JPWO2016017801A1 - 樹脂パウダー、その製造方法、複合体、成形体、セラミックス成形体の製造方法、金属積層板、プリント基板及びプリプレグ - Google Patents
樹脂パウダー、その製造方法、複合体、成形体、セラミックス成形体の製造方法、金属積層板、プリント基板及びプリプレグ Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2016017801A1 JPWO2016017801A1 JP2016538464A JP2016538464A JPWO2016017801A1 JP WO2016017801 A1 JPWO2016017801 A1 JP WO2016017801A1 JP 2016538464 A JP2016538464 A JP 2016538464A JP 2016538464 A JP2016538464 A JP 2016538464A JP WO2016017801 A1 JPWO2016017801 A1 JP WO2016017801A1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin
- resin powder
- unit
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 327
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 327
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 201
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 96
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 91
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 91
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 88
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 37
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 193
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 145
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 60
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims abstract description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims abstract description 37
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 37
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 37
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 30
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 15
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 123
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 118
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 116
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 85
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 62
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 50
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 43
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 42
- -1 perfluoro Chemical group 0.000 claims description 32
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 31
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 claims description 29
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 29
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 claims description 21
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 21
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 21
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 13
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims description 12
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 11
- 239000012787 coverlay film Substances 0.000 claims description 10
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 8
- 125000005067 haloformyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005587 carbonate group Chemical group 0.000 claims description 5
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 59
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 31
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 27
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 22
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 10
- 150000008065 acid anhydrides Chemical group 0.000 description 9
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N acetic acid anhydride Natural products CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 7
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 7
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 5
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 4
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 4
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 4
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 4
- UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)C(F)(F)Cl UJIGKESMIPTWJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 5-(2,4-dioxooxolan-3-yl)-7-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical class C1C(C(OC2=O)=O)C2C(C)=CC1C1C(=O)COC1=O FVCSARBUZVPSQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 3
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 3
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 3
- KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-(1,2,2-trifluoroethenoxy)propane Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000299 Nylon 12 Polymers 0.000 description 2
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004918 carbon fiber reinforced polymer Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical compound FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N ethyl isocyanate Chemical compound CCN=C=O WUDNUHPRLBTKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C(C)(C)C HGXJDMCMYLEZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylcyclohexyl) (4-tert-butylcyclohexyl)oxycarbonyloxy carbonate Chemical compound C1CC(C(C)(C)C)CCC1OC(=O)OOC(=O)OC1CCC(C(C)(C)C)CC1 NOBYOEQUFMGXBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-methoxybutane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F OKIYQFLILPKULA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKIMETXDACNTIE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecafluorocyclohexane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F RKIMETXDACNTIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWMJXZJISGDARB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluorocyclopentane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F PWMJXZJISGDARB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoro-1-(2,2,2-trifluoroethoxy)ethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)OCC(F)(F)F CWIFAKBLLXGZIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUTIIYKOQPDNEV-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutanoyl 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutaneperoxoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(=O)OOC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JUTIIYKOQPDNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 2-$l^{1}-oxidanyloxy-2-methylpropane Chemical group CC(C)(C)O[O] YKTNISGZEGZHIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFJVDJWCXSPUBY-UHFFFAOYSA-N 2-(difluoromethylidene)-4,4,5-trifluoro-5-(trifluoromethyl)-1,3-dioxolane Chemical compound FC(F)=C1OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)O1 RFJVDJWCXSPUBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxirane Chemical compound C=COCC1CO1 JJRUAPNVLBABCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)butane-1,4-diol Chemical group OCCC(CO)CO SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(=O)C(C)C RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 826-62-0 Chemical compound C1C2C3C(=O)OC(=O)C3C1C=C2 KNDQHSIWLOJIGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000168525 Croton tiglium Species 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000467686 Eschscholzia lobbii Species 0.000 description 1
- 229920006358 Fluon Polymers 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920000305 Nylon 6,10 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004113 Sepiolite Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N [C].[C] Chemical group [C].[C] IUHFWCGCSVTMPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;bis(4-fluorophenyl)methanone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1.C1=CC(F)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(F)C=C1 JUPQTSLXMOCDHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C=CC1C(C(=O)O)C2C(O)=O NIDNOXCRFUCAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000005827 chlorofluoro hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004643 cyanate ester Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A dialuminum;hexamagnesium;carbonate;hexadecahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[Al+3].[Al+3].[O-]C([O-])=O GDVKFRBCXAPAQJ-UHFFFAOYSA-A 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N ethenyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC=C IYNRVIKPUTZSOR-HWKANZROSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N ethylenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C2=C1C(=O)OC2=O GBASTSRAHRGUAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006248 expandable polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 125000005313 fatty acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000008570 general process Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910001701 hydrotalcite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001545 hydrotalcite Drugs 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 235000000396 iron Nutrition 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000010299 mechanically pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229940104873 methyl perfluorobutyl ether Drugs 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N octafluorocyclobutane Chemical compound FC1(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F BCCOBQSFUDVTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019407 octafluorocyclobutane Nutrition 0.000 description 1
- SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N octanoyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCC SRSFOMHQIATOFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229960004692 perflenapent Drugs 0.000 description 1
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N perfluoropentane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NJCBUSHGCBERSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 125000005634 peroxydicarbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000011120 plywood Substances 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RGBXDEHYFWDBKD-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxy carbonate Chemical compound CC(C)OOC(=O)OC(C)C RGBXDEHYFWDBKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011802 pulverized particle Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012783 reinforcing fiber Substances 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000010079 rubber tapping Methods 0.000 description 1
- 229920006012 semi-aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052624 sepiolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019355 sepiolite Nutrition 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- PFBLRDXPNUJYJM-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(C)(C)C PFBLRDXPNUJYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000009823 thermal lamination Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/12—Powdering or granulating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/18—Layered products comprising a layer of metal comprising iron or steel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
- B32B15/20—Layered products comprising a layer of metal comprising aluminium or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/281—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/285—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/322—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising halogenated polyolefins, e.g. PTFE
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B5/00—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts
- B32B5/16—Layered products characterised by the non- homogeneity or physical structure, i.e. comprising a fibrous, filamentary, particulate or foam layer; Layered products characterised by having a layer differing constitutionally or physically in different parts characterised by features of a layer formed of particles, e.g. chips, powder or granules
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/04—Interconnection of layers
- B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/005—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising one layer of ceramic material, e.g. porcelain, ceramic tile
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
- B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B9/041—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/04—Reinforcing macromolecular compounds with loose or coherent fibrous material
- C08J5/10—Reinforcing macromolecular compounds with loose or coherent fibrous material characterised by the additives used in the polymer mixture
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/241—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
- C08J5/243—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using carbon fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L23/26—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers modified by chemical after-treatment
- C08L23/28—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers modified by chemical after-treatment by reaction with halogens or compounds containing halogen
- C08L23/283—Halogenated homo- or copolymers of iso-olefins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/18—Homopolymers or copolymers or tetrafluoroethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
- H05K1/0373—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0011—Working of insulating substrates or insulating layers
- H05K3/0014—Shaping of the substrate, e.g. by moulding
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2250/00—Layers arrangement
- B32B2250/44—Number of layers variable across the laminate
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2260/00—Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/02—Composition of the impregnated, bonded or embedded layer
- B32B2260/021—Fibrous or filamentary layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2260/00—Layered product comprising an impregnated, embedded, or bonded layer wherein the layer comprises an impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/04—Impregnation, embedding, or binder material
- B32B2260/046—Synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2262/00—Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
- B32B2262/02—Synthetic macromolecular fibres
- B32B2262/0261—Polyamide fibres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2262/00—Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
- B32B2262/10—Inorganic fibres
- B32B2262/101—Glass fibres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2262/00—Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
- B32B2262/10—Inorganic fibres
- B32B2262/106—Carbon fibres, e.g. graphite fibres
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/50—Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/70—Other properties
- B32B2307/714—Inert, i.e. inert to chemical degradation, corrosion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2457/00—Electrical equipment
- B32B2457/08—PCBs, i.e. printed circuit boards
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2605/00—Vehicles
- B32B2605/08—Cars
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2605/00—Vehicles
- B32B2605/18—Aircraft
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/26—Tetrafluoroethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/26—Tetrafluoroethene
- C08F214/262—Tetrafluoroethene with fluorinated vinyl ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2327/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/22—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2427/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2427/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2427/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2427/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/01—Dielectrics
- H05K2201/0137—Materials
- H05K2201/015—Fluoropolymer, e.g. polytetrafluoroethylene [PTFE]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/02—Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
- H05K2201/0203—Fillers and particles
- H05K2201/0206—Materials
- H05K2201/0209—Inorganic, non-metallic particles
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
Abstract
Description
最近では、プリント基板に、高周帯域の周波数に対応する優れた電気的特性(低誘電率等)や、ハンダ作業に耐え得る優れた耐熱性等が求められている。中でも電気特性の向上が求められている。
特許文献1では、市販のポリテトラフルオロエチレン(以下、「PTFE」ともいう。)の粉末をハンマーミルで粉砕してフルオロポリマー微細粉末を作製している。
(1)平均粒径100μm以上の樹脂粒子(A)に機械的粉砕処理を施し、平均粒径0.02〜50μmの樹脂パウダーを得る方法であって、
前記樹脂粒子(A)が、下記含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなることを特徴とする樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1):カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。
