WO2014020656A1 - 透明導電フィルム及びタッチパネル - Google Patents

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WO2014020656A1
WO2014020656A1 PCT/JP2012/069300 JP2012069300W WO2014020656A1 WO 2014020656 A1 WO2014020656 A1 WO 2014020656A1 JP 2012069300 W JP2012069300 W JP 2012069300W WO 2014020656 A1 WO2014020656 A1 WO 2014020656A1
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transparent conductive
transparent
layer
refractive index
conductive film
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PCT/JP2012/069300
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了 西山
好隆 坂本
公雄 河合
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株式会社麗光
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    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive film that can be used as a low-resistance transparent electrode used in a touch panel, and more particularly to a transparent conductive film suitable for use as a capacitive touch panel. Moreover, it is related with the touchscreen provided with the said transparent conductive film.
  • Patent Document 1 on a transparent substrate (1), a resistive film layer (2) made of a transparent conductive metal oxide, a thin film layer (3) made of silicon dioxide, and a resistor made of a transparent conductive metal oxide A film layer (4) is laminated in the order of (1), (2), (3), (4), and describes a resistance film type transparent touch panel electrode member (transparent conductive film) Has been.
  • transparent conductive metal oxide an indium oxide thin film, a thin film in which tin oxide is doped with indium oxide (ITO thin film), etc. can be used, and the resistive film layer (2) and the resistive film layer (4) It is also described that it is preferable to use the same type of transparent conductive metal oxide.
  • Patent Document 2 A transparent conductive film in which a first transparent dielectric layer, a second transparent dielectric layer and a transparent conductive layer are formed in this order on one side or both sides of a transparent film substrate from the transparent film substrate side, The transparent conductive layer is patterned,
  • the refractive index of the first transparent dielectric layer is n1
  • the refractive index of the second transparent dielectric layer is n2
  • the refractive index of the transparent conductive layer is n3
  • the relationship of n2 ⁇ n3 ⁇ n1 is satisfied.
  • the thickness of the first transparent dielectric layer is 2 nm or more and less than 10 nm
  • the second transparent dielectric layer has a thickness of 20 to 55 nm;
  • a transparent conductive film having a thickness of 15 to 30 nm is disclosed.
  • the first transparent dielectric layer is made of a complex oxide containing at least indium oxide and cerium oxide, and that the second transparent dielectric layer is preferably made of SiO 2 . It is disclosed that indium oxide (ITO) containing tin oxide is preferably used as a constituent material of the transparent conductive layer.
  • ITO indium oxide
  • the electrode member (transparent conductive film) for resistance film type transparent touch panel of Patent Document 1 is used, transparency and pen durability are particularly improved, and a touch panel with higher quality and higher performance can be provided.
  • the transparent conductive film of Patent Document 1 is used as a resistive film type touch panel having a surface resistivity of 200 to 250 ⁇ / ⁇ , the thickness of the resistive film layer (transparent conductive layer) is relatively thin. Since a spacer exists between the two transparent conductive films, the yellowish color mainly caused by the transparent conductive layer is not a problem. However, in the case of using a transparent conductive laminate in which two transparent conductive films are stacked, such as a capacitive touch panel, there is a problem that yellowishness becomes strong and cannot be practically used.
  • the surface resistivity is 200 ⁇ / ⁇ or less, preferably 150 ⁇ / ⁇ , by increasing the thickness of the transparent conductive layer while maintaining the total light transmittance of the touch panel at 85% or more. Attempts have been made to lower it to the extent that there is a problem that the yellowish color becomes stronger due to the thick transparent conductive layer.
  • a conventional transparent conductive film represented by the transparent conductive film described in Patent Document 1 usually has a plurality of transparent layers laminated on a transparent film substrate (1 ′).
  • the surface layer is a transparent conductive layer (4 ′).
  • the transparent conductive film used in the capacitive touch panel as shown in FIG. 4B, at least partially remove the transparent conductive layer (4 '), pattern electrode portion (4'P) It is necessary to form.
  • the pattern-like electrode portion refers to a portion in which the transparent conductive layer, which is the outermost layer of the transparent conductive film, is formed in a desired pattern such as a lattice or checkered pattern.
  • the portion other than the electrode portion is at least a portion (non-electrode portion) where a layer containing a conductive substance such as a transparent conductive layer is not formed.
  • FIG. 1C illustrating the transparent conductive film and the transparent conductive laminate according to the present invention, more specifically, the capacitive touch panel is in the X direction as shown in FIG. 1C.
  • a transparent conductive film (left side) having a patterned electrode part (4Px) electrically connected, and a transparent conductive film (right side) having a pattern electrode part (4Py) electrically connected in the Y direction Are laminated with a transparent adhesive to use as a transparent conductive laminate.
  • the patterned electrode portion (4Px) electrically connected in the X direction and the patterned electrode portion (4Py) electrically connected in the Y direction are represented by different colors. However, as shown in FIG.
  • A is a plan view of the transparent conductive laminate
  • B is a cross-sectional view taken along line BB in A
  • C is an enlarged view of a portion surrounded by a circle C in A.
  • a transparent conductive film having a patterned electrode portion electrically connected in the X direction, and electrically in the Y direction.
  • the electrode portions (that is, 4Px and 4Py) formed on each transparent conductive film are laminated so as not to overlap each other.
  • the electrode portions (that is, 4Px and 4Py) formed on each transparent conductive film are laminated so as not to overlap each other.
  • the yellow color of the overlapping portion (O) is conspicuous (see FIG. 2C).
  • the portion where the electrode portions overlap is formed on the transparent conductive film of the upper layer and the transparent conductive film of the lower layer in the transparent conductive laminate or the capacitive touch panel using the same as described above.
  • the electrode parts (4Px and 4Py) that are made to overlap each other mean the part where the electrode parts overlap each other.
  • yellow means the yellowness of the part where the electrode parts overlap.
  • the touch panel covers the display screen, the touch panel is required to be highly colorless and transparent so that the display screen can be clearly seen.
  • the material used for each layer constituting the transparent conductive film is basically a colorless and transparent substance, but it also absorbs light of a specific wavelength, so that it becomes yellowish. There's a problem.
  • Patent Document 2 provides a transparent conductive film suitable for a capacitive touch panel, and in a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is patterned, a pattern portion (electrode portion) and a pattern opening ( The difference from the non-electrode part) is suppressed, and a transparent conductive film having a good appearance can be obtained.
  • a patterned transparent conductive layer such as a capacitive touch panel, is provided. It is described as being suitable for a touch panel formed on the entire surface of the display unit.
  • the transparent conductive film of Patent Document 2 the problem that the yellowness becomes strong when two films are laminated has not been solved.
  • the transparent conductive film when used for a capacitive touch panel, generally, two glass plates 7 and two transparent conductive films 5 are laminated and bonded with a transparent adhesive layer 6 as shown in FIG. Therefore, when the adhesion between the transparent film substrate constituting the transparent conductive film and the layer thereon is insufficient, peeling (delamination) may occur in the transparent conductive film. In particular, the thinner the transparent film substrate, the easier it is for delamination to occur. In order to prevent delamination, it is conceivable to provide an anchor coat layer, but there are problems that the number of processes increases and whitening may occur due to heat.
  • the transparent conductive film is required to have excellent visibility.
  • excellent visibility or good visibility means that the electrode part formed when the transparent conductive film on which the pattern-like electrode part is formed is visually observed. This means that there is almost no visual discrimination (visual recognition), in other words, the difference between the part where the electrode part is formed and the non-electrode part (the part where the electrode part is not formed) is hardly visible.
  • the transparent conductive film is required to have various characteristics, but a transparent conductive film having all these characteristics has not been developed yet.
  • the present invention is not limited to the case of using one sheet, but also when two sheets are stacked, especially when two transparent conductive films are laminated on a glass plate, such as a capacitive touch panel, +3 B * value less than or equal to 0.0 (b * is a value indicating the position between yellow and blue in the CIEaL * a * b * color space, negative values are blue and positive values are yellow. It is an object of the present invention to provide a transparent conductive film that can be maintained at the same time, has excellent visibility, and is less susceptible to delamination and heat whitening in the transparent conductive film.
  • the present inventors have studied an optical adjustment layer formed between a transparent film substrate and a transparent conductive layer. As a result, two layers having different refractive indexes (transparent high refraction) And a transparent high-refractive-index layer are formed of a resin containing highly bent particles, and the refractive index and thickness thereof are within a predetermined range, resulting in excellent visibility. Succeeded in obtaining a transparent conductive film that can maintain a low b * value even when two sheets are laminated on a glass plate, and delamination and heat whitening hardly occur in the transparent conductive film, and the present invention was completed. .
  • the transparent conductive film according to the present invention is At least one transparent high refractive index layer having a refractive index of 1.7 to 1.8, a transparent low refractive index layer having a refractive index of 1.6 or less, and a transparent conductive layer are sequentially formed on one side of the transparent film substrate.
  • the refractive index layer is a thin film layer having a thickness of 25 to 50 nm formed from a resin containing highly bent particles.
  • the resin forming the transparent high refractive index layer is preferably an acrylic resin or an epoxy resin, and the highly bent particles are preferably particles of zirconium dioxide (zirconia) or titanium dioxide (titania).
  • the transparent low refractive index layer is preferably a thin film layer made of silicon oxide, and the transparent conductive layer is preferably a thin film layer made of ITO.
  • the transparent conductive film may be formed with a lead-out wiring and / or a patterned electrode portion.
  • the transparent conductive film is suitable for use in a touch panel.
  • a touch panel is mentioned.
  • the transparent conductive film of the present invention has appropriate electrical characteristics and excellent visibility as a transparent conductive film for a touch panel, and is hardly yellowish when two sheets are stacked. Moreover, delamination and whitening hardly occur in the transparent conductive film. Therefore, the transparent conductive film of the present invention is particularly suitable for use in a capacitive touch panel in which a plurality of transparent conductive films are laminated and bonded.
  • FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of a transparent conductive film according to the present invention
  • A is a cross-sectional view of a transparent conductive film
  • B is a cross-sectional view of a transparent conductive film in which a patterned electrode portion is formed.
  • C is a transparent conductive film having a patterned electrode portion electrically connected in the X direction (left side), and a transparent conductive film having a patterned electrode portion electrically connected in the Y direction (right side)
  • FIG. FIG. 2 is a diagram schematically showing a transparent conductive laminate formed by bonding two transparent conductive films of FIG.
  • FIG. 1 shows a transparent adhesive layer, where A is a plan view and B is a line B- B sectional view, C is an enlarged view of a portion surrounded by a circle C in A.
  • FIG. FIG. 3 shows a touch panel of the present invention (however, the lead-out wiring is not shown) formed by bonding the transparent conductive laminate of FIG. 2 and a glass plate with a transparent adhesive layer.
  • FIG. 4 is a diagram schematically showing a transparent conductive film (a transparent conductive film containing a conductive material in the first and third layers) according to the prior art, and A shows a cross-sectional view of the transparent conductive film.
  • B is a view in which only the third layer (outermost layer) is partially removed by etching, and an enlarged view of a portion surrounded by a circle, and arrows in the enlarged view indicate the flow of electricity.
  • C shows a state where a patterned electrode portion is formed by partially removing all of the first to third layers by etching.
  • the transparent conductive film (5) of the present invention has at least a transparent high-refractive index layer (2), a transparent low-refractive index layer (3), and a transparent conductive film on the transparent film substrate (1). It has a configuration in which the layers (4) are sequentially laminated.
  • the transparent film substrate (1) and the three layers (2 to 4) have transparency to a total light transmittance of 80% or more (preferably 85% or more) as a single transparent conductive film. Just do it.
  • the refractive index means a refractive index with respect to light having a wavelength of 550 nm, and can be measured by spectral reflection spectrum measurement.
  • the thickness of each layer means a physical thickness and can be measured by a fluorescent X-ray analyzer.
