TW201105406A - Systems and methods for processing CO2 - Google Patents

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201105406 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本申請案主張下列申請案之權益，以下申請案均以引 用的方式併入本文中： 2009年3月10日申請之發明名稱為、、Liquid Absorption of Gaseous pollutants Using a Flat Jet Reactor” 的美國暫時 專利申請案第61/158,992號； 2009年4月9日申請之發明名稱為、、Apparatus，Systems, and Methods for Treating Industrial Waste Gases"的美國暫 時專利申請案第61/168，166號； 2009年5月14曰申請之發明名稱為'Apparatus, Systems，and Methods for Treating Industrial Waste Gases” 的 美國暫時專利申請案第61/178,475號； 2009年7月24日申請之發明名稱為'Apparatus， Systems, and Methods for Treating Industrial Waste Gases"的 美國暫時專利申請案第61/228,210號； 2009年7月30日申請之發明名稱為、、Apparatus, Systems, and Methods for Treating Industrial Waste Gases” 的 美國暫時專利申請案第61/230,042號； 2009年9月2曰申請之發明名稱為、、Apparatus, Systems, and Methods for Treating Industrial Waste Gases” 的美國暫 時專利申請案第61/239,429號； 2009年5月14日申請之發明名稱為v、Methods and Apparatus for Contacting Gas and Liquid"的美國暫時專利 201105406 申請案第61/178,360號； 2009年6月29日申請之發明名稱為Gas-Liquid-Solid Contactor and Precipitator: Apparatus and Methods77 的美國 暫時專利申請案第61/221,457號； 2009年6月30日申請之發明名稱為、、Gas, Liquid, Solid Contacting: Methods and Apparatus” 的美國暫時專利申請案 第 61/221,631 號； 2009年7月7日申請之發明名稱為、、Gas, Liquid，Solid Contacting: Methods and Apparatus” 的美國暫時專利申請案 第 61/223,657 號； 2009年12月23曰申請之發明名稱為''Gas, Liquid， Solid Contacting: Methods and Apparatus^ 的美國暫日寺專方>J 申請案第61/289,657號； 2010年2月19曰申請之發明名稱為、、Apparatus, Systems, And Methods For Treating Industrial Waste Gases^ 的美國暫時專利申請案第61/306,412號；及 2010年3月5日申請之發明名稱為、、Apparatus，Systems, And Methods For Treating Industrial Waste Gases” 的美國暫 時專利申請案第61/311,275號。 【先前技術】 二氧化碳及許多其他大氣污染物（譬如NOx、SOx、 揮發性有機化合物（、、V0C〃）、及微粒物質）之最集中的點 來源為生產能量的動力廠，特別是藉由燃燒碳基燃料來生 產其動力的動力廠（譬如燃煤動力廒）。考慮到世界能量需 4 201105406 求意料中會增加，且儘管非碳基能量源持續成長，二氧化 碳及碳基燃料之其他燃燒產物的大氣濃度意料中還是會提 高。因此’針對減少二氧化碳及其他大氣污染物之排放的 技術’對使用碳基燃料的動力薇是特別有吸引力的地方。 關於減少來自動力廠廢料流的二氧化碳及其他大氣污 染物之排放的嘗試已生產許多不同技術，其中大多數需要 輸入極大能量以克服與隔離及集中擴散氣態物質有關的能 量。此外，當前技術及相關設備之效率不佳且成本過高。 因此，重點是要開發一種能夠藉由以一穩定形式封存 (sequestering)二氧化碳及其他大氣污染物或將二氧化碳 氣㈣物轉化成高價值產物的方式從氣態廢料流 去除大里-魏碳及其他大氣污染物的 鑑於以上，今存在對於古4 α η」叮仪仍 甘从m 於有效且經濟地封存二氧化破及 其他大軋巧氷物之糸統及方法的頻 【發明内容】 而衣0 你一兰員她例甲，本發明 成分轉移成-液體的裝置m—，用於將—氣體之一 用以接觸該液體及氣體的腔广二氣體人σ 經配置 置的第-導液單元及—位^如二於該腔室内一第一位 液單元’其中該等導液單元細^、—第二位置的第二導 内以與該氣體接觸；-經將該液體導入該腔室 該液體的貯器；一用於已=已與該氣體接觸之 其中該入π、該腔室、該=接觸之該液體的出口 ’ 被可操作地連接；及下列牿文早π、該貯器、及該出口 至之至少一者：i)該腔室内至少 201105406 —陣列之分流棚列（shed rows )，其中該等分流棚列經配置 用以使該氣體在進入該腔室時重新分布其流動致使該氣體 相較於進入該腔室後、與該等分流棚列交互作用之前的氣 體流係沿該腔室轴向地流動於該腔室之一更大橫截面區域 上；ii)一經配置用以減少該貯器内之發泡的消泡裝置；m) 用於將該液體泵運通過該等導液單元之每個導液單元至少 一泵浦；iv)該等導液單元之組態致使該液體離開該第一單 兀之流動方向不同於該液體離開該第二單元之流動方向； V)—或多個限流孔機構（放洩閥），其經配置用以將液流引 導至該等導液單元之至少一者、該氣體入口内、或其等之 :組合；及vi)改變受該等導液單元覆蓋的區域，其申該等 導液單元包括生產喷霧的霧化單元，其中至少一霧化單元 經，置用以生產-角度不同於其他霧化單元的喷霧。在一 些實施例中，該裝置包括該等特徵之至少二者。在一此 施例令，該裝置包括該等特徵之至少三者。在一:

St包括該等特徵之至少四者。在-些實:例中 «置包括該等特徵之至少五者。在—些 i 置包括該等特徵之全部。在一些:▲」中，该裝 配置用以接& # ~ '丨中，該氣體入口經 配置用以接^業廢氣、絲環境空氣 超臨界二氧化碳、或以上之任何組合。在—、 化碳、或以上之任何組合事 二氧化碳、氧化氮及氧切之 j中’該氣體包括 該第-導液單元係定位在該氣體人方在了實施财’ 万之最下層且經定 6 201105406 向將該液體流以一與氣體流之方向大致共流的方向導入該 腔室内。在一些實施例中，.該第二導液單元經定向將該液 體流以一與氣體流之方向大致逆流的方向導入該腔室内。 在一些實施例中，該第一導液單元、該第二導液單元或二 者包括喷嘴。在一些實施例中，該等喷嘴包括雙流體喷嘴。 在一些實施例中，該等喷嘴包括喷射喷嘴。在一些實施例 中，該等泵浦之至少一者係被一變頻驅動組控制。在一些 實施例中，該消泡裝置包括一安置在該貯器上方的圓錐 體。在一些實施例中，該消泡器件進一步包括經定向朝向 該圓錐體的液體喷霧。在一些實施例中，該裝置進一步包 括一液體再循環迴路，該液體再循環系統經配置用以將該 液體從該貯器導往該等導液單元其中之一或多者。在一些 實施例中，該裝置進一步包括一在該氣體離開該接觸室之 前的除霧層。在一些實施例中，該除霧層包括一山形除霧 器、平射喷霧、一濕式靜電沈澱器、填充床、或以上之任 何組合。在一些實施例中，提供給該除霧層之液體包括一 不同於提供給該等導液單元之液體的溶液。在一些實施例 中，提供給該除霧層之液體係一清澄溶液。在一些實施例 中，提供給該等導液單元之液體包括一漿料。在一些實施 例中，該裝置進一步包括一粉碎站，其經配置以接受來自 該貯器之漿料並提供經處理的漿料給該等導液單元。在一 些實施例中，該再循環迴路包括該粉碎站。在一些實施例 中，該貯器被定位在位於該接觸室底部之該等喷嘴的下 方。在一些實施例中，該裝置進一步包括一可操作地連接 201105406 至省接觸至的沈澱槽。在一些實施例中，該沈澱槽包括溫 度控制器、用於pH調整劑之添加的入口、攪拌器、用於晶 體生長劑的入口、用於晶體播種劑的入口、用於沈降劑的 用於凝t劑的入口、或以上之任何組合。在一此實 她例中，該裝置進一步包括一圩操作地連接至該沈澱槽的 沈澱物出口。在—些實施例中，該沈澱物出口收集一固體 沈灰物及一上澄溶液。在一些實施例中，該沈殿物出口從 °亥上澄溶液分離出固體沈殿物。在一些實施例中，該裝置 進一步包括一導管以提供該固癯沈澱物至一建築材料製造 站。在一些實施例中，該氣體八口經配置以接受一來自一 工廠的廢氣。在一些實施例中，該氣體入口經配置以接受 一來自一燃燒化石燃料之工廠的煙道氣。在一些實施例 中’該氣體入口經配置以接受〆來自一燃燒化石燃料之工 廠的煙道氣，進一步其中該煙道氣在被提供至該裝置之氣 體入口之前已通過一排放控制系統。在一些實施例中，該 排放控制系統包括以下之一或多者：i)用於收集微粒物質之 靜電沈搬器；ii) SOx控制技術；iii) NOx控制技術；iv)用 以收集微粒物質之物理過濾技術；或v)汞控制技術。在一 些實施例中’該等霧化單元之喷霧包括該接觸室之壁附近 乙Λ 0 二之噴霧及在該接觸室之内橫截面中90。之噴霧。在一些 實施例中’該氣體越過該等分流棚列之流動係垂直的。在 一些實施例中，該裝置進一步在該腔室内包括填充材料、 托盤、一填充床、或以上之任何組合。在一些實施例中， 該楚置進一步在該腔室内包括至少一膜或一微孔膜。 8 201105406 在—些實施例中，本發明提出一種裝置，其包含—包 含一氣泡柱的吸收器；一用於一工業氣體且可操作地連接 至該吸收器的入口，其中該工業氣體包含數量等於一時間 平均之原始組合物的C〇2、SOx、NOx、重金屬、非c〇2 酸性氣體、及/或飛灰；一用於一吸收性溶液的入口，其中 δ亥吸收性溶液包含一包含一鹽水的驗性溶液、微粒物質或 在一吸收性漿料内之二者；一用於一流出氣體的出口，該 氣體特徵在於其相對於該工業氣體之該原始組合物在c〇2 以及SOx、NOx、重金屬、非C〇2酸性氣體、及/或飛灰之 至少一者中被耗乏，其中該出口可操作地連接至該吸收 器；一用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地 連接至該吸收器的出口；及一可操作地連接至輸出埠的處 理站，其中該處理站經配置用以獲取下列可販售產物之至 少一者：一包括一 C〇2封存成分的建築材料，一脫鹽水， 一飲用水，一包括一 c〇2封存成分的漿料，或一包括一 c〇2 封存成分的溶液，其中該氣泡柱經配置用以在該吸收性溶 夜内生產該工業氣體之氣泡致使該工業氣體中之二氧化碳 的至少10重量％被轉移至該吸收性溶液。在一些每施例 中，。本發明提出-種裝置，其包含—包括—鼓泡^的吸 益’-用於-工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入 口 ’其中該工業氣體包括數量等於一時間平均之原始組入 t C〇2、SOx、N0X、重金屬、非c〇2酸性氣體二^ ^用於—吸收性溶賴人口，其巾該吸收性溶液包 括-包括-鹽水的鹼性溶液、微粒物質或在—吸收性喷料 201105406 内之一者；一用於一流出氣體的出口，該氣體特徵在於其 相對於該工業氣體之該原始組合物在C02以及SOx'NOx、 重金屬、非C〇2酸性氣體、及/或飛灰之至少一者中被耗乏， 其中δ亥出口可操作地連接至該吸收器；一用於已與該工業 iL 才套負§ '无嗎之吸收性溶液且可操作地連接至該吸收器的出 Q J ΤΎ _ 么一 可操作地連接至輸出埠的處理站，其中該處理站 置用以獲取下列可販售產物之至少一者：一包括一 co2 成刀的建築材料，一脫鹽水，一飲用水，一包括一 co2 該料’或—包括—cc>2封存成分的溶液，其中 二丨4讀配置用以在該吸收性溶液内生產該工業氣體 移:該氣:中之:氧化碳的至少10重量賴 置，1勺人一液在—些貫施例中，本發明提出一種裝 且可操二 吸收器;-用於-工業氣體 數量笼及收益的入口，其中該工業氣體包含 全屬韭r曰平均之原始組合物的c〇2、SOx、ΝΟχ、重 复屬、非（：02酸性氣體、 里 的入η ^ 及/或飛灰；一用於一吸收性溶液 在-吸收性聚嫩-鹼性溶液、微粒物質或 氣體特徵在於其相對流出氣體的出口，該 以及SOx、Ν〇χ、重金ί 4賴之該原始組合物在C〇2 至少-者中被耗乏，：中二=生氣體、及/或飛灰之 器；— I #、中5玄出口可操作地連接至該吸收 連接至該吸收器1；出ί氣ft吸收性溶液且可操作地 理站’其中該處理站趣配地連接至輸出皡的處 配置用以獲取下列可販售產物之至 201105406 少一者：-包括-co2封存成分的建築材料，—脫鹽水， -飲用水’-包括-〇32封存成分的毅料，或—包括:⑽ ^存成分的溶液，其中該喷霧塔經配置㈣在該體 2該吸收性溶液之噴流、液滴或二者之—組合致使該 =氣體中之二氧化碳的至少1G重量％被 : 進步其中該喷霧塔經配置用以在—介於5;及_ = 尺的液體流率對氣體流率比 ¥ 呆 些實施例中，本發明提出一種裝 二公、包含-吸收器，該吸收器包括一喷霧塔、填充材料、 二填充床、托盤、分流棚列、或—多微孔膜之至少一者. :用於：工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入口，立 c〇'工δΓ:包含ί量等於—時間平均之原始組合物的 =SQX、職、重金屬、非叫酸性㈣ ^於一吸收性溶液的人口，其中該吸收性溶液包含一驗 I谷液、微粒物質或在—吸收性 =體的出口’該氣體特徵在於其相對於;工：之 以及S0x、ΝΟχ、重金屬、非⑽酸 二;===::耗乏，其中該出口可操 性溶液且可操作地連接至該吸===接觸之= 連接$銓山抬久叹态的出口，及一可操作地 列可販售產物之is者其中:處理站經配置用以獲取下 材料，-脫鹽水，一飲;水:：COc2=^ 料，志一 4 t 匕括一 C〇2封存成分的漿 ’ ^ 一 C〇2封存成分的溶液，其中該吸收器經配 201105406 置用以在該工業氣體中生產該吸收性溶液之喷流、液滴或 二者之一組合致使該工業氣體中之二氧化碳的至少10重量 %被轉移至該吸收性溶液，進一步其中該吸收器經配置用 以在一介於50與5,000加侖每分鐘/1000實際立方英尺的液 體流率對氣體流率比（L/G比）下操作。在一些實施例中， 本發明提出一種裝置，其包含一吸收器，該吸收器包括一 喷霧塔、填充材料、一填充床、托盤、分流棚列、或一多 微孔膜之至少一者；一用於一工業氣體且可操作地連接至 該吸收器的入口，其中該工業氣體包含數量等於一時間平 均之原始組合物的C〇2、SOx、NOx、重金屬、非C〇2酸性 氣體、及/或飛灰；一用於一吸收性溶液的入口，其中該吸 收性溶液包含一驗性溶液、微粒物質或在一吸收性漿料内 之二者，其中該驗性溶液包括一鹽水、一清澄溶液、或二 者之一組合；一用於一流出氣體的出口，該氣體特徵在於 其相對於該工業氣體之該原始組合物在C02以及SOx、 NOx、重金屬、非C02酸性氣體、及/或飛灰之至少一者中 被耗乏，其中該出口可操作地連接至該吸收器；一用於已 與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地連接至該吸收 器的出口；及一可操作地連接至輸出埠的處理站，其中該 處理站經配置用以獲取下列可販售產物之至少一者：一包 括一 C02封存成分的建築材料，一脫鹽水，一飲用水，一 包括一 C02封存成分的漿料，或一包括一 C02封存成分的 溶液，其中該吸收器經配置用以在該工業氣體中生產該吸 收性溶液之喷流、液滴或二者之一組合致使該工業氣體中 12 201105406 之二氧化碳的至少ίο重量％被轉移至該吸收性溶液。在一 些實施例中，本發明提出一種裝置，其包含一吸收器，該 吸收器包括一喷霧塔、填充材料、一填充床、托盤、分流 棚列、或一多微孔膜之至少一者；一用於一工業氣體且可 操作地連接至該吸收器的入口，其中該工業氣體包含數量 等於一時間平均之原始組合物的C02、S0x、N0x、重金屬、 非C02酸性氣體、及/或飛灰；一用於一吸收性溶液的入口， 其中該吸收性溶液包含一鹼性溶液、微粒物質或在一吸收 性漿料内之二者，其中該鹼性溶液包括一鹽水；一用於一 流出氣體的出口，該氣體特徵在於其相對於該工業氣體之 該原始組合物在C02以及SOx、NOx、重金屬、非C02酸 性氣體、及/或飛灰之至少一者中被耗乏，其中該出口可操 作地連接至該吸收器；一用於已與該工業氣體接觸之吸收 性溶液且可操作地連接至該吸收器的出口；及一可操作地 連接至輸出埠的處理站，其中該處理站經配置用以獲取一 可販售產物，其中該吸收器經配置用以在該工業氣體中生 產該吸收性溶液之噴流、液滴或二者之一組合致使該工業 氣體中之二氧化碳的至少10重量％被轉移至該吸收性溶 液。在一些實施例中，用於一工業氣體的該入口經配置用 以接受工業廢氣、燃燒煙道氣、水泥窯煙道氣、壓縮二氧 化碳、超臨界二氧化碳、或以上之任何組合。在一些實施 例中，該吸收性溶液與該工業氣體接觸致使該吸收性溶液 被呈現為液滴、細流、液柱、喷射流、液體灘流、中性漂 浮溶液雲、或以上之任何組合。在一些實施例中，該裝置 13 201105406 音波嘴霧哭 助噴4器，空氣鼓風噴霧器，超 哈*的 、土式噴霧态，微機電系統噴霧器，靜電六、 噴務益，雙流體噴霧器，排洩噴 电式 :-些實施例中，吸收性溶 水括：二:: 鹽水、-富含陽離子的鹽水，-合成鹽水=錢:性 =廢=，或以上之任何組合。在一些實施例中，該 再循環系統。在-些實施例中，該再循 包括導管及泵浦以將已與該工業氣體接觸的吸收性 2攸用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液的該出口、 厂理站或二者移到祕讀性溶㈣該入。、該等霧化 或以上之任何組合。在—些實施例中，該再循環系 =括導管及豕浦以將〇)2中減少的氣體從用於流出氣體 =出口移到用於卫業氣體的該人口、該等氣泡柱、鼓泡 各态、或以上之任何組合。 在些貫施例中，本發明提出一種可操作地連接至一 動2廠的排放控制系統，其中該動力廠生產能量及一包含 P虱，碳的工業廢氣，其中該排放控制系統經配置用以從 3亥廢氣吸收至少50%之二氧化碳且經配置使用少於該動力 廠生產之能量的30%。在一些實施例中，本發明提出一種 可操作地連接至一動力廠的排放控制系統，其中該動力廠 生產能量及一包含硫氧化物的工業廢氣， 系統經配置用以從該廢氣吸收至少90%之;:二= 置使用少於該動力廠生產之能量的30%。在一些實施例 201105406 中，本發明提出-種可操作地連接至—動力廠的排放控制 系統，，其㈣動力薇生產能量及—包含二氧化碳和氧化硫 的工業廢氣’其中該排放控制系統經配置用以從該廢氣吸 收至少5G%之二氧化碳及至少啊之氧化硫，且其中該排 放控制^紐置使时於軸力触產之能量的3〇%。 在-些貝施例中，該排放控制系統經配置用以從該動力薇 接又工業廢氣之至少在—些實施例巾，該排放控 制系統經配置用以從—經配置生產—苛性驗溶液的電化學 系統接文一鹼性溶液。在一些實施例中，該電化學系統包 括一陽極、一陰極、及在該陽極與陰極之間的至少—個離 子選擇膜。在-些實施例中，該電化學系統經配置用以在 橫跨該陽極與該陰極之間施加之一 28 V或更低的電壓下 操作。在一些實施例中，該排放控制系統經配置用以接受 一 pH調整劑，其中該pH調整劑包括一工業廢料、—自然 發生pH調整劑、一產製pH調整劑、或以上之任何組合。' 在一些實施例中，該排放控制系統經配置用以在—範圍介 於5與5,000加侖每分/1000實際立方英尺每分鐘的液體流 率對氣體流率比（L/G比）下操作。在一些實施例中，該 系統經配置用以在一範圍介於100與5〇〇加侖每分鐘 實際立方英尺每分鐘的液體流率對氣體流率比（l/g比 下操作。 ^本發明提出包括一沈澱反應器的系統，該沈澱反應器 f用於生產一包括一沈澱產物的流出物，該沈澱產物包括 碳酸鹽、碳酸氫鹽或二者之一組合，該沈澱反應器可操作 15 201105406 地連接至一液固分離裝置以從該沈澱反應器流出物集中該 沈澱產物。 在液固分離裝置之一版本中，該液固分離裝置包括一 折流，，該折流板經安置致使在作業中該折流板使該沈澱 反應器流出物偏轉致使沈澱產物下降至該液固分離裝置之 7下部區域且上澄液上升並離開該液固分離裝置。在液固 裝置之另一版本中，該液固分離裝置包括一螺旋通道，該 螺方疋通道經配置用以將流出物從該沈澱反應器導入該螺旋 通道中流動導致該沈澱產物基於一上澄液之尺寸和質量及 產出而集中。此處所述系統之液固分離裝置包括一能夠從 沈澱站收集沈财物之50%至1QQ%、75%至⑽％、或 95%至100%的沈殿產物收集器。此外，液固分離裝置能夠 處理來自该沈澱站之1〇〇公升/分鐘至2〇,〇〇〇公升/分鐘、 5000公升/分至20,〇〇〇公升/分鐘、或1〇 〇〇〇公升/分鐘至 20,000公升/分鐘的流出物。 此處所述系統之沈澱反應器可包括一進料反應器及沈 氣站。§玄進料反應器係能夠從一工業廢氣流去除此 外，該進料反應器可為能夠從工業廢氣流去除s〇x、N〇x、 重金屬、微粒物質、VOC、或以上之一組合當中之—或多 者。該進料反應器包括一耦接於一水源的平射喷嘴，其中 該平射喷嘴經轉換用以形成一使一包括C〇2之氣態廢料流 與來自該水源之水接觸的平射流。包括C〇2的該氣態廢料 流係一來自一燃燒碳基燃料、煅燒過的材料、或二者之— 組合之工廠的廢料流。由該水源提供的水可含有驗土金屬 201105406 離子；在此等情況中該水源可為從淡水、微鹹水、海水、 及鹽水組成之群中選出。該沈澱站可操作地連接至一 pH調 升劑之來源。該pH調升劑可包括灰燼、氧化物、氫氧化物、 或碳酸鹽類。該沈澱站經轉換以生產包括碳酸鹽、碳酸氫 鹽、或二者之一組合的沈殿產物。 此處所述系統可進一步包括電化學元件。該電化學元 件可經配置用以從充電站、沈澱站、或充電站及沈澱站二 者去除質子。 本發明亦提出包括一動力廠的整合式系統，該動力廠 燃燒碳基燃料以生產一包括二氧化碳的廢氣流且可操作地 連接至一廢氣處理系統。該廢氣處理系統包括一用於生產 一流出物的沈澱反應器，該流出物包括一包含碳酸鹽、碳 酸氫鹽或二者之一組合的沈澱產物，該沈澱反應器可操作 地連接至一液固分離裝置以從該沈澱反應器流出物集中該 沈澱產物。在液固分離裝置之一版本中，該液固分離裝置 包括一折流板，該折流板經安置致使在作業中該折流板使 該沈澱反應器流出物偏轉致使沈澱產物下降至該液固分離 裝置之一下部區域且上澄液上升並離開該液固分離裝置。 在液固裝置之另一版本中，該液固分離裝置包括一螺旋通 道，該螺旋通道經配置用以將流出物從該沈澱反應器導入 該螺旋通道中流動導致該沈;殿產物基於一上澄液之尺寸和 質量及產出而集中。該廢氣流進一步包括SOx、NOx、重 金屬、VOC、微粒物質、或以上之一組合。 本發明亦提出方法，其包括使一來自一工廠包括二氧 17 201105406 化石反的亂態廢料流之部分或全部轉移至一沈澱反應器以生 產包括包含碳酸鹽、碳酸氫鹽、或二者之一組合之沈 =的w出物；且在—液固分離裝置中集中來自沈殿反 f器肌出物之沈澱產物。在液固分離裝置之-版本中，該 :出物在:亥液固分離裝置内被一折流板偏轉致使該沈澱產 x液固分離裝置之一下部區域且上澄液上升並離 流3::離裝置。在液固分離裝置之另-版本中’使該 尺+4二入一螺旋通道中導致該沈澱產物基於一上澄液之 二量及產出而集中。 達成二^用依據隨附申請專利範圍項之任一者的任何系統 Μ碳之方法。 L貫施方式】 提屮本t明之新穎特徵將在隨附申請專利範圍項中以特點 說明β二卜提出運用本發明原理之範例實施例的詳細 理解。及隨附圖式將會對於本發明之特徵及優點獲得更好 的系^發明提出關於有效率地接觸⑽物質、液體及氣體 體併人裴置及方法。本文呈現的實施例代表用於將一氣 聚料的—液ί或—㈣或二者内的方法及裝置。在呈現-分k点—些實施例中，該㈣係由—液體及—固體物質成 中。文φ，使固f物質存在於遍及該液體與該氣體的接觸 咬是〃併人.辭制曰氣體被溶解及/或吸收到液體内 内之作用係藉由最佳化接觸條件而達成。在本文實施 201105406 例中各樣及最佳化的條件包含：液體之溶液化性；液體之 表面積對體積比；液體或漿料與氣體（L/G)之流率比；及 液體與氣體間之接觸時間。氣體併入液體内的作用因為許 多理由而受到期望，其中一些理由在本文實施例中納入考 慮’這些理由包含但不限於一氣體流之一成分的去除（譬 如洗滌一煙道氣）及從一氣體與一液體間之一反應使一材 料有效率地沈澱（譬如細微固體微粒之生成）。 本發明之方法、裝置及系統可運用如下文進一步說明 之氣液或氣液固技術之組合。可運用將液體或聚料（亦即 吸收性溶液）被導入一氣體内的接觸方法，其中液體及/或 漿料係以液滴、射流或二者之一組合被導入。可運用將一 氣體被導入一液體或漿料（亦即吸收性溶液）内的接觸方 法’其中該氣體在該液體或漿料内生產氣泡或泡珠。在任 一情況中’參數可經最佳化以將二氧化碳以及S〇x、N〇x、 重金屬、非C〇2酸性氣體或飛灰之至少一者併入構成該吸 收性溶液之液體或漿料内。為促成此併入作用，可在本發 明之方法、裝置及系統中運用結構特徵譬如填充材料、填 充床、托盤、分流棚列、或膜（包含多微孔膜）。一旦一氣 體之期望成分已透過一吸收性溶液與該氣體間之接觸而併 入該溶液内，該已接觸溶液可藉由一不讓從該氣體去除的 成分有可能釋入地球大氣内的適宜手段處置。另一選擇， 該已接觸溶液可經受沈殿條件致使一固體沈殿物生$，且 此沈澱物及流出液可經進一步處理以回收可販售產物（壁 如飲用水、包括一 C〇2封存成分的建築材料）。 。 201105406 ^發明之方法、裝置及系統可為可應用於一排放控制 ^統中使—氣體與—吸收性溶液接觸，該排放控制系統可 刼作地連接至一動力廠，致使來自該動力廠的煙道氣（亦 即工業廢氣）含有二氧化碳、S0x、ΝΌχ、重金屬、非二氧 化碳酸性氣體，且在一些案例中含有飛灰。期望在使用少 畺5亥動力廠生產之能量、譬如該動力廠生產之能量的 向該排放控制系統供能的同時去除二氧化碳以及s〇x、 Ν〇χ、重金屬、非二氧化碳酸性氣體及一些案例中之飛灰 之至少一者。該排放控制系統涵蓋諸如但不限於以下活動 及組件：泵運及再循環吸收性溶液，再生或再裝填吸收性 溶液，循環煙道氣，去除包含飛灰和沈澱物的微粒物質， 及處置含有已從煙道氣去除的二氧化碳以及S〇x、Ν〇χ、 重金屬、非一氧化碳酸性氣體及一些案例中之飛灰之至少 —者的任何液體、固體或聚料。本發明之方法、裝置及系 統可取代其他排放控制系統或者可結合—動力廠可能已有 之既有系統使用，然而在一些實施例中，可能沒必要有獨 立的C〇2及SOx排放控制系統。 一呰實施例運用同時粉碎、粒徑減小及漿料之固體組 件與漿料之液體成分的混合。一些實施例包含在混合及減 小固體微粒之大小的同時與氣體接觸。粉碎（或粒徑減小） 可用來藉由加大可參與反應之固體之表面積以及藉由在漿 料每次通過粉碎步驟時暴露新的固體物質而改進漿料之固 體成分的反應度。粉碎作業可為利用會滅小固體微粒之尺 寸的任何適當裝置實現，其包含但不射磨機、螺旋 20 201105406 =任:ΓΓ合機，機、磨碎機、膠體磨機、咬 氣體二:前::些Π:施::作ί — 獅氣體初始接觸之後於再循環期間進行私在 例中，粉碎健係在_亦錢體接觸時且 ς， 前於一導管内用一螺旋輸送機進行。 - 至之 一些實施例運用高效率氣液接觸方法或裝置。 氣液接财法或裝置具有最魏接觸參數_加優胃^ 如.可供乳體併人液體内之作用進行的較大表./ 化性：助於氣體併入液體内之動力學；或是藉由在氣= 夜 入液體内的同時減緩流體流或增加液體及氣體行旦汗 長度的方式之一提供充分滯留時間。 路杈 高效率氣液接觸方法及裝置的用途其中之— 沈澱反應。氣液接觸器中之液體之溶液化性的變動j化 體將氣體併入的能力。在一些實施例中，液體（嬖如:液 性溶液、接觸混合物）之化性受影響使氣體更有^ 入。在一些實施例中，液體（譬如吸收性溶液、接併 物）之pH值需考慮到從氣體同時去除c〇2及:、 SOx。在-些實施财，液體（譬如吸收性溶液、接^及^ 物）之化性不需要一獨立的s〇2及/或s〇x去除步驟二5 不同於用以去除Cq2之方法或步驟的步驟）。在—疼餘二即 中，該液體之pH值範圍從pH4至pHl35。在一^蝴 中，該液體之pH值範圍從阳4 ^ρΗ11。在施例 中，該液體之pH值範圍從ρΗ 5至ρΗ 1〇。在—二會施例 二耳施例 21 201105406 t 5·5 ^ PH 9·5 ° 物影響。改變液體P::r至藉以生產液滴之溶液的劑 PH調升劑，微生物及真值:齊丄物包含但不限於：㈣ 人為廢成化學PH調升劑，回收的 人為廢枓流’及由電化學手段生產的鹼性溶液。 本文==:明::此一 文所用術語係僅為說明二I::且= 範圍將僅由隨㈣請專利範圍項 術語且33本1’明則文中所用所有技術性及科學性 同/、有與^本發明所屬技藝之人-般理解的意思相 定，應理解到除非上下文中明確指 間數值限與下限間之每-居 何其他明述或居間數值。這 範圍中之任 獨立地包含在該等較小範圍；且亦;和：限可被 所述範圍巾之任何明補外極限值盍，遵從 二广或二者，排除這些内含極限值 I巳圍亦被包含於本發明中。 考或一者的 式呈-辭的方 人、1 辭係為在此辭之後的與隈數 :::及-接近或近似此辭之後之數字的數字提== 支持。在狀-財Η接近或*—明销㈣，接近 22 201105406 數字之實質在其所屬上下文中提供該明確 本說明書中引、求 如同每一個別公開=所有公開案、專利及專利申請案均 指明為以引用之]、，專和或專利申請案經明確且個別地 式併入本文中。此，併=本文中將其完整内容以引用之方 請案均以引用之方每—引述的公開案、專利或專利申 開案有關的主，併入本文中以揭示及描述與所引述公 曰之前的内容日&何公開案的引述係針對其在本案申請 知發明之此望、不應轉為承認本發明不是早於本質為習 能不同於實名文中提供之公開曰期可 ^ ¥ 1日期，廷需要個別單獨確認。 中以^仙"到在本說明書及隨附申請專利範圍中，除非文 複數個明確規定，否則單數形、、及、、該"包含 除任。皮4者。更應理解到申請專利範圍項可被設計成排 =壬何任選元件。因此，此種表述係欲當作關於申請專利 ^圍項元件之列舉或—、、負面設限之使用的諸如、、僅僅、 僅有’及類似排外術語之使用的先行基礎。 如熟習此技藝者在閱覽本申請說明書之後所將理解， 文中所述及所示個別實施例每一者具有離散組件及特徵， 這些級件和特徵可輕易地與其他幾個實施例之任一者之特 徵分離或結合而不脫離本發明之範圍及精神。文中所述任 一方法可依所述事件之順序成依邏輯可行之任何順序執 行。儘管類似或等效於文中所述方法及材料的任何方法及 材料亦可用於本發明之實行或測試中，以下將說明代表性 23 201105406 範例方法及材料。 本發明之方法及系統通常可使用如以下化學反應概括 的製程： (1)含碳燃料源以液相、氣相或固相燃燒而形成氣態 二氧化碳： 〇 + 02(氣）4〇)2(氣） (2 )二氧化碳源與一水源接觸溶解二氧化碳得到二氧 化碳水溶液： co2 (氣）sco2(水溶液） (3) 溶於水的二氧化碳與含水碳酸建立平衡： co2 (水溶液）+ H20达H2C03 (水溶液） (4) 碳酸係一種弱酸，其在兩步驟中分解，其中平衡 狀態係部分地由溶液之pH值決定，一般而言pH值低於8 至9傾向碳酸氫鹽生成且pH值高於9至10傾向碳酸鹽生 成。在第二步驟中，可添加氫氧化物源以提高驗度： H2C03 + 2 H20 S H30+ (水溶液）+ HCO,（水溶液） HC03-(水溶液）+ ΟΗ·(水溶液）达H20 + C032_ (水溶液） 來自IIA族之元素金屬陽離子與碳酸鹽陰離子的反應形成 金屬碳酸鹽沈澱物： mx (水溶液）+ "co32- S Xw(C03)„ (固） 其中X是可與碳酸基或其多級體化學鍵結的任何元素或元 素組合，且m和η是化學計量正整數。 在進一步說明本發明時，首先詳細說明依據本發明之 實施例的C02封存方法。然後說明可用於實行本發明之方 24 201105406 法之各貫施例的糸統5 .生產的組合物。 接著是可利用本發明之方法及系統 C〇2封存方法 此等㈣:封存--工廠生產之氣態廢料流去 不再出現在經去除⑶2之環μ。 業從燃料之燃燒去除〇>2或防止c〇2釋入大氣中1㈣ 貫施例中’被封存的〇)2係呈包括碳酸鹽 ^ -溶液…包括沈㈣質之t = 物可包括 -或多種附加材料組合以供用於 =貝产疋與 來說’本發明之組合物可包括包含碳酸鹽化合物二::: 晶碳賴、方解石、叢石、球霞石等）的沈㈣非 在-些貫施例中’依據本發明之觀點的⑶作^ ’ 組合物（譬如包含碳酸鹽化合物之沈 二=產 合物中的碳至少部分源自人類使用的：：: 亥等組 料>本發明之C〇2封存方法從燃 產物，致使藉以產製此產物的 =穩定 存。儲存穩定cq2封存產物係—將某—量之被封 存穩定形式譬如-地上、水下、或地下儲存穋定2 ::儲 儲存穩定組合物，使得co2不再以大氣_之—氣體t的 提供。因此’ 〇)2依據本發明之方法的封存作防= 25 201105406 C〇2氣體進入大氣且允許以一使C〇2不會變成大氣之/邠 分的方式長期儲存C〇2。 本發明之方法的實施例包括小、中性或負的碳足跡方 法。本發明之碳中性方法包括具有一可忽略碳足跡或無破 足跡之方法。在負碳足跡方法中，因此等方法之實行而被 封存（譬如透過C02變成碳酸鹽之轉化）的C〇2重量大於 實行該等方法所生產（譬如透過動力生產、鹼生產等）的 co2重量。在一些實施例中，因實行該等方法而被封存的 co2重量超過實行該等方法中生產的^02重量至ι〇0 %，譬如 5% 至 100%，包含 10% 至 95%、10% 至 9〇% 10% 至 80%、10% 至 70%、10% 至 60%、10% 至 5〇% 10%至 40%、10%至 30%、1〇%至 20%、20%至 95%、 20% 至 90%、20%至 80%、20% 至 70%、20% 至 60%、 20%至 50%、20%至 40%、20%至 30%、30%至 95%、 30% 至 90%、30% 至 80%、30% 至 70%、30% 至 60%、 30% 至 50%、30% 至 40%、40% 至 95%、40% 至 90%、 40% 至 80%、40% 至 70%、40% 至 60%、40% 至 50%、 50%至 95% ' 50%至 90%、50%至 80%、50%至 7〇%、 50%至 60%、60¾至 95%、60%至 90%、60%至 80%、 60%至 70%、70%至 95%、70%至 90%、70%至 80%、 80%至95%、80%至90%、及90%至95%。在一些案例 中’藉實行該等方法而被封存的C〇2重量超過實行該等方 法中生產的C02重量5%或更多、10%或更多、15%或更 多、20%或更多、30%或更多、40%或更多、50%或更^、 26 201105406 60%或更多、70%或更多、80%或更多、90%或更多、或 95%或更多。 參照圖1之系統，本發明提出一種處理一二氧化碳源 (13 0 )並生產一包括碳酸鹽、碳酸氫鹽或碳酸鹽與碳酸氫 鹽之組合物的水基方法，其中該二氧化碳源除二氧化碳外 更包括一或多種附加成分。在此等實施例中，可取得二氧 化碳工業源，可取得一質子去除劑源（140)，且每一者可 被供給至處理器110以供處理（亦即經受用於產製包括碳 酸鹽、碳酸氬鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的適當條 件）。在一些實施例中，處理該二氧化碳工業源包括在一接 觸器譬如但不限於一氣液接觸器或一氣液固接觸器中接觸 該質子去除劑源以從一初始水溶液或漿料生產一富含二氧 化碳的組合物，此組合物可為一溶液或聚料。在一些實施 例中，包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的該 組合物可為在該接觸器中由該富含二氧化碳溶液或漿料生 產。在一些實施例中，該富含二氧化碳溶液或漿料可被供 給至一反應器，在該反應器内可生產包括碳酸鹽、碳酸氫 鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的該組合物。在一些實施例中， 該組合物係在該接觸器及該反應器二者中生產。舉例來 說，在一些實施例中，該接觸器可生產一包括碳酸氫鹽的 初始組合物且該反應器可由該初始組合物生產包括碳酸 鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的該組合物。在一些 實施例中，本發明之方法可進一步包括取得一二價陽離子 源，譬如鹼土金屬之二價陽離子（譬如Ca2+、Mg2+)。在此 27 201105406 等貝_巾’該二價陽離子源可被供給至該質子去除劑源 或直接供給至該處理ϋ。藉由該質子去除劑源、該二價陽 離子源或二者供給足夠的二價陽離子，則包括碳酸鹽、碳 酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的該組合物可包括孤= 沈澱物質（譬如CaC〇3、MgC〇3或以上之一組合物）。不管 得自遠處理器的組合物是否包括一可孤立沈殿物質，該組 合物可從該處理器直接（視情況經少量後期處理）用於建 築材料之製造。在一些實施例中，直接得自處理器（視情 況經少量後期處理）之包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸^ 與碳酸氫鹽的組合物可如2009年8月7日申請之美國暫時 專利申請案第61/232,401號所揭示被注入一地下場所，該 申請案以引用的方式併入本文中。 參照圖2至圖5之系統，本發明提出一種處理一二氧 化碳源（130)並生產一包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽 與碳酸氫鹽之組合物的水基方法，其中該二氧化碳源除二 氧化碳外更包括一或多種附加成分。除了如參照圖1所述 生產組合物外，本發明進一步提出處理包括碳酸鹽、碳酸 氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的方法。因此，在— 些貫施例中，本發明提出一種處理一二氧化碳源（130)以 生產一包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的組 合物並處理該製得組合物的水基方法。不管本發明之—處 理器製得組合物是否包括一可孤立沈澱物質，該組合物可 被直接供給至本發明之一處理系統以供處理（譬如集中、 過;慮痒）。在一些實施例中，該組合物可為從一接觸器、— 28 201105406 反應器、或該處理器之一沈降槽直接供給至該處理系統。 舉例來說，-不含-可孤立沈澱物f的處理器製得組合物 可被直接供給至一處理系統以集中該組合物及生產一上澄 液:在另-非限制實例t…包括-可孤立沈殺物質的= 理态製得組合物可被直接供給至一處理系統以進行液固分 離。該處理器製得組合物可被供給至多種處理系統子系統 之任一者，此等子系統包含但不限於脫水系統、過濾系統、 或脫水系統結合過濾系統，其中處理系統或其—子系統使 上澄液與該組合物分離以生產一濃縮組合物（譬如該濃縮 組合物在碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽方面係 較為濃縮的）。 ’' 參照圖3之系統，在一些實施例中，本發明提出一種 使用來自一工業廢氣流的c〇2填入一溶液内以生產一包括 碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的方法。 在此等實施例中，該溶液在被填以c〇2之前可具有pH 6 5 至pH 14.0範圍内之一阳值。在一些實施例中，該溶液在 被填以C02之前可具有至少pH 6 5、pH 7 〇、pH 7 5、阳 8.0、pH 8.5、pH 9.0、PH 9.5、ΡΗ 10·〇、ΡΗ10·5、pH u.〇、 pH 11.5、pH 12.0、ρΗ 12.5、ΡΗ 13·〇、pH 13.5、或 ΡΗ 14.0 之一 pH值。該溶液之pH值可利用任何適宜方法提高，此 等手段包含但不限於質子去除劑及實現質子去除之電化學 方^的使用。在-些實施例中，可在用c〇2填人該溶液内 之刖可利用質子去除劑提高該溶液之pH值。此等質子去除 劑包含但不限於氫氧化物（譬如Ν_、κ㈤及碳酸鹽 29 201105406 (譬如Na2C〇3、K2C03)。在一些實施例中’利用氫氡化納 提高該溶液之pH值。因此，在一些實施例中’本發明提出 一種使用來自一工業廢氣流之C〇2填入一鹼性溶液（譬如 pH值〉pH 7.0 )内以生產一包括破酸鹽、峡酸氩鹽、或碳 酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的方法。 在一些實施例中，視該溶液被填以C〇2之時該溶液内 可用的陽離子而定，使用來自一工業廢料源之C02填入該 鹼性溶液内而得到的組合物（亦即包括碳酸鹽、碳酸氣鹽、 或碳酸鹽與碳酸氫鹽的溶液）可為一漿料或一大致清澄溶 液（亦即大致沒有沈澱物質’譬如至少95%或更大部分沒 有沈澱物質）。如本文所述，在一些實施例中，該溶液在被 填以C〇2之時該溶液可包括譬如Ca2+、Mg2+或二者之一組 合的二價陽離子。在此等實施例中，所得組合物可包括造 成一漿料的二價陽離子之碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與 碳酸氫鹽（譬如沈澱物質）。此等漿料舉例來說可包括 ^aC03、MgC03、或二者之一組合。在一些實施例中，該 溶液可在被填以C〇2之時包括不足以形成_包括碳酸鹽、 碳酸f鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之H料的二㈣離子。在 此專貫施例中，所指_ 4日人私+ 、 致沒有沈殿A料澄雜（亦即大 被填以CO之拉S 〇至少95%或更大部分沒有沈澱物質） 碳酸鹽與碳錢rn，括碳酸鹽、碳_鹽、或 致清澄溶液被“ 中，舉例來說，在該大 譬如Na+、K+、或二去時於該溶液中可存在一價陽離子 一考之一組合（視情況因添加Na〇H及/ 30 201105406 或KOH而有）。由使用C〇2填入此一溶液内而獲得的組合 物舉例來說可包括一價陽離子之碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳 酸鹽與碳酸氫鹽。 因此，在一些實施例中，本發明提出一種使用來自一 工業廢氣流之C02填入一鹼性溶液（譬如pH值>15][^ 7 〇) 内以生產一包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽 之組合物的方法，其中該組合物係大致清澄（亦即大致沒 有沈澱物質，譬如至少95%或更大部分沒有沈澱物質）。隨 後可使該大致清澄組合物與一二價陽離子源（譬如Ca2+、 Mg或二者之一組合）接觸以生產一包括二價陽離子之碳 酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽造成一漿料的組= 物。如前所述，此等漿料可包括CaC〇3、MgC〇3、或二^ 之一組合，其可如本文所述被處理。在一非限制實例中， 一包括NaOH的鹼性溶液（譬如使NaOH溶解於缺乏有饮 二價陽離子的淡水中）可在一氣液接觸器中與來自—工業 廢氣流的C〇2接觸以生產一包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、戋^ 酸鹽與碳酸氫鹽之組合物，其中該組合物因為缺乏沈澱= 質而為大致清澄，而缺乏沈澱物質的原因是因為缺乏有欵 二價陽離子。視C〇2 (及NaOH，如果有的話）的添加量而 定’該大致清澄組合物可包括]SfaOH、NaHC03及/戈 NaiCO3。該大致清澄組合物隨後可在該氣液接觸器外之一 反應器中與一二價陽離子源（譬如Ca2+、Mg2、Sr2+、及類 似物）接觸以生產一包括二價陽離子之碳酸鹽、碳酸氫鹽: 或碳酸鹽與碳酸氫鹽（譬如沈澱物質）造成一漿料的！^合 31 201105406 物。因此，組合物可包括CaC〇3及/或MgC〇3且士会 可如本文所述被處理。舉例來說，該組合物^經=組合物 離且將固體製造成水泥、具膠結性的輔料、細极=文液固分 粗粒料、混凝土、石夕灰、或以上之一组合^ ' 灰/尼、 參照圖4和圖5之系統，本發明亦提出處理—_ 碳源〇3〇)並生產一包括碳酸鹽、碳酸氫醆、一氧化 碳酸氫鹽之組合物的水基方法，1中該_ ^攻碳酸鹽與 化碳外更包括一或多種附加成分，且其申處理蛟源除二氧 之至少-部分被再循環。舉例來說，在統上澄液 發明提出-種方法，其在—處理器中處理 &例中，本 情況包括S〇X、Ν0χ及/或Hg之廢氣流以生C〇2且視 氣流（譬如-適合釋人環境中的乾淨氣流處理廢 鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之心物I括碳酸 物，其中該流出物之至少—部分被再循環卢及—流出 圖4和圖5所示，來自該處理系統（其可包==器:如 及-過遽系統）的上澄液可以多種方式再循環^系統 -些實施例中，來自脫水系統、過濾系統、或脫二:f 過滤系統之-組合的上澄液之至少—部分 理，、 叫該上澄液可被供給至一二氧化碳處理 益二在此等實施例中’該上澄液可被供給至—接觸器（馨 如軋液接觸器、氣液固接觸器）、至一反應器、至接觸器^ 心器之組合、或至用於處理二氧化碳之任何其他單元 或I元組合。此外，在一些實施例中，來自該處理系統之 上澄夜的至少—部分可被供給至一清洗系統。在此等實施 32 201105406 例中，該上澄液可用來清洗本發明之組合物（譬如包括 CaC〇3、MgC〇3、或二者之一組合的沈澱物質）。舉例來說， 该上澄液可為用來從碳酸鹽基沈澱物質洗掉氣化物。參照 圖5’該處理系統上澄液之至少一部分可被供給至一電化學 系統。因此，處理系統上澄液可被用來生產質子去除劑。 或對於二氧化碳之處理作業進行質子去除。在一些實施例 中，來自該處理系統之上澄液的至少一部分可被供給至一 不同系統或製程。舉例來說，該處理系統上澄液之至少一 4刀可被供給至一脫鹽廠或脫鹽製程致使該處理系統上澄 液（其比起其他可用進料譬如海水、鹽水等在用於處理二 氧化碳之後通常較軟’亦即Ca2+及/或Mg2+的濃度較低）可 經脫鹽當作飲用水。 處理系統上澄液之再循環的好處在於再循環提供可用 貧源之有效率應用；周遭環境之擾動最小化；及減小能量 要求，此等減小的能量為本發明之系統及方法有較小碳足 跡作準備。當本發明之一二氧化碳處理系統可操作地連接 至一工廠（譬如燃燒化石燃料的動力廠，例如燃煤動力廠） 並使用該工廠生產的動力時，處理系統上澄液之再循環所 提供的減小能量要求提供一減小的能量需求。當以百分率 表達時，一已知製程、裝置或系統的能量需求為該製程、 裝置或系統消耗的能量相對於該製程、裝置或系統所連接 或服務之動力廠的總輸出。諸如圖2所示並非配置用於再 循環的一二氧化碳處理系統（亦即經配置用於一次通過製 &的二氧化碳處理系統）可能對動力廠有至少10%的能量 33 201105406 需求歸因於將—新鮮驗性源（譬如海水、鹽水）連續泵運 至系統内。在此一實例中，一 100 MW的動力廠（譬如燃 煤動力廠）必須將1〇 Mw的動力專用於二氧化碳處理系統 以將一新鮮鹼性源連續泵運至系統内。相較之下，諸如圖4 或圖5所示經配置用於再循環的一系統可能對工廠有低於 10%譬如低於8%的能量需求，包含低於，例如低於4 %或低於2%，此能量需求可為歸因於泵運補給水及再循環 上澄液。當與經設計用於一次通過製程之系統作比較時， 經配置用於再循％的一氧化碳處理系統在能量需求方面顯 出至少2%譬如至少5%的減量，包含至少1 〇%，例如至少 25%或至少50%。舉例來說，若經配置用於再循環的二氧 化碳處理糸統’肖耗9 MW之動力來泵運補給水及再循環上 澄液，且經設計用於—次通過製程的二氧化碳處理系統消 耗10MW蹄-------------丘川幵调環的二氧 %。舉例來說，若經配置用於再循環的二氧化 有15%能量需求且經設計用於—次通過製程的 理系統顯出10%之能量需求減量。就諸如圖4和圖5所 之系統（亦即經配置用於再循環之二氧化碳處理系统） 說，歸因於泵運及再f環之能量需求的減量亦可提供總 量需求的減量，特別是與經配置用於-次通過製程的二 化碳處理系統作比較。在一些實施例中，再循環提: 化碳處理祕之總能量需求的減量，其巾當與經配置^ 一次通過製程的二氧化碳處理系統作比較時其減旦 2%譬如至少4%，包含至少6%，例如至少至 %。舉例來說，若經^置用於再摘環的二氧化碳處理系 氧化碳 34 201105406 理系統有20%能量需求，則經配置用於再循環的二氣化妒 處理系統顯出5%之總能量需求減量。舉例來說，一經配= 用於再循裱的二氧化碳處理系統相較於經配置用於一 ，製㈣—氧化碳處理系統可能具有至少2%譬如至少= ^ ’包含至少6%，例如至彡8%或至少、1〇% 一 八 循衣係包括通過一過濾單元譬如奈米過溏 如使阻留物中之二價陽離子集中且使通透物中 價陽離子減少）的過據作業。 、 可葬ίί明之二氧化碳處理方法、裝置及系統的能量需求 :有效率地使用其他資源; 例中，本發明夕_发，， π —貫知 率地使用來自碳；理系統的能量需求可藉由有致 中，舉例來說，可：trr步減小。在一些實施例 自燒煤動力薇之煙氧化碳工業源的熱（譬如來 酸氫鹽、或碳 ='、、、）來乾燥一包括包含碳酸鹽、碳 等實施例中，酸氫鹽之沈殿物質的組合物。在此 舉例來說，二1用—噴霧乾燥機來噴霧乾燥該組合物。 〇C > ( 15〇〇C^ 200 師，利用來自二物㈣該組合物。 旎夠同時冷細 _ 業/原、之熱乾燥本發明之組合物 煙道氣），_化奴工業源（譬如來自燃煤動力廠之 用。在一此眘:、酿成倒置關係的二氧化碳溶解作 需求可藉由有H 1本發明之二氧化碳處理系統的能量 在〜些實施例中，本發明之二步減小。舉例來說， —氣化碳處理系統經配置具備 35 201105406 一能量回收系統。此等能量回收系統舉例來說在脫鹽之技 藝中為已知且係經由壓力交換而運作。在一些實施例中， 二氧化碳處理系統之總體能量需求在捕獲並處理從一工廠 (譬如燃煤動力廠）排出之二氧化碳的70%至90%時可能 低於 99.9%、90%、80%、70%、60%、50%、40%、30 %、20%、1〇%、5%、或3%。舉例來說’在一些實施例 中，二氧化碳處理系統之總體能量需求在捕獲並處理從一 工廠（譬如燃煤動力廠）排出之二氧化碳的70%至90%時 可能低於30%譬如低於20% ’包含低於15% ’例如低於 10%、低於5%、或低於3%。因此，經配置用於再循環、 熱交換及/或壓力交換的本發明二氧化碳處理系統可減小動 力供應工廠之寄生負荷同時維持二氧化碳處理能力。 當然，本文所述再循環及其他方法消耗水，因為水可 變成本發明組合物之一部分（譬如包括例如非晶碳酸約 CaC03 · H20 ;水碳鎂石MgC03 · 2H20等之沈澱物質）， 可藉由乾燥（譬如喷霧乾燥）本發明組合物而汽化，或是 在製程之一些其他部分中損耗。因此，可提供補給水以補 償處理二氧化碳生產本發明組合物（譬如喷霧乾燥沈;殿物 質）的水損耗。舉例來說，每日少於700,〇〇〇加侖的補給水 量可取代從例如35 Mwe燃煤動力廠之煙道氣生產喷霧乾 燥沈澱物質的水損耗。僅只需要補給水的製程可被視為零 處理用水排洩製程（亦即零液體廢料製程）。在使用補給水 以外之額外水的製程中，此水可為源自本文所述任何水源 (譬如海水、鹽水等）。在一些實施例中，舉例來說，水可 36 201105406 為源自動力廠冷卻流且在一閉路系統中回到此流。需要補 給水及其他處理用水的製程被視為低處理用水排茂製程， 因為本發明之系統及方法經設計以有效率地使用資源。 在一些實施例中，本發明提出使某量之—水溶液與— 二氧化碳源接觸以生產一包括碳酸鹽、唆g楚氫鹽、或碳酉& 鹽與碳酸氫鹽之組合物，其中該組合物係一溶液或聚料广 為生產包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸气臨之、、尤 澱物質，本發明之方法包含使某量之一含二價陽離;水溶 液與一 C〇2源接觸並使所得溶液遭受促進沈澱作用之條 件。視在一特定處所的可取得度而定，二價陽離子可= 自多種不同二價陽離子源之任一者。此等來源 料、海水、鹽水、硬水、岩石及礦物（譬如石灰石、 包括金屬矽酸鹽之材料譬如蛇紋石及橄欖石）。、、 在-些場所中，來自各種工業製程的廢 業廢料流）提供適宜的二價陽離子（二 金屬氯氧化物）來源。料廢骸包含但如 潰）·’水泥室廢^辟灰、爐邊）；溶渣（譬如鐵渣、碟 (嬖如油田及W /如水泥1塵灰）；煉油/石化精煉廢料 “水水）；煤層廢料（譬如產氣鹽水及煤 棄鹽水(譬如離子交換流 值紡織品廢料；及苛性辰業尸廢料；金屬後處理廢料；高PH 美國暫時專利申請在2009年6月17曰申請之 入本文486,692號（其則丨用的方式併 乂疋明的灰燼、水泥窯塵灰及熔渣（統稱 37 201105406 為金屬氧化物之廢料源）可與在2〇〇9年7 美國暫時專射請案第则哪以其亦以弓丨== 併入本文中）進-步說明的包括金屬錢鹽之材料式 合併使用。本文所述任—二價陽離子源可為 可 目的而混合及匹配。舉例來說，包括金屬石夕酸魄月之 之目的而與本讀私—二價騎子源合併;^仃本發明 在一些場所中，—用於本發明之組合物（ 酸鹽、碳酸1鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之沈视 ^石厌 備的適宜二價陽離子源為水（例如—包括二價陽 :ΠΓ=?:Κ)’其可因實行本發明所在特定場: 而異。可使用之適宜二價陽離子水溶液包含包括— 二價陽離子（例如驗土金屬陽離子譬如ca2+& Mg2/)二， 液。在-些實施例中’二價陽離子之水溶液源包括驗土^ 屬陽離子。在一些實施例中，鹼土金屬陽離子包含鈣、鎂、 或二者之一混合物。在一些實施例中，二價陽離子之水溶 液包括量之範圍為50 ppm至5〇,〇〇〇 ppm、50 ppm至40,000 ppm、50 ppm 至 20,〇〇〇 ppm、100 ppm 至 1〇 〇〇〇 ppm、2〇〇 ppm 至 5,000 ppm、或 400 ppm 至 1，000 ppm 的鈣。在一些 實施例中’二價陽離子之水溶液包括量之範圍為5〇 ppm至 40,000 ppm、50 ppm 至 20,000 ppm、100 ppm 至 10,000 ppm、 200 ppm 至 10,000 ppm、500 ppm 至 5,000 ppm、或 500 ppm 至2,500 ppm的鎂。在一些實施例中，其中Ca2+及Mg2+二 者均存在，二價陽離子水溶液中之Ca2+對Mg2+比（亦即 38 201105406