(2)前記含フッ素共重合体(X1)が、下記含フッ素共重合体(X1−1)である、上記(1)に記載の樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1−1):前記単位(1)と、前記単位(2)と、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位(3−1)とを有し、
全単位の合計に対する前記単位(1)の割合が0.01〜3モル%であり、前記単位(2)の割合が90〜99.89モル%であり、前記単位(3−1)の割合が0.1〜9.99モル%であり、
融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。
(3)前記含フッ素共重合体(X1)が、下記含フッ素共重合体(X1−2)である、上記(1)に記載の樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1−2):前記単位(1)と、前記単位(2)と、ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位(3−2)とを有し、
全単位の合計に対する前記単位(1)の割合が0.01〜3モル%であり、前記単位(2)の割合が90〜99.89モル%であり、前記単位(3−2)の割合が0.1〜9.99モル%であり、
融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。
前記カルボニル基含有基が、炭化水素基の炭素原子間にカルボニル基を有してなる基、カーボネート基、カルボキシ基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基及び酸無水物残基からなる群から選択される少なくとも1種である、上記(1)〜(3)のいずれかに記載の樹脂パウダーの製造方法。
(5)前記樹脂パウダーの平均粒径が0.02〜10μmである、上記(1)〜(4)のいずれかに記載の樹脂パウダーの製造方法。
(6)前記樹脂パウダーの平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が8μm以下である、上記(1)〜(5)のいずれかに記載の樹脂パウダーの製造方法。
(7)前記機械的粉砕処理が、前記樹脂粒子(A)を−40℃以下の温度に冷却した後に行われる、又はジェットミルを用いて行われる、上記(1)〜(6)のいずれかに記載の樹脂パウダーの製造方法。
(8)前記機械的粉砕処理が、ジェットミルを用いて行われる、上記(7)に記載の樹脂パウダーの製造方法。
(10)前記樹脂(C)が熱硬化性樹脂又は感光性樹脂である、上記(9)に記載の複合体の製造方法。
(11)前記樹脂(C)が熱硬化性樹脂であり、
前記熱硬化性樹脂が、ポリイミド及びエポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、上記(10)に記載の複合体の製造方法。
(12)比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて、周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である、上記(11)に記載の複合体の製造方法。
(13)プリント基板の層間絶縁膜、カバーレイフィルム及びソルダーレジストのうちの少なくとも1つを形成するために用いられる、上記(9)〜(12)のいずれかに記載の複合体の製造方法。
(15)上記(1)〜(6)のいずれかに記載の製造方法で樹脂パウダーを製造し、得られた樹脂パウダーとセラミックス粉体とを混合して混合物を得て、前記混合物を成形してセラミックス成形体を得る工程を含む、セラミックス成形体の製造方法。
(16)上記(14)に記載の製造方法で成形体を製造し、得られた成形体からなる基板の片面又は両面に、金属層を積層する金属積層板の製造方法。
(17)上記(16)に記載の製造方法で金属積層板を製造し、得られた金属積層板の前記金属層をエッチングしてパターン回路を形成するプリント基板の製造方法。
(18)上記(1)〜(6)のいずれかに記載の製造方法で樹脂パウダーを製造し、得られた樹脂パウダーを含む熱硬化性樹脂組成物及び樹脂パウダーを含む熱可塑性樹脂組成物からなる群から選ばれる少なくとも一種を繊維基材に含浸させるプリプレグの製造方法。
(19)耐熱性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、上記(9)に記載の製造方法で得られた複合体からなる層を積層する接着フィルムの製造方法であって、
前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記接着フィルムの比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である接着フィルムの製造方法。
(21)耐熱性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体からなる層が積層されている接着フィルムであって、
前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記接着フィルムの比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である接着フィルム。
(22)上記(21)に記載の接着フィルムの複合体からなる層の少なくとも1つの層上に、直接積層した金属層を有する金属積層板。
(23)プリント基板の層間絶縁膜、カバーレイフィルム及びソルダーレジストのうちの少なくとも1つを形成するために用いられる複合体であって、
該複合体は含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体であって、前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記複合体の比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である複合体。
該硬化性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂組成物からなる群から選ばれる少なくとも一種は、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが、樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体であり、前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記該硬化性樹脂組成物及び/又は熱可塑性樹脂組成物の比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5であるプレプリグ。
(25)上記(24)に記載のプレプリグの片面又は両面に積層した金属層を備える金属積層板。
「比誘電率」は、SPDR(スピリットポスト誘電体共振器)法により、23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて、周波数2.5GHzで測定される値である。
「単位」は、単量体が重合することによって形成された、該単量体に由来する単位を示す。単位は、重合反応によって直接形成された単位であってもよく、重合反応によって得られた重合体を処理することによって該単位の一部が別の構造に変換された単位であってもよい。
「単量体」とは、重合性炭素−炭素二重結合等の重合性不飽和結合を有する化合物である。
「カルボニル基含有基」とは、構造中にカルボニル基(−C(=O)−)を含む基である。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間に1個存在する酸素原子(−C−O−C−)である。
「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基である。「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基である。
「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
本発明の樹脂パウダーの製造方法では、平均粒径100μm以上の樹脂粒子(A)に、機械的粉砕処理を施す工程(以下、「粉砕工程」ともいう。)を経て、平均粒径0.02〜50μmの樹脂パウダー(以下、「樹脂パウダー(B)」ともいう。)を得る。
本発明の製造方法は、粉砕工程の後、粉砕工程で得られた粉砕物を分級する工程(以下、「分級工程」ともいう。)を含んでもよい。
樹脂粒子(A)は、材料(X)からなる。
材料(X)は、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする。
材料(X)が「含フッ素共重合体(X1)を主成分とする」とは、材料(X)の全量(100質量%)に対する含フッ素共重合体(X1)の割合が、80質量%以上であることを意味する。材料(X)の全量(100質量%)に対する含フッ素共重合体(X1)の割合は、85質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、100質量%が特に好ましい。含フッ素共重合体(X1)が主成分であれば、樹脂パウダー(B)として嵩密度の大きいものが得られる。樹脂パウダー(B)の嵩密度が大きいほど、ハンドリング性が優れる。
材料(X)に含まれる含フッ素共重合体(X1)は1種でも2種以上でもよい。
材料(X)は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、含フッ素共重合体(X1)以外の他の樹脂(X2)をさらに含んでもよい。
含フッ素共重合体(X1)は、下記単位(1)と、下記単位(2)とを有する。必要に応じて、単位(1)及び単位(2)以外の他の単位をさらに有してもよい。
カルボニル基含有基としては、構造中にカルボニル基を含む基であれば特に制限はなく、例えば、炭化水素基の炭素原子間にカルボニル基を有してなる基、カーボネート基、カルボキシ基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基、酸無水物残基、ポリフルオロアルコキシカルボニル基、脂肪酸残基等が挙げられる。
上記のうち、機械粉砕性向上、金属との接着性向上の点で、炭化水素基の炭素原子間にカルボニル基を有してなる基、カーボネート基、カルボキシ基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基及び酸無水物残基からなる群から選択される少なくとも1種が好ましく、カルボキシ基及び酸無水物残基のいずれか一方又は両方がより好ましい。
ハロホルミル基は、−C(=O)−X(ただしXはハロゲン原子である。)で表される。ハロホルミル基におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。すなわち、ハロホルミル基としてはフルオロホルミル基(カルボニルフルオリド基ともいう。)が好ましい。
アルコキシカルボニル基におけるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐状でもよく、炭素数1〜8のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基が特に好ましい。
単量体(m1)が有する官能基(i)は1個でも2個以上でもよい。2個以上の官能基(i)を有する場合、該2個以上の官能基(i)は、それぞれ同じでもよく、異なってもよい。
単量体(m1)としては、官能基(i)を1つ有し、重合性二重結合を1つ有する化合物が好ましい。
単量体(m12)としては、イタコン酸、シトラコン酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸;アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和モノカルボン酸等が挙げられる。
ビニルエステルとしては、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、ブタン酸ビニル、ピバル酸ビニル、安息香酸ビニル、クロトン酸ビニル等が挙げられる。
(メタ)アクリレートとしては、(ポリフルオロアルキル)アクリレート、(ポリフルオロアルキル)メタクリレート等が挙げられる。
エポキシ基を含む単量体としては、例えば、不飽和グリシジルエーテル類(例えば、アリルグリシジルエーテル、2−メチルアリルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテル等。)、不飽和グリシジルエステル類(例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル等。)等が挙げられる。
イソシアネート基を含む単量体としては、例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エチルイソシアネート、1,1−ビス((メタ)アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート等のイソシアネート基を有する不飽和単量体等が挙げられる。
単位(1)は、機械粉砕性向上、金属との接着性向上の点から、官能基(i)として少なくともカルボニル基含有基を有することが好ましい。したがって、単量体(m1)は、カルボニル基含有基を含む単量体を含むことが好ましい。
カルボニル基含有基を含む単量体としては、熱安定性、金属との接着性向上の点から、単量体(m11)が好ましい。中でも、IAH、CAH、及びNAHからなる群から選ばれる少なくとも1種が特に好ましい。IAH、CAH、及びNAHからなる群から選ばれる少なくとも1種を用いると、無水マレイン酸を用いた場合に必要となる特殊な重合方法(日本特開平11−193312号公報参照。)を用いることなく、酸無水物残基を含有する含フッ素共重合体を容易に製造できる。
IAH、CAH、及びNAHのなかでは、樹脂パウダー(B)と複合体を形成する他の樹脂(C)(ポリイミド等)との間の密着性がより優れる点から、NAHが好ましい。
単位(1)及び単位(2)以外の他の単位としては、例えば後述する単位(3−1)、単位(3−2)、単位(4)等が挙げられる。
含フッ素共重合体(X1)としては、下記含フッ素共重合体(X1−1)、含フッ素共重合体(X1−2)等が好ましく、含フッ素共重合体(X1−1)が特に好ましい。
含フッ素共重合体(X1−1)は、前記単位(1)と、前記単位(2)と、下記単位(3−1)とを有する。必要に応じて、下記単位(3−2)及び/又は単位(4)をさらに有してもよい。
PAVEとしては、例えば、CF2=CFORf2(ただし、Rf2は、エーテル性酸素原子を含んでもよい炭素数1〜10のペルフルオロアルキル基である。)が挙げられる。
Rf2におけるペルフルオロアルキル基は、直鎖状でもよく分岐状でもよい。Rf2の炭素数は1〜3が好ましい。
CF2=CFORf2としては、CF2=CFOCF3、CF2=CFOCF2CF3、CF2=CFOCF2CF2CF3、CF2=CFOCF2CF2CF2CF3、CF2=CFO(CF2)8F等が挙げられ、CF2=CFOCF2CF2CF3(以下、「PPVE」ともいう。)が好ましい。
PAVEは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
他の単量体としては、含フッ素単量体(ただし、単量体(m1)、TFE、PAVE及びHFPを除く。)(以下、「単量体(m41)」ともいう。)、非含フッ素単量体(ただし、単量体(m1)を除く。)(以下、「単量体(m42)」ともいう。)等が挙げられる。
CH2=CX4(CF2)qX5としては、CH2=CH(CF2)2F、CH2=CH(CF2)3F、CH2=CH(CF2)4F、CH2=CF(CF2)3H、CH2=CF(CF2)4H等が挙げられ、CH2=CH(CF2)4F、又はCH2=CH(CF2)2Fが好ましい。
単量体(m42)としては、エチレン又はプロピレンが好ましく、エチレンが特に好ましい。
含フッ素共重合体(X1−1)としては、カルボニル基含有基を含む単量体に基づく単位と、単位(2)と、単位(3−1)とを有する共重合体が好ましく、単量体(m11)に基づく単位と、単位(2)と、単位(3−1)とを有する共重合体が特に好ましい。
含フッ素共重合体(X1−1)の好ましい具体例としては、TFE/PPVE/NAH共重合体、TFE/PPVE/IAH共重合体、TFE/PPVE/CAH共重合体等が挙げられる。
含フッ素共重合体(X1−1)を構成する全単位の合計(100モル%)に対する単位(1)の割合は、0.01〜3モル%であり、0.03〜2モル%が好ましく、0.05〜1モル%が特に好ましい。単位(1)の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、樹脂粒子(A)の機械的粉砕により得られる樹脂パウダー(B)の嵩密度が、含フッ素共重合体(X1−1)以外のPFAを主成分とする同じ平均粒径の樹脂粒子を、同じ条件で粉砕した場合に比べて、大きくなる傾向がある。また、樹脂パウダー(B)と複合体を形成する他の樹脂(C)との間の密着性、該複合体と他材料(金属等)とを積層して得られる積層体(金属積層板等)の層間密着性が良好である。単位(1)の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、含フッ素共重合体(X1−1)の耐熱性や色目等が良好である。
含フッ素共重合体(X1−1)中の全単位の合計に対する、単位(1)、(2)、及び(3−1)の合計の割合は、90モル%以上が好ましく、95モル%以上がより好ましく、98モル%以上がさらに好ましい。該割合の上限は特に限定されず、100モル%であってもよい。
含フッ素共重合体(X1−2)は、前記単位(1)と、前記単位(2)と、前記単位(3−2)とを有する。必要に応じて、前記単位(3−1)及び/又は前記単位(4)をさらに有してもよい。
含フッ素共重合体(X1−2)としては、カルボニル基含有基を含む単量体に基づく単位と、単位(2)と、単位(3−2)とを有する共重合体が好ましく、単量体(m11)に基づく単位と、単位(2)と、単位(3−2)とを有する共重合体が特に好ましい。