  • the transparent film substrate (1) used for the transparent conductive film of the present invention can be a transparent plastic film such as a polyethylene terephthalate film, a polyethylene naphthalate film, a polypropylene film, an acrylic film, a polycarbonate film, or a fluorine film. From the viewpoint of properties, a polyethylene terephthalate film is preferable.
  • the transparent hard-coat layer which consists of resin in the single side
  • surface or both surfaces is also contained in the transparent film base material (1) based on this invention.
  • the conductivity of the transparent conductive film of the present invention can be further stabilized.
  • the resin used for the hard coat layer is preferably such that the hard coat layer has a pencil hardness of H or higher, and a transparent resin such as a melamine resin, an ultraviolet curable acrylic resin, or a urethane resin can be used. ⁇ 7 ⁇ m is preferred.
  • a hard coat layer is formed, interference fringes may occur.
  • the resin for example, an acrylic resin, a polyester resin, or the like can be used.
  • highly refractive particles for example, particles made of titanium oxide, zirconium oxide, etc. may be added to adjust the refractive index within the above range.
  • the thickness of the transparent film substrate (1) is preferably 10 to 300 ⁇ m, more preferably 50 to 260 ⁇ m, and particularly preferably 50 ⁇ m to 200 ⁇ m. If the thickness is less than 10 ⁇ m, especially when used for touch panels, the strength of the transparent film substrate (1) is insufficient when inputting with a finger or pen, etc. A crack is generated in the transparent conductive layer (4), resulting in unstable surface resistivity, which is not preferable. In addition, the transparent conductive film is curled, and as a result, workability is deteriorated in subsequent operations such as incorporating the transparent conductive film into the touch panel.
  • the thickness is greater than 300 ⁇ m
  • the transparent conductive film when used with a resistive touch panel, when inputting with a finger or pen, the transparent conductive film is overloaded and brought into contact with the opposing transparent conductive film. A problem arises that must be loaded. Moreover, since the cost of a transparent conductive film goes up, it is not preferable.
  • the transparent high refractive index layer (2) in the transparent conductive film of the present invention is the layer closest to the transparent film substrate (1) among the three layers (2 to 4).
  • the refractive index of the transparent high refractive index layer (2) is from 1.7 to 1.8 (more preferably from 1.72 to 1.76), and the refractive index is higher than that of the adjacent transparent low refractive index layer (3).
  • the difference in refractive index between the transparent high refractive index layer (2) and the transparent low refractive index layer (3) is preferably 0.2 or more.
  • the transparent high refractive index layer is a thin film layer made of a resin containing highly bent particles.
  • the highly bent particles according to the present invention are particles made of a so-called high refractive index material, and have the property of increasing the refractive index when dispersed in the resin as compared to the case of the resin alone.
  • Preferred particles are particles having an average particle size of 1 to 500 nm (so-called fine particles), and more preferable particles are particles having an average particle size of 1 to 100 nm.
  • the average particle diameter can be measured by a dynamic light scattering method.
  • Examples of preferable highly bent particles include metal oxide particles. For example, particles made of an oxide such as zirconium, titanium, cerium, or tin can be used.
  • particles such as zirconium dioxide (ZrO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ), cerium oxide (CeO 2 ), and tin oxide (SnO 2 ) can be mentioned.
  • the specific metal oxide typically expressed as MO 2
  • MO 2 includes not only those in which the element ratio of M and O is strictly 1: 2, but also a slightly higher oxygen ratio. some are or may become smaller becomes included. in the present specification, these are representative referred to as MO 2. Only one kind of highly bent particles may be used, or a plurality of kinds may be mixed and used. In particular, particles of zirconium dioxide and / or titanium dioxide are preferred.
  • the amount of the highly bent particles dispersed in the transparent high refractive index layer may be appropriately adjusted in order to achieve a desired refractive index, but the weight ratio to the resin is 1: 0.5 to 5 (solid content ratio). It is preferable to add so that it becomes.
  • Examples of the resin constituting the transparent high refractive index layer include acrylic resins and epoxy resins.
  • the acrylic resin is a monomer selected from acrylic acid, methacrylic acid, and derivatives thereof (hereinafter referred to as acrylic monomer), more than half of the monomer constituting the resin (polymer) ), And may be composed of only the acrylic monomer or other monomer (a monomer copolymerizable with the acrylic monomer).
  • Derivatives of acrylic acid include methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, tricyclodecyl acrylate, etc.
  • Examples of the derivatives of methacrylic acid include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, octadecyl methacrylate, phenyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, Such as 2-hydroxyethyl methacrylate, adamantyl methacrylate, tricyclodecyl methacrylate, fentil methacrylate, norbornyl methacrylate, norbornyl methyl methacrylate, etc. Methacrylic acid esters.
  • epoxy resin examples include bisphenol types such as bisphenol A, novolac types such as phenol novolac types, nitrogen-containing ring types such as triglycidyl isocyanurate types, alicyclic types, aliphatic types, naphthalene types, and the like.
  • epoxy resins such as aromatic type, glycidyl ether type, and biphenyl type.
  • the thickness of the transparent high refractive index layer is 25 nm or more and 50 nm or less.
  • the b * value tends to increase and yellowishness tends to increase.
  • the b * value tends to increase and the visibility tends to deteriorate.
  • the thickness of the transparent high refractive index layer is more preferably 25 nm to 40 nm, and the particularly preferable thickness is 25 nm to 35 nm.
  • the transparent high refractive index layer is formed by a method generally used for forming a thin film layer (resin coating layer or the like) made of a resin, for example, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a bar coating method, or the like. can do.
  • a method generally used for forming a thin film layer (resin coating layer or the like) made of a resin for example, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a bar coating method, or the like. can do.
  • the transparent high refractive index layer as a layer to be laminated on the transparent film substrate, it is advantageous in that yellowness enhancement is suppressed when two transparent conductive films are stacked.
  • it has the advantage that the adhesiveness with the transparent film substrate is high and the advantage that whitening due to heat hardly occurs.
  • the transparent low refractive index layer (3) in the transparent conductive film of the present invention is formed between the transparent high refractive index layer (2) and the transparent conductive layer (4), and improves the transparency of the transparent conductive film of the present invention.
  • the refractive index is preferably 1.6 or less (more preferably 1.4 or more and 1.6 or less, particularly preferably 1.4 or more and 1.5 or less), and the thickness is preferably 5 to 200 nm.
  • the thickness of the transparent low refractive index layer is more preferably 10 nm to 50 nm (particularly preferably 20 nm to 40 nm).
  • Transparent low refractive index layer (3) is not particularly limited as long as it is transparent layer satisfying the range of the refractive index and thickness, the silicon oxide (SiO 2) an inorganic oxide thin layer, such as a thin layer, fluoride
  • An inorganic compound thin film layer such as a magnesium (MgF 2 ) thin film layer, a resin thin film layer made of a resin such as a fluorine resin or a silicone resin, or the like can be used.
  • the transparent low refractive index layer (3) is preferably a silicon oxide thin film layer from the viewpoint of heat resistance and wet heat resistance.
  • Silicon oxide (silicon oxide) is expressed as SiO 2 in the theoretical composition formula, but the element ratio of Si and O is not necessarily strictly 1: 2, and satisfies the above refractive index. In the range, the element ratio of Si and O is slightly larger or smaller (specifically, in the composition formula SiOx, x is in the range of 1.6 to 2.1), Included in silicon oxide used in film. In this specification, the above SiOx (1.6 ⁇ x ⁇ 2.1) is represented as SiO 2 .
  • the transparent high-refractive index layer (2) and the transparent low-refractive index layer (3) are layers made of a material having electrical insulation, etching is performed when forming a patterned electrode portion. Since only the transparent conductive layer needs to be removed, the time and cost for etching can be reduced.
  • the transparent high-refractive index layer used in the present invention is not limited to those having electrical insulating properties. If the refractive index is within a range satisfying the above-mentioned refractive index, highly flexible particles having conductivity in the resin. It may be a conductive resin thin film layer mixed with.
  • a conductive resin thin film layer in which particles such as ITO, ZnO (zinc oxide), AZO (zinc oxide doped with aluminum oxide), GZO (zinc oxide doped with gallium oxide), etc. are mixed in the resin.
  • the transparent low refractive index layer used in the present invention is not limited to those having electrical insulating properties, so long as it satisfies the above refractive index, polythiophene-based, polyacetylene-based, polyaniline-based, It may be a conductive polymer such as polypyrrole, or a conductive resin thin film layer in which transparent conductive fine particles such as ITO and tin oxide are mixed in a resin.
  • the transparent high-refractive index layer and / or the transparent low-refractive index layer has conductivity, it is necessary to etch away the layer when forming the patterned electrode portion.
  • the transparent conductive layer (4) in the transparent conductive film of the present invention is a layer formed on the outermost layer of the transparent conductive film, and consists of a thin film of a transparent conductive metal oxide. It plays a role of granting.
  • the transparent conductive metal oxide thin film used for the transparent conductive layer (4) includes indium oxide thin film, tin oxide thin film, zinc oxide thin film, cadmium oxide thin film, thin film in which indium oxide is doped with tin oxide (ITO thin film), etc.
  • ITO thin film tin oxide
  • a conductive metal oxide thin film conventionally used as a transparent conductive layer of a transparent conductive film can be used. Among these, an ITO thin film excellent in conductivity is particularly preferable.
  • the transparent conductive layer (4) plays a role of determining most of the surface resistivity of the transparent conductive film of the present invention, and the surface resistivity is preferably about 5 to 1000 ⁇ / ⁇ , preferably 200 ⁇ / ⁇ . The following is more preferable. Further, the thickness of the transparent conductive layer (4) is sufficient if it has the above-mentioned surface resistivity, and is preferably about 20 nm to 50 nm, depending on the type of the metal oxide thin film layer used. If the thickness is less than 20 nm, the surface resistivity tends to be difficult to stabilize, and the desired conductivity cannot be obtained stably.
  • the film stress may cause cracks in the transparent conductive layer (4), resulting in poor conductivity.
  • the thickness of the transparent conductive layer (4) is more preferably 25 nm to 45 nm (particularly preferably 27 nm to 37 nm).
  • a conventionally known formation method can be used, such as a vacuum deposition method, a sputtering deposition method, an electron beam deposition method, a CVD method, A coating method such as a sol-gel method can be used.
  • the lead-out wiring is a thin line shown as symbol 8 in FIG. 1C, is made of metal, and is usually provided only on the outer peripheral portion of the transparent conductive film.
  • the lead wiring has been mainly formed by patterning the transparent conductive layer and then printing silver paste (screen printing, etc.), but recently, the lead wire (both ends of the transparent conductive film on the left side of FIG.
  • a method of forming a finer lead wire by etching after forming a thin film of copper or copper alloy on the transparent conductive layer was taken. Yes.
  • a copper layer is laminated on the entire surface by a sputtering vapor deposition method on a transparent conductive layer, and a resist material is applied to the shape of the lead wiring thereon, and then a resist material
  • the copper layer on the portion where the coating is not applied is removed by etching, and only the portion of the copper layer on which the resist material is applied is left, and then the resist material is removed to form copper on the transparent conductive layer.
  • a method of forming a lead wiring is mentioned.
  • the lead wiring generally requires a surface resistance value of about 0.4 ⁇ / ⁇ or less. In order to achieve a surface resistance value of 0.4 ⁇ / ⁇ or less with a copper lead-out wiring, the thickness of the copper is preferably 100 nm or more.
  • the transparent conductive layer (4) is formed as a patterned electrode portion electrically connected in the X direction or the Y direction. You may keep it.
  • a circuit having at least a transparent conductive layer (4) may be formed. Examples of methods for forming patterned electrode portions and circuits include etching using chemicals and lasers, and methods using a water-soluble resin layer.
  • a transparent high refractive index layer (2), a transparent low refractive index layer (3), and a transparent conductive layer (4) are sequentially formed on the entire surface of the transparent film substrate.