Ca2+:Mg2+)係介於 1:1 與 1:2.5 之間；1:2.5 與 1:5 之間；1:5 與1:10之間；1:10與1:25之間；1:25與1:50之間；1:5〇 與 1:100 之間；1:100 與 1:150 之間；ι:ΐ5〇 與 1:200 之間； 1:200 與 1:250 之間；1:250 與 1:500 之間；1:500 與 1:1〇〇〇 之間；或以上之一範圍。舉例來說，在一些實施例中，二 價陽離子水溶液中之Ca2+對Mg2+比係介於1:1與1:10之 間；1:5與1:25之間；1:1〇與1:5〇之間；1:25與1:1〇〇之 間；1:50與1:500之間；或ι:100與1:1〇〇〇之間。在一些 實施例中’二價陽離子水溶液中之Mf+對 Ca2+比（亦即 Mg :Ca2+)係介於1:1與1:2 5之間；1:2 5與1:5之間；1:5 與1:10之間；1:10與1:25之間；ι:25與1:5〇之間；1:50 與 1:100 之間；1:1〇〇 與 1:15〇 之間；1:15〇 與 1:2〇〇 之間； 1.200 與 1:250 之間；ι:25〇 與 ι:5〇〇 之間；i:5〇〇 與 1:1〇〇〇 之間；或以上之一範圍。舉例來說，在一些實施例中，二 價陽離子水溶液中之喊+對Ca2+比係介於1:1與1:1〇之 間’ 1.5與1_25之間；i:i〇與1:5〇之間；1:25與丨：丨⑼之 間’ 1.50與1:5〇〇之間；或i•⑽與之間。 *日存在於藉以製備本發明组合物（例如沈澱物質）之二 仏陽離子源巾的—或多種成分可被用來識別所用二價陽離 f源:這些識別成分及其量可被稱為、、來源識別體〃或、、標 路!ί料!來⑨，$二彳㈣離子源是海水，則可存在於本 ^組合物（例如沈澱物質）中的來源識職或標記體可 ::但：限於氣、鈉、硫、鉀、硼、矽、锶、及類似物。 、疋素可以任何已知原子價出現在組合物巾。任何來源 39 201105406 識別體或標記體可以少量存在，其範圍例如為20,000 ppm 或更少、2000 ppm或更少、200 ppm或更少、或20 ppm或 更少。在一些實施例中，舉例來說，標記體為勰。在本發 明之一沈澱物質中’鳃可被併入一霰石晶格内，且構成霞 石晶格之10,000 ppm或更少，在某些實施例中為3ppm至 10,000 ppm，譬如 5 ppm 至 5000 ppm，包含 5 ppm 至 1000 ppm ’ 例如 5 ppm 至 500 ppm 或 5 ppm 至 1〇〇 ppm。來源識 別體可因用以生產本發明組合物之特定二價陽離子源（例 如海水）而異。在一些實施例中，至少部分地因為二價陽 離子源，本發明組合物（例如沈澱物質）的碳酸辦含量可 為25%w/w或更高’譬如40%w/w或更高，包含5〇%w/w 或更高，例如60%w/w或更高。在一些實施例中，此等組 合物具有一受到藉以生產該組合物之二價陽離子源影響並 反映的鈣:鎂比。在一些實施例中，鈣:鎂莫耳比為ι〇 ι至 1:5，譬如5:1至1:3。在一些實施例中，該組合物特徵為具 有一來源識別碳酸鹽：氩氧化合物比’其中此比的範圍^例 來說為100比1、1〇比1或1比1。 二價陽離子之水溶液可包括來自淡水、微喊水、海水、 或鹽水（例如自然發生鹽水或人為鹽水譬如地熱廠廢水、 脫鹽廠廢水、合成鹽水，包含包括溶解礦物質的人成趟 水）、以及鹽度高於淡水的任何其他水溶液，其中任一者可 為自然發生或係人為的。為便於說明本發明，可將淡水視 為具有低於0.5 ppt (千分之一）之鹽度。微鹹水可^有比 淡水多但比海水少的鹽。微鹹水可被視為具有大約 201105406 至大約35 ppt範圍内的鹽度。海水可為來自近海、遠洋、 或具有大約35 ppt至大約50 ppt範圍内之鹽度的任何其他 水體。因此，鹽水可為有飽和或幾近飽和之鹽的水。在一 些實施例中，藉其得到二價陽離子的水源係一富含礦物質 (例如富含鈣且/或富含鎂）的淡水源。在一些實施例中， 藉其得到二價陽離子的水源係一選自近海、遠洋、湖泊、 沼澤、河口、潟湖、表層鹽水、深層鹽水、驗性湖、内海、 或類似地方的自然發生鹹水源。在一些實施例中，藉其得 到二價陽離子的水源係一表層鹽水。在一些實施例中，藉 其得到二價陽離子的水源係一次表面鹽水。在一些實施例 中，藉其得到二價陽離子的水源係一深層鹽水。在一些實 施例中，藉其得到二價陽離子的水源係一 Ca-Mg-Na-(K)-Cl; Na-(Ca)-S04-Cl ； Mg-Na-(Ca)-S04-Cl ； Na-C03-Cl ；或 Na-C03-S04-Cl鹽水。在一些實施例中，藉以得到二價陽離 子的水源係一選自地熱廠廢水或脫鹽廢水的人為鹽水。在 一些實施例中，該水源亦可含有以硼酸鹽存在的硼，特定 言之包含但不限於BO/·、Be/·、B3〇75_、及AO/-。 淡水通常是二價陽離子（例如驗土金屬陽離子譬如 Ca2+及Mg2+)之一適宜來源。可使用多種適當淡水源之任 一者，包含範圍從較少礦物質之淡水源到較富含礦物質之 淡水源。富含礦物質的淡水源可為自然發生的，包含多種 硬水源、湖泊或内海之任一者。一些富含礦物質淡水源譬 如驗性湖或内海（譬如土耳其之梵湖(Lake Van))亦提供pH 修改劑之一來源。富含礦物質淡水源亦可為人為的。舉例 41 201105406 來說，可使一貧辟礼所m、， 土金屬陽離子（』女r2+人〜+ 與一—價陽離子源譬如驗 本文所述方法夂t^g#)接觸以生產—適用於 式（例如固體、懸产俨物質水。可運用任何適宜方 前驅物（譬如鹽類予S二之添加）將二價陽離子或其 抵頭、礦物質）添加至淡次r十、士七& 何其他類型的水）。此 尺（或本文所述任 的二價陽離子添加至' 1」將選自Ca2+和Mg2+ 和K+的一價陽離子二：些貫施，中’將選自Na+

Ca2+的淡水與包括7 :人7在一些實施例中，使包括 爐渣）、或以上之^㈣鹽 '㈣（例如飛灰、爐底灰、 的物質結合，產出或域縣式（包含前文所述組合） 因此…Hi .轉料的溶液。 如Ca2+、Mg2+、二者^^由^加一或多種二價陽離子（例 陽離子源。鎮陽離子二2合等）至—水源而製備一二價 觸離子源—二鎂、氧化鎖等。 發生源包含但不限於錄來源。此等曝離子之自然 岩、滑石等）及類似物K #如橄欖石、蛇紋石、橄欖 鎂陽離子添加至源水（藜^產本發明組合物之前將補充 物質產量）並且影變' 水）會提高產量（譬如沈殿 提供-種手段，‘手，且譬如沈澱物質)之成分， 石、蛇紋石、及Mg(^ 用礦物譬如但不限於撖禮 用。特定陽離子（例如丄2+二，石）而提高C〇2封存作 可為自然發生或人為的，且可;睛=之-組合等)源 j ^相對於礦物或不純物（例 42 201105406 目標礦物質及其他礦物質和成分構成的組合物)為 如足以在水中生產3或更高、例 文*次更円、譬如5或更高 高之鎂舞比的方式添加π、包含7或更 施例中，水之期望鎂觸離子比為3至1〇 =二貫 可將任何適宜鎂陽離子源添^ 。 子比，其中目標之特定二二賴陽離 Msiom ^ λ 、芴雖子源包含但不限於 水之錐石、馳石、鎭顯、及賴鋪。添加至 子源與藉以生I c〇充 =疋騎離 巾， 原水而異。在某些實施例 中添加至水之鎂陽離子的量為〇·〇1克/升至1〇〇 〇克/升， 言如1克/升水至100克/升水，包含5克/升水至⑽克/升 水’例如5克/升水至80克/升水，包含5克/升水至5〇克/ 升水。在某些實施例中，添加至水之鎂陽離子的量足以生 產硬度為0,06克/升或更高、譬如〇.〇8克/升或更高包含 克/升或更高的水，水之硬度係依據製造商之說明書由

Metrohm Titrator (Metrohm AG, Switzerland)判斷。鎂陽離子 源可利用任何適宜手段與水結合，譬如攪拌、混合等。 在有一鎂、鈣、或鎂與鈣之一組合之源添加至水的實 把例中，§亥源可為固體形式，例如呈大、硬、且通常難以 此入 >谷液内之晶體顆粒或顆粒凝聚物。舉例來說，氫氧鎂 石Mg(OH)2可係呈如同可用於本發明實施例中之許多礦物 的形式，譬如蛇紋石、橄欖石、及其他矽酸鎂礦物、以及 43 201105406 水泥廢料及類似物。可利用任何適宜方式將二價陽離子譬 如鎂陽離子從此等來源導入水溶液内成一適於與碳酸鹽反 應的形式以形成二價陽離子之碳酸鹽。減小粒徑以增加表 面積係一此類方法’其可藉由此技藝中已知的手段譬如球 磨及喷射磨而完成。喷射磨具有破壞物質晶體結構之大部 分以提高溶解度的進一步優點。聲化學亦為目標，可利用 強勁的超音波處理使反應速率提高一期望量，譬如106倍 或更高。經過或未經過粒徑.減小的顆粒可被暴露於促成水 溶液之條件下’譬如暴露於例如HC1、H2S04或類似的酸； 在一些實施例中亦可使用一弱酸或鹼。舉例來說參見美國 暫時專利申請案第2005/0022847號、2004/0213705號、 2005/0018910 號、2008/0031801 號、及 2007/0217981 號； 歐洲專利申請案第EP 1379469號及EP 1554031號；及世界 專利申請公開案第WO 07/016271號及WO 08/061305號， 該等申請案以引用的方式併入本文中。 在本發明之一些方法及系統實施例中，使用蛇紋石當 作礦物源。蛇紋石係一自然發生的大量礦物且通常可用化 學式 X2-3Si2〇5(〇H)4 表示，其中 X 係選自：Mg、Ca、Fe2+、 Fe3+、Ni、A1、Zn、及Μη，蛇紋石材料係一種主要由氫氧 化鎂及矽石組成的非均勻混合物。在本發明之一些實施例 中’蛇紋石不僅當作一鎂源’還當作一氫氧化物源。因此 在本發明之一些實施例中，藉由溶解蛇紋石而提供氫氧化 物以從水去除質子且/或調整pH值；在這些實施例中一酸 溶解並非加速溶解之上選，而係使用其他手段，譬如喷射 44 201105406 :溶：η:。應理解到在-批次或連續製程中，用 製程以期望比^=物的時間長度並非關鍵，因為一旦 解程度，即可㈣且已經過充分時間達到適當溶 即便要溶解到期望持一連續的溶解物流。因此’ 年，一曰制β秩度1^要幾天、幾週、幾個月或甚至幾 甘衣私已抵達已發生期望溶解作用的第—時間點， 二”限期地維持。在已發生期望溶解作用的時間點之 别，可*用其他製程向此製程提健及/錢氧化物之-些 或王4虫匕紋石亦為一鐵源，此係用於例如通常期望有鐵 成分的水泥之沈澱物之一有用成分。 可用於本發明之矽酸鹽基礦物的其他實例包含但不限 於撤槐石’一種天然的鎂鐵矽酸鹽，（（Mg，Fe)2Si04)，其通 常=可用3化學式X2(Si〇4)n表示，其中X係選自Mg、Ca、 Fe2+、Fe3+、Ni、A卜Zn、及Μη且n= 2或3 ;及石夕酸鈣， 譬如石夕灰石。礦物可為單獨使用或彼此組合使用，如2009 年12月10曰公開之美國專利申請公開案第2009/0301352 號所述，該申請案以引用的方式併入本文中。此外，礦物 可於自然界發現或者可為製造物。工業副產物之實例包含 但不限於廢水泥、富含鈣的飛灰、及水泥窯塵灰（CKD)， 如2010年1月7曰公開之美國專利申請公開案第 2010/0000444號所述，該申請案以引用的方式併入本文中。 在一些實施例中，二價陽離子之水溶液可從一亦提供 一廢氣流（譬如燃燒氣流）的工廠取得。舉例來說，在水 冷式工廠譬如海水冷卻工廠中，已被工廠用於冷卻的水隨 45 201105406 後可被用來當作生產沈澱物質的水。若有需要，水可在進 入本發明之一沈澱系統之前被冷卻。此等方案舉例來說可 用於一次通過冷卻糸統。舉例來說’ 一城市或農業用水供 應可被用來當作工廠之一次通過冷卻系統。然後來自工廠 的水可被用於生產沈澱物質，其中輸出水具有一減低硬度 及較高純度。 二價陽離子之水溶液可進一步提供質子去除劑，其可 被表示為含二價陽離子溶液使酸中和成碳酸鹽或碳酸氫鹽 之等價點的鹼度或能力。鹼度（Ατ)可用下式表示： AT = [HC03-]T + 2[C032-]t + [B(OHV]t + [ΟΗ·]τ + 2[P043-]T + [HP〇42-]t + [SiO(OH)3']T - [H+]sws - [HS04·] 其中〃代表受測溶液中物質之總濃度。視來源而定，其 他物質也可能有助於驗度。溶液中物質之總濃度與游離濃 度（free concentration)相反，後者將例如海水中發生之離 子對交互作用的有效量納入考量。依據該等式，二價陽離 子之水溶液源可有各種》農度之碳酸氫鹽、碳酸鹽、硼酸鹽、 虱氧化物、罐酸鹽、重墙酸鹽、及/或石夕酸鹽，其可有助於 一價1%離子之水溶液源的驗度。任何類型的驗度均適用於 本發明。舉例來說，在一些實施例中，一硼酸鹽鹼度為高 的二價陽離子源適用於本發明。在此等實施例中，二價陽 離子源可含有以硼酸鹽呈現的硼，包含但不限於B〇33-、 Β2〇5 、Ββ/-、及B4〇96-。在此等實施例中，硼酸鹽之濃 46 201105406 度可能超過溶液中任何其他物質（例如包含碳酸鹽及/或碳 酉文虱鹽）之漠度。在一些實施例中，二價陽離子源具有至 少 10、100、500、1000、1500、3000、5000 或高於 5000 mEq 的鹼度。舉例來說’在一些實施例中，二價陽離子源具有 介於500 mEq至l〇〇〇mEq之間的鹼度。 在本發明之一些實施例中，水（譬如鹽水或富含礦物 質的水）在經受沈澱條件之前並不與一 c〇2源接觸。在這 些方法中，水會伴隨著某量的C02，譬如呈碳酸氫鹽離子 之形式，此C〇2係在實行此方法之前在水已暴露之環境中 後得。使水經受本發明之沈澱條件會導致此c〇2轉化成一 儲存穩定沈_ ’且因此得到c〇2之封存物。當經受本發 明之製程的水再次暴露於其自然環境譬如大氣巾，來自大 ^更多〇)2會被水吸收導致c〇2從大氣淨絲且使對應 置的co2併人-儲存穩定產物内，此時富含礦物質的淡水 源可此與-CQ2源接觸’例如像下文所將詳述。這些方法 f實施例可被視為從地球大氣直接封存C〇2氣體㈣法。 该等方法之實施例有效於從地球大氣去除C02。舉例 該等方，之實施例經配置用以從鹽水以每加侖鹽水0您 Μ或更面、譬如〇.〇5 μ或®高、勿入 去除c〇2。 ^更冋、包含〇_1Μ或更高的速率 在一些實施例中，本發明提出使某量之一吸收性溶 (譬如水溶液）與—二氧化碳源接觸以生產 鹽、碳酸心、或魏鹽與賴氫鹽之組合物的方== 中該組合物係一溶液缝料。在-些實施例中，該溶液係 47 201105406 一包括一沈澱物質的漿料，該沈澱物質包括碳酸鹽、碳酸 氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽。在一些實施例中，該沈澱物 質係藉由使該量之水溶液在與該二氧化碳源接觸之前、期 間或之後經受沈澱條件而生產。該水溶液中可能有充分二 氧化碳以生產大量的碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸 氫鹽（例如從鹽水或海水生產）；然通常會使用額外的二氧 化碳。該C〇2源可為任何適宜C〇2源。該C〇2源可為氣體、 液體、固體（譬如乾冰）、超臨界流體、或溶解於一液體中 的co2。在一些實施例中，該co2源係一氣態co2源譬如 一廢氣流。該氣態co2源可為大致純co2，或者如下文所 將詳述除C02外還包括一或多種成分，其中該一或多種成 分包括一或多種附加氣體譬如SOx (譬如so、so2、so3)、 NOx (譬如NO、N02)等非氣態成分、或以上之一組合。 廢料流可進一步包括V0C (揮發性有機化合物）、金屬（譬 如汞、砷、鎘、硒）、及包括懸浮於氣體中之固體顆粒（譬 如飛灰）或液體的微粒物質。在一些實施例中，該氣態co2 源可為一由工廠之一主動製程生產的廢氣流（譬如排氣）。 工廠之本質可各有不同，此等工廠包含但不限於動力廠、 化學處理廠、機械處理廠、精煉廠、水泥廠、鋼廠、及會 生產co2為燃料燃燒或另一處理步驟（譬如水泥廠之鍛燒） 之副產物的其他工廠。在一些實施例中，舉例來說，該氣 態co2源可為來自燃煤動力廠的煙道氣。 包括co2的廢氣流包含還原態氣流（譬如合成氣、移 位合成氣、天然氣、氫氣、及類似物）及氧化態氣流（譬 48 201105406 如；ί然焊、生 撚燒（= ' 的煙道氣）。可能適合本發明之特殊廢氣流包含 基燃料)° t來自煤或另一經少量或未經煙道氣預處理之碳 化產物=、成的含氧煙道氣、渴輪增麗鋼爐產物氣、煤氣 間生成者、燃繞前合成氣體（例如在發電廠中於煤氣化期 天然、移位煤氣化產物氣、厭氣消化槽產物氣、井口 何嘀= /;IL、重組天然氣或甲烷水合物、及類似物。來自任 來源的燃燒氣體可用於本發明之方法及系統中。在 声一實鉍例中，使用來自一工廠譬如動力廠、水泥廠及煤 处理薇之一燃燒後排氣煙自的燃燒氣體。 因此’廢氣流可由多種不同類型的工廠生產。適用於 本發明的廢氣流包含由燃燒化石燃料（譬如媒、油、天然 氣、丙烧、柴油）、生物質、及/或自然發生有機燃料沈積物 (譬如焦油砂、重油、油頁岩等）之人為燃料產物的工廠 生產之廢氣流。在一些實施例中，適用於本發明之系統及 方法的廢氣流係源自一燃煤動力廠，譬如碎煤動力廠、超 臨界煤動力廠、大量燃煤動力廠、流化床煤動力廠。在一 些實施例中，廢氣流係源自燃氣或燃油鍋爐及蒸汽渦輪動 力廠、燃氣或燃油銷爐簡單循環燃氣渦輪動力廠、或是燃 氣或燃油鋼爐組合循環燃氣渴輪動力廢。在一些實施例 中，使用燃燒合成氣（亦即由有機物質例如煤、生物質等 氣化而生產的燃氣）之動力廠所生產的廢氣流。在一些實 施例中，使用來自整合式氣化組合循環（IGCC)廠的廢氣 流。在一些實施例中’依據本發明之系統及方法使用由熱 回收蒸汽發電機（HRSG)薇生產的廢氣流。 49 201105406 包括co2的廢氣流亦可能係由其他工業處理造成。水 泥廠生產的廢氣流亦適合用於本發明之系統及方法。水泥 廠廢氣流包含來自濕式處理廠及乾式處理廠二者的廢氣 流，此等處理廠可採用豎窯或旋轉窯，且可包含預鍛燒爐。 此等工廠可為燃燒單一種燃料，或者可為依序或同時燃燒 二或更多種燃料。其他工廠譬如熔煉廠及精煉廠亦為包含 二氧化碳之廢氣流的可用來源。 氣態廢料流可由工廠以運輸氣態廢料流的任何適宜方 式提供給本發明之C02處理系統。在一些實施例中，廢氣 流係用一從工廠之煙道或類似結構（譬如工廠之煙道或煙 囪）延伸到co2處理系統之一或多處的氣體輸送器（譬如 導管、管道等）提供。在此等實施例中，一線路（譬如導 管、管道等）可連接至工廠之煙道致使經由煙道離開的氣 體被運輸到co2處理系統之適當場所（譬如處理器或其一 組件，例如氣液接觸器或氣液固接觸器）。視co2處理系統 之特定組態而定，氣體輸送器在工廠上的位置可有變化， 例如藉以提供一期望溫度之廢氣流。因此，在一些實施例 中，若期望具有溫度在〇°C至2000°c、譬如〇°C至1800°c、 包含60°c至700°c、例如100°c至400°c之範圍内的氣態廢 料流，則煙道氣可為在鍋爐、燃氣渦輪機、窯之出口點或 是在會提供期望溫度的工廠任一點處取得。氣體輸送器可 經配置用以將煙道氣維持在一高於露點的溫度（譬如125 °C)以避免冷凝及相關副作用。可採取其他步驟以減輕冷 凝之負面影響及其他有害影響，譬如使用不銹鋼或是有碳 201105406 氟化物（譬如聚四氟乙烯）内襯的導管，此等導管不會快 速劣化。 二氧化碳可為廢氣流中之主要非空氣衍生成分。在一 些實施例中，廢氣流可包括範圍從200 ppm至1，000,000 ppm、譬如 1000 ppm 至 200,000 ppm、包含 2000 ppm 至 200.000 ppm、例如 2000 ppm 至 180,000 ppm 或 2000 ppm 至130,000 ppm之量的二氧化碳。在一些實施例中，廢氣流 可包括範圍從350ppm至400,000ppm之量的二氧化碳。此 量的二氧化碳可視為時間平均量。舉例來說，在一些實施 例中，視廢氣流而定（譬如co2係來自燃天然氣動力廠、 熔爐、小型鍋爐等），廢氣流可包括範圍從40,000 ppm (4 %)至100,000ppm ( 10%)之量的二氧化碳。舉例來說， 在一些實施例中，視廢氣流而定（譬如C02係來自燃煤動 力廠、燃油發電機、柴油發電機等），廢氣流可包括範圍從 100.000 ppm ( 10% )至 150,000 ppm ( 15% )之量的二氧 化碳。舉例來說，在一些實施例中，視廢氣流而定（譬如 C02係來自水泥廠鍛燒、化學廠等），廢氣流可包括範圍從 200.000 ppm (20%)至 400,000 ppm (40%)之量的二氧 化碳。舉例來說，在一些實施例中，視廢氣流而定（譬如 C02係來自乙醇發酵槽，C02係來自在精煉廠、阿摩尼亞 废、代用天然氣（SNG )廠再生的氣流，C〇2係從發酵氣體 分離等），廢氣流可包括範圍從900,000 ppm ( 90% )至 l，000,000ppm ( 100%)之量的二氧化碳。廢氣流中之C02 的濃度可被減少10%或更多、20%或更多、30%或更多、 51 201105406 &少、60%或更多、7〇%或更多、80 40%或更多、50%或更多、6U/〇；3CD _ ^ 々95%或更多、"％或更多、99·9 %或更多、90%或更多、9!>/0狀’ …… Λη/。換句話說，可從廢氣流去除至少 %或更多、或是99.99%。狭J n/ Η)%、20%、30%、40%、50%、6〇%、、_、9〇 %、95%、99%、99.9%、或 99.99%的二氧化碳。 來自工廠之廢氣流的一部分（亦即並非全部氣態廢料 流）可被用於生產包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳 酸氫鹽之組合物。在這些實施例中，用於生產組合物之廢 氣流部分可為廢氣流之75%或更少、譬如60%或更少、包 含5〇%或更少。在其他實施例中，工廠生產之全部廢氣流 之大部分（譬如80%或更多）被用於生產組合物。在這些 實施例中，源頭生產之廢氣流（譬如煙道氣）的80%或更 多、譬如90%或更多、包含95%或更多、至多100%可被 用於生產本發明之組合物。 在本發明之一些實施例中，可使來自一動力廢之煙道 氣或部分煙道氣中所含之C〇2的大致100%被封存成本發 ，之組合物（譬如包括一或多種穩定或介穩礦物之沈澱物 質）。此封存作用可為在單一步驟或多重步驟中完成 ，且可 、步涉及用於封存C〇2之其他製程（譬如隨著煙道氣中 去广#2的飧度降低，能量消耗過高之更耗能用於從氣體中 實^手$原始C〇2的製程可能變成去除氣體中最終匸02的 壓六U A )因此，在一些貫施例中，進入動力廠的氣體（常 的CO 7含有濃度高於離開該龜之煙道氣中之C〇2濃度 2呢度’魏錢係已經過本發明之製程及系統處 52 201105406

例中，從該動力廠釋出的氣體比起進人該 、或減少至少20%、或減少至少3〇 或減少至少50%、或減少至少6〇 其中從該工廠釋出 氣體。在一些實施 C02方面減少至少10%、 %、或減少至少40%、j %、或減少至少7G%、或減少至少8()%、或減少至少9〇 %、或減少至少95%、或減少至少99%、或減少至少99 5 %、或減少至少99.9%。在一些實施例中，進入該動力廠 的氣體疋環i兄空氣且離開該動力薇的氣體是已處理煙道 儘管來自工廠之廢氣流提供一由化石燃料燃燒造成之 相對較濃C〇2及/或附加成分之來源，本發明之方法及系統 亦可應用於從含有相較於例如煙道氣具有較低污染物濃度 的較低濃度來源（譬如大氣空氣）去除燃燒氣體成分。因 此’在一些實施例中，方法及系統涵蓋藉由生產本發明之 組合物而減低大氣空氣中之C02及/或附加成分的濃度。一 如用於廢氣流，大氣空氣之一部分中之C02的濃度可被減 低10%或更多、20%或更多、30%或更多、40%或更多、 50%或更多、60%或更多、70%或更多、80%或更多、90 %或更多、95%或更多、99%或更多、99.9%或更多、或是 53 201105406 99.99%。C〇2之此減少可生產如本文所述之結果，或是有 更高或較低產量，且可為在一個處理步驟中或一系列處理 步驟中完成。 ' 在某些實施例中，氧化條件包含使氣態流經受過氧化 虱(H2〇2)及/或一H2〇2/CH3〇H混合物。利用過氧化氬使— 含C〇2氣態流氧化之系統及方法之一範例說明可見美國專 利第5,670，122破，其以引用的方式併入本文中。如該，122 號專利所述，可用過氧化氫處理一氣態流充分時間使其内 成分氧化，例如使一氧化氮(NO)、三氧化硫(S03)、輕烴類 (CrC4)、一 氧化碳(CO)及汞轉化成 1^02、802、(：02及 HgO。 氣態流可在與水（譬如呈平射流、喷霧或液滴、霧氣或以 上之一組合的含鹼土金屬離子的水）接觸之前經過過氧化 氫或H2〇2/CH3OH混合物處理。在一些實施例中，利用 h2o2/ch3oh混合物處理一在氣態流與水（譬如含鹼土金屬 的水）接觸之後回收的回收氣態流並予再處理（亦即第二 次與水接觸）。 過氧化氫或h2o2/ch3oh混合物的反應時間可為在 0.01秒至5秒、譬如0.1秒至2秒的範圍内。然後，n〇2、 S02、C〇2及HgO (其氣態流之其他成分）可因被水譬如含 驗土金屬離子的水吸收而被去除。在某些實施例中，氣體 充填水隨後經受沈澱條件以形成包括一或多種來自氣態流 之化學成分（譬如N〇2、S〇2、C〇2、HgO等）的沈殿物。 因此，本發明提出一種快速且有效率地去除一氣態源之多 種化學成分（譬如C〇2、標準污染物、及/或其他有毒或環 54 201105406 境有害成分）的方法，致使這些成分不會以危險的高浪度 排入大，中。舉例來說，本發明可用以去除來自溶爐、焚 化爐 '定置引擎、及與各種㈣之燃燒有關的其他系統之 煙道氣中的這些化合物。 她曰搭配氣體流使用之過氧化氫及甲醇的總量通常以成分 總I計，莫耳比*。5至2 ()，但在大多數應用中為。9至 i·5過氧化氫可為以1%至5〇%、譬如丨〇%至3〇%之濃度 注入（譬如呈水溶液之形式）。過氧化氫亦可為以h2〇2溶 ^與甲醇之-混合物注人。h2〇2與甲醇混合物的使用正合 =因為甲醇成本报低。甲醇對出02的比應當盡可能高以 降低添加物成本’但必須滿足排放需求。 過氧化氫在本發日月中的使用有許多好處。若經適當儲 :’過氧化氫的水溶液在水中非常安定。使用過氧化氣不 2發任何環境問題，因為過氧化氫本身不是污染源，且 的反應副產物是水和氧。因此，過氧化氫全地 於本發明。 與C〇2源接觸之水的pH值可有變化。在一些案例中， 與C〇2源接觸之水的？11值是酸性，使得pH值低於7,譬 如6.5或更低、6或更低、55或更低、5或更低、45或更 "或疋4或更低。在其他實施例中，水的pH值可為中性 至弱鹼，其意為水的pH值可為在PH 7至ΡΗ 9、譬如pH 7 至PH 8.5、包含ρΗ 7.5至PH 8.5的範圍内。 >、在一些案例中，諸如含鹼土金屬離子之水（包含鹼性 ’合液或天然含鹽鹼性水）的水在與c〇2源譬如—含二氧化 55 201105406 碳氣態流接觸時是鹼性的。在此等實例中，當為鹼性時， 水之pH值通常不足以使儲存穩定二氧化碳封存產物沈 澱。因此，pH值可為9.5或更低，譬如9.3或更低，包含9 或更低。 在一些案例中，如上所述之pH值可在與含氣態流之二 氧化碳接觸期間被保持在一大致恆定值，或者該pti值可經 操縱以使C〇2吸收量最大化同時使鹼消耗量或其他去除質 子之手段最小化，其方式譬如為以某一 pH值開始且隨著 C〇2持續被導入而逐漸提高pH值。在pH值被保持為大致 恆定的實施例中，其中、、大致恆定〃意指在與二氧化碳源 接觸之一些階段期間pH值的變化量為0.75或更小，链如' 〇·50或更小，包含0.25或更小，例如0.10或更小。可利用 任何適宜方式使pH值保持在大致恆定值或是經操縱以使 C〇2吸收里最大化但防止氫氧化物沈澱作用不發生。在一 些案例中，藉由以一會提供大致恆定p H值之方式在水中添 加足量的鹼而在水中充填C02期間使pH值 二 定值、或經操縱以使c〇2吸收量最大化而不沈澱。 案例中，期望控制pΗ值以使來自氣態流之二氧化碳及盆^ 成分（譬如S0x、N0x、重金屬、其他酸性氣體）的吸 量最大化衫發生m體沈殿料發生Cq2從水 性溶液）釋出。可添加任何適宜的鹼或鹼組合，勺人 限於氧化物及氫氧化物’譬如氫氧化鎂，適用的 步實例見下文。在其他實例中，可經由電化學手段链士 文將詳述之手段使PH值保持於大致怪定值，或經 56 201105406 C02吸收量最大化，故水之PH值被電化學地維持在大致恆 定值。出f意外地，如實例IV中所示，已發現有可能經由 經鹼之添加（質子去除）之海水的簡單喷灑而吸收含20% c〇2之氣體中所含C〇2的5〇%以上。 在一歧實施例中’本發明之方法及系統能夠吸收一氣 態C02源（譬如一工業C〇2源，例如來自工廠之煙道氣或 是來自水泥廠之廢氣）中之5%或更多、10%或更多、15 %或更多、或更多、25%或更多、30%或更多、35% 或更多、4〇%或更多、45 %或更多、50%或更多、55%或 更多、60舛或更多、65%或更多、70%或更多、75%或更 多、80%成更多、85%或更多、90%或更多、95%或更多、 99%或更多的c〇2。在一些實施例中，本發明之方法及系 統能夠吸收一氣態C〇2源（譬如一工業（：02源，例如來自 工廠之煙道氣或是來自水泥薇之廢氣）中之50%或更多的 co2。 在一些實施例中，本發明之方法及系統能夠在平均超 過72小時之連續作業中將超過20噸/小時的二氧化碳吸收 到一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之方法及系 統能夠將超過40噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液 内。在-些實施例中’本發明之方法及系統能夠將超過6〇 噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例 中，本發明之方法及系統能夠將超過7 〇噸/小時的二氧化碳 吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之方法 及系統能夠將超過80噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性 57 201105406 溶液内。在一些實施例中，本發明之方法及系統能夠將超 過90噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實 施例中，本發明之方法及系統能夠將超過⑺^噸/小時的二 氧化碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明 之方法及系統能夠將超過110 π頓/小時的二氧化碳吸收到一 吸收性浴液内。在一些實施例中，本發明之方法及系統能 夠將超過120噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。 在一些貫施例中，本發明之方法及系統能夠將超過13〇噸/ 小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例 中，本發明之方法及系統能夠將超過〗嘲/小時的二氧化 碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之方 法及系統能夠將超it 15〇β頓/小時的二氧化碳吸收到一吸收 性冷液内。在-些實施例中，本發明之方法及系統能夠將 超過16㈣/小時的二氧化碳吸收到—吸收性溶液内。在一 些貝施例中’本發明之方法及系統能夠將超過小時 的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。在一些實施例中本 發明之方法及系統能夠將超過18〇嘲/小時的二氧化碳吸收 到-吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之方法及系 統能夠將超過19㈣/小時的二氣化碳吸收到-吸收性溶液 内。在些貝把例中’本發明之方法及系統能夠將超過· 噸/小時的二氧化碳吸收到一吸收性溶液内。 在一些實施例中，本發明提出使某量之-水溶液與--氧化碳·觸以生產-包括錢鹽、碳酸氫鹽、或碳酸 鹽與碳酸氫鹽之組合物，其中、合物係-溶液或漿料。 58 201105406 該水溶液與二氧仆排、κ , 碳酸，-㈣·=接觸促使C〇2溶人該水溶液内生產 明之組合物㈤Γ =及碳酸鹽平衡的㈣。為生產本發 酸氫鹽之錢物質酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳 酸、碳酸氫鹽、水合，要從該水溶液中之多種物質（譬如碳 碳酸鹽或其間某處=寺）去除f子以使平衡朝碳酸氫鹽、 溶液内。在°隨著f子被去除，更多C〇2進入 用質子去除劑中’在—水溶賴c〇2接觸之時使 收量，其中，忐以在反應之一個階段中增加C〇2吸 去除質子（譬如藉由^持*定、提高或甚至降低，然後快速 致沈澱物質快ί—紐）’這在—些實施例中可導 (譬如礙酸、碳^^子可$任何適宜手段從多種物質 但不限於自然發生質：水口氫等）去除’此等手段包含 用、合成化學質子除劑之制、微生物及真菌之使 之回收、及使用電、來自卫業製程之廢料流 自然發生質子去除劑涵 環境之較大_環料f mi具有—驗性局域 例提出包含在&中 何質子去除劑。—些實施 他出〇 3在⑹至溶液後 然發生質子去除劑&之礦物的自 方此4礦物包含但不限於石灰（Ca0); 及火山灰。此g 11氧化賴物（譬如針㈣及褐鐵礦）； 見2〇〇9年7月^物及包括此等礦物之礦石的溶出方法參 沪，豆以引用μ日巾請之美國專利巾請案第12/501，217 號，其以引用的方式併人本文中。— 然發生水體當作質子去卜⑻ —貫_ ^出利用自 負子去除麻，料水體包括碳酸鹽、硼 59 201105406 酸鹽、硫酸鹽、或硝酸鹽驗度、或以上之一些組合。任何 鹼鹵（譬如表層鹽水、次表層鹽水、深層鹽水等）均適用 於本發明。在一些實施例中，一包括碳酸鹽鹼性的表層鹽 水k 1、負子去除劑源。在一些實施例中，一包括石朋酸鹽 鹼性的表層鹽水提供一質子去除劑源。在一些實施例中了 一包括碳酸鹽鹼性的次表層鹽水提供一質子去除劑源。在 一些實施例中，一包括硼酸鹽鹼性的次表層鹽水提供一質 子去除劑源。在一些實施例中，一包括碳酸鹽鹼性的深層 鹽水提供一質子去除劑源。在一些實施例中，一包括硼酸 鹽鹼性的深層鹽水提供一質子去除劑源。天然鹼性水體之 實例包含但不限於表層水源（例如鹹水湖譬如加州的M〇n〇 Lake)及地下水源（例如鹼性含水層譬如位於加州Searles Lake之深層地質鹼性含水層）。其他實施例提供使用來自乾 枯驗性水體譬如沿非洲大裂谷之Lake Natron取得的沈積 物。關於鹽水及蒸發鹽之其他來源參見2009年11月25曰 申請之美國暫時專利申請案第61/264,564號，其内容以引 用的方式併入本文中。在一些實施例中，使用在正常代謝 中分泌出鹼分子或溶液的有機體當作質子去除劑。此等有 機體之貫例為生產驗蛋白水解酵素的真菌（譬如理想pH值 為9的深海真菌々perg///）以及生產鹼分子的細菌（例 如藍綠藻，譬如來自英屬哥倫比亞之Atlin濕地的办喂办β 叭，其由光合作用之一副產物提高卩11值）。在一些實施例 中，利用有機體生產質子去除劑，其中此等有機體（譬如 如，其將尿素水解成氨）代謝一污染物（譬如 201105406 尿素）以生產質子去除劑或包括質子去除劑（譬如氨，氫 氧化銨）之溶液。在一些實施例中，有機體係獨立於沈積 反應混合物培養，其中質子去除劑或包括質子去除劑之溶 液係用於添加至該沈澱反應混合物。在一些實施例中，自 然發生或人造酵素與質子去除劑組合使用以引發沈澱物質 之沈澱作用。碳酸脫水酶（其係一種由植物及動物生產的 酵素）加速水溶液中碳酸變成碳酸氫鹽的轉變。因此可使 用碳酸脫水酶增強C 02之溶解度並加速沈澱物質之沈澱作 用’詳見下文。 用於達成質子去除作用的化學劑通常涉及大量生產且 市面上有售的合成化學劑。舉例來說，用於去除質子的化 ，劑包含但不限於氫氧化物、有機鹼、超級鹼、氧化物、 虱、及碳酸鹽。氫氧化物包含在溶液中提供氫氧陽離子的 化學物，舉例來說包含氫氧化鈉（Na0H)、氫氧化鉀 (KOH)、氫氧化鈣（Ca(0H)2)、或氫氧化鎂（Mg(〇H)2)。 1機鹼為含碳分子，其通常是氮鹼，包含一級胺譬如甲基 胺，二級胺譬如二異丙胺，三級胺譬如二異丙乙胺，芳族 胺4如苯胺，芳環譬如„比咬、咪唾、苯並咪嗤，及以上之 各種形式。在一些實施例中，利用選自吡啶、曱基胺、咪 唑、苯並咪唑、組胺酸、及偶磷氮的有機鹼從多種物質（譬 如％1酸、碳酸氫鹽、水合氫等）去除質子以製備本發明之 級合物。在一些實施例中’使用氨將pH值提高至一足以製 備本發明之組合物的程度。適合用作質子去除劑的超級鹼 包含乙醇鈉、鈉胺（NaNH2)、氫化鈉（NaH)、丁基鋰、鋰 201105406 一異丙胺、鐘二Γ ftt η 說包含氧化詞⑽)、=雙（三甲單石夕烷）胺。舉例來 i化鈹_)氧化鎂（MgO)、氧化錕（SrO)、 闲所早、及氧化鋇（Ba〇)的氧化物亦為可用之適 貝去除劑。用於本發明的碳酸鹽包含但不限於碳酸納。 太恭II包括陽離子（譬如ca2+、Mg2+等）及其他適用於 故二：w之其他合適金屬形式之外，*自各種工業製程的 (亦即工業廢料流）可提供質子去除劑。此等廢料 但不限於開礦廢料；灰燼（煤灰譬如飛灰、爐底灰、 少/一，I查（譬如鐵渣、石粦潰）；水泥窯廢料（譬如水泥 窯塵灰（CKD))，練油/石化精煉廢料（譬如油田及甲烧層 鹽水）；煤層廢料（譬如產氣鹽水及煤層鹽水）；紙處理廢 水軟化廢棄鹽水（譬如離子交換流出物）；梦處理廢料； 辰業廢料，金屬後處理廢料；高pH值紡織品廢料；及苛性 >5泥。開储料包含從土壤巾提取金屬或另—貴重或有用 礦物之後的任何廢料。在一些實施例中，利用開礦的廢料 修改pH值，其中廢料係選自拜耳鋁提取製程的紅泥、從海 水（例如Mg(OH)2 ’譬如見於加州M〇ss Landing)提取之 鎂的廢料、及涉及瀝濾之開礦製程的廢料。舉例來說，可 如發明名稱為、、Gas Stream Multi_Pollutants Control Systems And Methods"的2009年3月18曰申請之美國暫時專利申 請案第61/161，369號及2010年3月2日申請之PCT申請 案PCT/US10/25970號、發明名稱為'、Gas