含フッ素共重合体(X1−2)を構成する全単位の合計(100モル%)に対する単位(1)の割合は0.01〜3モル%であり、0.02〜2モル%が好ましく、0.05〜1.5モル%が特に好ましい。単位(1)の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、樹脂粒子(A)の機械的粉砕により得られる樹脂パウダー(B)の嵩密度が、含フッ素共重合体(X1−2)以外のFEPを主成分とする同じ平均粒径の樹脂粒子を、同じ条件で粉砕した場合に比べて、大きくなる傾向がある。また、樹脂パウダー(B)と複合体を形成する他の樹脂(C)との間の密着性、該複合体と他材料(金属等)とを積層して得られる積層体(金属積層板等)の層間密着性が良好である。単位(1)の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、含フッ素共重合体(X1−2)の耐熱性や色目等が良好である。
含フッ素共重合体(X1−2)中の全単位の合計に対する単位(1)、(2)、及び(3−2)の合計の割合は、90モル%以上が好ましく、95モル%以上がより好ましく、98モル%以上がさらに好ましい。該割合の上限は特に限定されず、100モル%であってもよい。
含フッ素共重合体(X1)の融点は、当該含フッ素共重合体(X1)を構成する単位の種類や含有割合、分子量等によって調整できる。例えば、単位(2)の割合が多くなるほど、融点が上がる傾向がある。
MFRが上記範囲の下限値以上であると、含フッ素共重合体(X1)が成形加工性に優れ、樹脂パウダー(B)を含む複合体から形成された成形体が表面平滑性、外観に優れる。MFRが上記範囲の上限値以下であると、含フッ素共重合体(X1)が機械強度に優れ、樹脂パウダー(B)を含む複合体から形成された成形体が機械強度に優れる。
含フッ素共重合体(X1)の分子量、ひいてはMFRは、含フッ素共重合体(X1)の製造条件によって調整できる。例えば、単量体の重合時に重合時間を短縮すると、MFRが大きくなる傾向がある。
含フッ素共重合体(X1)の比誘電率は、単位(2)の含有量により調整できる。
含フッ素共重合体(X1)は、常法により製造できる。
含フッ素共重合体(X1)の製造方法としては、例えば、(α)単量体(m1)と、TFEと、必要に応じて、他の単量体(PAVE、FEP、それら以外の他の単量体等)とを重合させる方法が挙げられる。
該重合方法としては、塊状重合、フッ化炭化水素、塩化炭化水素、フッ化塩化炭化水素、アルコール、炭化水素等の有機溶媒を使用する溶液重合、水性媒体と、必要に応じて適当な有機溶剤とを使用する懸濁重合、水性媒体と乳化剤とを使用する乳化重合等が挙げられ、なかでも溶液重合が好ましい。
具体例としては、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物、イソブチリルペルオキシド、オクタノイルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド等の非フッ素系ジアシルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカ−ボネート等のペルオキシジカーボネート、tert−ブチルペルオキシピバレート、tert−ブチルペルオキシイソブチレート、tert−ブチルペルオキシアセテート等のペルオキシエステル、(Z(CF2)rCOO)2(ここで、Zは水素原子、フッ素原子又は塩素原子であり、rは1〜10の整数である。)で表される化合物等の含フッ素ジアシルペルオキシド、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等の無機過酸化物等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、メタノール、エタノール等のアルコール、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン等のクロロフルオロハイドロカーボン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン等のハイドロカーボン、酢酸、無水酢酸等の酢酸誘導体、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール等が挙げられる。
このようなラジカル重合開始剤としては、ジ−n−プロピルペルオキシジカーボネート、ジイソプロピルペルオキシカーボネート、t−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)ペルオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネートなどが挙げられ、連鎖移動剤としては、酢酸、無水酢酸、酢酸メチル、エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げられる。
ペルフルオロカーボンの具体例としては、ペルフルオロシクロブタン、ペルフルオロペンタン、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロシクロペンタン、ペルフルオロシクロヘキサン等が挙げられる。
ヒドロフルオロカーボンの具体例としては、1−ヒドロペルフルオロヘキサン等が挙げられる。
クロロヒドロフルオロカーボンの具体例としては、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
ヒドロフルオロエーテルの具体例としては、メチルペルフルオロブチルエーテル、2,2,2−トリフルオロエチル2,2,1,1−テトラフルオロエチルエーテル等が挙げられる。
単量体(m1)として単量体(m11)を用いる場合、重合中の単量体(m11)の濃度は、全単量体の合計に対して0.01〜5モル%が好ましく、0.1〜3モル%がより好ましく、0.1〜2モル%が最も好ましい。単量体(m11)の濃度が上記範囲内にあると、製造時の重合速度が適度である。単量体(m11)の濃度が高すぎると、重合速度が低下する傾向がある。
重合中、単量体(m11)が重合で消費されるに従って、消費された量を連続的又は断続的に重合槽内に供給し、該モノマーの濃度を上記範囲内に維持することが好ましい。
(β)熱により分解して官能基(i)を生成する官能基(以下、「官能基(ii)」ともいう。)を含む単位(以下、「単位(1A)」ともいう。)と、単位(2)とを有する含フッ素共重合体を加熱し、単位(1A)中の官能基(ii)を熱分解することで、官能基(i)(例えばカルボキシ基。)を生成させ、単位(1A)を単位(1)に変換して含フッ素共重合体(X1)を得る方法、
(γ)単位(2)を有する含フッ素共重合体に、官能基(i)を有する単量体をグラフト重合して含フッ素共重合体(X1)を得る方法、等が挙げられる。
樹脂(X2)は、含フッ素共重合体(X1)以外の他の樹脂である。
樹脂(X2)としては、電気的信頼性の特性を損なわない限り特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素共重合体(X1)以外の含フッ素共重合体、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、熱可塑性ポリイミド等が挙げられる。
含フッ素共重合体(X1)以外の含フッ素共重合体としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン/フルオロアルキルビニルエーテル共重合体(ただし、含フッ素共重合体(X1)を除く。)、テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレン共重合体(ただし、含フッ素共重合体(X1)を除く。)、エチレン/テトラフルオロエチレン共重合体等が挙げられる。これらは、1種単独で用いても、2種以上用いてもよい。
含フッ素共重合体(X1)以外の含フッ素共重合体としては、融点が280℃以上であるものが好ましい。融点が280℃以上であると、後述する複合体からなる成形体が、はんだリフロー(Reflow)に相当する高温雰囲気に曝されたときに、熱による膨れ(発泡)が生じにくい傾向がある。
樹脂粒子(A)は、前述の材料(X)からなる。
樹脂粒子(A)の平均粒径は100μm以上であり、100〜10000μmが好ましく、100〜50000μmが特に好ましい。平均粒径が前記の下限値以上であれば、操作性が良好である。平均粒径が前記の好ましい範囲の上限値以下であれば、粉砕工程での負荷が少ない。
樹脂粒子(A)の平均粒径は、篩分け法等により求められる。
樹脂粒子(A)の製造方法としては、例えば、
(1)前記方法(α)による含フッ素共重合体(X1)の製造を、溶液重合、懸濁重合又は乳化重合により行い、重合後、媒体(有機溶媒又は水性媒体)を除去して粒状の含フッ素共重合体(X1)を回収し、必要に応じて得られた粒状の含フッ素共重合体(X1)を分級(篩い分け等)する方法。
(2)含フッ素共重合体(X1)を単独で、又は含フッ素共重合体(X1)を含む2種以上の樹脂成分(2種以上の含フッ素共重合体(X1)、又は1種以上の含フッ素共重合体(X1)と1種以上の樹脂(X2))を溶融混練し、得られた混練物を粉砕し、必要に応じて得られた粉砕物を分級(篩い分け等)する方法、等が挙げられる。
粉砕工程では、樹脂粒子(A)に機械的粉砕処理を施して粉砕物を得る。
「機械的粉砕処理」とは、粉砕対象の材料(樹脂粒子(A)等)を破壊して、より小さい破片にするのに十分な剪断力及び/ 又は破砕力を作用させることのできる装置を用いて粉砕することを意味する。
そのような装置としては、ディスインテグレーターを含むハンマーミル、ピンミル、ディスクミル、ロータリーミル、ジェットミル、流動床エアジェットミル、ジョークラッシャー、ジャイレートリークラッシャー、ケージミル、パンクラッシャー、ボールミル、ペブルミル、ロッドミル、チューブミル、ディスクアトリションミル、アトライター、ディスクリファイナー等が挙げられる。
低温粉砕処理における冷却温度は、−100℃以下が好ましく、−160℃以下が更に好ましい。
低温粉砕処理においては、冷却後の粉砕を−40℃以下、特に−100℃以下の温度雰囲気で実施することが好ましい。これにより、平均粒径をより小さくできる傾向がある。
冷却は、例えば、固体化した二酸化炭素又は液体窒素を用いて行うことができる。
低温粉砕処理で粉砕に用いる装置は、前記の各種装置のなかから任意に選択できるが、粉砕物の平均粒径をより小さくしやすい点で、ハンマーミル、ピンミル、ディスクミル、ロータリーミル又はジェットミルが好ましい。
粉砕工程で得られる粉砕物は、平均粒径が0.02〜50μmであれば、そのまま樹脂パウダー(B)とすることができる。必要に応じて次の分級工程に供される。
分級工程では、粉砕工程で得られた粉砕物を分級して樹脂パウダー(B)を得る。
分級は、典型的には、粒径の大きすぎる粒子及び粒径の小さすぎる粒子のいずれか一方又は両方を除去する処理である。
分級方法としては、篩い分けによる方法、風力分級等が挙げられる。例えば、任意の篩サイズの篩を用いて粉砕物の篩い分けを行い、篩を通過した篩過物を樹脂パウダー(B)とすることができる。
分級工程は、例えば、機械的粉砕処理に用いる装置として分級機を備えるものを用いる等により、粉砕工程から連続して行ってもよい。
樹脂パウダー(B)は、前記樹脂粒子(A)に機械的粉砕処理を施し、必要に応じて粉砕物を分級することにより得られるものである。
そのため、樹脂パウダー(B)は、樹脂粒子(A)と同様に、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする。
樹脂パウダー(B)を後述の複合体とする場合、樹脂パウダー(B)の平均粒径が小さいほど、樹脂(C)への樹脂パウダー(B)の充填率を高くすることができる。充填率が高いほど、複合体の電気特性(低誘電率等)が優れる。また、樹脂パウダー(B)の平均粒径が小さいほど、該複合体からなる成形体の厚みを薄くすることができる。
樹脂パウダー(B)の平均粒径が前記範囲の上限値以下であれば、充分に高い充填率を達成できる。また、成形体の厚みを薄く、例えば、フレキシブルプリント基板の用途に有用な薄さにすることができる。
樹脂パウダー(B)の平均粒径が10μm超50μm以下である場合には、樹脂パウダー(B)の密充填嵩密度は、0.25g/mL以上が好ましく、0.25〜0.95g/mLがより好ましく、0.4〜0.95g/mLが特に好ましい。樹脂パウダー(B)の平均粒径が0.02〜10μmである場合には、樹脂パウダー(B)の密充填嵩密度は、0.05g/mL以上が好ましく、0.05〜0.8g/mLがより好ましく、0.1〜0.8g/mLが特に好ましい。
疎充填嵩密度又は密充填嵩密度が大きいほど、樹脂パウダー(B)のハンドリング性がより優れる。また、樹脂(C)への樹脂パウダー(B)の充填率を高くすることができる。一方、疎充填嵩密度又は密充填嵩密度が前記範囲の上限値以下であれば、汎用的なプロセスで使用できる。
樹脂パウダー(B)の疎充填嵩密度、密充填嵩密度は、実施例に記載の方法により測定される。
樹脂パウダー(B)のD90は、レーザー回折・散乱法により求められる体積基準累積90%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法により粒度分布を測定し、粒子の集団の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が90%となる点の粒子径である。
本発明の樹脂パウダーの製造方法にあっては、平均粒径100μm以上の樹脂粒子(A)に機械的粉砕処理を施し、平均粒径0.02〜50μmの樹脂パウダー(B)を得る際に、樹脂粒子(A)として含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなるものを用いることにより、含フッ素共重合体(X1)以外の、融点が260〜320℃である含フッ素共重合体を主成分とする樹脂粒子に同じ機械的粉砕処理を施す場合に比べて、嵩密度が大きい樹脂パウダー(B)が得られる。かかる樹脂パウダー(B)は、ハンドリング性が良好である。
また、樹脂パウダー(B)は、含フッ素共重合体(X1)以外の、融点が260〜320℃である含フッ素共重合体を主成分とする樹脂粒子に同じ機械的粉砕処理を施して得られる樹脂パウダーに比べて、平均粒径が小さい傾向がある。平均粒径が小さいほど、樹脂(C)中に樹脂パウダー(B)が分散した複合体中の樹脂パウダー(B)の充填率を高くして、複合体の比誘電率を低くすることができる。また、該複合体からなる成形体の厚みを薄くすることができる。
また、含フッ素共重合体(X1)は高い耐熱性を有し、溶融成形が可能であるため、樹脂パウダー(B)も高い耐熱性を有し、溶融成形が可能である。
例えば、樹脂(C)が熱硬化性樹脂である場合、複合体とする段階で硬化熱が発生する。含フッ素共重合体(X1)は溶融流動性を有するため、該硬化熱により、熱硬化性樹脂中に分散した樹脂パウダー(B)の表面が溶融、低粘度化し、熱硬化性樹脂と反応しやすくなり、熱硬化性樹脂中に良好に分散しやすいと考えられる。
そのため、樹脂パウダー(B)は、熱硬化性樹脂を含む熱硬化性樹脂組成物中に良好に分散し、熱硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸させたプリプレグの製造用途に有用である。
また、金属積層板の場合、融点が260〜320℃である含フッ素共重合体のパウダーであって、官能基(i)を有しないパウダーの場合、樹脂(C)中への充填率が高くなると、複合体からなる基板と金属層との間の密着性が低下するが、官能基(i)を有することで、充填率を高くしても、基板と金属層との間の密着性が低下しにくい。特に、含フッ素共重合体(X1)の融点近傍ないし融点を超える温度で基板と金属層とを積層すると、従来のPTFEパウダーを使用した場合と比べて、層間の密着性の向上が期待できる。
そのため、樹脂パウダー(B)は、プリント基板用途に有用である。また、プリント基板用途のほか、セラミックス成形体用途にも有用である。また、形状自由度が高い射出成形や押出成形にも適用することができる。
本発明の複合体は、樹脂パウダー(B)が樹脂(C)(ただし、前記含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散したものである。
本発明の複合体は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、添加剤(D)(ただし、樹脂パウダー(B)を除く。)を含有してもよい。
樹脂(C)は、含フッ素共重合体(X1)以外の樹脂であれば特に限定されず、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、感光性樹脂等が挙げられる。
樹脂(C)は、非含フッ素樹脂であることが好ましい。
上記のなかでは、融点が280℃以上である熱可塑性樹脂が好ましい。融点が280℃以上であると、複合体からなる成形体が、はんだリフローに相当する雰囲気に曝されたときに、熱による膨れ(発泡)が抑制できる傾向がある。
熱硬化性樹脂としては、ポリイミド、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ビスマレイミド樹脂、又はポリフェニレンエーテル樹脂が好ましい。樹脂(C)がこれらの熱硬化性樹脂である複合体は、プリント基板に好適に使用することができる。これらの熱硬化性樹脂は1種を単独で用いても2種以上を併用してもよい。
熱硬化性樹脂としては、ポリイミド及びエポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種がより好ましい。
ポリイミドは、一般的に、多価カルボン酸二無水物(又はその誘導体)とジアミンとの反応(重縮合)によって、ポリアミック酸(ポリイミド前駆体)を経由して得られる。
ポリイミド、特に、芳香族ポリイミドは、その剛直な主鎖構造により、溶媒等に対して不溶であり、また不融の性質を有する。そのため、先ず、多価カルボン酸二無水物とジアミンとの反応により、有機溶媒に可溶なポリイミド前駆体(ポリアミック酸、又はポリアミド酸)を合成し、このポリイミド前駆体の段階で様々な方法で成形加工が行われる。その後ポリアミック酸を加熱もしくは化学的な方法で脱水反応させて環化(イミド化)しポリイミドとされる。
また、非芳香族系の多価カルボン酸二無水物であるエチレンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物も、芳香族系のものと遜色なく用いることができる。
これらは単独又は2種以上混合して用いられる。