  • a resist material is applied in the shape of a patterned electrode part, and an etching solution (ferric chloride aqueous solution, iodic acid aqueous solution, hydrochloric acid, aqua regia, oxalic acid aqueous solution)
  • an etching solution (ferric chloride aqueous solution, iodic acid aqueous solution, hydrochloric acid, aqua regia, oxalic acid aqueous solution)
  • the transparent conductive layer (4) is removed (i.e., the transparent high refractive index layer (2) and The transparent low refractive index layer (3) is left), and the above three layers (2 to 4) are left for the portion coated with the resist material (the portion that becomes the electrode portion).
  • a transparent high refractive index layer (2) and a transparent low refractive index layer (3) are formed on the entire surface, on which the transparent conductive layer (4)
  • the transparent conductive film of this invention in which the pattern-shaped electrode part which consists of this was formed can be manufactured.
  • the transparent conductive film according to the present invention is common with the transparent conductive film described in Patent Document 1 and Patent Document 2 in that it has three layers on the transparent film substrate, but Patent Document 1 and Patent In the transparent conductive film described in the example of Document 2, the layer closest to the film substrate (first layer) contains ITO, which is a conductive substance, and therefore the outermost layer (three layers) of the transparent conductive film. If only the eye (conductive layer) is etched, electricity is passed through the first layer (see FIG. 4B). Therefore, it is necessary to remove all layers from the first layer to the third layer (see FIG. 4C). However, removing the first layer requires a special etching technique and is expensive.
  • the transparent conductive film of the present invention if the transparent high refractive index layer (2) and the transparent low refractive index layer (3) of the first layer are made of a material having electrical insulation, the transparent layer of the third layer Since only the conductive layer (4) needs to be removed by etching, the patterned electrode portion can be formed by etching in a shorter time and at a lower cost.
  • a method of forming a patterned electrode part using a water-soluble resin layer for example, on one side of a transparent film substrate, on a part other than the part that forms the electrode part (part that becomes the non-electrode part) A water-soluble resin layer is formed, and a transparent high refractive index layer (2), a transparent low refractive index layer (3), and a transparent conductive layer (4) are sequentially formed on the entire surface, and then immersed in water. Then, the water-soluble resin layer and the three layers (2 to 4) on the water-soluble resin layer are removed, and the three layers (parts serving as electrode parts) where the water-soluble resin layer is not formed (the electrode part) There is a method of leaving 2-4).
  • a patterned electrode part composed of a transparent high refractive index layer (2), a transparent low refractive index layer (3), and a transparent conductive layer (4) is formed on one side of a transparent film substrate.
  • the transparent conductive film of the invention can be produced.
  • the transparent conductive film of the present invention includes not only a film in which the above three layers (2 to 4) are laminated on one side of a transparent film substrate, but also a patterned electrode portion as described above. And those in which lead wires are formed.
  • the transparent conductive film of the present invention in which the lead-out wiring and the patterned electrode portion are formed is suitable for use as a capacitive touch panel, and such a capacitive touch panel has a glass plate (thickness).
  • a thin glass sheet of 1 to 3 mm is preferable) and two transparent conductive films are bonded together with a transparent adhesive layer, the lead wiring and terminals are connected, and a touch panel control driver (semiconductor etc.) is connected via a flexible printed wiring. It can be configured by connecting.
  • FIG. 3 A state in which a glass plate and two transparent conductive films are bonded together with a transparent pressure-sensitive adhesive layer is schematically shown in FIG. 3 (lead wiring, terminals, etc. are not shown). As shown in FIG.
  • the glass plate and the conductive treatment surface of the upper transparent conductive film are bonded with the transparent adhesive layer 6, and the upper transparent conductive film
  • the non-conductive treated surface that is, the surface on the transparent film substrate (1) side
  • the conductive treated surface of the lower transparent conductive film are bonded with the transparent adhesive layer 6.
  • a transparent adhesive used for a transparent adhesive layer the normal transparent adhesive currently used in order to stick a transparent conductive film in the said field
  • transparent adhesives such as acrylic adhesives and polyether adhesives.
  • the transparent adhesive layer is preferably formed so as to be a uniform layer interposed between two transparent conductive films. To achieve a uniform layer, use a commercially available optically high transparency adhesive (OCA) transfer sheet with a uniform transparent adhesive layer formed between two plastic sheets.
  • OCA optically high transparency adhesive
  • the transparent conductive film of the present invention has a b * value of +3.0 or less (in particular, the lower limit is particularly low) even when the transparent conductive film of the present invention has a structure in which two transparent conductive films are laminated on a glass plate, as in an actual capacitive touch panel. Although not limited, generally about -3.0) can be achieved.
  • the b * value can be measured with a color difference meter.
  • a transparent conductive film whose transparent high refractive index layer is a cerium oxide layer can achieve a low b * value and a high total light transmittance, but the adhesion between the cerium oxide layer and the transparent film substrate is sufficient. Therefore, when the touch panel is configured, there is a possibility that peeling occurs in the transparent conductive film.
  • a polyester-based anchor coat layer between the transparent film substrate and the cerium oxide layer it is possible to improve adhesion, but in addition to the problem that the number of steps increases, transparent When copper is vapor-deposited to form a lead wiring on the conductive film, whitening may occur due to heat during vapor deposition.
  • the resin layer containing the above-mentioned highly bent particles is adopted as the transparent high refractive index layer, it can be strongly adhered to the transparent film substrate, so that the transparent film base having a large thickness (about 120 to 130 ⁇ m in thickness) is used.
  • a thin film thickness of about 50 to 60 ⁇ m
  • a thin film thickness of about 50 to 60 ⁇ m
  • the transparent conductive film of the present invention can be used for touch panels other than the capacitive type.
  • the transparent conductive layer formed on the glass plate surface and the transparent of the present invention are used.
  • a dot spacer is interposed at the end. It can be configured by forming a lead wiring.
  • the transparent conductive film used at this time may be formed with or without a patterned electrode portion.
  • a commercially available dispersion containing acrylic resin and zirconium dioxide particles having an average particle diameter of about 80 nm in a weight ratio of 1: 3 (solid content ratio) (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., trade name: Rio Duras TYZ74-02S) was dispersed by stirring with a disper to prepare a coating material having a refractive index of 1.74, and a thin film layer (transparent high refractive index layer) having a thickness shown in Table 1 was formed by a bar coating method.
  • Example 9 Acrylic resin (manufactured by KSM Co., Ltd .: trade name UV-H5630) and a dispersion of zirconium dioxide particles having an average particle size of 30 to 40 nm (trade name: zirconia particles produced by CII Kasei Co., Ltd.) And a mixture of zirconium dioxide in a weight ratio of 1: 1.5 (solid content ratio), stirring and dispersing with a disperser to prepare a coating with a refractive index of 1.60, and using this coating, a transparent high refractive index layer A transparent conductive film was produced in the same procedure as Sample Nos. 1 to 8 except that was formed.
  • Example 10 Acrylic resin (Mitsui Chemicals Co., Ltd., trade name: OLESTAR Q164) and a dispersion of titanium dioxide particles with an average particle size of 30-40 nm (Taika Co., Ltd .: trade name: Titanium oxide slurry) Compounded so that the weight ratio of resin to titanium dioxide is 1: 3 (solid content ratio), and stirred and dispersed with a disper to prepare a coating with a refractive index of 1.90. Using this coating, a transparent high refractive index A transparent conductive film was produced in the same procedure as Samples 1 to 8, except that the layer was formed.
  • Example 11 Acrylic resin (Mitsui Chemicals Co., Ltd., trade name: OLESTAR Q164) and a dispersion of titanium dioxide particles with an average particle size of 30-40 nm (Taika Co., Ltd .: trade name: Titanium oxide slurry) Blended so that the weight ratio of resin to titanium dioxide is 1: 2 (solid content ratio), and stirred and dispersed with a disper to prepare a coating with a refractive index of 1.74. Using this coating, a transparent high refractive index A transparent conductive film was produced in the same procedure as Samples 1 to 8, except that the layer was formed.
  • Example 12 Epoxy resin (trade name Epokey 813, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) and a dispersion of zirconium dioxide particles having an average particle size of 30 to 40 nm (trade name: zirconia particles, manufactured by C-I Kasei Co., Ltd.) And a mixture of zirconium dioxide in a weight ratio of 1: 2.5 (solid content ratio), stirring and dispersing with a disper to prepare a coating material with a refractive index of 1.74, and using this coating material, a transparent high refractive index layer A transparent conductive film was produced in the same procedure as Samples 1 to 8 except that was formed.
  • Epoxy resin trade name Epokey 813, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
  • a dispersion of zirconium dioxide particles having an average particle size of 30 to 40 nm trade name: zirconia particles, manufactured by C-I Kasei Co., Ltd.
  • Example 13 After producing the same double-sided hard coat film (transparent film substrate) as Samples 1 to 8, a polyester anchor coat layer having a thickness of 2 nm was formed on one side. Thereafter, a transparent conductive film was prepared in the same procedure as Samples 1 to 8, except that a CeO 2 thin film layer (refractive index 2.10, thickness 10 nm) was formed as a transparent high refractive index layer on the anchor coat layer by vacuum deposition. Manufactured.
  • ⁇ R difference in visible light reflectance
  • the surface resistance value was measured using Loresta-GP MCP-T600 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. Comprehensive evaluation is based on a total light transmittance of 85% or more, b * value +2.5 or less, ⁇ R5 ° 1% or less, ⁇ R60 ° 3% or less, and surface resistance value of 175 ⁇ / ⁇ or less. And the others were marked with x. Note that ⁇ R is an index of visibility, and the smaller ⁇ R, the smaller the difference in reflectance and the more difficult to recognize the etching interface (in other words, the presence of the patterned electrode portion is difficult to visually identify). When both ⁇ R5 ° 1% or less and ⁇ R60 ° 3% or less are satisfied, it can be said that the presence of the patterned electrode portion is hardly discernable visually and the visibility is good. The measurement results are shown in Table 2.
  • samples 2 to 7 having a refractive index of 1.74 and a thickness of 25 to 50 are all Sample 1 with a transparent high refractive index layer thickness of 14.3 nm satisfies the standard, while b * value does not meet the standard, and sample 8 with a transparent high refractive index layer thickness of 60 nm has a b * value and ⁇ R5 ° did not meet the criteria. Further, in the sample 9 in which the refractive index of the transparent high refractive index layer was 1.6, the b * value, ⁇ R5 ° and ⁇ R60 ° did not satisfy the standard.
  • the sample 10 having a refractive index of 1.90 (thickness 28 nm) had a refractive index of 1.74 (thickness 28.6 nm).
  • Sample 12 in which the resin constituting the transparent high refractive index layer was changed to an epoxy resin and the refractive index was 1.74 and the thickness was 28.6 nm also satisfied all the criteria.
  • the transparent high refractive index layer is made of a resin containing highly bent particles, and the refractive index is adjusted in the range of 1.7 to 1.8 and the thickness is adjusted in the range of 25 to 50 nm. It was found that a transparent conductive film having high visibility and excellent visibility was obtained. It was also found that when the refractive index and the thickness are within the above ranges, a transparent conductive film having desired characteristics can be obtained even if the constituent resin and highly bent particles are changed.
  • the transparent low refractive index layer has the effect of enhancing transparency due to the difference in refractive index with the transparent high refractive index layer (refractive index 1.7 to 1.8), and therefore the refractive index is preferably 1.6 or less. It was more preferable that the difference in refractive index with the layer be 0.2 or more.
  • the transparent adhesive layer uses a highly transparent adhesive transfer tape (product number: 8146-4 manufactured by Sumitomo 3M Limited) in which a uniform acrylic transparent adhesive layer is formed between two plastic sheets. It formed by transferring to a transparent conductive film.
  • the transparent conductive laminate is such that the non-conductive treatment surface (transparent film substrate side surface) of the upper transparent conductive film faces the conductive treatment surface (ITO layer side surface) of the lower transparent conductive film. It is pasted together. Thereafter, as shown in FIG.
  • a panel composed of a colorless transparent glass plate having a thickness of 2 mm and the transparent conductive laminate was formed.
  • the glass plate and the transparent conductive film were bonded together using the acrylic transparent adhesive layer.
