JP2008024887A - 光学フィルタ用粘着層、光学フィルタ及びこれを備えたディスプレイ並びにプラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】メッシュ状の金属導電層のメッシュの凹凸を十分に封止することができ、接着性、そしてリワーク性に優れた、メッシュ状の金属導電層を有する光学フィルタの接着に好適な粘着層、及びディスプレイに好適な光学フィルタを提供すること。
【解決手段】メッシュ状の金属導電層を有する透明フィルムを含む光学フィルタの、該メッシュ状の金属導電層を接着するための粘着層であって、粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そしてメッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と粘着層の厚さＢ（μｍ）との関係が、下記式：０．５Ａ≦Ｂ≦３０Ａを満足することを特徴とする粘着層。
【選択図】 図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、帯電防止、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、この光学フィルタの作製に使用される粘着層、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくい、或いはディスプレイ表面が帯電してゴミ等が付着しやすい等の問題は、従来から知られており、反射防止膜或いは帯電防止層等を含む光学フィルタの設置等、種々対策がなされている。

近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、次世代の大画面表示デバイスとしてＰＤＰが一般的になってきている。しかしながら、このＰＤＰでは表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このような不具合を防止するため、ＰＤＰに対しては、導電性を有するＰＤＰ用光学フィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が種々提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜が設けられた透明フィルム、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層をメッシュ状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。

上記電磁波シールド性光透過窓材の導電層には、安価で優れた導電性を示すことから、上記(3)により得られる銅の導電性メッシュ（銅メッシュ）が主に使用されている。そしてこの銅メッシュは、一般に、透明フィルムと一体化された銅メッシュフィルムとして用いられている。このような銅メッシュフィルムは、銅メッシュのメッシュ間に空隙部が存在するため、この空隙部に適宜の透明樹脂を埋め込んでメッシュと一体化した透明樹脂層を形成し、これにより銅メッシュの反射による透明性の低下を防いでいる。このような透明樹脂層を有する光学フィルタが、例えば、特許文献１に記載されている。

特開２００４−２８１８３９号公報

上記光学フィルタおいて、金属メッシュの導電層を有する透明フィルムを備えた光学フィルタは、そのメッシュ面をＰＤＰの発光パネル面に粘着層を介して直接接着することができるので、生産性の点から望ましいものである。即ち、上記特許文献１において、透明樹脂層は、メッシュ面の凹凸を埋める機能を有するが、パネル面の接着させる粘着層の機能を有するものではない。一方、前記のメッシュ面をＰＤＰの発光パネル面に接着するための粘着層は、透明性の確保の観点からメッシュ面の凹凸を埋める機能も有する必要があり、このためこのような光学フィルタは生産性、経済性の点から望ましいと言える。

しかしながら、上記粘着層として、従来の前記透明樹脂層、或いは従来の粘着層を用いた場合、貼り合わせ時のメッシュの凹凸を十分に封止できない場合があること、また封止できても適当な接着力で発光パネル面に貼り付けることができない場合があること、さらにこれらの特性をある程度確保できても、光学フィルタのディスプレイへの貼付を誤った位置に行っても、容易に剥離して、貼り合わせのやり直し等が容易に行えるリワーク性が十分でない場合があることが明らかとなった。

従って、本発明は、メッシュ状の金属導電層におけるメッシュの凹凸を十分に封止することができ、接着性、そしてリワーク性に優れた、メッシュ状の金属導電層を有する光学フィルタの接着に好適な粘着層を提供することを目的とする。

また、本発明は、透明で、メッシュ状の金属導電層のメッシュの凹凸を十分に封止することができ、接着性、そしてリワーク性に優れたメッシュ状の金属導電層を有する光学フィルタを提供することを目的とする。

さらに本発明は、透明で、メッシュ状の金属導電層のメッシュの凹凸を十分に封止することができ、接着性、そしてリワーク性に優れたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。

また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。

さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。

従って、本発明は、
メッシュ状の金属導電層を有する透明フィルムを含む光学フィルタの、該メッシュ状の金属導電層を接着するための粘着層であって、
粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、
粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そして
メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と粘着層の厚さＢ（μｍ）との関係が、下記式：
０．５Ａ≦Ｂ≦３０Ａ
を満足することを特徴とする粘着層；及び
透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状の金属導電層及び金属導電層上に設けられた近赤外線吸収層を含む光学フィルタの、該近赤外線吸収層を接着するための粘着層であって、
粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、
粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そして
メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と、粘着層の厚さＢと近赤外線吸収層の厚さとの合計の厚さＢ’（μｍ）の関係が、下記式：
０．５Ａ≦Ｂ’≦３０Ａ
を満足することを特徴とする粘着層
にある。

本発明における、貯蔵弾性率及び損失弾性率は、粘弾性測定装置としてＲＤＡ３（レオメトリック・サイエンティフィック社製）を用い、直径８ｍｍの平行円盤形治具にて、−６０〜１００℃の温度分散範囲、昇温速度２℃／分、ひずみ周波数１Ｈｚにおいて測定したものである。測定厚さは通常３０μｍである。

粘着層のガラスへの粘着力は、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたものである。即ち、その概略を示すと、幅２５ｍｍの粘着層を、ガラス板に２ｋｇのロールを往復させることにより圧着し、２０分経過後、１８０度引き剥がし法試験により粘着力を測定する（測定条件：２３±２℃、５０±５％ＲＨ；試験速度：３００ｍｍ／分）。