エポキシ樹脂の市販品として、例えば、ビスフェノールA等に基づくエピビス型化合物のエピコート828(シェル化学社製)、アルキル変性型のEPICLON800、EPICLON4050、EPICLON1121N(DIC社製)、ショーダイン(昭和電工社製)、アラルダイトCY−183(チバガイギー社製)等のグリシジルエステル系化合物、ノボラック型のエピコート154(シェル化学社製)、DEN431、DEN438(ダウケミカル社製)、クレゾールノボラック型のECN1280、ECN1235(チバガイギー社製)、ウレタン変性型EPU−6、EPU−10(ADEKA社製)等が挙げられる。
エポキシ樹脂の重量平均分子量は、100〜1000000が好ましく、1000〜100000がより好ましい。エポキシ樹脂の重量平均分子量が前記範囲内であると、複合体からなる成形体と金属層とをより強固に密着する。
エポキシ樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定することができる。
添加剤(D)としては、誘電率や誘電正接が低い無機フィラーが好ましい。該無機フィラーとしては、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、マイカ、珪藻土、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化鉄、酸化錫、酸化アンチモン、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、ドーソナイト、ハイドロタルサイト、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、珪酸カルシウム、モンモリロナイト、ベントナイト、活性白土、セピオライト、イモゴライト、セリサイト、ガラス繊維、ガラスビーズ、シリカ系バルーン、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、グラファイト、炭素繊維、ガラスバルーン、炭素バーン、木粉、ホウ酸亜鉛等が挙げられる。無機フィラーは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
無機フィラーは、多孔質でも非多孔質でもよい。誘電率や誘電正接がさらに低い点で、多孔質であることが好ましい。
無機フィラーは、樹脂(C)への分散性の向上のために、シランカップリング剤やチタネートカップリング剤等の表面処理剤による表面処理が施されてもよい。
無機フィラーを含有する場合、複合体中の無機フィラーの含有量は、樹脂(C)100質量部に対して0.1〜100質量部が好ましく、0.1〜60質量部がより好ましい。
樹脂(C)が熱可塑性樹脂である場合、例えば、樹脂パウダー(B)と熱可塑性樹脂とをブレンドし、溶融混錬することにより複合体を製造できる。
樹脂(C)が熱硬化性樹脂である場合、例えば、熱硬化前の熱硬化性樹脂のワニスに樹脂パウダー(B)を分散させて、硬化させることにより複合体を製造できる。
本発明の複合体を用いた層間絶縁膜、カバーレイフィルム(Cover Lay Film)及びソルダーレジスト(Solder Resist)は、それぞれ、公知の方法、例えば、日本特開2013−21374号公報、国際公開第2014/188856号等に記載の方法を参考にして製造することができる。
ただし本発明の複合体の用途はこれに限定されるものではなく、他の用途に用いてもよい。例えば、高周波特性が必要とされるレーダー、ネットワークのルーター、バックプレーン、無線インフラ等の電子機器用基板や自動車用各種センサ用基板、エンジンマネージメントセンサ用基板とも有用であり、特にミリ波帯域の伝送損失低減を目的とする用途にも好適である。
本発明の接着フィルムは、耐熱性樹脂フィルムの少なくとも一方に、本発明の複合体からなる層が積層されている。
本発明の複合体からなる層は、耐熱性樹脂フィルムの片面のみに積層しても、両面に積層してもよい。接着フィルムの反りを抑制する、電気的信頼性に優れる両面金属積層板を得る等の点では、耐熱性樹脂フィルムの両面に本発明の複合体からなる層が積層していることが好ましい。
耐熱性樹脂フィルムの両面に本発明の複合体からなる層が積層している場合、各本発明の複合体からなる層の組成や厚みは同じでも異なってもよい。接着フィルムの反りの抑制の点では、各本発明の複合体からなる層の組成や厚みは同じであることが好ましい。
耐熱性樹脂フィルムは、耐熱性樹脂の1種以上を含むフィルムであり、単層フィルムでも多層フィルムでもよい。ただし、耐熱性樹脂フィルムは、含フッ素重合体を含まない。
本明細書において、耐熱性樹脂とは、融点が280℃以上の高分子化合物、又はJIS C 4003:2010(IEC 60085:2007)で規定される最高連続使用温度が121℃以上の高分子化合物を意味する。
耐熱性樹脂としては、例えば、ポリイミド(芳香族ポリイミド等。)、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリアリルスルホン(ポリエーテルスルホン等。)、芳香族ポリアミド、芳香族ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリアリルエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶ポリエステル等が挙げられる。
耐熱性樹脂フィルムの表面、例えば、含フッ素樹脂層と積層する面に表面処理が施されてもよい。表面処理方法としては特に限定されず、コロナ放電処理、プラズマ処理等の公知の表面処理方法のなかから適宜選択できる。
本発明の成形体は、前記の本発明の複合体からなる。
成形体の形状は特に限定されず、例えば、シート状(板状、フィルム状等)、立体成形状、チューブ状、その他押出物等が挙げられる。成形体が金属積層板用途、プリント基板用途に用いられる場合は、シート状が好ましい。
シート状の成形体の厚みは、1〜3000μmが好ましい。電子基板用途の場合は、3〜2000μmがより好ましく、5〜1000μmがさらに好ましく、6〜500μmが特に好ましい。
本発明の成形体の用途としては、後述する金属積層板又はプリント基板が好ましい。ただし、本発明の成形体の用途はこれに限定されるものではなく、他の用途に用いてもよい。
被覆物品としては特に限定されず、含フッ素共重合体が有する非粘着性、耐熱性、滑り性等を利用した用途に使用することができる。例えば、非粘着性を利用したものとして、フライパン、圧力鍋、鍋、グリル鍋、炊飯釜、オーブン、ホットプレート、パン焼き型、包丁、ガステーブル等の調理器具;電気ポット、製氷トレー、金型、レンジフード等の厨房用品;練りロール、圧延ロール、コンベア、ホッパー等の食品工業用部品;オフィースオートメーション(OA)用ロール、OA用ベルト、OA用分離爪、製紙ロール、フィルム製造用カレンダーロール等の工業用品;発泡スチロール成形用等の金型、鋳型、合板・化粧板製造用離型板等の成形金型離型;工業用コンテナ(特に半導体工業用);等が挙げられる。滑り性を利用したものとして、のこぎり、やすり等の工具;アイロン、鋏、包丁等の家庭用品;金属箔、電線、食品加工機、包装機、紡織機械等のすべり軸受;カメラ・時計の摺動部品;パイプ、バルブ、ベアリング等の自動車部品;雪かきシャベル、すき、シュート、モータ等のコイル用電線、電気・電子部品用封止材料、排気ダクト、メッキ治具、遠心分離機のバスケット;等が挙げられる。
本発明のセラミックス成形体の製造方法は、樹脂パウダー(B)とセラミックス粉体とを混合して混合物を得る工程(以下、「混合工程」ともいう。)と、前記混合物を成形してセラミックス成形体を得る工程(以下、「成形工程」ともいう。)とを含む。
セラミックス粉体は、表面処理剤(チタネート系、アルミ系、シラン系等)で表面処理が施されていてもよい。
混合工程において、樹脂パウダー(B)とセラミックス粉体と(必要に応じて他の成分と)の混合は、常法により行うことができる。例えば、樹脂パウダー(B)とセラミックス粉体とを、固相状態で均一にブレンドする方法が挙げられる。
混合工程で得られる混合物中の樹脂パウダー(B)の含有量は、セラミックス粉体100質量部に対し、5〜500質量部が好ましく、20〜200質量部がより好ましい。
得られるセラミックス成形体の用途としては、例えば、アンテナ部品が挙げられる。特に好ましくはアンテナ基体である。
本発明の金属積層板は、基板と、前記基板の片面又は両面に積層した金属層とを備える。
基板は、前記の本発明の成形体である。なお、前記接着フィルムのように、耐熱性樹脂フィルムと本発明の複合体からなる層の積層体であっても構わない。また、基板は、本発明の複合体を塗布して得たものであっても構わない。
基板の厚みの好ましい範囲は、前記シート状の成形体の厚みの好ましい範囲と同様である。
なお、本発明の金属積層板の構造は、「本発明の複合体からなる層/金属層」「金属層/本発明の複合体からなる層/金属層」「耐熱性樹脂フィルムからなる層/本発明の複合体からなる層/金属層」「本発明の複合体からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/金属層」などが挙げられる。またこれらの層や含フッ素共重合体(X1)からなる層を組み合わせて「金属層/本発明の複合体からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/含フッ素共重合体(X1)からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/本発明の複合体からなる層/金属層」「金属層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/本発明の複合体からなる層/含フッ素共重合体(X1)からなる層/本発明の複合体からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/金属層」「金属層/本発明の複合体からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/本発明の複合体からなる層/含フッ素共重合体(X1)からなる層/本発明の複合体からなる層/耐熱性樹脂フィルムからなる層/本発明の複合体からなる層/金属層」などの構造としても構わない。
金属層の厚みは、特に限定されず、金属積層板の用途に応じて、十分な機能が発揮できる厚みを選定するとよい。
金属箔と基板との積層は、例えば、キャスト法、熱ラミネート等により行うことができる。
金属の蒸着方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
金属箔の表面には、防錆層(例えばクロメート等の酸化物皮膜)や耐熱層が形成されていてもよい。また、基板との密着性を向上させる為に、金属箔の表面にカップリング剤処理等が施されてもよい。
本発明のプリント基板は、前記本発明の金属積層板の金属層をエッチングして形成されたパターン回路を備える。すなわち、本発明の成形体である基板と、該基板の片面又は両面に積層した金属からなるパターン回路とを備えるものである。
本発明のプリント基板においては、パターン回路上に、層間絶縁膜と、金属から成るパターン回路とが順次積層されていてもよい。前記層間絶縁膜は、本発明の複合体を用いて形成されたものであってもよい。
本発明のプリント基板においては、パターン回路上に、ソルダーレジストが積層されていてもよい。前記ソルダーレジストは、本発明の複合体を用いて形成されたものであってもよい。
本発明のプリント基板に、カバーレイフィルムが積層されてもよい。カバーレイフィルムは、典型的には、基材フィルムと、その表面に形成された接着剤層とから構成され、接着剤層側の面がプリント基板に張り合わされる。前記カバーレイフィルムは、本発明の複合体を用いて形成されたものであってもよい。例えば、前記基材フィルムが、本発明の複合体を用いて形成された成形体であってもよい。
また、本発明のプリント基板は、パターン回路上に、層間絶縁膜(接着層)として本発明の複合体を用い、カバーレイフィルムとしてポリイミドフィルムが積層されたものであってもよい。
本発明の複合体は、層間絶縁膜として、例えば、国際公開第2009/035014号に記載されるような、多層プリント配線板のビルドアップされた絶縁層を形成するためのものとしても好適に使用することができる。
本発明のプレプリグは、本発明の樹脂パウダーを含む熱硬化性樹脂組成物及び本発明の樹脂パウダーを含む熱可塑性樹脂組成物から選ばれる少なくとも一種を繊維基材に含浸させて得られるものである。
熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂を含んでおり、熱硬化性樹脂としては、前記樹脂(C)に記載したものが挙げられる。熱硬化性樹脂としてはエポキシ樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂を含んでおり、熱可塑性樹脂としては、前記樹脂(C)に記載したものが挙げられる。熱可塑性樹脂としてはポリアミド6、ポリアミド12、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリアリールケトン(PEEK等)、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、熱可塑性ポリイミド等が好ましい。
熱硬化性樹脂組成物は、熱硬化性樹脂及び本発明の樹脂パウダー以外に、必要に応じて、アクリルゴム等の他の成分を含んでいてもよい。熱可塑性樹脂組成物も同様である。
繊維基材としては、ガラス繊維、アラミド繊維、炭素繊維等が挙げられる。
また、この金属箔張積層板の金属箔(金属層)をエッチングすることにより、プリント配線基板を得ることができる。このプリント配線基板も、本発明のプリント配線基板に含まれる。
これらの金属箔張積層板、プリント配線基板等は、例えば、日本特開2003−171480号公報、日本特開2007−138152号公報、国際公開第2014/050034号等を参考にして製造することができる。
本発明のプレプリグは、電子部品用途以外にも使用可能である。例えば、日本特開2007−239255号公報に記載されているような、岸壁工事に用いられる、耐久性と軽量性が必要とされる矢板の材料として用いることができる。
また、本発明のプレプリグは、強化繊維とマトリックス樹脂からなる繊維強化プラスチック(FRP)の材料として用いることができる。FRP、特に強化繊維(繊維基材)として炭素繊維を用いた炭素繊維強化プラスチック(CFRP)は、例えば、国際公開第2013/175581の背景技術に記載されているように、機械特性、軽量性、耐腐食性等に優れることから、航空機、自動車、船舶、風車、スポー用具等、様々な用途に向けた部材を製造する材料として広く使用される。
含フッ素共重合体及び樹脂粒子についての測定方法、ならびに使用した樹脂粒子を以下に示す。
含フッ素共重合体の共重合組成のうち、NAHに基づく単位の割合(モル%)は、以下の赤外吸収スペクトル分析によって求めた。他の単位の割合は、溶融NMR分析及びフッ素含有量分析により求めた。
含フッ素共重合体をプレス成形して200μmのフィルムを得た。赤外吸収スペクトルにおいて、含フッ素共重合体中のNAHに基づく単位における吸収ピークは、いずれも1778cm−1に現れる。該吸収ピークの吸光度を測定し、NAHのモル吸光係数20810mol−1・l・cm−1を用いて、含フッ素共重合体におけるNAHに基づく単位の割合を求めた。
セイコー電子社製の示差走査熱量計(DSC装置)を用い、含フッ素共重合体を10℃/分の速度で昇温したときの融解ピークを記録し、極大値に対応する温度(℃)を融点(Tm)とした。
(3)MFR(g/10分)
テクノセブン社製のメルトインデクサーを用い、372℃、49N荷重下で、直径2mm、長さ8mmのノズルから10分間(単位時間)に流出する含フッ素共重合体の質量(g)を測定した。
ASTM D 150準拠の変成器ブリッジ法にて、温度を23℃±2℃の範囲内、相対湿度を50%±5%RHの範囲内に保持した試験環境において、絶縁破壊試験装置(YSY−243−100RHO(ヤマヨ試験機社製))にて、1MHzで求めた値を比誘電率とした。
樹脂粒子の疎充填嵩密度及び密充填嵩密度は、筒井理化学器械社製のA.B.D粉体特性測定器(ABD−100型)を用い、容量100mLの試料容器を用いて測定した。具体的には、疎充填嵩密度については、下記の(6α)の方法で測定した試料容器(試料容器+樹脂粒子)の質量と、樹脂粒子を供給する前に測定しておいた試料容器の質量とから試料容器内の樹脂粒子の質量を算出し、その値から密度(g/mL)を算出し、その値を疎充填嵩密度とした。密充填嵩密度については、(6α)の方法で測定した試料容器の質量の代わりに、下記の(6β)の方法で測定した試料容器の質量を用いた以外は、前記と同様にして密度(g/mL)を算出し、その値を密充填嵩密度とした。
(6β):樹脂粒子を試料容器に、30〜60秒で試料容器がいっぱいになるように供給し、180回タッピングを行った後に、試料容器の上端を超えて山になった部分の樹脂粒子をヘラですり切り、試料容器の周りに付着した樹脂粒子を払落し、試料容器の質量を電子天秤にて計量した。
2.000メッシュ篩(目開き2.400mm)、1.410メッシュ篩(目開き1.705mm)、1.000メッシュ篩(目開き1.205mm)、0.710メッシュ篩(目開き0.855mm)、0.500メッシュ篩(目開き0.605mm)、0.250メッシュ篩(目開き0.375mm)、0.149メッシュ篩(目開き0.100mm)、及び受け皿をこの順に上から重ねた。その上から試料(樹脂粒子(A))を入れ、30分間振とう器で篩分けを行った。その後、各篩の上に残った試料の質量を測定し、各目開き値に対する通過質量の累計をグラフに表し、通過質量の累計が50%の時の粒径を試料の平均粒径とした。
堀場製作所社製のレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置 (LA−920測定器)を用い、樹脂パウダー(B)をイソプロピルアルコール中に分散させ、粒度分布を測定し、平均粒径(μm)及びD90(μm)を算出した。
両面銅張積層体における基板と銅箔との間の剥離強度(又は片面銅張積層体における熱硬化性変性ポリイミド層と銅箔との間の剥離強度)と銅箔との間の剥離強度を測定するため、両面銅張積層体又は片面銅張積層体を、長さ100mm、幅10mmの大きさに切断し、試験片を作製した。試験片の長さ方向の一端から50mmの位置まで銅箔と基板とを剥離した。次いで、試験片の長さ方向の一端から50mmの位置を中央にして、引張り試験機(オリエンテック社製)を用いて、引張り速度50mm/分で90度剥離し、最大荷重を剥離強度(N/10mm)とした。剥離強度が大きいほど、基板と銅箔との間の密着性が優れていることを示す。