  • the panel thus obtained was measured for total light transmittance and b * value in the same manner as described above. Table 3 shows the measurement results.
  • Samples 2-7, 11 and 12 with a good overall result of one transparent conductive film are those with a total light transmittance of 85% or more, b * value when the panel is constructed. +3.0 or less can be achieved, and it has been found that it has good characteristics for use as a touch panel.
  • Samples 1, 8 and 9 in which b * exceeded +2.5 in the measurement of one transparent conductive film showed a result that the b * value greatly exceeded +3.0 when the panel was constructed.
  • the transparent high refractive index layer is composed of a resin containing highly bent particles, a transparent conductive film having excellent adhesion and hardly whitening can be obtained.
  • the thickness of the transparent film substrate decreases, the adhesion tends to decrease.
  • the thickness of the transparent film substrate is 54 ⁇ m (50 ⁇ m thick PET + 2 ⁇ m thick hard coat layer on both sides). Even when very thin, it was found to have excellent adhesion.
  • Patterned electrode portions electrically connected in the X direction were formed on the transparent conductive films of Samples 1 to 12 after the formation of the lead wires by an etching method.
  • a resist material (ARES SPR manufactured by Kansai Paint Co., Ltd.) is applied in the shape of a patterned electrode on the transparent conductive film (transparent film substrate / transparent high refractive index layer / SiO 2 layer / ITO layer) of each sample.
  • a 2% hydrochloric acid aqueous solution as an etching solution, wet etching treatment was performed at 40 ° C.
  • a transparent high refractive index layer / SiO 2 layer was left in the portion where the resist material was applied. Then, by removing the resist material with a 2% aqueous sodium hydroxide solution, a transparent high refractive index layer / SiO 2 layer is formed on the entire surface on the transparent film substrate, and is electrically connected to the X direction thereon. In addition, a transparent conductive film of the present invention in which a patterned electrode portion made of an ITO layer was formed was produced.
  • the portions other than the patterned electrode portions are non-electrode portions formed of a transparent high refractive index layer / SiO 2 layer.
  • the transparent high refractive index layer and the SiO 2 layer are both insulative, so that only the third (outermost layer) ITO layer is etched and removed.
  • a transparent conductive film on which patterned electrode portions having characteristics were formed could be obtained. Further, in the same manner as described above, transparent conductive films of Samples 1 to 12 in which patterned electrode portions electrically connected in the Y direction were formed were produced.
  • the transparent conductive film formed in this way and formed with a patterned electrode part electrically connected in the X direction and the transparent formed with a patterned electrode part electrically connected in the Y direction A transparent conductive laminate was produced by bonding the conductive film to the transparent adhesive layer formed by transfer and formation using the highly transparent adhesive transfer tape (see FIG. 2). Although it laminated
  • a transparent transparent adhesive layer formed by transferring and forming a colorless transparent glass plate having a thickness of 2 mm and the transparent conductive layer surface (conductive treatment surface) of the transparent conductive laminate using the highly transparent adhesive transfer tape.
  • the lead-out wiring and the terminal were connected, and a touch panel control driver was connected through the flexible printed wiring, thereby manufacturing the capacitive touch panel of the present invention.
  • a capacitive touch panel using the transparent conductive film of the present invention transparent conductive films of samples 2 to 7, 11, 12
  • a transparent conductive film of a comparative example transparent conductive films of samples 1, 8 to 10.
  • the capacitive touch panel using the transparent conductive films of Samples 1, 8, and 9 has a yellowish color where the electrodes overlap. This was clearly confirmed. Further, the capacitive touch panel using the transparent conductive films of Samples 8 and 9 had poor visibility. In addition, in the capacitive touch panel using the transparent conductive film of Sample 10, the yellow color was hardly felt by visual observation, but the visibility was poor.
  • the transparent conductive film of the present invention is not yellowish even when it is used in a stack of two sheets, so even when two transparent conductive films are stacked and used like a capacitive touch panel, display The screen can be clearly seen. Moreover, since delamination hardly occurs in the transparent conductive film and whitening due to heat hardly occurs, it is very useful as a transparent conductive film for a touch panel.

Abstract

　視認性に優れ、剥離や白化が生じにくく、2枚積層した場合にも優れた無色透明性を維持することができる透明導電フィルムを提供すること、及び、当該透明導電フィルムを利用したタッチパネルを提供することを課題とする。　本発明に係る透明導電フィルムは、透明フィルム基材の片面に、少なくとも、屈折率が1.7～1.8の透明高屈折率層、屈折率が1.6以下の透明低屈折率層、透明導電層が順次形成されていること、及び、前記透明高屈折率層が、高屈粒子を含む樹脂から形成された厚み25～50nmの薄膜層であることを特徴とする。

Description

透明導電フィルム及びタッチパネル
　本発明は、タッチパネルに用いられる低抵抗型透明電極として使用可能な透明導電フィルムに関し、特に静電容量方式のタッチパネルとして使用するのに適した透明導電フィルムに関する。また、前記透明導電フィルムを備えたタッチパネルに関する。
　近年、タッチパネル市場の拡大に伴い、タッチパネルの低抵抗型透明電極として使用可能な透明導電フィルムの開発が進んでいる。例えば、特許文献1には、透明基体(1)上に、透明導電性金属酸化物からなる抵抗膜層(2)、二酸化ケイ素よりなる薄膜層(3)及び透明導電性金属酸化物からなる抵抗膜層(4)とが、(1)、(2)、(3)、(4)の順で積層されてなることを特徴とする抵抗膜型透明タッチパネル用電極部材(透明導電フィルム)が記載されている。
　また、上記透明導電性金属酸化物としては、酸化インジウム薄膜、酸化インジウムに酸化スズをドープした薄膜(ITO薄膜)等が使用できる旨、抵抗膜層(2)と抵抗膜層(4)には、同種の透明導電性金属酸化物を使用するのが好ましい旨も記載されている。
　また、静電容量方式のタッチパネルに適した透明導電フィルムとして、特許文献2には、
透明フィルム基材の片面又は両面に、当該透明フィルム基材側から、第1透明誘電体層、第2透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成された透明導電性フィルムであって、
前記透明導電層は、パターン化されており、
前記第1透明誘電体層の屈折率をn1、前記第2透明誘電体層の屈折率をn2、前記透明導電層の屈折率をn3とした場合に、n2＜n3＜n1の関係を満足し、
前記第1透明誘電体層の厚みが2nm以上10nm未満であり、
前記第2透明誘電体層の厚みが20～55nmであり、
前記透明導電層の厚みが15～30nmである透明導電性フィルム
が開示されている。
　さらに、前記第1透明誘電体層は、酸化インジウム及び酸化セリウムを少なくとも含む複合酸化物からなることが好ましいこと、前記第2透明誘電体層は、SiO2により形成されていることが好ましいこと、透明導電層の構成材料としては酸化錫を含有する酸化インジウム(ITO)などが好ましく用いられることが開示されている。
　上記特許文献1の抵抗膜型透明タッチパネル用電極部材(透明導電フィルム)を使用すれば、特に透明性とペン耐久性が改良され、より高品質で高性能のタッチパネルを提供することができると記載されている。
　上記特許文献1の透明導電フィルムは、表面抵抗率が200～250Ω／□である抵抗膜方式のタッチパネルとして使用する場合は、抵抗膜層(透明導電層)の厚みが比較的薄いため、さらには、2枚の透明導電フィルムの間にスペーサーが存在するため、主に透明導電層に起因する黄色味はあまり問題とならない。しかしながら、静電容量方式のタッチパネルの如く、2枚の透明導電フィルムを重ねた透明導電積層体を利用する場合には、黄色味が強くなり、実用に耐えないという問題がある。
　特に最近のように、静電容量方式のタッチパネルの大面積化がますます進むと、タッチパネルに指を触れて操作する際の応答性が悪くなってしまう。そこで、応答性の悪化を防止する目的で、タッチパネルの全光線透過率を85％以上に維持したまま、透明導電層を厚くすることによって、表面抵抗率を200Ω／□以下、好ましくは150Ω／□程度に下げることが試みられているが、透明導電層が厚くなることにより、黄色味がより強くなるという問題が生じている。
　特許文献1記載の透明導電フィルムに代表される従来の透明導電フィルムは、図4Aに示すように、通常、透明フィルム基材(1')の上に複数の透明層が積層されており、最表層が透明導電層(4')である。また、静電容量方式のタッチパネルで使用する透明導電フィルムは、図4Bに示すように、少なくとも透明導電層(4')を部分的に除去することにより、パターン状の電極部(4'P)を形成することが必要である。ここで、パターン状の電極部とは、透明導電フィルムの最表層の透明導電層が格子状や市松模様状等の所望の模様状に形成されている部分をいう。尚、電極部以外の部分は、少なくとも、透明導電層等、導電性物質を含む層が形成されていない部分(非電極部)である。
　本発明に係る透明導電フィルム及び透明導電積層体を図示した図1及び図2を使用して、より具体的に説明すると、静電容量方式のタッチパネルは、図1Cに示すように、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部(4Px)を有する透明導電フィルム(左側)と、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部(4Py)を有する透明導電フィルム(右側)とを、透明粘着剤で貼り合わせて透明導電積層体として使用する。なお、図1Cにおいて、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部(4Px)と、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部(4Py)とは、異なる色彩で表されているが、これは、図2に示すように、2枚の透明導電フィルムを積層して透明導電積層体を構成した際に、電極部同士の位置関係を把握しやすくするための、便宜上の色分けであって、素材自体は同一である。
　図2中、Aは透明導電積層体の平面図であり、Bは、A中の線B－Bにおける断面図であり、Cは、A中の円Cで囲まれた部分の拡大図である。図2に示されるように、静電容量方式のタッチパネルに使用する透明導電積層体では、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムと、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルムとを重ねる際、基本的に、それぞれの透明導電フィルムに形成された電極部同士(すなわち、4Pxと4Py)が重ならないように積層される。しかし、実際には、透明導電積層体の構造上、上層の透明導電フィルムと下層の透明導電フィルムに形成された電極部同士(4Pxと4Py)が上下に重なる部分(O)がわずかに生じてしまう。このため、透明導電積層体の面を正面から目視した際に、その重なる部分(O)の黄色味が目立つため問題となるのである(図2C参照)。
　以下、本明細書において、電極部同士が重なる部分とは、上記の如く、透明導電積層体あるいはこれを使用した静電容量方式のタッチパネルにおいて、上層の透明導電フィルムと下層の透明導電フィルムに形成された電極部同士(4Pxと4Py)が上下に重なる部分を意味し、本明細書において、黄色味とは、当該電極部同士が重なる部分の黄色味を意味する。
　タッチパネルは、表示画面上を覆うものであるため、表示画面を鮮明に視認できるように、無色透明性が高いことが要求される。
　この要求を達成するため、透明導電フィルムを構成する各層に使用する材料には、基本的に無色透明の物質が使用されるが、やはり特定波長の光が吸収されてしまうため、黄色っぽくなるという問題がある。
　特許文献2の発明は、静電容量方式のタッチパネルに適した透明導電フィルムを提供するものであり、透明導電層がパターン化された透明導電フィルムにおいて、パターン部(電極部)とパターン開口部(非電極部)との相違が抑制され、見栄えの良好な透明導電フィルムを得ることができるため、特に静電容量方式のタッチパネルの如く、パターン化された透明導電層(パターン状の電極部)をディスプレイ表示部の全面に形成するタッチパネルに適切であると記載されている。
　しかしながら、特許文献2の透明導電フィルムによっても、2枚のフィルムを積層した際に、黄色味が強くなるという問題は、解消されていない。
　また、透明導電フィルムを静電容量方式のタッチパネルに使用する際、一般に、図3に示す如く、ガラス板7と透明導電フィルム5を2枚積層し、それぞれを透明粘着剤層6で接着する。そのため、透明導電フィルムを構成する透明フィルム基材とその上の層の密着が不十分であると、透明導電フィルム内で剥離(層間剥離)が生じる可能性がある。特に、透明フィルム基材が薄くなればなるほど、層間剥離が生じやすくなる傾向がある。層間剥離を防ぐために、アンカーコート層を設けることも考えられるが、工程が増えるという問題や、熱で白化するおそれがあるという問題がある。
　さらに、透明導電フィルムは、視認性に優れることが要求される。本明細書中において「視認性に優れる(又は、視認性が良好)」とは、パターン状の電極部が形成されている透明導電フィルムを目視にて観察した場合に、形成されている電極部の存在が目視ではほとんど判別(視認)できないこと、言い換えると、電極部が形成されている部分と非電極部(電極部が形成されていない部分)との違いが目視ではほとんどわからないことを意味し、「視認性が悪い」とは、パターン状の電極部が形成されている透明導電フィルムを目視にて観察した場合に、形成されている電極部の存在が目視で判別(視認)できること、言い換えると、電極部が形成されている部分と非電極部(電極部が形成されていない部分)との違いが目視でわかることを意味する。
　上述してきた通り、透明導電フィルムには、様々な特性が求められるが、これらの特性を全て備えた透明導電フィルムは未だ開発されていない。
特許第4132191号公報 特開2010-23282号公報
　したがって、本発明は、1枚で使用する場合だけでなく、2枚重ねて使用する場合、特に静電容量方式のタッチパネルの如く、ガラス板に透明導電フィルムを2枚積層した際にも、＋3.0以下のb*値(b*は、CIE L*a*b*色空間において、黄色と青の間の位置を示す値であり、負の値は青寄り、正の値は黄色寄りを示す)を維持することができ、且つ、視認性に優れ、透明導電フィルム内での層間剥離や、熱による白化が生じにくい透明導電フィルムを提供することを課題とする。
　本発明者らは、上記課題を解決するために、透明フィルム基材と透明導電層の間に形成する光学調整層について研究した結果、光学調整層として屈折率の異なる２つの層(透明高屈折率層及び透明低屈折率層)を設け、且つ、透明高屈折率層を、高屈粒子を含む樹脂で形成し、その屈折率と厚みを所定の範囲内とすることによって、視認性に優れ、透明導電フィルム内での層間剥離や熱による白化が生じにくく、ガラス板に2枚積層した場合にも、低いb*値を維持できる透明導電フィルムを得ることに成功し、本発明を完成した。
　本発明に係る透明導電フィルムは、
　透明フィルム基材の片面に、少なくとも、屈折率が1.7～1.8の透明高屈折率層、屈折率が1.6以下の透明低屈折率層、透明導電層が順次形成されていること、及び
　前記透明高屈折率層が、高屈粒子を含む樹脂から形成された厚み25～50nmの薄膜層であることを特徴とする。
　前記透明高屈折率層を形成する樹脂は、アクリル系樹脂又はエポキシ系樹脂であることが好ましく、前記高屈粒子は、二酸化ジルコニウム(ジルコニア)又は二酸化チタン(チタニア)の粒子であることが好ましい。
　また、前記透明低屈折率層は、ケイ素酸化物からなる薄膜層であることが好ましく、前記透明導電層は、ITOからなる薄膜層であることが好ましい。
　前記透明導電フィルムは、引出配線及び／又はパターン状の電極部が形成されたものであってもよい。
　前記透明導電フィルムはタッチパネルに使用するのに好適である。
　前記タッチパネルの好ましい例として、引出配線及びパターン状の電極部が形成されている透明導電フィルムを２枚積層し、透明粘着剤層で貼り合わせてなる透明導電積層体を利用する静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。
　本発明の透明導電フィルムは、タッチパネル用の透明導電フィルムとして適切な電気特性、優れた視認性を有するとともに、2枚重ねた際にも黄色味を帯びにくい。また、透明導電フィルム内で層間剥離や白化が生じにくい。そのため、本発明の透明導電フィルムは、特に、複数枚の透明導電フィルムを積層・接着して使用する静電容量方式のタッチパネルに用いるのに最適である。
図1は、本発明に係る透明導電フィルムの一例を模式的に示す図であり、Aは、透明導電フィルムの断面図、Bは、パターン状の電極部が形成された透明導電フィルムの断面図、Cは、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルム(左側)と、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を有する透明導電フィルム(右側)の平面図である。 図2は、図1の透明導電フィルム二枚を透明粘着剤層により貼り合わせて構成した透明導電積層体を模式的に示す図であり、Aは平面図、Bは、A中の線B－B断面図、Cは、A中の円Cで囲われた部分の拡大図である。 図3は、図2の透明導電積層体とガラス板とを透明粘着剤層により貼り合わせて構成した本発明のタッチパネル(但し、引出配線は図示していない)を示す。 図4は、従来技術に係る透明導電フィルム(一層目と三層目に導電性物質を含む透明導電フィルム)を模式的に示す図であり、Aは当該透明導電フィルムの断面図を示す。Bは、三層目(最表層)のみをエッチングにより部分的に除去した図と、円で囲われた部分の拡大図であり、拡大図中の矢印は電気の流れを示す。Cは、一層目から三層目の全てを、エッチングにより部分的に除去することによりパターン状の電極部を形成した状態を示す。
　本発明の透明導電フィルム(5)は、図1Aに示すように、透明フィルム基材(1)上に、少なくとも、透明高屈折率層(2)、透明低屈折率層(3)、透明導電層(4)が順次積層された構成を有する。透明フィルム基材(1)及び3つの層(2～4)は、一枚の透明導電フィルムとして、全光線透過率80%以上(好ましくは85%以上)となる程度の透明性を有していればよい。
　なお、本発明の透明導電フィルムにおいて、屈折率とは、波長550nmの光に対する屈折率を意味し、分光反射スペクトル測定により測定することができる。また、各層の厚みは物理的な厚みを意味し、蛍光X線分析装置により測定することができる。
　本発明の透明導電フィルムに使用する透明フィルム基材(1)は、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、フッ素フィルム等の透明プラスチックフィルムが使用できるが、中でも耐熱性等の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
　また、前記透明プラスチックフィルムの片面又は両面に、樹脂からなる透明ハードコート層を形成してもよい。このように、片面又は両面にハードコート層を形成したものも、本発明に係る透明フィルム基材(1)に含まれる。
　ハードコード層を透明プラスチックフィルム表面に形成することにより、透明プラスチックフィルムにもともとあったキズを埋めることができるとともに、ハードコート層が形成された透明フィルム基材表面のスベリ性や表面強度が向上するため、後加工の際に透明フィルム基材にキズが発生することを防止できる。特に、ハードコート層を、透明導電層側の透明プラスチックフィルム表面に形成した場合は、上記の点に加え、さらに本発明の透明導電フィルムの導電性をも安定させることができる。
　ハードコート層に使用する樹脂は、該ハードコート層が鉛筆硬度H以上になるものが好ましく、メラミン系樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂等の透明樹脂が使用でき、厚みは、1～7μmが好ましい。
　又ハードコート層を形成した際、干渉縞が生じることがあるが、この場合は、前記透明プラスチックフィルムとハードコート層の間に、屈折率1.55～1.65で樹脂を主体とする干渉防止層(厚み10～50nm程度、好ましくは20～30nm程度)を設けることが好ましい。前記樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等を使用することができる。樹脂のみで屈折率が1.55～1.65とならない場合は、高屈粒子(例えば酸化チタン、酸化ジルコニウム等からなる粒子)を添加して、屈折率を上記範囲に調節してもよい。
　このように、透明プラスチックフィルムとハードコート層の間に干渉防止層を有するものも、本発明にかかる透明フィルム基材に含まれる。
　透明フィルム基材(1)の厚みは、10～300μmが好ましく、50～260μmがより好ましく、50μm～200μmが特に好ましい。
　厚みが、10μmより薄いと、特にタッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際に透明フィルム基材(1)の強度が十分ではないため、透明導電フィルムの変形が大きくなりすぎて透明導電層(4)にクラックが生じ、その結果表面抵抗率が不安定となるので好ましくない。また、透明導電フィルムがカールしてしまい、その結果、透明導電フィルムをタッチパネルに組み込むなどの後作業で、作業性が悪くなるので好ましくない。
