JPH10309477A - 触媒の製造方法 - Google Patents

触媒の製造方法

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JPH10309477A
JPH10309477A JP10135900A JP13590098A JPH10309477A JP H10309477 A JPH10309477 A JP H10309477A JP 10135900 A JP10135900 A JP 10135900A JP 13590098 A JP13590098 A JP 13590098A JP H10309477 A JPH10309477 A JP H10309477A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 多孔質担体及びその上に付着された触媒活性
金属を含む改良触媒を提供すること、また、過酸化水素
の改良された製造方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は多孔質担体を触媒活性金属の塩
及び還元剤の溶液で処理して担体の上の触媒活性金属の
無電解付着を得る工程を含む多孔質担体及びその上に付
着された触媒活性金属を含む触媒の製造方法に関する。
また、本発明はその方法により得られる触媒及び過酸化
水素の製造方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は多孔質担体及びその
上に付着された触媒活性金属を含む触媒の製造方法に関
する。その方法は担体上の活性金属の無電解付着（elec
troless deposi-tion）を伴う。また、本発明はその方
法により得られる触媒及び過酸化水素の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】多孔質担体及びその上に付着された触媒
活性金属からつくられた触媒は多数の化学方法に使用さ
れる。多孔質担体は活性金属の高い比表面積及び有効な
利用を得るという利点を伴う。このような触媒は、例え
ば、過酸化水素を製造するアントラキノン法におけるア
ルキル化アントラキノンの水素化、または水素と酸素の
間の直接反応による過酸化水素の製造に使用し得る。
【０００３】過酸化水素を製造するアントラキノン法に
おいて、好適な有機溶媒、所謂使用液（working soluti
on）に溶解されたアルキル化アントラキノンが、触媒の
存在下で水素で処理されて相当するヒドロキノンを生成
する。次いでこのヒドロキノンが酸素（通常、空気）で
キノンに酸化され、同時に過酸化水素を生成し、これが
水で抽出され、一方、キノンが使用液とともに水素化工
程に戻される。
【０００４】この水素化は最新の過酸化水素製造に最も
重要な工程であり、この工程を有効に行う異なる方法が
文献に記載されている。例えば、米国特許第３００９７
８２号明細書は触媒粒子の固定床の使用を開示してお
り、米国特許第４５５２７４８号及び同第５０６３０４
３号明細書はモノリス固定床触媒の使用を開示してお
り、また米国特許第５０７１６３４号明細書は触媒被覆
スタチックミキサーの使用を開示している。
【０００５】殆どの場合、触媒活性金属は白金またはパ
ラジウムの如き貴金属である。通常、触媒は多孔質担体
を金属の塩の溶液で含浸し、次いで含浸された担体を水
素ガスの如き還元剤で処理することにより製造される。
このような方法が、例えば、米国特許第４５２１５３１
号、同第４２４０９３３号及び英国特許第９３３９７９
号明細書に記載されている。従来技術の触媒の有効性は
通常許容できるが、改良された活性を有する触媒に対す
る要望が常にある。過酸化水素製造のような化学方法は
大規模で行われるので、触媒活性の小さな増進でさえも
がその方法の経済性に重要となり得る。
【０００６】多くの金属は、例えば、W. Goldie, "Meta
llic Coating of Plastic, Electrochemical Publicati
ons Ltd 1969, p 39-52, 55-58, 99-110; F. A. Lowenh
eim,"Modern Electroplating, John Willey & Sons, In
c. 1974, p 710-711, 738-745; 及びJ.L. Vossen, W. K
ern, "Thin Film Processes, Academic Press 1978,p 2
12-221 に記載されている無電解付着または自触媒付着