両面銅張積層体の銅箔箇所をエッチングにより除去し、露出させた基板について、スプリットポスト誘電体共振器法(SPDR法)により、周波数2.5GHzの比誘電率を求めた。
誘電率測定に使用した機器類は、QWED社製の公称基本周波数2.5GHzタイプスプリットポスト誘電体共振器、キーサイト社製のベクトルネットワークアナライザーE8361C及びキーサイト社製の85071Eオプション300誘電率算出用ソフトウェアである。
単位(1)を形成する単量体としてNAH(無水ハイミックス酸、日立化成社製)を、単位(3)を形成する単量体としてPPVE(CF2=CFO(CF2)3F、旭硝子社製)を用いて、以下の手順で含フッ素共重合体(X1−1)を製造した。
まず、369kgの1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(AK225cb、旭硝子社製)(以下、「AK225cb」という。)と、30kgのPPVEとを、予め脱気された内容積430L(リットル)の撹拌機付き重合槽に仕込んだ。次いで、この重合槽内を加熟して50℃に昇温し、さらに50kgのTFEを仕込んだ後、当該重合槽内の圧力を0.89MPa/Gまで昇圧した。なお、「/G」は、その圧力がゲージ圧であることを示す。
さらに、(ペルフルオロブチリル)ペルオキシドを0.36質量%の濃度及びPPVEを2質量%の濃度でAK225cbに溶解した重合開始剤溶液を調製し、重合槽中に当該重合開始剤溶液の3Lを、1分間に6.25mLの速度にて連続的に添加しながら重合を行った。また、重合反応中における重合槽内の圧力が0.89MPa/Gを保持するように、TFEを連続的に仕込んだ。また、NAHを0.3質量%の濃度でAK225cbに溶解した溶液を、重合中に仕込むTFEのモル数に対して0.1モル%に相当する量ずつ連続的に仕込んだ。
重合開始8時間後、32kgのTFEを仕込んだ時点で、重合槽内の温度を室温まで降温するとともに、圧力を常圧までパージした。得られたスラリを、AK225cbと固液分離した後、150℃で15時間乾燥することにより、33kgの粒状の含フッ素共重合体(X1−1)を得た。
また、含フッ素共重合体(X1−1)の平均粒径は1554μmであった。この含フッ素共重合体(X1−1)を樹脂粒子(A−1)として用いた。
樹脂粒子(A−2)としては、市販の粒状のPFA(旭硝子社製、製品名「Fluon (登録商標)PFA 63P」)を用いた。
樹脂粒子(A−2)を構成するPFAは、官能基(i)を含有しないものであり、融点は300℃、誘電率は2.1、MFRは12.8g/10分であった。
〔実施例1〕
ローターミル(フリッチュ社製、ロータースピードミルP−14)を用い、回転数1300rpmの条件で樹脂粒子(A−1)を粉砕した。得られた粉砕物を篩にかけ、篩サイズ0.5mmを通過したものを回収して樹脂パウダー(B−1)を得た。
樹脂パウダー(B−1)の特性(平均粒径、疎充填嵩密度、及び密充填嵩密度)を測定した。結果を以下に示す。
平均粒径:22.08μm。
疎充填嵩密度:0.513g/mL。
密充填嵩密度:0.686g/mL。
樹脂粒子(A−1)の代わりに樹脂粒子(A−2)を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い、樹脂パウダー(B−2)を得た。
樹脂パウダー(B−2)の特性を測定した。結果を以下に示す。
平均粒径:33.56μm。
疎充填嵩密度:0.162g/mL。
密充填嵩密度:0.205g/mL。
樹脂粒子(A−1)を液体窒素で−196℃に冷却した後、ハンマーミル(ホソカワミクロン社製及びリキッドガス社製、リンレックスミルLX−0)を用い、回転数80m/s、処理量3kg/時間の条件で、−160℃の環境下で粉砕して樹脂パウダー(B−3)を得た。
樹脂パウダー(B−3)の特性を測定した。結果を以下に示す。
平均粒径:6.2μm。
D90:13.2μm。
疎充填嵩密度:0.199g/mL。
密充填嵩密度:0.243g/mL。
ジェットミル(セイシン企業社製、シングルトラックジェットミル FS−4型)を用い、粉砕圧力0.5MPa、処理速度1kg/hrの条件で、樹脂粒子(A−1)を粉砕して樹脂パウダー(B−4)を得た。
樹脂パウダー(B−4)の特性を測定した。結果を以下に示す。
平均粒径:2.58μm。
D90:7.1μm。
疎充填嵩密度:0.278g/mL。
密充填嵩密度:0.328g/mL。
実施例2及び3の結果から、樹脂粒子(A−1)の機械的粉砕を、−40℃以下に冷却した後に行うことにより、又はジェットミルを用いて行うことにより、平均粒径10μm以下の微細な樹脂パウダーが容易に得られることが確認できた。
樹脂パウダー(B−4)を、粒径10μm以下の樹脂パウダー(B−5)を得る目的で、高効率精密気流分級機(セイシン企業社製、クラッシール N−01型)を用いて、処理量0.5kg/hrの条件で分級した。分級により得られた樹脂パウダー(B−5)の収率は89.4%であり、平均粒径は1.8μmであり、D90は4.6μmであった。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−3)を用いた以外は、実施例4と同様の操作を行い樹脂パウダー(B−6)を得た。樹脂パウダー(B−6)の収率は65.1%であり、平均粒径は2.9μmであり、D90は6.6μmであった。
樹脂パウダー(B−6)の平均粒径を更に小さくする目的で、再度実施例2と同条件で粉砕した後、実施例4と同様の操作を行い、樹脂パウダー(B−7)を得た。平均粒径は2.0μmであり、D90は4.5μmであった。
ジェットミル(セイシン企業社製、シングルトラックジェットミル FS−4型)を用い、粉砕圧力0.5MPa、処理速度1kg/hrの条件で、樹脂粒子(A−2)を粉砕して樹脂パウダー(B−8)を得た。
樹脂パウダー(B−8)の特性を測定した。結果を以下に示す。
平均粒径:7.6μm。
樹脂パウダー(B−8)を、粒径10μm以下の樹脂パウダー(B−9)を得る目的で、高効率精密気流分級機(セイシン企業社製、クラッシール N−01型)を用いて、処理量0.5kg/hrの条件で分級したところ、分級の実施中に目詰りが発生し、樹脂パウダー(B−9)の収率は41%にとどまった。樹脂パウダー(B−9)の平均粒径は6.8μmであった。
〔実施例7〕
エポキシ基を有する熱硬化性変性ポリイミドワニス(ピーアイ研究所社製、溶媒:N−メチルピロリドン(以下、「NMP」という。)、固形分:15質量%)に、樹脂パウダー(B−4)を、熱硬化性変性ポリイミド:樹脂パウダー(B−4)=75:25(質量比)となるように添加し、撹拌機で1000rpmの条件下で1時間撹拌した。その後、真空脱泡処理を2時間行い、溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において、外観上は樹脂パウダーの凝集はみられなかった。この溶液組成物について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、特にフィルター部で凝集することはなく、溶液組成物をろ過することができた。
次いで、厚み12μmの電解銅箔(福田金属箔粉社製、CF−T4X−SVR−12、表面粗さ(Rz)1.2μm)上に、フィルターにてろ過した溶液組成物を、下記乾燥条件での乾燥後の塗膜(基板)の厚みが25μmとなるように塗布し、乾燥して基板を形成し、銅箔/基板の構成の片面銅張積層体を得た。
乾燥条件:オーブンで、90℃で5分間、次いで、120℃で5分間、最後に、150℃で5分間加熱することで乾燥を実施した。
得られた片面銅張積層体について、基板中の凝集物の有無を目視で確認したところ、わずかに凝集物が散見された。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−5)を用いた以外は、実施例7と同様の操作を行い、溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において、外観上は樹脂パウダーの凝集はみられなかった。この溶液組成物について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、特にフィルター部で凝集することはなく、溶液組成物をろ過することができた。
実施例7と同様の操作、乾燥を行い、銅箔/基板の構成の片面銅張積層体を得た。得られた片面銅張積層体について、基板中の凝集物の有無を目視で確認したところ、凝集物が散見されなかった。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−6)を用いた以外は、実施例7と同様の操作を行い溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において外観上に樹脂パウダーの凝集はみられなかった。この溶液組成物について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、特にフィルター部で凝集することはなく、溶液組成物をろ過することができた。
実施例7と同様の操作、乾燥を行い、銅箔/基板の構成の片面銅張積層体を得た。得られた片面銅張積層体について、基板中の凝集物の有無を目視で確認したところ、わずかに凝集物が散見された。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−7)を用いた以外は、実施例7と同様の操作を行い、溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において外観上に樹脂パウダーの凝集はみられなかった。この溶液組成物について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、特にフィルター部で凝集することはなく、溶液組成物をろ過することができた。
実施例7と同様の操作、乾燥を行い、銅箔/基板の構成の片面銅張積層体を得た。得られた片面銅張積層体について、基板中の凝集物の有無を目視で確認したところ、わずかに凝集物が散見された。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−8)を用いた以外は、実施例7と同様の操作を行い、溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において外観上に樹脂パウダーの凝集が観測された。この溶液組成物について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、フィルター部で凝集し、フィルター詰り発生により、実施例7〜10のように片面銅張積層体を作製する段階まで至らなかった。
実施例8で作製した片面銅張積層体の基板面に対して、厚み12μmの電解銅箔(福田金属箔粉社製、CF−T4X−SVR−12、表面粗さ(Rz)1.2μm)を重ねて、温度220℃、3MPaの条件で60分間真空プレスし、両面銅張積層体を得た。
得られた両面銅張積層体について、片面銅張積層体とその基板面に重ねた銅箔との剥離強度、及び基板の比誘電率を測定した。結果を表1に示す。
エポキシ基を有する熱硬化性変性ポリイミドワニス(ピーアイ研究所社製、溶媒NMP、固形分15質量%)について、100メッシュのフィルターにてろ過を実施し、溶液組成物を得た。得られた溶液組成物を、実施例7と同様の条件下で、実施例7と同様の電解銅箔上に、塗布し、乾燥して、銅箔/基板の構成の片面銅張積層体を得た。
次に、実施例8で作製した片面銅張積層体の代わりに、上記で得られた片面銅張積層体を用いた以外は、実施例11と同様にして両面銅張積層体を得た。
得られた両面銅張積層体について、片面銅張積層体とその基板面に重ねた銅箔との剥離強度、及び基板の比誘電率を測定した。結果を表1に示す。
樹脂パウダー(B−4)の代わりに樹脂パウダー(B−5)を用いた以外は、実施例7と同様の操作を行い、溶液組成物を得た。
真空脱泡処理後、この溶液組成物において、外観上は樹脂パウダーの凝集はみられず、この溶液組成物を100メッシュのフィルターにてろ過を実施したところ、特にフィルター部で凝集することはなく、溶液組成物をろ過することができた。
厚み25μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、製品名「カプトン(登録商標)」)上に、フィルターにてろ過した溶液組成物を、下記乾燥条件での乾燥後の塗膜(熱硬化性変性ポリイミド層)の厚みが25μmとなるように塗布し、乾燥して塗膜を形成し、ポリイミドフィルム/熱硬化性変性ポリイミド層の構成の積層体を得た。
乾燥条件:オーブンで、90℃で5分間、次いで、120℃で5分間、最後に、150℃で5分間加熱することで乾燥を実施した。
得られた積層体について、熱硬化性変性ポリイミド層中の凝集物の有無を目視で確認したところ、凝集物が散見されなかった。
実施例12で作製した積層体の熱硬化性変性ポリイミド層面に対して、厚み12μmの電解銅箔(福田金属箔粉社製、CF−T4X−SVR−12、表面粗さ(Rz)1.2μm)を重ねて、温度220℃、3MPaの条件で、60分間真空プレスし、片面銅張積層体を得た。
得られた片面銅張積層体について、熱硬化性変性ポリイミド層と銅箔との剥離強度を測定した。結果を表2に示す。
樹脂パウダー(B−5)を添加しなかったこと以外は、実施例12と同様の操作を行い、ポリイミドフィルム/熱硬化性変性ポリイミド層の構成の積層体を得た。
実施例7と同じ乾燥条件で乾燥を実施した後、実施例12で作製した積層体の代りに、上記で得られた積層体を用いた以外は、実施例13と同様にして片面銅張積層体を得た。
得られた片面銅張積層体について、熱硬化性変性ポリイミド層と銅箔との剥離強度を測定した。結果を表2に示す。
含フッ素共重合体(X1−1)を、750mm巾コートハンガーダイを有する30mmφ単軸押出機を用いて、ダイ温度340℃で押出成形し、厚み50μmの含フッ素樹脂フィルム(以下。「フィルム1」という。)を得た。フィルム1及び厚み25μmのポリイミドフィルム(東レ・デュポン社製、製品名「カプトン(登録商標)」)をポリイミドフィルム/フィルム1/ポリイミドフィルムの順で積層し、温度360℃、圧力3.7MPaで10分間真空プレスし、「積層フィルム1」を得た。次いで、実施例8で得た片面銅張積層体2枚及び積層フィルム1を、片面銅張積層体/積層フィルム1/片面銅箔積層体の順で、温度220℃、3MPaの条件で60分間真空プレスし、両面銅張積層体を作製した。なお、片面銅張積層体は積層フィルム1と接合する面を塗膜(基板)の面とした。この両面銅張積層体における銅箔以外の絶縁層(150μm)について誘電率を測定したところ、2.86であった。
実施例8で得た片面銅張積層体2枚及び実施例14で得たフィルム1を、片面銅張積層体/フィルム1/片面銅箔積層体の順で、温度220℃、3MPaの条件で60分間真空プレスし、両面銅張積層体を作製した。なお、片面銅張積層体はフィルム1と接合する面を塗膜(基板)の面とした。この両面銅張積層体における銅箔以外の絶縁層(100μm)について誘電率を測定したところ、2.47であった。
なお、2014年8月1日に出願された日本特許出願2014−157574号、及び2015年3月20日に出願された日本特許出願2015−058672号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (25)
- 平均粒径100μm以上の樹脂粒子(A)に機械的粉砕処理を施し、平均粒径0.02〜50μmの樹脂パウダーを得る方法であって、
前記樹脂粒子(A)が、下記含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなることを特徴とする樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1):カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。 - 前記含フッ素共重合体(X1)が、下記含フッ素共重合体(X1−1)である、請求項1に記載の樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1−1):前記単位(1)と、前記単位(2)と、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位(3−1)とを有し、
全単位の合計に対する前記単位(1)の割合が0.01〜3モル%であり、前記単位(2)の割合が90〜99.89モル%であり、前記単位(3−1)の割合が0.1〜9.99モル%であり、
融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。 - 前記含フッ素共重合体(X1)が、下記含フッ素共重合体(X1−2)である、請求項1に記載の樹脂パウダーの製造方法。
含フッ素共重合体(X1−2):前記単位(1)と、前記単位(2)と、ヘキサフルオロプロピレンに基づく単位(3−2)とを有し、
全単位の合計に対する前記単位(1)の割合が0.01〜3モル%であり、前記単位(2)の割合が90〜99.89モル%であり、前記単位(3−2)の割合が0.1〜9.99モル%であり、
融点が260〜320℃である含フッ素共重合体。 - 前記単位(1)が、カルボニル基含有基を含む単位を含み、
前記カルボニル基含有基が、炭化水素基の炭素原子間にカルボニル基を有してなる基、カーボネート基、カルボキシ基、ハロホルミル基、アルコキシカルボニル基及び酸無水物残基からなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂パウダーの製造方法。 - 前記樹脂パウダーの平均粒径が0.02〜10μmである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂パウダーの製造方法。
- 前記樹脂パウダーの平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が8μm以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の樹脂パウダーの製造方法。
