學霧度。
參照圖4A,其提供一透明導體的掃描電子顯微鏡(SEM)影像,該透明導體包括一經銀奈米線塗佈之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜。相比之下,圖4B提供根據實例1(亦即使用24ppm之ARC)之例示性透明導體之一部分的SEM影像,此詳細揭示於下文中。於圖4A中銀奈米線與圖4B中經HAuCl4氧化的銀奈米線之間,銀奈米線的表面外觀有明顯差異。
可聚合組成物或聚合物中貴金屬鹽之量愈大,金屬自金屬跡線移除的程度愈大,此現象造成透明導體相隨的導電度減少及片
電阻增加。在某些實施例中,透明導體展現每平方小於或等於100歐姆、或每平方小於或等於75歐姆、或每平方小於或等於50歐姆的表面電阻,使得該透明導體維持導電。
於可聚合組成物或聚合物中使用高於某個臨限濃度的貴金屬鹽,會允許氧化反應在一些位置中之整個金屬跡線厚度中發生,藉此消去該些位置之金屬跡線的導電性。舉例來說,對於具有銀奈米線跡線及包括HAuCl4之可聚合組成物之透明導體而言,約40ppm或高於約40ppm之金鹽濃度使得氧化反應在足夠量之銀奈米線厚度中發生,而導致可測得導電性之耗損。此現象可用來修改透明導體之某些區成為非導電性,而其他區仍維持導電。在某些實施例中,施加塗料組成物係包含以一圖案施加塗料組成物於一部分複數個金屬跡線之上,例如藉由使用一經圖案化的印模施加至少一部分塗料組成物。
參照圖5,以銀奈米線52塗佈於基材50之主表面51上的基材50具有可聚合組成物之四條寬線56之圖案,該可聚合組成物包含印製於銀奈米線52上的高濃度貴金屬鹽。在可聚合組成物固化以及於經印製聚合物56之位置中的銀奈米線52氧化後,提供了具有非導電區域56及導電區域52的透明導體500。此一圖案化導電性之方法可提供較蝕刻製程等更簡單的實現經圖案化透明導體之製程。此外,若為所欲,可聚合組成物之特定組成物可經調配成永久黏附於一基材。
在許多實施例中,本方法進一步包含自可見光透明基材移除塗覆層。用於自可見光透明基材及金屬跡線移除例示性塗覆層之
合適方法包括施加一壓敏性黏著膠帶於該塗覆層之主表面上,接著剝離該黏著膠帶,藉此隨著該黏著膠帶移除該塗覆層。市售壓敏性黏著膠帶之一項實例係SCOTCH MAGIC,購自3M Company(St.Paul,MN)。較佳的是,儘管可能會有一些少量的塗覆層殘餘物,大部分或所有之塗覆層材料自可見光透明基材及金屬跡線移除,不會影響透明導體的效能。視特定塗覆層之組成物而定,亦可採用其他移除圖層的方法。
本揭露之例示性透明導體的一有用特性在於,透明導體較佳具有在350nm與850nm之間大於85%之可見光透射率。一般而言,此可見光透射率對肉眼是透明的。
例示性實施例
實施例1係一種透明導體,其包含:一可見光透明基材;設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線,該等金屬跡線包含第一金屬且具有一結構化表面;及沉積於該複數個金屬跡線之該結構化表面之一部分上的一層第二金屬,其中該層適形於其所沉積於上之該結構化表面之該部分。
實施例2係如實施例1之透明導體,其中該結構化表面包含一無規結構。
實施例3係如實施例1或實施例2之透明導體,其中該結構化表面包含一奈米結構。
實施例4係如實施例1至3中任一者之透明導體,其中該透明導體具有小於1.6%之光學霧度。
實施例5係如實施例1至4中任一者之透明導體,其中該透明導體具有小於1.4%之光學霧度。
實施例6係如實施例1至5中任一者之透明導體,其中該透明導體具有小於1.2%之光學霧度。
實施例7係如實施例1至6中任一者之透明導體,其中該第一金屬包含銀。
實施例8係如實施例1至7中任一者之透明導體,其中該第二金屬包含金、鉑、或鈀。
實施例9係如實施例1至8中任一者之透明導體,其中該第二金屬能夠氧化該第一金屬。
實施例10係如實施例1至9中任一者之透明導體,其中該透明導體具有每平方小於或等於100歐姆的表面電阻。
實施例11係如實施例1至10中任一者之透明導體,其中該透明導體具有每平方小於或等於75歐姆的表面電阻。
實施例12係如實施例1至11中任一者之透明導體,其中該透明導體具有每平方小於或等於50歐姆的表面電阻。