Stream

Multi-Pollutants Control Systems And Methods” 的 2010 年 3 月2日申請之美國專利申請案第12/716,235號所述將紅泥 62 201105406 用於修改ρ Η值，該等申請案以引用的方式併入本文中。視 處理條件及源材料（譬如紹礬土）而定，紅泥可能包括

Fe203、Α12〇3、Si02、Na20、CaO、Ti02、K20、MgO、C02、 S2〇、Mn〇2、P2〇5，這些物質每一者係粗略地依量最多到 量最少的順序排列，且這些物質每一者係以氧化物表示以 求方便。煤灰、水泥窯塵灰、及熔渣（統稱為金屬氧化物 廢料源’進一步見於發明名稱為、、MethodsAndSystemsF〇r

Utilizing Waste Sources Of Metal Oxides"的 2009 年 6 月 17 曰申請之美國專利申請案第12/486692號、2010年1月7 日公開為公開案編號US 2010-0000444 A1，其以引用的方 式併入本文中）可單獨使用或搭配其他質子去除劑使用以 k i、本毛明之貝子去除劑。農業廢料不管是透過動物廢料 或過量肥料使用均可能含有氫氧化鉀（KOH)或胺（NH3) 或二者。因此，農業廢料可用於本發明之一些實施例中當 作質子去除劑。此種農業廢料通常被集中在池塘，然亦有 可能向下滲入地下含水層中，吾人可自此取得並使用。 在本發明之一些實施例中，可將灰燼用作質子去除 劑，譬如用以提咼C〇2充填水之pH值。灰燼可當作唯一的 pH值修改劑或是搭配一或多種額外的pH值修改劑使用。 某些實施例中係使用煤灰作為此灰燼。本發明中使用的煤 灰係關於動力廠鍋爐或燃煤熔爐例如鏈式筛鍋爐、旋流鍋 爐及流體化床鍋爐中由燃燒碎無煙煤、褐煤、瀝青或半瀝 青而產生的殘留物。此等煤灰包含飛灰，其為被廢氣或煙 道氣帶離熔爐的細微煤灰；及爐底灰，其集中在熔爐基部 63 201105406 成團塊。 飛灰通常非常不均勻，且包含玻璃狀顆粒與多種可辨 識結晶相物質譬如石英、莫來石、及多種鐵氧化物之混合 物。合意的飛灰包含F型和C型飛灰。上述F型和C型飛 灰係由CSAStandard A23.5及ASTMC618定義。這些等級 的主要差別在於灰燼中之i弓、二氧化石夕、氧化鋁、鐵的含 量。飛灰之化性極受燃燒的煤（亦即無煙煤、煙煤及褐煤） 之化學物含量影響。合意的飛灰包含大量的二氧化石夕（即

Si02)(非晶體及晶體兩者）以及石灰（氧化妈㈤，氧化 鎂 MgO )。 下表3提供適用於本發明之實施例中的各種類型飛灰 之化學組成。 表3各種飛灰之化^刼忐 成分 遞青 半瀝音 福烨 Si02 20-60 40-60 r*R/ /9J\ 15-45 (%) AI2O3 5-35 20-30 20-25 (%) Fe2〇3 ---—__ 10-40 4-1〇 4-15 (%) CaO 1-12 5-30 15-40 (%) ------ 64 201105406 較硬、較老無煙煤及煙煤的燃燒通常會生產F級飛 灰。F級飛灰是自然界中的火山灰，且含有少於1〇%的石 灰（CaO )。由較低齡褐煤或半煙煤燃燒生產的飛灰除了具 有火山灰特質更具有一些自凝硬特質。有水存在時，c級 爪灰會硬化且隨時間經過而獲得強度。C級飛灰通常含有 超過20%的石灰（Ca〇)。鹼金屬及硫酸鹽（s〇4)含量在 C級飛灰中通常為較高。 飛灰物質在懸浮於廢氣中的同時固化且利用各種手段 譬如靜電沈澱器或過濾袋集中。由於顆粒物在懸浮於廢氣 中的同時固化’飛灰顆粒通常呈球形且大小在〇 5微米至 100微米的範圍内。合意的飛灰包含至少80%重量包括小 於45微米之顆粒物者。又，本發明某些實施例中合意的係 使用向驗性流體化床燃燒器（FBc)飛灰。 /又’在本發明之實施例中合意的係使用爐底灰。爐底 灰係在燃煤鍋爐中由煤之燃燒而形成的團塊。此等燃燒鍋 爐可為濕底銷爐或乾底鋼爐。當在一濕底或乾底鋦爐中生 產時’爐底灰在水中淬火。淬火造成有9〇%之粒徑大小落 入0.1公楚至20公釐範圍内的圑塊，其中爐底灰團塊具有 在此乾圍以内廣泛分佈的團塊大小。爐底灰的主要化學成 刀疋〜氧化矽和氧化鋁，還有較少量之Fe、Ca、Mg、Mn、 Na和K：以及硫和碳的氧化物。 又’在本發明之某些實施例中合意的係使用火山灰當 火金 報。火山灰係由小的火山喷物組成’亦即由火山喷發 產生之碎石及玻璃的碎屑，直徑小於2公釐（0.079英忖）。 65 201105406 在本發明之一實施例中，水泥窯塵灰（CKD)被添加 至反應谷器當作修改pH值的一種手段。生產灰燼及/或 C K D所用之天然的燃料及該燃料的燃燒方式會影響所得灰 燼及/或CKD之化Ha合。目此灰敍域CKD可帛作調整 pH值之手段的—部分或是唯—手段，且可基於灰爐及/或 CKD之化學組合搭配指定灰爐及/或 CKD來利用各種其他 成分。 β本發明之實_巾’灰燼被添加至反應巾當作這些 :力:反f物的一個來源’藉此生產含有-或多種成分譬如 孑P曰曰—氣4匕石々、έ士曰一七

At . , ，，、σ日日一孔化矽、矽酸鈣、矽酸鈣鋁、或可 礦物質沈物呈中灰燼之反應之任何其他部 刀的奴酸鹽礦物質沈澱物。 灰燼使用的灰燼可利用任何適宜規範#如將某量之 =水的反應器内（其中添加的灰燼量足以將ΡΗ值 的Ϊ旦^程度）或是讓水流過譬如呈—柱或床之形式等 二之灰爐而與水接觸以實現期望的pH值修改。 中，用=值未被提高至12或更高之程度的某些實施例 持是一柯方法之飛灰譬如如下文所述可能無法溶解而保 部分分溶解灰爐可咖 構= 之灰爐，此種㈣η、— Μ類似結構&供的某量 該液體流出過灰爐但不允許灰燼固體隨 液體中^在不要求將未溶解灰墟從產品 Ρ值超過12之更其他實施例中，灰爐被 66 201105406 溶解且提供火山灰產物，例如像下文所詳述。 在灰燼被用於沈澱製程中的本發明實施例中，灰燼可 首先藉由譬如靜電沈澱作業的手段而從煙道氣去除，或者 了為經由煙道氣直接利用。灰燼在本發明實施例中的使用 可忐除了提高pH值外還提供反應物譬如氧化紹或二氧化 石夕。 在本發明之某些實施例中，將熔渣用作ρίί值修改劑， 如用以提尚C〇2充填水之pH值。炫渣可用作唯一的pH 值修改劑或是搭配一或多種附加pH值修改劑譬如灰爐等 使用。炫渣係由金屬之處理產生，且可能含有約及鎂的氧 化物以及鐵、石夕和铭的化合物。在某些實施例中，將溶潰 登左pH值修改材料使用，其會經由反應性矽及氧化鋁引至 沈澱產物而提供附加益處。合意的熔渣包含但不限於來自 鐵溶煉的鼓風爐熔渣、來自鋼之電弧或鼓風爐處理的溶 渣、鋼渣、鎳渣及鱗渣。 電化學方法提供從一溶液中之多種物質去除質子的另 一種手段’不管是從溶質去除質子（譬如碳酸或碳酸氫鹽 之去質子化反應）或是從溶劑去除質子（譬如水合氫或水 之去質子化反應）。舉例來說，如果來自C〇2溶解作用之質 子生產量等於或大於從溶質分子之電化學質子去除量，則 可能導致溶劑之去質子化反應。在一些實施例中，舉例來 說，採用低電壓電化學方法去除質子，因為CO2溶解於沈 殺反應混合物或沈澱反應混合物之一前驅溶液（亦即一可 能含有或不含二價陽離子的溶液在一些實施例中，溶解 67 201105406 法處理:二離子4=中的％經低電壓電化學方 或任何物質二氫鹽、水合氫、 在2，、或心二:電電=方法 如L5、1 4、1 1 ! Λ , 卞9電壓下知作’譬 0.6伏特或更低、。·5伏特或更低二更低、 特或更低，伏特或更低、或是 生“的低電壓電化學方法方便用 ^ 便於用二Ϊ 氣的低電壓電化學方法亦 系統及方法中。在-些實施例中，低電 /在_不會產生任何氣體。在—些實施例中，低 ，電化學方法在陰極產生氫氣並將氫氣送觸極魚 =極轉化成質子。不會產生氫氣的電化學方法可能也適 宜。在:些案例中，用以去除質子的電化學方法不會產生 任何氣態副產物。用以實現質子去除的電化學方法進一步 見於2008年12月24日申請之美國專利申請案^ 12/344,〇19號；2008年12月23曰申請之美國專利申^案 第12/375,632號；2008年12月23日申請之世界專利g請 案第PCT/US08/088242號；2009年1月28日申請之世^ 專利申請案第PCT/US09/32301號；及2009年6月24日申 請之世界專利申請案第PCT/US09/48511號，該等申請案每 一者以引用的方式併入本文中。 另一選擇，可利用電化學方法透過例如氯-鹼製程或其 68 201105406 修改型（譬如低電壓修改型）以生產苛性分子（譬如氫氧 化物）。電極（亦即陰極和陽極）可出現在容納水溶液或廢 氣充填（譬如c〇2充填）溶液的裝置中，且一選擇性障壁 譬如膜可分離該等電極。用於去除質子的電化學系統及方 去可生產可被收集並用於其他用途的副產物（譬如氩 > 可 用於本發明之系統及方法中的其他電化學方案包含但不限 於2008年7月16曰申請之美國暫時專利申請案第 61/081,299號以及美國暫時專利φ請案第61舰，729號， 該等申請案以引用的方式併人本文中。可採用以上所述用 以實現質子去除之質子去除劑源及方法的組合。 在利用電化學製程去除質子且/或生產鹼的實施例 中，通常也會生產-酸流譬如HC1流，料利用此流本身 或任何”他適且、源或以上之—組合增強例如含鎂礦物譬 如橄欖石或蛇紋石或枝料如水泥廢制雜。滚^

步驟而從一 CO t發明之方法包含藉由在水上進行一沈殿 乳源例如-工業氣態源譬如動力廠之煙 69 201105406 f氣或是水絲之廢氣以去除c〇2的方法，該水中已溶入 來自该co2氣態源的co2，該沈殿步驟在單 提供10公克/公升或更多的沈殺物、在單一沈殿步=中提 15公克/公升或更多的沈殿物、在單—㈣步驟 ^ 公克/公升或更多的沈澱物、在單—沈澱步驟中提供 /公升或更多的沈澱物、在單一沈澱步驟中提供30八^、 升或更多的沈澱物、在單一沈澱步驟中提供40公克= 更多的沈澱物、在單一沈澱步驟中提供50公克/公升二更： 的沈殿物、在單-沈殿步驟中提供⑼公克/公升或更多的二 殿物、在單-沈殿步驟中提供7G公克/公升或更多的沈^ 物、在單-沈澱步驟中提供80公克/公升或更多的沈殿物、 在单-沈財财提供90公克/公升或更乡料㈣、在單 -沈殿步驟中提#⑽公克/公升或更多的沈殿物、在單一 沈殿步驟巾提供125公克/公升或更乡的沈殿物、或者在單 -沈殿步^提供15G公克/公升或更多的沈激物。 在一些實施例中，本發明之方法包含藉由使一水（譬 ^海水、鹽水、吸收性溶液）經受沈澱條件而從一 c〇2氣 悲，例如一工業氣態源譬如動力廠之煙道氣或是水泥廠之 廢就中去，〇)2的方法’該水中已溶入來自該c〇2氣態源 (譬如二氧化碳工業源）的c〇2，其中該等沈澱條件在72 小時之沈澱條件連續施用當中提供平均 136噸/小時至445 噸/小時的沈澱物。 在一些實施例中，本發明之方法包含藉由使一水（譬 如海水、鹽水、吸收性溶液）經受沈澱條件而從一 C02氣 201105406 悲源例如一工業氣態源譬如動力廠之煙道氣或是水泥廠之 廢氣中去除c〇2的方法，該水中已溶入來自該c〇2氣態源 (譬如二氧化碳工業源）的c〇2，其中該等沈澱條件在72 小時之沈澱條件連續施用當中提供平均每公升吸收性溶液 2.6公克沈澱物至每公升吸收性溶液2611公克沈澱物。在 一些貫施例中，該等沈澱條件在72小時之沈澱條件連續施 用當中提供平均每公升吸收性溶液5 2公克沈澱物至每公 升吸收性溶液26.11公克沈殿物。在一些實施例中，該等沈 澱條件在72小時之沈澱條件連續施用當中提供平均每公升 吸收性溶液7.83公克沈澱物至每公升吸收性溶液2611公 克沈殿物，例如每公升吸收性溶液9 至26.u公克、嬖 如10.44至26·η公克、譬如11.75至26_11公克、譬如13.05 至26.11公克、譬如丨4.36至26.11公克、譬如15.66至26.11 公克、譬如16.97至26.11公克、譬如丨8.27至26.11公克、 #如19.58至26.11公克、譬如20.88至26.11公克、譬如 22.19至26.11公克、譬如23.5至26.11公克、譬如24.8至 26.11公克的沈澱物。 在一些實施例中，沈澱物包括碳酸鎂；在一些實施例 中沈澱物包括碳酸鈣；在一些實施例中，沈澱物包括鎂和 鈣，及/或碳酸鎂/鈣。在一些實施例中，在單一沈澱步驟中 生產之沈澱物質的鎂鈣比為至少05:1，或至少1:1，或至 少2:1 ’或至少3:1，或至少4:1，或至少5:1，或至少6:1， 或至少7:1 ’或至少8:1，或至少9:1，或至少1〇:1。在—些 實施例中，在單一沈澱步驟中生產之沈澱物質的鎂鈣比為 71 201105406 至少2:1。在一些實施例中，在單一沈澱步驟中生產之沈澱 物質的鎂鈣比為至少4:1。在一些實施例中，在單一沈澱步 驟中生產之沈澱物質的鎂鈣比為至少6:1。在一些實施例 中，沈澱物含有碳酸鈣及碳酸鎂，且含有允許碳^鹽中之 碳之至少一部分追溯至一化石燃料源頭。 在一些實施例中，沈澱物包括碳酸鎂；在一些實施例 中沈殿物包括碳酸!弓；在-些實施例中，沈殿物包括鎮和 鈣，及/或碳酸鎂/鈣。在一些實施例中，在72小時之沈澱 條件施用當中生產之沈澱物質内的平均鎂鈣比為至少 〇.5:1 ’或至少1:卜或至少2:卜或至少3:卜或至少^， 或至少5:1，或至少6:1，或至少7:卜或至少8:1，或至少 9:卜或至少10:卜在一些實施例中，在72小時之沈殺條 件施=當中生產之沈澱物質内的平均鎂鈣比為至少2:1。在 些貫施例中，在72小時之沈澱條件施用當中生產之沈澱

物質内的平均鎂鈣比為至少4:1。在一些實施例中，在W 小時之沈澱條件施用當中生產之沈澱物質内的平均鎂鈣比 為至夕6.1。在一些實施例中，沈澱物含有碳酸鈣及碳酸 鎂，且含有允許碳酸鹽中之碳之至少一部分追溯至一化石 燃料源頭。 祕=以上所述，本發明之方法包含使水（其可為已經或 曾如前所述在—充填反應器内被C02充填）經受足以生產 儲存穩疋沈殿一氧化碳封存產物的沈殿條件。可採用任 何適宜沈殿條件，此等條件導賴望封存產物生產。 合意的沈澱條件包含調節水之物理環境以生產期望沈 72 201105406 澱產物的條件。舉例爽 望產物之沈殿作用的程度。適於發生期 =:啊之一值，譬如 期料熟〜’在某些實施财溫度可、_整以生產 .。水溫可利用任何適宜手段調整。在一些案例 j溫度係利用由低或零二氧化碳排放源譬如太陽能源、 風f源、水力發電能源、地熱能源產生的能量或是來自煙 J氣（其在需要加熱作用時可高達·。c )之廢熱等方式調 整。 儘官在一給定沈澱製程期間水之pH值可在7至14的 範圍内在些案例中pH值被提高至驗性程度以便生產期 望沈澱產物。在這些實施例中，如前所述，pH值被提高至 足以引發期望C〇2封存產物之沈澱作用的程度。因此， PH值可被提咼至9.5或更高，譬如1〇或更高，包含1〇 5 或更高。若有需要，pH值可被提高至一在沈澱作用期間即 使未能消除亦最小化〇〇2生成作用的程度。舉例來說，pH 值可被提咼至ίο或更高的值，譬如η或更高的值。在某 些實施例中，pH值被提高至7與U之間，譬如8與η之 間’包含9與11之間，例如10與η之間。在此步驟中， pH值可被提尚並維持在期望鹼性程度，致使pH值被維持 在一恆定鹼性程度，或者pH值可依期望在兩種或更多種鹼 性程度之間轉變或循環。 在正常海水中，已溶解C〇2之93%係呈碳酸氫鹽離子 73 201105406 (hco3 )之形式且6%係呈碳酸鹽離子 鈣從正常海水中沈题時，co2被釋出。在3 )。當碳酸 淡水中’超過90%的碳酸鹽係呈碳醆鹽‘之PH:.33的 碳_沈殿制不會釋出c〇2。在海水中=’且在 值在-給定沈殿製程期間介於5至14之間二中之水^ PH 中PH值被提高至驗十生程度以便視需 妒^實知例 以及其他化合物譬如氫氧化合物的沈殿作Ϊ :=匕ΐ物 例當中的某些實施例中，ρΗ值被提高至 『施 即使未能消除亦最小化叫生成作用的程度間 =(譬如呈碳酸鹽及碳酸氫鹽之形式）被困在碳酸趟= 物核物内。在這些實施射，pH值可被提高至 。 譬如10或更高，包含u或更高。 /间’ 如以上概括所述，水源譬如含鹼土金屬離子的水之 值1用任何適宜手段提高。在某些實施例中，可使用— 值提升劑，此等劑物之實例包含氧化物（氧化鈣、氧化鎂ρ)， ^氧化物（譬如氫氧化鉀、氫氧化鈉、氫氧鎂石（Mg(〇H)2) 等）’碳酸鹽（譬如碳酸鈉）及類似物。 2 如上所述，在某些實施例中使用灰燼（或者在某些實 施例中使用熔渣）作為將水之pH值修改成期望程度的唯一 方式。在更其他實施例中，搭配灰燼之使用而使用一或多 種附加pH值修改手段。 另一選擇或搭配pH值提升劑之使用（譬如像以上所 述）’水（譬如含驗土金屬離子的水）源的pH值可藉由採 74 201105406 用一電解或電化學手段使水電解而被提高至期望程度。合 意的電化學手段包含但不限於前文所述者以及見於2008年 7月16曰申請之美國暫時專利申請案第61/〇81，299號及 2008年8月25曰申請之美國暫時專利申請案第61/091,729 5虎的電化學手段，該等專利申請案以引用的方式併入本文 中。還有合意的電解方法見於2006年8月24日公開之美 國專利申請公開案第2006/0185985號及2008年10月9日 △開之美國專利申請公開案第2008/0248350號，以及2008 月Η日公開之世界專利申請公開案第W〇 2〇〇8/〇18928 號等專利中請案以引用的方式併人本文中。 若有需要，亦可將pH值提升劑以外的添加物導入水中 以便影響所生產之沈㈣的本f。因此，方法之某些實施 例L 3在使水經文沈丨殿條件的時間之前或期間於水中提供 -添加物。某些碳酸妈多形物可因微量的某些添加物而為 有利。舉例來說，可因在-過飽和碳酸㉟溶液巾包含微量 的鑭譬如氣化鑭而以極高產量獲得六方方解石（一種以多 種不同形態沈澱且快速轉化成方解石的極不穩定多形

CaC〇3) 〇鑭以外的其他合意添加物包含但不限於過渡金屬 及類似物。舉例來說，已知三價鐵及二價鐵的添加有利於 在原本不會形成無序白雲石（原白雲石）的情況中生成無 序白雲石。 沈澱物的本質亦可受適當主要離子比之選擇的影響。 =要離子比亦對於多形物生成有可觀影響。舉例來說，隨 著水中的鎂辑比提㊣，霞^變成優於低鎂方解;5之碳酸到 75 201105406 有利多晶形物。在低鎂鈣比，低鎂方解石為較佳多形物。 沈澱速率亦對於化合物相生成有相當大的影響。最快 速的沈澱作用可'藉由用—期望相對溶液播晶種而達成。若 未播晶種，快速沈殿作用可藉由快速地提高海水之pH值而 達成，這會得到更多非晶成分。在有二氧化矽時，反應速 率越快，越多二氧化矽與碳酸鹽沈澱物合併。{)11值越高， 沈殿作用越快，且沈殿物越多非晶組織。 ，此，在某些實_巾，用於從水生產—期望沈殿物 的一組沈澱條件包含水溫及p Η值，且在—些 中添加物濃度及離子種類。沈澱條件亦可包含 J 7 率、搜拌之形式譬如超音波，以及晶種 〜匕古速 土貪之存在寺因子。在一些實施例中，沈飞 和條件、溫度、pH值、及/或濃度梯度，或是S過餘 一者之循環或變更。用以製備依據本發明之护二 > 數之任 沈澱物的手段可為批次或連續式手段^鹽化合物 批次系統，在-連續流祕中為生產—1=到相較於-件可為不同。 i 物沈凝條 在某些實施例中，水（譬如含鹼土金屬離 c〇2之間的接觸可為利用任何適宜手段（檗如+1水）與 式流管反應器）完成，藉以控制沈殿物之粒糾、多段 在本發明之方法及系統中可將—或多種添力;^、的範圍。 屬離子的水源中’譬如凝聚劑、分散劑、界：口至含金 垢劑、晶體生長阻滞劑、封存劑等，以便押^性劑、防 徑大小的範圍。 上制此搬物之粒 76 201105406 水的pH值可利用任何適宜手段提高。本文中較詳細說 明之合意手段包含但不限於：pH值提升劑的使用，電化學 方法’使用天然械水譬如取自械水湖等。在一些案例中， 可使用一 pH值提升劑，其中此等劑物之實例包含氧化物 (譬如氧化鈣、氧化鎂等），氫氧化物（譬如氫氧化鈉、氫 氧化鉀、及氫氧化鎂），碳酸鹽（譬如碳酸鈉），及類似物。 添加至水之pH值提升劑的量將取決於此劑之特定本質及 欲修改之水量’且將足以使水之pH值提高至期望值。 以下說明可用於本發明之實施例中的電化學製程及系 統。此等製程及系統利用一或多個離子選擇膜（一種用於 生產氫氧化物的低電壓系統）。這些製程及系統進一步見於 2008年12月23曰申請之發明名稱為、、Low_Energy

Electrochemical Hydroxide System and Method"的世界專利 申請案第PCT/US08/88242號及2008年12月23曰申請之 电明名稱為 Low-Energy Electrochemical Proton Transfer System and Method” 的世界專利申請案第 pCT/us〇8/88246 號，該等專利申請案以引用的方式併入本文中。 用於生產氳氧化物的低電壓系統 用於從水溶液去除質子/生產氫氧化物的第二紕方法 及系統涉及一種低能量製程，該低能量製程利用一電化學 胞元内之一離子交換膜電化學地製備一離子溶液。在一實 把例中，§亥系統包括一電化學系統，其中一離子交換膜使 一第一電解質與一第二電解質分離，該第一電解質接觸一 77 201105406 該第二電解質接觸—陰極。在該系統中，在橫跨陽 不會形成氣體。 極形成絲離子且在陽極 -勺i另—實施例中’該純包括—電化學系統，其包括 -π 一第一電解質之陽極的第一電解質胞元，及 m:解質與一第三電解質分離的陰離子交換膜； -使：^雪：：陰極之第二電解質的第二電解質胞元及 ^第-電解質與該第三電解質分離的陽離子交換膜· 離子===，時’會在陰極形成氫氧 -雷例巾’ &方法包括將—離子交換膜放在一第 且：第二電解質之間，該第-電解質接觸-陽極 加"雷^ f接觸—陰極；且藉由橫跨該陽極和陰極施 使離子遷移越過該離子交換膜以在該陰極形成氮 礼離子而不在該陽極形成一氣體。 阶離=:實_中，該方法包括將—第三電解質放在一 離:=之間;將-第-電_ 該陽離子交間，-第二電解質放在 施力—' w木之間，且藉由橫跨該陽極和陰極 換膜子遷移越過該陽離子交換膜和該陰離子交 、n錯極形成氫氧離子而不在該陽極形成—氣體。 低電統，來自一溶液的離子物質被以- 用的险離子:：=另一溶液’藉此提供用於各種應 .的陰離子减，包含製備—錢化納減❹本文所述 78 201105406 干^咴之封存。在一實施例中 的溶液且藉由如本文所述從一包括寻-包括 ， 谷液中沈澱鈣和鎂之碳酸鹽及於離子的鹽 拖各實施例中之方法及系統係關叫。 ，方法，其中不會在陽極形成氣體== 匕學系 離子。因此，在-些實施例中，在1 形成經基 2離子而無氧氣或氯氣之生成。在—此中形成氫 子係在-電化學製程中形成，其中橫：；= 列中，氫氧離 電壓低於2.8伏特、2.7伏特、2 、*極和陰極施加的 特、2.2伏特、Z1伏特、2 〇 . ^特2·4伏特、2_3伏 大特，…伏特、 :伏特，伏特、0.9伏特、〇 .、：’ 特、〇·5伏特、0.4伏特、0.3伏特、二〇.::特、〇.6伏 在各實施例中，利用一離子接或0.1伏特。 與陰極接觸的嬖如與％極接觸的鹽水與- 施加-低電屢時，會在溶液離。在橫跨陰極和陽極 :溶液，同時在溶液令陽極附;形氫氧化納 -在各實施例t，諸如氯氣或氧氣的氣體不會：： 叫用來封存 物以提供用於封存C 〇2之舞和鎮離子Ά π有舞和鎂的鑛 翻到圖s至】〇,在各實施例_，系統如本文所述適用 79 201105406 於批次及連續式製程。參照圖8至9,在一實 包含-電化學胞元，其中-離子交換膜⑽、 位以使-第-電解質（804)與—第二電解f 分離， 該第-電解質接觸-陽極（8G8)且該第二電解f接觸一陰 極（810)。如圖8所示，使用一陰離子交換膜（8〇2);: 圖9中使用一陽離子交換膜（824 )。 在如圖8和9所示各實施例中，第一電解質（謝）包 括-包括海水、淡水、鹽水、或微鹹水或類似物的鹽水溶 液’且第二電解質包括-大致為氣化納的溶液。在各實施 例中，第三電解質（806)可包括海水或一濃縮氣化納溶液。 在各實施例中，陰離子交換膜（802)及陽離子交換膜（824) 包括適用於在一高達10(rc操作溫度之水溶液中用在酸性 及/或鹼性溶液中的傳統離子交換膜。如圖8和9所例示， 第和第一電解負係與陽極和陰極接觸以完成一包含電壓 或電流調節器（812)的電路。該電流/電壓調節器適於視需 要加大或減小系統中橫跨陰極和陽極之電流或電壓。 參照圖8和9’在各實施例中，電化學胞元包含適於將 第一電解質（ 804)輸入至系統内並與陽極（8〇8)接觸的 第一電解質入口埠（814)。相似地，胞元包含用於將第二 電解質（ 806)輸入至系統内並與陰極（81〇)接觸的第二 电解質入口琿（816)。此外，胞元包含用於從該胞元排出 第—電解質的出口埠（818)及用於從該胞元排出第二電解 質的出口埠（82〇)。如熟習此技藝者可理解，入口埠和出 〇埠適用於各種流規範，包含批次流、半批次流或連續流。 201105406 在替代實施例中，系統包含一用於將氣體導往陽極的導管 (822);在各實施例中該氣體包括在陰極（810)形成的氫 氣。 參照圖8,其中使用一陰離子膜（8〇2)，在橫跨陰極 (810)和％極（8〇8)施加一低電壓後，在陰極（“ο)形 成氫氧離子且不會在陽極（808)形成氣體。此外，在第二 電解4 ( 806)包括氯化鈉的情況中，氣離子從第二電解質 ( 806)通過陰離子交換膜（8〇2)遷移至第一電解質（8〇4) 内丄在陽極（ 808)形成質子；且在陰極（81〇)形成氫氣。 如則所述’諸如氧氣或氣氣的氣體不會在陽極（808)形成。 參照圖9，其中使用一陽離子膜（824)，在橫跨陰極 (8jl)和陽極（ 808)施加一低電壓後，在陰極（81〇)形 成氫氧離子且不會在陽極（8〇8)形成氣體。在各實施例中， 陽離$交換膜（824)包括適用於在一高達1〇〇。〇操作溫度 之水岭液中搭配酸性及/或鹼性溶液使用的傳統陽離子交換 9所示，第-和第二電解質與陽極和陰極接觸以 包含電壓及/或電流調節器（812)的電路。該電壓/ 電即态適於視需要加大或減小系統中橫跨陰極和陽極 :二二或電壓。在圖9所示系統中’其中第二電解質（觀） 二^化鈉’鈉離子從第一電解質（8〇4)通過陽離子交換 ^ 24)遷移至第二電解f (8〇6)内；在陽極（綱）形 户，且在陰極（810)形成氫氣。如前所述，諸如氧氣 或虱氧的氣體不會在陽極（8〇8)形成。 如熟習此技藝者所能理解，且參照圖8,在第二電解質 201105406 (806)中，當來自陰極（81〇)的氫氧離子與來自該第二 電解質之氣離子之遷移為同時進入第二電解質（8〇6)内 時，會在第二電解質（806)内形成氫氧化鈉水溶液。因此， 視杈跨δ亥系統施加的電壓及第二電解質（8〇6)通過該系統 之流率而定，第二電解質之{511值被調整。在一實施例中， 當一 〇.1 V或更小、0.2 V或更小、0.3 V或更小、〇 4V或 更小、0.5 V或更小、〇.6 V或更小、〇·7 v或更小、0.8 V 或更小、0.9 V或更小、ΐ·〇 v或更小、1丨v或更小、丨2 v 或更小、1.3 V或更小、1.4 V或更小、1.5 V或更小、1.6 V 或更小、1.7 V或更小、1.8 V或更小、丨.9 V或更小、或2.0 V或更小的電位橫跨陽極與陰極施加時，第二電解質溶液 之pH值提高；在另一實施例中，當一 〇 1 v至2 〇 v之電 壓橫跨陽極與陰極施加時，第二電解質溶液之1?15值提高； 在更另一實施例中，當一 〇.丨v至丨v之電壓橫跨陽極與陰 極施加時，第二電解質溶液2pH值提高。使用橫跨該等電 極之 0.1 V 至 〇·8 V、0.1 v 至 〇·7 V、0.1 V 至 0.6 V、0.1 v 至0.5 V、〇.1 V至0.4 V、及〇.1 ν至〇 3 ν的電壓可達成 相似結果。依據該系統達成之範例結果整合於表2。 表學方法及系統 橫跨電極 的電壓 時間 (秒） 陽極處初 始pH值 陽極處結 束pH值 陰極處初 始pH值 陰極處結 束pH值 0.6 2000 6.7 3.8 6.8 10.8 1.0 2000 6.6 3.5 6.8 11.1 82 201105406 在此貫例中，陽極和陰極二者皆包括鉑，且第—和 二電解質包括一氣化鈉溶液。 相似地，參照圖9，在第二電解質（806)中，當來自 陰極（810)的氫氧離子與來自該第—電解質之氣離子之遷 移為同時進入第二電解質（8〇6)内時，會在第二電解質 (806)内形成越來越多的氫氧化鈉水溶液。視橫跨該系統 施加的電壓及第二電解質通過該系統之流率而定，溶液之 pH值將被調整。在—實施例中，當一 〇1 v或更小、ο』v 或更小、0.3V或更小、〇.4v或更小、〇5¥或更小、〇6v 或更小、0.7V或更小、〇.8¥或更小、〇9v或更小、〗〇v 或更小、1·1 V或更小、丨.2 V或更小、13 v或更小、丨4 v 或更小、1.5 V或更小、或更小、丨7V或更小、丨8 v 或更小、1.9 V或更小、或2.G V或更小的電壓橫跨陽極與 陰極施加時，第二電解質溶液之1)11值提高；在另一實施例 中，當一 0.1 V至2.0 V之電壓橫跨陽極與陰極施加時，第 二電解質溶液之pH值提高；在更另一實施例中，當一 v 至1 V之電壓橫跨陽極與陰極施加時，第二電解質溶液之 PH值提高。使用橫跨該等電極之〇」v至〇 8 v、〇」v至 〇·7 V、0.1 V 至 0.6 V、0·1 V 至 0.5 V、0.1 V 至 0.4 V、及 0.1 V至0.3 V的電壓可達成相似結果。在一實施例十，一 0.6 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施加；在另一實施例 中，一 0.1 V至0.6 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施加； 在更另一貫施例中，一 0.1 V至1 V或更小的電壓橫跨陽極 83 201105406 與陰極施加。 2實_巾且參照圖8至lG，形成於陰 :人:丄 離子遷移至第-電解f (8⑷内4輕如如圖斤^ ^離^第-電解質遷移出，會在第—電解質（綱）中= 亏L括譬如氫氣酸的酸性溶液。 如圖1G所示之另-實施例中，系統包括—電化 兀，其包含接觸第一電解質（804)的陽極（8〇8)及—八 ，該第1解質與-第三電解質（謂）的陰離子交換ς )，及一第一電化學胞元，其包含一接觸一陰極（81〇) =第二電解質（ 806)及一分離該第一電解質與該第三電解 貝的陽離子交換膜（824)，其中在橫跨該陽極與陰極施加 一電壓時’會在該陰極形成氩離子且不會在該陽極形成氣 體。如同圖8和9之系統，圖10之系統適用於批次及連續 製程。 在如圖10所示之各實施例中，第一電解質（804)和 第二電解質（806)包括一包含海水、淡水、鹽水、或微贼 水或類似物的鹽水溶液；且第二電解質包括主要是氯化納 的溶液。在各實施例中，第一電解質（ 804)和第二電解質 (806)可包括海水。在圖1〇所示實施例中，第三電解質 (830)主要包括氯化鈉溶液。 在各實施例中，陰離子交換膜（802)包括適用於在一 84 201105406 的任打、商人!!溫度之水溶液甲搭配酸性及鹼性溶液使用 勺括離子交換膜。相似地，陽離子交換膜（824) 於在—高彡1()叱操作溫度之水溶液中搭配酸性 «’谷液使用的任何適合陽離子交換膜。 所示，在各貫施例中，第一電解質（804.)與 晚8〇8)接觸且第二電解質（8〇6)與陰極（810)接觸。 及陽離子交換膜接觸的第三電解質（請）完成-^ 3電壓或電流調節器（812)的電路。該電流/電壓調節界 =依需要加大麵小橫跨該純之陰極與陽極的電流^ >…、圖1〇，在各實施例中，電化學胞元包含適用於將 一電解質（804)輸入系統内的第一電解質入口埠（814); 用於將第二電解質（8G6)輸人系統内的第二電解質入口蜂 (816);及用於將第三電解質輸入系統内的第三入口埠 (826 )。此外，胞元包含用於排出第一電解質的出口埠 (M8一）；用於排出第二電解質的出口埠（82〇);及用於排 出，三電解質的出σ淳（828 )。如熟f此技藝者所能理解， 該等入口埠和出口埠適用於各種流規範，包含批次流、半 ，次流或連續流。在替代實施例中，該系統包含一用於將 氣體導往陽極的導管（822);在各實補巾該氣體 極（810)形成的氫氣。 κ 參照圖10 ’在橫跨陰極（810)與陽極（ 808)施加— 低電壓後，會在陰極（81〇)形成氫氧離子且不會在陽極 (8〇8)形成氣體。此外，在第三電解質（83〇)包括氣化 85 201105406 =的情況中，氣離子從第三電解質⑽）通過陰離子交換 、（ 802)遷移至第—電解質（謝）内；鈉離子從第三電 解f U30)遷移至第二電解f (_);質子形成於陽極； 2氣形成於陰極。如前所述，不會在陽極（咖）形成氣 月立4如氧氣或氣氣。 ^如熟習此技藝者所能理解，且參照圖10，在第二電解 ^806 )中，▲來自陰極（810)的氫氧離子與來自該第 電解質之鈉離子之遷移為同時進入溶液内時，會在第二 電解為（ 806)内形成越來越多的氫氧化納水溶液。視橫跨 ，系統施加的電壓及該第二電解質通過該系統之流率而 定，溶液之pH值被調整。在一實施例中，當一 〇1 v或更 小、0.2 V或更小、〇.3 V或更小、0.4 V或更小、〇.5 v或 更小、0.6 V或更小、0.7 V或更小、〇.8 v或更小、〇 9 v 或更小、1.0 V或更小、1·1 V或更小、1.2 v或更小、丨3 v 或更小、1.4 V或更小、1.5 V或更小、1.6 v或更小、17 v 或更小、1.8 V或更小、1.9 V或更小、或2.0 V或更小的電 壓橫跨陽極與陰極施加時，該第二電解質溶液之pH值提 高；在另一實施例中，當一 0.1 V至2·〇 V之電壓橫跨陽極 與陰極施加時，第二電解質溶液之pH值提高；在更另一實 施例中，當一 〇1V至1V之電壓橫跨陽極與陰極施加時， 弟一電解質溶液之pH值提咼。使用橫跨該等電極之〇」v 至 0.8 V、〇.1 v 至 0·7 V、〇.1 V 至 0.6 V、0.1 v 至 〇.5 V、 〇.1 V至〇.4 v、及〇.1 V至〇.3 V的電壓可達成相似結果。 在一貫施例中，一 0.6 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施 86 201105406 加；在另一實施例中’一 o.l V至0.6 V或更小的電壓橫跨 陽極與陰極施加；在更另一實施例中，一 〇. IV至IV或更 小的電壓橫跨陽極與陰極施加。 相似地，參照圖10，在第一電解質（ 804)中，當來自 陽極（808)的質子與來自該第三電解質之氯離子之遷移為 同時進入溶液内時，會在第一電解質（804)内形成用來越 多的酸性溶液。視橫跨該系統施加的電壓及該第二電解質 通過該系統之流率而定’溶液之pH值被調整。在一實施例 中，當一 0.1 V或更小、〇·2 V或更小、0.3 V或更小、0.4 V 或更小、0.5 V或更小、〇_6 V或更小、0.7 V或更小、0.8 V 或更小、0.9 V或更小、1.0 V或更小、1_1 V或更小、1.2 V 或更小、1·3 V或更小、1.4 V或更小、1.5 V或更小、1.6 V 或更小、1.7 V或更小、1.8 V或更小、1.9 V或更小、或2.0 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施加時，第二電解質溶液 之pH值提高；在另一實施例中，當一 〇丨v至2.0 V之電 壓橫跨陽極與陰極施加時，第二電解質溶液之pH值提高； 在更另一實施例中，當一 〇.1 V至1 V之電壓橫跨陽極與陰 極施加時，第二電解質溶液之pH值提高。使用橫跨該等電 極之 0.1 V 至 0.8 V、0.1 V 至 0.7 V、0.1 V 至 0.6 V、0.1 V 至0.5 V、0.1 v至0.4 V、及0.1 V至0.3 V的電壓可達成 相似結果。在一實施例中’一 〇.6V或更小的電壓橫跨陽極 與陰極施加；在另一實施例中，一 〇丨V至0.6 V或更小的 電壓橫跨陽極與陰極施加；在更另一實施例中.，一 〇.〗V至 1 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施加，如表2所列。 87 201105406 女圖10所示，形成於陰極（81〇)的氫氣被導往陽極 (808)，不侷限於任何理論，咸信該氣體被吸收及/或吸入 陽極内且隨後在陽極形成質子並進入第一電解質（8〇4)。 又，在如圖8至1〇所示之各實施例中，不會在陽極（8〇8) 形成氣體譬如氧氣或氣氣。據此，如吾人可理解，隨著質 子在陽極處生成及氯氣遷移至第一電解質内，會在第一電 解質（804)中獲得氫氣酸。 如參照圖8至9所述，當來自陰極（81〇；)的氫氧離子 與來自該第一電解質之氣離子之遷移為同時進入第二電解 質（ 806)内時，會在第二電解質（8〇6)内形成氫氧化鈉 水溶液。因此，視橫跨該系統施加的電壓及第二電解質 ( 806)通過該系統之流率而定，第二電解質之pH值被調 整。在一實施例中，當一（U V或更小、〇 2 V或更小、〇 3 V或更小、0.4 V或更小、〇.5 V或更小、0.6 v或更小、〇 7 V或更小、0.8 V或更小、〇·9 V或更小、丨〇 v或更小、i」 V或更小、1.2 V或更小、ι·3 V或更小、丨4 v或更小、丄5 V或更小、1.6 V或更小、1.7 V或更小、丨8 v或更小、i 9 V或更小、或2.0 V或更小的電壓橫跨陽極與陰極施加時， 第二電解質溶液之pH值提高；在另一實施例中，當一 〇1 v 至2.0 V之電壓棱跨1%極與陰極施加時，第二電解質之pH 值提南；在更另一實施例中，當一 0.1 V至IV之電壓橫跨 陽極與陰極施加時，第二電解質溶液之pH值提高。使用橫 跨該等電極之0.1 V至0.8 V、0.1 V至0.7 V、0.1 V至0.6 V、 〇.1\^至0.5\^、0.1\^至〇.4\^、及0.1\/'至〇.3\/>的電壓可 88 201105406 達成相似結果。在一實施例中，當一 0.6V或更小的電壓橫 跨陽極與陰極施加時’第一電解質溶液之pH值提古.在另 一實施例H 0·1 V至V或更小的電壓橫跨陽極盘 陰極施加時，第二電解質之ΡΗ值提高；在爭Η —二 R尺另一貫施例 中，當-（U V至i V4更小的電壓橫跨陽極與陰極施加 時，第二電解質溶液之pH值提高。 視情況，如前所述，藉由使一包含C〇2的氣體以氣泡 進入第二電解質溶液806内，該氣體溶入該第二電解質溶 液内。在一任選步驟中，如本文所述，利用所得第二電解 質溶液使一碳酸鹽及/或碳酸氫鹽化合物譬如碳酸鈣戋碳酸 鎂及/或其等之碳酸氫鹽沈澱。沈澱的碳酸鹽化合物可如^ 文所述用作水泥及建築材料。 在另一任選步驟中，利用酸化的第一電解質溶液8〇4 溶解一富含辦及/或鎂的礦物譬如包含蛇紋石或撖視石的鎂 鐵質礦物，藉以用作如本文所述用於沈澱碳酸鹽及碳酸氫 鹽的溶液。在各實施例中，所得溶液可用作第二電解 液。相似地，在氫氯酸於第一電解質8〇4中生產的實施例 中，可用該氫氣酸取代或添加至該酸化第二電解質溶液。 、以上所述實施例生產富含碳酸氫鹽離子及碳酸鹽離子 或其等之組合以及酸化流的電解質溶液。該酸化流亦可用 於多種化學製程。舉例來說，該酸化流可用來溶解富含鈣 及/或鎂的礦物譬如蛇紋石和撖欖石以產生用於貯器 (戈832)中的電解貝；谷液。5亥電解水溶液可被碳酸鹽離子 充滿且隨後成為極鹼性的以便如本文所述使碳酸鹽化合物 89 201105406 沈澱。 fa例中，可利用—第—電化學製程從溶液去 。2促進αν及收，不伴隨氫氧化物生成，㈣可利 一電化予製程生產氫氧化物以便進一步去除 平衡朝碳酸鹽偏移並導致碳酸鹽m製程可呈有不 =壓需求’例如該第一製程可為需要比該第二製程低的 電堡’攸而使該製程中使用的總電壓最小化。舉例來說， =一製程可為如細8年12月24日申請之美國專利申請 案第12/344,019號中說明的雙電極製程，該申請案以引用 的方式併入本文中，其在U v或更低、Q 9 v或更低、〇 8 V或更低、G.7 V或更低、〇.6 v或更低、Q 5 v或更低、〇 * V或更低、G.3 V或更低、〇.2 v或更低、或Q1 v或更低操 作；而該第二製程可為如前所述之低電壓氯氧化物生產製 程，其在1.5 V或更低、M v或更低、13 v或更低、i 2 v 或更低、1.1 V或更低、L0 v或更低、〇 9 v或更低、〇 8 v 或更低、0,7 V或更低、〇_6 v或更低、〇 5 v或更低、〇 4 v 或更低、0·3 V或更低、0.2 v或更低、或Q.! v或更低操作。 舉例來說，在一些實施例中該第一製程係一在〇 6 v或更低 操作的雙電極製程，且該第二製程係一在1.2 V或更低操作 的低電屋氫氧化物生產製程。 同樣引人注意的是見於下列公開案的電化學方法：已 於2006年8月24曰公開之美國專利申請公開案第 2006/0185985號；已於2008年10月9日公開之美國專利 申請公開案第2008/0248350號；已於2008年2月14曰公 201105406 開之世界專利申請公開案第WO 2008/018928號 ;及已於 2009年7月7日公開之世界專利申請公開案第WO 2009/086460號’該等公開案以引用的方式併入本文中。 化學汁1顯示有待沈澱以便從一 C02源封存C02之碳 S㈣的生產f要從當c〇2溶於水巾時形成的初始碳酸去除 了個貝子（見刖文等式iSS)。第一質子之去除產生碳酸 氫鹽且第一質子之去除產生碳酸鹽，其可被沈澱為例如二 仏陽離子之碳酸鹽譬如碳酸鎂或碳酸鈣。二個質子之去除 =求通常需要能量的—些製程或製程組合。舉例來說， 右質子係透過氫氧化鈉的添加而被去除，則可回收氫氧化 納的來源通常是氯驗（ehlGralkali)製程，其採用一需要至 的電化學製程及每莫耳氫氧化鈉固定量之電子。此 能量需求可以碳足跡、亦即提供能量驅動此製程所產生之 碳量表示。 ，一種表示用於一已知質子去除製程之碳足跡的適宜方式是 從C〇2源去除之c〇2的百分率。也就是說，用於去除質子 所需的能量可就生產該能量之一傳統動力產生方法之c〇2 排放量表示，而此可被表示為從CO2源去除之C02之百分 率。為方便起見，且作為本發明此觀點中之一定義，此一 製程中、、產生的C〇2”會被視為在一傳統煤/蒸汽動力廠中 生產用以提供充分能量去除二個質子的C02。可取得公開 的最近幾年此等動力廠之資料顯示生產每總Mwh能量會 生產成噸的C〇2。舉例來說，參見具有以、、http://carma// 與、、〇rg/api/〃組合產生之位址的網站。為在此設下定義， 201105406 將使用每MWh -嘲C02的值，這相當貼近典型燃煤動力 廠，舉例來說，WAParish廠在2〇〇〇年生產18 2〇〇,〇0〇MWh 的能量同時產生大約19,500,000噸的c〇2,且現在生產 2l，300，_MWh的能量同時產生2〇 9⑼，_嘲的c〇2，平 均起來非常接近將在本文中使用之每MWh 一噸c〇2的定 義。然後可利用這些數字計算要去除充分質子以從一氣體 流去除〇)2所需要的C02產量，並以此與去除的c〇2作比 較。舉例來說’在—利用在2.8V操作之氣驗製程提供驗且 用以從一煤/蒸汽動力廠封存c〇2的製程中，運用一噸c〇2/1 MWh的比，由供應能量以藉由該氣鹼製程生產鹼而去除2二 個質子的動力廠生產之C〇2量將遠大於藉由去除二個質子 並以穩疋开> 式沈殿C〇2所封存之c〇2量的200%。作為本 發明此觀點中、、產生的C0/之定義的進一步條件，在二產 生的co2〃之總量中不包含譬如@去除質子之製程之副產 物的再利用（例如在氯鹼製程之例中，將此製程中生產之 氫氣用於燃料電池或予直接燃燒以生產能量）所致的能量 負，之任何理論或實際計算。此外，不考慮利用二ς 復能量源例如生產少量或不生產二氧化碳之能量源嬖如 風、太陽、潮汐、水力發電及類似者對於動力廠所供應之 動力的任何理論或實際補充。若去除質子之製程包含I氧 化物或其他鹼類（包含天然發生或儲備的鹼）的使用，產 生的c〇2量會是可基於藉以生產該鹼之製程（舉例來說， 對工業生產的鹼而言係標準氣鹼製程或生產鹼之其他制 心，對天然驗而言係驗之自然生成的最佳理論模型）以化 92 201105406 學計量方式算出的量。 利用、產生的co/之此定義，在一些實施例中，本 發明包含從一人為產生的co2氣態源形成一穩定含co2沈 澱物，其中該沈澱物之生成運用一從一溶有該co2氣態源 之一部份或全部co2的水溶液去除質子的製程，且其中由 該去除質子之製程產生的C02係少於因該沈澱物生成而從 該C02氣態源去除之C02之100%、90%、80%、70%、 65%、60%、55%、50%、45%、40%、35%、30%、25 %、20%、15%、10%、或5%。在一些實施例中，本發明 包含從一人為產生的co2氣態源形成一穩定含C02沈澱 物，其中該沈澱物之生成運用一從一溶有該C02氣態源之 一部份或全部C02的水溶液去除質子的製程，且其中由該 去除質子之製程產生的C02係少於因該沈澱物生成而從該 C02氣態源去除之C02之70%。在一些實施例中，本發明 包含從一人為產生的C02氣態源形成一穩定含C02沈澱 物，其中該沈澱物之生成運用一從一溶有該C02氣態源之 一部份或全部C02的水溶液去除質子的製程，且其中由該 去除質子之製程產生的C02係少於因該沈澱物生成而從該 C02氣態源去除之C02之50%。在一些實施例中，本發明 包含從一人為產生的co2氣態源形成一穩定含co2沈澱 物，其中該沈澱物之生成運用一從一溶有該co2氣態源之 一部份或全部co2的水溶液去除質子的製程，且其中由該 去除質子之製程產生的co2係少於因該沈澱物生成而從該 C02氣態源去除之C02之30%。在一些實施例中，去除質 93 201105406 . <生產驗藤如氫氧化物的製程’ 子，係-去除質子::i實施例t，去除質 f的製㈣-料4〜·二Vi二-些_财，該 程，例如本文所述之一電化十 製程係一去除質子而不生康鹼譬如氛氧化物的=列如本 文所述之二-藉由生產鹼譬如=:物:去 除質子的製程例如本文所述之一電化學製”二二：一 些實施例中，去除質子的製糕包括-電化學製::士接 去除質子（譬如質子之直接去除）或間接去除@ σ s如 氫氧化物之生成）。在-些實施例中係採用多個製程譬如電 化學製程之組合，其中一第一製程譬如電化學製程直接去 除質子且一第二製裎嬖如電化學製程間接（例如藉由生產 氫氧化物）去除質子。 在一些案例中，在充填co2 (例如如前所述）之後期 望產物之沈澱作用係在未添加一二價金屬離子源的情況下 發生。因此，在水於一充填反應器内被c〇2充填之後，該 水隨後並未與一二價金屬離子源譬如一或多種二價金屬離 子鹽例如氯化鈣、氣化鎂、海鹽等接觸。 在本㈣之-實施财’可用―魏齡澱製程從溶 性沈殿碳酸輸質錢提供射的賴比，然後是 充填以及-最終碳酸鹽沈殿有額外的岣離子 更夕Mg離子之添加係困難。此實施例亦對想要生=種 94 201105406 不同產物一主要是碳_之物質然後—以碳酸鎮為主之 物質的任何濃度溶液係有利的。 一已知沈澱反應之產物的產量可能因許多因子而異， 包含所用之水的特定種類，水是否經二價金屬離子供應， =關定賴規麟。在-錢财，心沈澱產物的沈 版規祀係咼產量沈澱規範。在這些案例中，每公升的水由 單-沈殿反應（此係指水單一次經受沈澱條件譬如將阳值 提南至9.5或更高、譬如1()或更高，如前文更詳細所述） 生產之產物的量可為5克或更多譬如1G克或更多、15克或 更多、20克或更多、25克或更多、3()克或更多、％克或 更多、40克或更多、45克或更多、5〇克或更多、6〇克或 更多、70克或更多、80克或更多、9G克或更多⑽克或 ^多、120克或更多、140克或更多、16〇克或更多⑽ 克或更多、2G0克或更多的儲存穩定二氧化碳封存產物。在 -些實施例中’每公升的水生產之產物的量在5克至· 克之範圍内，譬如10克至1〇〇克，包含2〇克至1〇〇克。 在使水經受沈版條件之前，水之二價金屬離子含量未受補 充的案例（例如水係海水且海水未獲二價金屬離子源供應） 中’產物之產量可為每公升水5克至20克產物，譬如每公 升水6克至8克產物。在水得到二價金屬離子源譬如鎂及/ 或趟離子供應的其他案例中，產物之產量可為更高、高出 兩倍、高出三倍、高出五倍、高出10倍、高出20倍或更 多，致使此等製程之產量在一些實施例中可為每公升經受 沈澱條件的水10克至2〇〇克、譬如50克至200克、包含 95 201105406 100克至200克之產物。 一已知沈殿反應之產物的產量可能因許多因子而異 包含所狀水的特定種類’水是否經二價金屬離子供應 所用特定沈賴料。在-錢例巾，心沈澱產物的沈 澱規範係高產量沈澱規範。在這些案例中，每公升的水（亦 即吸收性溶液）在超過72小時之連續操作（亦 件施加於水或吸收性溶液）中平均的產物產量可為^ 更多譬如1〇克或更多、15克或更多、20克或更多、 或更多、30克或更多、35克或更多、4〇克或更多 或更多、5G克或更多、6G克或更多、7()克或更多、8 或更多、9G克或更多、_克或更多、m克或更多⑽ 克或更多、160克或更多、180克或更多、2〇〇克或 儲存穩定二氧化碳封存產物。在一些案例中，每公升 在72小時之連續操作中平均的產物產量在5克至克7之 範圍内，譬如10克至1〇〇克’包含2〇克至1〇〇克。在使 水經受沈澱條件之前，水之二價金屬離子含量未受補充的 案例（例如水係海水且海水未獲二價金屬離子源供應）中、， 產物之產里可為在超過72小時之連續操作中平均每公升水 5克至20克產物’譬如5克至1〇克產物，例如6克至8 克產物。在水得到二價金屬離子㈣域及/或㈣子供應 的其他案例中，產物之產量可為更高、高出兩倍、高出^ 倍、高出五倍、尚出1〇倍、高出20倍或更多，致使此等 製程之產量在一些實施例中可為在超過72小時之連續操作 中平均每公升經受沈澱條件的水1〇克至2〇〇克譬如 96 201105406 克至200克、包含1〇〇克至2〇〇克之產物。 在某些貫施例中採用—多步驟製程。在這些實 ==用-碳酸鹽沈澱製程從溶液選擇性沈澱碳酸 負、'邊是額外co2充填製程及後續碳酸鹽沈殿作用。二 外C02充填及碳酸鹽沈㈣步驟在—些案例中 飞