- 前記機械的粉砕処理が、前記樹脂粒子(A)を−40℃以下の温度に冷却した後に行われる、又はジェットミルを用いて行われる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の樹脂パウダーの製造方法。
- 前記機械的粉砕処理が、ジェットミルを用いて行われる、請求項7に記載の樹脂パウダーの製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の製造方法で樹脂パウダーを製造し、得られた樹脂パウダーを、樹脂(C)(ただし、前記含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散する、複合体の製造方法。
- 前記樹脂(C)が熱硬化性樹脂又は感光性樹脂である、請求項9に記載の複合体の製造方法。
- 前記樹脂(C)が熱硬化性樹脂であり、
前記熱硬化性樹脂が、ポリイミド及びエポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項10に記載の複合体の製造方法。 - 比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて、周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である、請求項11に記載の複合体の製造方法。
- プリント基板の層間絶縁膜、カバーレイフィルム及びソルダーレジストのうちの少なくとも1つを形成するために用いられる請求項9〜12のいずれか一項に記載の複合体の製造方法。
- 請求項9〜12のいずれか一項に記載の製造方法で複合体を製造し、得られた複合体を成形する、成形体の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の製造方法で樹脂パウダーを製造し、得られた樹脂パウダーとセラミックス粉体とを混合して混合物を得て、前記混合物を成形してセラミックス成形体を得る工程を含む、セラミックス成形体の製造方法。
- 請求項14に記載の製造方法で成形体を製造し、得られた成形体からなる基板の片面又は両面に、金属層を積層する金属積層板の製造方法。
- 請求項16に記載の製造方法で金属積板を製造し、得られた金属積層板の前記金属層をエッチングしてパターン回路を形成するプリント基板の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の製造方法で樹脂パウダーを製造し、得られた樹脂パウダーを含む熱硬化性樹脂組成物及び得られた樹脂パウダーを含む熱可塑性樹脂組成物からなる群から選ばれる少なくとも一種を繊維基材に含浸させるプリプレグの製造方法。
- 耐熱性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、請求項9に記載の製造方法で得られた複合体からなる層を積層する接着フィルムの製造方法であって、
前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記接着フィルムの比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である接着フィルムの製造方法。 - 請求項19に記載の製造方法で得られた接着フィルムの複合体からなる層の少なくとも1つの層上に、金属層を積層する金属積層板の製造方法。
- 耐熱性樹脂フィルムの少なくとも一方の面に、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体からなる層が、積層されている接着フィルムであって、
前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記接着フィルムの比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である接着フィルム。 - 請求項21に記載の接着フィルムの複合体からなる層の少なくとも1つの層上に、直接積層した金属層を有する金属積層板。
- プリント基板の層間絶縁膜、カバーレイフィルム及びソルダーレジストからなる群から選ばれる少なくとも1つを形成するために用いられる複合体であって、
該複合体は含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体であって、前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記複合体の比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5である複合体。 - 樹脂パウダーを含む熱硬化性樹脂組成物及び樹脂パウダーを含む熱可塑性樹脂組成物からなる群から選ばれる少なくとも一種が繊維基材に含浸したプレプリグであって、
該硬化性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂組成物からなる群から選ばれる少なくとも一種は、含フッ素共重合体(X1)を主成分とする材料(X)からなる樹脂パウダーが、樹脂(C)(ただし、全基含フッ素共重合体(X1)を除く。)中に分散した複合体であり、前記含フッ素共重合体(X1)はカルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基及びイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を含む単位(1)と、テトラフルオロエチレンに基づく単位(2)とを有し、融点が260〜320℃であり、前記樹脂パウダーは平均粒径が0.02〜6μmであり、D90が80μm以下であり、前記該硬化性樹脂組成物及び/又は熱可塑性樹脂組成物の比誘電率(23℃±2℃、50±5%RHの範囲内の環境下にて周波数2.5GHzで測定される値)が2.0〜3.5であるプレプリグ。 - 請求項24に記載のプレプリグの片面又は両面に積層した金属層を備える金属積層板。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014157574 | 2014-08-01 | ||
JP2014157574 | 2014-08-01 | ||
JP2015058672 | 2015-03-20 | ||
JP2015058672 | 2015-03-20 | ||
PCT/JP2015/071803 WO2016017801A1 (ja) | 2014-08-01 | 2015-07-31 | 樹脂パウダー、その製造方法、複合体、成形体、セラミックス成形体の製造方法、金属積層板、プリント基板及びプリプレグ |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019234583A Division JP2020063451A (ja) | 2014-08-01 | 2019-12-25 | 樹脂パウダー及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016017801A1 true JPWO2016017801A1 (ja) | 2017-05-25 |
JP6642433B2 JP6642433B2 (ja) | 2020-02-05 |
Family
ID=55217695
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016538464A Active JP6642433B2 (ja) | 2014-08-01 | 2015-07-31 | 樹脂パウダー |
JP2019234583A Pending JP2020063451A (ja) | 2014-08-01 | 2019-12-25 | 樹脂パウダー及びその製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019234583A Pending JP2020063451A (ja) | 2014-08-01 | 2019-12-25 | 樹脂パウダー及びその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20170130009A1 (ja) |
JP (2) | JP6642433B2 (ja) |
KR (1) | KR102468437B1 (ja) |
CN (2) | CN106574055B (ja) |
TW (1) | TWI690548B (ja) |
WO (1) | WO2016017801A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10448506B2 (en) | 2016-09-01 | 2019-10-15 | AGC Inc. | Wiring substrate and process for producing it |
US11174411B2 (en) | 2016-07-22 | 2021-11-16 | AGC Inc. | Liquid composition, and method for producing a film and a laminate by using the liquid composition |
Families Citing this family (60)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112017000397T5 (de) * | 2016-01-14 | 2018-10-25 | AGC Inc. | Härtbare Zusammensetzung, gehärtetes Produkt, Prepreg und Faser-verstärktes Formprodukt |
JP6904347B2 (ja) * | 2016-06-23 | 2021-07-14 | Agc株式会社 | フッ素樹脂パウダーを含む液状組成物の製造方法 |
JP6728529B2 (ja) * | 2016-07-15 | 2020-07-22 | 住友電工ファインポリマー株式会社 | プリプレグ及び多層基板 |
JP6954293B2 (ja) * | 2016-09-01 | 2021-10-27 | Agc株式会社 | 金属積層板およびその製造方法、ならびにプリント基板の製造方法 |
TWI739921B (zh) * | 2016-10-12 | 2021-09-21 | 日商Agc股份有限公司 | 積層體及其製造方法 |
JP7138623B2 (ja) * | 2017-04-07 | 2022-09-16 | 株式会社クラレ | 金属張積層板およびその製造方法 |
WO2018212285A1 (ja) | 2017-05-18 | 2018-11-22 | Agc株式会社 | フッ素樹脂フィルムおよび積層体、ならびに、熱プレス積層体の製造方法 |
JP7009858B2 (ja) * | 2017-09-13 | 2022-01-26 | Agc株式会社 | 立体成形回路部品用樹脂組成物、立体成形品及びその製造方法、ならびに立体成形回路部品及びその製造方法 |
WO2019087939A1 (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-09 | Agc株式会社 | 成形体、金属張積層体、プリント配線板及びそれらの製造方法 |
JP7205487B2 (ja) * | 2017-11-16 | 2023-01-17 | Agc株式会社 | 樹脂パウダーの製造方法、樹脂パウダーおよび積層体の製造方法 |
JP7081127B2 (ja) * | 2017-12-05 | 2022-06-07 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | 熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ、積層板、プリント配線板及び高速通信対応モジュール |
CN111372976B (zh) * | 2017-12-07 | 2023-05-02 | Agc株式会社 | 粉体、粉体涂料和层叠体的制造方法 |
JP2019104843A (ja) * | 2017-12-13 | 2019-06-27 | Agc株式会社 | 樹脂組成物、積層体、金属積層板及びプリント配線板 |
CN111492006A (zh) * | 2017-12-27 | 2020-08-04 | Agc株式会社 | 分散液、金属层叠板和印刷基板的制造方法 |
WO2019131805A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-04 | Agc株式会社 | 分散液、金属積層板及びプリント基板の製造方法 |
JP7215163B2 (ja) * | 2017-12-28 | 2023-01-31 | 日本製鉄株式会社 | 金属-繊維強化樹脂材料複合体 |
KR102667496B1 (ko) * | 2018-01-19 | 2024-05-20 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 수지 부착 금속박의 제조 방법 |
JP6547014B1 (ja) | 2018-01-23 | 2019-07-17 | ダイキン工業株式会社 | 造形用粉末 |
JP7259834B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2023-04-18 | Agc株式会社 | 積層体及びその製造方法、ならびに成形体及びその製造方法 |
JP7043290B2 (ja) * | 2018-02-23 | 2022-03-29 | フクビ化学工業株式会社 | Cfrpシート、frp-金属複合体及びその製造方法 |
US20210002434A1 (en) * | 2018-04-02 | 2021-01-07 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Resin powder, sealing material, electronic component, and resin powder manufacturing method |
JP7059764B2 (ja) * | 2018-04-04 | 2022-04-26 | Agc株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP7151140B2 (ja) * | 2018-04-11 | 2022-10-12 | Agc株式会社 | フッ素樹脂シート、積層体及びそれらの製造方法 |
KR20210003082A (ko) * | 2018-04-26 | 2021-01-11 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 적층체의 제조 방법, 및 적층체 |
JP7187821B2 (ja) * | 2018-05-29 | 2022-12-13 | Tdk株式会社 | プリント配線板およびその製造方法 |
WO2019239320A1 (en) | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer compositions comprising fluorinated additives, coated substrates and methods |
WO2019241186A1 (en) | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer coating compositions comprising amine curing agents, coated substrates and related methods |
WO2020004339A1 (ja) * | 2018-06-27 | 2020-01-02 | Agc株式会社 | パウダー分散液、積層体、膜及び含浸織布 |
EP3816124A4 (en) * | 2018-06-29 | 2022-03-23 | Agc Inc. | GLASS RESIN LAMINATE, COMPOSITE LAMINATE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
CN112703107B (zh) * | 2018-09-18 | 2023-05-02 | Agc株式会社 | 层叠体、印刷基板及其制造方法 |
JP7363797B2 (ja) * | 2018-10-03 | 2023-10-18 | Agc株式会社 | 分散液及び樹脂付金属箔の製造方法 |
WO2020116461A1 (ja) | 2018-12-05 | 2020-06-11 | Agc株式会社 | 変性粒子の製造方法、変性粒子、分散液、組成物及び積層体 |
JP7211049B2 (ja) * | 2018-12-05 | 2023-01-24 | Agc株式会社 | 複合積層体 |
KR20210136965A (ko) * | 2019-03-12 | 2021-11-17 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 액상 조성물, 강유전성 절연 시트 및 그 제조 방법 |
JP2019127041A (ja) * | 2019-03-15 | 2019-08-01 | ダイキン工業株式会社 | 造形用粉末 |
JP7181465B2 (ja) * | 2019-03-27 | 2022-12-01 | ダイキン工業株式会社 | 樹脂組成物および成形品 |
WO2020230819A1 (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | Agc株式会社 | 平面アンテナ、アンテナ積層体及び車両用窓ガラス |
JPWO2020235532A1 (ja) * | 2019-05-21 | 2020-11-26 | ||
WO2021025117A1 (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-11 | ダイキン工業株式会社 | 金属張積層板用含フッ素ポリマー、金属張積層板用組成物、硬化性組成物、金属張積層板及びプリント基板 |