により種々の表面に付着し得る。
【０００７】J.R. Kosak (DuPont), "A Novel Fixed Be
t Catalyst for the Direct Combination of H2 and O2
to H2O2", Chem. Ind. (Dekker), 1995, vol., p 115-
125,62, Catalysis of Organic Reactionsは卑金属担体
上のパラジウムの無電解付着による触媒の調製を記載し
ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は多孔質担体及
びその上に付着された触媒活性金属を含む改良触媒を提
供するという問題を解決することを目的としている。ま
た、本発明の目的は過酸化水素の改良された製造方法を
提供することである。本発明によれば、触媒活性金属が
無電解付着により付着される場合に多孔質担体上の金属
触媒の活性がかなり増大されることが驚くことにわかっ
た。無電解付着は金属イオンを金属に還元する溶液中の
化学還元剤の作用、即ち、自触媒付着により金属を触媒
表面に付着する方法を表す。
【０００９】
【課題を解決するための手段】こうして、本発明は多孔
質担体を触媒活性金属の塩及び還元剤の好ましくは水溶
液で処理して担体上の触媒活性金属の無電解付着を得る
工程を含むことを特徴とする多孔質担体及びその上に付
着された触媒活性金属を含む触媒の調製方法に関する。
こうして、触媒活性金属の塩及び還元剤は付着中に同溶
液中に現れる。
【００１０】
【発明の実施の形態】この触媒活性金属は、例えば、ニ
ッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、
金、銀、またはこれらの混合物のいずれかであってもよ
い。好ましい金属はニッケル、パラジウム、白金及び金
であり、その中でパラジウムまたは少なくとも５０重量
％のパラジウムを含む混合物が特に好ましい。この触媒
活性金属のあらゆる水溶性塩が使用し得る。有益な塩の
例は塩化物及び硝酸塩、例えば、ＰｄＣｌ2 、（ＮＨ
3 ）4 ＰｄＣｌ2 、Ｈ2 ＰｔＣｌ6 およびＰｄ（ＮＯ
3 ）2である。
【００１１】多孔質担体は不連続の粒子もしくは繊維布
の形態であってもよく、または特に好ましくは、モノリ
ス構造（これは、例えば、担体で被覆された実質的に平
行なチャンネルを形成してもよい）またはスタチックミ
キサーの形態で配置されてもよい。モノリス構造は多孔
質担体そのものまたはセラミック材料、金属材料もしく
はポリマー材料またはガラス（これは多孔質担体で被覆
されている）の如き別の材料からつくられていてもよ
い。多孔質担体に適した材料は、例えば、シリカ、ケイ
酸塩、アルミナ、カーボン、ゼオライトの如きケイ酸ア
ルミニウム、アルカリ土類金属、例えば、マグネシウ
ム、カルシウム、バリウムまたはストロンチウムの炭酸
塩、マグネシウム、アルミニウム、チタンもしくはジル
コニウムの酸化物、またはマグネシウム、ケイ素、アル
ミニウム、チタンもしくはジルコニウムの炭化物であっ
てもよい。シリカ及びアルミナが特に好ましい。この担
体は好ましくは約０．３から約５００ｍ2 ／ｇまで、最
も好ましくは約１から約２００ｍ2 ／ｇで、特に約１０
から約１００ｍ2 ／ｇまでの比表面積を有する。
【００１２】還元剤は、例えば、ギ酸、ホルムアルデヒ
ド、ヒドラジン、次亜リン酸塩もしくはホウ水素化物の
塩、またはこれらの誘導体、或いは水素の如き還元ガス
のいずれかであってもよい。好ましい還元剤は次亜リン
酸塩、特に次亜リン酸ナトリウムの如きアルカリ金属塩
である。
【００１３】また、触媒活性金属の塩の溶液は追加の物
質、例えば、安定剤、特に錯生成剤、例えば、アンモニ
アゴム（ammoniac）もしくは塩化アンモニウムのような
その誘導体、ＥＤＴＡ、ＤＴＰＡ、またはこれらの混合
物を含むことが好ましく、これらの中でアンモニアゴム
及び塩化アンモニウムが特に好ましい。この溶液が触媒
活性金属の自然沈殿を避けるのに充分な量の安定剤を含
むことが有利である。
【００１４】前記処理は、多孔質担体を触媒活性金属の
塩、還元剤及び安定剤の如きその他の任意成分を含む溶
液と接触させることにより、例えば、金属の所望の量
（これは通常担体１００ｇ当たり約０．１〜約１０ｇの
触媒活性金属である）の無電解付着を得るのに充分な時
間にわたって担体を前記溶液に浸漬し、または前記溶液
を担体のボディ中に注入することにより行い得る。通
常、好適な接触時間は約３０秒から約２時間まで、好ま
しくは約１分から約６０分までである。それより長い接
触時間は有害ではないが、しかし何ら有意な利点を伴わ
ない。温度は重要ではなく、例えば、溶液の凍結点から
沸点まで、好ましくは約５℃から約７０℃までであって
もよい。この溶液の濃度は重要ではなく、例えば、約
０．０００１ｇの触媒活性金属／溶液１リットルから飽
和、例えば、約５０ｇの金属／リットル以上までであっ
てもよい。還元剤の量は好適には実質的に全ての触媒活
性金属を担体に沈殿させるのに充分な量である。好まし
くは、この還元剤は化学量論的に過剰で添加され、担体
と接触する溶液は、例えば、１００ｇ／リットル以上の
還元剤を含んでもよいが、溶液中の触媒活性金属の自然
沈殿を避けるために約５０ｇ／リットル以下の濃度を保
つことが好ましい。溶液の強制循環を与えることによ
り、またはガス、例えば、窒素もしくはその他の不活性
ガスを溶液に吹き込むことにより（これはまた溶液から
酸素を除去するという利点を伴う）、例えば、機械攪拌
機による良好な攪拌を用意することが適切となる。この
溶液を再使用し、補給量の還元剤及び触媒活性金属の塩
を添加することが可能である。
【００１５】好ましい方法は最初に多孔質担体を触媒活
性金属の塩を含む溶液と接触させる工程、次いで還元剤
を溶液に添加する工程そして最後に所望量の金属の無電
解付着を得るのに充分な時間にわたって担体を前記溶液
と接触して保つ工程を伴う。別の好ましい方法は最初に
多孔質担体を好ましくは必要により一種以上の上記の追
加の物質、例えば、安定剤を含む水溶液中で還元剤と接
触させる工程、次いで触媒活性金属の塩を含む溶液を添
加する工程、そして最後に所望量の金属の無電解付着を
得るのに充分な時間にわたって担体を前記溶液と接触し
て保つ工程を伴う。更に別の好ましい方法は多孔質担体
を触媒活性金属の塩及び還元剤の両方を既に含む溶液と
接触させる工程、そして最後に所望量の金属の無電解付
着を得るのに充分な時間にわたって担体を前記溶液と接
触して保つ工程を伴う。
【００１６】本発明の方法は多孔質担体を活性化して無
電解付着のために触媒を吸収する工程、次いで活性化さ
れた担体を触媒活性金属の塩及び還元剤の好ましくは水
溶液で処理してその上の触媒活性金属の無電解付着を得
る工程を更に含むことが好ましい。この担体が触媒的性
質を有しない場合（これは殆どの非金属の場合であ
る）、その活性化が通常推奨される。
【００１７】無電解付着のための触媒は通常金属であ
り、例えば、アルミニウム、クロム、コバルト、金、
鉄、モリブデン、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウ
ム、ルテニウム、銀、鋼、スズもしくはタングステン、
またはこれらの混合物のいずれかであってもよい。無電
解付着に好ましい触媒はパラジウム、白金、金またはこ
れらの混合物であり、その中でパラジウムが特に好まし
い。また、付着される触媒活性金属と同じ金属または金
属の混合物を使用することが好ましい。
【００１８】活性化は最初に多孔質担体を還元剤として
作用することができるセンシタイザーの好ましくは水溶
液で処理する工程、次いで無電解付着のために触媒の塩
の好ましくは水溶液で処理して担体上に前記触媒の薄い
層の形成を得る工程を含むことが好ましい。好適には、
これらの工程は別々に行われ、センシタイザーによる処
理に続いて、例えば、水による洗浄工程またはすすぎ工
程が行われることが好ましく、その後にセンシタイジン
グされた担体が触媒の塩の溶液と接触される。これらの
処理は通常の方法、例えば、浸漬（好ましくは攪拌
下）、多孔質担体のボディ中に溶液を注入すること、噴
霧、等で行い得る。溶液の濃度は重要ではない。センシ
タイザーの溶液は、例えば、約０．０１ｇ／リットルか
ら飽和、例えば、約１００ｇ／リットル以上までを含ん
でもよく、一方、無電解付着のための触媒の塩の溶液は
約０．０００１ｇの金属／リットルから飽和、例えば、
約５０ｇ／リットル以上までを含んでもよい。夫々の工
程に適した処理時間は好ましくは約５秒から約６０分ま
で、最も好ましくは約１分から約１０分までである。そ
れより長い処理時間は有害ではないが、有意な利点を伴
わない。温度は、例えば、夫々の溶液の凍結点から沸点
まで、好ましくは約５℃から約７０℃までであってもよ
い。同じ溶液が補給薬品の添加後に数回使用し得る。
【００１９】活性化をセンシタイザーによる処理によら
ずに達成することが可能であるが、無電解付着を高温で
行うことが通常必要であり、また得られた最終触媒がセ
ンシタイザーによる処理を含む調製方法で得られた触媒
よりも低い活性を有することがわかった。
【００２０】無電解付着のための触媒は最後に付着され
た触媒活性金属と同じ金属または金属の混合物である場
合、活性化で無電解付着と同じ溶液を使用することが可
能である。例えば、活性化溶液が未だ担体と接触してい
る間に、還元剤を活性化溶液に添加することが可能であ
る。
【００２１】センシタイザーは、例えば、スズ（ＩＩ）
化合物、硝酸銀、チタン塩、次亜リン酸塩またはホルム
アルデヒドであってもよい。好ましいセンシタイザー
は、例えば、スズ（ＩＩ）化合物、例えば、塩化物、フ
ルオロホウ酸塩、硫酸塩または亜スズ酸塩であり、その
中で塩化スズ（ＩＩ）が特に好ましい。また、センシタ
イザーの溶液は好ましくは酸、最も好ましくは塩酸を含
む。
【００２２】それ故、触媒の特に好ましい調製方法は
（ａ）多孔質担体を還元剤として作用することができる
センシタイザーの好ましくは水溶液で処理する工程、
（ｂ）工程（ａ）からの担体を、好ましくは水で洗浄す
る工程、（ｃ）工程（ｂ）からの担体を無電解付着のた
めの触媒の塩の好ましくは水溶液で処理して前記触媒の
薄い層の形成を得る工程、（ｄ）工程（ｃ）からの担体
を好ましくは一種以上の安定剤、例えば、アンモニアゴ
ム及び／または塩化アンモニウムをまた含む触媒活性金
属の塩の溶液と接触させる工程、及び（ｅ）還元剤を工
程（ｄ）の溶液に添加して多孔質担体の上の触媒活性金
属の無電解付着を得る工程（その還元剤は過剰に添加さ
れて実質的に全ての触媒活性金属を担体に付着すること
が好ましい）を含む。
【００２３】また、工程（ｄ）及び（ｅ）は反対の順序
で行うことができ、または担体を触媒活性金属および還
元剤の両方を含む溶液と接触させることにより同時に行
うことができる。また、本発明は上記方法に従って担体
上の活性金属の無電解付着により得られる多孔質担体及
びその上に付着された触媒活性金属を含む触媒に関す
る。通常の含浸方法により製造された触媒と較べて、本
発明の触媒は特に水素化そして特にアントラキノン及び
その誘導体の水素化だけでなく、水素と酸素の間の直接
反応による過酸化水素の製造について高い活性を示す。
また、本発明の触媒中の触媒活性金属は多孔質担体中に
一様に分布されるのではなく、主としてその外表面に局
在化されることがわかり、これが予期しない程に高い活
性の一つの説明であるかもしれない。触媒の更に別の特
徴に関して、その調製の上記説明が参考にされる。
【００２４】また、本発明は上記の触媒の存在下の有機
溶媒の使用液中のアントラキノンまたはその誘導体の交
互の酸化及び水素化を伴うアントラキノン法による過酸
化水素の製造方法に関する。
【００２５】この水素化は好適には約０℃から約１００
℃まで、好ましくは約４０℃から約７０℃までの温度
で、約１０ｋＰａから約１５００ｋＰａまで、好ましく
は約２００ｋＰａから約６００ｋＰａまでの圧力で行わ
れる。２−アルキル−９，１０−アントラキノンの如き
アルキル化アントラキノンが使用されることが好まし
い。有益なアルキル−アントラキノンの例は２−エチル
アントラキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノ
ン、２−ヘキセニルアントラキノン、アルキルアントラ
キノンの共融混合物、２−アミルアントラキノンの混合
物、及びそれらのテトラヒドロ誘導体である。使用液は
一種以上のキノン溶媒及び一種以上のヒドロキノン溶媒
を含むことが好適である。好適なキノン溶媒として、芳
香族炭化水素、脂肪族炭化水素またはナフテン系炭化水
素、例えば、ベンゼン、アルキル化ベンゼンまたはポリ
アルキル化ベンゼン、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼ
ンまたはトリメチルベンゼン、アルキル化トルエンまた
はアルキル化ナフタレン、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルト
ルエンまたはメチルナフタレンが挙げられる。好適なヒ
ドロキノン溶媒として、アルキルホスフェート、アルキ
ルホスホネート、ノニルアルコール、アルキルシクロヘ
キサノールエステル、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカーボンアミ
ド、テトラアルキル尿素、Ｎ−アルキル−２−ピロリド
ンが挙げられる。特に好ましいヒドロキノン溶媒が米国
特許第４８０００７３号及び同第４８０００７４号明細
書に記載されており、アルキル置換カプロラクタム及び
環状尿素誘導体、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換ア
ルキル尿素を含む。
【００２６】更に、本発明は上記の触媒の存在下の水素
及び酸素の直接反応による過酸化水素の製造方法に関す
る。その方法はガス形態の水素及び酸素を好ましくは水
性反応媒体中に触媒粒子のスラリーを含む加圧反応器に
連続的に供給することにより行われることが好適であ
る。酸素は実質的に純粋なガスとして、または空気の如
き酸素含有ガスの形態で供給されてもよい。反応器中の
気相は、例えば、殆ど０モル％から約２５モル％までの
過剰の酸素を含むことが好適である。その反応は、好適
には約０．１モル％以上、好ましくは約１モル％以上の
水素の高い含量により有利にされるが、安全性の理由の
ために、約１９モル％の異常爆発限界を越えないことが
好ましく、約５モル％の爆発限界を越えないことが最も
好ましい。反応媒体は好適には酸性であり、好ましくは
約０．０１モル／リットルから約１モル／リットルまで
の遊離水素イオン、最も好ましくは約０．０２モル／リ
ットルから約０．２モル／リットルまでの遊離水素イオ
ンを含む。酸は、例えば、硫酸、亜リン酸または過塩素
酸の形態で供給されてもよく、これは好ましくは約０．
０１モル／リットルから約１モル／リットルまで、最も
好ましくは約０．０２モル／リットルから約０．２モル
／リットルまでの量で存在する。更に、反応媒体はまた
好適には一種または数種のハロゲン化物イオン、例え
ば、臭化物イオン、塩化物イオン、またはヨウ化物イオ
ンを含み、その中で臭化物イオンが特に好ましい。ハロ
ゲン化物は好ましくは重量基準で約１ｐｐｍから約１０
００ｐｐｍまで、最も好ましくは重量基準で約２ｐｐｍ
から約１００ｐｐｍまでの量で存在し、アルカリ金属
塩、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩もしくはこれら
の混合物の形態で、または相当する酸として供給されて
もよい。圧力は好適には約１０バールから約２００バー
ルまで、好ましくは約３０バールから約１００バールま
でに保たれ、一方、温度は好適には約０℃から約１００
℃まで、好ましくは約２０℃から約７０℃までに保たれ
る。充分な物質移動を得るために、反応媒体は攪拌また
はポンプ輸送されることが好ましく、またはガスが反応
器の底に注入されることが好ましい。生成された過酸化
水素は反応媒体に溶解し、これがフィルター（その上に
触媒が保持される）を通して反応器から取り出される。
過酸化水素は通常の単位操作、例えば、蒸発、蒸留また
はこれらの組み合わせで反応媒体から分離し得る。次い
で反応媒体が、必要により補給薬品、例えば、硫酸、ア
ルカリ金属臭化物等の添加後に、反応器に循環し得る。
【００２７】好適かつ好ましい触媒に関して、触媒及び
その調製方法の上記説明が参考にされる。過酸化水素製
造そのものに関する更なる詳細が、本明細書に引用され
た特許、特に米国特許第４５５２７４８号及び同第４８
０００７４号明細書に見られる。本発明が以下の実施例
により更に説明される。特にことわらない限り、全ての
含量及び％は重量基準である。
【００２８】
【実施例】パラジウムを下記の０．１リットルの合計容
積を有するチャンネルを含むモノリス多孔質シリカ担体
に付着することにより、本発明の触媒を調製した。
【００２９】下記の水溶液を調製した。 （ａ）ＨＣｌ４．６７ｇ、水９５．４３ｇ及びＳｎＣｌ
2 ・２Ｈ2 Ｏ（ｓ）１．１９２ｇを混合した。 （ｂ）酸性ＰｄＣｌ2 水溶液（７ｇ Ｐｄ／ｌ）３．７
５ｍｌ、ＨＣｌ０．４ｇ及び１００ｍｌの容積にする水
を混合した。 （ｃ）ＮＨ3 １８．８５ｇ及びＮＨ4 Ｃｌ（ｓ）６．７
６ｇを水１２１．２６ｇに溶解した。この溶液をＰｄＣ
ｌ2 の酸性水溶液（７ｇ Ｐｄ／ｌ）と混合し、得られ
る溶液を一夜放置した。 （ｄ）ＮａＨ2 ＰＯ2 ・２Ｈ2 Ｏ３．０８ｇ及び水４
４．７ｇを混合した。 次いで以下の工程を行った。 （１）センシタイジング：モノリス担体を溶液（ａ）に
２分間浸漬し、次いで４ｘ２５０ｍｌの水で洗浄した。 （２）活性化：センシタイジングされた担体を溶液
（ｂ）に２分間浸漬した。 （３）無電解付着：活性化された担体を溶液（ｃ）に浸
漬し、その後に溶液（ｄ）を徐々に添加した。４５分後
に、担体（これは黒色になっていた）を取り出し、酸性
水溶液中で１０分間洗浄した。次いでそれを５０℃で一
夜乾燥させた。
【００３０】調製された触媒をアルキルアントラキノン
の水素化に使用し、その活性を測定し、そして担体をパ
ラジウム塩で含浸し、続いて水素雰囲気中で還元するこ
とにより調製された基準触媒と比較した。結果を下記の
表に示す。
【００３１】
【表１】
【００３２】本発明の触媒は、新しいものとしても、及
び操作の１６日後の両方で、基準触媒よりもかなり高い
活性を有することが明らかである。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 多孔質担体及びその上に付着された触媒
    活性金属を含む触媒の製造方法であって、その方法が前
    記多孔質担体を触媒活性金属の塩及び還元剤の溶液で処
    理してその担体上に触媒活性金属の無電解付着を得る工
    程を含むことを特徴とする触媒の製造方法。
  2. 【請求項２】 前記触媒活性金属がパラジウムまたは少
    なくとも50重量％のパラジウムを含む混合物であること
    を特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記触媒活性金属の塩の溶液が塩化アン
    モニウムもしくはアンモニアゴムまたはこれらの混合物
    を更に含むことを特徴とする請求項１または２に記載の
    方法。
  4. 【請求項４】 前記還元剤がアルカリ金属次亜リン酸塩
    であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一
    項に記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記方法が多孔質担体を活性化させて無
    電解付着のために触媒を吸収する工程、次いで活性化さ
    れた担体を触媒活性金属の塩及び還元剤の溶液で処理し
    て前記担体上に触媒活性金属の無電解付着を得る工程を
    更に含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか
    一項に記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記活性化が最初に多孔質担体を還元剤
    として作用することができるセンシタイザーの溶液で処
    理する工程、次いで無電解付着のために触媒の塩の溶液
    で処理して前記担体上に前記触媒の薄い層の形成を得る
    工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】 前記センシタイザーがスズ(II)化合物で
    あることを特徴とする請求項６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記多孔質担体がシリカ、ケイ酸塩、ア
    ルミナ、カーボン、マグネシウム、カルシウム、バリウ
    ムもしくはストロンチウムの如きアルカリ土類金属の炭
    酸塩、マグネシウム、アルミニウム、チタンもしくはジ
    ルコニウムの酸化物、またはマグネシウム、ケイ素、ア
    ルミニウム、チタンもしくはジルコニウムの炭化物から
    つくられることを特徴とする請求項１ないし７のいずれ
    か一項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 請求項１ないし８のいずれか一項に記載
    の方法で担体上の活性金属の無電解付着により得られる
    多孔質担体及びその上に付着された触媒活性金属を含む
    触媒。
  10. 【請求項１０】 触媒の存在下の有機溶媒の作用液中の
    アントラキノンまたはその誘導体の交互の酸化及び水素
    化を伴うアントラキノン法による過酸化水素の製造方法
    であって、前記水素化が請求項１ないし８のいずれか一
    項に記載の方法で担体上の活性金属の無電解付着により
    得られる多孔質担体及びその上に付着された触媒活性金
    属を含む触媒の存在下で行われることを特徴とする過酸
    化水素の製造方法。
  11. 【請求項１１】 水素及び酸素の直接反応による過酸化
    水素の製造方法であって、その反応が請求項１ないし８
    のいずれか一項に記載の担体上の活性金属の無電解付着
    により得られる多孔質担体及びその上に付着された触媒
    活性金属を含む触媒の存在下で行われることを特徴とす
    る過酸化水素の製造方法。
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