次:兩次、三次、四次、五次、六次、：次、八次九t; 十-人或更多次，每次循環使額外的碳酸鹽物質沈题 些”例中’最終pH值在pH8至pH1〇範圍内 9 至 PHK)，—包含 pH9.5 至 pHl〇,例如 pH9 至 pH9^H 在某些貫施例中，可使用二個或更多個反應器執 =所述方法。在這些實施例中，該方法可包含—第—反應 益及-第—反應ϋ。在這些案例中，該第—反應器係用於 ，初始水與-鎂離子源接觸及用於用cq2充填初始水，如 削所述。水可_動以促魏離子源溶解及促進初始水與 C〇2接^。在-些案例中，在經c〇2充填的水被轉移至第 -反應S之前’ co2充填水停止義，致使未溶固體可因 重力而降。然後將CQ2充填水從第―反應II轉移至第二 反應器。纟co2充填水轉移至第二反應器之後，可進行碳 酸鹽沈殿之步驟，如本文所述。 在某些實施例中，可利用一如前所述使用如前所述二 個或更多個反應器的多步驟製程執行本發明所述方法。在 这些貫施例中，一第一反應器用於使初始水與一鎂離子源 接觸及用於用C02充填初始水，如前所述。然後，將c〇2 充填水從第一反應器轉移至一用於碳酸鹽沈澱反應的第二 97 201105406 反應器。在某些實施例中，可在第二反應器中進行c〇 填及後續碳酸鹽沈澱之一或多個額外步驟，如前所迷2充 在某些實施例中，可採用偏向於生成特定形態之e > 鹽化合物沈澱物的沈澱條件。舉例來說，可採用偏向灭馱 成非晶碳酸鹽化合物沈殿物多過生成結晶碳酸鹽化二^、 澱物的沈澱條件。在這些案例中，除了如前所述使初妒= 與一鎂離子源接觸及用c〇2充填初始水之外，可添加_、户 澱促進劑。在這些案例中，沈澱促進劑在足供成核作用= 不足供晶體生成及成長的較低PH值促進碳酸鹽化合物沈 澱物生成。沈澱促進劑之實例包含但不限於硫酸= (Α14〇4)3。在某些實施例中’沈澱促進劑的添加量在ippm 至1000卯111之範圍内，譬如1卯111至5〇0卯111，包含1〇卯111 至200 ppm，例如25 ppm至75 ppm。此外，在如前所述碳 酸鹽化合物沈澱作用期間藉由交替進行c〇2充填及後續碳 酸鹽沈澱作用’水之pH值可被維持在6與8之間譬如7與 8之間。 另一選擇’在更其他實施例中，可採用偏向於生成結 晶碳酸鹽化合物沈澱物多過生成非晶碳酸鹽化合物沈澱物 的沈殿條件。 關於本發明某些實施例中採用之特定沈澱規範的進一 步細節將在下文參照圖式說明提供。 在從水產生沈殿產物後，產生一包含沈澱產物及一母 液（亦即用於產生該沈澱產物剩下的液體）。此組合物可為 沈殿物與母液之一漿料。 98 201105406 如前總括所述，在封存二氧化碳當中，沈澱產物在其 f生之後被以某些方核置。、、處置〃—辭意指產物被放^ :儲存場所或被用於另一產物、亦即一機械製&或人造物 ΐ中，進一步使用，其中該產物被儲存在該另一產物中至 少達該另一產物之預期壽命。在一些案例中，此處置步驟 包含將前述漿料組合物轉送至一長期儲存場所。該儲存場 戶$可為一地上場所、一地下場所或一水下場所。在這些實 施例中，在將該漿料放在儲存場所之後，該漿料之上澄液 成分可從沈澱物自然分離，例如經由蒸發、散播等作用。 +若有需要，可將所得沈澱產物與漿料之上澄液成分分 離。沈，產物之分離可為利用多種適宜方法達成。如本文 ^步洋述’液固分離機譬如Epuramat之£xtrem-Separator (ExSep )液固分離機、χ_ pARC之螺旋濃縮機、或是 Epuramat之ExSep或Xerox PARC之螺旋濃縮機的修改型 I用於m射。分離作㈣可為藉蚊沈殿產物乾 燥以產生-脫水沈殿產物而達成。合意的乾燥手段包含從 母液;慮出u物以產生—m邊風乾該遽液。在該濾、液 係被風乾的’u況巾’風乾作業可依需要在_7Gn 12〇t範 圍之進行。在一些案例中，乾燥作業可包含將漿料 放在乾燥％所譬如尾砂池，且允許沈錄之液體成分蒸 發留下期望脫水產物。崎合意的手段是冷;東乾燥（亦即 低壓乾;東）手段，其+沈⑽被冷;東 '周遭壓力被降低且 ，加足，的熱以允料質中之冷;東水從冷，沈澱物相直接 升華成氣體。更另-合意乾射段為賴乾燥，其中含有 99 20π05406 沈澱物的液體因通過一熱氣體而乾燥，例如液體進料經 —嘴霧器被錢至-主乾燥室内且—熱空氣作為—同 逆向於噴霧器方向的流輸送。 或 在使沈澱產物與母液分離的情況中，所得沈澱物可以 許多不同方式處置’如下文進—步詳述。舉例來說，沈撕 物可用作建築材料之-成分，如下文更詳細描述^另 擇，沈澱物可被放在一長期儲存場所（在此技藝中有 ，為碳銀行），其中該場所可為地上場所、地下場所或水I 場所。關於合意處置規範的進一步細節在下文提供。 所得母液亦可依需要處理。舉例來說，母液可被送回 水源譬如大海或另一處。在某些實施例中，母液可與一 源譬如前文所述者接觸以封存更乡CO。。舉例來說，在母 液係欲被送回大海的情況巾，母液可以—足讀高存在於 母液中之魏錄子之濃㈣方式與-氣態⑺2源接觸。' 接觸㈣可彻任何適宜手賤行，譬如敎所述者。在 某一貫施例中’母液具有一驗性值，且與C〇2源接觸的 作業係以一足以將PH值降低至介於5和9之間、譬如6和 8 5之二明包合7 5至8.2之—範圍的方式進行。 絲 =二方法可在陸地或海上進行，例如在-存在有 Γ水的陸地場所，或是在海洋或其他含鹼土 金屬之水體，此水髀你 運用一系統執行前迷^然發生或人造。在某些實施例中’ 本申請案之r k方法，此系統包含下文更詳細說明者。 總覽。今:本S3分提供本發明之方法之各種觀點的 某些圖式進一步詳細回顧本發明之某 100 201105406 些實施例。 ^ 6提供可在一系統中施行之二氧化碳封存製程的流 程示意圖’其中該系統可被呈現為一獨立工礙或係另一種 工廠s如發電廠、水泥廠等之一整合部分。在圖6中，水 10譬如經由管線或其他適宜方式送到一沈澱反應器20，並 經受碳酸鹽礦物質沈澱條件。用於圖6所示製程中的水係 一包含例如一或多種鹼土金屬離子譬如Ca2+或Mg2+的水。 在本發明之某些實施例中，合意的水係包含5〇 ppm至 20,000 ppm、譬如 2〇〇 ppm 至 5000 ppm 且包含 400 ppm 至 1000 ppm之鈣量的水。同樣合意係包含50 ppm至4〇 〇〇〇 ppm、譬如 1〇0 ppm 至 1〇,〇〇〇 ppm 且包含 5〇〇 ppin 至 2500 ppm之鎂量的水。在本發明之實施例中，該水（譬如含驗 土金屬離子的水）係鹽水。如前所述，合意的鹽水包含淡 水以外之多種不同類型水流體，譬如微鹹水、海水及鹽水 (包含人為鹽水，例如地熱廠地熱廠廢水、脫鹽廠廢水等， 以及如本文所述之天然發生鹽水），以及其他鹽度高於淡水 的鹽谷液。鹽水係鹽飽和或幾近飽和的水，且具有5〇卯t (千为之一）或更高的鹽度。微鹹水是比淡水鹹但不及海 =水’具有G，5ppts 35_的鹽度。海水是來自近海或 遇洋的水’且具有35 PPt至50 ppt的鹽度。淡水是鹽度低 於5 ppt /谷解鹽的水。合意的鹽水可依 需要取自天然發生源 吕如近海、遠洋、湖泊、浴澤、河口、潟湖等或是取自一 人為來源。 如則所述’合意的水亦包含淡水。在某些實施例中， 101 201105406 用於本發明的水可為一富含礦物質譬如富含鈣及/或鎂的淡 水源在一些貝施例中，淡水譬如富含辦的水可與石夕酸鎂 礦物如橄欖石或蛇紋石在一溶液中結合，該溶液必定因 為來自溶解矽酸鎂之碳酸的二氧化碳添加而變成酸性，導 致矽酸碳酸鈣鎂化合物生成。在某些實施例中，水源可為 淡水，其中被添加金屬離子譬如鈉、鉀、鈣、鎂等。金屬 離子可為利用任何適宜手段譬如以一固體、水溶液、懸浮 體專添加至淡水源。 在某些貫施例中，水可為從亦提供氣態廢料流的工廠 獲得。舉例來說，在水冷式工廠譬如海水冷卻式工廠中， 已經被該工廠使用的水可隨後被送到沈澱系統且用作沈澱 反應中的水。若需要，水可在進入沈澱反應器之前經冷卻。 此等方案舉例來說可為搭配一次通過冷卻系統使用。舉例 來說’一城市或農業用水供應可被用來當作工廠之一次通 過冷卻系統。然後來自工廠的水可被用於沈殿手段中，其 中輸出水具有一減低硬度及較高純度。若需要，此等系統 可經修改以包含保安手段例如藉以偵測破壞手段（譬如放 毒）且與政府單位譬如國土安全局或其他單位合作。在此 等實施例中可採用額外防破壞或攻擊的保安手段。 如圖6所示，一工廠氣態廢料流30在沈澱步驟20與 水接觸以產生一 C02充填水（在某些實施例此可為在一充 填反應器中發生）。該水可為一吸收性溶液’其中該吸收性 溶液允許二氧化碳及/或來自一氣體之其他成分併入該吸收 性溶液内。該吸收性溶液可為一鹽水（譬如海水及/或鹽水） 102 201105406 或=驗丨生’谷液。该吸收性溶液可包含固體微粒且被稱為 桌料c〇2充填水意指已有c〇2氣體與其接觸的水，其 :〇2刀子已與水分子結合以生產例如碳酸、碳酸氫鹽及 =酸鹽離子。在此步驟巾充填至水導致权、、⑺2含量，， 例如呈碳酸、碳酸氫鹽及碳酸鹽離子之形式，且伴 隨f與水接觸之廢料紅C〇2的量減少。C〇2充填水在一 些實施例中是酸性’具有6.0或更低的pH值，譬如4.0或 ^ " I各3.〇及更低。在某些實施例中，用於充填至水的 軋f之C〇2的量因為此接觸步驟而減少％%或更多，譬如 或更夕，致使此等方法去除原本存在於與水接觸之 2料流中之〇)2的5G%或更多，譬如75%或更多例如 5%或更多、包含99%或更多。合意的接觸手段包含但不 限於i直接接觸，例如使氣體以氣泡通m流接觸， ，即單向流動的氣相及液相流之間的接觸；逆流接觸，亦 =相，方向流動的氣相及液相流之間的接觸；及類似手 又氣恕流可為鉛直地、水平地、或成其他角度接觸水。 c〇2可從下列位置之一或多者與水源接觸：在水（例 如含驗土金屬離子的水）之下方、上方、或在表面層。只 宜，接觸可為經由灌注器、鼓泡器、流體文氏反應器、 、、氣機、氣體過濾器、喷霧、托盤、催化劑氣泡柱反應器、 通風管型反應器或填料柱反應器 、及類似物完成。若需要， 可使用二個或更多個不同c〇2充填反應器（譬如柱形或其 他頬型之反應器組態），例如串聯或並聯，譬如使用三個或 更夕個、四個或更多個等。在某些實施例中，利用各種手 103 201105406 段譬如機械㈣、電磁麟、旋床、搖動器、振動器、鼓 風。。超a波處理撥動或擾拌反應溶液以增加co2盘水源 之間的接觸。 η 在圖6所示實施例中，來自原水1〇的水（例如含有驗 土金屬離子的水）首先被c〇2充填以產生c〇2充填水，此 C〇2隨後經受碳酸鹽礦物質沈澱條件。如圖6所示，一 c〇2 氣態流30在沈澱步驟20與水接觸。經供應的氣^流3〇在2 沈澱步驟20與一合適的水接觸以產生〜c〇2充填水。c〇2 充填水意指已有c〇2氣體與其接觸的水，其中c〇2分子已 與水分子結合以產生例如碳酸、碳g㉙鹽及碳酸鹽離子。 在此步驟中充填至水導致水之、、C〇2含量〃增加，例如呈 碳酸、碳酸氫鹽及碳酸鹽離子之形式，且伴隨著與水接觸 之廢料流之c〇2的量減少。c〇2充填水可為酸性，具有6 或更低的pH值，譬如5或更低且包含4或更低。在一些實 施例中，C〇2充填水不是酸性，例如具有7或更高的pH僅^ 譬如7至10、或7至9、或7_5至9.5、或8至1〇、或8至 9.5、或8至9之一 pH值。在某些實施例中，用於充填至 水之氣體的C〇2濃度為10%或更高、25%或更高、包含5〇 /6或更南、譬如75%或更南。 C〇2充填及碳酸鹽礦物質沈澱可在系統之同一或不同 反應器中發生。因此，依據本發明之某些實施例，充填及 沈澱可在一系統之同一反應器中發生，例如像圖6在步驟 20所例示。在本發明之更其他實施例中，此二步驟可為在 不同反應器中發生，致使水首先在一充填反應器中被c〇2 104 201105406 $ ’然後使所得C〇2充填水在-列反應器中 條件。可使用更多反應器以例如用期望礦物充填至此歲 水與C 02源之接觸可為在水經受c 〇 2沈殿條件7 ^

2，月間發生。據此，本發明之實施月1J :觸的方法。本發明之實施例亦包含使水丄二源 件的，時與—叫源接觸的方法二 也例包含使水（譬如含鹼土金屬離子的水）姑^ 二鹽化合物沈澱條件之前及其經受碳酸 ^工又石反 :，與，2源接觸的方法。二= 可被仙超過-次，其中第—循環的沈 力礦物質且留下水讓其可接受金屬4: 更多‘=:加’且可有更多C02循環通過，沈心 ^不管C〇2何時與水接觸，在一 4b宰例中备rn 該水並非極具驗性，致使㈣二 是，更=PH值’譬如9.5或更低、包含9或更低且甚^ 由=更低。在-些實施例中，與C02接觸的水並 電化學手段製成驗性的水。在一些實施例中，與⑺ :水並非已藉由氫氧化物譬如氫氧化鈉之添加製成驗 2 水:：二?:施例中’該水係已被製成僅務具驗性的 每如、△某1之軋化物譬如氧化好或氧化鎂的添加。 如前所述，影響氣體併入一液體内之效率的參數之一 夜體之溶液化性。氣體對於一溶液會具有基於該溶液 105 201105406 之離子含量及pH值的不同可溶度比。舉例來說，比起併入 具有中性或酸性PH值的溶液内，二氧化碳氣體比較容易併 入具有鹼性pH值的溶液譬如NaOH水溶液内。在一些實施 例中，》亥氣體係一工業製程之煙道氣。在一些實施例中該 工業製程包含化石燃料之燃燒。在一些實施例中，該氣體 包括C〇2。在這些實施例中，方法及裝置可經修改以最佳 化c〇2氣體從該氣體併入液體内之作用。在此等實施例 中’提供允許每100毫升液體吸收至少10克C〇2的條件（嬖 如溶液化學、表面積對體積比、液體流率對氣體流率比 (L/G)、停留時間）。在一些實施例中，提供允許每1〇〇毫 升液體吸收至少20克C〇2，譬如每1〇〇毫升液體吸收至少 30克、至少40克、至少50克、至少60克、至少70克、 至少80克、至少90克、至少100克、或超過〗〇〇克c〇2。 在一些實施例中’方法及裝置提供使一氣體中之C02之至 少50%從該氣體去除至液體或漿料内的條件（譬如溶液化 性、表面積對體積比、停留時間）。在一些實施例中，提供 允許一氣體中之C02之至少60%被去除的條件，譬如使一 氣體中之C02之至少70%、至少80%、或至少90%從該 氣體去除至液體或漿料内。在一些實施例中，提供允許一 氣體中之C02之至少95%從該氣體去除至液體或漿料内。 在一些實施例中’方法及裝置提供使一氣體之一成分（譬 如NOx、SOx、汞）之至少50%從該氣體去除至液體或漿 料内的條件（譬如溶液化性、表面積對體積比、液體流率 對氣體流率比（L/G)、停留時間）。在一些實施例中，提供 106 201105406 允"争氣體之一成分之至少60%被去除的條件，譬如一氣 體之一成分之至少70%、至少80%、或至少9〇%從該氣體 去除至液體或漿料内。在一些實施例中，提供允許一氣體 之一成分之至少95%從該氣體去除至液體或漿料内的條 件。 ’、 沈殿反應之农佳化係高效率氣液接觸方法及裝置的一 個目標。在一些實施例中，形成包含碳酸鹽及/或碳酸氫鹽 物質的沈澱物。在一些實施例中會形成二價陽離子碳酸鹽 及/或奴0欠氫鹽物質的沈澱物。在一些實施例中會形成詞之 碳酸鹽及/或碳酸氫鹽物質。在一些實施例中會形成鎂之碳 酸鹽及/或碳酸氫鹽物質。在一些實施例中會形成鈣及鎂之 碳酸鹽及/或碳酸氫鹽物質。在一些實施例中，會形成鈣與 鎂一者之碳酸鹽及/或碳酸氫鹽（譬如白雲石）。 在本文呈現之一些實施例中，在方法及裝置中會從一 毁料形成射流及/歧顏後與—氣體朗。驗製作液滴 及/或射流的轉可取決於錢液接觸料在纽場可用者 以及將與液滴接觸之氣體還有該氣體與液滴間之交互作用 的期望結果。可構成㈣料之液體成分的液體包含但不限 =含有二價陽離子&ρΗ值為1〇或更高的水溶液；海水； 贼水；來自脫鹽製程之人為液體廢料；天然發生的#水； ^業廢料鹽水；合成鹽水；經增添陽離子的溶液；經增添 j切㈣液；或以上之任何組合。所賴料之成分< 彳不限於液體與工業廢料微粒·，一液體與礦物微 粒；-液體與-沈澱物；或以上之組合。如本文先前所述， 107 201105406 洛液化性可經修改以增 在-些實施例中，提f人液體或漿料内的作用。 一些實施例中，提括7溶液的液滴及/或射流。在 提仏匕括一pH值介於4愈* 施例提括 溶液的液滴及/或射流。—些實施例提子之水 溶解礦物驗、财以上之 —h海水、 或射流。在一些實施例中，接徂^口之水洛液的液滴及/ 在一些實施例中，提供包 鹼性溶液的液滴。 射流。在-些實二二驗括，化物的液㈣ 滴及/或射流。在-此實施S&包括固體物質的液 滴與氣體接觸造成的沈㈣質。在-些實二中㈣^ =流包n廢料譬如但不限於歧、㈣、水滴尼及室/ 塵灰、開懿L上之任何組合的錄 施 :列中广狀/或射流包括-沈殿物質以及-工業廢;:： 粒。在一些實施例中，括处a 知1供匕括—礦物之微粒的液滴及/或 射抓。在-些實施例中’提供包括—礦物之微粒及一工苹 廢料之微㈣液毅/切流。在—㈣關中，提供包括 -礦物之微粒、-工業廢料之微粒、及—沈殿物質的液滴 及/或射流。 有許多種方式製作液滴。可利用蒸發作用譬如使水蒸 發以加濕一區域而製作極細霧滴。用於生產液滴之非蒸發 技術包含但不限於··壓力喷霧器（噴嘴），旋轉喷霧器，空 氣輔助喷霧器，氣衝(airblast)噴霧器，超音波喷霧器，嘴墨 108 201105406 式喷霧器，微機電系統喷霧器，排 或以上之任何組合。在描述液體及/或’^電式噴霧器， 中，可使用任何液滴生成方法。在一此_’斗小滴的實施例 利用包括超音波傳感器的系統製作。例中，液滴係 滴係利用包括壓力噴霧器（噴嘴）、扩*一些實施例中，液 噴霧器、氣衡喷霧器、或以上之任疋、空氣輔助 -些實施例中，提供包括超音波傳：：：系統製作。在 器件（亦即導液單元）。在一歧會:tr。、夜滴生產系統或 液滴生產系統或器件。在一些實中，提供包括喷嘴的 噴嘴、排戌喷嘴或二者的_生產供包括雙流體 二例中’液滴生產系統及/或器件具備有:：二,實 開口的噴嘴。在-些實施例中有5微未或更小之 備具有1G微米歧小之開 嘴^產錢及/或器件具 娜器件具備具有二==液 爲。在一些實施例中，液滴生產 ^。更^之開口的贺 微米或更大、譬如5〇微米^及/或盗件具備具有25 微米或更大、5。。微米或更大之開口二::或更大， 令，液滴生產系統及/或器件具備些實施例 的喷嘴。在一此者 /、有 a屋或更大之開口 旋轉噴霧哭、提供包括-力喷霧器（噴嘴）、 何組合的液滴生產系統及/或器#㈣喷，、或以上之任 受聚料以生產液滴的系統及/或Μ供能夠接 供生產_的純及/或裝置，·^婦丨中’提 _微米的範圍内。在一此實；^滴f縣50微米至 二貫知例中，提供生產液滴的系 109 201105406 統及/或裝置，其中液滴之平均直徑大於丨_微米。在一些 貫施例中’提供生產液滴㈣統及/或裝置，其中液滴之平 均直徑大於5GG微米。在—些實施例中，提供生產液滴的 系統及/錢置，其中液滴之平均直徑小於⑽米。在一些 實施例中，提供生產液滴的系統及/或裝置，其中液滴之平 均直控大於5微米，譬如大於1()微米、大於⑼微米、大 ΐ 大於1〇0微米、大於2〇0微米、大於綱微米、 :Γ在一些實施例中，提供生產液滴的系統 ^ ^ 4〇〇 ^„ 立中mi t财’提供生產液滴㈣統及/或裝置， : 微米至500微米的範圍内。在- 二〇 ， β供生產中性漂浮液滴 性漂浮液滴係在其等中性漂浮 次裝置中 氣體中既不上升亦不下沈的液滴。°圍、Ub等液滴之 有可能藉由改變所用液滴生 J 接觸室或塔之—橫截面二==， 之-橫截面積。在一些實:::最置被液滴覆蓋 6。。之嗔二在接觸室之内橫載面使用9〇。=附近使 併入該r:體内之積對體積比係影響該氣體 具有12 mV公升或更高之表對實施例中，提供 及/或液體流。在一些實施例中，(SA:”的液滴 高、譬如60 rri/公升或更高 有24允/公升或更 开飞更问、80 mV公升或更高、12〇曲 110 201105406 A升或更高、600 m2/公升或更高、或6000 m2/公升或更高 ^表面積對體積比（SA:V)的液滴及/或液體流。在一些實 知例中’提供平均直徑大於500微米的液滴。在一些實施 例中，提供平均直徑小於1微米的液滴。在一些實施例中， 提供平均直徑大於5微米、譬如大於1〇微米、大於20微 米、大於50微米、大於1〇〇微米、大於200微米、大於300 微米、或大於400微米的液滴。在一些實施例中，提供平 均直#在1微米至400微米之範圍内的液滴。在一些實施 例中’提供平均直徑在1微米至500微米之範圍内的液滴。 在一些實施例中，提供平均直徑在5〇微米至1〇〇〇微米之 範園内的液滴。在一些實施例中，提供平均直徑為1〇〇微 米的液滴。在一些實施例中，提供生產且/或使用中性漂浮 液滴的方法。中性漂浮液滴係在其等中性漂浮的環境譬如 圍繞此等液滴之氣體中既不上升亦不下沈的液滴。 在本發明之一些實施例中表明指定L/G比。L/G比係 一裝置中之液體流率對氣體流率之比的數字。不侷限於任 何理論，氣體或氣體之成分進入液體的吸收量係與L/G比 成正比。在該比之一些使用中，L/G比係一無因次數，且 因此會表明每單位時間一體積流量相對於每單位時間另一 =積流量或是每單位時間一質流量相對於每單位時間另一 質流量。在一些實施例中，所用L/G比在3至5〇的範圍内。 在一些貫施例中’所用L/G比在3至20的範圍内。在一些 貝％例中，所用L/G比是15。在一些實施例中，所用 比在50至4000的範圍内。在一些實施例中，所用L/Q比 111 201105406 在100至1000的範圍内。在一些實施例中，所用L/G比在 200至400的範圍内。在一些實施例中，所用L/G比是300。 在一些實施例中，裝置及/或系統經配置以使用在3至50 的範圍内之一 L/G比。在一些實施例中’裝置及/或系統經 配置以使用在3至20的範圍内之一 L/G比。在一些實施例 中，裝置及/或系統經配置以使用15之一 L/G比。在一些 實施例中，裝置及/或系統經配置以使用在50至4000的範 圍内之一 L/G比。在一些實施例中，裝置及/或系統經配置 以使用在100至1000的範圍内之一 L/G比。在一些實施例 中，裝置及/或系統經配置以使用在200至400的範圍内之 一 L/G比。在一些實施例中，裝置及/或系統經配置以使用 300之一 L/G比。在L/G比之一些使用中，會提出單位以 表明該比中比較體積或質量。在一些實施例中，所用L/G 比在0至10,000加侖每分/1000實際立方英尺的範圍内。在 一些實施例中，所用L/G比在50至5,000加侖每分/1000 實際立方英尺的範圍内。在一些實施例中，所用L/G比在 100至500加侖每分/1000實際立方英尺的範圍内。在一些 實施例中，裝置及/或系統經配置以在介於〇與1〇,〇〇〇加侖 每分/1000實際立方英尺之間之一液體流率對氣體流率比 (L/G比）操作。在一些實施例中，裝置及/或系統經配置 以在介於50與5,000加侖每分/1000實際立方英尺之間之一 液體流率對氣體流率比（L/G比）操作。在一些實施例中， 裝置及/或系統經配置以在介於100與500加侖每分/1000 實際立方英尺之間之一液體流率對氣體流率比（L/G比） 112 201105406 操作。 有-些結構特徵可添加至一讓液體或乘料與氣體接觸 之室中以，進氣體併人液體錢料内的作用。此等結 徵係意欲藉由下述方式増加_氣體在其流過—液體或製料 時該氣體與該液體或聚料間之交互作用：1)為液/氣系统提 供-或多個區域以達舒衡或2)允許該液體錢料有機合 載入氣體且在該液體或漿料通過該室之空間時（例如 體或漿料小滴落下時）依循—更婉4延路徑。在—些實施例 中採用任—種結構特徵以使-吸收性溶液、接觸混合物、 或聚料與-氣體接觸。在—些實施例中，〆裝置或系統包 括任-種結軸徵以使吸收性溶液、彳娜$合物、或聚料 與-氣體接觸。在-些實施例中，或採用兩種結構特徵之 一組合以使一吸收性溶液、接觸混合物、或漿料與一氣體 接觸。在-些實施例H置或“包括兩種結構特徵 以使一，收性溶液、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。 提高液體與氣體在-受限空間内達成平衡之可能性的 結構特徵包含填充材料及托盤。填充材料可經結構化或未 經結構化，可為陶瓷、塑膠、或金屬球、蜂巢狀、緞帶狀、 馬鞍狀、環狀或雜亂形狀樣式。托盤通常是具有穿孔或開 口的金屬片，此等穿孔或開口允許氣體或液體流通過托 盤。製造填充材料及托盤的材料係基於塔或反應器中之氣 體、液體及預期產物以及諸如物理性磨損等考量選擇。使 用填充材料或托盤的塔或反應器可被視為階段（亦即塔或 反應器之多段）之一集合，其中離開階段之氣體係與離開 113 201105406 又之液體處於平衡一理論階段描述—塔之 段’在此處批量蒗汽乃姑旦、丑& 液體橫越該塔時;;=液::被近似為關於在氣體和 父換之物質之濃度係處於平衡。體積效率 由修改4充材料或是托盤㈣而調整。使用填充材料 U盤之塔或反應H的特徵在於橫跨該塔或反應器之總 ，與托盤有m顿致的高壓降或是與填充材料有關的 床，（bed drop)。使用填充材料的塔通常不太適合讓聚料 :、氣體接觸，但填充材料已被製造成在市面上供應配合聚 料在一些貫施例中，利用托盤、填充材料或二者使一吸 收性溶液、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些實 施例中，一裝置或系統包括填充材料、托盤或二者之一組 合以使吸收性溶液、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。 膜是可被包含在一塔或反應器中以增進一氣體與一液 體間之交互作用的另一種結構特徵。用於塔或反應器中之 膜係用來增加液體與氣體之間的面間面積以便最大化質量 轉移率。膜可由許多中空纖維組成。在此等膜中，氣液界 面發生在通往每一中空纖維孔洞的入口。因此，此種膜可 被稱為多微孔膜。在一些實施例中，使用一或多個膜使一 吸收性液體、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些 貫施例中，一裝置或系統包括一或多個膜使一吸收性液 體、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些實施例中， 使用一或多個膜與填充材料及/托盤之組合使一吸收性液 體、接觸混合物、或衆料與一氣體接觸。在一些實施例中， 一裝置或系統包括一或多個膜與填充材料及/或托盤之組合 114 201105406 使一吸收性液體、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在 一些實施例中，使用一或多個多微孔膜使一吸收性液體、 接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些實施例中，一 裝置或系統包括一或多個多微孔膜使一吸收性液體、接觸 混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些實施例中，使用一 或多個多微孔膜與填充材料及/或托盤之組合使一吸收性液 體、接觸混合物、或漿料與一氣體接觸。在一些實施例中， 一裝置或系統包括一或多個多微孔膜與填充材料及/或托盤 之組合使一吸收性液體、接觸混合物、或漿料與一氣體接 觸。 允許液體或漿料在其通過一塔或反應器時載入一氣體 内同時促使該氣體和液體依循一更蜿蜒路徑的結構特徵包 含分流棚列。分流棚列係長度大於寬度、通常是金屬、中 間經彎曲以形成由圓環支撐之一倒、'v〃形的材料薄片陣 列。一般而言，分流棚列經放置致使分流棚之位置在塔或 反應器内每一層交錯。依此方式，從一分流棚落下的混合 物（譬如漿料）或液體會落在其下方之一分流棚之頂點附 近，引領該混合物或液體依循一比沒有分流棚列時更長更 蜿蜒的路徑通過該塔或反應器之長度。分流棚列亦影響氣 體通過該塔或反應器的流動。在一分流棚之頂點與其上方 之分流棚之底部之間的空間係一可發生落下混合物或液體 載入氣體内之作用的空間。此載入作用加大該混合物或液 體與氣體在該塔或反應器内交互作用的時間量。分流棚列 與液體及漿料相容。代表分流棚是多寬或多窄的休止角允 115 201105406 許分流棚列搭配各種解決方案及配合固體微粒使用。分流 棚之陡峭度可經調整以允許液體或漿料以一許可其在塔或 反應器中與氣體發生期望交互作用的速率滾落分流棚頂 部。分流棚列亦允許橫跨塔或反應器高度之氣體壓力的壓 力降比起裝有托盤或填充材料之塔或反應器的情況為較 小。在一些實施例中，本發明之裝置或系統中有分流棚列。 在一些實施例中，讓吸收性溶液與氣體接觸的腔室包含分 流棚列。在一些實施例中，裝置包含一含有分流棚列之接 觸室。在一些實施例中，系統包含一含有分流棚列的裝置。 在一些實施例中，分流棚列係由分流棚之同心圓組成。在 一些實施例中，腔室包含沿腔室之壁伸入腔室之中央内的 突起。在此等實施例中，該等突起類似於往下傾斜之分流 棚半體。 有一些實施例想要使液滴或微粒物質在與一氣體接觸 之後凝結或凝集。在此等實施例中，可採用各種方法導致 液滴凝集，此等方法包含但不限於：溫度變化，具有額外 表面積之一元件的使用，靜電沈澱器的使用，或是液體之 射流、片狀流或較大液滴的使用以在接觸一氣體之後載入 該等液滴。在一些實施例中，在液滴仍與氣體接觸之時就 在液滴内形成一沈澱物。在液滴仍與氣體接觸之時就在液 滴内形成一沈澱物的一些實施例中，利用一靜電沈澱器基 於液滴内之沈澱物上的電荷收集並凝集液滴。在一些實施 例中，形成細微微粒物質，且利用一靜電沈澱器收集這些 微粒物質。 116 201105406 在一些實施例t，有必要將降下通過一裝置之高度的 落下液體或聚料改向為小滴、射流或薄片，使得該液體或 漿料不會對一液體或漿料貯器施予過多能量及產生泡沫。 特定言之，在一些實施例中期望避免一穩定泡沫層之生 成，其中該穩定泡沫層可能有損泵浦理想地運作之能力。 可利用結構元件使落下的液體或漿料改向。在一些實施例 中，在裝置内有一倒置圓錐體以消減發泡作用。去除一泡 沫層的典型方法為機械地打破構成該泡沫層之氣泡。在一 些實施例中，利用喷頭機械地打破氣泡並消減發泡作用。 在些貫施例令，利用一倒置圓錐體及噴頭消減發泡作用。 在-些實施例中，本發明之一用於將一氣體之一成分 轉移（亦即併入）-液體内的裝置包含一氣體入口；一經 配置用以接觸該液體及氣體的腔室；一在該腔室内之一第 一位置的第-導液單元及—在該腔室内之_第二位置用於 接觸該氣體的第三導液單元；魏置心容納已與該 體接觸之絲體_11 ; ϋ已與魏體接觸之該液體 的出口；及下列特徵之至少—者：i)該腔室内之至少一分 ===器件;m)用於將該液_過 料導液早就母個導液單元至 疋之組態較該賴離開該第—單元之流動方 公流動方向…-或多個限流孔機構 (放觸）’其、滤置用以將液流引導至該等導液單元之 t者、!氣·口内、或其等之—組合；及Vi)改變受 以專導液早70覆盍的區域。纽中，該等導液單 117 201105406 元可為喷頭、液柱、液體平射喷嘴、或以上之一組合。在 此等實施例中，分流棚列可經配置用以在該氣體進入該腔 室時重新分布該氣體之流動，致使該氣體軸向地沿該腔室 流動，比起進入該腔室之後、與分流棚列交互作用之前的 氣體流覆蓋該腔室之一更大橫截面積。在一些實施例中， 該消泡器件可包含一安置在該貯器上方之圓錐體（譬如倒 置圓錐體）。在此等實施例中亦可使用朝該圓錐體定向的喷 頭。在一些實施例中，其中經導液單元覆蓋的區域改變， 可使用不同角度的喷頭。在一些實施例中，用於泵運液體 通過該等導液單元的泵浦係變頻驅動泵浦。 用於接觸一氣態流及水之一範例方法及系統運用使該 氣態流與該水之一扁平射流接觸。因此在一些實施例中本 發明提出一種用於從一工業廢料流分離二氧化碳的裝置， 其包括一經配置用以使一液體（譬如水）之一扁平射流與 該工業廢料流之全部或一部份接觸以溶解co2及（在一些 實施例中）該工業廢料流之其他成分的氣液接觸器，且進 一步包括可操作地連接至該氣液接觸器的單元，該單元用 於例如經由蒸發作用、沈澱作用或類似作用生產一包括在 該接觸器中溶解於該水中之co2之全部或一部份的固體組 合物。在一些實施例中，該固體組合物係一包括碳酸氫鹽 的組合物。在一些實施例中，該固體組合物係一包括碳酸 鹽的組合物。在一些實施例中，該固體組合物包括碳酸鹽 及碳酸氫鹽。在一些實施例中，該固體組合物包括碳酸鹽 及/或碳酸氫鹽還有該工業廢氣之一或多種其他成分，譬如 118 201105406 SOx或一 SOx衍生物、NOx或一 N0x衍生物、重金屬或其 衍生物、微粒物質、V0C或一 V0C衍生物、或以上之一 組合。 美國專利第7,379,487號描述一種範例扁平射流/氣體 接觸系統’該專利之完整内容以引用的方式併入本文中。 在一些實施例中，接觸一包括C〇2之氣態流係包括如美國 專利第7,379,487號所述之兩相反應器的使用。扁平射流方 法及系統的簡要說明將在下文提供。 在許多氣液接觸系統中，氣體送入液相的速率係由液 相質量轉移係數k、面間表面積A、及批量流體與氣液界面 之間的濃度梯度控制。_祕纽進人液體内之吸 收作用的速率之一實用形式為： cpa WP_Pi) = kLa(CL _CL) 3其中Φ Τξ：每單位反應器容積之氣體吸收速率（莫耳/ cm曰是每單位面間面積之平均吸收速率（莫耳/一）， a疋母早位容叙氣液面間面積（emW，或‘和

Pi分別是批量氣體中及界面處之試劑氣體分壓（巴X 是會與既有IU目濃度Pi平衡之液義濃度（莫耳/ ，丄 =/二3)是批量液體中之溶解氣體平均濃度。kG和 kL刀別疋氣體側及液體側質量轉移係數（cm/s)。 ^許多氣岐應祕中，CV的可溶度極低且濃度梯度 有限。在設計一高效率氣液流反應器時要 :慮=茶數為質量轉移及面間表面積對反應器容積 比，此亦被稱為比表面積。 ' 119 201105406 在某些實施例中，本發明之扁平射流氣液接觸系統係 一種利用一扁平射流之增強比表面積來提升含co2之氣態 流與水譬如含驗土金屬離子之水之間之交互作用的氣液接 觸系統。在某些實施例中，採用一剛性喷嘴板，其含有複 數個將會產生極薄扁平射流的喷口。平射喷口在一組態中 具有一附接於水源譬如含鹼土金屬離子之水的V形腔室。 平射喷口可有一對附接於該V形腔室之一頂點的平坦壁。 平射喷口可有一附接於該V形腔室之相對平坦壁之一反向 端的錐形喷頭。在另一組態中，喷射喷口可有一附接於液 體源腔室的圓形喷口。平射喷嘴可有一 V形溝槽與該圓形 喷口交會以產生一卵形喷口。平射喷口可係垂直地、相對 地、或平行於含C〇2之氣態流之入口源定向。平射喷嘴之 一最小通道可為大於600微米。喷嘴可生產一寬度至少是 厚度之十倍、或至少八倍、或至少六倍、或至少四倍的液 體扁平射流。扁平射流可被做成薄達10微米，例如10微 米至15微米、10微米至20微米、或10微米至40微米， 且相隔小於1.1公釐、1.0公釐、0.9公釐、0.8公釐、0.7 公釐、0.6公釐、0.5公釐、0.4公釐、0.3公釐、或0.2公 釐（例如小於1公釐）以產生高填充射流密度（β = 0.01) 及大比表面積（a= 10 cnf1至2001^1 )。薄射流允許將更多的 水譬如含鹼土金屬離子之水暴露於含C02之氣態流，相較 於習知接觸器，生產每單位液體質流更高之反應產物產 量，例如更多C02及/或氣體流之其他成分譬如SOx、NOx、 重金屬、微粒物質、VOC、及以上之衍生物及組合轉移至 120 201105406 液體譬如水。 本發明之一實施例係欲提供一種氣液固接觸器，其包 含一具有複數個薄扁平喷流的co2充填反應器，該等喷流 緊密且等距間隔，具有高比表面積，具有一致喷射速度， 經空氣動力學塑形以最小化液體射流之擾流；不被鹽類妨 礙堵塞且在共流、逆流及平行流氣態處理流内操作的喷 口。在一實施例中，射流係以一與氣體交會的橫流組態操 作，例如射流從一喷嘴鉛直地落下且氣體係橫越該等射流 水平地或幾近水平地流動。 本發明之平射氣液接觸系統係用於使含C02之氣態流 與液體例如水譬如含鹼土金屬離子之水接觸。充填反應器 包含一具備一用於含C〇2之氣態流的入口源及一用於一液 體源例如水譬如含鹼土金屬離子之水的平射喷嘴。喷嘴可 有複數個喷口，該等喷口具有一大於200微米、300微米、 400微米、500微米、或600微米長度之最小尺寸，例如大 於600微米之長度，並且產生高比表面積之薄扁平射流。 喷嘴可有一對平行相對的板，有一附接於一錐形喷嘴的第 二端。喷嘴可有一對耦接於該對平行相對板之一第一端的V 形板。液體例如水譬如含驗土金屬離子之水的喷口可產生 一道水之扁平喷流，其寬度是厚度之至少5、6、7、8、9、 10、11、12、13、14、或15倍，例如至少10倍。液體源 例如水譬如含驗土金屬離子之水可為任何適宜來源（如前 所述）。在某些實施例中，水源包含一具有一用於水譬如含 鹼土金屬離子之水之輸入件的貯器，該輸入件譬如是一來 121 201105406 自海洋的管路或導管。在液體源例如水譬如含鹼土金屬離 子之水是海水時，該輸入件係與一海水源流體連通，舉例 來說譬如該輸入件係一從海水到一陸基系統的管線或進給 件。 氣液接觸系統可包含一小區塊之喷口陣列。喷口可經 交錯排列致使射流喷口在一方向中以1.5公分至2.5公分、 例如1.7公分至2.3公分、譬如1.9公分至2.1公分、或2 公分分隔，在另一方向中以1.5公釐至2.5公釐、例如1.7 公釐至2.3公釐、譬如1.9公釐至2.1公釐、或2公釐分隔， 且在對角方向以0.5公釐至1.5公釐、例如0.7公釐至1.3 公釐、譬如0.9公釐至1.1公釐、或1公釐分隔。喷口具有 一 V形入口通道及讓射流展開之錐形出口通道。入口通道 與出口通道之交會產生喷口。射流長度對射流寬度之比可 為5:1至20:1，或是7:1至15:1，或是8:1至12:1，或是9:1 至11:1，或是10:1，且厚度為10微米至100微米，例如10 微米至20微米。 本發明之充填反應器可包含一平射氣液接觸系統以創 造水（譬如含驗土金屬離子的水）之大比面積。充填反應 器具有一附接於反應器之歧管的含C〇2之氣態流源。在某 些實施例中，歧管具有複數個允許co2氣態射流進入充填 反應器的孔（開口）。充填反應器亦可有一藉由管路耦接至 複數個平射喷嘴的水（譬如含鹼土金屬離子之水）Γ液體 試劑〃）入口，該等平射喷嘴產生水之扁平射流。水（譬如 含鹼土金屬離子之水）之扁平射流與含co2之氣態流交互 122 201105406 作用以生產=〇2充填水組合物，其將經受沈殿條件。 在二貫加例中，充填反應器之平射氣液接觸系統的 喷嘴可有-在頂點附接於—對相對板之—第—端的V形腔 至。相對板之-第二端附接於一錐形喷嘴。水（譬如含鹼 土金屬離子之水）流入V形腔室内且被迫通過相對板之間 的通道離时嘴產生-扁平射流。視噴嘴面積 '射流流率 及速度而定’射流厚度約為5微米至微米a寬度約為i 公分至5公分。因此，寬度對厚度之比可能明顯大於十。 就大約10 m/s的射流速度來說，扁平射流之長度可為十五 公分或更長。錐形噴嘴與相對平板相會之處的最窄通道大 於600微米。此喷嘴允許水（譬如含鹼土金屬離子的水） 之較大表面積’這顯著提高C〇2及其他成分（譬如s〇x、 NOx、微粒物質、重金屬、及/或v〇c)在含（^之氣態流 與液體薄片之間的轉移效率。此外，因為大射流表面積及 小射流厚度，此喷嘴產生一極大比表面積（10 cm-i至20 cm·1) ’這促成水與氣態流之間的較大接觸體積。除了加大 水（譬如含鹼土金屬離子的水）的表面積，扁平射流具有 一 600微米或更大的喉尺寸。扁平射流的大喉尺寸使得其 不可能堵塞。在堵塞不成問題的一些實施例中，喉尺寸可 為較小’例如50微米或更大、1〇〇微米或更大、2〇〇微米 或更大、300微米或更大、4〇〇微米或更大、或500微米或 更大。系統可亦包含一用於收集水（譬如含鹼土金屬離子 的水）及耗盡C〇2之氣態流以供再利用的組件。 藉由將含C〇2之氣態流導引至接觸水（譬如含鹼土金 123 201105406 屬離子的水）@ 丁 之氣能法射流而使該氣體與該水接觸。含C02 正交於^ 或對扁平射料ιΐ財織、反时行於騎射流、 々則所述’來自工廠的氣體3()可先經處理然後用充 氣體可經受氧化條件以提高氣態流之 :又（列如將C〇轉化為叫將腸轉化為Ν〇2, 將S〇2轉化成s〇3，依此類推）。 圖11示出本發明裝置之一實施例。一包括—液體及一 ，體成分的聚料經由-人π導管（)進人接觸室到一貯 盗（105)，祕$亦容納已與氣體接觸㈣料。在一些實 施例中，-職輸送！I提供該㈣之料作用及該聚料斑 -進入腔室之氣體㈤）之混合作用。在—些實施例中， 一氣體經由一入口（則）進入腔室。在-些實施例中，有 至少二層或區段之液滴或流產物（15G和155)，且在液滴 或流生產系統之陣列内具備用於讓氣體在腔室（16〇)内往 上行進的導官。一漿料輸送系統（115、12〇、135、125、 140、130)將㈣從貯器移至液滴或流生產系統以及使聚 料在不同層的液滴或流產物内再循環。粉碎系統（12〇、 125、130)為㈣之固體成分提供粒徑減小作用，藉此增 進固體在氣體併人液體内之過程中的參與度。在—些實施 例中’粉碎祕為漿料輸送系統之導f (115、145「中的 螺旋輸送II。在-些實施例中，利用—高效率氣液接觸器 從氣體流去除更多期望成分。將無固體的清澄液體提供至 124 201105406 南效率氣液接觸器（165)且法丨丨田& ==對f積手段使液體與氣=或:體 腔室且通過另-系統或被釋觸後的氣體（175)離開 r . ^ ^ 二氣中。接觸後的液體（180 ) (包含由氣體與液體間之技s ^ Α8υ^ ㈣靜* 觸相的沈難質以及少量的 J：枓固體成分）離開腔室且被 *殿押、脫走备μ ^ 、'^、他系、、充（185 )譬如沈 版槽脫水糸統、及建築材料製造系統。 圖12示出本發明之_ 士 ^ . 方法之一實施例的流程圖。在大 多數貫知例中，提供一句扭 ^ Γ2〇〇Λ 一液體及一固體成分的漿料 (200)。使聚料經過粉碎作用 混合聚料（205)。由漿料m * 風刀之位k以及 田采Ή化成液滴或流（ 液滴或流的液體導引（215)5ΒΛ/、； I將身為 舻導引室以供接觸（22〇)。將氣 體¥引至接觸至（225)。氣體之來源可為 链 如由燃燒化石燃料譬如煤所產生。在接觸後y形成:已^ 觸水料並將其射在接難之1器内（謂），且使此已 接觸lft料之一部分在粉碎後再循環（235)且將其-部分送 出以分離11體及液體（240)。去除㈣且可將其用於許多 應用，包含但不限於建築材料，譬如土壤穩定、塗料製造、 ，潤滑劑製造。流出液（245)可有一有利於用在一高效率 氣液接觸器（ 255 )中的溶液化性’該氣液接觸器位於裝置 中用以在氣體（250)通過較大液滴及流到接觸之最終階段 時最大化接觸作用。流出液亦可利用奈米過濾及逆滲透 (260)處理以提供礦物質及化學物回收作用以及可能適合 125 201105406 作為脫鹽作業之進料水或是適合釋入環境中（ 265)的水。 圖丨3示出本發明裝置之一水平組態實施例。一氣體經 由一入口（300)進入腔室内。一包括一液體及一固體成分 的聚料從一貯器（ 330)(漿料在此經受粉碎作用）送出且 經由一系列的液滴生產器件（ 350)進入接觸室（310)以 產生充滿該室的液滴喷流（320)。在一些實施例中，有至 少i個區段的液滴產物，此等區段可操作地連接致使氣體 通過該等區段之長度且在該接觸室之長度當中耗盡氣體之 一成分。一漿料輸送系統（ 340、350、360、370)將漿料 =接觸室移至液滴生產系統並使E料在不 同區段之液滴或 ^產物内再循環。漿料貯器（ 330)内之一粉碎系統提供漿 料成分之粒徑減小’藉此增進固體在氣體併入液體内 =私中的參與度。與液體接觸後的氣體離開腔室且通過 系統或釋人空氣中。接觸後的液體（包含由氣體與液 P接觸得到的沈殺物質以及少量的裝料固體成分）離 ς 室（ 370)且被送到其他系統（38〇)譬如沈澱槽、 脫水糸統、及建築材料製造系統。 ^ 14不出本發明裝置之—水平組態實施例的端視圖。 液體及-固體成分㈣料從—貯 受粉碎作出且經由一系列的液滴生 丄41〇)以產生充滿該室的液滴噴後 乱體由—入口進入腔室並通過該室（ 450)。 在—些實施例中，有至少二個區段的液滴產物，此等⑪ Μ作地㈣致使氣體通過該等區段之長度且在該接觸^ 126 201105406 之長度當中耗盡氣體之一成分。一漿料輸送系統（420、 460、470)將漿料從接觸室移至液滴生產系統並使漿料在 不同區段之液滴或流產物内再循環。漿料輸送系統内之一 粉碎系統（460)提供漿料固體成分之粒徑減小，藉此增進 固體在氣體併入液體内之過程中的參與度。與液體接觸後 的氣體離開腔室且通過另一系統或釋入空氣中。接觸後的 液體（包含由氣體與液體間之接觸得到的沈澱物質以及少 量的漿料固體成分）離開接觸室且被送到其他系統（480) 譬如沈澱槽、脫水系統、及建築材料製造系統。 圖15釋出本發明之一實施例，其包含一氣體分佈區 段、數量可變之接觸區段、及一永遠位在裝置頂部的除霧 或最終氣體吸收區段。氣體在已集中溶液上方之最下方區 段、即氣體分佈區段進入裝置。氣體往上流動通過裝置並 離開裝置之頂部。接觸區段之編號可為1至超過1，譬如2 或3或更多。接觸區段之數量係基於期望之最終產物類型、 所用吸收性溶液或接觸混合物、喷流（或液流之其他形 式），且視情況基於所用分流棚列而決定。氣體離開裝置之 前的那個區段是除霧區段。該區段可包含一高效率氣體吸 收系統，其使用例如清澄液體之扁平薄片或極細液滴，大 約小於100微米、譬如小於50微米直徑之液滴。在最終區 段中，將使用無微粒物質的溶液以最大化吸收作用及/或液 滴集中作用。除霧及最終氣體吸收區段中使用之溶液的化 性可能不同於任一接觸區段中使用之溶液。被集中在裝置 底部之溶液的再循環可包含粉碎可能存在於該溶液中之任 127 201105406 何固體的作業。再循環亦可包含分離可能存在於該溶液之 任何固體且將流出物送回裝置，其經或未經處理以補充溶 液中之任何化學不足處。裝置可為本質上可攜的，致使整 個裝置被裝在一可經由鐵路（火車）、水路（驳船）、及/或 道路（卡車）運輸的貨櫃内。裝置亦可為模組化的，致使 不同區段可被個別裝在一貨櫃内且被堆疊或以其他方式可 操作地彼此連接。 圖16和17是本發明裝置之一實施例的示意圖，其中 使用分流棚列。圖16示出整個裝置，具有在裝置之下部部 分上方的氣體入口，已集中溶液會被儲存在該下部部分中 然後移除以供進一步處理。中央區段由分流棚列組成，其 組態示於圖17。圖16所示裝置之上部區段包含一喷頭用以 將吸收性溶液或接觸混合物導引至裝置及氣體出口。 圖18是本發明之一實施例的示意圖，其中裝置包括喷 頭陣列。圖中示出4個喷頭，該等喷頭在鉛直取向裝置内 全都指向下方。喷頭可以任何適宜方式製造，包含使用喷 射器或噴射喷嘴、雙流體喷嘴、壓力喷霧器、旋轉喷霧器、 空氣輔助喷霧器、氣壓式喷霧器、或超音波喷霧器、或以 上之任何組合。裝置中之氣體流係往上，故所有喷頭以一 逆流方式遭遇氣體流。氣體在底部進入裝置且往上流過裝 置之長度。裝置可包含一位於氣體出口之前的除霧區段（圖 中未示）。吸收性溶液或接觸混合物可為清澄液體，或者若 採用再循環作用則其可為一含有一固體成分譬如一礦物、 工業廢料（譬如飛灰、水泥窯塵灰）、及/或一已沈澱物質的 128 201105406 漿料。在採用再循環作業的情況中，可能發生吸收性溶液 中之任何固體的粉碎作業。吸收性溶液或接觸混合物可包 含工業廢鹽水(brine)、天然發生的驗鹵、海水、人工化合或 合成鹽水、或以上之任何組合。 圖19係一本發明之一實施例的示意圖，其中裝置包括 一喷頭陣列。圖中示出4個喷頭，其中二個中央喷頭為任 選的。最頂部的喷頭經定向致使液體（亦即吸收性溶液或 接觸混合物）逆流於氣體流而流動。最底部喷嘴經定向致 使液體與氣體流共流（往上到鉛直取向之裝置中央）。氣體 在底部進入裝置且往上流過裝置之長度。裝置可在裝置中 央包含分流棚列而非二個任選喷頭。裝置可包含一經定位 在氣體出口之前的除霧區段（圖中未示）。吸收性溶液可為 清澄液體或者其可為一含有一固體成分譬如礦物質、工業 廢料（飛灰、水泥窯塵灰）、及/或沈澱物質（前提是採取再 循環）的漿料。在採用再循環的情況中，可發生吸收性溶 液中之任何固體的粉碎作業。 圖20示出分流棚列組態之代表。左手邊所示為組態之 俯瞰或平面圖。右手邊所示為分流棚列組態之側剖面圖。 最頂部組態為由一環支撐之一圓柱形室或柱内之分流棚列 的標準組態。分流棚經交錯排列致使從較高分流棚落下的 液體會抵達下方分流棚之頂點附近。在不會有一完整分流 棚的邊側上，顯示有一下斜嵌件。中間組態為被製作成同 心之圓圈的分流棚。這些分流棚圈係由在分流棚底下從腔 室或柱之一側延伸到另一側的鋼絲支撐。分流棚經交錯排 129 201105406 列，再次導致從較高分流棚落下之液體會抵達下方分流棚 之頂點附近。分流棚列之最底部組態經配置致使所有分流 棚取而代之係在腔室或柱之全長當中彼此平行對準，每隔 一層的分流棚經定向對於上方及下方之列成90°定向。 高效率氣液接觸之另一觀點為液體與氣體接觸使得氣 體可併入液體内的時間。在氣體於一被氣體包圍的液柱或 液滴内起氣泡的情況中，此接觸時間亦被稱為停留時間。 如前所述，液滴在氣體内的停留時間可藉由創造中性漂浮 液滴而增加。液滴在氣體内的停留時間亦可藉由增加液滴 與氣體保持接觸之時液滴行進之路徑長度而增加。在一些 實施例中，路徑長度係由裝置之組態提供。一些實施例利 用液滴在接觸隔間内之對流或移動來增加液滴與氣體保持 接觸之路徑長度暨停留時間。在一些實施例中，路徑長度 係由一接合一液滴生成處之隔間與一液滴聚結處之隔間的 導管提供。一些實施例使液滴沿一長路徑接觸一氣體。在 一些實施例中，長路徑係一螺旋路徑，如圖21至圖24所 示。在一些實施例中，利用一内旋（involuted )進給件（圖 21 : 400 ;圖 22 : 500 ;圖 23 ·· 600 ;圖 24 : 700)將氣體導 入一裝置内，致使氣體及與該氣體接觸的液滴依循裝置之 接觸隔間内之一螺旋路徑（圖21 : 410 ;圖22 : 510 ;圖23 : 610 ;圖24 : 710)。一些實施例利用氣體入口陣列（圖21 : 470 ;圖22 : 540 ;圖23 : 670 ;圖24 : 740)增加液滴在氣 體内（例如在主接觸隔間内）之停留時間。另一種使氣體 與液體間之接觸時間可有效地增加的方式為使一者在另一 130 201105406 者内再循環。在一些實施例中，已接觸一氣體的液滴聚結 成一液體溶液，由此液體容易生產液滴並使之與氣體再次 接觸。在一些實施例中，使已與液滴接觸的氣體通過氣體 入口陣列回到接觸隔間或裝置内（圖21 : 470;圖22: 540 ; 圖23 : 670 ;圖24 : 740)。在一些實施例中，氣體及液體 二者皆被再循環。在提供方法及裝置以藉由增加液滴在氣 體内之路徑長度而增加氣體與液體間之接觸時間的實施例 中，液滴的大小可為從100微米至1公釐或更大之平均直 徑，譬如從200微米至1公釐之平均直徑、從300微米至 900微米之平均直徑、從400微米至900微米之平均直徑、 從400微米至800微米之平均直徑、從500微米至900微 米之平均直徑、從500微米至800微米之平均直徑、或從 400微米至700微米之平均直徑。在一些實施例中，提供平 均直徑為500微米至超過1公釐的液滴。 一些實施例在一個接觸隔間中運用加長路徑長度、再 循環、及高表面積技術。在一些實施例中，用以製成液滴 的液體係一漿料且含有固體物質。在此等實施例中，採用 具有使固體成分大小縮減之相混合的粉碎作用搭配再循環 作用。在一些實施例中，裝置包括多個液滴生成階段，其 中一些採用粉碎搭配再循環作用且其中一些將高表面積技 術用在一暴露於氣體之前不含固體物質的液體。在一些實 施例中，方法包括以一運用粉碎作用的方式使一固體與一 液體混合；使該固體及液體混合物（或漿料）與一氣體接 觸；及在與氣體接觸之後從液體分離出固體。在一些實施 131 201105406 例中，漿料被再循環及與氣體接觸多次。在一些實施例中， 使在漿料已接觸氣體之後從固體分離出來的液體再循環。 在一些實施例中’本發明之裝置及系統經配置以在72 小時之連續作業中平均將超過20噸/小時的二氧化碳併入 一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之裝置及系統 經配置以將超過40噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液 内。在一些實施例中，本發明之裝置及系統經配置以將超 過60噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實施 例中’本發明之裝置及系統經配置以將超過70噸/小時的二 氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之 裝置及系統經配置以將超過80噸/小時的二氧化碳併入一 吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之裝置及系統經 配置以將超過90噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液 内。在一些實施例中’本發明之裝置及系統經配置以將超 過100°镇/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實 施例中，本發明之裝置及系統經配置以將超過110噸/小時 的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發 明之裝置及系統經配置以將超過120噸/小時的二氧化碳併 入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之裝置及系 統經配置以將超過130噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶 液内。在一些實施例中，本發明之裝置及系統經配置以將 超過140噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些 實施例中’本發明之裝置及系統經配置以將超過150 °煩/小 時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本 132 201105406 發明之裝置及系統經配置以將超過160噸/小時的二氧化碳 併入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明之裝置及 系統經配置以將超過170嘲/小時的二氧化碳併入一吸收性 溶液内。在一些實施例中，本發明之裝置及系統經配置以 將超過180噸/小時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一 些貫施例中，本發明之裝置及系統經配置以將超過19〇噸/ 小時的二氧化碳併入一吸收性溶液内。在一些實施例中， 本發明之裝置及系統經配置以將超過2〇〇噸/小時的二氧化 碳併入一吸收性溶液内。在一些實施例中，本發明:裝置 及系統包含-驗從—氣態源去除叫的裝置及系統，該 ，態源例如是-叫卫業氣態源，譬如來自動力廠之煙= 乳或·#如來自-水泥廠之廢氣，其中該等裝置及系統經 配置以使已溶有來自〇)2氣態源（例如二氧化碳工業源工 的水⑶如海水、鹽水、吸收性溶液）經受賴條件，並 =,亥等沈㈣件在72小時之沈_件連續施加巾平均提供 母公升吸收性溶液2·6公克至每公升吸收性紐26.U公克 之沈殿物。在-些實施例中，該等裝置及系統 = =條件在72小時之沈殿條件連續施加中平IS 母a二及收性’谷液5 2公克至每公升吸收性溶液％ u公^ 之沈瓜物。在—些實施例中’該等I置及系統經配 =條件，其在72小時之沈殿條件連續施加中平均= 了么升吸收性溶液7.83公克至每公升吸收性溶液％ "二 克之沈歲物’譬如每公升吸收性溶液9 ΐ4至2 二 襲至26.U、譬如旧5至2611、譬如簡至26i如 133 201105406 譬如14.36至26.11、譬如15 66至26 u、譬如16 97至 26.1 卜譬如 18.27 至 26.11、譬如 19 58 至 2611、譬如 20.88 至26.1卜譬如22.19至26.11、譬如23.5至26.1卜譬如24_8 至26.11公克之沈澱物。 碳酸鹽礦物質沈殺站20 (亦即反應器）可包含任意數 量之不同組件’譬如溫控組件（例如經配置用以將水加熱 至一期望溫度）；化學添加組件，例如用於將化學pH值提 升劑（·#如KOH、NaOH )導入水内；電解組件，例如陰 極/陽極等；氣體充填組件；加壓組件（例如需要執行加壓 條件下之規範的情況，譬如5〇 psi至8〇〇 psi、或1〇〇 psi 至800 pSi、或40〇1^至8〇〇1^、或任何其他適當壓力範 圍）等；機械攪動及物理攪拌組件；以及使工廠煙道氣再 循環通過沈殿廠之組件。 碳酸鹽礦物質沈澱站20可包含任意數量允許監測（, 如線=監測）一或多種參數之不同組件，此等參數譬如 反應器内壓、pH值、沈殿物粒徑、金屬離子濃度、水溶; 之導電率、水溶液之驗度、及pC〇2。監測碳酸鹽沈殿製| 期間之狀況可允許在沈殿製程期間做出修正調整。 說，可做出修正调整以增加或減少碳酸鹽 量。在-些實施例中，利用一可摔作地^化^物沈殿 質沈一内監測裝置監測碳::=== 測裝置包括-稀釋歧管、一離子選擇電極、一 控制器、及-稀釋液源。圖25例示一可行線内:: 1600。操作性地’控制器（16 皿4 j變流量控制 134 201105406 (1621 )，該控制器操作可變流量控制閥允許沈殿站流出物 進入一稀釋歧管（1630)，通常是在通過一過濾器（圖25 未示）以去除碳酸鹽礦物質沈澱物之後進入。然後測量未 稀釋沈澱站流出物以求離子濃度。為實現離子濃度測量， 舉例來說，使用一耦接於選擇性針對一特定離子（譬如C a2+ 或Mg2+)之一或多個電極（ 1640)的伏特計（ 1650)。萬一 實測電壓係在一接受電壓範圍以外（例如在電壓對離子濃 度之一標繪圖之線性部分以外），使用稀釋液（1610)稀釋 該稀釋歧管内之沈澱站流出物。可操作地連接至伏特計及 稀釋液二者的控制器監測並記錄經由一控制器操作可變控 制閥（1610)輸送的稀釋液量。當電壓讀數落入接受範圍 内時，受控稀釋液輸送減緩或停止。視原始沈澱站流出物 中之目標離子的控制器判定離子濃度而定，稀釋液可經由 可變流量控制閥1612添加至沈澱站（例如若離子濃度為 高），或者沈澱站流出物可經由閥1622從沈澱站排出（例 如若離子濃度為低）伴隨著一更濃縮離子溶液經由一入口 送入沈殿站。 有可能期望將一或多種成分從一氣態流併入一吸收性 溶液内而不生成固體沈澱物，譬如從一工業煙道氣去除二 氧化碳及視情況去除SOx、NOx及其他非C02酸性氣體。 在此等案例中，可利用在本說明書其他部分更詳細說明的 控制器、監測裝置及沈澱條件以最佳化至少一成分從一氣 體併入一吸收性溶液内且持續防止該一或多種成分釋入地 球大氣中。在一氣態流之成分併入一吸收性溶液内不會造 135 201105406 成沈澱作用的情況中，所得溶液可經一系統進一步處理以 回收一可用吸收性溶液或是回收可飲用或適用於灌溉的 水。另一選擇，在一氣態流之成分併入一吸收性溶液内不 會造成沈澱作用的情況中，所得溶液可被送到一滯留設 施，譬如但不限於一地下場所，包含一地理特徵譬如含水 層。由一氣態流之成分併入一吸收性溶液内造成的此等溶 液可利用任何適宜方法送到一滞留設施，此等方法包含但 不限於導管譬如管件或渠溝、液槽車、泵浦、經由鐵軌或 驳船運輸之液槽、或以上之一組合。 如圖6所示，由步驟20之沈澱作用得到的沈澱產物可 在步驟40從沈澱站流出物分離以生產已分離沈澱產物。由 於新近分離的沈澱產物可在一後續步驟中被乾燥，已分離 沈澱產物亦可為一 &濕的脫水沈澱物〃。沈澱產物從沈澱站 流出物之分離可為利用任意數量之適宜方式達成，包含排 水（例如在排水後沈殿產物之重力沈積）、傾析、過濾（例 如重力過滤、真空過濾、使用受力空氣之過滤）、離心、壓 榨、或以上之任何組合。在一些實施例中，藉由使沈澱站 流出物對著一折流板流動而使沈澱產物從沈澱站流出物分 離，上澄液撞到折流板會轉向並與沈澱產物之顆粒物質分 離，後者被集中在一收集器中。在一些實施例中，藉由使 沈澱站流出物在一螺旋通道内流動而使沈澱產物從沈澱站 流出物分離，分離出沈澱產物之顆粒物質且從螺旋通道出 口陣列收集沈澱產物。機械地，至少一液固分離裝置可操 作地連接至沈澱站致使沈澱站流出物可從沈澱站流到液固 136 201105406 扁置（例如包括一折流板或一螺旋通道之液固分離裝 。沈澱站流出物可為直接流到液固分離裝置，或者流出 物了如下文更詳細所述經預處理。 任一則述分離方案之能量需求可藉由調適此方案以利 用工廠所提供之多種含有能量的廢料流（例如廢教或廢氣 之任一者而滿足；但’熟習此技藝者會理解到就減低 本毛明之碳足跡的觀點而言期望有需要較少能量的分離方 案。 沈j又產物從沈殿站流出物分離及集中可用w〇 2007/051640號及cA 〇262827〇號所述方法及液固分離裝置 連續地或分批地實現，該等專利以引用的方式併入本文 中。在一些實施例中，液固分離裝置包括一具有—漏斗狀 區段的容器；一沈澱站流出物管，其設置於該容器中依一 縱向方向延伸且經由一入口通入該容器内用以將沈澱站流 出物流導引通過該沈澱站流出物管；及一移除口，其形成 於該漏斗狀區段之下端用以將已分離沈澱產物從該容器移 除，該裝置之特徵為有一設置在該入口之區域中的折流板 藉以使沈澱站流出物流轉向。諸如Epuramat,s EXtrem-Separator (”ExSep”）液固分離機或其—修改型的

液固分離機在一些實施例中適用於使沈澱產物從沈澱站流 出物分離。 彳又/；，L 為使沈殿產物與水分離，沈殿站流出物被依重力方向 導入一浴槽内，在該浴槽内沈澱產物顆粒在重力作用下下 降並從其下部區域移除。此種沈澱產物顆粒移除可為連續 137 201105406 地或分批地進行。沈澱站流出物在被導入浴槽内之後對著 一折流板流動，藉由該折流板使該浴槽内之流動轉向。藉 由此製程控制，會在入口之區域中產生一液壓-物理反應 區，在該區中依重力方向流動之沈澱站流出物的主要流動 能量被摧毀。使依一鉛直方向流入沈澱站流出物管之沈澱 站流出物流轉向因為高於水之密度差而有利於沈澱產物顆 粒分離。在沈澱站流出物轉向時，較重的沈澱產物顆粒延 續沈澱站流出物管之方向之運動路徑（亦即向下方向）的 傾向較強，而水被轉向並與重的沈澱產物顆粒分離並上 升。流動能量之破壞實質上係由對著折流板流動時（亦即 依沈澱站流出物通過沈澱站流出物管之流動方向且主要在 折流板下流離開沈澱站流出物管之後）之轉向損失造成。 沈澱站流出物特定言之係以一使大體上會在容器内下降的 沈澱產物顆粒（亦即密度高於水之顆粒）在被導入浴槽内 的過程中以一大致不受擾方式繼續其由沈澱站流出物管引 發之下降運動。轉向作用應當不會有使密度較高之沈澱產 物顆粒在轉向期間有一往上速度分量加諸其上。此速度分 量在轉向期間應當僅加諸於較輕的水，故因折流板處的轉 向作用之故，水接收到用於在浴槽中上升的期望速度分量。 另一選擇，沈澱產物從沈澱站流出物分離及集中可為 利用US 2008/018331號所述方法及液固分離裝置連續地或 分批地實現，該專利之内容以引用的方式併入本文中。在 一些實施例中，液固分離裝置包括一可操作用以接收沈澱 站流出物的入口；一可操作用以允許沈澱站流出物之流的 138 201105406 通道，該通道呈一螺旋組態；一用於從沈澱站流出物分離 出沈澱產物的分離構件；及至少一用於沈澱產物耗盡之上 澄液的出1:7 °諸如Xerox PARC之螺旋濃縮機或其修改型的 液固分離機在—些實施例中適用於使沈澱產物從沈澱站流 出物分離° 沈澱廣物係基於經設計會在一螺旋通道内流動之沈澱 產物顆粒的粒徑及質量分離作用而從沈澱站流出物分離。 在螺旋區段’源自流體剪力之向内橫向壓力場與向外離心 力相當以允許沈澱產物顆粒分離。在高速度下，離心力占 優勢且沈濟產物顆粒往外移動。二個反向力的量值取決於 流動速度、粒徑、螺旋區段之曲率半徑、通道尺寸、及沈 殿站流出物之黏度。在螺旋通道之末端，一平行出口陣列 收集已分離的沈殿產物顆粒。對於任何粒徑來說，所需通 道尺寸係由估算抵達側壁之輸送時間決定。此時間係流動 速度、通道寬度、黏度、及曲率半徑之一函數。較大沈;殿 產物顆粒町能比需要更多時間以抵達側壁的較小顆粒先抵 達通道壁因此，一螺旋通道可能沿該通道有多個出口。 此技術本質上可套用在從次公釐級到1微米之大幅尺寸範 圍。 有可能期望預處理（例如粗過濾）沈澱站流出物以在 將該流出物提供至液固分離裝置之前從該流出物去除大尺 寸沈澱產物顆粒，因為大尺寸顆粒可能干擾到液固分離裝 置或製程。沈澱產物從沈澱站流出物之分離可利用單一液 固分離裝置實現。在一些實施例中，可使用二、三、四、 139 201105406 五、或超過五個液固分離裝置之組合從沈澱站流出物分離 沈澱產物。液固分離機之組合可視期望生產量而定ί聯、 並聯、或串並組合使用。在一些實施例中，液固分離裝置 或其組合能夠以100公升/分至2,000,000公升/分、100公 升/分至1，000,000公升/分、100公升/分至500,000公升/分、 100公升/分至250,000公升/分、100公升/分至100,000公 升/分、100公升/分至50,000公升/分、100公升/分至25,000 公升/分、及100公升/分至20,000公升/分處理沈澱站流出 物。在一些實施例中，液固分離裝置或其組合能夠以1〇〇〇 公升/分至2,000,000公升/分、5000公升/分至2,000,000公 升/分、10,000公升/分至2,000,000公升/分、20,000公升/ 分至2,000,000公升/分、25,000公升/分至2,000,000公升/ 分、50,000公升/分至2,000,000公升/分、100,000公升/分 至2,000,000公升/分、250,000公升/分至2,000,000公升/ 分、500,000公升/分至2,000,000公升/分、及1,000,000公 升/分至2,000,000公升/分處理沈澱站流出物。在一些實施 例中，液固分離裝置或其組合能夠以1000公升/分至20,000 公升/分、5000公升/分至20,000公升/分、10,000公升/分至 20,000公升/分、1000公升/分至10,000公升/分、2000公升 /分至10,000公升/分、3000公升/分至10,000公升/分、4000 公升/分至10,000公升/分、5000公升/分至10,000公升/分、 6000公升/分至10,000公升/分、7000公升/分至10,000公 升/分、8000公升/分至10,000公升/分、9000公升/分至 10,000公升/分、或9500公升/分至10,000公升/分處理沈澱 140 201105406 站流出物。 亦可串聯、並聯、或串並組合使用液固分離機之組合 以提高分離效率。此外，由一或多個液固分離裝置產生的 上澄液可被再循環通過液固分離裝置以提高分離效率。在 一些實施例中，從沈澱站流出物收集到30%至100%、40 %至 100%、50% 至 100%、60% 至 100%、70% 至 100%、 75%至 100%、80%至 100%、85%至 100%、90%至 100 %、95% 至 100%、96%至 100%、97% 至 100%、98% 至 100%、99%至100%沈澱產物。視從沈澱站流出物去除之 沈澱產物的量而定，上澄液可被送回沈澱站或提供給本發 明之一電解胞元。在一些實施例中，具有相對高濃度沈澱 產物的上澄液被送回沈澱站以使沈澱產物顆粒凝聚。在一 些實施例中’具有相對高濃度溶解二價陽離子（例如Ca2+ 或Mg )的上澄液被送回沈澱站當作二價陽離子源。在一 些實施例中，具有相對低濃度沈澱產物及溶解二價陽離子 的上澄液經過濾以去除大部分剩餘二價陽離子且提供給本 發明之一電解胞元。 沈殿產物顆粒之此種去除作業可為連續地或分批地進 行。 在些實施例中，未從沈澱站流出物分離或僅分離邱 分沈澱產物。在此等實施例中，包含一些沈澱產物的流出 物（例如通過一液固分離裝置之後的流出物）或包含或所 有沈澱產物的流出物可以多種不同方式之任一者處置。在 -些實施例中，來自沈_包含〆些或所有沈^物的流 141 201105406 送到一陸地或水中場所且在該場所被處置。在水 ::水的實施例中送到海洋係特別適合。應理解到從一 2廢氣，給定量之c〇2的碳足跡、使用能量、及/或產 止〇 2 !在-除伴隨著沈殿物發生之處置作業外沒 一步處理的製程中被最小化。 、在圖6所示實施例中，所得已脫水沈澱物隨後被乾燥 ^生產—產物，如圖6之步驟6G所示。乾燥作業可藉由風 乾，液而完成。在濾液係被風乾的情況中，風乾作業可為 在室溫或升高溫度下進行^在某些實施例中，該升高溫度 ，由工廠氣態廢料流提供，如圖7之步驟7〇所示。在這^ 實施例中，來自動力廠的氣態廢料流（例如煙道氣） 首先用在乾燥步驟中，此時氣態廢料流可具有3〇。匚至7〇〇 °C、譬如75°C至300°C之溫度。氣態廢料流可在乾燥階段 中與濕沈殿物直接接觸，或被用來在乾燥階段中間^地力 熱氣體（譬如空氣）。可藉由使來自工廠之氣體輪送器（例 如導管）源自一適當位置而在氣態廢料流中提供期望⑽ 度，此適當位置例如係在HRSG中或煙道往上某一距離产 的位置’此係基於廢氣之詳細規格及工廠之組態決定。: 更另一實施例中’沈澱物係被噴霧乾燥以乾燥沈凝物，此 時含有沈澱物的液體係藉由饋送通過一熱氣體（聲如來自 工礙之氣態廢料流）而被乾燥’例如此時液體進料經由一 噴霧器被泵運至一主乾燥室内且熱氣體作為一同向或逆向 於噴霧器方向的流輸送。在某些實施例中，乾燥作業係藉 由冷凍乾燥（亦即低壓乾凍）實現’其中沈澱物被冷;東、θ 142 201105406 周遭壓力被降低且添加足夠的熱以允許物 冷珠沈殿物相直接昇華成氣體。視 =⑸東水從 定，乾餘站可包含一過濾元件、冷康乾士= ^燥手段而 結構等。 ^、％構1霧乾燥 如果想要，來自分離反應器40的已 乾燥前經過清洗，如圖6之任選步驟5 尤叔產物可在 淡水清洗，例如藉讀已脫水•物去用