本発明の光学フィルタ用粘着層の好適態様は以下の通りである。
（１）ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が８×１０³〜８×１０⁴Ｐａの範囲、特に１×１０⁴〜６×１０⁴Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が７×１０³〜７×１０⁴Ｐａの範囲、特に１×１０⁴〜５×１０⁴Ｐａの範囲にある。特に好適な封止性、粘着性、及びリワーク性を示す。
（２）ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．５〜１０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲、特に０．５〜２．０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にある。特に好適な粘着性、及びリワーク性を示す。
（３）粘着剤が、アクリル樹脂からなる。特に好適な封止性、粘着性、及びリワーク性を示す。
（４）アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくともアルキル（メタ）アクリレート（但し、アルキル基の炭素原子数が２〜１４個、特に４〜１４個である）とアクリル酸とを含んでいる。上記アルキルアクリレートとして、２−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。特に好適な封止性、粘着性、及びリワーク性を示す。
（５）アクリル樹脂が、さらにポリイソシアネート（例、ジイソシアネート）で架橋されている。特に好適な封止性、粘着性、及びリワーク性を示す。
（６）メッシュ状の金属導電層の厚さＡが、１〜１００μｍの範囲にある。透明性が確保される。
（７）粘着層の厚さＢが、５〜１００μｍの範囲にある。粘着層の性能が維持でき、光学フィルタの厚さを抑えることができる。
（８）メッシュ状の金属導電層が、表面に黒化層を有する。金属導電層が黒化層を有する場合の金属導電層の厚さＡは硬化層の厚さも含んでいる。
（９）透明フィルムがプラスチックフィルムである。特にポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）である。長尺状透明フィルムを用いることにより連続製造が容易となる。

また本発明は、
メッシュ状の金属導電層を有する透明フィルム、及び該メッシュ状の金属導電層に設けられた粘着層を含む光学フィルタであって、
粘着層が、上記の粘着層であることを特徴とする光学フィルタ；及び
透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状の金属導電層及び金属導電層上に設けられた近赤外線吸収層、及び該近赤外線吸収層上に設けられた粘着層を含む光学フィルタであって、
粘着層が、上記の粘着層であることを特徴とする光学フィルタ；
にもある。

本発明の光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）透明フィルムの金属導電層を持たない表面に反射防止膜が設けられている請求項１２に記載の光学フィルタ。
（２）透明フィルムの金属導電層を持たない表面に、反射防止膜を有する透明フィルムが、金属導電層を持たない表面と反射防止膜を持たない表面が対向した状態で、上記粘着層を介して接着されている。
（３）さらに近赤外線吸収層を有する。近赤外線吸収層又はこれを有する透明フィルムは、一般に金属導電層を持たない透明フィルム表面と、反射防止膜又は反射防止膜つき透明フィルムとの間に設けられる。
（４）反射防止膜が、近赤外線遮蔽機能を有する。
（５）粘着層上に剥離シートが設けられている。
（６）反射防止膜上に、保護層（例、保護用ポリマーフィルム）が設けられている。取り扱いが容易となる。
（７）光線透過率が５０％以上（好ましくは７０％以上）である。ディスプレイの画像が見やすい。
（８）メッシュ状の金属導電層は、エッチングにより、又は印刷法により形成されている。低抵抗を得られやすい。
（９）反射防止膜が、少なくとも１層の塗工層を含む。製造が容易である。
（１０）反射防止膜が、塗工形成されたハードコート層、及びその上に設けられたハードコート層より屈折率の低い塗工形成された高又は低屈折率層を含む膜、特にハードコート層と、その上の塗工による高屈折率層及び塗工による低屈折率層を含む膜であることが好ましい。

本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル用フィルタであることが好ましい。

さらに、本発明は、上記光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイにもある。

さらにまた、本発明は、光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。

本発明の光学フィルタ用粘着層は、上記のように特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率、及び特定の粘着力を有すると共に、メッシュ状金属導電層の厚さと粘着層の厚さ（又は粘着層と近赤外線吸収層との合計厚さ）とが特定の関係を有するものであり、これによりメッシュ状導電層のメッシュの間隙を十分に封止することができ、従って優れた透明性を示し、また発光パネル面に対して適度な粘着力を有することから、実用上の粘着力を確保しながら、貼り合わせのやり直し等が容易に行えるリワーク性も十分に有している。

従って、本発明の粘着層を使用することにより、透明性が良好で、接着力に優れたディスプレイ用光学フィルタを効率良く製造することができる。

さらに、メッシュ状金属層が設けられたフィルム表面は、粗面となっている場合があり、この粗面の凹凸を完全に埋めることにより光学フィルタ全体の透明性を向上させることができるが、本発明の粘着層はこのような特性を持っている。

本発明の粘着層、この粘着層を有する透明で、優れた接着性の光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。本発明の光学フィルタは、透明フィルム、メッシュ状金属導電層そして本発明の粘着層を少なくとも有する光学フィルタである。

本発明の光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１１の表面にメッシュ状の金属導電層１２が設けられ、この金属導電層１２のメッシュ間の空隙（凹凸）を埋めるように粘着層１３が形成されている。粘着層１３は、メッシュ間の空隙を埋めることが容易に行われるように上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有しており、且つディスプレイの表示面に適度な接着性及びリワーク性も有するように特定の粘着力を有するものである。また金属導電層の厚さと粘着層の厚さが上記特定の関係を有している。さらに、メッシュ状金属導電層が設けられたフィルム表面は、粗面となっている場合があり、この粗面の凹凸を完全に埋めることにより光学フィルタ全体の透明性を向上させることができるが、本発明の粘着層１３はこのような特性を持っている。粘着層１３上には、剥離シートが設けられていたも良い。

本発明の光学フィルタの基本構成を示す別の１例の概略断面図を図２に示す。図２において、透明フィルム２１の表面にメッシュ状の金属導電層２２が設けられ、この金属導電層２２上にメッシュに沿ってメッシュに対応する凹凸を形成するように近赤外線吸収層２５が設けられ、このメッシュ間の空隙（凹凸）を埋めるように粘着層２３が形成されている。一般に、近赤外線吸収層２５の厚さは、粘着層２３の厚さよりかなり小さい。粘着層２３は、上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有し、且つ特定の粘着力を有する本発明の粘着層であり、上記と同様な効果を示す。

本発明の図１の光学フィルタが、ディスプレイの１種であるプラズマディスプレイパネルの画像表示面に貼付された状態を図３に示す。ディスプレイパネルの表示面３０の表面に粘着層１３が接触して接着され、これにより、粘着層１３、メッシュ状の金属導電層１２及び透明フィルム１１からなる光学フィルタが表示面３０に設けられている。粘着層１３は、メッシュ状の金属導電層１２のメッシュの凹凸部を完全に埋めているため、光学フィルタの透明性が高く、ディスプレイパネルの画像を明るい画面で見ることができる。

本発明の光学フィルタの実施態様における好ましい１例の概略断面図を図４に示す。図４において、透明フィルム４１の表面にメッシュ状の金属導電層４２が設けられ、この金属導電層４２のメッシュ間の空隙を埋めるように粘着層４３が形成されている。透明フィルム４１の金属導電層４２が設けられていない側の表面には、反射防止膜４４が設けられている。粘着層４３は、上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有し、且つ特定の粘着力を有する本発明の粘着層であり、上記と同様な効果を示す。反射防止膜４４は、近赤外線遮蔽機能を有していても良く、また有することが好ましい。粘着層４３上には、剥離シートが設けられていても良い。

本発明の光学フィルタの実施態様における別の好ましい１例の概略断面図を図５に示す。図５において、透明フィルム５１の表面にメッシュ状の金属導電層５２が設けられ、この金属導電層５２上にメッシュに沿ってメッシュに対応する凹凸を形成するように近赤外線吸収層５５が設けられ、このメッシュ間の空隙（凹凸）を埋めるように粘着層５３が形成されている。透明フィルム５１の金属導電層５２が設けられていない側の表面には、反射防止膜５４が設けられている。一般に、近赤外線吸収層５５の厚さは、粘着層５３の厚さよりかなり小さい。粘着層５３は、上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有し、且つ特定の粘着力を有する本発明の粘着層であり、上記と同様な効果を示す。粘着層５３上には、剥離シートが設けられていても良い。

本発明の光学フィルタの実施態様における別の１例の概略断面図を図６に示す。図４の光学フィルタとの相違は、反射防止膜が透明フィルム上に設けられ、この透明フィルムが別の粘着剤により導電層を有する透明フィルムに接着されている点である。図６において、透明フィルム６１Ａの表面にメッシュ状の金属導電層６２が設けられ、この金属導電層６２のメッシュ間の空隙を埋めるように粘着層６３Ａが形成されている。透明フィルム６１Ａの金属導電層６２が設けられていない側の表面には、別の粘着層６３Ｂを介して反射防止膜６４を有する別の透明フィルム６１Ｂが設けられている。

粘着層６３Ａは、上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有し、且つ特定の粘着力を有する本発明の粘着層であり、上記と同様な効果を有する。別の粘着層６３Ｂは粘着層６３Ａと同じでも、異なっていても良い。また、粘着層６３Ｂは、近赤外線吸収機能を有していても良い。粘着層６３Ａ上には、剥離シートが設けられていても良い。

本発明の光学フィルタの実施態様における別の１例の概略断面図を図７に示す。図６の光学フィルタとの相違は、導電層を有する透明フィルム上にさらに近赤外線吸収層を有する透明フィルムが設けられている点である。図７において、透明フィルム７１Ａの表面にメッシュ状の金属導電層７２が設けられ、この金属導電層７２のメッシュ間の空隙を埋めるように粘着層７３Ａが形成されている。透明フィルム７１の金属導電層７２が設けられていない側の表面には、別の粘着層７３Ｂを介して近赤外線吸収層７５を有する別の透明フィルム７１Ｃが設けられ、さらに近赤外線吸収層７５上に、別の粘着層７３Ｃを介して反射防止膜７４を有する別の透明フィルム７１Ｂが設けられている。

粘着層７３Ａは、上記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率を有し、且つ特定の粘着力を有する本発明の粘着層であり、上記と同様な効果を有する。別の粘着層７３Ｂ、７３Ｃは粘着層７３Ａと同じでも、異なっていても良い。粘着層７３Ａ上には、剥離シートが設けられていても良い。

メッシュ状の金属導電層１２、２２、４２、５２、６２、７２は、メッシュ状の金属層又は金属含有層ある。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されているか、金属繊維層である。これにより低抵抗値を得られやすい。メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの凹凸の空隙が、本発明の粘着層で埋められており、これにより透明性が向上する。

反射防止膜４４、５４、６４、７４は、一般に基板より屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層とその上に設けられた高屈折率層及び上にさらにその上に低屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は基板である透明フィルムより屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。このような反射防止膜を構成する層は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。光学フィルタがＰＤＰ用の場合は、反射防止膜は、近赤外線遮蔽機能を有することが好ましい。

本発明では、メッシュ状の金属導電層上に設けられる粘着層として、粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、また粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そしてメッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と粘着層の厚さＢ（μｍ）との関係が、下記式：
０．５Ａ≦Ｂ≦３０Ａ
を満足する粘着層が使用される。

また、メッシュ状の金属導電層上に近赤外線吸収層を設ける場合（例、図２、図５）、メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と、粘着層の厚さと近赤外線吸収層の厚さとの合計の厚さＢ’（μｍ）の関係が、下記式：
０．５Ａ≦Ｂ’≦３０Ａ
を満足する粘着層が使用される。この場合、近赤外線吸収層の厚さは、０．５〜５０μｍが一般的である。

本発明の粘着層を用いることにより、メッシュ状導電層のメッシュの凹凸を十分に封止することができ、従って優れた透明性を示し、また発光パネル面に対して適度な粘着力を有することから、実用上の粘着力を確保しながら、貼り合わせのやり直し等が容易に行えるリワーク性も十分に有している。本発明は、またこのような粘着層自体も提供するものである。

上記規定において、粘着層の貯蔵弾性率が、上記範囲の上限より大きい場合は、メッシュの封止が不十分となり易く、また下限より小さい場合はメッシュ封止後の粘着層の表面の平滑性が低下し、リワーク時にディスプレイの表示面（発光パネル表面）に粘着剤が残りやすくなる。この貯蔵弾性率は８×１０³〜８×１０⁴Ｐａの範囲が好ましく、特に１×１０⁴〜６×１０⁴Ｐａの範囲が好ましい。

また粘着層の損失弾性率が、上記範囲の上限より大きい場合は、メッシュの封止が不十分となり易く、また下限より小さい場合はメッシュ封止後の粘着層の表面の平滑性が低下し、リワーク時にディスプレイの表示面に粘着剤が残りやすくなる。この損失弾性率が７×１０³〜７×１０⁴Ｐａの範囲が好ましく、特に１×１０⁴〜５×１０⁴Ｐａの範囲が好ましい。

さらに粘着層のガラスへの粘着力の値が、上記範囲の上限より大きい場合は、リワーク時にディスプレイの表示面を破壊する場合があり、下限より小さい場合は、ディスプレイの使用中に表示面から剥がれる虞がある。この粘着力は、０．５〜１０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲が好ましく、特に０．５〜２．０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲が好ましい。

上記メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と、粘着層の厚さＢ（μｍ）との関係、或いはメッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と、粘着層の厚さと近赤外線吸収層の厚さとの合計の厚さＢ’の関係が、上記式の範囲の上限より大きい場合は、ディスプレイの表示面に貼り合わせた後の表面の平滑性が不良となる場合があり、一方下限より小さい場合はメッシュの封止が不十分となり易い。上記式は、好ましくは０．５Ａ≦Ｂ≦１０Ａ、特に１．０Ａ≦Ｂ≦５．０Ａであること、或いは好ましくは０．５Ａ≦Ｂ’≦１０Ａ、特に１．０Ａ≦’Ｂ≦５．０Ａであることが好ましい。

本発明の粘着層は、アクリル樹脂からなる層であることが好ましい。その詳細は後述する。粘着層の厚さＢが、１〜５００μｍの範囲が好ましく、特に５〜１００μｍの範囲が好ましい。なおメッシュ状の金属導電層の厚さＡは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、特に１〜１００μｍの範囲が好ましい。

本発明の光学フィルタの表面抵抗値は、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．０１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲が好ましい。それぞれの範囲において、帯電防止或いは電磁波の遮断の効果が得られやすい。

本発明のディスプレイ用に好適な光学フィルタに使用される材料について以下に説明する。

透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性が優れているので好ましい。

透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜５ｍｍ程度が好ましい。

本発明のメッシュ状の金属導電層としては、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。

メッシュ状の導電層としては、メッシュの線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率５０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は６０〜９５％である。なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュ（外枠がある場合はそれを除いた領域）の投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。

金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたものの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、ニッケルが用いられる。

金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるガラスの厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、前述の程度とされる。

エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。

或いは、メッシュ状の導電層を、透明フィルムに導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。

一般に、銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。

このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルタの厚さに影響を及ぼすことから、前述の程度とされる。

このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。

金属導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。

メッシュ状の金属導電層の表面には黒化処理を行っても良い。

黒化処理は、導電層の金属に応じた公知の黒化処理をすることができ、これに応じた公知の黒化処理液を使用することができる。黒化処理としては、一般に酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理を挙げることができる。電気メッキ槽でのメッキ金属が銅である場合には、酸化処理、硫化処理、クロムメッキ処理、及びスズ−ニッケル等の合金メッキ処理をあげることができ、特に廃液処理の簡易性及び環境安全性の点から、酸化処理が好ましい。

上記黒化処理として酸化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液、ペルオキソ二硫酸と水酸化ナトリウムの混合水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、次亜塩素酸塩と水酸化ナトリウムの混合水溶液を使用することが好ましい。

上記黒化処理として硫化処理を行う場合には、黒化処理液として、一般には硫化カリウム、硫化バリウム及び硫化アンモニウム等の水溶液を使用することが可能であり、好ましくは、硫化カリウム及び硫化アンモニウムであり、特に低温で使用可能である点から、硫化アンモニウムを使用することが好ましい。

上記黒化処理として、クロムメッキ処理を行う場合には、黒化処理液として、一般にはクロム酸と酢酸の水溶液、及びクロム酸とケイフッ化水素酸の水溶液等を使用することが可能であり、特に経済性の点から、クロム酸と酢酸の水溶液を使用することが好ましい。

上記のようにして得られる黒化層の厚さは、一般に０．５〜５μｍ、特に１〜２μｍが好ましい。本発明では、黒化層の厚さは、本発明の金属導電層の厚さに含まれる。

本発明の反射防止膜は、一般に基板より屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折層との複合膜であるか、好ましくは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止膜は透明フィルムより屈折率の高いハードコート層のみであっても、或いは低屈折率層のみであっても有効である。但し、透明フィルムの屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の低いハードコート層とその上に設けられた高屈折層との複合膜、或いは高屈折率層上にさらに低屈折率層が設けられた複合膜としても良い。本発明の反射防止膜に近赤外線遮蔽機能を付与する場合は、上記ハードコート層等に近赤外線を吸収する後述する材料（例、色素）を混合及び／又は混練して導入するか、反射防止膜を形成するための透明フィルムに導入すればよい。

ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコン樹脂層等からなる層を挙げることができ、通常その層厚は１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。

紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。

ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。

紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、２，２−ジエトキシアセトフェノン等のアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。

光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。

ハードコート層は、透明基板より屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。

高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ₂Ｏ₃，ＳｂＯ₂，Ｉｎ₂Ｏ₃，ＳｎＯ₂，ＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。

なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層２の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。

ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。

低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜４０重量％（好ましくは１０〜３０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４５〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。

中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。

反射防止膜が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜９０ｎｍ、低屈折率層の厚さは８５〜１１０ｎｍであることが好ましい。

反射防止膜の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。

塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。

本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。

高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。

（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ₂、ＭｇＦ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。

上記透明導電膜は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。

本発明の粘着層は、前述のように、メッシュ状導電層のメッシュの凹凸を十分に封止することができ、従って優れた透明性を示し、また発光パネル面に対して適度な粘着力を有することから、実用上の粘着力を確保しながら、貼り合わせのやり直し等が容易に行えるリワーク性も十分に有している層である。

上記粘着層を構成する樹脂としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、本発明ではアクリル樹脂が好ましい。

前記弾性率、粘着力及び層厚における特定の範囲を満足させるには、アクリル樹脂を用いることが好ましく、特に、紫外線又は熱硬化性（メタ）アクリレート組成物の硬化層であることが好ましい。

上記硬化性（メタ）アクリレート組成物は、一般に、炭素原子数２〜１４個、特に４〜１４個のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主体とする（５０質量％以上）モノマー材料の混合物からなることが好ましい。この（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主体とするモノマー材料の混合物が、部分的に重合した部分重合体を含むモノマー材料の混合物であっても良い。必要により、上記モノマー材料の混合物１００質量部に対して、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレートを０．１〜１．０質量部添加される。

上記モノマー材料として用いられる（好ましくは部分重合体・モノマー混合物の製造に用いられる）炭素原子数２〜１４個、特に４〜１４個のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、ブチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート，デシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート（ラウリル（メタ）アクリレート）、テトラデシル（メタ）アクリレート等を挙げることができ、これらは１種又は２種以上を混合して用いられる。また、前記アルキル基は、直鎖又は分岐鎖のいずれでもよいが、ｔ−アルキル基でないことが好ましい。

上記モノマー材料と共に、或いは部分重合体・モノマー混合物の製造において、或いは部分重合体・モノマー混合物に加えて、前記モノマーと共重合可能なモノビニルモノマーを弾性率、粘着力等の物性の向上を目的として必要に応じて併用することが好ましい。このモノビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、及び（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルなどのヒドロキシル基含有モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、及び（メタ）アクリル酸エトキシエチルなどの（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、及び（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコール等のグリコール系モノマー；Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド；メタクリル酸及びアクリル酸などを挙げることができる。

さらに、メタアクリル酸及びメタアクリル酸（アクリル酸が好ましい）；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等のヒドロキシル基含有モノマーが好ましい。ヒドロキシル基含有モノマーは、耐湿熱性の向上に有効であるので好ましい。また、特に、アクリル酸が、良好な相溶性の点から好ましい。

部分重合体・モノマー混合物の製造は、適宜の重合開始剤を用いて溶液重合、塊状重合、乳化重合等の公知のラジカル重合法を適宜選択して用いることができる。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系の各種公知のものを使用できる。例えば、塊状重合では、重合開始剤をモノマー１００質量部に対し０．０１〜０．２質量部程度使用し、これに紫外線などの放射線を少量照射して部分的に重合させ、反応系を増粘させることにより得られる。モノマーの重合率は３〜５０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは５〜３０質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。

また、アクリル樹脂の製造は、紫外線又は熱硬化性（メタ）アクリレート組成物に、適宜の重合開始剤を用いて溶液重合、塊状重合、乳化重合等の公知のラジカル重合法を適宜選択して用いて行うことも可能である。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系の各種公知のものを使用できる。例えば、塊状重合では、重合開始剤をモノマー１００質量部に対し０．０１〜０．２質量部程度使用する。得られたアクリル樹脂（重合反応液）にさらに適宜下記の多官能（メタ）アクリレート等を加えて、適宜熱硬化（好ましくは８０〜１２０℃）させて本発明の粘着層を得ることが好ましい。

（メタ）アクリロイル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートやポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等が挙げることができる。（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが、前記弾性率、粘着力の調整の上で好ましく、プロピレンキシド付加数が、１〜１２、特に２〜８が好ましい。

上記硬化性（メタ）アクリレート組成物の好ましいものとしては、炭素原子数４〜１４のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルを主体とする（５０質量％以上）モノマー材料１００質量部、又はこのモノマー材料を部分的に重合してなる部分重合体・モノマー混合物１００質量部に、アクリル酸を０．１〜１０質量部、特に０．５〜６質量部、及び必要により水酸基含有（メタ）アクリレートを適量加え、さらに（メタ）アクリロイル基を２個以上有する多官能（メタ）アクリレートを０．１〜１０質量部、特に０．５〜６質量部加えたものである。

さらに硬化性（メタ）アクリレート組成物中に、さらにポリイソシアネート（好ましくはジイソシアネート）を含んでいることが好ましい。その例としては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等を挙げることができる。硬化性（メタ）アクリレート組成物に対して、０．１〜１０質量％、特に０．１〜５質量％の量で使用することが好ましい。

このようなアクリル樹脂の材料を使用することにより、前記特定の貯蔵弾性率及び損失弾性率、及び粘着力を得るための樹脂を設計しやすい。得られる層のゲル分率は７０〜１００質量％であることが好ましく、さらに好ましくは８０〜１００質量％、特に好ましくは８０〜９９質量％である。その重量平均分子量が１００００〜７０００００、特に４０００００〜７０００００であることが好ましい。

上記紫外線又は熱硬化性（メタ）アクリレート組成物は、前述のハードコート層の材料として記載した光重合開始剤（紫外線）又は熱重合開始剤（熱）、そして所望により各種添加剤を含んでいる。例えば、組成物の接着特性を調整するため、公知の粘着付与樹脂（例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、石油樹脂、クマロン・インデン樹脂、スチレン系樹脂など）を添加してもよい。また、粘着付与樹脂以外の添加剤としては、可塑剤、ガラス繊維、ガラスビーズ、金属粉、又は微粉末シリカなどの充てん剤、顔料、着色剤、酸化防止剤、老化防止剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤などが挙げられる。また、微粒子を含有させて光拡散性を有する粘着剤層とすることもできる。

上記光重合開始剤としては、前記ハードコート層形成用材料で述べた化合物を使用することができる。これらの化合物を１種又は２種以上で用いることができる。

上記熱重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシビバレート、（３，５，５−トリメチルへキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド等の有機過酸化物；２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１′−アゾビス（シクロへキサン１−カルボニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４′−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２′−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２′−アゾビス〔２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕等のアゾ系化合物等を挙げることができ、これらを１種又は２種以上で用いることができる。

本発明の粘着層の形成方法は、特に制限されず種々な方法を利用することができる。例えば、透明フィルムの金属メッシュの表面に、前記硬化性（メタ）アクリレート組成物を塗布、乾燥し、必要により硬化させて（好ましくは光重合）、粘着層を形成する方法を挙げることができる。また、表面が剥離性の転写シート上に前記硬化性（メタ）アクリレート組成物を塗布、乾燥して必要により硬化させて粘着層を形成した後、粘着層を金属メッシュの表面に貼り付け、前記転写シートを剥離除去することにより粘着層を形成してもよい。

本発明の粘着層を紫外線照射により形成する場合は、例えば、上記紫外線硬化性（メタ）アクリレート組成物を、表面が剥離性の転写シートに塗布した後、必要により塗布膜の表面にも表面が剥離性の転写シートを載置し（サンドイッチ状態で）、紫外線照射により硬化させることにより得たのち、転写シートを除去することにより得ることができる。或いは、透明フィルム上の金属メッシュの表面に、直接上記紫外線硬化性（メタ）アクリレート組成物を、塗布した後、紫外線照射により硬化させることにより粘着層を形成することができる。

上記紫外線硬化方式の別の態様では、まずモノマー材料及び光重合開始剤を混合し、少量の光照射により一部のモノマーを重合させて反応系を増粘させる（部分重合体・モノマー混合物の作製）。この部分重合体・モノマー混合物に多官能（メタ）アクリレート、及び光重合開始剤等を適宜添加混合して、これを適当な厚みで上記基板等に塗布する。その後、光照射により重合、架橋させて衝撃緩衝層を形成する。

光重合開始剤の量は、紫外線又は熱硬化性（メタ）アクリレート組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。

本発明の粘着層を加熱重合により形成する場合は、例えば、上記紫外線硬化性（メタ）アクリレート組成物を、前述の用に熱重合させて、アクリル樹脂を得、この樹脂溶液に適宜アクリルモノマーを加えた塗布液を、表面が剥離性の転写シートに塗布した後、必要により塗布膜の表面にも表面が剥離性の転写シートを載置し（サンドイッチ状態で）、加熱することにより硬化させることにより得たのち、転写シートを除去することによって得ることができる。或いは、透明フィルム上の金属メッシュの表面に、直接上記塗布液を、塗布した後、加熱により硬化させることにより粘着層を形成することができる。

或いは後述するＥＶＡ等の熱可塑性樹脂の粘着層は、前記塗布以外の方法でも形成可能であり、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、ガラス基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。

上記粘着層の材料として、ＥＶＡも使用することができる。ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。

架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。

有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。

なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。

その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。

ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。

この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロン等を挙げることができ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。

また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。

なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。

近赤外線吸収層又はフィルムとしては、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば、ベースフィルムの表面に、色素等を含む近赤外線カット層が形成されたものであるか、或いは色素等を含有する層又はフィルムである。色素の例としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。

特に好ましい近赤外線カットフィルムは、ベースフィルムの表面に、ジイモニウム系化合物と特定の銅錯体及び／又は銅化合物とを含む近赤外線カット層が形成されたものであり、この近赤外線カット層はベースポリマーにジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを分散させ、適当な溶剤で希釈して濃度調整したコーティング液を透明基板の表面にコーティングし、コーティング膜を乾燥させることにより形成することができる。

上記近赤外線カットフィルムは、ベースフィルムに、２層以上の近赤外線カット層、好ましくは２種以上の近赤外線吸収剤の層で構成した層を設けても良く、この場合には、近赤外の幅広い波長域において著しく良好な近赤外線カット性能を得ることができ、有利である。

２層以上の近赤外線カットフィルムは、次のような構成をとることができる。

ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムと、ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルムとの併用；
ベースフィルムの一方の面に近赤外線カット層を形成し、他方の面にも近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム；
ベースフィルム上に近赤外線カット層と近赤外線カット層とを積層形成した近赤外線カットフィルム；
ベースフィルム上に近赤外線カット層を形成した近赤外線カットフィルム；
上記のいずれか２以上の組み合わせ。

上記の構成において、近赤外線カット層のうちの一方をジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層とし、他方をこれとは異なる層とするのが好ましい。

また、上記の構成において、近赤外線カット層をジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層とし、必要に応じて更に異なる近赤外線吸収剤を配合するのが好ましい。

なお、本発明において、ジイモニウム系化合物と銅錯体及び／又は銅化合物とを含む層以外の近赤外線カット層として、次のようなものを１種又は２種以上を組み合わせて用いるのが、透明性を損なうことなく、良好な近赤外線カット性能（例えば８５０〜１２５０ｎｍなど近赤外の幅広い波長域において、近赤外線を十分に吸収する性能）を得られるので好ましい。即ち、
（ａ） 厚さ１００〜５０００ÅのＩＴＯのコーティング層、（ｂ） 厚さ１００〜１００００ÅのＩＴＯと銀の交互積層体によるコーティング層、（ｃ） 厚さ０．５〜５０μｍのニッケル錯体系とイモニウム系の混合材料を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、（ｄ） 厚さ１０〜１００００μｍの２価の銅イオンを含む銅化合物を適当な透明のベースポリマーを用いて膜としたコーティング層、（ｅ） 厚さ０．５〜５０μｍの有機色素系コーティング層。

保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。

剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。

本発明の光学フィルタは、例えば、前記のように、メッシュ状の金属導電層が形成された透明フィルムに本発明の粘着層を転写又は塗布により形成することにより得られる。反射防止膜も有する光学フィルタの場合は、例えば、反射防止膜が形成された別の透明フィルムに別の粘着層を転写又は塗布により形成し、導電層が形成された透明フィルムに本発明の粘着層を塗布により形成し、これらの２枚の透明フィルムを、導電層と別の粘着層が対向するように配置して、重ね合わせ、必要により減圧及び／又は加温下に脱気して、圧着することにより、或いは重ね合わせた後、減圧、加温下に脱気して加熱又は光照射により粘着層を加熱（必要により硬化）して一体化することにより容易に製造することができる。あるいは、上記２枚の透明フィルムを、連続的に搬送して重ね合わせ、加熱圧着して、連続的に製造することも可能である。３枚の透明フィルムを積層圧着する場合も、同様に行うことができる。

このようにして得られる本発明の光学フィルタは、前記図２に示すように、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。

本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板として透明フィルムを使用することにより、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。また、本発明では特定の粘着層が設けられているので、鮮明な画像を見ることができ、長期使用しても光学フィルタが剥がれることはなく、耐久性に優れたものである。

従って、本発明の光学フィルタは、透明で、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、接着性に優れていることから、これを用いて、見やすく、ホコリ等が付きにくく、耐久性に優れたディスプレイを得ることができる。

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［実施例１］（２層構造）
（１）粘着層テープの作製
（１−１）粘着層形成用組成物の調製
反応容器に、８５質量部のアクリル酸２−エチルヘキシル、１０質量部のアクリル酸ｎ−ブチル、２質量部のアクリル酸ラウリル及び３質量部のアクリル酸を投入し、次いで
５０質量部の酢酸エチル及び０．１質量部の２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン（熱重合開始剤）を添加し、１０分間撹拌した。次に、この反応容器内を窒素ガスで置換し、撹拌しながら６０℃に加熱し、この温度で３時間保持して、モノマーを重合反応させた。その後、この反応液に対して、アクリル酸２−エチルヘキシルとアクリル酸との混合物（質量比１００：１）を１０質量部、３０分間で滴下し、さらに２時間重合反応させた。

得られた反応液に、反応液の固形分質量濃度が３０％となるように酢酸エチルとトルエンの混合溶剤（質量比１００：１０）を加えて希釈し、さらに、この反応液の固形分１００質量部に対して１質量部のトリレンジイソシアネートを添加して、粘着層形成用組成物を得た。

（１−２）粘着層の形成
得られた粘着層形成用組成物（塗布液）を、セパレータ（剥離シート）上に、乾燥後の厚さが３０μｍとなるようにコントロールコータで塗布し、その後１００℃で２分間乾燥させ、粘着層テープを得た。

（２）メッシュフィルムの作製
表面に銅箔が形成された厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムの、銅箔の上にフォトレジストを塗布し、乾燥後、メッシュパターン状のマスクを介してレジスト層を露光し、現像し、次いでエッチング処理を行った。さらに黒化処理（処理液として次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用、処理条件：６０℃、１０分）を行いメッシュ銅の導電層上に黒化層を形成し、これにより黒化層を含む導電層（黒化層を含んだメッシュ状導電層：厚さ３０μｍ、線幅１０μｍ、線のピッチ：３００μｍ、開口率：７３％）を有するＰＥＴフィルムを得た。

（３）光学フィルタの作製
上記で得られたメッシュフィルムと粘着層テープとを、ロール式ラミネータを用いて、導電層と粘着層が接触するように載置して、加熱圧着（ロール表面温度：８０℃；貼り合わせ線圧：１２ｋＮ／ｃｍ；貼り合わせ速度：０．２ｍ／分）して本発明の光学フィルタ（図１参照）を作製した。

［実施例２］
実施例１において、アクリル酸２−エチルヘキシルの使用量を８５質量部から７０質量部に、アクリル酸ｎ−ブチルの使用量を１０質量部から２５質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。

［実施例３］
実施例１において、アクリル酸２−エチルヘキシルの使用量を８５質量部から８０質量部に、アクリル酸ｎ−ブチルの使用量を１０質量部から１３質量部に、アクリル酸ラウリルの使用量を２質量部から４質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。

［比較例１］
実施例１において、アクリル酸２−エチルヘキシルの使用量を８５質量部から７０質量部に、アクリル酸ラウリルの使用量を２質量部から１７質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。

［比較例２］
実施例１において、トリレンジイソシアネートの使用量を１質量部から２０質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。

［比較例３］
実施例１において、粘着層の厚さを３０μｍから５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして光学フィルタを作製した。

［粘着層の評価］
（１）動的貯蔵弾性率及び動的損失弾性率
上記動的貯蔵弾性率及び動的損失弾性率は下記の方法に従い測定した。

実施例、比較例で得られた粘着層テープのセパレータを除去した粘着層を用い、粘弾性測定装置としてＲＤＡ３（レオメトリック・サイエンティフィック社製）を用い、直径８ｍｍの平行円盤形治具にて、測定厚さ１．０ｍｍで、−６０〜１００℃の温度分散範囲、昇温温度２℃／分、ひずみ周波数１Ｈｚの条件で測定した。

（２）ヘイズ
実施例、比較例で得られた粘着層テープのセパレータを除去した粘着層のヘイズを、ヘイズメータ（ＮＤＨ２０００；日本電色工業（株）製）を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準拠して測定した。

（３）光学フィルタのガラスに対する粘着力及び粘着層の剥離時残留程度
厚さ１．８ｍｍのフロート・ガラスに、幅２５ｍｍの粘着層をハンドローラを用いて（自重２ｋｇで）貼り合わせ、室温２０分間放置した後、引張試験機（ＡＧＳ−Ｇ；（株）島津製作所製）を用いて、１８０度引き剥がし法試験により粘着力を測定した（測定条件：２３±２℃、５０±５％ＲＨ；試験速度：３００ｍｍ／分）。この試験は、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して行った。

粘着層の剥離時残留程度は、光学フィルタをガラス板から剥離した際の、粘着層のガラス板上に残った粘着層の面積を測定し、下記のように評価した。

○：ガラス板上に残った粘着層の面積が、貼り合わせ時の面積の３％未満の場合
△：ガラス板上に残った粘着層の面積が、貼り合わせ時の面積の３〜１０％の場合
×：ガラス板上に残った粘着層の面積が、貼り合わせ時の面積の１０％超過の場合

上記結果を表１に示す。

また、実施例１〜３で得られた本発明の特定の弾性率範囲、粘着力、及び導電層の厚さと粘着層の厚さとの特定の関係を満足しており、ヘイズが良好で、且つ粘着層のガラスへの残留がなく、透明性に優れ、リワーク性にも問題がないことが分かる。一方、本発明の特定の粘着力、及び層厚の関係を満足しているが、本発明の特定の弾性率範囲を満足していない比較例１及び２では、ヘイズと粘着層のガラスへの残留程度が劣るか、或いはヘイズが極端に劣っていた。また本発明の特定の粘着力及び特定の弾性率範囲を満足しているが、層厚の関係を満足していない比較例３では、ヘイズが極端に劣っていた。

実施例で得られたフィルタを、実際にＰＤＰに貼付しても透明性、電磁波遮蔽性等、従来のものと遜色はなかった。従って、本発明の粘着層を設けても、ＰＤＰ用光学フィルタに必要な特性を損なうことがないことが分かる。

本発明の光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタの別の基本構成を示す１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタが設けられたプラズマディスプレイパネルの１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタの実施態様における、好ましい態様の１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタの実施態様における、別の好ましい態様の１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタの実施態様における、別の好ましい態様の１例の概略断面図である。 本発明の光学フィルタの実施態様における、別の好ましい態様の１例の概略断面図である。

符号の説明

１１、２１、４１、５１、６１Ａ、６１Ｂ、７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃ 透明フィルム
１２、２２、４２、５２、６２、７２ 導電層
１３、３３、４３、５３、６３Ａ、６３Ｂ、７３Ａ、７３Ｂ、７３Ｃ 粘着層
４４、５４、６４、７４ 反射防止膜
２５、５５、７５ 近赤外線吸収層

Claims (23)

1. メッシュ状の金属導電層を有する透明フィルムを含む光学フィルタの、該メッシュ状の金属導電層を接着するための粘着層であって、
   粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、
   粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そして
   メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と粘着層の厚さＢ（μｍ）との関係が、下記式：
   ０．５Ａ≦Ｂ≦３０Ａ
   を満足することを特徴とする粘着層。
2. 透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状の金属導電層及び金属導電層上に設けられた近赤外線吸収層を含む光学フィルタの、該金属導電層上の近赤外線吸収層を接着するための粘着層であって、
   粘着層の、ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が５×１０³〜１×１０⁵Ｐａの範囲にあり、
   粘着層の、ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．２〜２０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にあり、そして
   メッシュ状の金属導電層の厚さＡ（μｍ）と、粘着層の厚さと近赤外線吸収層の厚さとの合計の厚さＢ’（μｍ）の関係が、下記式：
   ０．５Ａ≦Ｂ’≦３０Ａ
   を満足することを特徴とする粘着層。
3. ひずみ周波数１Ｈｚでの温度分散粘弾性測定における８０℃での貯蔵弾性率が１×１０⁴〜６×１０⁴Ｐａの範囲にあり、且つ損失弾性率が１×１０⁴〜５×１０⁴Ｐａの範囲にある請求項１又は２に記載の粘着層。
4. ＪＩＳ−Ｚ−０２３７に準拠して測定されたガラスへの粘着力が、０．５〜２．０ｋｇｆ／２５ｍｍの範囲にある請求項１〜３のいずれか１項記載の粘着層。
5. 粘着剤が、アクリル樹脂からなる請求項１〜４のいずれか１項に記載の粘着層。
6. アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくともアルキル（メタ）アクリレート（但し、アルキル基の炭素原子数が２〜１４個である）とアクリル酸とを含んでいる請求項５に記載の粘着層。
7. アクリル樹脂を構成するモノマーとして、少なくとも２−エチルヘキシルアクリレートとアクリル酸とを含んでいる請求項５又は６に記載の粘着層。
8. アクリル樹脂が、さらにポリイソシアネートで架橋されている請求項５〜７のいずれか１項に記載の粘着層。
9. メッシュ状の金属導電層の厚さＡが、１〜１００μｍの範囲にある請求項１〜８のいずれか１項に記載の粘着層。
10. 粘着層の厚さＢが、５〜１００μｍの範囲にある請求項１〜９のいずれか１項に記載の粘着層。
11. メッシュ状の金属導電層が、表面に黒化層を有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の粘着層。
12. 透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載の粘着層。
13. メッシュ状の金属導電層を有する透明フィルム、及び該メッシュ状の金属導電層上に設けられた粘着層を含む光学フィルタであって、
    粘着層が、請求項１及び３〜１２のいずれか１項に記載の粘着層であることを特徴とする光学フィルタ。
14. 透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状の金属導電層及び金属導電層上に設けられた近赤外線吸収層、及び該近赤外線吸収層上に設けられた粘着層を含む光学フィルタであって、
    粘着層が、請求項２〜１２のいずれか１項に記載の粘着層であることを特徴とする光学フィルタ。
15. 透明フィルムの金属導電層が設けられていない表面に反射防止膜が設けられている請求項１３又は１４に記載の光学フィルタ。
16. 透明フィルムの金属導電層が設けられていない表面に、反射防止膜を有する別の透明フィルムが、金属導電層を持たない表面と反射防止膜を持たない表面が対向した状態で、粘着層を介して接着されている請求項１５に記載の光学フィルタ。
17. さらに近赤外線吸収層を有する請求項１３、１５及び１６のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
18. 反射防止膜が、近赤外線遮蔽機能を有する請求項１３、１５及び１６のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
19. 粘着層上に剥離シートが設けられている請求項１３〜１８のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
20. 反射防止膜上に、保護層が設けられている請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
21. プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
22. 請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
23. 請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。

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