實施例13係如實施例1至12中任一者之透明導體,其中該可見光透明基材包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、環烯烴膜、聚(甲基丙烯酸甲酯)、或其組合。
實施例14係如實施例1至13中任一者之透明導體,其中該複數個金屬跡線包含一金屬網。
實施例15係如實施例1至13中任一者之透明導體,其中該複數個金屬跡線包含複數個奈米線。
實施例16係一種透明導體,其包含:一可見光透明基材;設置於該基材之一主表面上之複數個金屬跡線,該等金屬跡線包含第一金屬;沉積於該複數個金屬跡線之一部分上的一層第二金屬;及設置於該層該第二金屬及至少一部分該可見光透明基材之上的一塗覆層,該塗覆層包含自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包含至少一種離子性液態單體。
實施例17係如實施例16之透明導體,其中該層該第二金屬係該第一金屬與該第二金屬之貴金屬鹽藉由施加該可聚合組成物於該複數個金屬跡線之一部分及至少一部分該可見光透明基材之上之反應產物,該可聚合塗料組成物包含分散於該至少一種離子性液態單體中之該第二金屬之至少一種貴金屬鹽。
實施例18係如實施例16或實施例17之透明導體,其中該塗覆層進一步包含該第一金屬之鹽。
實施例19係如實施例16至18中任一者之透明導體,其中該透明導體具有小於1.6%之光學霧度。
實施例20係如實施例16至19中任一者之透明導體,其中該透明導體具有小於1.4%之光學霧度。
實施例21係如實施例16至20中任一者之透明導體,其中該等金屬跡線包含銀。
實施例22係如實施例16至21中任一者之透明導體,其中該貴金屬鹽包含HAuCl4、PdCl2、或H2PtCl6。
實施例23係如實施例16至22中任一者之透明導體,其中該貴金屬鹽能夠氧化該第一金屬。
實施例24係如實施例16至23中任一者之透明導體,其中該貴金屬鹽存在於該塗覆層中之量係介於該聚合物之1百萬分點(ppm)與90ppm之間。
實施例25係如實施例16至24中任一者之透明導體,其中該貴金屬鹽存在於該塗覆層中之量係介於該聚合物之10ppm與40ppm之間。
實施例26係如實施例16至25中任一者之透明導體,其中該至少一種離子性液態單體包含可聚合陰離子及下式之陽離子:
其中Z包含酮、酯、醯胺、腈、或吖內酯官能基,R1係H或C1-C25烷基,R2係H或-CO-X1-R5,其中R5係H或C1-C25烷基,且X1係-O-或-NR6-,其中R6係H或C1-C6烷基;且R3係H或CH3,R8係(雜)烴基,且w係0、1、2、或3;條件是當Z包含腈或吖內酯官能基時,則R1及R2係H。
實施例27係如實施例26之透明導體,其中該可聚合陰離子包含乙烯系不飽和可聚合基團及選自下列之酸性基團:羧酸基團(-COOH)、磺酸基團(-SO3H)、硫酸基團(-SO4H)、膦酸基團(-PO3H2)、磷酸基團(-OPO3H)、或其鹽。
實施例28係如實施例16至27中任一者之透明導體,其中該至少一種離子性液態單體包含三甲基丙烯醯氧基乙基銨雙(三氟甲基)磺醯胺。
實施例29係如實施例16至28中任一者之透明導體,其中該可聚合組成物進一步包含至少一種丙烯酸酯單體。
實施例30係如實施例16至29中任一者之透明導體,其中該可聚合組成物進一步包含至少一種黏著劑單體,該至少一種黏著劑單體具有小於-10攝氏度、或小於-30攝氏度、或小於-50攝氏度之玻璃轉移溫度。
實施例31係如實施例16至30中任一者之透明導體,其中該塗覆層係以一圖案設置於該複數個金屬跡線之該部分上。
實施例32係如實施例16至31中任一者之透明導體,其中該透明導體具有每平方小於或等於100歐姆的表面電阻。
實施例33係如實施例16至32中任一者之透明導體,其中該透明導體具有每平方小於或等於50歐姆的表面電阻。
實施例34係如實施例16至33中任一者之透明導體,其中該可見光透明基材包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、環烯烴膜、聚(甲基丙烯酸甲酯)、或其組合。
實施例35係如實施例16至34中任一者之透明導體,其中該透明導體具有在350nm與850nm之間大於85%之可見光透射率。
實施例36係如實施例16至35中任一者之透明導體,其中該複數個金屬跡線包含一金屬網。