JPWO2021024883A1 (ja) * | 2019-08-06 | 2021-02-11 | ||
US20210054190A1 (en) * | 2019-08-21 | 2021-02-25 | Ticona Llc | Polymer Composition For Laser Direct Structuring |
WO2021033578A1 (ja) | 2019-08-22 | 2021-02-25 | Eneos株式会社 | 液晶ポリマー粒子、熱硬化性樹脂組成物、および成形体 |
JP7443715B2 (ja) * | 2019-10-03 | 2024-03-06 | Agc株式会社 | 非水系分散液及び非水系分散液の製造方法 |
WO2021088198A1 (en) | 2019-11-04 | 2021-05-14 | 3M Innovative Properties Company | Electronic telecommunications articles comprising crosslinked fluoropolymers and methods |
CN114599712A (zh) * | 2019-11-11 | 2022-06-07 | Agc株式会社 | 非水系分散液、层叠体的制造方法以及成形物 |
KR20220158736A (ko) * | 2020-03-25 | 2022-12-01 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 복합 입자, 복합 입자의 제조 방법, 액상 조성물, 적층체의 제조 방법 및 필름의 제조 방법 |
KR102503908B1 (ko) | 2020-04-13 | 2023-02-24 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 함불소 공중합체 조성물 및 가교 고무 물품 |
JPWO2021241473A1 (ja) * | 2020-05-27 | 2021-12-02 | ||
WO2021261401A1 (ja) | 2020-06-22 | 2021-12-30 | Agc株式会社 | 粉体塗料組成物及び積層体 |
EP4173727A4 (en) | 2020-06-25 | 2024-05-29 | Agc Inc. | PAINT AND METHOD FOR PRODUCING PAINT, PAINTED ARTICLE AND METHOD FOR PRODUCING PAINTED ARTICLE |
US11312109B2 (en) * | 2020-09-01 | 2022-04-26 | Mitsubishi Chemical Composites America, Inc. | Composite panel having noncombustible polymer matrix core |
TW202212503A (zh) | 2020-09-03 | 2022-04-01 | 日商Agc股份有限公司 | 粉末分散液及複合體之製造方法 |
JP7089210B2 (ja) * | 2020-11-06 | 2022-06-22 | ダイキン工業株式会社 | 水性塗料組成物及び塗装物品 |
KR20230122650A (ko) | 2020-12-22 | 2023-08-22 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 수계 분산액 |
WO2022202923A1 (ja) | 2021-03-24 | 2022-09-29 | Agc株式会社 | 蓄電デバイス電極用プライマー、プライマー層形成用の組成物、蓄電デバイス用電極及び二次電池 |
JP2022161290A (ja) * | 2021-04-08 | 2022-10-21 | Eneos株式会社 | 液晶ポリマー粒子の製造方法 |
JP2022161530A (ja) | 2021-04-09 | 2022-10-21 | エルジー・ケム・リミテッド | 熱硬化性樹脂組成物、その硬化物及びプリプレグ、硬化物又はプリプレグの硬化物を備えた積層板、金属箔張積層板、並びにプリント配線板 |
CN113307541A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-08-27 | 中国振华集团云科电子有限公司 | 一种碳氢树脂陶瓷粘结片及其批量化生产工艺 |
TW202311422A (zh) * | 2021-06-09 | 2023-03-16 | 日商Agc股份有限公司 | 片材 |
CN115074082B (zh) * | 2022-07-20 | 2023-07-25 | 上海欣达化工有限公司 | 一种生物基ms胶粘合剂及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003524663A (ja) * | 1998-03-18 | 2003-08-19 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | フルオロポリマーおよび耐熱性非分散ポリマー結合剤の多成分粒子 |
JP2004122794A (ja) * | 2003-12-18 | 2004-04-22 | Asahi Glass Co Ltd | 導電性含フッ素共重合体組成物からなる積層ホース |
JP2006152234A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-06-15 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体及びその用途 |
JP2008260864A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Daikin Ind Ltd | 水性分散体の製造方法及び水性分散体 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1180507A (ja) * | 1997-09-05 | 1999-03-26 | Nissan Motor Co Ltd | エポキシ樹脂組成物 |
KR100616797B1 (ko) | 1998-08-20 | 2006-08-28 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 불소계 공중합체의 수성분산액 및 수성도료용 조성물 |
JP2000128934A (ja) * | 1998-08-20 | 2000-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素系共重合体の水性分散液 |
JP2001029800A (ja) * | 1999-05-18 | 2001-02-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | イオン交換膜、イオン交換膜・電極接合体、及びこれらの製造方法 |
FI110651B (fi) * | 2000-02-22 | 2003-02-28 | Nokia Corp | Menetelmä siirretyn datan määrän tarkastamiseksi |
CN1188218C (zh) * | 2000-06-01 | 2005-02-09 | 大金工业株式会社 | 粉碎树脂粒子的制造方法和装置 |
JP2002020409A (ja) * | 2000-07-10 | 2002-01-23 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素系共重合体の水性分散液 |
US7026032B2 (en) | 2003-11-05 | 2006-04-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide based compositions useful as electronic substrates, derived in part from (micro-powder) fluoropolymer, and methods and compositions relating thereto |
US7601401B2 (en) * | 2004-11-19 | 2009-10-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for applying fluoropolymer powder coating as a primer layer and an overcoat |
CN101080957B (zh) * | 2004-12-20 | 2010-04-07 | 旭硝子株式会社 | 柔性印刷电路板用层积体 |
KR100972721B1 (ko) * | 2007-04-12 | 2010-07-27 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 수성 분산체의 제조 방법, 수성 분산체, 불소 수지 도료조성물, 및 도장 물품 |
JP5194750B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2013-05-08 | 日立化成株式会社 | プリプレグ、および積層板 |
US20100036053A1 (en) * | 2008-08-08 | 2010-02-11 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous Polymerization Process for the Manufacture of Fluoropolymer Comprising Repeating Units Arising from a Perfluoromonomer and a Monomer Having a Functional Group and a Polymerizable Carbon-Carbon Double Bond |
JP2010053209A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体及びその用途 |
JP5697308B2 (ja) * | 2009-03-02 | 2015-04-08 | ダイキン工業株式会社 | 低分子量ポリテトラフルオロエチレン粉末及びその製造方法、低分子量ポリテトラフルオロエチレンゲル化粉末、並びに定着部材用塗料 |
JP2011225677A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体粉体の製造方法および多孔性含フッ素共重合体粉体 |
KR101299652B1 (ko) * | 2011-09-07 | 2013-08-23 | 주식회사 엘지화학 | 불소수지 함유 연성 금속 적층판 |
US9462688B2 (en) | 2011-09-07 | 2016-10-04 | Lg Chem, Ltd. | Flexible metal laminate containing fluoropolymer |
US9944817B2 (en) * | 2012-03-26 | 2018-04-17 | Daikin Industries, Ltd. | Composite particles, coating powder, coating film, laminate, and method for producing composite particles |
-
2015
- 2015-07-31 CN CN201580041455.0A patent/CN106574055B/zh active Active
- 2015-07-31 WO PCT/JP2015/071803 patent/WO2016017801A1/ja active Application Filing
- 2015-07-31 CN CN201910434395.9A patent/CN110105597B/zh active Active
- 2015-07-31 TW TW104124946A patent/TWI690548B/zh active
- 2015-07-31 JP JP2016538464A patent/JP6642433B2/ja active Active
- 2015-07-31 KR KR1020167033953A patent/KR102468437B1/ko active IP Right Grant
-
2017
- 2017-01-24 US US15/414,212 patent/US20170130009A1/en not_active Abandoned
-
2019
- 2019-12-10 US US16/709,049 patent/US11041053B2/en active Active
- 2019-12-25 JP JP2019234583A patent/JP2020063451A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003524663A (ja) * | 1998-03-18 | 2003-08-19 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | フルオロポリマーおよび耐熱性非分散ポリマー結合剤の多成分粒子 |
JP2004122794A (ja) * | 2003-12-18 | 2004-04-22 | Asahi Glass Co Ltd | 導電性含フッ素共重合体組成物からなる積層ホース |
JP2006152234A (ja) * | 2004-10-28 | 2006-06-15 | Asahi Glass Co Ltd | 含フッ素共重合体及びその用途 |
JP2008260864A (ja) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Daikin Ind Ltd | 水性分散体の製造方法及び水性分散体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11174411B2 (en) | 2016-07-22 | 2021-11-16 | AGC Inc. | Liquid composition, and method for producing a film and a laminate by using the liquid composition |
US10448506B2 (en) | 2016-09-01 | 2019-10-15 | AGC Inc. | Wiring substrate and process for producing it |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110105597B (zh) | 2022-07-22 |
KR102468437B1 (ko) | 2022-11-17 |
CN106574055A (zh) | 2017-04-19 |
JP6642433B2 (ja) | 2020-02-05 |
CN110105597A (zh) | 2019-08-09 |
US11041053B2 (en) | 2021-06-22 |
US20170130009A1 (en) | 2017-05-11 |
JP2020063451A (ja) | 2020-04-23 |
TWI690548B (zh) | 2020-04-11 |
TW201609884A (zh) | 2016-03-16 |
CN106574055B (zh) | 2019-09-20 |
WO2016017801A1 (ja) | 2016-02-04 |
KR20170039080A (ko) | 2017-04-10 |
US20200115509A1 (en) | 2020-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11041053B2 (en) | Resin powder, method for its production, composite, molded product, method for producing ceramic molded product, metal laminated plate, printed circuit board and prepreg | |
JP7396403B2 (ja) | 液状組成物、並びに該液状組成物を使用した、フィルムおよび積層体の製造方法 | |
JP6954293B2 (ja) | 金属積層板およびその製造方法、ならびにプリント基板の製造方法 | |
CN109415571B (zh) | 含有氟树脂粉末的液态组合物的制造方法 | |
JP7060825B2 (ja) | フッ素樹脂組成物、フッ素樹脂シート、積層体及び回路用基板 | |
TWI815999B (zh) | 改質粒子之製造方法、改質粒子、分散液、組合物及積層體 | |
KR20200078471A (ko) | 수지 파우더의 제조 방법, 수지 파우더 및 적층체의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170112 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180227 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190402 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190917 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191203 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191216 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6642433 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |