JPWO2013132568A1 - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、本発明に係る半導体装置について説明する前に、それと関連する半導体装置(以下、「関連半導体装置」と呼ぶ)について説明する。
図9〜図11は、実施の形態1の変形例1に係る半導体装置の構成を示す断面図である。本変形例に係る半導体装置では、上述の半導体装置において、裏面P層25及びコレクタ電極26の構造が異なっている。なお、本変形例においても、裏面N層24(第1裏面不純物層)は、上述の半導体装置と同様に、半導体基板1の裏面上に形成されている。
図15は、実施の形態1の変形例2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。本変形例に係る半導体装置では、実施の形態1の変形例1に係る半導体装置において、裏面N層24のN型不純物濃度のピークが、半導体基板1表面から深い位置に存在している。
図17は、実施の形態1の変形例3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。本変形例に係る半導体装置では、実施の形態1の変形例1に係る半導体装置において、コレクタ電極26が、裏面N層24上に形成されずに、裏面P層形成領域において裏面P層25上に形成されている。
図18は、実施の形態1の変形例4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。本変形例に係る半導体装置では、実施の形態1の変形例1に係る半導体装置において、裏面P層25よりも不純物濃度が低い低濃度P層27(第3裏面不純物層)が追加されている。
図20は、本発明の実施の形態2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
図21は、実施の形態2の変形例1に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例1と対応するものである。
図22は、実施の形態2の変形例2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例2と対応するものである。
図23は、実施の形態2の変形例3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例3と対応するものである。
図24は、実施の形態2の変形例4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例4と対応するものである。
図25は、本発明の実施の形態3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
図26は、実施の形態3の変形例1に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例1と対応するものである。
図27は、実施の形態3の変形例2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例2と対応するものである。
図28は、実施の形態3の変形例3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例3と対応するものである。
図29は、実施の形態3の変形例4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例4と対応するものである。
図30は、本発明の実施の形態4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
図31は、実施の形態4の変形例1に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例1と対応するものである。
図32は、実施の形態4の変形例2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例2と対応するものである。
図33は、実施の形態4の変形例3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例3と対応するものである。
図34は、実施の形態4の変形例4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例4と対応するものである。
図35は、本発明の実施の形態5に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置において、実施の形態1で説明した構成要素と同一または類似するものについては同じ符号を付し、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
図36は、実施の形態5の変形例1に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例1と対応するものである。
図37は、実施の形態5の変形例2に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例2と対応するものである。
図38は、実施の形態5の変形例3に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例3と対応するものである。
図39は、実施の形態5の変形例4に係る半導体装置の構成を示す断面図である。なお、本変形例は、実施の形態1の変形例4と対応するものである。
<終端幅>
図40は、実施の形態1に係る半導体装置(図1)における、終端領域51の面積の低減効果、つまり、終端幅Leの低減効果を示す図である。なお、ここでは、各耐圧クラス(600,…,6500V)に対して、電圧耐量BVCESを一律に耐圧クラスの1.3倍としている。図40の縦軸の目盛りは関連半導体装置の終端幅Leを基準として、実施の形態1に係る半導体装置の終端幅Leを規格化した値を示す。
図41は、関連半導体装置、及び、実施の形態1に係る半導体装置(図1)の耐圧特性を評価するための実験に用いた評価回路の図である。ここでは、耐圧4500VのIGBTのデバイスを用い、評価の際の各種条件は、ゲートとエミッタとの間の電圧VGE=0V、ジャンクション温度Tj=398K、DCモードとし、電圧VCC(つまりコレクタとエミッタとの間の電圧VCE)を変更していった。また、ここでの実施の形態1に係る半導体装置として、終端幅Leが関連半導体装置の終端幅の50%程度の幅である半導体装置を用いた。
図47は、関連半導体装置、及び、実施の形態1に係る半導体装置(図1)のターンオフ特性を評価するための実験に用いた評価回路の図である。ここでは、耐圧4500VのIGBTのデバイスを用い、評価の際の各種条件は、Vcc=2800V、漏れインダクタンスLs=2.47μH、Tj=398K、JC=56A/cm2とした。また、ここでの実施の形態1に係る半導体装置として、終端幅Leが関連半導体装置の終端幅の50%程度の幅である半導体装置を用いた。
