JP6186805B2 - タッチパネル - Google Patents
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Description
本発明は、銅メッシュを電極に用いてもメッシュパターンが視認し難いタッチパネル及び該タッチパネルを配置した画像表示装置に関する。
近年、各種電子機器の入力装置としてタッチパネルが普及してきている。タッチパネルは抵抗膜方式、静電容量方式など各種方式のものが実用化されている。
タッチパネルは、一般的には、タッチパネル用電極部材として、ガラス板やポリエチレンテレフタレートフィルム等からなる透明基材の片方の面上に、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）薄膜からなる透明導電膜を形成したものが使用されている（特許文献１）。
しかし、ＩＴＯ薄膜からなる透明導電膜は、インジウムというレアメタル（希土類元素）が使用されるために高価である点、及び、抵抗（表面抵抗率）がタッチパネルの大面積化を図るには高抵抗である点で、低コスト化及び大画面化への要求に対応し難い。
しかし、ＩＴＯ薄膜からなる透明導電膜は、インジウムというレアメタル（希土類元素）が使用されるために高価である点、及び、抵抗（表面抵抗率）がタッチパネルの大面積化を図るには高抵抗である点で、低コスト化及び大画面化への要求に対応し難い。
そこで、ＩＴＯ薄膜の透明導電膜に代えて、透明基材に、金属細線パターンからなる金属メッシュを形成したタッチパネル用電極部材が提案されている（特許文献２）。金属メッシュによれば、ＩＴＯ薄膜に比べて低コストかつ低抵抗にできる。
特に銅メッシュは、低抵抗性、電磁波シールド材等での使用実績、価格、メッシュの加工性等の観点から特に好ましい。
しかし、銅メッシュからなる銅層をタッチパネル用電極部材として使用すると、使用者がタッチパネルを間近に見て操作する場合や、タッチパネルを通して表示画像を見る場合、非透過性のメッシュパターンが認識され、表示画像の視認性が低下するという問題があった。
特に銅メッシュは、低抵抗性、電磁波シールド材等での使用実績、価格、メッシュの加工性等の観点から特に好ましい。
しかし、銅メッシュからなる銅層をタッチパネル用電極部材として使用すると、使用者がタッチパネルを間近に見て操作する場合や、タッチパネルを通して表示画像を見る場合、非透過性のメッシュパターンが認識され、表示画像の視認性が低下するという問題があった。
一方、タッチパネルの表面には、電極を保護するために保護シートが設けられている。
保護シートは、従来の透明硝子基板から軽量化、破損による安全性の向上の観点からプラスチック基材からなる保護フィルムを用いることが提案されている。しかしながら、上層にハードコート層を設けた保護フィルムでは、耐摩耗性、耐指紋防止性等の点で解決すべき課題があり、現在も透明硝子基板が多用されている。
保護シートに透明硝子基板を用いる場合にあっては、入力のためにペンや指で触れる最外表面側（視認側）には、摩耗防止や指紋の拭き取り易さ等の点から、反射防止層、防眩層等の機能層を積層しないのが望ましい。
保護シートは、従来の透明硝子基板から軽量化、破損による安全性の向上の観点からプラスチック基材からなる保護フィルムを用いることが提案されている。しかしながら、上層にハードコート層を設けた保護フィルムでは、耐摩耗性、耐指紋防止性等の点で解決すべき課題があり、現在も透明硝子基板が多用されている。
保護シートに透明硝子基板を用いる場合にあっては、入力のためにペンや指で触れる最外表面側（視認側）には、摩耗防止や指紋の拭き取り易さ等の点から、反射防止層、防眩層等の機能層を積層しないのが望ましい。
本発明は、このような状況下になされたものであり、その目的は、透明硝子基板を保護シートとし、透明基材上にパターンニングして形成した銅層からなる細線金属メッシュを備えた電極を有するタッチパネルにおいて、銅層による反射色を減じて、表示画像の視認性を向上できるタッチパネル及びそれを用いた画像表示装置等を提供することである。
本発明者は、種々検討の結果、銅層からなる細線金属メッシュ電極を有するタッチパネルにおいて、銅層による反射色を、低屈折率層の干渉色で打ち消すことにより、本発明の目的を達成できることを知見した。
すなわち、本発明は、
（１）透明基材と、透明基材上に設けられた導電体メッシュを備えた電極及び透明硝子基板を有するタッチパネルであって、該導電体メッシュは銅層からなり、少なくとも観察者側の電極の銅層の観察者側には、透明な高屈折率層と低屈折率層とを該低屈折率層が観察者側最表面に位置する様にして順次積層させてなる色味調整層を有してなり、ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４に準拠して、色味調整層の反射色をＬ*ａ*ｂ*で表したときのｂ*の値が−３以下であることを特徴とするタッチパネル、
（２）前記色味調整層は高屈折率層と低屈折率層を交互に４層に積層させてなる前記（１）に記載のタッチパネル、及び
（３）前記（１）又は（２）に記載のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置、
を提供するものである。
（１）透明基材と、透明基材上に設けられた導電体メッシュを備えた電極及び透明硝子基板を有するタッチパネルであって、該導電体メッシュは銅層からなり、少なくとも観察者側の電極の銅層の観察者側には、透明な高屈折率層と低屈折率層とを該低屈折率層が観察者側最表面に位置する様にして順次積層させてなる色味調整層を有してなり、ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４に準拠して、色味調整層の反射色をＬ*ａ*ｂ*で表したときのｂ*の値が−３以下であることを特徴とするタッチパネル、
（２）前記色味調整層は高屈折率層と低屈折率層を交互に４層に積層させてなる前記（１）に記載のタッチパネル、及び
（３）前記（１）又は（２）に記載のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置、
を提供するものである。
本発明によれば、銅層による反射色を、色味調整層の干渉色で打ち消すことができ、銅メッシュ層の不透視性を確保しつつ、表示画像の視認性を向上したタッチパネル及びそれを用いた画像表示装置を提供することができる。
また、本発明のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置は、保護シートとして透明硝子基板を有しているので、耐久性、払拭により容易に指紋や汚れを除去でき、保守のし易い画像表示装置を提供できる。
また、本発明のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置は、保護シートとして透明硝子基板を有しているので、耐久性、払拭により容易に指紋や汚れを除去でき、保守のし易い画像表示装置を提供できる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。
［電極フィルム］
図１は、本発明のタッチパネルの代表的な実施形態について、その構成を示す部分拡大断面模式図である。
電極２０は、透明基材３０と、その上に設けられた導電体メッシュである銅（Ｃｕ）層３と、銅層３上に設けられた、少なくとも透明高屈折率層２と透明低屈折率層１からなる色味調整層１０からなり、電極フィルム２０と、要すれば電極フィルム上に積層された機能層（図示省略）及び保護シートとしての透明硝子基板４０を有し、また、図示してある電極フィルム２０の表示板５０側には、電極フィルム２０と相対する電極フィルム６０（図５、図６参照）が積層されている。
なお、本実施形態に於いて色味調整層１０は銅層３の直上部及び透明基材３０上の銅層３の無い領域（即ち、開口部）にも形成されている。しかし、色味調整層１０は、透明基材３０上の銅層３の無い領域（即ち、開口部）に於いては形成されていなくともよい。かかる構成とする為には、透明基材３０上の全面に亙って銅層３及び色味調整層１０を形成し、しかる後、開口部上の銅層３及び色味調整層１０を選択的にフォトエッチング等の手法により除去することによって容易に得られる。
色味調整層１０は、その目的からして、銅層３の直上部では必須であるが、透明基材３０上の銅層３の無い領域（開口部）に於いては不必須（即ち、有っても無くても何れでも可）である。但し、開口部上にも色味調整層１０が存在しても、当該色味調整層１０は薄膜で高透明性である為、タッチパネルとしての機能上は特に支障は無い。寧ろ、開口部にも色味調整層が存在する形態の方が、目視した際の導電体メッシュの不可視性の点では多少良好（見え難く）になる。開口部上にも色味調整層１０が存在する形態のタッチパネルは、透明基材３０上の銅層３をフォトエッチング等の手法により導電メッシュに加工した後、全面に色味調整層１０を形成する方法により得られる。
そのような意味（本発明に於いては、開口部上の色味調整層１０の有無は両形態とも可能である）から、図１及び図２に於いて、開口部上の色味調整層１０を破線で表示してある。
図１は、本発明のタッチパネルの代表的な実施形態について、その構成を示す部分拡大断面模式図である。
電極２０は、透明基材３０と、その上に設けられた導電体メッシュである銅（Ｃｕ）層３と、銅層３上に設けられた、少なくとも透明高屈折率層２と透明低屈折率層１からなる色味調整層１０からなり、電極フィルム２０と、要すれば電極フィルム上に積層された機能層（図示省略）及び保護シートとしての透明硝子基板４０を有し、また、図示してある電極フィルム２０の表示板５０側には、電極フィルム２０と相対する電極フィルム６０（図５、図６参照）が積層されている。
なお、本実施形態に於いて色味調整層１０は銅層３の直上部及び透明基材３０上の銅層３の無い領域（即ち、開口部）にも形成されている。しかし、色味調整層１０は、透明基材３０上の銅層３の無い領域（即ち、開口部）に於いては形成されていなくともよい。かかる構成とする為には、透明基材３０上の全面に亙って銅層３及び色味調整層１０を形成し、しかる後、開口部上の銅層３及び色味調整層１０を選択的にフォトエッチング等の手法により除去することによって容易に得られる。
色味調整層１０は、その目的からして、銅層３の直上部では必須であるが、透明基材３０上の銅層３の無い領域（開口部）に於いては不必須（即ち、有っても無くても何れでも可）である。但し、開口部上にも色味調整層１０が存在しても、当該色味調整層１０は薄膜で高透明性である為、タッチパネルとしての機能上は特に支障は無い。寧ろ、開口部にも色味調整層が存在する形態の方が、目視した際の導電体メッシュの不可視性の点では多少良好（見え難く）になる。開口部上にも色味調整層１０が存在する形態のタッチパネルは、透明基材３０上の銅層３をフォトエッチング等の手法により導電メッシュに加工した後、全面に色味調整層１０を形成する方法により得られる。
そのような意味（本発明に於いては、開口部上の色味調整層１０の有無は両形態とも可能である）から、図１及び図２に於いて、開口部上の色味調整層１０を破線で表示してある。
透明基材３０は、透明で電気絶縁性の基材であれば特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、トリアセチルセルロース（三酢酸セルロース）等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート樹脂などからなる樹脂シート、或いはソーダ硝子、カリ硝子、石英硝子等の硝子、結晶質石英、蛍石等の無機質材料の板を用いることができる。
なお、本発明においては、「フィルム」の語は狭義のフィルムの他に所謂シートや板と呼称される厚みの厚いものも包含する広義の意味で使用する。
これら透明基材の厚みは、２０〜３０００μｍ程度の範囲から、用途、要求性能、価格等に応じて適宜の厚みを選択する。
なお、本発明においては、「フィルム」の語は狭義のフィルムの他に所謂シートや板と呼称される厚みの厚いものも包含する広義の意味で使用する。
これら透明基材の厚みは、２０〜３０００μｍ程度の範囲から、用途、要求性能、価格等に応じて適宜の厚みを選択する。
導電体メッシュである電極２０は、メッシュパターン状に形成された導電性金属層である銅層３と、その上（観察者側）に設けたメッシュパターンの不可視性を向上させるための、少なくとも透明高屈折率層２と透明低屈折率層１からなる色味調整層１０が要部をなす。なお、ここで観察者とは、当該タッチパネルを組み込んだ画像表示裝置の画像を観察する者を意味する。また、斯かる観察者は当該タッチパネルの操作者にもなり得る。
導電性の効果を奏するために、銅層の厚みは０．１μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上である。
銅層をこの厚みとすることで、細線化がしやすくなり、特に線幅が１０μｍ以下、中でも特に幅７μｍ以下の銅層の細線を形状再現性良く加工することが可能となり、断線のない細線金属メッシュを備えた電極フィルムを得ることができる。また、銅層の厚みが必要以上に厚くなると、導電性の効果は飽和する上、メッシュパターンに加工する際の加工適性が低下し、且つ材料費も高くなる。その観点から、銅層の厚みの上限値は２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下とする
本発明の電極のメッシュパターンの開口率は、８０〜９９％程度であることが好ましい。
導電性の効果を奏するために、銅層の厚みは０．１μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上である。
銅層をこの厚みとすることで、細線化がしやすくなり、特に線幅が１０μｍ以下、中でも特に幅７μｍ以下の銅層の細線を形状再現性良く加工することが可能となり、断線のない細線金属メッシュを備えた電極フィルムを得ることができる。また、銅層の厚みが必要以上に厚くなると、導電性の効果は飽和する上、メッシュパターンに加工する際の加工適性が低下し、且つ材料費も高くなる。その観点から、銅層の厚みの上限値は２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下とする
本発明の電極のメッシュパターンの開口率は、８０〜９９％程度であることが好ましい。
[色味調整層]
次に、本発明のタッチパネルの電極を構成する色味調整層１０について説明する。
銅層表面の分光反射率曲線（横軸に光波長、縦軸に反射率を採り、銅の光反射率の波長依存性、即ち分光反射スペクトルを表示したもの。以下、単に反射スペクトルとも呼称する。）に於いて、可視光帯域の光反射率は波長の増加と共に増加する特性を有することが広く知られている。例えば、特開平１−１１９８７１号公報（の図５）には、図７に示すような銅の反射スペクトルが開示されている。ここからわかる様に、銅表面の光反射率は、波長４８０ｎｍ（緑青色）で約５０％に達し、波長６００ｎｍ（黄色）より長波長域では９０％以上となる。そのため、銅層表面の反射光は赤色味がかって見えることになる。
そこで、本発明における色味調整層１０は、波長４８０ｎｍ（緑色）未満の短波長帯域の可視光を、４８０ｎｍ以上の長波長帯域の可視光よりもより強く反射するように調整された層として、銅層３のタッチパネルの観察者（乃至操作者）側に積層する。なお、ここで、「波長４８０ｎｍ（緑青色）未満の長波長帯域の可視光を、４８０ｎｍ以上の短波長帯域の可視光よりもより強く反射する」とは、図３に於ける実施例５の反射スペクトルの様に、色味調整層１０からの反射光の分光反射率曲線（反射スペクトル）が、相対的に、４８０ｎｍ以上の長波長域（緑〜黄〜橙〜赤）に於ける分光反射率の積分値（積分光量）に比べて、４８０ｎｍよりも短波長域（紫色から青色にかけての帯域）に於ける分光反射率の積分値の方がより大きくなるよう選定されていることを意味する。
すなわち、透明基材３０／銅層３／色味調整層１０の積層体において、色味調整層１０の干渉色（反射の際の残留反射色）を青色味がかった色に設定し、銅層からの赤色味がかった反射色と混色して無彩色化することで、銅層の赤色味を低減せしめるものである。