NaCl)。使用過的清洗用水可依合宜 皿（誉如 砂池等。 Μ置’例如放入尾 在本發明之某些實施例中，沈澱物可 同一站中或是對於所有製程在不同站中或任:斤有製程在 合被分離、清洗及乾燥。舉例來說，在=何其他可行組 作業及分離作業可為在沈殿反應器2Q 1施例中’沈殿 洗係在不同反應器中發生。在更另—實J例中但3及清 離及乾燥作業可為全都在沈澱反應器2 此澱、分 業係在一不同反應器中發生。 x ’且清洗作 在使沈殿物與母液分離之後，例如 的沈澱物可依需求被進一步處理。在 —& ，已分離 物隨後可被送到-用於長期儲存的場所;^效=中=殿 所，例如地上、地下、深海中t運送亚放置在長期儲存場 已乾燥產物可被以多種不同方， 中，沈殿產物被運送至-用於長期儲“場=1實= 沈澱產物中有效地封存C02,例如變杰一 在I疋 取一儲存穩定地上co2 143 201105406 封存物質。舉例來說，沈澱物可被儲存在.χ廠及沈殿系統 =近之*期儲存場所。在更其他實施例中，沈殿物可依 需要被運送並放置在長期儲存場所，例如地上、地下等場 斤〃中°亥長期儲存場所係遠離動力薇（這在動力廠附近 之土地係難以取得的實施例中可能合乎期望）。在沈澱物被 運送至一長期儲存場所的這些實施例中，其可能係用原本 用來運送燃料或其他物資到工廠及/或沈澱廠的空運輸載具 (例Ί舲、火車、卡車等）運送。依此方式，可利用用 =將燃料帶到H物資帶到沈絲（例如驗源）的運 利載具運送沈殿產物’ 因此從工薇封存co2。 ^在某些貫施例中，組合物係在一水下場所處置。水下 ^所可因—特定應用而異。雖說水下場所可為—内陸水下 例如在一湖泊中，包含淡水湖，然在某些實施例中 未趟0疋运洋或近海水下場所。組合物可為仍在母液中， 曰分離或未完全分離，或者組合物可能已與母液分離。 7下，所可為淺處或深處。淺處係200英尺或更淺、譬如 ,尺或更淺、包含1〇〇英尺或更淺之處。深處係在2〇〇 =尺或更深、譬如500英尺或更深、1000英尺或更深、2000 為尺或更深、包含5000英尺或更深之處。 =有需要，沈澱物及母液之組合物可在沈澱之後被處 馨之則儲存—段時間。舉例來說，組合物可在PC至40t： ^ C至25 C之溫度被儲存1天至1〇〇〇天或更久、譬 α 1天至10天或更久的時間。 可採用任何適宜手段運送組合物至處置場所，且必定 144 201105406 -管線或類似的漿料輸送沾槿、某“施例中’採用 含主動泵運、重力中間=構，其中這些方法可依需要包 處置=1=::戰=沈澱之後被直接放到 能在處置之前經過進一步處理^:貫施例中組合物可 中，可從細人你吝斗m触^里。舉例來說，在某些實施例 u & 口體貫體形狀，所得形狀P/人立 處置場所被處置。此實施例之狀&後在合思 合物製得人工雄山姓爐/例為從碳酸鹽化合物組 °構，例如藉由將可流動組合物放入一 γ模具結射並使㈣合物 成。所得固體礁岩結構隨後可依需 位置例如-水下淺處以產生—人工置放S適虽海中 在本發明製得之沈殿物係藉由將其用 ί。製造物中予以處置。換句話說，個產物製造-人造 亦即-機械製造物品。產物可以本身或搭配一或多 的：2料:吏用’致使其為機械製造物品之-成分。合意 =械製造物品可能有多樣，其中合意的機械製造物品之 ς例包含建騎料及非㈣材料，譬如非水泥機械製造材 ^ °合意的建築材料包含混凝土之成分，譬如水泥、粒料 ^細的和粗的）、水泥輔助材料等。合意的建築材料亦包含 預成型建築材料。 在產物係以將產物併入一建築材料内之方式處置的情 况中，來自工廠之氣態廢料流的c〇2被有效地封存在建築 145 201105406 環境中。在建築材料中使用產物的實例包含產物被用作某 些類型之人造結構物例如建築物（商用及居住用的建築 物）、道路、橋樑、堤防、水壩、及其他人造結構物等的施 工材料。建築材料可被用作此等結構物之一結構或非結構 組件。在此等實施例中，沈澱廠可與一建築產物製造廠同 處一地。 在某些實施例中’沈澱產物在後續使用之前被以某些 方式精煉（亦即處理）。如圖6之步驟80所示的精煉作業 可包含多種不同手段。在某些實施例中，產物經受機械式 精煉例如研磨以便獲得一具有期望物理特性譬如粒徑等的 產物。在某些實施例中，沈澱物例如作為一水泥輔助材料 譬如砂、碎石以作為粒料等與一水硬水泥組合。在某些實 施例中，例如沈澱物係欲用作一水泥的情況中，一或多種 成分可添加至沈殿物，例如一或多種添加物、砂、粒料、 水泥輔助材料等，藉以製得最終產物例如混凝土或灰漿9 0。 在某些實施例中，利用碳酸鹽化合物沈澱物製造粒 料。此等粒料、其製造方法及其使用見於2010年2月4曰 公告之共同待審美國專利申請公開案第US 2010-0024686 A1號中，該專利之内容以引用的方式併入本文中。 在某些實施例中，碳酸鹽化合物沈澱物被用作水硬水 泥之一成分。、、水硬水泥"一辭係以其傳統意思使用，用來 稱呼在與水組合之後定型硬化的組合物。由本發明之水泥 與一水性流體組合製得之產物的定型及硬化作用係肇因於 水泥與水反應後形成之水合物的產生，其中此等水合物本 146 "U1l〇54〇6 不溶於水。此等碳酸鹽化合物成分水硬水泥、其製造 專利ί其使用見於2009年1月22日公告之共同待審ί國 容以凊公開案第US2〇〇9_0020044 Al號中，該專利之内 用的方式併入本文中。 極大t建築材料亦屬合意。本發明之成型建築材料可有 或其他方H型〃—辭意指經造型例如模製、模鑄、切割 結構。=製造成為有明確實體形狀（亦即組態）之人造 束）'电合物ϊί材:Ϊ無定形建築材料例如微粒（譬如粉 納的容器備明確穩定形狀，而是會依容 卜限t磚塊，板子；;形;範例成型建築材料包 成型建築材料之進一導:二盆:柱，乾式牆壁 9月30日申社呈 v貝例及細郎包含見於2009 專利 第12/571，398 號者，該 :屬合意。i二成分的非水泥機械製造物品 :尼1意指組合物不：：械製造物品可有極大變化。 ；:在與1型流體蓉如^水硬水泥。因此，組合物並非 乾燥級合物。丨:人*、、'且合時定型而產生一穩定產物的 ?品，潤滑劑，包:^限於:紙製品，聚合物 °〇、牙膏、n塗料’個人保健產品譬如化妝 含液體及固及洗髮精’人可食用的產品、包 非水泥機械製造物良產品及動物飼料 9年10月3 0日申請之美^轰一步只例及細節包含見於 為國專利申請案第12/609,491號 147 201105406 者’該專利以引用的方式併入本文中。 所得母液亦可依期望被處理。舉例來說，母液可被送 回水源譬如海洋或送到另一處。在某些實施例中，可使母 液與一 C〇2源接觸，例如如前所述，藉以封存更多C〇2。 舉例來說，在母液係欲送回海洋的情況中，可使母液以一 足以提高母液中之碳酸鹽離子濃度的方式與一 C02氣態源 接觸。接觸作業可用任何適宜手段進行，譬如前文所述者。 在某些實施例中’母液具有一鹼性pH值，且與C〇2源之接 觸作業係以一將PH值降至介於5與9之間、例如6與8.5 之間、包含7.5至8.2的方式進行。據此，反應所得母液（例 如礦物碳酸鹽耗盡的水）可利用任何適宜手段處置。在某 些實施例中，可將其送到一尾砂池處置。在某些實施例中， 其可在一天然水體例如遠洋、近海、湖泊、或河流中處置。 在某些實施例中’其可被用作工廢之一冷卻劑’例如使用 一在沈;殿系統與工廠之間延伸的線路。在某些實施例中， 其可被用作灰水、用作脫鹽作業之水輸入及後續作為淡水 使用，例如用來灌派、供人及動物消耗使用等。據此，合 意的係沈澱廠與一脫鹽廠共處一地的組態，致使從沈澱廠 輸出的水被用作脫鹽廠之輸入水。 如前所述，在某些實施例中，可用沈澱製程生產之母 液冷卻供應C〇2源之動力廠，例如用在一次通過冷卻系統 中。在此等實施例中，此製程中拾取的熱隨後可依期望被 再循環回沈殿廠以供進一步使用。在此等實施例中，初始 水源可來自工廠。此等貫施例可經修改以運用工廒所提供 148 201105406 之泵運能力，例如藉以提高整體效率。 ，在期望之情況及一 c〇2封存產物生成之後，例如如前 所述，產物中封存的C〇2量被量化。、、量化，，一辭係指例如 以數值之形式判定C〇2封存產物中已被封存（亦即固定） 之C〇2的置。此判定在期望情況中可為產物之一絕對定 量，或者可為一近似定量（亦即非精確值）。在一些實施例 中，此量化足以給出已封存C02量之一市場可接受量度。 C〇2封存產物中之c〇2量可利用任何適宜方法量化。 在某些實施例中，量化作討為藉由組合物之實際測量完 成。許多不同方法可被用在這些實施例中。舉例來說，測 1組合物之質量或體積。在某些實施例中，此測量係在沈 殿物處於母液巾之時進行。在此等案例巾，可制附加方 法譬如X光繞射法以量化產物。在其他實施例中，測量作 業係在沈澱物已被清洗且/或乾燥之後進行。然後利用測量 作業f化產物中封存的co2量’例如藉由數學計算測得。 舉例來說，可使用-電量計獲得已沈澱封存產物中之碳量 的讀數。可用此電量計讀數判定沈澱物中之碳酸鹽量，後 者隨後可藉由化學計量基於幾侧子譬如水之初始鐵離子 含量、化學反應之限制試劑、反應之原料之理論產量、已 沈澱產物之水合作用的水等換算成已封存C02量。在一些 實施例中，產物中可能存在污染物，a可能需要產物純度 之其他判定（例如7L素分析）來判定已封存的c〇2量。 在更其他實施例中，運用一同位素方法判定產物之碳 含量。化石燃料中之碳同位素的比率實質上不同於地理源 149 201105406 == ===率。，:樣本中之碳源 易地闡明。故即使5位素質里之質譜分析技術輕 經由電量計判定之總碳土中（這將提高 歸因於從化石燃料燃燒捕C门J: =之’(Γ定被封存在沈殿物或甚至—併入沈- 沈殿物之co2二;:=)中的碳量’特別是用以產生 Μ # Γ 石燃料例如煤之燃燒。此種同 =芭:=:==二- 在”他實知例中’置化作業可為藉由進 量之理論判斷、孽如蕤，呌瞀口匕士 丁仔 ⑼尨Γ。曰 异已封存C〇2量的方式完成。 „ 2罝可為利用前文所述方法之一已知產量來計 i子3該ί量係從先前實驗得知。已知產量可依據多種 、匕含下列之一或多者：氣體（例如c〇2)及水 之輸入，金屬離子（例如驗土金屬離子）之濃度，pH值， 鹽度，溫度，氣態流之速率，所選方法之實施例等，如前 文所列示可彳lj用基本資訊例如由—給定參考製程生產之 每份產物所封存的〇)2狀量輕易狀在—與參考製程相 同或大，相似的給定製程中封存之c〇2量，例如藉由判定 產生的里然後計算必須被封存於其中之⑽量而判定。 C〇2封存之系統 本發明之觀點進-步包含用於封存C02之系統例如處 150 201105406 理廠或製造廠，例如藉由實行如前所述之方法。本發明之 系統可具有促成合意特定製造方法之實行的任何組態。 在一些實施例中，本發明提出一種如圖1所示用於處 理二氧化碳的系統，其中該系統包括一經配置用於一水基 製程以利用一質子去除劑源（140)處理來自一二氧化碳源 (130)之二氧化碳的處理器（110)，且其中該二氧化碳源 除了二氧化碳還包括一或多種附加成分。如圖1所示，該 系統可進一步包括一可操作地連接至該處理器的二價陽離 子源（150)。該處理器可包括一接觸器譬如一氣液或一氣 液固接觸器，其中該接觸器經配置用於用二氧化碳充填一 水溶液或椠料以產生一二氧化碳充填組合物，此組合物可 為一溶液或漿料。在一些實施例中，該接觸器經配置用以 從二氧化碳譬如從二氧化碳之溶劑化或水合形式（例如碳 酸、碳酸氫鹽、竣酸鹽）產生組合物，其中此等組合物包 括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽。在一些實施 例中，該處理器可進一步包括一經配置用以從二氧化碳產 生竣酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的反應器。在 一些實施例中，該處理器可進一步包括一經配置用以沈降 包括沈澱物質的沈澱槽，該沈澱物質包括碳酸鹽、碳酸氫 鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽。如圖2所示，該系統可進一步 包括一處理系統（例如圖2之處理系統120)，其經配置用 以集中包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組 合物並產生一上澄液；但在一些實施例中，組合物未經進 一步處理即被使用。舉例來說，本發明之系統可經配置以 201105406 在建築材料的生產中直接使用得自處理器（視情況經少量 後期處理）之組合物。在另一非限制實例中，本發明之系 統可經配置以將得自處理器（視情況經少量後期處理）之 組合物直接注入一地下場所，如2009年8月7日申請之美 國臨時專利申請案第61/232,401號所揭示，該申請案以引 用的方式併入本文中。該二氧化碳源可為多種二氧化碳工 業源之任一者，其中包含但不限於燃煤動力廠及水泥廠。 該質子去除劑源可為多種質子去除劑源之任一者’其中包 含但不限於質子去除劑源之天然來源及質子去除劑源之工 業源（包含工業廢料源）。該二價陽離子源可為來自多種二 價陽離子源之任一者，其中包含但不限於海水、鹽水、及 經添加礦物質的淡水。在此等實施例中，該二價陽離子源 可為可操作地連接至該質子去除劑源或係直接連接至該處 理器。在一些實施例中，該二價陽離子源包括鹼土金屬之 二價陽離子（例如Ca2+、Mg2+)。 諸如圖1所示之本發明系統可進一步包括一處理系 統。因此在一些實施例中，本發明提出一種如圖2所示用 於處理二氧化碳的系統，其中該系統包括一處理器（110) 及一處理系統（120)，其經配置用於一水基製程以利用一 質子去除劑源（140)處理來自一二氧化碳源（130)之二 氧化碳，且其中該二氧化碳源除了二氧化碳還包括一或多 種附加成分。連同圖1，圖2之系統可進一步包括一可操作 地連接至該處理器的二價陽離子源（150)。該處理器可包 括一接觸器譬如一氣液或一氣液固接觸器，其中該接觸器 152 201105406 經配置用於用二氧化碳充填一水溶液或漿料以產生一二氧 化碳充填組合物，此組合物可為一溶液或漿料。在一些實 施例中，該接觸器經配置用以從二氧化碳譬如從二氧化碳 之溶劑化或水合形式（例如碳酸、碳酸氫鹽、碳酸鹽）產 生組合物，其中此等組合物包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳 酸鹽與碳酸氫鹽。在一些實施例中，該處理器可進一步包 括一經配置用以從二氧化碳產生包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、 或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的反應器。在一些實施例 中，該處理器可進一步包括一經配置用以沈降包括沈澱物 質的沈澱槽，該沈澱物質包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸 鹽與碳酸氫鹽。該處理系統可包括一經配置用以集中包括 碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之組合物的脫水 系統。該處理系統可進一步包括一過濾系統，其中該過濾 系統包括至少一經配置用於從該脫水系統濾出上澄液、從 該處理器濾出組合物、或以上之一組合的過濾單元。舉例 來說，在一些實施例中，該過濾系統包括從微米過濾單元、 超過濾單元、奈米過濾單元、及逆滲透單元選出的一或多 個過濾、單元。在一些實施例中，二氧化碳處理系統包括一 經配置用以提高阻留物中之二價陽離子濃度及降低阻留物 中之二價陽離子濃度的奈米過濾單元。在此等實施例中， 奈米過濾單元阻留物可被再循環至系統之一處理器以供製 造本發明之組合物。如圖4所示，本發明之系統可進一步 經配置用以再循環得自處理系統之上澄液之至少一部分。 諸如圖3所示之系統可進一步包括一包含一接觸器 153 201105406 (112)(例如氣液接觸器、氣液固接觸器等）及—反應器 (114)的處理器（11〇)，其中該處理器可操作地連接至— 含C〇2氣體源（130)、一質子去除劑源（丨4〇)、及一二價 陽離子源（150)之每一者。本發明之此等系統經配置用於 利用質子去除劑源及二價陽離子源二者對來自二氧化碳源 之二氧化碳進行水基處理，其中該二氧化碳源除了二氧^ 碳還包括一或多種附加成分。接觸器（112)可為可操作地 連接至二氧化碳源（130)及質子去除劑源（14〇)每一者， 且該接觸器可經配置用於用二氧化碳充填一水溶液以產生 一二氧化碳充填溶液或漿料。在一些實施例中，該接觸 經配置用於用二氧化碳充填一水溶液以產生一大致清澄 液（亦即大致沒有沈澱物質，譬如至少95%或更大部分 有沈澱物質）。如圖3所示，反應器（114)可為可操二 連接至接觸器（112)及二價陽離子源（15〇)，且該反應 可經配置用以產生本發明之一組合物，其人 =括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽^液或 些實施例中，該反應器經配置用以從該處理器. 碳酸氮鹽、或碳酸鹽與碳酸氮鹽之 ，液且產生-包括沈澱物質之組合物 石反酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸 貝1 圖3所不之系統可視情況為 （水幻- 其中該處理系統可包括作地連接至—處理“ 配置用以處理處理器產生的^離機（122)或一些其令 合物（例如關於碳酸鹽及物以產生上澄液及濃斜 及灭酸氫鹽、及由處理一工| 154 201105406 氣流得到之任何其他共同產物濃縮）的脫水系統。該處理 系統可進一步包括一過濾系統，其中該過濾系統包括至少 一經配置用於過濾來自該脫水系統之上澄液、過濾來自該 處理器之組合物、或以上之一組合的過濾單元。 在一些實施例中，本發明提出一種如圖4所示用於處 理二氧化碳的系統，其中該系統包括一處理器（110)及一 處理系統（120)，其經配置用於一水基製程以利用一質子 去除劑源（140)處理來自一二氧化碳源（130)之二氧化 碳，其中該二氧化竣源除了二氧化碳還包括一或多種附加 成分，且進一步其中該處理器及該處理系統可操作地連接 以再循環處理系統上澄液之至少一部分。此等二氧化碳處 理系統之處理系統可包括一脫水系統及一過濾系統。因 此，該脫水系統、該過濾系統、或該脫水系統與該過濾系 統之一組合可經配置用以將上澄液之至少一部分提供至該 處理器以處理二氧化碳。儘管圖4未示，該處理系統亦可 經配置用以提供上澄液之至少一部分至一經配置用以清洗 本發明之組合物的清洗系統，其中該等組合物包括沈澱物 質（例如CaC03、MgC03、或以上之組合）。本發明之二氧 化碳處理系統的處理器可經配置用以在一接觸器（例如氣 液接觸器、氣液固接觸器）、一反應器、接觸器與反應器之 一組合、或該處理器中任何其他單元或單元組合内接收處 理系統上澄液。在一些實施例中，該二氧化碳處理系統經 配置用以提供上澄液之至少一部分至該二氧化碳處理系統 外部之一系統或製程。舉例來說，本發明之一系統可為可 155 201105406 操作地連接至一脫鹽廠’致使該系統提供声 ^ 之至少-部分至該脫鹽廠進行脫鹽。^理系統上澄液 在一些實施例中’本發明提出—種如 一 理二氧化碳的系統，其中該系統包括一處理。。所不用於處 處理系統。2〇)，其經配置用於一水基^二 去除劑源（140)處理來自一二氧化碳源 用質子 碳，其中該二氧化碳源除了二氧化碳還 ）、之二氧化 成分，其中該系統進-步包括一電化學：或多種附加 一步其中該處理器、該處理系統、及該電化上16=’且進 地連接以再循環處理系統上澄液之至少—A二糸、、先=操作 照圖4之處理系統所述’該脫水系統夕、該：：：如前文參 脫水系統與過濾系統之一組合可經配置用以提二::: 上澄液之至少-部分提供至該處理^供處理統 錢理系統办可經配置用以提供處理系統上澄液之至^ ::至該電化學土、統，其中該電化學系統可經配置用二 生質子去除劑或貫現質子去除作用。如 處理系統亦彻置用以提供上澄液之至;=二 =置用以清洗本發明之組合物的清洗系統，巧該等^ ircac〇3'Mgco- 鰌二一氧广石反處理糸統的處理器可經配置用以在-接 = '氣_接觸器）、—反應器、接觸 二反應#組合、或該處理器中任何其他單元或單元 =内接收處理线上澄液。在—些實施例中，該二氧化 兔處理錢錢配置㈣提虹妓之至少一部分至該二 156 201105406 統外部之-系統(例如脫鹽廠)或製程(例 資源之右'液之再循帛的好處在&再褐帛提供可用 求，此’周遭環境之微幅擾動；及減小能量要 如小、量要求讓本發明之系統及方法有較低（例 理系㈣L1或負的）碳足跡。當本發明之—二氧化碳處 '、’可刼作地連接至一工廠（譬如燃燒化石烬料的動力 如燃煤動力廢）並使用該工廠生產的動力時，處理 、^、先上澄液之再循環所提供的減小能量要求對工廠提供一 ^J、白·!寄生負荷。諸如圖2所示並非配置用於再循環的二 0/，處理系統（亦即經配置用於—次通過製程的二氧化 石厌處理系統）可能對動力廠有至少嶋的寄生負荷可歸因 於將-，鹼性源（譬如海水、鹽水)連續泵運至系統内。 在此-貫例中…1GG MW的動力廠（譬如賴動力礙） 必須將10 MW的動力專用於二氧化碳處㈣統以將—新 鹼性源連續泵運至系統内。相較之下，諸如圖4或圖5所 示經配置用於再循環的系統可能對工廠有低於1〇%譬如低 於8%的寄生負荷，包含低於6%，例如低於4%或低於2 %，此寄生負荷可為歸因於泵運補給水及再循環上澄液。 當與經設計用於一次通過製程之系統作比較時，經配置用 於再循環的二氧化碳處理系統在寄生負荷方面呈現至少2 %譬如至少5%的減量’包含至少1〇%，例如至少25%咬 至少50%。舉例來說，若經配置用於再循環的二氧化碳1 理糸統消耗9 MW之動力來果運補給水及再循環上澄液， 157 201105406 且經設計用於欠通過製程的二氧化碳處理系統消耗ι〇 MW歸因於泉運，則經配置用於再循環的二氧化碳處理系 統呈現10%之寄生負荷減量。就諸如圖4和圖5所示之系 統（亦即經配置用於再循環之二氧化碳處理系统）來說'，' 歸因於泉運及再循環之寄生負荷的減量亦可提供總料負 荷的減量’特別是與經配置用於一次通過製程的二氧化碳 處理系統作比較。在一些實施例中，再循環提供二氧化^ 處理系統之總寄生負荷的減量，其中當與經配置用於一= 通過製程的二氧化碳處理系統之總寄生負荷作比較時，其 減量為至少2%譬如至少4%，包含至少6%，例如至少/8 %或至少10%。舉例來說，若經配置用於再循環的二氧化 碳處理系統有15%寄生負荷且經配置用於一次通過製程的 二氧化碳處理系統有20%寄生負荷，則經配置用於再循環 的二氧化碳處理系統呈現5%之總寄生負荷減量。舉例來 說，一經配置用於再循環的二氧化碳處理系統相較於經配 置用於一次通過製程的二氧化碳處理系統可能具有至少2 %譬如至少4%，包含至少6%，例如至少8%或至少1〇% 之總寄生負荷減量，其中再循環係包括通過一過渡單元馨 如奈米過濾單元（譬如使阻留物中之二價陽離子集中且 通透物中之二價陽離子減少）的過濾作業。 圖7提供依據本發明之-實施例之系統的示意圖。在 圖7中，系統1〇〇包含水源m。在某些實施例中 110包含-具有-用於水（例如含驗土金属離子的水ς 入件的結構’譬如來自海洋之管件或導管等。在接受該^ 158 201105406 統處理以產生沈殿物的水源係海水的情況中，該輸入件係 與一海水源流體連通，舉例來說譬如該輸入件係一從海水 到一陸基系統的管線或進給件，或是船身中之一入口埠， 例如該系統是船之一部分的情況，例如在一海基系統中。 C02源130亦見於圖7。此系統亦包含一管件、管道 或導管，其將C02引導至系統100。本發明之方法中使用 的氣態廢料流可以將氣態廢料流從工廠輸送至沈澱廠的任 何適宜方式從工廠提供至沈澱場所。在某些實施例中，廢 料流係用一氣體輸送器例如管道提供，該輸送器從工廠所 在例如光廠之一煙道延伸至沈澱場所之一或多處。氣態廢 料流之源頭可為相對於沈澱場所在一遠處，致使氣態廢料 流源係一離沈澱場所1英里或更遠、譬如10英里或更遠、 包含100英里或更遠之處。舉例來說，氣態廢料流可為已 經經由一 co2氣體輸送系統例如一管線從一遠端工廠送到 沈澱場所。工廠產生含C02的氣體在抵達沈澱場所（亦即 一碳酸鹽化合物沈澱廠）之後可經或不經處理，例如去除 其他成分等。在更其他案例中，氣態廢料流源就在沈澱場 所附近，此等案例可包含沈澱場所係與氣態廢料流源整合 的情況，譬如一整合有碳酸鹽化合物沈澱反應器之動力廠。 若需要，可將來自工廠之氣態廢料流之一部分而非全 部用在沈澱反應中。在此等實施例中，被用在沈澱作業中 之氣態廢料流的部分可為75%或更少，譬如60%或更少且 包含50%或更少。在更其他實施例中，工廠產生之大致全 部氣態廢料流、例如工廠產生之大致全部煙道氣被用在沈 159 201105406 澱作業中。在此等實施例中，可於沈澱期間使用源頭產生 之氣態廢料流（例如煙道氣）的80%或更多、譬如90%或 更多、包含95%或更多、至多100%。 如前所述，氣態廢料流可為得自一工廠之煙道或類似 結構。在這些實施例中，一線路譬如管道連接至煙道使得 氣體通過該線路離開煙道且被送到一沈澱系統之適當位置 (詳見下文）。視沈澱系統中使用氣態廢料流之部分的特定 組態而定，取得氣態廢料流之源頭的位置可有變化，例如 藉以提供具有適當或期望溫度之氣態廢料流。因此，在想 要具有〇°C至1800°c、譬如60°c至700°C之溫度之氣態廢 料流的某些實施例中，煙道氣可為在鍋爐或燃氣渦輪、窯 之出口點，或是在通過動力廠或煙国會提供期望溫度的任 何點取得。若需要，將煙道氣維持在一高於露點的溫度（譬 如125°C )以便避免冷凝及相關副作用。在無法做到此事的 情況中，可採取降低冷凝之負面影響的步驟，例如使用不 銹鋼或是有碳氟化物（譬如聚四氟乙烯）内襯的管道、用 水稀釋及控制pH值等，使管道不會快速劣化。 為顧及效率，產生氣態廢料流的工廠可為與沈澱系統 共處一地。'"共處一地〃意指工廠與沈澱系統之間的距離為 10碼至500碼，譬如25碼至400碼，包含30碼至350碼。 若需要，沈澱廠及工廠可相對於彼此經配置以最小化溫度 損失及避免冷凝，以及最小化管道成本，例如沈澱廠係離 工廠40碼以内。 在某些實施例中同樣合意的是一包含工業機能（譬如 160 201105406 動力生產、水泥生產等）及本發明之一沈澱系統的完全整 合工薇。在此專整合式工廠中’傳統工廠及沈殿系统（孽 如下文所述者）經修改以提供期望的整合式工廠。修改& 含但不限於煙囪之協調’泵運，控制，儀器，監測，廠房 能量之使用，例如用以運轉沈澱組件之部分譬如機械壓 機、录浦、壓縮機的蒸汽渦輪能量，從蒸汽或空氣進行空 氣熱交換獲得之水泥廠及/或動力薇之熱的使用等。 在某些實施例中’含c〇2之氣態流可在與水譬如含驗 土金屬的水（例如在一充填反應器中）接觸之前經過預處 理（例如經H2〇2處理）。範例預處理步驟可包含：溫度調 變（例如加熱或冷卻）’解壓縮，壓縮，附加成分（例如水 合促進劑氣體）之併入’各種成分之氧化作用以將其等轉 化成更易於封存成一穩定形式的形式，及類似者。在某些 實施例中，氣態廢料流之預處理增進含C〇2氣態流之成分 被吸收至水譬如含驗土金屬之水的吸收作用 範例預處理包含使含c〇2氣態流經受氧化條件 用之 圖7之水源110及C〇2氣態流源13〇連接至沈澱反應 器120中之-C02充填器。沈殿反應# 12〇可包含多種不 度調節器(例如經配置用以 PH值提相添純件’勤用於將化學 水中；電化學㈣^二金屬氧化物、或飛灰）導入 器12〇亦可含L二再循環通過沈殿廠。沈殿反應 3有允許監〉則—或多種參數的設計特徵，該參 161 201105406 數譬如是反應器内壓、pH值、沈殺物粒徑、金屬離子濃度、 水溶液之導電率及鹼度、及pC02。此反應器120可依一批 次製程或一連續製程運作。 在一些實施例中’接觸裝置（例如氣液或氣液固接觸 器）係獨立於一系統。在此一系統中，接觸過氣體的吸收 性溶液被送到一處理站。在一些實施例中，接觸過氣體的 吸收性溶液及吸收性溶液與氣體接觸之任何產物被送到其 他系統（亦即一處理站），包含但不限於沈澱槽、脫水系統、 及建築材料製造系統。在一些實施例中，接觸過氣體的接 觸混合物，包括/液體成分、接觸混合物與氣體接觸之任 何產物、及視情況一非沈澱物的固體成分被送到其他系 統，包含但不限於沈澱槽、脫水系統、及建築材料製造系 統。在一些實施例中，接觸過氣體的漿料，包括一液體成 分、—固體成分、及漿料與氣體接觸之任何產物被送到其 =系統，包含但不限於沈澱槽、脫水系統、及建築材料製 迈系統。在一痤實施例中，使吸收性溶液之固體成分（如 果有的話）及吸收性溶液與氣體接觸之產物從已與氣體接 ，之吸收性誠分離。在-些實施财，使接觸混合物之 f體成分（如果有的話）及接觸混合物與氣體接觸之產物 從已與氣體接觸之接觸混合物分離。在一些實施例中，使 ，料之固體成分（如果有的話）及㈣與氣體接觸之產物 攸，與氣體接觸之漿料分離。在一些實施例中，固體從已 =氣體接觸之吸收性溶液、接觸混合物、或漿料分離的作 :、係藉由一篩網、一壓機、—離心機、一喷霧乾燥機' — 162 201105406 空氣輔助方法、一受熱脫水方法或以上之任何組合完成。 在一些實施例中，使在固體從已與氣體接觸之吸收性溶 液、接觸混合物、或漿料分離之後留下的流出液接受一系 統處理，其包含但不限於奈米過濾、逆滲透、化學回收、 脫鹽、用於再循環之溶液化性調整、用於放流之pH值調 整、或以上之任何組合。在一些實施例中，將從已與氣體 接觸之吸收性溶液、接觸混合物、或漿料分離的固體送到 一建築材料製造系統。在一些實施例中，該裝置係一被裝 在貨櫃内的可攜式裝置，致使其能夠經由鐵路（火車）、水 路（驳船）、道路（卡車）、或以上之任何組合運輸到任何 期望地點。在一些實施例中，該可攜式裝置係獨立於一系 統。在一些實施例中，整個系統係一被裝在一或多個貨櫃 内的可攜式系統，其能夠經由鐵路（火車）、水路（駁船）、 道路（卡車）、或以上之任何組合運輸到任何期望地點。 有時候為影響一氣體之一成分併入一液體或漿料内的 量，氣體必須與液體或漿料接觸比一次通過本發明之裝置 可能發生之次數更多次。在一些實施例中，氣體被再循環 以影響一氣體之一成分併入一液體或漿料内的量。可使用 多個裝置進行使氣體之一成分併入液體或漿料内的作業， 致使氣體從一個裝置送到一或多個後續裝置。後續裝置可 使用不同的：液體或漿料；裝置之柱、腔室、或反應器内 部的結構特徵；液滴生產系統或裝置；或具有不同於第一 裝置的總體取向。在一些實施例中，本發明之系統包含本 發明之裝置之一陣列。在此等實施例中，該陣列可包含讓 163 201105406 氣體串行地通過-㈣置接下— 該陣列可包含讓氣體办 夕個裝置，或者 係並聯使用。在純過的多個裝置’致使該等裝置 在-些實施例中，;^例中，該陣列包含多鱗置之列。 置，然後流人後同❹個裝置之”列的第一裝 聯運作。 致使料裝置㈣係有效率地並 在一些實施例中 之吸收作業及實體足發明之系統期望最佳化實現裝置 系統包括至少二需要之馬力。在此等實施例中， 或接觸液體）與1體接去除— 如C02、SOx)。第—壯 裡成刀軋體（例 其最低被放舰Φ。^長Μ水平且致使 古一你游涵至4、 此取向的目的係使吸收器之此部分會 \ ，，從而使得將接觸混合物（亦即吸收性溶 液’運至裝置之接觸室之頂較容易 能量。裝置之水平部分中的接觸混合物可沿該 為不同，或者其可為相岐合物。裝置之水平部^ 觸混合物可為清澄溶液或—㈣，且其可或可不再循環。 流入㈣㈣與接觸混合物流可為共流歧流，或者氣體 及>谷液之流可為在襄置之水平長度内之不同階段各有不 同。水平取向裝置中之接觸混合物可在裝置内再循環以實 際上造成接觸混合物相對於流入的氣體流為逆向流。系統 中之第一裴置被鉛直地定向，致使其長度係垂直於地面。 鉛直取向裝置可為分階段的（比不分階段常見），且接觸混 合物流相對於流入的氣體流可為共流或逆流。吸收器之鉛 164 201105406 釓直取向裝置内之各階段或是再循環至水 將㈣、ΐ。接觸混合物亦可出現在下㈣段清澄溶液或 中，料包含—固體成分，其可為-礦物質、 的牵例中1白!!如飛灰、水泥1塵灰）、及/或在採用再循環 难料，於祕&理製程之固體沈殿物。若接觸混合物包含 黎·料，粉碎作業可兔想#认$ ^ 或液體成分可為海水、天㈣之清澄溶液 鹽流出物鹽水、合成臨水1 ΐ㈣、工業廢棄鹽水、脫 ^汰水、經添加額外二價陽離子 額外驗度的溶液、或以上之一組合。 圖26疋本發明之一叙j 個裝置，其中-裝置為水^^的示^1’其中系統包括二 二裝置係錯直取向。圖26 ( ^取低被放到地面，且第 態最小化馬力要求及系統之實=地圖27和2δ)所示組 裝置需要較小液體壓力頭@足跡要求。下部水平取向 高的錯直取向裝置其實體足純小馬力操作。較 置中之溶液可被再循環至水=絲小面積。錯直取向農 置内再循環、部分在㉟直取&向裳置、僅柿直取向聚 取向裝置内再循環、或是不再/ =内再循環且部分在水平 鄰氣體出口之前有一除霧區俨循％。鉛直取向裝置可在緊 固體微粒）作為其引入物。=其接受清澄液體（亦即無 或一漿料作為其引入物用於^直取向装置可接受清澄液體 喷頭所示。包含二個裝置的主要部分，如圖中三個 該系統被裝在一可經由鐵路、'次、先可為—可攜式系統，致使 7略及/或道路運送的貨櫃内。 165 201105406 圖27是本發明之一實施例的示意圖，其與圖26所示 ，似，其中該系統包括二個裝置，其中一裝置為水平取向不 最低被放到地面，且第二裝置係鉛直取向。在圖所示實 施例中，第一裝置（其係水平取向，最低被敌到地面^中 之氣體流被迫依循一迴旋路徑。氣體依循之路徑的本質創 造出第一（亦即下部）裝置中氣體與溶液間之^流及共流 接觸的區域。如同圖26所示，鉛直取向裝置中之溶液可被 再循環至水平取向裝置、僅在鉛直取向裝置内再循環、部 分在鉛直取向裝置内再循環且部分在水平取向裝置^再循 環、或是不再循環。鉛直取向裝置可在緊鄰氣體出口之前 有一除霧區段，其接受清澄液體（亦即無固體 其引入物，直取向裝置可接受清澄液體或— = 引入物用於裝置之主要部分，如圖中三個噴頭所示。包含 二個裳置❹、統可為-可攜式系統，致使該系統被裝在一 可經由鐵路、水路及/或道路運送的貨櫃内。 圖28疋本發明之一實施例的示意圖，其與圖％及27 所示相似，其中該系統包括二個裝置，其中一裝置為水平 取向、最低被放到地面，且第二裝置係鉛直取向。在圖28 所示實施例中，水平取向裝置中之溶液（例如吸收性溶液、 接觸混合物）在該裝置内再循環，致使溶液最初在該裝置 中離氣體入口最遠之點進入該裝置。然後溶液利用較靠近 氣體入口區域的泵浦再循環。此再循環實際上創造出裝置 中整體流體流與氣體流間之一逆向流，然裝置之構造可迴 轉氣體流，使得相對於從噴頭落下之溶液，氣體區域性地 166 201105406 共流及逆流交替流動。如圖26和27所示，錯直取向裝置 中之溶液可被再循環至水平取向裝置、僅在鉛直取向裝置 内再循環、部分在鉛直取向裝置内再循環且部分在水平取 向裝置内再循環、或是不再循環。鉛直取向裝置可在緊鄰 氣體出口之前有一除霧區段，其接受清澄液體（亦即無固 體微粒）作為其引入物。鉛直取向裝置可接受清澄液體或 一漿料作為其引入物用於裝置之主要部分，如圖中三個喷 頭所示。包含二個裝置的系統可為一可攜式系統，致使該 系統被裝在一可經由鐵路、水路及/或道路運送的貨櫃内。 圖29是本發明之一實施例的示意圖，其中串聯使用不 同類型的裝置。該等裝置是使用喷頭陣列或是喷頭與分流 棚列組合的裝置。該等裝置亦具有相對於氣體流共流及逆 流的流體（亦即吸收性溶液或接觸混合物）。每一裝置中之 流體（亦即吸收性溶液或接觸混合物）可為相同或不同， 且其可為在每一裝置内再循環或是從一裝置再循環至另一 裝置以造成期望的氣體併入作用（亦即吸收作用）及一些 案例中的沈澱作用。 圖30和31是示出本發明之系統的本發明之實施例的 示意圖，其中裝置被配置成列且氣體以並聯及串聯二者流 入裝置内。圖30示出一種組態，其中氣體流入超過一個裝 置，且在這些第一裝置中，氣體及流體（例如吸收性溶液、 接觸混合物）係共流地流動，然後氣體流入超過一個後續 裝置且在此係逆流地流動。圖31示出一種組態，其中氣體 流入超過一個裝置，其中在第一批多個裝置中，氣體流及 167 201105406 液體流為逆流，然後在後續多個裝置中，i 每一裝置中，溶液或接觸混合物可在:疋仙·。在 -梦晋異㈣η ^ 置内再循環或是從 裝置再循％<至另-裝置以獲得期望 c〇2、s〇x)去除效果或是沈㈣。” “（例如 沈殿反應器m進-步包含一母液輸出輸送琴。在— 些貫施例中’輸出輸送器可經配置用以將母液送到一尾石,,、 池進行處置或是制-天財體例如遠洋、近海、湖泊、 或河流。在其他實施例中，系統可經配置以 作工廠之-冷卻劑，例如使用—在沈㈣統與工廠之間= 伸的線路。在某些實施例中，沈殿廠可與—脫鹽廠共處一 地，致使從沈澱廠輸出的水被用作脫鹽廠之輸入水。系統 可包含-輸送II (亦即管道），其中輸出水（例如母幻可 被直接泵運至脫鹽廠内。 圖32示出一用於本發明之一實施例的管路及儀器略 圖。該圖顯示源自-動力廠的二個可驗道氣源。圖中顯 示煙道氣進入一接觸室（亦即標示為吸收器者）之底部。 接觸室在底部有-出口導管以及接到—再循環系統的連 接，包含泵浦及開關閥。在接觸室之中央為噴頭，且該室 之頂部、氣體出口之前有一除霧區段（亦即霧氣消除器）。 圖中顯示一用於除霧區段的噴水源，其獨立於用於腔室中 央區段之水源。用於腔室中央之溶液源亦具有接到至少一 氫氧化鈉源（例如一電化學製程、鹼齒）的連接。一漿料 磨機亦示於圖32。此磨機可為用於漿料之固體成分之粉碎 作業之處，其中固體成分可為沈殿物質、礦物或工業廢料 168 201105406 (例如飛灰、水泥窯塵灰）。在一些實施例中，圖32所示 接觸室（或吸收器）可為可攜的，致使其裝在—標準貨櫃 内且可經由火車、駁船及/或卡車送到期望之任何設施。 圖7所示系統進一步包含一用於從沈澱系統流出物分 離已沈澱碳酸鹽礦物質組合物的液固分離裝置140。液固分 離裝置可藉由排水（例如在排水後沈殿產物之重力沈積）、 傾析、過濾（例如重力過濾、真空過濾、使用受力空氣之 過濾）、離心、壓榨、或以上之任何組合實現沈澱產物從沈 澱系統流出物之分離。在一些實施例中，液固分離裝置包 含一折流板，沈澱站流出物對著該折流板流動而實現沈澱 產物與上澄液之分離作用。在此等實施例中，液固分離裝 置可進一步包括一用於集中沈澱產物的收集器。在一些實 施例中適用的液固分離機來源為Epuramat之 Extrem-Separator (’’ExSep”)液固分離機或其修改型。在一些 實施例中，液固分離裝置包括—螺旋通道，沈澱站流出物 流入該螺旋通道内以實現沈澱產物與上澄液之分離作用。 在此等實施例中，液固分離裝置可進一步包括用於集中沈 澱產物之螺旋通道出口陣列。在—些實施例中適用的液固 分離機來源為XeroxPARC之螺旋濃縮機或其修改塑。至少 一液固分離裝置可操作地連接至沈澱站致使沈澱站流出物 :從沈澱站流到液固分離裝置（例如包括一折流板或一螺 方疋通道的液固分離裝置）。如前所述，多種不同液固分離裝 置之任者可組合使用，成任何排列（例如並聯、串聯 或以上之組合），且沈澱站流出物可直接流到液固分離裝 169 201105406 置，或者流出物可經預處理。 系統亦包含一清洗站150’來自分離站14〇的批量已脫 水沈澱物在此被清洗，例如藉以從沈澱物去除鹽類及其他 溶質，然後在乾燥站乾燥。 系統進一步包含一用於乾燥碳酸鹽礦物質沈澱站生產 之已沈澱碳酸鹽礦物質組合物的乾燥站16〇。視系統之特定 乾燥手段而定，乾燥站可包含一過濾元件、冷凍乾燥結構、 噴霧乾燥結構等，如前文更完整說明。系統可包含一來自 工廠的輸送器（例如管道）’其連接至乾燥機使得一氣態廢 ，流（亦即工*煙道氣）可在乾燥階段中與濕沈殿物直接 已乾燥沈澱物可在精煉站180中經歷進一步處理例如 碼磨以便獲得期望物理特質。在沈殿物被用作建築材料 情況中’一或多種成分可添加至沈澱物。 、 系統進一步包含出口輸送器例如輸送帶、漿料泵浦 ^允許從反應H、麟站、清洗站當巾—❹者或是從 煉站移除沈澱物。沈澱反應之產物可以多種不同方 置。沈澱物可用空的輸送載具例如駁船、火車廂、卡1 = 運送到一長期儲存場所，其可包含地上及地下的儲存嗖 施。在其他實施例中，沈澱物可被安置在一水下場所 採用將組合物運送至處置場所的任何適宜手段。在此實 施例中，可採用-管線或類似的聚料輸送結構，其^等 方法可包含主動泵運、重力中間流等。 在某些實施例中，系統會進一步包含一用於從沈殿物 170 201105406 製備建築材料譬如水丨尼的 生產各種水泥、粒料、φ Α此站可經配置用以從沈殿物 Η 〇 V . 虱3水泥質材料，例如如2008年11 2009/0020044號所述，^ ^美國專利申請公開案第 w專利以引用的方式併入本文中。 統可為二在海岸地區陸地或海上。舉例來說’系 甚至-内陸場所，㈠j糸統，例如靠近—海水源，或 送到系統。另-選擇，=從—鹹水源譬如料經由管路 於水上或水中的系統:：一水基系統’亦即一存在 承a μ楚 此—糸統可依需要為在船上、海基 .° °某些實施例中，系統可為與在任何適宜場所 處-地。沈澱廠可為一與陸基工廠共處，陸 入i例如在—海岸地區，譬如靠近水源（例如海水）。 岐内陸場所，其中水係從 一水源（例如工礙、 =月泊、遠端海洋）直接經管路送到系統。另^選擇， 1广、又°可依需要為在水上，例如在駁船、小艇、海基平台 :上例如卫廠附近之土地係難以取得的情況。在某些實 施例中’歧廠可為_行_房，致使其易於與工廠共處 —地° 4與工廠譬如動力廠共處—地的本發明系統可經配置以 允許!31化工廠與沈澱廠之活動。在某些案例中，一廠之 f動可此無法與另一廠之活動配合。舉例來說，沈澱廠可 月b必須減少或停止接受氣態廢料流，但工廠可能必須保持 運作。相反地’可能發生工廠減少或停止運作且沈澱廠並 非如此的情:¾。為解決沈贿或讀可能必誠少或停止 171 201105406 其活動的情況，可採用如前所述讓共處—地⑽房之 持續運作同時其他廠房減少或停止運作。舉例來說，5 明之系統在某些實施例中可在沿工廠與沈澱廠間：連接‘ 的各點包含鼓風機、風扇、及/或壓縮機以便控 广 與沈澱廠的管道中之背愿的發生。在某些實施例中，可在 工廠與沈殿廠之間有一氣體儲存設施。若需要，沈殺薇可 包含排放物監測器以依環保局要求評估沈澱廠產生之任何 氣態排放物。 本發明之觀點包含在一使一儲存穩定含eh產物沈澱 的製程之一或多個階段使用一含c〇2工廠氣態廢料流 如工廠煙道氣）。因此，含C〇2工廠氣態廢料流被用在一沈 澱製程中。在本發明的實施例中，氣態廢料流被用在沈澱 製程之一或多個步驟，譬如用在一沈澱步驟中，例如此時 其被用於用C〇2充填至水；或是用在一沈殿物乾燥步驟期 間，例如此時已沈殿碳酸鹽化合物被乾燥。 若需要，來自工廠的煙道氣可被再循環通過沈澱廠直 到殘餘C〇2之總吸收率逼近100%，或是達到一減少回送 物之點，致使剩餘煙道氣可用替代手段處理及/或釋入大氣 中。 在一些實施例中，本發明之裝置及系統可為可操作地 連接至一生產動力及工業廢料流（亦即煙道氣）的動力廠。 在此等實施例中，本發明之裝置及系統可被視為一排放控 制系統’其從工業廢氣去除某些成分。在一些實施例中， 工業廢氣包括二氧化碳、SOx、NOx、重金屬、非C02酸性 172 201105406 规體、及飛灰。在-些實施例中，本發明之裝置及系統可 用作-排放控制线，其經配置心從卫業廢氣去除二氧 化碳。在-㈣施射，本發明U置及线可用作一排 放控制系統，其經配置用以從工業廢氣去除至少二氧化 碳’且額外從工業廢氣去除册。在—些實施例中，藉由 ，括本發明之裝置及/或系統的排放控制系統去除二“ ，且視需要去除S0x同時使用動力廠生產之動力的極少 量，譬如少於動力廠生產之動力的3〇%。在一些實施例中， 本發明之排放控制系統可藉由使用或接受來自一電化學系 統之鹼性溶液而達成使用少於動力廠生產之動力的3〇=;' 該電化學系統經配置用以產生一苛性鹼溶液，特別是本文 所述類型的低電壓電化學系統。在一些實施例中’本發明 之排放控制系統連接至一動力廠且經配置用以吸收廢氣之 一氧化碳的至少50%且使用少於動力廠生產之能量的3〇 %。在一些實施例中，本發明之排放控制系統連接至一動 力廠且經配置用以吸收廢氣之硫氧化物（SOx)的至少90 %且使用少於動力廠生產之能量的30%。在一些實施例 中’本發明之排放控制系統連接至一動力廠且經配置用以 吸收廢氣之二氧化碳的至少50%及硫氧化物（SOx)的至 少80%且使用少於動力廠生產之能量的30%。在一些實施 例中’本發明之裝置及系統可搭配位在燃燒化石燃料之廠 房的既有排放控制系統使用。在一些實施例中，既有排放 控制系統可包含或使用：一用以集中微粒物質的靜電沈澱 器，SOx控制技術，NOx控制技術，用以集中微粒物質的 173 201105406 物理過濾技術，汞控制技術，暨其他控制手段。 如削所述’本發明之沈澱系統可為與工廠共處一地。 此系統之一實例例示於圖7。在圖7中，來自動力廠2〇〇 的煙道氣出口 170被用在沈澱反應器12〇中作為c〇2源13〇 且用在乾燥機16G中作為熱源。若需要，運用背壓控制以 即便未能完全消除亦至少減少賴之發生，f壓係由工廠 ㈣廢料流之-部分非全部）引導至沈殿廠_而迭 ^。J制㈣背壓發生的任何適宜方式。在某些實施例 在^^與沈贿間之連接線的—些點提供鼓風機、 =、=/或壓縮機。在某些實施例中，鼓風機經安裝用以 將煙k軋拉入將煙道氣送往沈澱廠的管道 > 的鼓風機可為電動或機械驅動的鼓風機 施例中，如確實存在’背壓會被減小至 卜貫 如二英吋或更小的水準。在某些實施例中，、： :盘譬 澱廠之間存在一氣體儲存設施。紅廠與沈 7被用作一突波、關斷及和緩化系統，使忿體儲存設 道氣流送至沈澱廠。 吏件有一均句煙 本發明之觀點包含同步化工廠與 些案例中’ -廠之活動可能無法與另—舌動。在某 例來說，沈崎可能必須減少或停 動配合。舉 工廠可能必須保持運作。相反地 =4廢料流，但 止運作且沈_並非如 廠減少或停 =置讓共處-地的廠房之該等 房心或停止運作。舉例來說， ：作同時其他廠 廠必須減少或 174 201105406 消5耳其從工廠接受之氣態廢料流之量的情況，系統可經配 置使得將廢料流輸送至沈澱廠的鼓風機及管道依一受控序 列關機以最小化壓力波動，且工廠煙道當作用於排出氣態 廢料流的旁通煙_。相似地，若工廠減少或消弭其氣態廢 料流之產生’例如工廠被命令完全或局部停工，或是有在 些預先議定水準下的工廠輸出縮減，系統4經配置以允 卉沈澱廠持續運作，例如藉由提供C02之一替代源、藉由 在乾燥機中提供替代加熱手段等方式。 若需要，沈殿薇可包含排放監測器以評估沈殿廠產生 之任何氣態排放物並向主管機關提出必要報告，其為電子 f (通常每15分鐘丨次）、每天、每週、每月、每季、及 每年1次。在某些實施例中，沈澱廠的氣態物處理能力被 充刀關閉，來自沈澱龜本質上含有來自工薇之所有未使用 煙道氣的排氣被引導至一煙囪，故必要的連續排放監測系 統可依據國、省、州市或其他政權管轄區之法規及管理機 關要求安裝。 在某些實施例中，由工廠生產且被輸送至沈澱廠的氣 態廢2流已依環保局要求處理，故被送到沈澱廠的煙道氣 已，符合空氣品質要求。在這些實施例中，沈澱廠可能有 ，沒有在沈澱廠萬一停工時發揮作用的替代處理系統。但 疋，如果被輪送的煙道氣僅經過部分處理或完全未經處 理^丨沈澱廠可包含空汚控制器件以滿足管理機關要求， 或是尋求管理機關授權短時間排放經部分處理之煙道氣。 在更其他實施例中，煙道氣被送至沈澱廠進行所有處理。 175 201105406 ==中’系統可包含—針對沈㈣無法接受廢料 李统啟用且^措施’例如確保安裝在Μ内的污染控制 糸、·死啟用且依％保局要求控制排放物。 2共處一地的沈澱廠可存在於任何適宜地點，在 二上。舉例來說’沈澱廠可為—與陸基工廠共處 —地的陸基廠房，例如在一海岸地區，孽 同^意較⑽賴，其中水储—水源（例如工;;、 遠端湖泊、遠端海洋）直接經管路送到系統。另一選擇， 沈澱廠可依需要為在水上，例如在驳船、小艇、海基平台 等上，例如工廠附近之土地係難以取得的情況。在某些實 施例中，沈澱廠可為一行動廠房，致使其易於與工廠共處 —地° 如前所述，在某些實施例中合意的是由整合式氣化組 合循環（IGCC)廠的廢料流。在此等類型之礙中，初始燃 料例如煤、生物質等首先經受一氣化製程以產生合成氣， 其可經偏移，大量的C〇2、CO及H2。氣化製程之產物可 被送至沈澱廠以首先去除C〇2 ’所得C〇2經刷洗的產物被 送回動力廠當作燃料使用。在此等實施例中，可在一動力 廠與沈澱廠之間有一來自動力廠氣化單元的線路，且可在 沈殿廠與一動力廠之間有一第二回送線路以將經刷洗的人 成氣送回一動力廠。 在某些實施例中，共處一地的工廠與沈澱廠（或整合 式廠房）係連同附加的C〇2排放減少方法運作。舉例來說， 物質搬弄、載具及挖土設備、機關車可經配置使用生質燃 176 201105406 料取代化石燃料。在此等實施例中’現場可包含燃料槽以 儲存生質燃料。 除了封存C〇2’本發明之實施例亦封存工廠產生的氣 態廢料流之其他成分。舉例來說，本發明之實施例導致可 能存在於廢料流中之NOx、SOx、VOC、汞及微粒物質之 一或多者之至少一部分的封存，致使此等產物之一或多者 被固定在固體沈澱產物中。 在圖7中，沈澱系統100係與工廠200共處一地。但 沈殿糸統1〇〇未與工薇200整合。因此，在某些實施例中 進一步合意的是一整合式設施，其除了工廠還包含動力生 產、水處理（海水脫鹽或富含礦物質之淡水的處理）以及 沈澱組件，如2009年1月1日公告之美國專利申請公開案 第2009/0001020號所述’該專利以引用的方式併入本文 中。沈澱廠之水源可係源自水處理廠之廢料流。來自碳酸 鹽沈澱廠的所得母液可被用作水處理廠之進料。所得整合 式設施本質上使用燃料、礦物及未處理的水作為輸入，且 輸出能量、經處理工業產物例如水泥、乾淨的水、乾淨的 空氣及碳封存建築材料。 圖33提出一實例，其中一沈澱系統1〇〇與一工廠、在 此例中為燃煤動力廠300整合。在動力廠3〇〇中，煤310 向蒸汽鍋爐315提供燃料以生產蒸汽，繼而蒸汽運轉一渦 輪（圖中未示）以生產動力。蒸汽銷爐315亦產生底灰或 鍋爐渣325及煙道氣320。煙道氣320含有飛灰、C〇2、及 硫酸鹽。煙道氣320及底灰325在反應器340中與來自水 177 201105406 ，33〇的水組合且經受沈殿反應，如前所述。㈣ ^殿產物從反應ϋ 到喷霧乾燥機36G的運輸1 :乾_利用煙道氣32G將沈殺產物喷霧乾燥以供後j 離開掩埋場❹於建築產品。經處理煙道氣^ '霧乾紐機360且隨後在煙！υ 38〇中排入大氣。 _道=370係'一相較於煙道氣32〇其内之飛灰、硫、= C〇2内谷物即便未被完全去除亦已實質減少的氣體 圖33所示系統之—實例’ c〇2源可為來自煤或其他燃嫉 燒作用的煙道氣’在煙道氣經小巾自預處理或未經預處理二 情況下與鹽水接觸。在這些實施例中，諸如高硫煤栖 煤、褐煤及類似物（通常便宜且低品質）等辦的、 為去除伽和其他污染物以及去除c〇2之製程的 用。這些燃料亦可提供較高水準的狀應㈣如 = 帶之飛灰中的氧化減氧切，產生具備有利 = 碳酸鹽礦物質沈澱物。 又性 當與動力薇共處-地時，本發明提供用一有 · 求從動力廠產生之氣態廢料流封存大量CO:的作用1=4里而 些案例中，該等方法用，或更少、譬如在一 含25%或更少之能量需求從氣態廢料流去除5 ^包 10%或更多、25%或更多、50%或更多、75%或更多夕、 的作用。能量需求為由動力廠生產必須用來操作 =2 封存製程的能量。在一些案例中，上述水準之C〇 碳 用20臟少、臟更少、10%或更少的能量需:去=係 另一種可與本發明之沈澱廠共處一地的工礙為水'尸 178 201105406 廠，譬如波特蘭水泥製造廠。圖34提供一範例波特蘭水泥 製造設施的示意圖。在圖34中，石灰石4〇〇連同頁岩及其 他添加物410被碾磨成適當大小且被移動通過前鍛燒爐 5〇〇 ’後者利用來自煙道氣430的廢熱預加熱混合物，二= 來自窯510的廢熱增進運作效率。經預加熱混合物進入窯 510且在此被燃燒的煤420進一步加熱。所得爐渣48〇被集 中並儲存在儲倉570内，在此與添加物571譬如石膏、石 灰石等混合且在球磨機580中被研磨成期望大小。離開球 磨機的產物為波特蘭水泥490，其在送交消費者之前被儲放 在水泥儲倉590内。 來自窯510的煙道氣430含有氣態及微粒污染物。微 粒污染物已知為窯塵灰440 ’且經由靜電沈澱器或集塵室 520從煙道氣去除。依此方式去除的窯塵灰通常被送到掩埋 場600,但偶而窯塵灰會被回收至窯内，或當作輔助水泥質 材料販售。然後煙道氣會被風扇540拉入濕洗機550内， 在此藉由與一經鍛燒石灰漿料反應而去除煙道氣中之硫氧 化物’產生一亞硫酸鈣（例如石膏）漿料480，其一般在回 收槽572中被脫水並在掩埋場600中處置。煙道氣430離 開濕洗機430且經由煙囪560釋入大氣。如此釋放的煙道 氣具有高濃度C02 ’其係由煤之燃燒作用及經由將石灰石 氧化成波特蘭水泥所需之鍛燒作用二者釋出。 圖35示出依據本發明一實施例之範例共處一地水泥廠 與沈殿廠的示意圖。此實例中之製程與圖34相同，差別在 於碳酸鹽沈殿廠取代圖34之氣體處理系統。一旦氣體離開 179 201105406 前鍛燒爐500，其被風扇540拉入反應器630，其中利用海 水620及鹼625引發沈澱反應。所得漿料631經由泵浦640 泵運至乾燥站650’在此將水051排掉並儲存已脫水水泥質 材料660以待送交消費者。煙道氣43〇從煙囪670排出， 此時其污染物即便未被完全去除亦已去除一部分，包含 表、SOx、微粒物質、及c〇2。 圖35示出一不需要石灰石礦場之範例水泥廠的示意 81 °在此實施例中，反應器630之產物可能在其運作期間 <部分時間當中呈現相對純碳酸鈣之形式，且在其他部分 時間當中係呈建築材料之形式。在此實例中，不用礦產石 灰石’前鍛燒爐500及窯510係用頁岩及其他成分410摻 雜相對純已沈澱碳酸妈670的混合物充填。前文提及且以 弓1用之方式併入本案的2008年丨1月25曰公告之美國專利 申請公開案第2009/0020044號詳述如何利用煙道氣從海水 洗殿出霰石碳酸鈣的手段。藉由使用煙道氣處理反應器之 產物g作原料，水泥廠經由已沈殿產物從大海汲取其|弓離 子’且僅在產生充足的已沈澱碳酸鈣來裝入窯内之前的初 期短時間運作需要礦產石灰石。 在本發明之一些實施例中，在一裝置或系統内使一吸 收〖生溶液與一二氧化碳氣態源接觸以併入二氧化碳且可能 ^入來自該二氧化碳氣態源之一或多種其他成分，致使不 ，要一獨立排放控制系統或裝置。在一些實施例中，使一 =收性溶液與一二氧化碳氣態源接觸以併入二氧化碳且可 月匕併入來自該二氧化碳氣態源之一或多種其他成分，且處 180 201105406 置所得已接觸吸收性混合物而不將該溶液暴露於沈殿條 件。 ’、 在本發明之一些實施例中，碳酸鹽沈澱作業係於二個 階段中進行。第一階段選擇性地沈澱碳酸鈣，其隨後可用 作如圖36所示水泥廠之原料。第二沈澱階段可生產多種不 同材料’包含水泥、粒料、地上碳封存材料、及類似物。 波特蘭水泥有60%至70%質量為CaO,其係藉由加熱 CaC〇3而生產，需要熱’且每釋出一個ca〇分子即釋出一 個C〇2分子。因為從燃料燃燒釋出之額外c〇2，來自沈搬 廠之已沈澱CaCCb的輸出量會超過水泥廠原料所需之量。 在此情況中，沈澱廠之運作時間之一部分可用於生產其他 水泥質材料660，譬如像2008年11月25日公告之美國專 利申請公開案第2009/0020044號所述者，該專利以引用的 方式併入本文中。 如圖36所示生產的波特蘭水泥是碳中性的，因為來自 其製程的c〇2被封存至已沈澱碳酸鹽礦物質67〇及水泥質 材料660。波特蘭水泥49〇可被直接販售或是與水泥質材料 660摻雜或共同研磨以製得混合水泥。 圖37示出一合意連續進給系統之實例。在圖37中， 系統1100包含水源（例如來自海洋用以提供海水的管件） 1101，其與反應器111〇流體連通。反應器丨11〇中亦存在 Ca/Mg/OH離子源及催化劑im ’其已用足以將反應器111〇 内的水之Mg/Ca離子比提高到3或更大的量添加。反應器 1110可被配置為一填充床柱，且若需要從碳酸氫鹽充填配 181 201105406 置。含C〇2氣體例如煙道氣1112在反應器m〇中藉由鼓 泡器1113而與水結合。Mg離子源及c〇2在反應器1110中 與水結合以產生C〇2充填酸性水，其在介於4 8與7 5之間 的pH值流出反應器111〇。接下來，c〇2充填酸性水流過導 管1120’在此利用定位在沿著導管112〇之多處的各種c〇2 氣體注入器112卜OH-調變器1123(譬如pH值提升劑之導 入、電極等）及靜態混合機1122帶有混合作用循環通過不 同鹼度水準例如8.5和9.8。通過導管1120的流率可依期望 被控制’例如介於1 GPM與1，〇〇〇,〇〇〇 GPM之間，譬如30

GPM與 1〇〇,〇〇〇 GPM之間且包含 4,〇〇〇 GPM與 60,000 GPM 之間。導管1120之長度可有變化，從100英尺到2〇,〇〇〇 英尺，譬如1000英尺到7000英尺。在導管1120之末端獲 得漿料產物1130，此漿料產物包含已沈澱c〇2封存產物及 母液。所得漿料隨後被送到一液固分離裝置或沈降槽，如 1140處所示。 在某些實施例中’可使用二或更多個反應器執行本文 所述方法。一使用二個反應器之實施例的示意圖示於圖 38、39及40。在此實施例中，方法可包含一第一反應器121〇 及一第二反應器1220。在這些案例中，第一反應器121〇 係用來使初始水例如新鮮海水1230與一鎂離子源1240接 觸及用含C〇2氣體例如煙道氣1250充填至初始水（此步驟 亦被稱為碳酸氫鹽充填）。煙道氣1250可經由一鼓泡器 1280而在第一反應器1210中與水接觸。利用攪拌器126〇 攪動水以促進鎂離子源溶解且促進初始水與含C〇2氣體接 182 201105406 觸。在一些案例中，在c〇2充填酸性水被轉移至第二反應 器1220之前，停止攪動c〇2充填酸性水，致使未溶解固體 可因重力而沈降。然後c〇2充填酸性水從第一反應器1210 經由導管1270轉移至第二反應器1220。 在C〇2充填酸性水轉移至第二反應器1220之後，可進 4亍碳酸鹽沈殿步驟。在一些案例中，一 pH值提升劑1290 在第一反應器1220中與水接觸以促進含碳酸鹽沈殿物生 成。可用攪拌器1295攪動第二反應器1220之内容物。在 某些實施例中，可在第二反應器中進行一或多個額外的c〇2 充填及後續碳酸鹽沈殿步驟’如前所述。在這些案例中， 額外的含C〇2氣體例如煙道氣1255經由鼓泡器1285而在 第一反應器1220中與水接觸。所得聚料產物包含已沈殿 C〇2封存產物及母液’其如前所述隨後被送到一水/固體分 離機或沈降槽。 組合物 本發明之組合物可為包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸 鹽與碳酸氫鹽（視情況有二價陽離子譬如Ca2+、Mg2+、或 以上之細合）的溶液、固體、或多相物質（例如漿料）。由 本發明之方法產生的此等組合物中之碳量（例如儲存穩定 二氧化碳封存產物譬如沈澱物質）可有變化。在一些實施 例中’纟且合物包括從1%至15%重量、譬如5%至15%重 量、包含5%至14%重量、5%至13%重量、6%至14%重 量、6%至12%重量、及7%至12%重量的碳量（利用下文 183 201105406 詳述之手段判定，譬如同位素分析，例如I3c同位素分析）， 其中大部分的碳可為源自（由下文詳述之手段判定）co2 源的碳。在此等實施例中，存在於組合物（例如儲存穩定 二氧化碳封存產物譬如沈澱物質）中的碳有10%至100%、 譬如50%至100%、包含90%至100%是來自（：02源（例 如包括二氧化碳之工業廢氣流）。在一些案例中，存厭於組 合物中可追溯至二氧化碳源的碳量為50%或更多、60%或 更多、70%或更多、90%或更多、95%或更多、99%或更 多、包含100%。 本發明之組合物（例如包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳 酸鹽與碳酸氫鹽的沈澱物質）以每1000噸組合物來說可儲 存50噸或更多的C02,譬如100噸或更多的C02,包含150 噸或更多的C02，例如200噸或更多的C02，譬如250噸 或更多的C02，包含300噸或更多的C02，譬如350噸或 更多的C02，包含400噸或更多的C02，例如450噸或更 多的C02，譬如500噸或更多的C02，包含550噸或更多 的C02，譬如600噸或更多的C02，包含650噸或更多的 C〇2，例如700 β頓或更多的C〇2。因此在一些實施例中，本 發明之組合物（例如包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與 碳酸氫鹽的沈澱物質）包括5%或更多的C02,譬如10% 或更多的C02，包含25%或更多的C02，例如50%或更多 的C02,譬如75%或更多的C02,包含90%或更多的C02。 此等組合物、特定言之本發明之沈澱物質可用在建築環境 中。在一些實施例中，組合物可被用作機械製造物品之一 184 201105406 建築材料（例如水泥、粒料、混凝土、或以上 分L。組合物仍是儲存穩定呢封存產物’因 械製造物品（譬如建築材料）中的使用並不 人物H u Γ C〇2再釋出。在—些實施例中，本發明之組 合物（例如包括_鹽、碳酸氫鹽 的沈殿物質）當與波特蘭水泥結合時可能溶解並結合波特 蘭水泥之化合物而不釋出C〇2。 用以將C〇2轉化成碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳 酸氫鹽的條件可能造成其一或多種附加成分及/或共同產物 (亦即從該或多種附加成分產生的產物），其中此等附加成 分包含硫氧化物（SOx);氮氧化物（NOx); —氧化碳（CO); 金屬譬如錄（Sb)、砷（As)、鋇（Ba)、鈹（Be)、删（B)、 鑛（Cd )、絡（Cr)、結（Co )、銅（Cu )、錯（Pb)、锰（Μη )、 汞（Hg)、鉬（Mo)、鎳（见）、鐳（Ra)、硒（Se)、銀（Ag)、 锶（Sr)、鉈（T1)、釩（V)、及辞（Zn);微粒物質；鹵化 物；有機質；毒性物質；放射性同位素；及類似物。在一 些實施例中，此等一或多種附加成分及/或共同產物可為一 包括碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之溶液的一 部分。在一些實施例中’藉由連同碳酸鹽、碳酸氫鹽、或 碳酸鹽與碳酸氫鹽沈殿該一或多種附加成分及/或共同產 物’藉由使一或多種附加成分及/或共同產物困在包括碳酸 鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽之沈澱物質中，或藉 由上述方式之某種組合’此等一或多種附加成分及/或共同 產物可為本發明之沈澱物質的一部分。在一些實施例中， 185 201105406 此等一或多種附加成分及/或共同產物可為包括如述’谷液與 沈澱物質之任何組合的漿料之一部分。 本發明之組合物除了碳酸鹽及/或碳酸氫鹽還可能包 括硫酸鹽、亞硫酸鹽或類似物。在一些貫施例中，組合物 包括70%至99.9%碳酸鹽及/或碳酸鼠鹽以及至30 %硫酸鹽及/或亞硫酸鹽。舉例來說，組合物可包括至少50 %、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、 95%、或99.9%碳酸鹽及/或碳酸氫鹽。此等組合物可進一 步包括至少 0.05%、0.1%、0.5%、1·〇%、5_0%、10%、 15%、20%、25%、或30%硫酸鹽及/或碳酸氫鹽。在一些 實施例中，本發明之組合物包括弼、鎂、或其組合之硫基 化合物，視情況被沈澱或困在從包括SOx (例如S02、S03 等）之廢氣流產生的沈澱物質中。舉例來說’鎂和鈣可能 分別反應生成MgS04和CaS04以及含鎂和含鈣化合物（例 如亞硫酸鹽），不用一脫硫步驟譬如煙道氣脫硫作業 (、、FGE)〃）就有效地從廢氣流（例如煙道氟流）去除硫。 此外，可生成包括CaS04、MgS04及相關化合物的組合物 而不額外釋出co2。在有高濃度硫基化合物（例如硫酸鹽） 的情況中，可使水溶液富含鈣及/或鎂使得在CaS04、MgS04 及/或相關化合物生成之前、期間或之後有鈣及/或鎂可用於 生成碳酸鹽化合物。在一些實施例中，在不同階段收集多 種反應產物（例如MgC03、CaC03、CaS04、以上之混合物、 及類似物），而在其他實施例中係收集單一種反應產物（例 如包括碳酸鹽、硫酸鹽等之沈澱物質）。 186 201105406 本發明之組合物可包括硝酸鹽、亞硝酸鹽、及/或類似 物。在一些實施例中，本發明之組合物包括釣、鎂、或其 組合之氮基化合物，視情況被沈澱或困在從包括NOx (例 如N02、N03等）之廢氣流產生的沈澱物質中。舉例來說， 鎂和鈣可能分別反應生成Mg(N03)2和Ca(N03)2以及其他 含鎂和含鈣化合物（例如硝酸鹽），不用一選擇性催化還原 rSCR〃）步驟或非選擇性催化還原（、'NSCR〃）步驟就有 效地從廢氣流（例如煙道氣流）去除氮。此外，可生成包 括Ca(N03)2、Mg(N03)2及相關化合物的組合物而不額外釋 出C02。本發明之組合物可進一步包括其他成分，譬如痕 量金屬（例如汞）。以汞作為痕量金屬之一非限制實例，本 發.明之組合物可包括元素汞（HgG)、包括Hg2+之汞鹽（例 如 HgCl2、HgC03 等）、包括 Hg+之汞鹽（例如 Hg2Cl2、Hg2C03 專）、包括Hg2+之采化合物（例如HgO、有機采化合物等）、 包括Hg+之化合物（例如Hg20、有機汞化合物等）、微粒汞 (Hg(p))、及類似物。在一些實施例中，本發明之組合物 包括此等采基化合物，視情況被沈澱或困在從包括痕量金 屬譬如汞之廢氣流產生的沈殿物質中。在一些實施例中， 組合物包括濃度至少為〇 1 ppb、〇·5 ppb、1 ppb、5 ppb、 10 ppb、50 ppb、100 ppb、i，〇〇〇 ppb、5,000 ppb、10,000 ppb 的汞（或另一金屬）。汞可發生反應以生成HgC03或Hg2C03 以及其他含汞化合物（例如氯化物、氧化物），不用特定或 非特定汞去除技術就有效地從廢氣流（例如煙道氣流）去 除水。此外’可生成包括汞及/或其他痕量金屬的組合物而 187 201105406 不額外釋出co2。 本發明之沈澱物質可包括由共同沈澱作用得到之多種 碳酸鹽及/或多種碳酸鹽礦物相’其中沈澱物質舉例來說可 包括碳酸約（例如方解石）連同碳酸鎮（例如水碳鎮石）。 沈澱物質亦可成單一礦物相的單—碳酸鹽，包含但不限於 碳酸鈣（例如方解石）、碳酸鎂（例如水碳鎂石）、碳酸鈣 鎂（例如白雲石）、或鐵•碳_銘矽酸鹽。由於不同碳酸鹽可 能依序沈澱，視獲得的條件而定，沈澱物質可能相對富含 (例如90%至95%)或實質富含（例如95%至99.9%) — 種碳酸鹽及/或一種礦物相’或者沈澱物質包括某量之其他 多種碳酸鹽及/或其他（一或多種）礦物相’其中期望的礦 物相為沈澱物質之50%至9〇%。應理解到在一些實施例 中，沈澱物質除了碳酸鹽還可包括一或多種氫氧化物（例 如Ca(OH)2、Mg(OH)2)。亦應理解到存在於沈澱物質中之 任何碳酸鹽或氫氧化物可為完全或部分非晶的。在一些實 施例中，碳酸鹽及/或氮氧化物疋元全非晶的。亦應理解到 存在於沈澱物質中之任何碳酸鹽或氫氧化物可為完全或部 分結晶的。在一些實施例中’碳酸鹽及/或氫氧化物是完全 結晶的。 儘管因為原料之多樣性而可能有許多不同的含碳酸鹽 鹽類及化合物，然以包括碳酸鎮、碳酸鈣、或二者之組合 的沈搬物質為特別有用。沈澱物質可包括二或更多種不同 碳酸鹽化合物、三或更多種不同碳酸鹽化合物、四或更多 種不同碳酸鹽化合物、五或更多種不同碳酸鹽化合物等’ 201105406 包含不明確、非晶碳酸鹽化合物。本發明之沈澱物質可包 括具有分子式Xw(C〇3)”的化合物，其中X是可與一碳酸鹽 基團或其倍數化學鍵結之任何元素或元素組合，且w和乃 是化學計量正整數。在一些實施例中，x可為一鹼土金屬 (在元素週期表之IIA行中的元素）或一鹼金屬（在元素 週期表之IA行中的元素）或以上之一些組合。在一些實施 例中’沈澱物質包括白雲石（CaMg(C〇3)2)、原白雲石、碳 飼鎮礦（CaMg3(C〇3)4 )、及/或水碳鎂鈣石 (Ca2Mgll(C03)13· H20) ’其等為包括鈣及鎂二者之碳酸 鹽礦物質。在一些實施例中，沈澱物質包括成一或多相之 選自方解石、霰石、六方方解石、或以上之—組合的碳酸 鈣。在一些實施例中，沈澱物質包括碳酸鈣之水合形式（例 如Ca(C〇3) · )，其在分子式中有一或多個結構水，其 係選自六水碳詞石（CaC〇3 ·犯2〇)、非晶碳酸約（CaC〇3 · nH2〇)、一水方解石（CaC〇3.H2〇)、或以上之組合。在一 些實施例中，沈澱物質包括碳酸鎂，其中碳酸鎂不具有任 何化合水。在一些實施例中，沈澱物質包括碳酸鎂，其中 碳酸鎂可具有選自1、2、3、4、或超過4個化合水之許多 不同化合水之任一者（例如Mg(C〇3)· nHzO)。在一些實施 例中’沈殿物質包括1、2、3、4、或超過4種不同的碳酸 鎂相’其中該等碳酸鎂相的化合水數量不同。舉例來說， 沈殿物質可包括菱鎂石（MgC03)、水碳鎂石（MgC〇3. 2H20 )、三水碳鎂石（MgC〇3 · 3H2〇 )、五水菱鎂石（Mgcc^ · 5H2〇)、及非晶碳酸鎮。在一些實施例中，沈澱物質包括含 189 201105406 有氫氧化物及化合水的碳酸鎮，譬如水纖菱錢石（MgC〇3 · Mg(OH)2 · 3H20)、水菱鎂石（Mg5(C03)4(0H)2 · 3H20)、 或以上之組合。因此，沈澱物質可包括在本文所列各水合 狀態之全部或一些當中的鈣、鎂、或其組合之碳酸鹽。沈 澱速率可能亦影響沈澱物質之本質，其中最快速的沈澱速 率係藉由用一期望相對溶液播種而達成。若未播種，快速 沈澱作用可藉由例如快速地提高沈澱反應混合物之pH值 而達成，這會得到更多非晶成分。此外，pH值越高，沈殿 作用越快，此沈澱作用得到一更非晶的沈澱物質。 在一些案例中，沈澱物質中之碳酸鈣化合物的重量可 能超過沈澱物質中之碳酸鎂化合物的重量。舉例來說，沈 澱物質中之碳酸鈣化合物的重量可能比沈澱物質中之碳酸 鎂化合物的重量多出5%或更多，譬如10%或更多、15% 或更多、20%或更多、25%或更多、30%或更多。在一些 案例中，沈澱物質中之碳酸鈣化合物對碳酸鎂化合物的重 量比為1.5至5比1，譬如2至4比1，包含2至3比1。 在一些案例中，沈澱物質中之碳酸鎂化合物的重量可能超 過沈澱物質中之碳酸鈣化合物的重量。舉例來說，沈澱物 質中之碳酸鎂化合物的重量可能比沈澱物質中之碳酸鈣化 合物的重量多出5%或更多，譬如10%或更多、15%或更 多、20%或更多、25%或更多、30%或更多。在一些案例 中，沈澱物質中之碳酸鎂化合物對碳酸鈣化合物的重量比 為1.5至5比1，譬如2至4比1，包含2至3比1。 由本發明之方法生產的沈澱物質可包括碳酸鹽化合 190 201105406 物，其在與淡水結合後溶解初始沈澱物質以生產一包括在 淡水中比起初始沈澱物質之碳酸鹽化合物更穩定之碳酸鹽 化合物的淡水沈澱物質。（儘管初始沈澱物質之碳酸鹽化合 物可能在與淡水結合之後溶解，一新的組合物由此生產。 因此，在任何此種反應當中，co2氣體不會被大量釋放， 或者在一些案例中完全不會被釋放。）初始沈澱物質之碳 酸鹽化合物可為在鹽水中比在淡水中更穩定的化合物，致 使碳酸鹽化合物可被視為在鹽水中亞穩定的。依電量滴定 法判定之沈澱物質中的碳酸鹽量可為40%或更多，譬如70 %或更多，包含80%或更多。 在沈澱作業期間調整主要比率可能影響沈澱物質之本 質。主要離子比率對於多晶形物生成有可觀影響。舉例來 說，隨著水中之鎂鈣比提高，霰石變成沈澱物質中超越低 鎂方解石之碳酸鈣主要多晶形物。在低鎂鈣比，低鎂方解 石變成主要多晶形物。在一些實施例中，其中Ca2+及Mg2+ 均存在於水中，水中Ca2+對Mg2+的比（亦即Ca2+:Mg2+) 係介於500··1與1:500之間，譬如介於100:1與1:100之間， 譬如介於50:1與1:50之間，譬如介於20:1與1:20之間， 譬如介於10:1與1:10之間。在一些實施例中，其中Ca2+ 及Mg2+均存在於水中，水中Ca2+對Mg2+的比（亦即 Ca2+:Mg2+)係介於5:1與1:1之間。在一些實施例中，其中 Ca2+及Mg2+均存在於水中，水中Ca2+對Mg2+的比（亦即 Ca2+:Mg2+)係4:1。在一些實施例中，其中Ca2+及Mg2+均 存在於水中，水中Ca2+對Mg2+的比（亦即Ca2+:Mg2+)係 191 2+ 2+201105406 丄:：1:之間。在-些實施例中’其中Ca2+及Mg2 其為Ca2了 1U」水中啦+對Μ的比（亦即Mg2+:Ca2+， ίϊ盘2.丨之§門的^到數）係介於价1與Μ之間，譬如介於 對 Ca2+的比（亦即 Mg2+:Cag2+U g的倒數）係4:1。在一些實施例中，其中c^+及 於水中’沈;殿物質，Ca2+對叫2+的比（亦即 a . 8 )係介於丨〇:1與1:1之間、1:1與1:2.5之間、1:2.5 與1:5之間、1:5與1:1〇之間、1:10與L25之間、1:25與 1,50 之間、1:50 與 1100 之間、1:100 與 1:150 之間、1:15〇 與 1:200 之間、1:2〇〇 與 1:250 之間、1:250 與 1:500 之間、 1500與1:1〇〇〇之間、或以上之一範圍。舉例來說，在一 些實施例中’沈澱物質中Ca2+對Mg2+的比係介於1:1與1:1〇 之間、1:5與1:25之間、1:10與1:50之間、1:25與1:1〇〇 之間、1:50與1:5〇〇之間、或1:1〇〇與1:1〇〇〇之間。在一 些實施例中，沈澱物中Mg+對 Ca2+的比（亦即Mg2+:Ca2+) 係介於1:1與1:2.5之間、1:2.5與1:5之間、1:5與1:1〇之 間、1:10 與 1:25 之間、1:25 與 1:50 之間、1:50 與 1:1〇〇 之 間、1:100 與 1:15〇 之間、1:150 與 1:200 之間、1:200 與 1:250 之間、1:250與1:5〇〇之間、1:5〇〇與1:1000之間、或以上 之一範圍。舉例來說，在一些實施例中，沈澱物質中Mg2+ 對Ca2+的比係介於1:1與1:10之間、1:5與1:25之間、1:1〇 與1:50之間、1:25與1:1〇〇之間、1:50與1:500之間、或 1:100 與 1:1000 之間。 192 201105406 因為原料的多樣性，有可能有包括鈣或鎂以外之平衡 離子的含碳酸鹽鹽類及化合物。舉例來說，在一些實施例 中，本發明之組合物（亦即沈澱物質）包括呈霰石之形式 的碳酸鈣。在此等實施例中，鈣可被包含但不限於锶、鉛 及鋅之多種不同金屬取代，這些金屬每一者不管呈何種形 式可見於本發明之一或多種原料（例如廢氣流、質子去除 劑源、二價陽離子源等）當中。組合物舉例來說可包括勰 霰石，其係富含锶的霰石；或者組合物可包括霰石與菱勰 礦之一混合物（例如（Ca,Sr)C03)。組合物舉例來說可包括 鉛霰石，其係富含鉛的霰石；或者組合物可包括霰石與白 錯礦之一混合物（例如（Ca，Pb)C〇3)。組合物舉例來說可包 括鋅霰石，其係富含鋅的霰石；或者組合物可包括霰石與 菱鋅礦之一混合物（例如（Ca，Zn)C03 )。鑑於前述範例實施 例，組合物（例如沈澱物質）可包括As、Ag、Ba、Be、 Cd、Co、Cr、Cu、Hg、Mo、Ni、Pb、Se、Sb、Ή、V、或 Zn之碳酸鹽、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽。舉例來說， 本名务明之組合物可包括Ag、Ba、Be、Cd、Co、Cu、Ni、 Pb、Ή、Zn之碳酸鹽或以上之組合。前述金屬之碳酸鹽、 碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽可為獨立生成（例如菱勰 礦）或既存於一鎂及/或鈣母質（例如勰霰石）中。諸如As、 Ag、Ba、Be、Cd、Co、Cr、Cu、Hg、Mo、Ni、Pb、Se、 Sb、Ή、V、及Zn等金屬可為由一廢氣流、一質子去除劑 源、一二價陽離子源、或以上之一組合提供。見於此等源 (例如廢氣流、質子去除劑源、二價陽離子源）中不會形 193 201105406 成碳酸鹽、、碳酸氫鹽、或碳酸鹽與碳酸氫鹽的金屬及其他 成分可能被困在沈澱物質中或被吸附在沈殿物質上。 包括從工業c〇2衍生之一或多種合成碳酸鹽的沈殿物 負反映出藉以知到该工業c〇2 (來自化石燃料之燃燒作用） 之化石燃料（例如煤、石油、天'然氣、或煙道氣）的相對 石厌同位，組成（<5 c)。單位為％。（毫）的相對碳同位素組 成（513c)是相對於一化石化箭石標準物（pDB標準）之 兩種穩定碳同位素（亦即％和13〇之濃度比的量度。 (5 13C%0=〔（ 13C/12C 樣本一13c/12c PDB 標準物）/ ( 13C/12C PDB 標準物）〕χlooo 因此，合成含碳酸鹽沈澱物質之值被用作C〇2 氣體源之指紋。（5 13c可因來源（亦即化石燃料源）而異， 但本發明組合物之5 13C值通常但不是必定為介於_9。/0。與 -35%〇之間。在一些實施例中，合成含碳酸鹽沈澱物質之5 C值係介於-1%。與_5〇%。之間、介於-5%。與_40%。之間、介於 -5%。與-3596。之間、介於_7%。與_40%。之間、介於-7%。與-35%〇 之間、介於-9%。與-40%〇之間、或介於-9%。與-35%。之間。在 一些實施例中，合成含碳酸鹽沈澱物質之5〗3C值係小於 (亦即比下列數值還要負）-3%〇、-5%〇、-6%〇、-7%〇、-8%〇、 -9%〇、-10%〇、-11%〇、_12%〇、-13%〇、-14%〇、-15%〇、-16%〇、 ，17%〇、，18%〇、-1996ο、-20%〇、-21%〇、-22%〇、-2396。、-2496。、 -25%〇、-26%〇、-27%〇、-28%〇、-29%〇、-30%〇、-3196。、-32%〇、 194 201105406 -33%。、-34%。、-35%。、-36%。、-37%。、-38%。、-39%。、-40%〇、 -41%。、-4296〇、-4396。、-44%〇、或-45%0，其中占 13c 值越偏 負值，合成含碳酸鹽組合物越富含12C。可使用任何適合方 法測量6 13C值’此等方法包含但不限於質譜分析或離軸整 合腔穴輸出分光術（離軸ICOS)。 除了沈;殿反應之含鎮及含#§產物，亦可用本發明之方 法及系統製備包括矽、鋁、鐵、及它者的化合物及物質並 將其等併入沈殿物質中。可能期望此等化合物在沈澱物質 中的沈殿或是此等化合物對沈殿物質的添加以修改包括由 此裝知生產之沈贏物質之水泥的反應性，或是改變由其梦 成之固化水泥及混凝土之特質。可將包括金屬料狀材 料添加至沈澱反應混合物作為這些成分之一來源，藉以生 產含有一或多種成分譬如非晶二氧化矽、非晶鋁矽酸鹽、 結晶二氧切、⑦賴、㈣含麵鹽沈题物質。 在-些實施例中’沈澱物質包括碳酸鹽（例如碳賴、碳 酸鎂）及二氧化石夕’其中碳酸鹽對二氧化石夕之比係介於Η 與1:1.5之間、1:1.5與1:2之間、1:2與1:2 $之 2 $ 與1:3之間、1:3與1:3.5之間、1:3 5蛊 p · · 之間、1:4.5與1:5之間、1:5與1:7.5之間、aw 之與1:15之=:15與1:2〇之間或以上之—範 二氧财，其中碳錢對二氧切包括碳酸鹽及 間、1:5與1:10之間、或1:5與η門I於U與h5之 之間。在一些實施例 中，沈殿物質包括二氧化石夕及碳酸鹽（例如碳酸約、碳酸 195 201105406 鎮）’其中二氧化矽對碳酸鹽之比係介於1:1與hl5之間、 1:1·5 與 1:2 之間、1:2 與 1:2.5 之間、1:2·5 與 1:3 之間、1:3 與 1:3.5 之間、1:3.5 與 1:4 之間、1:4 與 1:4.5 之間、1:4.5 與之間、1:5與1:7.5之間、1:7.5與1:1〇之間、1:1〇與 1,15之間、1:15與1:20之間、或以上之一範圍。舉例來說’ 在了些實施例中，沈澱物質包括二氧化矽及碳酸鹽，其中 〜氣化矽對碳酸鹽之比係介於1:1與1:5之間、1:5與1:1〇 p間、或1:5與1:20之間。整體而言，由本發明之方法製 $的沈搬物質包括矽基物質與至少一碳酸鹽相之混合物。 爹體而5，反應速率越快，更多二氧化石夕被併入含碳酸釣 、物質，剛知1疋沈殿反應混合物中有二氧化石夕（亦即前 =是包括金屬㈣鹽之物質在分解之後二氧化砍未被去 I承）〇 此殿物質可為呈-儲存穩定形式（其可能單純的是風 ^沈澱㈣>’ i可被儲存於地上處於暴露條件（亦即對大 =放）而在長時間中即使有降解（或c〇2損失）也不顯 =在一些實施财’沈㈣f可能在暴露條件下穩定達】 ^久、5年或更久、1G年或更久、25年或更久、別年 年或更久、2料或更久、麵年或更久、ι〇，嶋 =更久、！，_，_年或更久、或甚至⑽卿麵年或 件二，之一儲存穩定形式可能在許多不同環境條 ^ ΪΐΓΪ1〇〇%,s 其中匕專條件可為無風無雨、趟風 於沈澱物質之儲存狀料麵存純上料正常、雨水阳 196 201105406 值時即有使降解也是少量， 得的降解量（如果有的^ 心 出之C〇2氣體測 里u果有的話）不會超過每年5% 施例中不會超過每年1%或每年請1%。在1 = 提供的沈澱物質在暴露於常只上’本毛明 雨水）時於至少卜2 濕度條件(包含正常阳值 至」2、5、10、或20年、或超過2〇车⑽ 如超過1〇〇年）當中不會釋出超過其總 :包ί正—ί實ηΓ中，沈㈣f在暴露於正常溫濕度〇i 件（匕3正吊pH值雨水）時在至少】年當中不會釋 ϊΐ、2二⑼。在—些實施例中，歧物#在暴露於正 吊/孤濕度條件（包含正常ρΗ值雨水）時在至少丨年當中不 會釋出超過其總〇)2之5%。在—些實施例中，沈殿物質 在暴露於正常溫濕度條件（包含正常ΡΗ值雨水）時在至少 1年當中不會釋出超過其總c〇2之10%。在—些實施例中， 沈澱物質在暴露於正常溫濕度條件（包含正常pH值雨水） 時在至少10年當中不會釋出超過其總C02之1%。在一些 實施例中’沈版物質在暴露於正常溫濕度條件（包含正常 pH值雨水）時在至少100年當中不會釋出超過其總c〇2之 1%。在一些實施例中，沈澱物質在暴露於正常溫濕度條件 (包含正常pH值雨水）時在至少1000年當中不會釋出超 過其總C〇2之1 %。 可使用能夠合理地預測此種穩定性的任何適宜代用標 記或測試。舉例來說，一包括增溫之條件及/或中等至更極 端pH值條件的加速測試能夠合理地指示出經過長時間之 穩定性。舉例來說，視沈澱物質之預期用途及環境而定， 197 201105406 一沈澱物質樣本可在介於10%與50%之間的相對濕度暴露 於 50〇C、75°C、90。〇、l〇〇〇c、120°C、或 15〇〇C 達 1 天、2 天、5天、25天、5〇天、i〇〇天、2〇〇天、或5〇0天，且少 於其碳量之 1%、2%、3%、4%、5%、10%、20%、30 %、或50%的損失可被視為是本發明之沈澱物質在一段給 定時間當中（例如1年、1〇年、1〇〇年、1000年或超過1000 年）之穩疋性的充分證據。 可利用多種合適方法之任一者測試沈澱物質之穩定 性，包含物理測試法及化學測試法，其中這些方法適於判 定沈澱物質内之化合物與已知具有前述穩定性之天然化合 物（例如石灰石）類似或相同。沈澱物質之c〇2含量可藉 由任何適當方法監測，一個非限制實例為電量測定。其他 條件可經適當調整’包含pH值、麗力、uv韓射、及類似 者，同樣取決於預期或可能環境。應理解到可使用孰習此 技藝者會合理地推斷出在指定時間長度當中代表必要穩定 性的任何合適條件。此外，若公認的化學知識指出沈殿物 質會在指疋期間具有必要穩定性，則可在實際量測之外採 用此公認化學知識或以此公認化學知識取代實際量測。舉 例來說，可為本發明之沈澱物質之—部分的一些碳酸鹽化 合物（例如呈—給定多晶形式）在地質學方面可能廣為人 知且已知已承受正常氣候達幾十年、幾百年、或甚至幾千 年而沒有明顯崩解，故具有必要穩定性。 如刖所述，用來將C02封存成一長時㈤（例如地質時 間規模）穩定之形式的含碳酸鹽沈澱物質可被長時間儲 198 201105406 存。如果必須達成碳酸鹽對二氧化石夕之一特定比例 物質亦可與石夕基材料（例如來自包括 ^殿 灰物本發明之火山灰物質為權铭石夕質材料成= 及其他水泥質材料結合因 譬如火山灰、飛灰、二氧匕、寺貝可使用含Sl〇2物質 及粒狀高爐㈣、及軸⑪塵霧、〶反應性準高嶺土、 明組合物。在-些實施 生產火山灰物質之本發 0.5%至1.0%、’本發明之火山灰物質經使用 %、6.0% 至 8·。％、°8 吵 1、2’。％ 至 4.0%、4·。％ 至 6.0 %^20.〇%，2〇>〇%^3〇〇'〇*〇%'1〇-〇%^15-〇%'15·0 50.0%、或以上之一重=、30.0%至4〇謂、40.0%至 含s叫物質舉例來說^白圍士之一含卿物質加強。此種 濾網。 自本發明之一靜電沈澱器或織物 如上所述，在—此每 比在淡水中〜二 例中’沈㈣質包括在鹽水中 物在與任# Η ί穩定碳酸鹽化合物，致使此等化合 淡水穩定礦二Cf?觸之後會溶解並再沈澱成其他 說係以小顆私产―y、t實施例中，碳酸鹽化合物舉例來 100微来、、二至為ο.1微米至100微米、1微米炱 描電子顯微術米、50微米至-微米’由择 合物之粒徑由SEM判定//在—些實施例中’碳酸鹽化 例中，_呈現單模5微米至10微米。在—些實施 、心、刀佈。在—些實政例中，粒徑星現 199 201105406 雙模態或多模態分佈。在某些實施例中，依此而，Emmit & TelleK BET )表面積分析判定，顆粒物具有例如〇 $ m2/gm 至 100 πί/gm、0.5 ni/gm 至 50 mVgm、或 〇 5 m2/gm 至 2〇 m2/gm的高表面積。在-些實施例中’沈题物質可包括棒狀 晶體及/或非晶固體。棒狀晶體之結構可有變化，且在某些 實施例中具有500至1、250至1或1〇至i的長度對直徑 比。在某些實施例中’晶體之長度為0.5微米至5〇0微米、 1微米至250微米、或5微米至100微米。在更其他實施例 中，生產大致完全非晶的固體。 經由喷霧乾燥方式的喷霧乾燥物質（例如沈澱物質、 矽基物質、火山灰物質等）可有一致粒徑（亦即喷霧乾燥 物質可有相對狹窄粒徑分佈）。因此在一些實施例中，喷霧 乾燥物質之至少 50%、60%、70%、80%、90%、95%、 97%、或99%落在一給定平均粒徑之±10微米、±2〇微米、 ±30微米、±40微米、±50微米、±75微米、±1〇〇微米、或土 250微米以内。在一些實施例中，該給定平均粒徑係介於5 微米與500微米之間。在一些實施例中，該給定平均粒徑 係介於5微米與250微米之間。在一些實施例中’該給定 平均粒徑係介於5微米與100微米之間。在一些實施例中， 該給定平均粒徑係介於5微米與50微米之間。在一些實施 例中，該給定平均粒徑係介於5微米與25微米之間。舉例 來說，在一些實施例中，喷霧乾燥物質之至少70%落在一 給定平均粒徑之±50微米以内，其中該給定平均粒徑係介於 5〇微米與500微米之間，譬如介於50微米與250微米之 200 201105406 間，或介於100微米與200微米之間。此種喷霧乾燥物質 可被用於製造本發明之水泥、細粒料、灰漿、粗粒料、混 凝土、及/或火山灰；但熟習此技藝者會理解到水泥、細粒 料、灰漿、粗粒料、混凝土、及/或火山灰的生產並不要求 喷霧乾燥沈澱物質。舉例來說，風乾沈澱物質亦可用於製 造本發明之水泥、細粒料、灰漿、粗粒料、混凝土、及/或 火山灰。 實例 結合以上說明’以下實例為熟習此技藝者提供如何製 造及利用本發明的完整說明。此等實例係用來提供咸信最 有用且最好瞭解的本發明某些實施例之流程及概念說明。 因此’這些實例並非意欲限制本發明人所認為之發明範 圍，這些實例也並非呈現所有實驗或僅呈現執行過的實 驗。頃已努力確保關於所用數字（例如量、溫度等）的精 確度，但應考慮到有一些實驗誤差及偏差。除非另有明確 敘述^分數部分係重量分數，分子量係重量平均分子量， 溫度係攝氏溫度，且壓力係處於或接近大氣壓。 實例I. P00099之沈澱 A. P00099沈澱製程 、、利用以下規範生產P00099沈澱物。將38〇公升經過濾 2水|運至―圓㈣聚乙烯⑹。軸底部漸縮槽内。此反 應槽係1放式系統，保持暴露於環境大氣。利用一置頂 201 201105406 混合機持續檀拌該反應槽。反應全程當中持續 室溫及水溫。 、皿 將25克磨碎的(Ca，Mg)0(亦稱燒白雲石或鍛燒白雲 石）混入海水中。將沈降於槽底的燒白雲石手動地從槽底 再循環通過頂部，以便促進試劑之充分混合 a - 以-相同方式進行25克燒白雲石之二次添加，包含沈降試 ，之手動再循環。當水之pH值達到時，透過一陶瓷空 氣石（airstone)將1〇% C〇2 (及9〇%壓縮空氣）之一氣 體混合物緩慢地擴散到溶液内。當溶液之值降到9.0 時’將另一份25克的燒白雲石添加至反應槽，這 °只要溶液之PH值降到9·0 (或更低）就重複 之添加’最終添加總共225 &。沈降試劑之 ' %係在每次燒白雲石添加之間進行。 上升。為胳U見拌此反應2小時。在此期間，PH值持續 過9.2時將額"外3持f 9.〇 ’ 9.2之間’在PH值上升超 虱體擴散通過此反應直到pH值到達9.0為 在最後i日2期間亦進行沈降試劑之手動再循環4次。 欠添加燒白雲石後2小時，停止攪拌、氣體 °、劑之再循環。將反應槽靜置15小時（對大氣 在此15小日矣+ μ 稃呤卜欢、、a _之後’利用一潛水泵浦經由反應槽之頂部 物磚罢〇飞經由槽底移除剩餘混合物。讓收集後的混合 初靜置2小時。y #置後倒掉上澄液。剩餘漿料經由在一 202 201105406

Buchner漏斗中的11微米孔徑濾紙真空過濾。將收集後的 濾紙塊放入一 Pyrex盤中並以11〇。〇烘烤24小時。 在一球磨機中研磨已乾燥產物並透過一系列筛網依大 小分級以製得P00099沈澱物。 B.材料分析 在收集到的不同篩分粒級當中’僅使用含有留在38微 米篩眼篩網上且通過7 5微米筛眼師網之顆粒物的粒級。 1.化學特性 利用.XRF分析用於s周合物之p〇〇〇99沈殿物的元素組 成。針對用於此調合物中之QUIKRETETM I/II型波特蘭水 泥以及P00099沈殿物之主要元素的結果列於下表4。 表4用於此調合物中之ι/Η型波特蘭水泥及ροο〇99·〇〇2的 樣本 Na2〇 MgO AhOs Si〇2 P2〇5 S〇3 Cl K2〇 CaO Fe2〇3 Sr C〇3 (¾) (¾) (¾) (¾) (ppm) (¾) (%) (¾) (¾) (%) (ppm) (¾差） 0PC1 2.15 1.95 4. 32 20.31 2336 2. 54 0.072 0. 36 62.88 3. 88 1099 0.002 P00099 1.36 3.44 0.14 0.083 462 0.65 1.123 0. 04 45.75 0.12 3589 46. 82 此沈澱物之XRD分析指出霰石及鎂方解石（近似 Mg(MCaQ.9C03之組合物）的存在以及極少量的氫氧鎂石及 203 201105406 岩鹽（表5>P00099之FT-IR分析確認霰石、方解石及氫 氧鎂石的存在。 表5此沈澱物之分才斤 樣本 霰石 鎂方解石 氫氧鎂石 岩鹽 P00099 79.9 17.1 2.8 0.2 藉由電量測定測得之總無機碳含量係與從與XRF元素 組成相關之XRD Rietveld估計組成導出之相同數值相當一 致。表ό提供p〇〇〇99之電量測定分析與從xRD/XRF資料 導出之的比較。 表6 P00099之電量測定分析與從xrd/XRF導出之％C的 比較 量測定的總C量 從其他分析資料導出的總C量 〜----^0-93±0·16% 11.5% 2.物理特性 沈職物之SEM觀察確認了霰石（針狀）之優勢以及顆 ''疑聚物之大小。波特蘭水泥及P00099之經判定BET比 表面積（、、SSA")見於表7。 表7波特蘭水泥及P00099沈澱物之BET比表面積 (、、SSA") 204 201105406 I/II型Quikrete波特蘭水泥 P00099 1.18±0.04 rri/g 8.31±0.04 m/g 在2分鐘預超音波處理使凝聚顆粒分散之後判定粒徑 分佈。 實例II.飛灰作用一鹼源之使用 A. 方法 利用一磁性攪拌棒連續攪拌一玻璃燒杯中之500毫升 海水（初始pH=8.01 )。持續監測反應之pH值及溫度。逐 漸添加粉末的F級飛灰（〜10% CaO)，讓pH值在添加之 間平衡。 B. 觀察結果 在5.00克飛灰添加之後pH值達到9.00。 34.14 克--〉pH 9.50 168.89 克-->ρΗ 9·76 219.47 克-->ρΗ 10.94 254.13 克-->ρΗ 11.20 300.87 克--〉ρΗ 11.28 (上列飛灰量為累計總量，亦即在實驗中當時添加的 總量。） 比起蒸顧水，需要更多飛灰來提升海水之pH值。初始 pH值上升（8到9)所需飛灰遠少於進一步上升。就反應 205 201105406 之大部分期間來說，pH值在9.7附近保持相當穩定。pH值 增加速率在〜1〇之後加快。來有要注意當添加飛灰時pH值 之一初始下降。此pH值下降很快地會被氫氧化鈣之效果克 服。反應所得真空乾燥漿料的SEM影像顯示已被部分地溶 解之飛灰的一些球體。剩下的球體看起來也像是被埋入一 可能是水泥質的物質當中。 C.結論 在淡水（蒸餾水）中，頃發現少量的F級飛灰（ 克/公升）立即將pH值從7 (中性）提升至〜n。提升pH 值所需之此少量很可能是因為蒸餾水之未緩衝本質。海水 被碳酸鹽系統高度緩衝，且因此其要用更多飛灰才能夠將 pH值提升至類似水準。 實例III.高產量的生產 A.製程1 將一 20%CCV80%空氣的氣體混合物注入1公升海水 内直到pH<5為止。一旦到達此條件，將i 〇克之Mg(〇Hh 添加至戎1公升碳酸/海水溶液。繼續注入該氣體混 合物20分鐘以確保Mg(0H)2及氣體之最大溶解度。在溶解 之後’停止氣體注入且添加2M NaOH直到pH值達到9 8 為止。再進行20/80氣體之注入直到pH值達到8 5為止。 持續2M NaOH及20/80氣體中和添加將pH值維持在8 5 與9.8之間直到總共已添加2〇〇毫升2MNaOH為止。會觀 206 201105406 察到6.91克之產量，具有10.6%碳（〜80%碳酸鹽）的電量 測定讀數。 B. 製程2 將一 20%〇ν80%空氣的氣體混合物注入1公升海水 内直到pH<5為止。一旦到達此條件，將2.69克之Mg(〇H)2 添加至該1公升碳酸/海水溶液。繼續注入該20/80氣體混 合物20分鐘以確保Mg(OH)2及氣體之最大溶解度。在溶解 之後，停止氣體注入且添加2M NaOH直到pH值達到9 8 為止。再進行20/80氣體之注入直到pH值達到8.5為止。 持續2M NaOH及20/80氣體中和添加將pH值維持在8 5 與9.8之間直到總共已添加200毫升2M NaOH為止。會觀 察到10.24克之產量’具有9.7%碳（〜75%碳酸鹽）的電量 測定讀數。 已沈殿碳酸鹽之SEM、EDS、及X光繞射顯示非晶及 結晶的Ca及Mg碳酸鹽，且亦顯示Ca/Mg碳酸鹽之存在。 沈澱物的照片見於圖41和42。 C. 製程3 將C〇2注入1公升海水内直到pH值達到7或更低為 止。在混合並持續注入C02的同時添加0至5.0克Mg離子 補充物，後者被稱為Moss Mag 〃且係得自Calera Corporation 之 Moss Landing 場（此處係 Kaiser Aluminum & Chemical Corporation and National Refractorie in Moss 207 201105406