上述の図47に示した評価回路図を用いて、関連半導体装置(図57)、実施の形態1係る半導体装置(図1)及びその変形例1に係る半導体装置(図9)、実施の形態5に係る半導体装置(図35)及びその変形例1に係る半導体装置(図36)のターンオフ特性を評価した。ここでは、耐圧4500VのIGBTのデバイスを用い、評価の際の各種条件は、Vcc=3400V、Ls=2.47μH、Tj=423Kとした。そして、電流密度JCは56A/cm2から0.5A/cm2毎に上げていき、半導体装置が破壊するまで評価を行った。なお、ターンオフ遮断能力を示す指標とは、半導体装置が破壊せずに遮断可能な最大の電流密度JC(break)としている。
図52は、実施の形態1の変形例1〜変形例4(図9,図10,図11,図15)の逆耐圧特性を評価するための実験に用いた評価回路の図である。ここでは、耐圧4500VのIGBTのデバイスを用い、評価の際の各種条件は、Vcc=−100V、VGE=0V、Tj=423K,ACモードとした。
以上においては、活性領域11に形成された半導体素子はIGBT14を含むものとして説明した。しかし半導体素子はIGBT14を含むものに限ったものではなく、当該半導体素子は、図54(a)に示されるようにダイオード28を含むものであってもよいし、図54(b)に示されるように活性領域11のエミッタ構造として平面ゲート構造を有するIGBT29を含むものであってもよい。これらの構成であっても、上述と同様の効果が期待できる。
Claims (23)
- 活性領域(11)と、当該活性領域と離間してその外側を囲う終端領域(51)とが規定された第1導電型の半導体基板(1)と、
前記活性領域に形成された半導体素子(14)と、
前記活性領域の端部と前記終端領域との間の前記半導体基板の表面内に少なくとも部分的に重なって形成された第2導電型の複数の不純物層(38−1,38−2,38−3,38−4)と
を備え、
前記複数の不純物層のうち任意の隣り合う2つの第i不純物層及び第(i+1)不純物層に関し、前記第i不純物層及び第(i+1)不純物層の前記半導体基板表面における前記第2導電型の不純物濃度である表面濃度をそれぞれP(i),P(i+1)とし、前記半導体基板表面から前記第i不純物層及び第(i+1)不純物層の下端までの距離である下端距離をそれぞれD(i),D(i+1)とし、前記終端領域の前記活性領域側の端から前記第i不純物層及び第(i+1)不純物層の前記半導体基板端側の端までの距離をそれぞれB(i),B(i+1)とした場合に、P(i)>P(i+1)と、D(i)<D(i+1)と、B(i)<B(i+1)とが満たされ、
前記複数の不純物層のうち前記下端距離が最も大きい不純物層(38−4)の前記表面濃度が、前記半導体基板の前記第1導電型の不純物濃度の10〜1000倍であり、当該不純物層(38−4)の前記下端距離が、15〜30μmである、半導体装置。 - 活性領域(11)と、当該活性領域と離間してその外側を囲う終端領域(51)とが規定された第1導電型の半導体基板(1)と、
前記活性領域に形成された半導体素子(14)と、
前記活性領域の端部と前記終端領域との間の前記半導体基板の表面内に部分的に重なって形成された第2導電型の第1及び第2不純物層(39−1,39−2)と、
前記第1不純物層の前記終端領域側の下部と、前記第2不純物層の前記活性領域側の下部とに隣接する前記第2導電型の第3不純物層(39−3)と
を備え、
前記第1乃至第3不純物層の前記半導体基板表面における前記第2導電型の不純物濃度である表面濃度をそれぞれP(1),P(2),P(3)とし、前記半導体基板表面から前記第1乃至第3不純物層の下端までの距離である下端距離をそれぞれD(1),D(2),D(3)とし、前記終端領域の前記活性領域側の端から前記第1乃至第3不純物層の前記半導体基板端側の端までの距離をそれぞれB(1),B(2),B(3)とした場合に、P(1)>P(2)>P(3)と、D(1)<D(2)<D(3)と、B(1)<B(3)<B(2)とが満たされ、
前記第2不純物層(39−2)の前記表面濃度P(2)が、前記半導体基板の前記第1導電型の不純物濃度の10〜1000倍であり、前記第3不純物層(39−3)の前記下端距離D(3)が、15〜30μmである、半導体装置。 - 活性領域(11)と、当該活性領域と離間してその外側を囲う終端領域(51)とが規定された第1導電型の半導体基板(1)と、
前記活性領域に形成された半導体素子(14)と、
前記活性領域の端部と前記終端領域との間の前記半導体基板の表面内に少なくとも部分的に重なって形成された第2導電型の第1及び第2不純物層(40−1,40−2)と、
前記第1不純物層の前記終端領域側の端部に隣接する前記第2導電型の第3不純物層(40−3)と、
前記第2不純物層の前記終端領域側の端部に隣接する前記第2導電型の第4不純物層(40−4)と
を備え、
前記第1乃至第4不純物層の前記半導体基板表面における前記第2導電型の不純物濃度である表面濃度をそれぞれP(1),P(2),P(3),P(4)とし、前記半導体基板表面から前記第1乃至第4不純物層の下端までの距離である下端距離をそれぞれD(1),D(2),D(3),D(4)とし、前記終端領域の前記活性領域側の端から前記第1乃至第4不純物層の前記半導体基板端側の端までの距離をそれぞれB(1),B(2),B(3),B(4)とした場合に、P(1)>P(3)=P(4)>P(2)と、D(1)<D(3)=D(4)<D(2)と、B(1)<B(3)<B(2)<B(4)とが満たされ、
前記第4不純物層(40−4)の前記表面濃度P(4)が、前記半導体基板の前記第1導電型の不純物濃度の10〜1000倍であり、前記第2不純物層(40−2)の前記下端距離D(2)が、15〜30μmである、半導体装置。 - 活性領域(11)と、当該活性領域と離間してその外側を囲う終端領域(51)とが規定された第1導電型の半導体基板(1)と、
前記活性領域に形成された半導体素子(14)と、
前記活性領域の端部と前記終端領域との間の前記半導体基板の表面内に少なくとも部分的に重なって形成された第2導電型の第1及び第2不純物層(41−1,41−2)と
を備え、
前記第1不純物層(41−1)の前記活性領域における前記第2導電型の不純物濃度は、前記第1不純物層の前記終端領域における当該不純物濃度よりも高く、
前記第2不純物層の前記半導体基板表面における前記第2導電型の不純物濃度である表面濃度をP(2)とし、前記第1不純物層の前記表面濃度の最小をPmin(1)とし、前記半導体基板表面から前記第1及び第2不純物層の下端までの距離である下端距離をそれぞれD(1),D(2)とし、前記終端領域の前記活性領域側の端から前記第1及び第2不純物層の前記半導体基板端側の端までの距離をそれぞれB(1),B(2)とした場合に、Pmin(1)>P(2)と、D(1)<D(2)と、B(1)<B(2)とが満たされ、
前記第2不純物層(41−2)の前記表面濃度P(2)が、前記半導体基板の前記第1導電型の不純物濃度の10〜1000倍であり、前記第2不純物層(41−2)の前記下端距離D(2)が、15〜30μmである、半導体装置。 - 活性領域(11)と、当該活性領域と離間してその外側を囲う終端領域(51)とが規定された第1導電型の半導体基板(1)と、
前記活性領域に形成された半導体素子(14)と、
前記活性領域の端部と前記終端領域との間の前記半導体基板の表面内に、前記活性領域から前記終端領域に向かう方向に配列された第2導電型の第1乃至第n不純物層(42−1〜42−n)と、
前記第1乃至第n不純物層のうち少なくとも前記第1不純物層の下部に隣接する前記第2導電型の第(n+1)不純物層(42−(n+1))と
を備え、
前記第1乃至第n不純物層の前記半導体基板表面における前記第2導電型の不純物濃度である表面濃度は互いに同一であり、かつ、前記半導体基板表面から前記第1乃至第n不純物層の下端までの距離である下端距離は互いに同一であり、
前記第1不純物層及び前記第(n+1)不純物層の前記表面濃度をそれぞれP(1),P(n+1)とし、前記第1不純物層及び前記第(n+1)不純物層の前記下端距離をそれぞれD(1),D(n+1)とした場合に、P(1)>P(n+1)と、D(1)<D(n+1)とが満たされ、
前記第(n+1)不純物層(42−(n+1))の前記表面濃度P(n+1)が、前記半導体基板の前記第1導電型の不純物濃度の10〜1000倍であり、前記第(n+1)不純物層の前記下端距離D(n+1)が、15〜30μmである、半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記第1裏面不純物層上に形成されずに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成された、前記第2裏面不純物層よりも不純物濃度が低い前記第2導電型の第3裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第3裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記第1裏面不純物層上に形成されずに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項2に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成された、前記第2裏面不純物層よりも不純物濃度が低い前記第2導電型の第3裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第3裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記第1裏面不純物層上に形成されずに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成された、前記第2裏面不純物層よりも不純物濃度が低い前記第2導電型の第3裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第3裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記第1裏面不純物層上に形成されずに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項4に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成された、前記第2裏面不純物層よりも不純物濃度が低い前記第2導電型の第3裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第3裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記第1裏面不純物層上に形成されずに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項5に記載の半導体装置であって、
前記半導体基板の裏面上に形成された前記第1導電型の第1裏面不純物層と、
前記終端領域の前記半導体基板端側の領域を除く、前記活性領域内部の領域を含む所定の領域において、前記第1裏面不純物層上に形成された前記第2導電型の第2裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第1裏面不純物層上に形成された、前記第2裏面不純物層よりも不純物濃度が低い前記第2導電型の第3裏面不純物層と、
前記所定の領域を除いて前記第3裏面不純物層上に形成されるとともに、前記所定の領域において前記第2裏面不純物層上に形成された電極と
をさらに備える、半導体装置。 - 請求項6,9,12,15,18のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記半導体素子は、
前記半導体基板のトレンチ内に形成されたゲート電極を有し、
前記第2裏面不純物層の端は、
前記ゲート電極の前記終端領域側の端の箇所と、前記終端領域の両端間の距離の1/4だけ前記終端領域の前記活性領域側の端から前記半導体基板端側に位置する箇所との間に位置する、半導体装置。 - 請求項8,11,14,17,20のいずれかに記載の半導体装置であって、
前記第3裏面不純物層の不純物濃度の第2ピークは、
前記半導体基板の不純物濃度よりも高く、前記第1裏面不純物層の不純物濃度の第3ピークよりも低い、半導体装置。
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WO2015114748A1 (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-06 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
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KR102319595B1 (ko) * | 2015-05-11 | 2021-11-02 | 삼성전기주식회사 | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
US9722059B2 (en) * | 2015-08-21 | 2017-08-01 | Infineon Technologies Ag | Latch-up free power transistor |
TWI581425B (zh) * | 2015-11-24 | 2017-05-01 | Macroblock Inc | And a power semiconductor device having an edge terminal structure having a gradation concentration |
JP6820738B2 (ja) | 2016-12-27 | 2021-01-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置、電力変換装置および半導体装置の製造方法 |
WO2018139027A1 (ja) * | 2017-01-25 | 2018-08-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
JP6854654B2 (ja) * | 2017-01-26 | 2021-04-07 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP6897166B2 (ja) * | 2017-03-03 | 2021-06-30 | 株式会社豊田中央研究所 | 半導体装置 |
CN109429531A (zh) * | 2017-07-05 | 2019-03-05 | 力特有限公司 | 具有改进的反向阻断能力的igbt |
JP2019054170A (ja) | 2017-09-15 | 2019-04-04 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US10600897B2 (en) | 2017-11-08 | 2020-03-24 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device |
JP6946219B2 (ja) * | 2018-03-23 | 2021-10-06 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP7000971B2 (ja) * | 2018-04-17 | 2022-01-19 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
JP7000240B2 (ja) * | 2018-04-18 | 2022-01-19 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6964566B2 (ja) | 2018-08-17 | 2021-11-10 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP6618591B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2019-12-11 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
JP6615292B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2019-12-04 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
JP6615291B2 (ja) * | 2018-09-14 | 2019-12-04 | 三菱電機株式会社 | 電力用半導体装置 |
JP7142606B2 (ja) * | 2019-06-04 | 2022-09-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
CN110911475A (zh) * | 2019-10-30 | 2020-03-24 | 深圳深爱半导体股份有限公司 | 晶体管终端结构及其制造方法 |
JP2020182009A (ja) * | 2020-08-12 | 2020-11-05 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
WO2023063412A1 (ja) * | 2021-10-15 | 2023-04-20 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP2023176899A (ja) * | 2022-06-01 | 2023-12-13 | 株式会社 日立パワーデバイス | 半導体装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06334188A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2001077347A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-03-23 | Intersil Corp | 半導体デバイスのエッジパシベーション用の二つの傾斜を有する接合終端拡張 |
JP2001522145A (ja) * | 1997-11-03 | 2001-11-13 | インフィネオン テクノロジース アクチエンゲゼルシャフト | 半導体構成素子のための耐高圧縁部構造 |
JP2006073740A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2011204710A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5210601A (en) * | 1989-10-31 | 1993-05-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Compression contacted semiconductor device and method for making of the same |
US5539238A (en) * | 1992-09-02 | 1996-07-23 | Texas Instruments Incorporated | Area efficient high voltage Mosfets with vertical resurf drift regions |
GB9313843D0 (en) | 1993-07-05 | 1993-08-18 | Philips Electronics Uk Ltd | A semiconductor device comprising an insulated gate field effect transistor |
JPH0936388A (ja) * | 1995-07-20 | 1997-02-07 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US5852559A (en) * | 1996-09-24 | 1998-12-22 | Allen Bradley Company, Llc | Power application circuits utilizing bidirectional insulated gate bipolar transistor |
US6242784B1 (en) * | 1999-06-28 | 2001-06-05 | Intersil Corporation | Edge termination for silicon power devices |
US6472678B1 (en) * | 2000-06-16 | 2002-10-29 | General Semiconductor, Inc. | Trench MOSFET with double-diffused body profile |
JP3908572B2 (ja) * | 2002-03-18 | 2007-04-25 | 株式会社東芝 | 半導体素子 |
JP3873798B2 (ja) | 2002-04-11 | 2007-01-24 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 炭化けい素半導体素子およびその製造方法 |
US6750524B2 (en) | 2002-05-14 | 2004-06-15 | Motorola Freescale Semiconductor | Trench MOS RESURF super-junction devices |
DE10330571B8 (de) * | 2003-07-07 | 2007-03-08 | Infineon Technologies Ag | Vertikale Leistungshalbleiterbauelemente mit Injektionsdämpfungsmittel im Rand bereich und Herstellungsverfahren dafür |
JP4695961B2 (ja) * | 2005-10-20 | 2011-06-08 | パナソニック株式会社 | 高耐圧半導体スイッチング素子及びそれを用いたスイッチング電源装置 |
JP4367508B2 (ja) * | 2007-03-13 | 2009-11-18 | 株式会社デンソー | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
JP4265684B1 (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-20 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
JP4544313B2 (ja) * | 2008-02-19 | 2010-09-15 | トヨタ自動車株式会社 | Igbtとその製造方法 |
US7999315B2 (en) * | 2009-03-02 | 2011-08-16 | Fairchild Semiconductor Corporation | Quasi-Resurf LDMOS |
JP5282822B2 (ja) * | 2009-09-07 | 2013-09-04 | トヨタ自動車株式会社 | ダイオード領域とigbt領域を有する半導体基板を備える半導体装置 |
JP5544918B2 (ja) | 2010-02-16 | 2014-07-09 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素絶縁ゲート型半導体素子およびその製造方法 |
WO2011125156A1 (ja) * | 2010-04-02 | 2011-10-13 | トヨタ自動車株式会社 | ダイオード領域とigbt領域を有する半導体基板を備える半導体装置 |
JP5925991B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2016-05-25 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
EP2693483B1 (en) * | 2011-03-28 | 2016-11-16 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Vertical-type semiconductor device |
JP5621703B2 (ja) * | 2011-04-26 | 2014-11-12 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2013005304A1 (ja) * | 2011-07-05 | 2013-01-10 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
KR20140063703A (ko) * | 2011-08-17 | 2014-05-27 | 램고스, 인크. | 산화물 반도체 기판 상의 수직 전계 효과 트랜지스터 및 그 제조 방법 |
CN104040720B (zh) * | 2012-01-12 | 2016-12-14 | 丰田自动车株式会社 | 半导体装置及其制造方法 |
DE112012005981T5 (de) * | 2012-03-05 | 2015-04-09 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
JP2014204038A (ja) * | 2013-04-08 | 2014-10-27 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US20150001630A1 (en) * | 2013-06-27 | 2015-01-01 | GlobalFoundries, Inc. | Structure and methods of fabricating y-shaped dmos finfet |
US9209292B2 (en) * | 2013-07-18 | 2015-12-08 | Infineon Technologies Austria Ag | Charge compensation semiconductor devices |
US9419118B1 (en) * | 2015-11-03 | 2016-08-16 | Ixys Corporation | Trench IGBT with tub-shaped floating P-well and hole drains to P-body regions |
-
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-
2019
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06334188A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-12-02 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
JP2001522145A (ja) * | 1997-11-03 | 2001-11-13 | インフィネオン テクノロジース アクチエンゲゼルシャフト | 半導体構成素子のための耐高圧縁部構造 |
JP2001077347A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-03-23 | Intersil Corp | 半導体デバイスのエッジパシベーション用の二つの傾斜を有する接合終端拡張 |
JP2006073740A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2011204710A (ja) * | 2010-03-24 | 2011-10-13 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
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