具体的には、以下に詳述するように、色味調整層１０の干渉色（反射の際の残留反射色）の分光反射率曲線の極小値を与える波長、即ち、反射極小波長λ1を４８０ｎｍ以上の長波長側に移動させることで、４８０ｎｍ以上の長波長域に於ける反射率の積分値（積分光量）よりも、４８０ｎｍ未満の短波長域に於ける反射率の積分値の方がより大きくなるようにして、短波長側の反射率が上昇するようにすることである。
なお、本願発明者が評価検討した結果、後述の表１及び表２に示す如く、銅層３表面の反射光については、分光反射曲線の反射極小波長λ1とＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４規定のＬ*ａ*ｂ*表色系（ＣＩＥ（国際照明委員会）１９７６年推奨のＬ*ａ*ｂ*色空間に対応）で表したときのｂ*の値とに相関関係が有り、λ1≧４８０ｎｍであることとｂ*≦−３であることとが対応する（両者は等価である）ことが判明した。
従って、銅層３表面の反射色の赤味を相殺して、目視上赤味を判別不能とせしめる條件は、
λ1≧４８０ｎｍ
又は、
ｂ*≦−３
となる。
次に、本発明のタッチパネルの電極を構成する色味調整層１０について説明する。
銅層表面の分光反射率曲線（横軸に光波長、縦軸に反射率を採り、銅の光反射率の波長依存性、即ち分光反射スペクトルを表示したもの。以下、単に反射スペクトルとも呼称する。）に於いて、可視光帯域の光反射率は波長の増加と共に増加する特性を有することが広く知られている。例えば、特開平１−１１９８７１号公報（の図５）には、図７に示すような銅の反射スペクトルが開示されている。ここからわかる様に、銅表面の光反射率は、波長４８０ｎｍ（緑青色）で約５０％に達し、波長６００ｎｍ（黄色）より長波長域では９０％以上となる。そのため、銅層表面の反射光は赤色味がかって見えることになる。
そこで、本発明における色味調整層１０は、波長４８０ｎｍ（緑色）未満の短波長帯域の可視光を、４８０ｎｍ以上の長波長帯域の可視光よりもより強く反射するように調整された層として、銅層３のタッチパネルの観察者（乃至操作者）側に積層する。なお、ここで、「波長４８０ｎｍ（緑青色）未満の長波長帯域の可視光を、４８０ｎｍ以上の短波長帯域の可視光よりもより強く反射する」とは、図３に於ける実施例５の反射スペクトルの様に、色味調整層１０からの反射光の分光反射率曲線（反射スペクトル）が、相対的に、４８０ｎｍ以上の長波長域（緑〜黄〜橙〜赤）に於ける分光反射率の積分値（積分光量）に比べて、４８０ｎｍよりも短波長域（紫色から青色にかけての帯域）に於ける分光反射率の積分値の方がより大きくなるよう選定されていることを意味する。
すなわち、透明基材３０／銅層３／色味調整層１０の積層体において、色味調整層１０の干渉色（反射の際の残留反射色）を青色味がかった色に設定し、銅層からの赤色味がかった反射色と混色して無彩色化することで、銅層の赤色味を低減せしめるものである。
具体的には、以下に詳述するように、色味調整層１０の干渉色（反射の際の残留反射色）の分光反射率曲線の極小値を与える波長、即ち、反射極小波長λ1を４８０ｎｍ以上の長波長側に移動させることで、４８０ｎｍ以上の長波長域に於ける反射率の積分値（積分光量）よりも、４８０ｎｍ未満の短波長域に於ける反射率の積分値の方がより大きくなるようにして、短波長側の反射率が上昇するようにすることである。
なお、本願発明者が評価検討した結果、後述の表１及び表２に示す如く、銅層３表面の反射光については、分光反射曲線の反射極小波長λ1とＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４規定のＬ*ａ*ｂ*表色系（ＣＩＥ（国際照明委員会）１９７６年推奨のＬ*ａ*ｂ*色空間に対応）で表したときのｂ*の値とに相関関係が有り、λ1≧４８０ｎｍであることとｂ*≦−３であることとが対応する（両者は等価である）ことが判明した。
従って、銅層３表面の反射色の赤味を相殺して、目視上赤味を判別不能とせしめる條件は、
λ1≧４８０ｎｍ
又は、
ｂ*≦−３
となる。
色味調整層１０としては、高屈折率層２（屈折率ｎ2）上に、低屈折率層１（屈折率ｎ1、厚みｈ1）を積層する。その際、反射極小波長λ1を４８０ｎｍ以上の長波長帯域（波長４８０〜８３０ｎｍ程度）とすべく、反射防止膜の分野では周知慣用の理論式である式１、式２を用いて、λ1≧４８０ｎｍとなるような低屈折率層１の屈折率ｎ1、厚みｈ1を選択する。
なお、色味調整層１０は、その残留反射光スペククトルが波長４８０ｎｍ未満の短波長光（青味がかった光）の積分値が波長４８０ｎｍ以上の長波長光（赤味がかった光）の積分値よりも多く含めば良いため、反射極小波長λ1は近赤外線領域に位置していても良く、λ1は最大８３０ｎｍ程度迄とする。
なお、色味調整層１０は、その残留反射光スペククトルが波長４８０ｎｍ未満の短波長光（青味がかった光）の積分値が波長４８０ｎｍ以上の長波長光（赤味がかった光）の積分値よりも多く含めば良いため、反射極小波長λ1は近赤外線領域に位置していても良く、λ1は最大８３０ｎｍ程度迄とする。
この場合、色味調整層１０の反射光は、純粋な青色ではなく、紫系の色になる。しかしながら、これでも、銅層の赤色味の低減としては実用上十分なものである。
なお、銅層３表面からの赤味がかった反射光を、より完全に相殺して無彩色化せしめるために、図１の実施形態に対して、更に、高屈折率層及び低屈折率層の対から成る色味調整層を１対以上追加した形態（銅層３上に、色味調整層１０（高屈折率層２及び低屈折率層１の積層体）を２層以上、低屈折率層が最表面に位置するようにして順次積層）としても良い。
その際には、各色味調整層の反射極小波長λ1は、４８０ｎｍ〜８３０ｎｍの範囲内で順次ずらすように、上記式２を使って屈折率及び厚みを選定する。各色味調整層間のλ1同士の間隔は５０〜２００ｎｍ程度とする。なお、各色味調整層の反射極小波長が総合された結果としての色味調整層１０全層としての総合的分光反射率曲線は、その反射極小波長λ1が波長４８０ｎｍ以上（８３０ｎｍ程度以下）となるように調整される。
図２に、斯かる実施形態の代表例を図示する。ここでは、銅層３の観察者側表面上に、第１高屈折率層２´、第１低屈折率層１´、第２高屈折率層２、及び第２低屈折率層１を此の順序で積層して色味調整層１０としている。
その際には、各色味調整層の反射極小波長λ1は、４８０ｎｍ〜８３０ｎｍの範囲内で順次ずらすように、上記式２を使って屈折率及び厚みを選定する。各色味調整層間のλ1同士の間隔は５０〜２００ｎｍ程度とする。なお、各色味調整層の反射極小波長が総合された結果としての色味調整層１０全層としての総合的分光反射率曲線は、その反射極小波長λ1が波長４８０ｎｍ以上（８３０ｎｍ程度以下）となるように調整される。
図２に、斯かる実施形態の代表例を図示する。ここでは、銅層３の観察者側表面上に、第１高屈折率層２´、第１低屈折率層１´、第２高屈折率層２、及び第２低屈折率層１を此の順序で積層して色味調整層１０としている。
前記の如く、本発明を構成する色味調整層は、反射色相をＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４規定のＬ*ａ*ｂ*表色系で表したときのｂ*の値が−３以下であることを要する。
ｂ*の値が−３以下であれば、色味調整層と銅層の色味が混色して、目視にて銅固有の赤味がかった色が視認不能な程度に無彩色化することで、銅層の赤色味を低減せしめることができる。本発明において、視感反射率Ｙ値、反射色相a*、b*の測定算出方法は実施例に記載の方法で測定する。
ｂ*の値を−３以下とするには、色味調整層を形成する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率及び厚みを前記の式２によって、反射極小波長λ1がλ1≧４８０ｎｍとなるように調整すればよい。具体的には、後述の如き高屈折率層及び低屈折率層の材料を選定して調整する。
ｂ*の値が−３以下であれば、色味調整層と銅層の色味が混色して、目視にて銅固有の赤味がかった色が視認不能な程度に無彩色化することで、銅層の赤色味を低減せしめることができる。本発明において、視感反射率Ｙ値、反射色相a*、b*の測定算出方法は実施例に記載の方法で測定する。
ｂ*の値を−３以下とするには、色味調整層を形成する高屈折率層及び低屈折率層の屈折率及び厚みを前記の式２によって、反射極小波長λ1がλ1≧４８０ｎｍとなるように調整すればよい。具体的には、後述の如き高屈折率層及び低屈折率層の材料を選定して調整する。
すなわち、本発明は、銅層３上に高屈折率層２と低屈折率層１の１対を積層してなる色味調整層とする形態（本発明のタッチパネルの第１形態）のみならず、最上層が低屈折率層となるように、高屈折率層／低屈折率層の対を２対以上積層して色味調整層とした形態（図２の形態）も好ましい態様として提供するものである。
色味調整層低屈折率層を構成する材料としては、ケイ素酸化物、フッ化物、フッ素含有樹脂等が用いられ、具体的にはＳｉＯ2（屈折率ｎ＝１．４６）、ＭｇＦ2（屈折率ｎ＝１．３８）、ＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．３６）、ＮａＦ（屈折率ｎ＝１．３３）、ＣａＦ2（屈折率ｎ＝１．４４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3（屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3（屈折率ｎ＝１．３７）、Ｎａ3ＡｌＦ6（屈折率ｎ＝１．３３）などがある。
低屈折率層の形成方法としては、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法によって、低屈折率層形成材料を堆積せしめる方法、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアロールコーティング等を用いるウェットコーティング法によって低屈折率層形成材料を塗布し、次いで、乾燥後、熱や電離放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により塗膜を硬化せしめる方法によって得ることができる。
溶剤に希釈し塗布する方法は、これらの無機材料を微粒子化し、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹等のバインダー樹脂中に分散した材料が、容易に低屈折率層を設けることができる点で好ましい。
低屈折率層の形成方法としては、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法によって、低屈折率層形成材料を堆積せしめる方法、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、グラビアロールコーティング等を用いるウェットコーティング法によって低屈折率層形成材料を塗布し、次いで、乾燥後、熱や電離放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により塗膜を硬化せしめる方法によって得ることができる。
溶剤に希釈し塗布する方法は、これらの無機材料を微粒子化し、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹等のバインダー樹脂中に分散した材料が、容易に低屈折率層を設けることができる点で好ましい。
また、低屈折率層には、空隙を有する微粒子を用いてもよい。空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率の増大にともなって屈折率が低下する微粒子を意味する。微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部及び／又は表面の少なくとも一部に微細空隙乃至微細気泡を包含したり、随伴したりする構造（ナノポーラス構造）の形成が可能な微粒子も含まれる。空隙を有する微粒子は、無機物、有機物のいずれでもあってよく、例えば、金属、金属酸化物、樹脂からなるものが挙げられ、好ましくは、酸化珪素（シリカ）微粒子が挙げられる。
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2として０．５〜５０質量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。
本発明のタッチパネルを構成する色味調整層における高屈折率層２（２'を含む）は、下記のような、一般的な高屈折率層の形成方法により形成することができる。
屈折率を高くするためは、高屈折率のバインダー樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
屈折率を高くするためは、高屈折率のバインダー樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2（屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2（屈折率ｎ＝１．９５）又はＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2（屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2Ｏ3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独又は混合して使用され、有機溶剤又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法によって、高屈折率層形成材料を堆積せしめる方法、或いは上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法によって、高屈折率層形成材料を堆積せしめる方法、或いは上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
[透明硝子基板]
本発明のタッチパネルは、観察者側に保護シートとしての透明硝子基板を有する。本発明において使用できる硝子としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、石英硝子等が挙げられる。
透明硝子基板の厚みは、保護すべきタッチパネルの大きさ、用途等から最適な厚みのものが選択され、特に制限はないが、概ね１００〜５０００μｍの範囲である。
本発明のタッチパネルは、観察者側に保護シートとしての透明硝子基板を有する。本発明において使用できる硝子としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、石英硝子等が挙げられる。
透明硝子基板の厚みは、保護すべきタッチパネルの大きさ、用途等から最適な厚みのものが選択され、特に制限はないが、概ね１００〜５０００μｍの範囲である。
本発明は、前記タッチパネルを表示面（表示板５０の観察者側の面）に配置した画像表示装置をも提供する。
すなわち、本発明のタッチパネルは、銅からなる導電体メッシュ層（以下、銅メッシュとも呼称する）が不可視性であり、該銅メッシュ層が電極として用いられた、携帯用小型端末、電子ペーパー、コンピュータディスプレイ、小型ゲーム機、現金自動支払機の表示面、乗車券自動販売機、携帯電話機、電子黒板などの表示面等に装着され、特に静電容量方式のタッチパネルとして好ましく使用することができる。なお、このような表示面に用いられる表示装置は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電場発光（ＥＬ）表示装置、陰極線管（ＣＲＴ）表示装置、電気泳動表示装置等のいずれであってもよい。
すなわち、本発明のタッチパネルは、銅からなる導電体メッシュ層（以下、銅メッシュとも呼称する）が不可視性であり、該銅メッシュ層が電極として用いられた、携帯用小型端末、電子ペーパー、コンピュータディスプレイ、小型ゲーム機、現金自動支払機の表示面、乗車券自動販売機、携帯電話機、電子黒板などの表示面等に装着され、特に静電容量方式のタッチパネルとして好ましく使用することができる。なお、このような表示面に用いられる表示装置は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（ＰＤＰ）、電場発光（ＥＬ）表示装置、陰極線管（ＣＲＴ）表示装置、電気泳動表示装置等のいずれであってもよい。
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によって何ら限定されるものではない。
[評価方法]
〔反射Ｙ値、反射色相a*、b*の測定算出方法等〕
後述するＸフィルムとＹフィルムを、光学用アクリル樹脂系粘着剤を用いて所定の形態で貼り合わせたものを測定用サンプルとし、島津製作所製自記分光光度計ＵＶ−３１００にて、５°正反射率を３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、分光反射率曲線及びその反射極小波長λ1を算出した。
なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体である測定用サンプルのフィルムの裏面反射を防止するため、図５に示すように測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）８を貼って測定した。
次に、この反射率データを用いて、人間が目で感じる明度として換算するソフトウエア（ＵＶ−３１００に付属）により、視感反射率である反射Ｙ値を算出した。
同様に反射率データを用いて、ＵＶ−３１００付属ソフトウエアを用いて色相ａ* 、色相ｂ* を算出した。これらは、ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４（ＪＩＳハンドブック３３「色彩−１９９６」日本規格協会編集）にて規定されている色座標における指標である。ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４によれば、明度Ｌ、色相ａ* 及び色相ｂ* の３つの値によって、測定対象物の色調が表される。明度Ｌが大きいほど明度が高いことを示す。また、色相ａ* は赤味を表し、数値が大きいほど赤味が強いことを示し、−（マイナス）になると赤味が不足していること、言い換えれば緑色味が強いことを示している。さらに、色相ｂ* は黄色味の指標であり、この数値が大きい場合は黄色味が強いことを示し、−（マイナス）になると黄色味が不足して青くなる事を示している。そして、色相ａ* 及び色相ｂ* のいずれも０の場合は、無色を意味している。
〔反射Ｙ値、反射色相a*、b*の測定算出方法等〕
後述するＸフィルムとＹフィルムを、光学用アクリル樹脂系粘着剤を用いて所定の形態で貼り合わせたものを測定用サンプルとし、島津製作所製自記分光光度計ＵＶ−３１００にて、５°正反射率を３８０〜７８０ｎｍまでの波長範囲で測定し、分光反射率曲線及びその反射極小波長λ1を算出した。
なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体である測定用サンプルのフィルムの裏面反射を防止するため、図５に示すように測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）８を貼って測定した。
次に、この反射率データを用いて、人間が目で感じる明度として換算するソフトウエア（ＵＶ−３１００に付属）により、視感反射率である反射Ｙ値を算出した。
同様に反射率データを用いて、ＵＶ−３１００付属ソフトウエアを用いて色相ａ* 、色相ｂ* を算出した。これらは、ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４（ＪＩＳハンドブック３３「色彩−１９９６」日本規格協会編集）にて規定されている色座標における指標である。ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４によれば、明度Ｌ、色相ａ* 及び色相ｂ* の３つの値によって、測定対象物の色調が表される。明度Ｌが大きいほど明度が高いことを示す。また、色相ａ* は赤味を表し、数値が大きいほど赤味が強いことを示し、−（マイナス）になると赤味が不足していること、言い換えれば緑色味が強いことを示している。さらに、色相ｂ* は黄色味の指標であり、この数値が大きい場合は黄色味が強いことを示し、−（マイナス）になると黄色味が不足して青くなる事を示している。そして、色相ａ* 及び色相ｂ* のいずれも０の場合は、無色を意味している。
〔銅（メッシュ）層の不透視性の評価〕
後述するＸフィルムとＹフィルムを、光学用粘着剤を用いて貼り合わせ、さらに光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価は通常の室内を想定して蛍光灯下で観察し、次のような定性的な評価を行った。（液晶パネルは黒表示状態で評価を行った）
◎：蛍光灯の下、１ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線を視認 できない。
○：蛍光灯の下、２ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線を視認 できない。
×：蛍光灯の下、２ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線が視認 される。
後述するＸフィルムとＹフィルムを、光学用粘着剤を用いて貼り合わせ、さらに光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価は通常の室内を想定して蛍光灯下で観察し、次のような定性的な評価を行った。（液晶パネルは黒表示状態で評価を行った）
◎：蛍光灯の下、１ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線を視認 できない。
○：蛍光灯の下、２ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線を視認 できない。
×：蛍光灯の下、２ｍの距離において起動状態のタッチパネルの銅層のメッシュ線が視認 される。
実施例１
〔電極フィルムの製造〕
透明基材として、連続帯状で無着色透明な２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一面側に、厚さ１０μｍの電解銅箔（導電性層）を、２液硬化型ウレタン樹脂系の透明接着剤層を介して、ドライラミネートした。
このようにして、透明基材／透明接着剤層／銅箔、の層構成の積層体を作製した。
次に、上記銅の表面全体へカゼイン系の感光性ネガ型レジストをディッピング法で塗布した。
次いで、開口部の形状が正方形でメッシュパターンの幅が１０μｍ、メッシュパターンのピッチが３００μｍ、バイアス角度が透明基材の長手方向に対して４９度のメッシュパターン部で、そのメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＸ方向に５ｍｍピッチで、幅１０μｍで断線されており、かつ当該メッシュパターン部を外周する幅が１５ｍｍの開口部を有しない周縁部を形成可能なフォトマスクを用いて、水銀灯からの紫外線を照射して密着露光した。
次に、密着露光した後の積層体を水現像し、硬膜処理し、さらに１００℃でベーキングした。
次いで、エッチング液として５０℃、４２゜ボーメの塩化第二鉄溶液をスプレー法で吹きかけてエッチングし、開口部を形成した。
次に、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに６０℃で乾燥して、メッシュパターン部を形成し、図２の如く、透明基材３０／透明接着剤層／銅層（導電体メッシュ層）３、の層構成の電極フィルムを得た。
〔電極フィルムの製造〕
透明基材として、連続帯状で無着色透明な２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一面側に、厚さ１０μｍの電解銅箔（導電性層）を、２液硬化型ウレタン樹脂系の透明接着剤層を介して、ドライラミネートした。
このようにして、透明基材／透明接着剤層／銅箔、の層構成の積層体を作製した。
次に、上記銅の表面全体へカゼイン系の感光性ネガ型レジストをディッピング法で塗布した。
次いで、開口部の形状が正方形でメッシュパターンの幅が１０μｍ、メッシュパターンのピッチが３００μｍ、バイアス角度が透明基材の長手方向に対して４９度のメッシュパターン部で、そのメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＸ方向に５ｍｍピッチで、幅１０μｍで断線されており、かつ当該メッシュパターン部を外周する幅が１５ｍｍの開口部を有しない周縁部を形成可能なフォトマスクを用いて、水銀灯からの紫外線を照射して密着露光した。
次に、密着露光した後の積層体を水現像し、硬膜処理し、さらに１００℃でベーキングした。
次いで、エッチング液として５０℃、４２゜ボーメの塩化第二鉄溶液をスプレー法で吹きかけてエッチングし、開口部を形成した。
次に、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに６０℃で乾燥して、メッシュパターン部を形成し、図２の如く、透明基材３０／透明接着剤層／銅層（導電体メッシュ層）３、の層構成の電極フィルムを得た。
〔色味調整層の形成及びタッチパネルセンサー中間製品（Ｘ，Ｙフィルム）、タッチパネルの作製〕
次に、得られた電極フィルムの銅層３及び開口部にＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで２８ｎｍの条件で行い、第１高屈折率層を形成した。そして、前記の第１高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１５ｎｍの第１低屈折率層を形成した。さらに、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで８０ｎｍの条件で行い、第２高屈折率層を形成した。この第２高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１０１ｎｍの第２低屈折率層を形成し、４層構成の色味調整層１０を有する図２の如き層構成の電極フィルム２０からなるタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｘ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＹ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｘフィルム）を作製した。
同様にメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＹ方向に５ｍｍピッチで断線されているフォトマスクを用いること及びＩＴＯ層、ＳｉＯ2層を形成しないこと以外は上記と同様にしてタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｙ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＸ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｙフィルム）を作製した。
次にこれらのＸ，Ｙフィルムを図４に重ね合わせの要部を示すようにＸフィルムとＹフィルムの格子が１５０μｍずれて、重ねた時に１５０μｍの格子ができるように重ねて貼り合せたタッチパネルを得た。なお、図４に於いて、左右方向がＸ方向に、又上下方向がＹ方向に対応する。得られたタッチパネルについて前述の方法で５°正反射率を測定して、視感反射率である反射Ｙ値及び色相ａ*及びｂ*を求めた。
また、得られたタッチパネルを、光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価結果を表１に示す。
次に、得られた電極フィルムの銅層３及び開口部にＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで２８ｎｍの条件で行い、第１高屈折率層を形成した。そして、前記の第１高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１５ｎｍの第１低屈折率層を形成した。さらに、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで８０ｎｍの条件で行い、第２高屈折率層を形成した。この第２高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１０１ｎｍの第２低屈折率層を形成し、４層構成の色味調整層１０を有する図２の如き層構成の電極フィルム２０からなるタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｘ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＹ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｘフィルム）を作製した。
同様にメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＹ方向に５ｍｍピッチで断線されているフォトマスクを用いること及びＩＴＯ層、ＳｉＯ2層を形成しないこと以外は上記と同様にしてタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｙ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＸ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｙフィルム）を作製した。
次にこれらのＸ，Ｙフィルムを図４に重ね合わせの要部を示すようにＸフィルムとＹフィルムの格子が１５０μｍずれて、重ねた時に１５０μｍの格子ができるように重ねて貼り合せたタッチパネルを得た。なお、図４に於いて、左右方向がＸ方向に、又上下方向がＹ方向に対応する。得られたタッチパネルについて前述の方法で５°正反射率を測定して、視感反射率である反射Ｙ値及び色相ａ*及びｂ*を求めた。
また、得られたタッチパネルを、光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価結果を表１に示す。
実施例２〜４、比較例１〜３
実施例１と同一の電極フィルムを用い、色味調整層の形成をＩＴＯ層及びＳｉＯ2層による第１、及び第２の高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの厚み及びその組み合わせを変更して、特に色相ｂ*及び反射極小波長λ1の異なる表１に示す実施例２〜４及び比較例１〜３のタッチパネルを得て、実施例１と同様に評価した。層構成及び評価結果をまとめて表１に示す。
実施例１と同一の電極フィルムを用い、色味調整層の形成をＩＴＯ層及びＳｉＯ2層による第１、及び第２の高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの厚み及びその組み合わせを変更して、特に色相ｂ*及び反射極小波長λ1の異なる表１に示す実施例２〜４及び比較例１〜３のタッチパネルを得て、実施例１と同様に評価した。層構成及び評価結果をまとめて表１に示す。
実施例５
〔電極フィルムの製造〕
透明基材として、連続帯状で無着色透明な市販の易接着層付き２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一面側に、厚さ１μｍの銅（導電性層）を、真空蒸着機を用いて形成した。
このようにして、透明基材３０／易接着層／銅層３、の構成の積層体を作製した。
次いで、上記銅の表面全体へカゼイン系の感光性ネガ型レジストをディッピング法で塗布した。
次いで、開口部の形状が正方形でメッシュパターンの幅が５μｍ、メッシュパターンのピッチが３００μｍ、バイアス角度が透明基材の長手方向に対して４９度のメッシュパターン部で、そのメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＸ方向に５ｍｍピッチで断線されており、当該メッシュパターン部を外周する幅が１５ｍｍの開口部を有しない周縁部を形成可能なフォトマスクを用いて、水銀灯からの紫外線を照射して密着露光した。
次いで、密着露光した後の積層体を水現像し、硬膜処理し、さらに１００℃でベーキングした。
次に、エッチング液として３５℃、４２゜ボーメの塩化第二鉄溶液をスプレー法で吹きかけてエッチングし、開口部を形成した。
次いで、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに６０℃で乾燥して、メッシュパターン部を形成し、図２の如く、透明基材３０／透明接着剤層／銅層（導電体メッシュ層）３、の構成の電極フィルムを得た。
〔電極フィルムの製造〕
透明基材として、連続帯状で無着色透明な市販の易接着層付き２軸延伸ＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）の一面側に、厚さ１μｍの銅（導電性層）を、真空蒸着機を用いて形成した。
このようにして、透明基材３０／易接着層／銅層３、の構成の積層体を作製した。
次いで、上記銅の表面全体へカゼイン系の感光性ネガ型レジストをディッピング法で塗布した。
次いで、開口部の形状が正方形でメッシュパターンの幅が５μｍ、メッシュパターンのピッチが３００μｍ、バイアス角度が透明基材の長手方向に対して４９度のメッシュパターン部で、そのメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＸ方向に５ｍｍピッチで断線されており、当該メッシュパターン部を外周する幅が１５ｍｍの開口部を有しない周縁部を形成可能なフォトマスクを用いて、水銀灯からの紫外線を照射して密着露光した。
次いで、密着露光した後の積層体を水現像し、硬膜処理し、さらに１００℃でベーキングした。
次に、エッチング液として３５℃、４２゜ボーメの塩化第二鉄溶液をスプレー法で吹きかけてエッチングし、開口部を形成した。
次いで、水洗し、レジストを剥離し、洗浄し、さらに６０℃で乾燥して、メッシュパターン部を形成し、図２の如く、透明基材３０／透明接着剤層／銅層（導電体メッシュ層）３、の構成の電極フィルムを得た。
〔色味調整層の形成及びタッチパネルセンサー中間製品（Ｘ，Ｙフィルム）、タッチパネルの作製〕
次に、得られた電極フィルムの銅層３及び開口部にＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで２８ｎｍの条件で行い、第１高屈折率層を形成した。そして、前記の第１高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2（屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１５ｎｍの第１低屈折率層を形成した。さらに、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで８０ｎｍの条件で行い、第２高屈折率層を形成した。この第２高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１０１ｎｍの第２低屈折率層を形成し、４層構成の色味調整層１０を有する図２の如き層構成の電極フィルム２０からなるタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｘ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＹ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｘフィルム）を作製した。
同様にメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＹ方向に５ｍｍピッチで断線されているフォトマスクを用いること及びＩＴＯ層、ＳｉＯ2層を形成しないこと以外は上記と同様にタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｙ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＸ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｙフィルム）を作製した。
次にこれらのＸ，Ｙフィルムを図４に重ね合わせの要部を示すように市販の光学用粘着材料を使用して貼り合せ（ＸとＹの格子が１５０μｍずれて、重ねた時に１５０μの格子ができるように重ねて貼り合せ）タッチパネルを得た。
得られたタッチパネルについて前述の方法で５°正反射率を測定して、視感反射率である反射Ｙ値及び色相ａ*及びｂ*を求めた。
また、得られたタッチパネルを、光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価結果を表２に示す。
次に、得られた電極フィルムの銅層３及び開口部にＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで２８ｎｍの条件で行い、第１高屈折率層を形成した。そして、前記の第１高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2（屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１５ｎｍの第１低屈折率層を形成した。さらに、ＩＴＯスパッタリング（屈折率：２．０）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、アルゴンが１００ｓｃｃ／ｍｉｎ、酸素５ｓｃｃ／ｍｉｎを導入し、デポジットレート１．６Å／ｓで８０ｎｍの条件で行い、第２高屈折率層を形成した。この第２高屈折率層に更に、Ｓi Ｏ2 （屈折率：１．４６）を、真空度が５×１０-6ｔｏｒｒ、基板温度が室温、蒸着速度を２６Å／ｓで１０１ｎｍの第２低屈折率層を形成し、４層構成の色味調整層１０を有する図２の如き層構成の電極フィルム２０からなるタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｘ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＹ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｘフィルム）を作製した。
同様にメッシュパターンが、隣接センサー電極間絶縁分離のためにＹ方向に５ｍｍピッチで断線されているフォトマスクを用いること及びＩＴＯ層、ＳｉＯ2層を形成しないこと以外は上記と同様にタッチパネルセンサー中間製品（特定方向（Ｙ方向と呼称）に銅層３の導電体メッシュからなるストライプ状電極がＸ方向に５ｍｍ間隔で複数本配列した、Ｙフィルム）を作製した。
次にこれらのＸ，Ｙフィルムを図４に重ね合わせの要部を示すように市販の光学用粘着材料を使用して貼り合せ（ＸとＹの格子が１５０μｍずれて、重ねた時に１５０μの格子ができるように重ねて貼り合せ）タッチパネルを得た。
得られたタッチパネルについて前述の方法で５°正反射率を測定して、視感反射率である反射Ｙ値及び色相ａ*及びｂ*を求めた。
また、得られたタッチパネルを、光学用アクリル樹脂系粘着材料を使用して液晶パネルと貼り合わせ（図６参照）、バックライトと組み合わせて、銅メッシュ層の不透視性を目視にて評価した。
評価結果を表２に示す。
実施例６〜８、比較例４
実施例５と同一の銅メッシュフィルムを用い、色味調整層の形成をＩＴＯ層及びＳｉＯ2層の第１、及び第２の高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれの厚み及びその組み合わせを変更して、特に色相ｂ*及び反射極小波長λ1の異なる表２に示す実施例６〜８及び比較例４のタッチパネルを得て、実施例５と同様に評価した。層構成及び評価結果をまとめて表２に示す。
実施例５と同一の銅メッシュフィルムを用い、色味調整層の形成をＩＴＯ層及びＳｉＯ2層の第１、及び第２の高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれの厚み及びその組み合わせを変更して、特に色相ｂ*及び反射極小波長λ1の異なる表２に示す実施例６〜８及び比較例４のタッチパネルを得て、実施例５と同様に評価した。層構成及び評価結果をまとめて表２に示す。
本発明のタッチパネルは、銅メッシュ不可視性なので、銅メッシュ層による高導電性を活かして、携帯用小型端末、電子ペーパー、コンピュータディスプレイ、小型ゲーム機、現金自動支払機の表示面、乗車券自動販売機などの表示面等に装着されるタッチパネルとして好ましく使用することができる。
また、上記のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置は、保護シートとして透明硝子基板を有しているので、耐久性に優れ、払拭により容易に指紋や汚れを除去できる画像表示装置として有効に利用できる。
また、上記のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置は、保護シートとして透明硝子基板を有しているので、耐久性に優れ、払拭により容易に指紋や汚れを除去できる画像表示装置として有効に利用できる。
１、１´ 低屈折率層
２、２´ 高屈折率層
３ 銅層（導電体メッシュ）
７ 光学粘着剤層
８ 黒テープ
１０ 色味調整層
２０ 電極フィルム
３０ 透明基材
４０ 透明硝子基板
５０ 表示板
６０ 電極フィルム
１００ タッチパネル
２００ 画像表示装置
２、２´ 高屈折率層
３ 銅層（導電体メッシュ）
７ 光学粘着剤層
８ 黒テープ
１０ 色味調整層
２０ 電極フィルム
３０ 透明基材
４０ 透明硝子基板
５０ 表示板
６０ 電極フィルム
１００ タッチパネル
２００ 画像表示装置
Claims (3)
- 透明基材と、透明基材上に設けられた導電体メッシュを備えた電極及び透明硝子基板を有するタッチパネルであって、該導電体メッシュは銅層からなり、少なくとも観察者側の電極の銅層の観察者側には、透明な高屈折率層と低屈折率層とを該低屈折率層が観察者側最表面に位置する様にして順次積層させてなる色味調整層を有してなり、ＪＩＳ Ｚ ８７２９：２００４に準拠して、色味調整層の反射色をＬ*ａ*ｂ*で表したときのｂ*の値が−６．３以下であることを特徴とするタッチパネル。
- 前記色味調整層は高屈折率層と低屈折率層を交互に４層に積層させてなる、請求項１に記載のタッチパネル。
- 請求項１又は２に記載のタッチパネルを表示面に配置した画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013070631A JP6186805B2 (ja) | 2013-03-28 | 2013-03-28 | タッチパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2013070631A JP6186805B2 (ja) | 2013-03-28 | 2013-03-28 | タッチパネル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014194655A JP2014194655A (ja) | 2014-10-09 |
| JP6186805B2 true JP6186805B2 (ja) | 2017-08-30 |
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ID=51839870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2013070631A Active JP6186805B2 (ja) | 2013-03-28 | 2013-03-28 | タッチパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6186805B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107533403B (zh) | 2015-04-30 | 2021-07-02 | 住友金属矿山股份有限公司 | 导电衬底、液晶触摸面板 |
| JP6612075B2 (ja) | 2015-07-23 | 2019-11-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置、入力装置および表示装置の製造方法 |
| WO2017034870A1 (en) | 2015-08-21 | 2017-03-02 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductors including metal traces and methods of making same |
| KR102197435B1 (ko) | 2016-09-12 | 2020-12-31 | 후지필름 가부시키가이샤 | 도전성 필름, 터치 패널 센서, 및 터치 패널 |
| JP6867462B2 (ja) * | 2019-10-30 | 2021-04-28 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 検出装置 |
| CN114020172B (zh) | 2021-11-05 | 2022-06-10 | 深圳市志凌伟业光电有限公司 | 金属网格结构、触控显示设备和移动终端 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4285059B2 (ja) * | 2003-04-22 | 2009-06-24 | 日油株式会社 | 透明導電性材料及びタッチパネル |
| WO2005067362A1 (ja) * | 2004-01-06 | 2005-07-21 | Nippon Denkai, Ltd. | 電磁波シールドフィルタ用銅箔及び電磁波シールドフィルタ |
| JP5715343B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2015-05-07 | 株式会社翔栄 | タッチパネル |
| JP5638399B2 (ja) * | 2010-01-28 | 2014-12-10 | 富士フイルム株式会社 | 導電シート、導電シートの使用方法及び静電容量方式タッチパネル |
| JP5645581B2 (ja) * | 2010-10-05 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | タッチパネル |
| KR101473132B1 (ko) * | 2011-01-18 | 2014-12-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 투명 전극 시트들, 투명 전극 시트들의 제조 방법, 및 투명 전극 시트들을 사용한 정전 용량 방식의 터치 패널 |
| JP2012161966A (ja) * | 2011-02-04 | 2012-08-30 | Fujifilm Corp | 樹脂フィルム、及び照明用カバー |
| GB2489974B (en) * | 2011-04-14 | 2015-10-21 | Conductive Inkjet Tech Ltd | Improvements in and relating to transparent components |
-
2013
- 2013-03-28 JP JP2013070631A patent/JP6186805B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014194655A (ja) | 2014-10-09 |
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