Landing California的舊場地’其中該補充物是在該處之尾 砂池中找到付畐Mg廢料）。添加0.175 ppm的ai2(s〇4)3。 繼續注入C〇2且在將pH值維持在7與8之間的同時添加鹼 以pH值7結束。停止C〇2之注入且添加驗直到pH值到達 9.0與10.4之間。如圖43所示，上列反應條件偏向於非晶 碳酸鹽化合物沈澱物之生成。所得非晶沈澱產物易於喷霧 乾燥以製得一乾產物。 ' D.製程4 如圖38、39及40所示，在某些實施例中，採用一多 步驟多反應器製程執行本發明所述方法。在第一反應器 中’利用碳酸及攪動作用將一得自MossLanding，Calif0rnia 場的鎂離子源（以下稱Moss Mag )放入溶液内》在M〇ss Mag 溶解期間，第一反應器中之海水的pH值被維持在7 〇或更 低。在某些實施例中，每公升海水有1·〇克5〇微米至15〇 被米Moss Mag >谷入溶液内。6.2至6.6之pH值或〉〇 〇8 克/公升之硬度讀數代表適量的Moss Mag已溶入溶液中。 一 C〇2源例如煙道氣注入第一反應器之水中。整個反應期 間消耗之總煙道氣的約40%至50%於此步驟中溶入海水 内。在pH值不再對應於煙道氣溶解之前持續注入煙道氣， 這化費大約30至60分。在將c〇2充填酸性水從第一反應 器轉移至第二反應器之前停止攪動以允許未反應的M〇ss Mag、砂或其他大顆粒重力沈降。 然後將C〇2充填酸性水從第一反應器轉移至第二反應 208 201105406 器。第二反應器係用於成核場生產及晶體生長。在溶液從 第一反應器轉移至第二反應器之後，進行下列步驟。 1. 添加1.50% NaOH直到pH值到達9.5。舉例來說， 就1000加侖反應來說，利用一能夠以5至25毫升/秒果運 50% NaOH的計量泵浦添加20至25公斤之5〇% NaOH。 在pH值到達9.5後，停止50% NaOH之添加。 2. 將一包含20%C〇2/80%壓縮空氣混合物的c〇2源 注入第二反應器内直到pH值到達8.5為止。在pH值到達 8.5後，停止C02之注入。 3. 交替進行將50% NaOH添加至反應器内以提升阳 值及注入C〇2以降低pH值的步驟。在50% NaOH之添加 及C〇2之注入的交替步驟期間將pH值維持在8.5與9.8之 間。持續交替進行50% NaOH之添加及C〇2之注入直到總 計90公斤（亦即在此步驟中65至70公斤加上第一步驟中 20至25公斤）之50% NaOH已添加至反應器。 4. 最後一次添加50% NaOH之後的最終pH值係介於 9.6與9.8之間。 5. 停止攪動且讓沈澱物重力沈降過夜然後進行水/g) 體分離作業。另一選擇，在停止攪動之後，讓沈澱物重力 沈降15分鐘然後進行加速水/固體分離作業。使沈澱物維持 在50°C以下之溫度。 所得產量為每1000加侖反應器30至50磅沈澱物且取 決於沈澱前之Mg離子溶解度及總硬度。 209 201105406 實例IV. co2吸收 A.製程1 在此實例中，土―、+. h 性地猜4.00公升驗室規模之二氧化碳吸收。在磁 過溶液19分鐘，^t Γ時將1〇〇% C〇2猛烈地注入通 八户沾昧η去士時P值達到4·89之最小值。在一段2 ^力:二將32.〇〇克經喷射礙磨白勺Mg(〇H)2添加至 5 _ ’ #續添力σ C〇2總計18分鐘以使阳值在 丄I:，持在7.90與8.00之間。接下來，在-段 刀里.日，間虽中添加100.00毫升之2MNaOH，同時藉由 2之^口使PH值維持在8.00與8·10之間。為促進沈澱 在一段5分鐘的時間當中添加2 75毫升之2 Μ N a〇 Η， 外攪拌所得溶液52分鐘。真空過濾⑽並在-50。(:烤 相乾燥22小時以回收每公升初始海水溶液Μ克之約及 鎮碳酸鹽（主要分別是S石及三水碳鎮石）。 Β.製程2 在此實例中，描述實驗室規模之二氧化碳吸收。用1〇〇 力两（380么升）海水裝丨⑻加侖底錐形塑膠反應容 器，該海水在整個製程當$被—置拌器（可搞式帶輛 混合機’24，，SS紫葉U-推、！·拉），及安裝架）_。第 一步是用濃度為20%叫的叫及8〇%壓縮空氣注入溶 ，内，氣體流率25 scfh。藉由溶液值之穩定化判斷平 衡。第二步是用強烈混合動作添加2 7〇克/公升之 (1.02公斤）。為進一步促進Mg(〇H)2之溶解，將c〇2注 210 201105406 入通過該溶液。第三步是添加一 50重量％ NaOH溶液直 到pH值到達9.8為止，然後是注入額外c〇2以使pH值降 至8.0。重複最後兩個步驟（添加50重量％ NaOH溶液直 到pH值到達9.8為止及注入額外C〇2以使pH值降至8.0) 直到總計已添加16.0公斤之50重量％ NaOH至溶液為 止，其中利用最後一次NaOH添加使pH值達到1〇 〇。從該 溶液分離並收集沈澱物，得到10.24克/公升之碳酸約及碳 酸鎂水合物的產量。 C.製程3 在此實例中，描述實驗室規模之二氧化碳吸收。用 加余（380公升）海水裝入一 1〇〇加余底錐形塑谬反應容 器’該海水在整個製程當中被一置頂攪拌器攪拌。第一步 是用濃度為20體積％的c〇2以100 scfm (標準立方英尺每 分）的流率注入溶液内。當容器頂部空間中之C〇2濃度接 近流入氣體之C〇2濃度時，判定已達平衡。此步驟期間計 算出的C〇2吸收量係可理解地低。第二步是緩慢地添加379 克之Mg(OH)2以避免PH值急遽提高，後者會偏向於不想 要的碳酸鹽沈澱。為進一步促進Mg(OH)2溶解，將c〇2注 入通過溶液至6.3之最終pH值。最後一步是持續地捕捉溶 液中之C〇2。在3.5小時的過程中，添加了 4.9公斤之NaOH 以將pH值維持在7.9同時注入C〇2並反應以生成碳酸氫鹽 離子。此步驟期間計算出的C〇2吸收量係介於68%與70 %之間。結果提供於圖44，該圖示出pH值及C02吸收量 211 201105406 (瞬時的及累相）之進程。卩^值標繪中之點丨處的異常 係源自移除pH探針以添加Mg(〇H)2。 D.製程4 在此貝例中’描述工業規模之二氧化碳吸收。用900 加阳（3400公升）海水裴入一 1000加侖反應容器，該海水 在整，製程當中被㈣。第—步是將3 3公斤之Mg(〇H)2 裝^浴液内，這提高PH值及鎂含量。接下來，注入1〇體 積％ C〇2骑由持續添加NaOH最多達30公斤使pH值維 持在7.9。這些步驟的總持續時間為5至6小時。最後添加 最終一份38公斤之Na〇H提高pH值使得碳酸鹽生成並沈 澱。此步驟之持續時間為1〇至2〇分鐘。攪拌該溶液超過i 小時以允許進一步沈澱。將反應靜置過夜。傾析該溶液且 藉由濾網壓榨或真空過濾回收固體產物。此外，可在傾析 製知之後洗條該溶液，藉此添加水且濾網壓摊樣本。另一 選擇，在初始真空過濾之後加水、攪拌、並再次過濾。最 後，使產物喷霧乾燥。總產量為原始溶液之5至7克/公升。 實例V.鎂鐵質礦物在HC1中之高產量溶解 在此實例中’描述橄欖石之溶解及後續用以沈澱C〇2 之使用。使用一 10% HC1溶液（475.66克）在5(TC溶解 撤禮石（10.01克，粒徑〜5.8微米）。在溶液被授掉ίο小時 並靜置9小時以提供0.2491莫耳/公升之Mg2+ (水溶液） 浪度之後’將其尚溫真空過慮以回收404.52克遽液。在1 212 201105406 小時的時間當中，使用15.01克NaOH (固體）及5.23克 NaOH (水溶液）（呈一 50重量％溶液）使溶液中性化。在 此同時，將100% C〇2猛烈地注入通過混合物以提供89 之最終pH值，此時生成沈澱物。真空過濾漿料並以5〇。^ 乾燥17小時以生產19.26克’其中含有MgC03.H2〇、NaCl、 Fe基化合物及si基化合物。 實例VI,電化學術 依據本發明雙電極系統達成之範例結果概列於下表8。

撗跨電極的 電壓 時間 (分） 陽極處初 始pH值 1%極處結 束pH值 陰極處初 始pH值 陰極處結 束PH值 30 4.994 5.204 7.801 7.431

0.45 V

第一隔間中 為 0.30 V

第二隔間中 為 0.15 V 在此實例中，描述用於已用C〇2充填之去質子化海水 的電化學系統。所用胞元係由用一把箔分隔的二個丨公升 陽間組成。用C〇2充填第一隔間至達到pH值4.994為止。 將〜犧牲錫陽極放入第一隔間内，且將錫電極及把膜保持 後電流控制在100毫微安培/平方公分下，此代表〇 3〇 v之 213 201105406 電壓。第二間由-錫電極及溶解於海水中的SnCl2組成。 將第二隔間中之減及錫電極保持在G.15 V。使系統運作 30分鐘且如表8所列，系統呈現第一電解質中之pH值的 提咼及第二電解質中之pH值的降低。 依據肖隹子膜糸統達成之範例結果概列於下表9中。 能量電化學|交換系統及方法 橫跨電極 的電壓 0.6 時間 (分） —〜· -— 陽極處初 始pH值 陽極處結 束pH值 陰極處初 始pH值 陰極處結 束pH值 2000 6.7 3.8 6.8 10.8 1.0 2000 6.6 3.5 6.8 11.1 在此實例中，描述一利用被定位在一陽極與一陰極之 間之離子父換膜在一低操作電壓生產NaOH及HC1的電 化學胞兀。所用胞元由用一陰離子交換膜（pc_SA_25〇_25〇 〇PCTGmbH0fGermany))分隔之二個25〇毫升隔間組成。 在此一隔間中使用處於一 18ΜΩ水溶液中之〇.5MNaCl。陽 極和陰極一者均由一1G cmx5 cm、45網目pt紗網構成。陽 極隔間具有從Pt電極訂注人的％氣體，且將兩電極保持 在〇.6 V及1.〇 v之偏壓2〇〇〇秒。如表9所列兩次測試 在陰極隔間中達成顯著PH值提升，且在陽極隔間令達成 pH值降低。 實例VII.液固分離 214 201105406 A. 製程1 在此預示性實例中，描述實驗室規模從沈澱站流出物 分離出沈澱產物的作業。如實例IV所述製備沈澱產物漿料。 在一反應容器中生產包括沈澱產物之漿料（見實例 IV )，該反應容器為此實例之故被稱為沈殿站。在沈澱產物 漿料生成後，將此漿料提供至一液固分離裝置作為沈澱站 流出物。使用一沈澱站流出物管將該漿料提供至液固分離 裝置且將漿料流引導為對著一折流板，藉此使沈澱站流出 物流轉向。較重的沈澱產物顆粒延續其運動路徑沿著沈澱 站流出物管向下（亦即依重力之方向）到一收集器，在此 同時上澄液轉向，與沈澱產物顆粒分離，且經由液固分離 裝置之上部部分離開。從收集器移除所得沈澱產物並予乾 燥以生產碳酸鈣及碳酸鎂水合物。 B. 製程2 在此預示性實例中，描述實驗室規模從沈澱站流出物 分離出沈澱產物的作業。如實例IV所述製備沈澱產物漿料。 在一反應容器中生產包括沈澱產物之漿料（見實例 IV)，該反應容器為此實例之故被稱為沈澱站。在沈澱產物 漿料生成後，將此漿料提供至一液固分離裝置作為沈澱站 流出物，其中使該漿料在一螺旋通道中流動。在該螺旋通 道之終點，出口平行陣列收集已分離的沈澱產物顆粒。從 收集器移除所得沈澱產物並予乾燥以生產碳酸鈣及碳酸鎂 水合物。 215 201105406 產高呈現在一隔間中利用超音波霧化器生 Ρ高間令：： 液滴的使用’該等液滴隨後在另- 曰十1、一氧碳接觸。此實例之，、統軸*圖45所示。 此第一系統使用一市售超音波霧化器（圖45 : 2〇〇)， 其由ίο個傳感器組成，能夠使水以每小時大約4公 化。利用一 4英时（1〇16公分）線内風扇（位在η矛 液滴，（215)移入一混合隔間（245)内。然後使氣體從 混合隔間（24G)再循環回傳感器隔間（22())，在此同時 co2持續流過系統（225)。使用用則克乾Na〇H粒形成 的碳酸氫#3飽和溶液作為被霧化的苛性驗源。將此溶液倒 入裝有傳感器（205 )的隔間内。在多個時間間隔（5分鐘' 10分鐘、20分鐘）取得混合室（245)中收集到之霧氣的 pH值。頃發現霧氣之pH值永遠低於8,其中溶液之初始 pH值為尚於13.5。在傳感器、風扇及c〇2氣體運轉2〇分 鐘之後，碳酸氫鈉及碳酸鈉之沈搬物裝入傳感器室。 實例2.此實例用一隔間用於液滴生產、液滴與氣體接 觸、及固體物質之沈澱。此實例之裝置類似於圖46所示。 此裝置係由6英尺（182.88公分）高、4英尺（121.92 公分）寬、6英吋（15.24公分）深的箱子構成。離頂部2 英尺（60.96公分）處有一擱架，其容納一卞售1〇傳感器 超音波單兀（圖46 : 300)及一使氣體依一圓形型樣循環的 風扇。此槽之底部為圓錐形，允許已沈澱漿料（35〇)流到 216 201105406 儲槽（360)。用—2.紅容 μ κ * ^ ^ . 虱氧化鈉溶液裝入搁架（310)且 從館槽⑽)連續充填。 氳鹽及碳酸鹽沈澱^時後會在該室巧上生成納之碳酸 實=3·此實㈣範再循環之使用及—鹼 二氧化碳氣體。 合狀次Η又 一此裝置使用純C〇2氣體且由一 6英对（i 5 Μ公分）直 =、1.5英尺（45.72公分）長的水平管構成。 ^溶液再循縣«料，㈣者生產㈣W遠大於^ 曰波喷，器生產之液滴的液滴。用2.75Ν氣氧化鈉(Na〇H) 破入该官，接通系浦將氫氧化鈉霧化噴人—富含c〇2的隔 間内。在1小時40分鐘後’所得溶液含有pH值為8.2的 大量沈殿物，表示碳酸氫納及碳酸納已因溶液CQ2超飽和 而沈殿。 貝例4，此貫例示範利用高表面積對體積比之自來水 將二氧化碳氣體併入液滴内致使液滴在與氣體接觸之頭5 分鐘内即幾近C02飽和。 此裝置由一 8英对（20.32公分）直徑、48英忖（121.92 公分）長的管子構成，整個底部有4個等距間隔的超音波 傳感器。利用起始pH值為7.8的普通自來水測試吸收器。 在5分鐘之後收集傳感器生產的霧氣並予測試。整體自來 水之pH值為6.3，且收集到的霧氣之pH值為5.44。然後 217 201105406 在一獨立灌氣系統中向已收集霧氣灌注更多c〇2 3〇分鐘且 發現可達到的最低pH值為5.39,故在頭5分鐘中即幾近達 到完全飽和。 實例5.為處理來自一 200百萬瓦動力廠之煙道氣，取 用每天100百萬加侖（MGD)的鹽水，其中75 MGD是鹼 度為500 mEq的驗鹵且25 MGD是弼浪度為25,000 ppm的 硬鹽水。該動力廠在使用來自美國的煤（亦即不是褐煤的 煤）時生產200噸/小時之二氧化碳排放。二氧化碳捕捉率 為90%，代表180噸/小時之二氧化碳被併入由上列鹽水組 成之吸收性溶液内。一旦碳酸鈣與鹽水分離且經乾燥，且 假設處理設施（亦即排放控制系統）連續運作，每小時生 成408.6噸碳酸鈣，這等於每天約98〇〇噸之產物。這代表 每加侖鹽水生產0.196磅之產物，等於每公升鹽水生產23 $ 克之產物。當捕捉率減低，例如從90%變成45%時，會捕 捉到90 B煩/小時之^一氧化碳且因此生成204.3 11煩/小時之碳 酸鈣’這等於0.098磅/加侖（11.75克/公升）。當動力廠: 規模加大時，例如從200百萬瓦變成400百萬瓦，在9〇% 捕捉率下，捕捉到的二氧化碳量為360噸/小時，且因此每 小時生成817.2噸之碳酸鈣，假設穩態連續運作，相當於每 天（24小時）約19,600噸之產物。 雖然已就多樣實施例說明本發明，且儘管已用可觀的 細節描述這些實施例，本發明人並非意欲將本發明之範圍 以任何方式限制在此等細節。熟習此技藝者應理解到可不 218 201105406

脫離本發明之精神及範圍完成本發明之各種調適及修改。 以上說明僅為可運用之變化的實例，且熟習此技藝者: 易想出附加優點及修改型。因此’本發明就其最廣泛^ 來，不揭限於本說明書令呈現之特定細節、代表性實施例 及把例霄施例。據此，可不脫離整體發明概念之精 圍做出不同於此等細節之變更。據此’應理解到本說^ 細說明及隨附圖式不非意欲限制本發 J 『應從下文中請專利範圍項及其適當建構法律等;物= 別公令引用的所有公開案及專利係以如同每—個 或專偶指定且烟地則丨㈣方式併 = ΐ併入本文中。任何公開案的引用係針 :tr發明之此等公開案命】此;'本 能異於實際公告曰期且必須個別確認 利範ΪΓ中rrz專利範圍項之效力之故’否則申請專 (一 t步行-指定功能之一 ''構件 35U.S.C. §112中規^ 的任何疋素不應解釋為如 s U2中規疋之一、、構件"或一、、步驟" 技蓺:3明#中已呈現本發明之較佳實施例，“此 =以:Γ這些實施例係僅作為實例提供:熟習 替代;應=:脫離本發明的多種變異型、變化型* 替代方案實行二利Z本說明書所述發明實施例的各種 丁本發明。意料中以下申請專利範圍項界定本 219 201105406 項及其等效物之範圍以内 發明之範圍且這些申請專利範圍 的方法及結構將藉此涵蓋。 【圖式簡單說明】 j提出—包括—處理11的本發明系統，其中該處理 益經配置用以處理包括二氧化碳的多種氣體。 ，2提出—包括—處理器及—處理系統的本發明系 ’八處理系統經配置用以處理來自該處理器之植 物。 、 备处圖提出—包括—處理器及—任選處理系統的本發明 糸統，其中該處理器包括_接觸器及—反應器。 餘，包括—處理器及—處理系統的本發明系 产=。讀理系統的上澄液可視需要被再循環至該 ，5提出一包括一處理器、一處理系統及一電 統的本發明系統，其中來 、 被再仙至_理器、該電化學系統、或二者之一植合。 圖6提出-依據本發明—實施例之叫封存方法的示 思、圖。 _立，7提出-依據本發明另—實施例之叫封存方法的 不忍圖。 圖8提出-用於以電化學方式生產氮氧化物之低電屋 裝置之一實施例的簡圖。 圖9提出-用於以電化學方式生產氮氧化物之低電璧 裝置之另一實施例的簡圖。 220 201105406 圖10提出一用於以電化學方式生產氫氧化物之低電壓 裝置之另一實施例的簡圖。 圖11係一用於以一塔組態接觸固體物質、液體及氣體 之裝置之一實施例的示意圖。 圖12係一接觸固體物質、液體及氣體之方法的示意圖。 圖13係一用於以一水平組態接觸固體物質、液體及氣 體之裝置之一實施例的縱向剖面示意圖。 圖14係一用於以一水平組態接觸固體物質、液體及氣 體之裝置之一實施例的末端橫截面示意圖。 圖15係一裝置之一實施例的示意圖。 圖16係一整體裝置之一實施例的示意圖。 圖17係一裝置之一實施例之一部分的示意圖，其中示 出分流棚列佈局。 圖18係一裝置之一實施例的示意圖，其中示出一可能 喷頭配置。 圖19係一裝置之一實施例的示意圖，其中示出一可能 喷頭配置。 圖20係一可用於裝置及系統之一些實施例中之分流棚 列的示意圖。 圖21係一本發明一實施例的側視圖，其中液滴和一氣 體依循一長路徑環繞一隔間，其中氣體入口係在該隔間之 頂部。 圖22係一本發明一實施例的仰視橫戴面圖，其中液滴 和一氣體依循一長路徑環繞一隔間，其中氣體入口係在該 221 201105406 隔間之頂部。 圖23係一本發明一實施例的側視圖，其中液滴和一氣 體依循一長路徑環繞一隔間，其中氣體入口係在該隔間之 底部。 圖24係一本發明一實施例的仰視橫截面圖，其中液滴 和一氣體依循一長路徑環繞一隔間，其中氣體入口係在該 隔間之底部。 圖25提出一線内監測器的簡圖。 圖26係一裝置之一實施例的示意圖，其中示出鉛直取 向區段及水平取向區段。 圖27係一裝置之一實施例的示意圖，其中示出鉛直取 向區段及水平取向區段。 圖28係一裝置之一實施例的示意圖，其中示出鉛直取 向區段及水平取向區段，利用泵浦在水平取向區段中造成 相對於氣體流之逆流溶液循環。 圖29係一裝置及系統之一實施例的示意圖，其中該系 統是一系列的裝置。 圖30係一實施例的示意圖，其中示出實為一裝置陣列 的系統。 圖31係一實施例的示意圖，其中示出實為一裝置陣列 的系統。 圖32係一系統之一實施例的示意圖。 圖33提出一與依據本發明一實施例之C02封存系統整 合的動力薇的示意圖。 222 201105406 圖34提出一波特蘭水泥廠的示意圖。 圖35提出一水泥廠與一依據本發明一實施例之沈澱廠 共處的示意圖。 圖36提出一依據本發明一實施例不需要礦產石灰石原 料之水泥廢的不意圖。 圖3 7提出一依據本發明一實施例之系統的示意圖。 圖38、39和40提出依據本發明一實施例之系統的示 意圖。 圖41和42提出本發明之沈澱物的照片。 圖43提出一本發明之非晶沈澱物的照片。 圖44提出一在上文實例段中報告之C02吸收實驗的曲 線圖結果。 圖45示出本發明之一實施例，其中液滴之生成及液滴 與目標氣體之接觸係在不同腔室中發生。 圖46示出一實施例，其中液滴生成及氣體接觸係在一 個腔室内發生，該腔室經設計使聚結液滴與藉以形成液滴 之液體保持分離。 圖47係一實施例的示意圖，其中示出一使用一消泡錐 及喷頭的裝置。 【主要元件符號說明】 10水 20沈澱反應器 3 0工廠氣態廢料流 40分離反應器 223 201105406 90最終產物譬如混凝土或灰漿 100 (圖7 )本發明之系統；（圖丨丨）入口導管 105貯器 110 (圖1至5)處理器；（圖7)水源；（圖ιυ入口 115、120、125、130、135、14〇 (圖 η)漿料輸送系統 120 (圖1至5)處理系統 130二氧化碳源 140 (圖1至5)質子去除劑源；（圖7)液固分離裝置 150 (圖1至5)二價陽離子源；（圖7)清洗站 150、155 (圖11 )液滴產物層 160 (圖1至5)電化學系統；（圖7)乾燥站；（圖腔 室 二 165氣液接觸器 170 (圖7)煙道氣出口；（圖η)冷凝器 175接觸後的氣體 180 (圖7)精煉站；（圖接觸後的液體 185其他系統 200 (圖7)動力廠；（圖45)超音波霧化器 205傳感器 215液滴霧 220線内風扇；傳感器隔間 225 純 C02 240混合隔間 245混合隔間 224 201105406 300 (圖13)氣體入 傳感器超音波單元 口；（圖33)燃煤動力廠；（圖46) 10 接觸室;(圖33)煤;(…架 320 (圖13)液滴噴流；（圖33)煙道氣 325底灰 ’ 330 (圖13)漿料貯器；（圖33)水源 340、350、360、370 (圖13)漿料輸送系統 340反應器 350 (圖33)泵浦；（圖46)已沈澱漿料 360 (圖33)噴霧乾燥機；（圖46)儲槽 370 (圖33)經處理煙道氣；（圖46)純c〇2 380 (圖13)其他系統；（圖33)煙囪 400 (圖14)貯器；（圖21)内旋進給件；（圖34至36) 石灰石 410 (圖14)接觸室；（圖21)螺旋路徑；（圖34至36) 添加物 420、460、470 (圖14)漿料輸送系統 420 (圖 34)煤 430 (圖14)液滴生產器件；（圖34至36)煙道氣 440 (圖14)液滴噴流；（圖34至36)窯塵灰 450腔室 470 (圖21)氣體入口陣列 480爐渣 225 201105406 490波特蘭水泥 500 (圖22)内旋進給件；（圖34至36)前鍛燒爐 510 (圖22)螺旋路徑；（圖34至36)窯 520靜電沈澱器 540 (圖22)氣體入口陣列；（圖34至36)風扇 550濕洗機 560煙囪 570儲倉 571添加物 572回收槽 580球磨機 590水泥儲倉 600 (圖23)内旋進給件；（圖34至36)掩埋場 610螺旋路徑 620海水 625驗 630反應器 631漿料 640泵浦 650乾燥站 651水 660水泥質材料 670 (圖23)氣體入口陣列；（圖35、36)已沈澱碳酸鹽 700内旋進給件 226 201105406 710螺旋路徑 740氣體入口陣列 802陰離子交換膜 804第一電解質 806第二電解質 808陽極 810陰極 812電壓或電流調節器 814第一電解質入口埠 816第二電解質入口埠 818第一電解質出口埠 820第二電解質出口埠 822導管 824陽離子交換膜 826第三入口埠 828第三出口埠 830第三電解質 1100系統 1101水源 1110反應器 1111催化劑 1112煙道氣 1113鼓泡器 1120導管 227 201105406 1121 C02氣體注入器 1122靜態混合機 1123 ΟΙΓ調變器 1130漿料產物 1140液固分離裝置 1210第一反應器 1220第二反應器 1230初始水 1240鎂離子源 1250煙道氣 1255煙道氣 1260攪拌器 1270導管 1280鼓泡器 1285鼓泡器 1290 pH值提升劑 1295攪拌器 1600線内監測器 1610稀釋液 1612可變流量控制閥 1621可變流量控制閥 1622 閥 1630稀釋歧管 1640電極 228 201105406 1650伏特計 1660控制器

Claims (1)

1. 201105406 七、申請專利範圍： 1. -種用於將-氣體之-成分#移至—液體内的裝置，該裝 置包括： 一氣體入口； 經配置用以接觸該液體及氣體的腔室； 一位於該腔室内一第一位置的第一導液單元及一位於 該腔室内-第二位置的第二導液單元，其中該等導液單元 經配置用以將該液體導入該腔室内以與該氣體接觸； 一經配置用以容納已接觸該氣體之液體的貯器； 一用於已接觸該氣體之液體的出口，其中該入口、該腔 室、該等導液單元、該貯器、及該出口係可操作地連接. 及 ， 下列特徵之至少一者： 1)該腔室内至少一陣列之分流棚列（shedrows)，其中該 等分流棚列經配置用以使該氣體在進入該腔室時重新分 布其流動致使該氣體相較於進入該腔室後、與該等分流棚 列互動之前的氣體流係沿該腔室軸向地流動於該腔室之 一更大橫截面區域上； ii) 一經配置用以減少該貯器内之發泡的消泡器件； 出）用於將該液體泵運通過該等導液單元之每個導液單 元至少一泵浦； iv) 該等導液單元之組態致使該液體離開該第一單元之 流動方向不同於該液體離開該第二單元之流動方向； v) —或多個限流孔機構（放洩閥）’其經配置用以將液 230 2〇11〇5406 流引導至該等導液單元之至少 等之-組合；A n 花體入口内、或其 勺變^科料元錢的區域，其中料導液單元 =產生喷_霧化單元，射至少1化單元經配 以產生-肖度Μ於其他霧化單元时霧。 之至少二 申請專利範圍第1項之裝置，其包括該等特徵 3^申請專利第2項之裝置，其包括該等特徵之至少 申請專利範㈣3項之裝置，其包括該等特徵之至少) 五 ^申請專補圍第4項之裝置，其包括該等魏之至少 申。月專利laJS第5項之裝置，其包括該等特徵之全部。 人第上至6項中任一項之裝置’其中該氣體 化石广接受工業廢氣、壓縮環境空氣、壓縮二氧 反、超L界二氧化碳、或以上之任何組合。 23】 201105406 8.如申請專利範圍第1至 g ^ ^ + 巾項之裝置，其中該氣體 ^括一工業廢氣、事先已從—業廢氣分離之二氧化碳、 或以上之任何組合。 9·如申請專利範圍第8項之萝罟，甘士# γ^ 碳、氧化氮及氧化硫之_1/=。其中錢體包括二氧化 1〇t申請糊制第1至9項中任—項之裝置，其中該第- ，=元係定位在該氣體人σ上方之最下層且經定向將該 =體流以-錢體流之方向大致共流的方向導入該腔室 門〇 腔室内。 _液_ 一與氣體:之置方=;== = 申請專=範圍第U項之聚置，其中該第—導液單元、該 第一導液單元或二者包括噴嘴。 13.=請專利範圍第12項之”，其中該等噴嘴包括雙流體 申請專利範_12項之心，其中料噴嘴包括喷射喷 0宵0 232 201105406 15. 如申請專利範圍第1至14項中任一項之裝置，其中該等泵 浦之至少一者係用一變頻驅動系控制。 16. 如申請專利範圍第10項之裝置，其中該消泡器件包括一安 置在該貯器上方的圓錐體。 17. 如申請專利範圍第10項之裝置，其中該消泡器件進一步包 括朝該圓錐體定向的液體喷頭。 18. 如申請專利範圍第10項之裝置，其進一步包括一經配置用 以將該液體從該貯器導往該等導液單元之一或多者的液體 再循環迴路。 19. 如申請專利範圍第10或18項之裝置，其進一步包括一在 該氣體離開該接觸室之前的除霧層。 20. 如申請專利範圍第19項之裝置，其中該除霧層包括一人字 形除霧器、平射喷頭、一濕式靜電沈澱器、一填充床、或 以上之任何組合。 21. 如申請專利範圍第19項之裝置，其中提供給該除霧層之液 體包括一不同於提供給該等導液單元之液體的溶液。 233 201105406 22. 如申請專利範圍第21項之裝置，其中提供給該等導液單元 每一者的液體包括一不同溶液。 23. 如申請專利範圍第21項之裝置，其中提供給該除霧層之液 體係一清澄液體。 24. 如申請專利範圍第21項之裝置，其中提供給該等導液單元 之液體包括一漿料。 25. 如申請專利範圍第24項之裝置，其進一步包括一粉碎站， 該粉碎站經配置以接受來自該貯器之漿料並提供經處理的 漿料給該等導液單元。 26. 如申請專利範圍第25項之裝置，其中該再循環迴路包括該 粉碎站。 27. 如申請專利範圍第1至26項中任一項之裝置，其中該貯器 被定位在位於該接觸室底部之該等喷嘴的下方。 28. 如申請專利範圍第1至26項中任一項之裝置，其進一步包 括一可操作地連接至該接觸室的沈澱槽。 2 9.如申請專利範圍第2 8項之裝置，其中該沈澱槽包括溫度控 制器、用於添加pH調整劑的入口、攪拌器、用於晶體生 234 201105406 長劑的入口、用於晶體播種劑的入口、用於沈降劑的入口、 用於凝聚劑的入口、或以上之任何組合。 3〇·如申請專利範圍第29項之裝置，其進—步包括—可操作地 連接至該沈澱槽的沈澱物出口。 31.如申請專職圍第3G項之裝置，其中該沈㈣出口收集-固體沈殿物及一上澄溶液。 士申《月專矛Jfe圍第31項之裝置，其中該沈殿物出口分離固 體沈澱物與該上澄溶液。 利範圍第32項之裝置，其進一步包括一導管以提 供该固體沈澱物至一建築材料製造站。 34t申請專利範圍第33項之裝置，其中該氣體入口經配置以 接受一來自一工廠的廢氣。 申，利範圍第34項之裳置，其中該氣體人口經配置以 接受-來自-燃燒化石燃料之工廠的煙道氣。 圍第35項之裳置，其中該氣體人口經配置以 2 燃:燒化石轉之卫廠的煙道氣，進-步其中 趣道氣在被提供至該装置之氣體入口之前已通過1排放 235 201105406 控制系統。 37. 如申請專利範圍第36項之裝置，其中該排放控制系統包括 以下之一或多者： i) 用於收集微粒物質之靜電沈澱器； ii) SOx控制技術； iii) NOx控制技術； iv) 用以收集微粒物質之物理過濾、技術； v) 汞控制技術。 38. 如申請專利範圍第7項之裝置，其中該等霧化單元之喷頭 包括該接觸室之壁附近60°之喷頭及在該接觸室之内橫截 面中90°之喷頭。 39. 如申請專利範圍第7項之裝置，其中該氣體越過該等分流 棚列之流動係垂直的。 40. 如申請專利範圍第7項之裝置，其進一步在該腔室内包括 填充材料、托盤、一填充床、或以上之任何組合。 41. 如申請專利範圍第40項之裝置，其進一步在該腔室内包括 至少一膜或一多微孔膜。 42. —種裝置，其包括： 236 201105406 器 包含'一氣泡幸主的吸收 —用於*Ί氣體且可操作地連接至該 口，其中紅錢體包含數量等於—相平均原始^八 =C〇2、SOx、N〇x、重金屬、非叫酸性氣體、及 -用於一吸收性溶液的入口，其中該吸收性溶 包含鹽水麟性溶液、微粒物料在—吸收性聚料内二 者； 〈二 二用於-流出氣體的出口’該氣體特徵在於其相對 工業氣體之該原始組合物經耗盡c〇2以及SQx、Η%、、= 金屬、非C02酸性氣體、及/或飛灰之至少一者， 出:可操作地連接至該吸收器； 、中该 、一用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可 連接至該吸收器的出口；及 ’、也 :可操作地連接至輸出琿的處理站，其中該處理站 置用以獲取下列可販售產物之至少—者：—包括己 封存成分的建築材料，一脫鹽水， 一飲用水，一包括— 1封存成》的聚料，或___包括__ CQ2封存成分的溶液， 二中該氣泡柱經配置用以在該吸收性溶液内生產該， ，氣體之氣泡致使該工業氣體中之二氧化碳的至少 里％被轉移至該吸收性溶液。 一種裝置，其包括： 一包括一鼓泡容器的吸收器； 237 43. 201105406 一用於一工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入 口，其中該工業氣體包括數量等於一時間平均原始組合物 的C02、SOx、NOx、重金屬、非C02酸性氣體、及/或飛 灰； 一用於一吸收性溶液的入口，其中該吸收性溶液包括一 包括鹽水的鹼性溶液、微粒物質或在一吸收性漿料内之二 者； 一用於一流出氣體的出口，該氣體特徵在於其相對於該 工業氣體之該原始組合物經耗盡C〇2以及SOx、NOx、重 金屬、非C02酸性氣體、及/或飛灰之至少一者，其中該 出口可操作地連接至該吸收器； 一用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地 連接至該吸收器的出口；及 一可操作地連接至輸出埠的處理站，其中該處理站經配 置用以獲取下列可販售產物之至少一者：一包括一 C02 封存成分的建築材料，一脫鹽水，一飲用水，一包括一 co2封存成分的漿料，或一包括一 co2封存成分的溶液， 其中該鼓泡容器經配置用以在該吸收性溶液内生產該 工業氣體之氣泡致使該工業氣體中之二氧化碳的至少10 重量％被轉移至該吸收性溶液。 44.一種裝置，其包括： 一包含一喷灑塔的吸收器； 一用於一工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入 238 201105406 口，其中S亥工業氣體包含數量等於一時間平均原始組合物 的C〇2、SOx、NOx、重金屬、非c〇2酸性氣體、及/或飛 灰； 一用於一吸收性溶液的入口，其中該吸收性溶液包含一 鹼性溶液、微粒物質或在一吸收性漿料内之二者； 一用於一流出氣體的出口’該氣體特徵在於其相對於該 工業氣體之該原始組合物經耗盡C02以及SOx、NOx、重 金屬、非C02酸性氣體、及/或飛灰之至少一者，其中該 出口可操作地連接至該吸收器； 一用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地 連接至該吸收器的出口；及 一可操作地連接至輸出埠的處理站，其中該處理站經配 置用以獲取下列可販售產物之至少一者：一包括一 co2 封存成分的建築材料，一脫鹽水，一飲用水，一包括一 C02封存成分的漿料，或一包括一 C〇2封存成分的溶液， 其中該喷灑塔經配置用以在該工業氣體中生產該吸收 性溶液之喷流、液滴或二者之一組合致使該工業氣體中之 二氧化碳的至少10重量％被轉移至該吸收性溶液，進一 步其中該噴灑塔經配置用以在一介於50與5,000加侖每分 /1000實際立方英尺的液體流率對氣體流率比（L/G比） 操作。 45. —種裝置，其包括： 一吸收器，其包括一喷灑塔、填充材料、一填充床、托 239 201105406 盤、分流棚列、或一多微孔膜之至少一者； 用於一工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入 二J中該工業氣體包含數量等於一時間平均原始組合物 、s〇x、NOX、重金屬、非c〇2酸性氣體、及/或飛 =於—吸收性溶液的人σ ’其中該讀性溶液包含一 谷液、微粒物質或在一吸收性漿料内之二者； ::於一流出氣體的出口，該氣體特徵在於其相對於該 麗軋體之該原始組合物經耗盡c〇2以及s〇x、Ν〇χ、重 、’、非c〇2酸性氣體、及/或飛灰之至少一者，直中該 出口可操作地連接线吸收II ; '、 用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地 連接至該吸收器的出口；及 可操作地連接至輸出埠的處理站 ，其中該處理站經配 置用以獲取下列可販售產物之至少一者：一包括一 co2 封存成刀的建築材料’ 一脫鹽水，一飲用水，一包括一 C02封存成分的漿料，或一包括一 C02封存成分的溶液， 其中該吸收器經配置用以在該工業氣體中生產該吸收 性溶浪之喷流、液滴或二者之一組合致使該工業氣體中之 二氧化破的至少10重量％被轉移至該吸收性溶液’進一 步其中該吸收器經配置用以在一介於50與5,000加侖每分 /1000實際立方英尺的液體流率對氣體流率比（L/G比） 操作° 240 201105406 46. —種裝置，其包括： 一吸收器’其包括一喷灑塔、填充材料、一填充床、托 盤、分流棚列、或一多微孔膜之至少一者； 一用於一工業氣體且可操作地連接至該吸收器的 口，其中該工業氣體包含數量等於一時間平均原始組合物 的C〇2、SOx、NOx、重金屬、非C〇2酸性氣體、及/或 灰； 用於一吸收性溶液的入口，其中該吸收性溶液包含一 驗性溶液、微粒物質或在一吸收性聚料内之二者，其中該 驗性溶液包括—鹽水、—清澄溶液、或二者之-組合； :用於-流出氣體的出口，該氣體特徵在於其相對於該 =f乳體之該原始組合物經耗盡C02以及Sqx、N0x、重 中口 ^ C〇2酸生氣體、及/或飛灰之至少一者，其中該 出一可麵作地連接至該吸收器； 連接觸之吸收性溶液且可操作地 置用連接至輸出谭的處理站’其中該處理站經配 封存成販售產物之至少一者：一包括一 c〇2 卞存成刀的建築材一 C〇2封存成分的^飲用水，—包括一 其中該吸收。或一0括一 C〇2封存成分的溶液， 性溶液之嗜、、*㈣配置用以在該工業氣體中生產該吸收 二氧化破的^、液滴或二者之—組合致使該卫業氣體中之 夕10重量％被轉移至該吸收性溶液。 241 201105406 47. —種裝置，其包括： 一吸收器，其包括一喷灑塔、填充材料、一填充床、托 盤、分流棚列、或一多微孔膜之至少一者； 一用於一工業氣體且可操作地連接至該吸收器的入 口，其中該工業氣體包含數量等於一時間平均原始組合物 的C02、SOx、NOx、重金屬、非C02酸性氣體、及/或飛 灰； 一用於一吸收性溶液的入口，其中該吸收性溶液包含一 鹼性溶液、微粒物質或在一吸收性漿料内之二者，其中該 驗性溶液包括一鹽水； 一用於一流出氣體的出口，該氣體特徵在於其相對於該 工業氣體之該原始組合物經耗盡C02以及SOx、NOx、重 金屬、非C02酸性氣體、及/或飛灰之至少一者，其中該 出口可操作地連接至該吸收器； 一用於已與該工業氣體接觸之吸收性溶液且可操作地 連接至該吸收器的出口；及 一可操作地連接至輸出埠的處理站，其中該處理站經配 置用以獲取一可販售產物， 其中該吸收器經配置用以在該工業氣體中生產該吸收 性溶液之喷流、液滴或二者之一組合致使該工業氣體中之 二氧化碳的至少10重量％被轉移至該吸收性溶液。 48. 如申請專利範圍第42至47項中任一項之裝置，其中用於 一工業氣體的該入口經配置用以接受工業廢氣、燃燒煙道 242 201105406 氣、水泥窯煙道氣、壓 以上之任何組合。 縮二氧化碳、超臨界二氧化碳、 或 49,如申請專利範圍第仆項之 業氣體接觸致使該吸收性溶液以液滴性溶液與該工 流、液體灘流、中性上浮 、、、曰机、液柱、喷射 予/合液雲、或以上之任何Μ合呈現。 5〇.如申請專利範圍第49項之裝置，其進 霧=件，其包括··壓力噴霧器（噴嘴），旋轉包ΐ 益，微機電系統喷霧器，靜 哭霧:、喷墨式喷霧 排茂喷嘴，或以上之任何組合。、’又流體喷霧器’ 51. 如申請專利範圍第48 包括海水、—驗性蜂之一裝^^中吸收性溶液中的鹽水 水，一工業廢皮Γ 虽離子的鹽水’一合成鹽 /、7 ’-工業廢鹽水，或以上之任何組合。 52. 如申請專利範圍第42 包括一再循環系統。項中任—項之裝置，其進一步 53tl=圍第:2項之裂置，其中該再循環系統包括導 與該工業氣業氣體接觸的吸收性溶液從用於已 者移到用於吸收性.、容溶液的該出口、該處理站或二 奋液的該入口、該等霧化組件、或以上 243 201105406 之任何組合。 5 4. 士〇由玄軎直夺丨1雜㈤綠_ ~ . li上m

   至一動力廠的排放控制系統，其中該動 包含二氧化碳的工業廢氣，其中該排放 55.—種可操作地連接至 力廠生產能量及 控制系統經配置用以從該廢氣吸收至少5G%之二氧化碳 且經配置使用少於該動力廠產生之能量的30%。 56. —種可操作地連接至一動力廠的排放控制系統，其中該動 力廠生產能量及一包含硫氧化物的工業廢氣，其中該排放 控制系統經配置用以從該廢氣吸收至少90%之硫氧化物 且經配置使用少於該動力廠產生之能量的30%。 57. —種可操作地連接至一動力廠的排放控制系統，其中該動 力廠生產能量及一包含二氧化碳和氧化硫的工業廢氣，其 中該排放控制系統經配置用以從該廢氣吸收至少50%之 二氧化碳及至少80%之氧化硫，且其中該排放控制系統進 一步經配置使用少於該動力廠產生之能量的30%。 58. 如申請專利範圍第55至57項中任一項之排放控制系統， 244 201105406 其中該排放控制系統經配置用以從該動力廠接受該工業廢 氣之至少10%。 59. 如申請專利範圍第55至58項中任一項之排放控制系統， 其中該排放控制系統經配置用以從一經配置生產一苛性鹼 溶液的電化學系統接受一鹼性溶液。 60. 如申睛專利範圍第59項之排放控制系統，其中該電化學系 統包括一陽極、一陰極、及在該陽極與陰極之間的至少一 個離子選擇膜。 61.如申請專利範圍第6〇項之排放控制系統，其中該電化學系 統經配置用以在橫跨該陽極與該陰極施加之—28 v或更 低的電壓操作。 6=申請專利範圍第55至61項中任一項之排放控制系統， 其中該排放控制系統經配置用以接受一 pH調整劑，其中 -玄pH §周整劑包括一工業廢料一自然發生阳調整劑、一 產製pH調整劑、或以上之任何組合。 63.^請專利範圍第55至62項中任-項之排放控制系統， :中該排放控制系統經配置用以在—介於5與5加余 ，刀/1GGG實際立方英尺每分的液體流率對氣體流率比 C L/G比）操作。 245 201105406 6 4.如申請專利範圍第6 3項之排放控制系統，其中該系統經配 置用以在一介於100與500加侖每分/1000實際立方英尺 每分的液體流率對氣體流率比（L/G比）操作。 246