實施例37係如實施例16至36中任一者之透明導體,其中該複數個金屬跡線包含複數個奈米線。
實施例38係一種形成一透明導體之方法,其包含:獲得一可見光透明基材,其包含設置於該基材之一主表面上的複數個金屬跡線;及
施加塗料組成物於該複數個金屬跡線之一部分及至少一部分該可見光透明基材之上,該塗料組成物包含至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
實施例39係如實施例38之方法,其進一步包含使該塗料暴露於輻照以聚合該至少一種可聚合離子性液態單體,藉此形成一塗覆層。
實施例40係如實施例38或實施例39之方法,其進一步包含自該可見光透明基材移除該塗覆層。
實施例41係如實施例38至40中任一者之方法,其中該獲得該可見光透明基材之步驟包含形成複數個金屬跡線於該基材上。
實施例42係如實施例38至41中任一者之方法,其中該塗料組成物係以介於約0.1微米與約10微米之間的厚度施加。
實施例43係如實施例38至42中任一者之方法,其中該塗料組成物係以介於約0.2微米與約5微米之間的厚度施加。
實施例44係如實施例38至43中任一者之方法,其中該塗料組成物包含小於1%之溶劑。
實施例45係如實施例38至44中任一者之方法,其中該離子性液態單體溶解在該塗料組成物中之該貴金屬鹽。
實施例46係如實施例38至45中任一者之方法,其中該施加該塗料組成物施加包含以一圖案施加該塗料組成物於該複數個金屬跡線之一部分上。
實施例47係如實施例38至46中任一者方法,其中該施加該塗料組成物施加包含使用一經圖案化的印模施加至少一部分該塗料組成物。
實施例48係如實施例38至47中任一者之方法,其中該透明導體具有小於1.6%之光學霧度。
實施例49係如實施例38至48中任一者之方法,其中該透明導體具有小於1.4%之光學霧度。
實施例50係如實施例38至49中任一者之方法,其中該透明導體具有小於1.2%之光學霧度。
實施例51係如實施例38至50中任一者之方法,其中該等金屬跡線包含銀。
實施例52係如實施例38至51中任一者之方法,其中該貴金屬鹽包含HAuCl4、PdCl2、或H2PtCl6。
實施例53係如實施例38至52中任一者之方法,其中該貴金屬鹽能夠氧化該等金屬跡線。
實施例54係如實施例38至53中任一者之方法,其中該貴金屬鹽存在於該塗料組成物中之量係介於該聚合物之1百萬分點(ppm)與90ppm之間。
實施例55係如實施例38至54中任一者之方法,其中該貴金屬鹽存在於該塗料組成物中之量係介於該聚合物之10ppm與40ppm之間。
實施例56係如實施例38至55中任一者之方法,其中該至少一種離子性液態單體包含可聚合陰離子及下式之陽離子:
其中Z包含酮、酯、醯胺、腈、或吖內酯官能基,R1係H或C1-C25烷基,R2係H或-CO-X1-R5,其中R5係H或C1-C25烷基,且X1係-O-或-NR6-,其中R6係H或C1-C6烷基;且R3係H或CH3,R8係(雜)烴基,且w係0、1、2、或3;條件是當Z包含腈或吖內酯官能基時,則R1及R2係H。
實施例57係如實施例56之方法,其中該可聚合陰離子包含乙烯系不飽和可聚合基團及選自下列之酸性基團:羧酸基團(-COOH)、磺酸基團(-SO3H)、硫酸基團(-SO4H)、膦酸基團(-PO3H2)、磷酸基團(-OPO3H)、或其鹽。
實施例58係如實施例38至57中任一者之方法,其中該至少一種離子性液態單體包含三甲基丙烯醯氧基乙基銨雙(三氟甲基)磺醯胺。
實施例59係如實施例38至58中任一者之方法,其中該可聚合組成物進一步包含至少一種黏著劑單體,該黏著劑單體具有小於0攝氏度、或小於-30攝氏度、或小於-50攝氏度之玻璃轉移溫度。
實施例60係如實施例38至59中任一者之方法,其中該可聚合組成物進一步包含至少一種黏著性促進單體。
實施例61係如實施例38至60中任一者之方法,其中該可聚合組成物進一步包含至少一種丙烯酸酯單體。
實施例62係如實施例38至61中任一者之方法,其中該透明導體具有每平方小於或等於100歐姆的表面電阻。
實施例63係如實施例38至62中任一者之方法,其中該透明導體具有每平方小於或等於50歐姆的表面電阻。
實施例64係如實施例38至63中任一者之方法,其中該可見光透明基材包含聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、環烯烴膜、聚(甲基丙烯酸甲酯)、或其組合。
實施例65係如實施例38至64中任一者之方法,其中該透明導體具有在350nm與850nm之間大於85%之可見光透射率。
實施例66係如實施例38至65中任一者之方法,其中該複數個金屬跡線包含一金屬網。
實施例67係如實施例38至66中任一者之方法,其中該複數個金屬跡線包含複數個奈米線。
這些實例僅用於闡釋之目的,並非意圖過度限制隨附申請專利範圍的範疇。雖然本揭露之廣泛範疇內提出之數值範圍及參數係近似值,但盡可能準確地報告在特定實例中提出之數值。然而,任何數值本質上都含有其各自試驗測量時所發現的標準偏差必然導致的某些誤差。起碼,至少應鑑於有效位數的個數,並且藉由套用普通捨入技術,詮釋各數值參數,但意圖不在於限制所主張申請專利範圍範疇均等者學說之應用。
材料概述
除非另有說明,本說明書中之實例及其餘部分中的份數、百分率、比率等皆依重量計。
測試方法:
光學性質測量:
使用Haze-Guard Plus(購自BYK-Gardner USA,Columbia,MD)來測量霧度(%H)與透射率(%T)。使用Perkin Elmer 950 UV/Vis分光光度計(Spectrophotometer)進行經塗佈之銀奈米線PET膜的反射率測量。測量係跨自350nm至800nm之光譜帶,以每5nm之間隔進行。自450nm至700nm的平均反射率係報告於本文中。
導電性測量:
SEM影像:
將樣本片附接於SEM樣本座(stub),使用碳漆而使樣本片接觸樣本座,且沉積一薄層金/鈀以使得該樣本導電。
成像:使用Hitachi S-4500場發射掃描電子顯微鏡進行。
造影條件:3.0KV、10mm wd、下方檢測器、CL=5、傾斜:30°
放大率:5k倍(5kx)、15k倍(15kx)、50k倍(50kx)
片電阻測量:
使用非接觸探針Delcom 727R Non-Contact Conductance Monitor(購自Delcom Products Inc)測量所得透明導體膜的片電阻。
實驗:
製備儲用ARC-Au溶液(320ppm):配方係如下製造:將0.08g HAuCl4.3H2O及24.96g ARC單體加入褐色的2盎司(約59mL)瓶罐,然後將褐色瓶罐放置於超音波水浴中30分鐘以完全溶解氯金酸。
實例1:
實例1A:製備儲用ARC-Au溶液(24ppm) :配方係如下製造:在2盎司(約59mL)褐色瓶中,將1.5g ARC-Au儲用溶液、21g ARC單體、及0.45g IRGACURE 184混合在一起。然後,將褐色瓶放置於超音波水浴中來溶解IRGACURE 184以形成塗料溶液。
實例1B:製備儲用ARC-Au溶液(32ppm) :配方係如下製造:在2盎司(約59mL)褐色瓶中,將2.5g ARC-Au儲用溶液、22.5g ARC單體、及0.5g IRGACURE 184混合在一起。然後,將褐色瓶放置於超音波水浴中來溶解IRGACURE 184以形成塗料溶液。
使用#5繞線棒(可購自R.D.Specialties,Webster,NY)將塗料溶液塗佈於經Ag-NW塗佈之PET膜(50歐姆/平方)上,然後利用Light Hammer 6紫外光處理機在氮氣氛下以100%功率且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度通過2次來固化塗料。測量光學數據且顯示於下表1。對於在450nm與700nm之間的平均反射率而言,測量以ARC-Au溶液塗佈之前與之後的Ag-NW反射率(即實例1A與實例1B),且將反射率差異(△%R)報告於表中。
基於ARC-Au鹽之配方對Ag奈米線膜不具良好黏著性。因此,ARC-Au塗層可藉由施加MAGIC 810膠帶並接著快速剝離該膠帶而移除。剝離外塗層之後,進一步測量光學數據,如下表2所示。對於以ARC-Au(24ppm)及ARC-Au(32ppm)塗佈之Ag-NW
樣本,在使用MAGIC 810膠帶移除塗料之後,將該等樣本重新命名為實例1C及1D。
於使用ARC-24ppm溶液塗佈之Ag NW膜的樣本上進行SEM研究,接著使用MAGIC膠帶移除塗層。如圖4所示,經ARC-24ppm塗佈處理之後,清楚地觀察到銀奈米線上的表面蝕刻。蝕刻主要導致奈米規模的較粗糙表面,而此現象可造成銀奈米線膜反射降低。氯金酸過量可導致銀奈米線模版沿線有斷開之奈米粒子,且導致導電性顯著降低。氯金酸過量確實傾向於讓銀奈米線膜變黑。據此,經本方法處理的銀奈米線之導電性與可見度的平衡受到包括於塗料中的貴金屬鹽濃度影響。
實例2:
製備塗料配方:
實例2A :在小瓶罐中,將5g ARC單體與0.5g DAROCUR 4265混合在一起。
實例2B :在小瓶罐中,將2.5g ARC單體與2.5g SR610及0.5g DAROCUR 4265混合。
實例2C :在小瓶罐中,將2.5g ARC單體與2.5g VISCOAT 190及0.5g DAROCUR 4265混合。
實例2D :在小瓶罐中,將2.5g ARC單體與2.5g SR444及0.5g DAROCUR 4265混合。
實例2E :在小瓶罐中,將2.5g ARC單體與0.8g VISCOAT 190及1.7g SR415及0.5g DAROCUR 4265混合。
使用#5繞線棒(可購自R.D.Specialties,Webster,NY)將各塗料溶液塗佈於經Ag-NW塗佈之PET膜(40歐姆/平方)上,然後利用Light Hammer 6紫外光處理機在氮氣氛下以100%功率且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度通過2次來固化塗料。光學與導電性性質係顯示於下表3中。
實例3:
製備塗料配方:
實例3A :將10.46g ARC單體、7.84g SR610、2.615g VISCOAT 190、及0.38g IRGACURE 184加入以形成清透塗料溶液。
實例3B :將1.45g ARC-Au儲用溶液、13.12g ARC單體、10.83g SR610、3.6g VISCOAT 190、及0.46g IRGACURE 184加入以形成清透塗料溶液。
實例3C :將1.74g ARC-Au儲用溶液、11.3g ARC單體、9.79g SR610、3.26g VISCOAT 190、及0.5g IRGACURE 184加入以形成清透塗料溶液。
實例3D :將1.89g ARC-Au儲用溶液、7.72g ARC單體、6.96g SR610、2.32g VISCOAT 190、及0.36g IRGACURE 184加入以形成清透塗料溶液。
使用#5繞線棒(可購自R.D.Specialties,Webster,NY)將塗料溶液塗佈於經Ag-NW塗佈之PET膜(40歐姆/平方)上,然後利用Light Hammer 6紫外光處理機在氮氣氛下以100%功率且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度通過2次來固化塗料。光學與導電性性質係顯示於下表4中。
完成在光學與導電性改變上的室溫老化研究,且將結果顯示於下表5中。
比較例4:
藉由使用SR610稀釋ARC-Au儲用溶液至160ppm Au濃度,然後加入2重量%之IRGACURE 184,而製備配方。
使用#5繞線棒(可購自R.D.Specialties,Webster,NY)將根據上述實例3A、3D、及4之配方的塗料溶液施加於銅網膜上,然後利用Light Hammer 6紫外光處理機在氮氣氛下以100%功率且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度通過2次來固化各塗料。在施加實例3D及4之塗料配方下,銅之顏色經增強而看起來更像「紅色」。因此,跡線變得變得更加「可見」。光學數據顯示於下表6中。
實例5:
製備塗料配方:
將2.42g ARC-Au儲用溶液、2.38g丙烯酸2-羥乙酯、4.88g SR444、21g 1-甲氧基-2-丙醇、及0.22g IRGACURE 184混合在一起以形成微黃色塗料溶液。Au之濃度係80ppm。
使用#5繞線棒(可購自R.D.Specialties,Webster,NY)將塗料溶液塗佈於經Ag-NW塗佈之PET膜(40歐姆/平方)上,然後利用Light Hammer 6紫外光處理機在氮氣氛下以100%功率且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度通過2次來固化塗料。對照組經Ag-NW塗佈之PET膜的導電性經測得為43.8歐姆/平方。使用實例5之塗料配方後,使用Delcom非接觸探針不再能檢測到Ag-NW的導電性。此表示Ag-NW的導電性已使用塗料成功地關閉。
實例6:
如上述實例5所描述,選定之印製區的導電性可被關閉。如圖5所示,Ag-NW塗層未經圖案化、蝕刻、或移除。因此,由於印製墨水(實例5塗料配方)匹配標準光學清透黏著劑(OCA)的折射率,故在導電與非導電區之間未產生反射/散射反差。在OCA層壓之後,就可產生不可見地經圖案化的Ag-NW膜。
實驗係如下所述進行:
實例5之塗料配方的經圖案化層係經印製於40歐姆/平方的銀奈米線層上,該銀奈米線層先前被塗佈於Dupont ST-504 5密耳(127微米)PET基材上。經印製圖案係使用以下經設計來仿效習知柔版印刷之程序由手工製造:使用#9 Meyer棒,將實例5之塗料配方的薄塗層沉積於3密耳(76.2微米)PET之供體層(donor layer)。
使用3M E1120柔版安裝帶,將0.067吋(1.7公釐(mm))Dupont DPR Flexoplate安裝於圓形鋁心軸。印模具有矩形條之圖案陣列,該等矩形條大約5mm寬且6吋(152.4mm)長,具有節距6.5mm。
將(2)之柔版(flexo)印模壓入(1)之液態塗料,而將液態塗料之部分轉印成該印模的凸紋特徵。
然後,使(2)之濕印模壓靠該經銀奈米線塗佈之基材,而將墨水自印模的凸紋特徵轉印至奈米線基材。
以Fusion UV系統來固化奈米線基材上的經圖案化塗料,該Fusion UV系統使用以100%功率在氮氣氛下操作之高壓汞燈泡且以30呎/分鐘(9.1公尺/分鐘)之帶速度總共通過2次。經印製與固化之圖案經估計厚度係介於0.5與3.0微米之間。
雖然本說明書已詳細描述某些例示性實施例,但將瞭解所屬技術領域中具有通常知識者在理解前文敘述後,可輕易設想出這些實施例的替代、變化、及等同物。更進一步的說,在本文中所提及
的全部公開案與專利皆全文以引用方式併入本文中,其引用程度就如同將各個各別公開案或專利明確並且各別地指示以引用方式併入本文中。已描述各種例示性實施例。這些及其他實施例係在以下申請專利範圍的範疇之內。
10‧‧‧可見光透明基材
11‧‧‧主表面
12‧‧‧金屬跡線
13‧‧‧結構化表面
14‧‧‧一層第二金屬
100‧‧‧透明導體
Claims (10)
- 一種透明導體,其包含:可見光透明基材;設置於該基材之主表面上之複數個金屬跡線,該等金屬跡線包含第一金屬且具有結構化表面;及沉積於該複數個金屬跡線之該結構化表面之一部分上的層第二金屬,其中該層適形於其所沉積於上之該結構化表面之該部分。
- 如請求項1之透明導體,其中該第二金屬包含金、鉑、或鈀。
- 一種透明導體,其包含:可見光透明基材;設置於該基材之主表面上之複數個金屬跡線,該等金屬跡線包含第一金屬;沉積於該複數個金屬跡線之一部分上的層第二金屬;及設置於該層該第二金屬及至少一部分該可見光透明基材之上的塗覆層(coating layer),該塗覆層包含自可聚合組成物製備之聚合物,該可聚合組成物包含至少一種離子性液態單體。
- 如請求項3之透明導體,其中該層該第二金屬係該第一金屬與該第二金屬之貴金屬鹽藉由施加該可聚合組成物於該複數個金屬跡線之一部分及至少一部分該可見光透明基材之上之反應產物,該可聚合塗料組成物包含分散於該至少一種離子性液態單體中之該第二金屬之至少一種貴金屬鹽。
- 如請求項3之透明導體,其中該塗覆層進一步包含該第一金屬之鹽。
- 如請求項3之透明導體,其中該貴金屬鹽包含HAuCl4、PdCl2、 或H2PtCl6。
- 如請求項3之透明導體,其中該塗覆層係以圖案設置於該複數個金屬跡線之該部分上。
- 一種形成透明導體之方法,其包含:獲得可見光透明基材,其包含設置於該基材之主表面上的複數個金屬跡線;及施加塗料組成物於該複數個金屬跡線之一部分及至少一部分該可見光透明基材之上,該塗料組成物包含至少一種貴金屬鹽及至少一種可聚合離子性液態單體。
- 如請求項8之方法,其中該塗料組成物包含小於1%之溶劑。
- 如請求項8之方法,其中該施加該塗料組成物之步驟包含以圖案施加該塗料組成物於該複數個金屬跡線之一部分上。
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