　他方、厚みが、300μmより厚いと、抵抗膜方式タッチパネルに使用した場合に、指やペン等で入力する際、透明導電フィルムに荷重をかけて相対する透明導電フィルムに接触させるために必要以上に荷重をかけなければならない問題が生じる。また透明導電フィルムのコストも上がるため好ましくない。
　本発明の透明導電フィルムにおける透明高屈折率層(2)は、3つの層(2～4)のうち、最も透明フィルム基材(1)に近い層である。透明高屈折率層(2)の屈折率は1.7以上1.8以下であって(より好ましくは1.72～1.76)、隣接する透明低屈折率層(3)よりも屈折率が高い。このように、光の屈折率が異なる2つの層(2及び3)を積層することにより、透明性が向上すると考えられる。特に、透明高屈折率層(2)と透明低屈折率層(3)の屈折率の差が0.2以上あることが好ましい。
　当該透明高屈折率層は、高屈粒子を含む樹脂からなる薄膜層である。本発明に係る高屈粒子は、いわゆる高屈折率材料からなる粒子であり、樹脂中に分散されることにより樹脂単独の場合と比べて屈折率を上昇させる性質を有する。好ましい粒子は平均粒子径が1～500nmの粒子(いわゆる微粒子)であり、より好ましい粒子は平均粒子径が1～100nmの粒子である。前記平均粒子径は、動的光散乱法によって測定することができる。
　好ましい高屈粒子として、金属酸化物の粒子が挙げられる。例えば、ジルコニウム、チタン、セリウムまたはスズ等の酸化物からなる粒子が使用できる。より具体的には、二酸化ジルコニウム(ZrO2)、二酸化チタン(TiO2)、酸化セリウム(CeO2)、酸化スズ(SnO2)等の粒子が挙げられる。なお、前記の具体的な金属酸化物(代表してMO2と表記する)には、MとOの元素比が厳密に1：2となっているものだけでなく、酸素の比率が多少大きくなったり小さくなったりしているものも含まれるが、本明細書では、これらを代表してMO2と表記する。高屈粒子は、一種のみを用いてもよく、複数の種類を混合して用いても良い。特に、二酸化ジルコニウム及び／又は二酸化チタンの粒子が好ましい。
　前記透明高屈折率層中に分散される、高屈粒子の量は、所望の屈折率を達成するために適宜調節すればよいが、樹脂に対する重量比率で1：0.5～5(固形分比)となるように添加することが好ましい。
　前記透明高屈折率層を構成する樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂が挙げられる。
　前記アクリル系樹脂とは、樹脂(重合体)を構成する単量体の半分以上を、アクリル酸、メタクリル酸、及びそれらの誘導体から選択される単量体(以下、アクリル系単量体と称する)が占めるものを意味し、前記アクリル系単量体のみからなっても、他の単量体(前記アクリル系単量体と共重合可能な単量体）を含んでもよい。
　アクリル酸の誘導体としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸トリシクロデシル等のアクリル酸エステル類が挙げられ、メタクリル酸の誘導体としては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸２－エチルヘキシル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸トリシクロデシル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル等のメタクリル酸エステル類が挙げられる。
　前記エポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型等のビスフェノール型、フェノールノボラック型等のノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型等の含窒素環型、脂環式型、脂肪族型、ナフタレン型等の芳香族型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型などのエポキシ系樹脂が挙げられる。
　前記透明高屈折率層の厚みは、25nm以上50nm以下である。透明高屈折率層が25nmより薄いと、b*値が高くなり黄色味が増す傾向が見られ、50nmより厚いと、やはりb*値が高くなり、かつ視認性が悪くなる傾向が見られる。本発明では透明高屈折率層の厚みを前記範囲内とすることにより、b*値が低く、視認性に優れた製品を得ることができるため、膜厚管理幅が広いという利点がある。言い換えれば、前記膜厚の範囲内であれば、膜厚が変動しても透過率、ｂ*値、優れた視認性に影響を与えにくいため、厳密な膜厚管理をしなくても優れた製品を得ることができるという利点がある。より好ましい透明高屈折率層の厚みは25nm～40nmであり、特に好ましい厚みは25nm～35nmである。
　前記透明高屈折率層は、樹脂からなる薄膜層(樹脂コーティング層等)を形成するために一般的に用いられている方法、例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、バーコート法等で形成することができる。
　本発明では、透明フィルム基材の上に積層する層として、前記透明高屈折率層を採用することにより、透明導電フィルムを2枚重ねた際の、黄色味の増強が抑制されるという利点に加えて、透明フィルム基材との密着性が高いという利点、及び、熱による白化が生じにくいという利点を有する。
　本発明の透明導電フィルムにおける透明低屈折率層(3)は、透明高屈折率層(2)と、透明導電層(4)の間に形成され、本発明の透明導電フィルムの透明性を向上する役割を果たすものである。
　上記役割を果たすためには、屈折率が1.6以下(より好ましくは、1.4以上1.6以下、特に好ましくは1.4以上1.5以下)であることが好ましく、また、厚みが5～200nmであることが好ましい。
　厚みが5nm未満では、透明低屈折率層としての特性が十分に発揮されず、透明高屈折率層(2)との屈折率の差が小さくなり、透明低屈折率層としての役割(透明高屈折率層との併用により透明度を高める)が十分に果たせなくなるため、好ましくない。
　他方、200nmを超えると、膜応力によりクラックが入りやすいので、好ましくない。より好ましい透明低屈折率層の厚みは、10nm～50nm(特に好ましくは20nm～40nm)である。
　透明低屈折率層(3)は、上記屈折率と厚みの範囲を満足する透明な層であれば特に制限はなく、ケイ素酸化物(SiO2)薄膜層などの無機酸化物薄膜層、フッ化マグネシウム(MgF2)薄膜層などの無機化合物薄膜層、フッ素系樹脂やシリコーン系樹脂などの樹脂からなる樹脂薄膜層等が使用できる。
　特に、耐熱性、耐湿熱性の点から、透明低屈折率層(3)をケイ素酸化物薄膜層としておくのが好ましい。
　また、ケイ素酸化物(酸化ケイ素)は、理論上の組成式ではSiO2と表されるが、必ずしもSiとOの元素比が厳密に1：2である必要はなく、上記屈折率を満足する範囲で、SiとOの元素比が多少大きくなったり小さくなったりしているもの(具体的には組成式SiOxにおいて、xが1.6～2.1の範囲内にあるもの)も、本発明の透明導電フィルムにて使用されるケイ素酸化物に含まれる。本明細書では、上記SiOx(1.6≦x≦2.1)を代表して、SiO2と表記する。
　なお、前記透明高屈折率層(2)及び透明低屈折率層(3)を、電気絶縁性を有する物質から構成された層とすれば、パターン状の電極部を形成する際にエッチングして除去しなければならない層が透明導電層のみとなるため、エッチングにかかる時間やコストを削減することができる。
　ただし、本発明で使用される透明高屈折率層は、電気絶縁性を有するものに限定されるわけではなく、上記屈折率を満足する範囲内であれば、樹脂に導電性を有する高屈粒子を混入した導電性樹脂薄膜層であっても構わない。例えば、樹脂に、ITO、ZnO(酸化亜鉛)、AZO(酸化亜鉛に酸化アルミニウムをドープしたもの)、GZO(酸化亜鉛に酸化ガリウムをドープしたもの）などの粒子を混入した導電性樹脂薄膜層が挙げられる。
　また、本発明で使用される透明低屈折率層も、電気絶縁性を有するものに限定されるわけではなく、上記屈折率を満足する範囲内であれば、ポリチオフェン系、ポリアセリレン系、ポリアニリン系、ポリピロール系等の導電性ポリマーや、樹脂にITOや酸化スズなどの透明導電性微粒子を混入した導電性樹脂薄膜層であっても構わない。
　透明高屈折率層及び／又は透明低屈折率層が導電性を有する場合は、パターン状の電極部を形成する際に、当該層もエッチングして除去する必要がある。
　本発明の透明導電フィルムにおける透明導電層(4)は、透明導電フィルムの最表層に形成される層であり、透明な導電性金属酸化物の薄膜からなり、本発明の透明導電フィルムに導電性を付与する役割を果たすものである。
　透明導電層(4)に使用する透明な導電性金属酸化物薄膜としては、酸化インジウム薄膜、酸化スズ薄膜、酸化亜鉛薄膜、酸化カドミウム薄膜、酸化インジウムに酸化スズをドープした薄膜(ITO薄膜)等、従来透明導電フィルムの透明導電層として使用されている導電性金属酸化物薄膜が使用できる。
　中でも、導電性に優れたITO薄膜が特に好ましい。
　透明導電層(4)は、本発明の透明導電フィルムが有する表面抵抗率の大部分を決定する役割を果たすものであり、その表面抵抗率は大よそ5～1000Ω／□が好ましく、200Ω／□以下がより好ましい。
　また、透明導電層(4)の厚みは、上記表面抵抗率を有する程度の厚みであればよく、使用する金属酸化物薄膜層の種類にもよるが大よそ20nm～50nmが好ましい。
　厚みが20nmより薄いと、表面抵抗率が安定しにくくなる傾向が見られ、所望の導電性を安定して得られないので好ましくない。
　他方、厚みが50nmより厚いと、膜応力により、透明導電層(4)にクラックが生じて導電性が悪くなる場合があるので好ましくない。
　より好ましい透明導電層(4)の厚みは、25nm～45nm (特に好ましくは27nm～37nm)である。
　透明低屈折率層(3)、透明導電層(4)の形成方法は、従来公知の形成方法が使用でき、真空蒸着法、スパッタリング蒸着法、電子ビーム蒸着法、CVD法等の蒸着法や、ゾル－ゲル法などのコーティング法等が使用できる。
　また、本発明の透明導電フィルムを、静電容量方式のタッチパネルに用いるために、引出配線を形成しておいてもよい。引出配線は、図1Cに、記号8として示されている細線であって、金属からなり、通常、透明導電フィルムの外周部分にのみ設けられる。引出配線は、従来、透明導電層をパターニングした後、銀ペーストを印刷(スクリーン印刷等)することによって形成することが主流であったが、最近では、額縁(図1C左側の透明導電フィルムの両端に存在する引出配線(8)の束)の幅を狭めるため、銅もしくは銅合金の薄膜を透明導電層の上に形成した後、エッチングによって、より微細な引出配線を形成する方法が取られている。
　例えば、エッチングにより銅からなる引出配線を形成する方法として、透明導電層の上に、スパッタリング蒸着法で銅層を全面に積層し、その上にレジスト材料を引出配線の形状に塗布し、レジスト材料が塗布されていない部分の銅層をエッチング処理で除去し、レジスト材料が塗布されている部分の銅層のみを残存させた後、レジスト材料を除去することにより、透明導電層上に銅からなる引出配線を形成する方法が挙げられる。引出配線には一般的に0.4Ω／□以下程度の表面抵抗値が求められる。銅の引出配線で、0.4Ω／□以下の表面抵抗値を達成するためには、銅の厚みを100nm以上とすることが好ましい。
　また、本発明の透明導電フィルムを、静電容量方式のタッチパネルに用いるために、少なくとも透明導電層(4)を、X方向又はY方向に電気的に接続されたパターン状の電極部として形成しておいてもよい。
　また、タッチパネルだけでなく、太陽電池や有機ＥＬ等の透明電極用に使用可能とするために、少なくとも、透明導電層(4)を回路状にした回路を形成しておいても構わない。
　パターン状の電極部や回路を形成する方法として、薬品やレーザーを利用したエッチングや、水溶性樹脂層を利用する方法が挙げられる。
　例えば、エッチングによりパターン状の電極部を形成する方法では、透明フィルム基材上に、透明高屈折率層(2)、透明低屈折率層(3)、及び透明導電層(4)を順次全面に形成した後、透明導電層(4)上に、レジスト材料をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング溶液(塩化第二鉄水溶液、よう素酸水溶液、塩酸、王水、シュウ酸水溶液などの溶液)で処理して、レジスト材料が塗布されていない部分(非電極部となる部分)については、透明導電層(4)のみを除去し(すなわち、透明高屈折率層(2)と透明低屈折率層(3)は残存させる)、レジスト材料が塗布された部分(電極部となる部分)については、上記三層(2～4)を残存させる。その後、レジスト材料を除去することによって、透明フィルム基材上に、透明高屈折率層(2)及び透明低屈折率層(3)が全面に形成され、その上に、透明導電層(4)からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。
　なお、本発明に係る透明導電フィルムは、透明フィルム基材の上に3つの層を有する点で、特許文献1及び特許文献2に記載された透明導電フィルムと共通するが、特許文献1及び特許文献2の実施例に記載された透明導電フィルムでは、フィルム基材に一番近い層(一層目)に、導電性物質であるITOが含まれているため、透明導電フィルムの最表層(三層目；導電層)のみをエッチングしただけでは、一層目を通じて通電してしまう(図4B参照)。そのため、一層目から三層目までを全て除去する必要があるが(図4C参照)、一層目まで除去するには、特殊なエッチング技術が必要でコストがかかるという問題がある。
　これに対して、本発明の透明導電フィルムでは、一層目の透明高屈折率層(2)及び透明低屈折率層(3)を電気絶縁性を有する物質で構成すれば、三層目の透明導電層(4)のみをエッチングして除去するだけでよいため、エッチングによるパターン状の電極部の形成をより短時間・低コストで行うことができる。
　また、水溶性樹脂層を利用して、パターン状の電極部を形成する方法として、例えば、透明フィルム基材の片面に、電極部を形成する部分以外の部分(非電極部となる部分)に水溶性樹脂層を形成し、その上から、透明高屈折率層(2)、透明低屈折率層(3)、及び透明導電層(4)を順次全面に形成した後、水に浸漬するなどして、水溶性樹脂層と該水溶性樹脂層上の上記三層(2～4)を除去するとともに、水溶性樹脂層が形成されていない部分(電極部となる部分)の上記三層(2～4)を残存させる方法が挙げられる。この方法によっても、透明フィルム基材の片面に、透明高屈折率層(2)、透明低屈折率層(3)、及び透明導電層(4)からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造することができる。
　なお、本発明の透明導電フィルムには、透明フィルム基材の片面に上記三層(2～4)が全面に積層されているフィルムだけでなく、上述のように、パターン状の電極部が形成されているものや、引出配線が形成されているものも含まれる。
　引出配線及びパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムは、静電容量方式のタッチパネルとして使用するのに好適であり、このような静電容量方式のタッチパネルは、ガラス板(厚み1～3mm程度の薄板状のガラスが好ましい)と2枚の透明導電フィルムを透明粘着剤層で貼り合わせ、引出配線と端子を接続し、フレキシブルプリント配線を介してタッチパネル制御ドライバ(半導体等)と接続することによって構成することができる。
　ガラス板と、2枚の透明導電フィルムを透明粘着剤層で貼り合わせた状態を図3に模式的に示す(引出配線、端子等は図示しない)。図3に示すように、ガラス板と上層の透明導電フィルムの導電処理面(すなわち、透明導電層(4)側の面)とが、透明粘着剤層6で接着され、上層の透明導電フィルムの非導電処理面(すなわち、透明フィルム基材(1)側の面)と、下層の透明導電フィルムの導電処理面とが、透明粘着剤層6で接着される。
　透明粘着剤層に使用する透明粘着剤としては、当該分野において透明導電フィルムを貼り合わせるために使用されている通常の透明粘着剤を使用することができる。例えば、アクリル系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤等の透明粘着剤である。透明粘着剤層は、2枚の透明導電フィルムの間に介在する均一な層となるように形成されることが好ましい。均一な層とするには、2枚のプラスチックシート間に均一な透明粘着剤層が形成されている市販の光学用の高透明性粘着剤(OCA)転写シートを使用して、透明導電フィルムに当該透明粘着剤層を転写して形成することが好ましい。
　本発明の透明導電フィルムは、実際の静電容量方式タッチパネルのように、ガラス板に2枚の透明導電フィルムを積層した構成とした際にも、＋3.0以下のb*値(下限は特に限定されないが、一般に－3.0程度)を達成することができる。なお、b*値は、色差計によって測定することができる。
　上述してきた通り、透明導電フィルムを、静電容量方式のタッチパネルに用いる場合、透明粘着剤層によって、別の透明導電フィルム、あるいはガラス板と貼り合わせる必要があるが、このように他の部材と接着させた場合、透明導電フィルムを構成する透明フィルム基材／透明高屈折率層／透明低屈折率層／透明導電層の間の密着性(付着性)が低いと、剥離が生じやすくなるという問題がある。
　特に、引出配線が銅からなる場合、透明粘着剤との接着性が高いため、結果として、透明導電フィルムが他の部材に強く接着することになり、透明導電フィルム内の各層間の密着性が低いと剥離が生じやすい。
　例えば、透明高屈折率層がセリウム酸化物層である透明導電フィルムは、低いb*値と、高い全光線透過率を達成できるが、セリウム酸化物層と透明フィルム基材との密着性が十分ではないため、タッチパネルを構成した際、透明導電フィルム内で剥離が生じるおそれがある。
　この問題を解決するために、透明フィルム基材とセリウム酸化物層の間にポリエステル系アンカーコート層を設けることにより、密着性を高めることができるが、工程数が増えるという問題に加えて、透明導電フィルムに引出配線を形成するために銅を蒸着させた際、蒸着時の熱により白化が生じるおそれがある。また、ポリエステル系アンカーコート層を設けたとしても、厚みの薄い透明フィルム基材を用いると、密着性が低下する(剥離が生じやすくなる)傾向が観察される。例えば、厚みが120～130μm程度の透明フィルム基材を用いた場合は実用に耐える透明導電フィルムが得られるが、厚みが50～60μm程度の透明フィルム基材を用いた場合、剥離が生じやすくなり、実用する上で問題が生じやすくなる。
　本発明では、透明高屈折率層として、前述した高屈粒子を含む樹脂層を採用することにより、透明フィルム基材と強く密着できるため、厚みの厚い（厚みが120～130μm程度）透明フィルム基材を用いた場合はもちろん、厚みの薄い（厚みが50～60μm程度）透明フィルム基材を用いた場合にも剥離が生じにくいという利点、透明導電フィルム上に銅を蒸着した際にも白化が生じにくいという利点を有する。
　また、本発明の透明導電フィルムは、静電容量方式以外のタッチパネルに使用することもでき、例えば、抵抗膜方式のタッチパネルとする場合、ガラス板表面に形成した透明導電層と、本発明の透明導電フィルムの透明導電層とを対向させたものの間に、あるいは本発明の透明導電フィルム2枚を、透明導電層面同士が対向するように配置したものの間に、ドットスペーサーを介在させ、端部に引出配線を形成することによって構成することができる。この時使用する透明導電フィルムはパターン状の電極部を形成したものでも、形成していないものでも構わない。
　以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明は、実施例に限定されるものではない。
［透明導電フィルムの製造］
（試料1～8）
　厚み50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ(株)製：商品名 UD83）の両面に、リバースコート法により、アクリル系樹脂からなる厚み2μmの透明ハードコート層（屈折率：1.55　 ケーエスエム(株)製：商品名UV-H5630）を形成し、両面ハードコートフィルム（透明フィルム基材）を製造した。
　次に、アクリル系樹脂と平均粒子径約80nmの二酸化ジルコニウム粒子とを重量比1：3(固形分比)にて含む市販の分散液(東洋インキ(株)製：商品名 リオデュラスTYZ74-02S)をディスパーで攪拌分散させ、屈折率1.74の塗剤を調製し、バーコート法により、表１に示す厚みの薄膜層（透明高屈折率層）を形成した。
　次に、原料にヘキサメチルジシロキサン、反応ガスに酸素ガスを用いて、化学気相蒸着法（CVD法）にて表１に示す厚みのSiO2薄膜層（透明低屈折率層　屈折率1.50）を形成した。
　次に、原料にITOを用いてスパッタリング蒸着法にて、表１に示す厚みのITO薄膜層（透明導電層）を形成し、透明導電フィルムを製造した。
　尚、上記各層は透明フィルム基材（両面ハードコートフィルム）の片面上全面に形成した。
（試料9）
　アクリル系樹脂(ケーエスエム(株)製：商品名UV-H5630)と、平均粒子径30～40nmの二酸化ジルコニウム粒子の分散液(シーアイ化成(株)製：商品名 ジルコニア粒子)とを、アクリル系樹脂と二酸化ジルコニウムの重量比が1：1.5(固形分比)となるように配合し、ディスパーで攪拌分散して屈折率1.60の塗剤を調製し、この塗剤を使用して透明高屈折率層を形成した以外は、試料No.1～8と同じ手順で透明導電フィルムを製造した。
（試料10）
　アクリル系樹脂(三井化学(株)製：商品名 オレスターQ164)と、平均粒子径30～40nmの二酸化チタン粒子の分散液(テイカ(株)製：商品名 酸化チタンスラリー)とを、アクリル系樹脂と二酸化チタンの重量比が1：3(固形分比)となるように配合し、ディスパーで撹拌分散して屈折率1.90の塗剤を調製し、この塗剤を使用して透明高屈折率層を形成した以外は、試料1～8と同じ手順で透明導電フィルムを製造した。
（試料11）
　アクリル系樹脂(三井化学(株)製：商品名 オレスターQ164)と、平均粒子径30～40nmの二酸化チタン粒子の分散液(テイカ(株)製：商品名 酸化チタンスラリー)とを、アクリル系樹脂と二酸化チタンの重量比が1：2(固形分比)となるように配合し、ディスパーで撹拌分散して屈折率1.74の塗剤を調製し、この塗剤を使用して透明高屈折率層を形成した以外は、試料1～8と同じ手順で透明導電フィルムを製造した。
（試料12）
　エポキシ系樹脂(三井化学(株)製：商品名 エポキー813)と、平均粒子径30～40nmの二酸化ジルコニウム粒子の分散液(シーアイ化成(株)製：商品名 ジルコニア粒子)とを、エポキシ系樹脂と二酸化ジルコニウムの重量比が1：2.5(固形分比)となるように配合し、ディスパーで撹拌分散して屈折率1.74の塗剤を調製し、この塗剤を使用して透明高屈折率層を形成した以外は、試料1～8と同じ手順で透明導電フィルムを製造した。
（試料13）
　試料1～8と同じ両面ハードコートフィルム（透明フィルム基材）を製造した後、その片面に、厚み2nmのポリエステル系アンカーコート層を形成した。その後、前記アンカーコート層の上に、透明高屈折率層として、真空蒸着法によりCeO2薄膜層(屈折率2.10、厚み10nm)を形成した以外は、試料1～8と同じ手順で透明導電フィルムを製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
［物性の測定］
（透明導電フィルム1枚の特性）
　試料1～12の透明導電フィルムについて、全光線透過率、a*値、b*値、ΔR5°、Δ60°、表面抵抗値を測定した。
　全光線透過率は、日本電色工業社製のHaze Meter NDH 2000を用いて測定した。
　a*値及びb*値は、日本電色工業社製のSpeCtro Color Meter SQ2000を用いて測定した(JIS-K-7105に準拠して測定)。
　ΔR(可視光反射率の差)は、日立分光光度計U4000を用いて透明導電フィルムの反射率を測定し(JIS-R-3106に準拠して測定)、その差から算出した。具体的には、入射角度を垂直方向から5°又は60°ずらした際の透明導電層(エッチング前)と透明低屈折率層(エッチング後)の反射率(R5又はR60)をそれぞれ測定した後、式ΔR5°=R5(エッチング前)－R5(エッチング後)、又はΔR60°＝R60(エッチング前)－R60(エッチング後)により算出した。
　表面抵抗値は、三菱化学社製のLoresta-GP MCP-T600を用いて測定した。
　総合評価は、全光線透過率 85%以上、b*値 +2.5以下、ΔR5°1%以下、ΔR60°3%以下、表面抵抗値 175Ω/□以下を基準として判断し、全てを満たすものを○とし、それ以外を×とした。なお、ΔRは視認性の指標であり、ΔRが小さい方ほど、反射率差が小さくエッチング界面が認識しにくい(言い換えると、パターン状の電極部の存在が目視で判別しにくい)。そして、ΔR5°1%以下、ΔR60°3%以下の両方を満たす場合、パターン状の電極部の存在は目視ではほとんど判別できず、視認性が良好であると言える。測定結果を表2に示す。
　表２に示すように、透明高屈折率層が、アクリル系樹脂と二酸化ジルコニウムからなる試料1～9のうち、屈折率が1.74で厚みが25～50の範囲にある試料2～7は全ての基準を満たしたのに対し、透明高屈折率層の厚みが14.3nmの試料1は、b*値が基準を満たさず、透明高屈折率層の厚みが60nmの試料8は、b*値及びΔR5°が基準を満たさなかった。また、透明高屈折率層の屈折率が1.6である試料9は、b*値、ΔR5°及びΔR60°が基準を満たさなかった。
　他方、高屈粒子を二酸化チタンに変えた試料10及び11では、屈折率1.90(厚み28nm)の試料10は、ΔR5°が基準を満たさなかったが、屈折率1.74(厚み28.6nm)の試料11は全ての基準を満たした。
　また、透明高屈折率層を構成する樹脂をエポキシ系樹脂に変え、屈折率を1.74、厚みを28.6nmとした試料12も、全ての基準を満たした。
　この試験等の結果から、透明高屈折率層を高屈粒子を含む樹脂で構成し、且つ、屈折率を1.7～1.8の範囲、厚みを25～50nmの範囲に調節することにより、無色透明性が高く、視認性に優れた透明導電フィルムが得られることが分かった。また、屈折率と厚みを上記範囲とすれば、構成する樹脂や高屈粒子を変えても所望の特性を有する透明導電フィルムが得られることが分かった。
　また、透明低屈折率層は、透明高屈折率層(屈折率1.7～1.8)との屈折率の差により透明性を高める効果があるため、その屈折率は1.6以下が好ましく、透明高屈折率層との屈折率の差を0.2以上にすることがより好ましかった。
（透明導電フィルム2枚とガラス板からなるパネルの特性）
　試料1～12の透明導電フィルムを実際に使用してタッチパネルを製造した際の、電極部同士が重なる部分のb*値と全光線透過率の値を把握するため、電極部同士が全面に重なっている透明導電フィルム2枚(すなわち、パターン状の電極部を形成しない透明導電フィルムを2枚積層したもの)、及びガラス板からなるパネルを製造した。タッチパネル(特に大面積化された静電容量方式のタッチパネル)が、黄色味の点で実用に耐えるには、タッチパネル中の、電極部同士が重なる部分のb*が＋3.0以下であることが望ましく、全光線透過率は85%以上であることが好ましいため、b*値と全光線透過率の測定を行い、前記基準を満たすか確認した。
　パネルを作成するため、まず、試料1～12の透明導電フィルムそれぞれについて、2枚の透明導電フィルムを、透明粘着剤層で貼り合わせて透明導電積層体を構成した。前記透明粘着剤層は、2枚のプラスチックシート間に均一なアクリル系透明粘着剤層が形成された高透明性粘着剤転写テープ(住友スリーエム社製　品番：8146-4)を使用し、一方の透明導電フィルムに転写することによって形成した。なお、この透明導電積層体は、上層の透明導電フィルムの非導電処理面(透明フィルム基材側の面)と下層の透明導電フィルムの導電処理面(ITO層側の面)が面するように貼り合わせられている。
　その後、図3に示すように、厚み2mmの無色透明のガラス板と上記透明導電積層体からなるパネルを形成した。ガラス板と透明導電フィルムは、前記アクリル系透明粘着剤層を用いて貼り合わせた。
　このようにして得られたパネルについて、前記と同様に、全光線透過率、b*値を測定した。測定結果を表3に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表3に示すように、透明導電フィルム1枚の総合結果が良好(○)となった試料2～7,11及び12は、パネルを構成した際、全光線透過率85%以上、b*値+3.0以下を達成でき、タッチパネルとして用いるのに良好な特性を有することが分かった。これに対し、透明導電フィルム1枚の測定でb*が+2.5を超えた試料1,8及び9は、パネルを構成した際、b*値が+3.0を大きく上回る結果となった。
（Cu蒸着時の白化及び密着性の確認）
　静電容量方式のタッチパネルを製造する工程において、引出配線をCuで形成する場合、各透明導電フィルムの透明導電層側の面に、Cu層を全面に蒸着し、その後、エッチング処理を行い、引出配線の形状をしたCu層を残存させる方法を取ることができるが、Cu層を蒸着させる際の熱により、透明導電フィルムに白化が生じることがある。また、Cuは透明粘着剤に強く接着する傾向があり、その結果、透明導電フィルム内で層間剥離(透明フィルム基材／透明高屈折率層／透明低屈折率層／透明導電層のいずれかの間で生じる剥離）が生じやすくなるため、各試料について白化及び密着性の確認を行った。
　まず、試料1～13の各透明導電フィルム(1枚)のITO層側の面に、スパッタリング蒸着法で厚み120nmのCu層を全面に積層し、白化を観察するとともに、0時間後(蒸着直後)、24時間後、120時間後、240時間後に、クロスカット法で密着性(付着性)を評価した。
　白化の確認は目視にて行い、蛍光灯下で白化が視認できるものを×、蛍光灯下では白化が視認できないが、ハンディライト（懐中電灯）による強い光を当てて白化が視認できるものを△、蛍光灯、ハンディライトの両方で白化が視認できなければなければ○と評価した。
　クロスカット法は、JIS K5600-5-6(ISO2409)に準じて行った。なお、JIS K5600-5-6では、25マスで試験を行っているが、本試験では、密着性をより詳細に検討するため、100マスで試験を行い(それぞれの試料について、5枚ずつ試験を行った)、Cu層、ITO層、SiO2層、透明高屈折率層がいずれも剥離しなかった箇所の数(5枚の試料の平均値)が100個中90個以上を◎、60個以上を○、30個以上を△、30個未満を×と評価した。評価○以上が実用上問題ないレベルである。
　結果を表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　表４に示す通り、試料1～12は全て、Cu蒸着後も、白化及び密着性が良好であったが、試料13は、ハンディライトで光を当てた際に白化が視認された。これは、アンカーコート層に白濁が生じたためと考えられる。また、試料13はアンカーコート層により透明フィルム基材とCeO2層の密着性を高めたにも関わらず、0及び24時間後の密着性試験で、試料1～12(アンカーコート層なし)より多くの剥離が観察された。
　この結果から、透明高屈折率層を、高屈粒子を含む樹脂から構成した場合、密着性に優れ、白化が生じにくい透明導電フィルムが得られることが分かった。特に、透明フィルム基材の厚みが薄くなるほど、密着性は低下する傾向があるが、本発明によれば、透明フィルム基材の厚みが54μm(厚み50μmのPET+両面に厚み2μmのハードコート層)と非常に薄い場合でも、優れた密着性を有することが分かった。
［静電容量方式のタッチパネルの製造］
（引出配線の形成）
　試料1～12それぞれの透明導電フィルムを利用した静電容量方式のタッチパネルを製造した。
　まず、引出配線(Cu線)を形成するため、透明導電フィルムのITO層上にスパッタリング蒸着法で厚み120nmのCu層を全面に積層し、その上に、レジスト材料(関西ペイント社製アレスSPR)を引出配線の形状に塗布し、Cu用エッチング液として5％塩化銅水溶液を使用して、40℃で60秒間ウエットエッチング処理することにより、レジスト材料が塗布されていない部分のCu層のみを除去し、レジスト材料が塗布されている部分については、Cu層を残存させた。その後、2%水酸化ナトリウム水溶液でレジスト材料を除去することにより、ITO層の上に、Cuからなる引出配線を作製した。
（エッチングによるパターン状の電極部の形成）
　引出配線形成後の試料1～12の透明導電フィルムに、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部を、エッチング法により形成した。
　まず、各試料の透明導電フィルム(透明フィルム基材／透明高屈折率層／SiO2層／ITO層)上に、レジスト材料(関西ペイント社製アレスSPR)をパターン状の電極部の形状に塗布し、エッチング液として2％塩酸水溶液を使用して、40℃で70秒間ウエットエッチング処理し、レジスト材料が塗布されていない部分についてはITO層のみを除去して透明高屈折率層／SiO2層を残存させ、レジスト材料が塗布されている部分については、透明高屈折率層／SiO2層／ITO層を残存させた。その後、2％水酸化ナトリウム水溶液でレジスト材料を除去することにより、透明フィルム基材上に透明高屈折率層／SiO2層が全面に形成され、その上に、X方向に電気的に接続されたITO層からなるパターン状の電極部が形成された本発明の透明導電フィルムを製造した。
　尚、パターン状の電極部以外の部分は、透明高屈折率層／SiO2層からなる非電極部である。
　試料1～12の透明導電フィルムは、透明高屈折率層、SiO2層がともに絶縁性であるため、三層目(最表層)であるITO層のみをエッチングして除去するだけで、所望の特性を有するパターン状の電極部が形成された透明導電フィルムを得ることができた。
　さらに、上記と同様にして、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された試料1～12の透明導電フィルムを製造した。
　このようにして製造された、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された透明導電フィルムと、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部が形成された透明導電フィルムとを、上記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせることにより、透明導電積層体を製造した(図2参照)。各透明導電フィルムに形成された電極部同士ができるだけ重ならないように積層したが、透明導電積層体の構造上、電極部同士がわずかに重なる部分が生じた。
　その後、厚み2mmの無色透明のガラス板と、前記透明導電積層体の透明導電層面(導電処理面)とを、上記高透明性粘着剤転写テープを使用して転写、形成した透明粘着剤層で貼り合わせるとともに、引出配線と端子を接続し、フレキシブルプリント配線を介してタッチパネル制御ドライバを接続し、本発明の静電容量方式のタッチパネルを製造した。
　本発明の透明導電フィルム（試料2～7,11,12の透明導電フィルム)を使用した静電容量方式のタッチパネルと、比較例の透明導電フィルム(試料1,8～10の透明導電フィルム)を使用した静電容量方式のタッチパネルを目視にて比較したところ、試料1,8,9の透明導電フィルムを用いた静電容量方式のタッチパネルは、電極部同士が重なる部分が黄色味を帯びていることが、はっきりと確認できた。さらに、試料8,9の透明導電フィルムを用いた静電容量方式のタッチパネルは、視認性が悪いものであった。また、試料10の透明導電フィルムを用いた静電容量方式のタッチパネルは、黄色味は目視ではほとんど感じられなかったが、視認性が悪いものであり、具体的にはパターン状の電極部と非電極部の境界が視認できるため、表示画面が鮮明に見えないという問題が観察された。
　これに対し、本発明の透明導電フィルム（試料2～7,11,12の透明導電フィルム)を使用した静電容量方式のタッチパネルは、電極部同士が重なる部分の黄色味は目視ではほとんど感じられることがなく、その存在は全く分からなかった。また、視認性も良好であった。
　本発明の透明導電フィルムは、2枚重ねて使用する場合にも、黄色味を帯びにくいため、静電容量方式のタッチパネルの如く、透明導電フィルムを2枚積層して使用する場合にも、表示画面を鮮明に視認することができる。また、透明導電フィルム内で層間剥離が生じにくく、熱による白化も生じにくいため、タッチパネル用の透明導電フィルムとして非常に有用である。
　1、1'　透明フィルム基材
　2　透明高屈折率層
　2'　導電物質を含む透明高屈折率層
　3、3'　透明低屈折率層
　4、4'　透明導電層
　4P、4'P　透明導電層からなるパターン状の電極部
　4Px　透明導電層からなる、X方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
　4Py　透明導電層からなる、Y方向に電気的に接続されたパターン状の電極部
　5、5'　透明導電フィルム
　6　透明粘着剤層
　7　ガラス板
　8　引出配線

Claims (8)

  1. 　透明フィルム基材の片面に、少なくとも、屈折率が1.7～1.8の透明高屈折率層、屈折率が1.6以下の透明低屈折率層、透明導電層が順次形成されていること、及び
    　前記透明高屈折率層が、高屈粒子を含む樹脂から形成された厚み25nm～50nmの薄膜層であること
    を特徴とする透明導電フィルム。
  2. 　前記透明高屈折率層を形成する樹脂が、アクリル系樹脂又はエポキシ系樹脂であることを特徴とする、請求項１に記載の透明導電フィルム。
  3. 　前記高屈粒子が、二酸化ジルコニウム及び／又は二酸化チタンの粒子であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の透明導電フィルム。
  4. 　前記透明低屈折率層が、ケイ素酸化物からなる薄膜層であることを特徴とする、請求項１～３のいずれか１項に記載の透明導電フィルム。
  5. 　前記透明導電層が、ITOからなる薄膜層であることを特徴とする、請求項１～４のいずれか１項に記載の透明導電フィルム。
  6. 　引出配線及び／又はパターン状の電極部が形成されていることを特徴とする、請求項１～５のいずれか１項に記載の透明導電フィルム。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の透明導電フィルムを備えていることを特徴とするタッチパネル。
  8. 　引出配線及びパターン状の電極部が形成されている請求項１～６のいずれか１項に記載の透明導電フィルムを２枚積層し、透明粘着剤層で貼り合わせてなる透明導電積層体を備えていることを特徴とする静電容量方式のタッチパネル。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015230510A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ用基板、タッチパネルセンサおよび表示装置
JPWO2015166723A1 (ja) * 2014-04-30 2017-04-20 日東電工株式会社 透明導電性フィルム
US10564780B2 (en) 2015-08-21 2020-02-18 3M Innovative Properties Company Transparent conductors including metal traces and methods of making same
EP4024179A1 (en) * 2020-12-30 2022-07-06 LG Display Co., Ltd. Touch panel and touch display device comprising the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000301648A (ja) * 1999-04-19 2000-10-31 Teijin Ltd 透明導電性積層体および透明タブレット
JP2011253546A (ja) * 2009-12-10 2011-12-15 Toppan Printing Co Ltd 導電性基板およびその製造方法ならびにタッチパネル
JP2012020425A (ja) * 2010-07-12 2012-02-02 Tdk Corp 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル
JP2012025158A (ja) * 2010-06-25 2012-02-09 Gunze Ltd 透明面状体及び透明タッチパネル

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000301648A (ja) * 1999-04-19 2000-10-31 Teijin Ltd 透明導電性積層体および透明タブレット
JP2011253546A (ja) * 2009-12-10 2011-12-15 Toppan Printing Co Ltd 導電性基板およびその製造方法ならびにタッチパネル
JP2012025158A (ja) * 2010-06-25 2012-02-09 Gunze Ltd 透明面状体及び透明タッチパネル
JP2012020425A (ja) * 2010-07-12 2012-02-02 Tdk Corp 透明導電体及びこれを用いたタッチパネル

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2015166723A1 (ja) * 2014-04-30 2017-04-20 日東電工株式会社 透明導電性フィルム
US10002687B2 (en) 2014-04-30 2018-06-19 Nitto Denko Corporation Transparent conductive film
TWI665091B (zh) * 2014-04-30 2019-07-11 日商日東電工股份有限公司 Transparent conductive film
JP2015230510A (ja) * 2014-06-03 2015-12-21 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ用基板、タッチパネルセンサおよび表示装置
US10564780B2 (en) 2015-08-21 2020-02-18 3M Innovative Properties Company Transparent conductors including metal traces and methods of making same
EP4024179A1 (en) * 2020-12-30 2022-07-06 LG Display Co., Ltd. Touch panel and touch display device comprising the same
US11726593B2 (en) 2020-12-30 2023-08-15 Lg Display Co., Ltd. Touch panel and touch display device comprising the same

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