JP2002029711A5

JP2002029711A5 -

Info

Publication number: JP2002029711A5
Application number: JP2001164088A
Authority: JP
Filing date: 2001-05-31
Publication date: 2008-06-19
Anticipated expiration: 2021-05-31

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素と酸素の直接反応により過酸化水素を合成する方法であって、ハロゲン化助触媒および酸助触媒を含む溶剤媒体中で、担体上に、触媒の個々の金属成分を順次かつ交代で分散させることにより製造された２元金属触媒の存在下で行なうことを特徴とする方法。
【請求項２】
触媒の金属成分が白金族の金属から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
金属がパラジウムおよび白金である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
触媒が、パラジウムを０．０１〜５重量％の量で、白金を０．０１〜１重量％の量で含み、白金／パラジウムの原子比が０．１／９９．９〜５０／５０である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
触媒が、パラジウムを０．４〜２重量％の量で、白金を０．０５〜０．５重量％の量で含み、白金／パラジウムの原子比が１／９９〜３０／７０である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
担体が、活性炭、スルホン基で官能化された活性炭、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナおよびゼオライトから選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
担体が、灰分が低く、表面積が少なくとも１００ｍ^２／ｇである活性炭である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
活性炭の表面積が３００ｍ^２／ｇを超える、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
２元金属触媒が、
（ａ）触媒系の個々の金属成分前駆物質の溶液または懸濁液を製造する工程、
（ｂ）工程（ａ）で得た溶液または懸濁液を担体上に順次分散させる工程、および
（ｃ）分散工程と分散工程の間に、金属の還元剤で触媒を処理し、１２０〜１４０℃で乾燥させる工程
により製造される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
工程（ｂ）および（ｃ）を１回または数回繰り返す、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
金属の前駆物質が、酢酸塩、ハロゲン化物および硝酸塩から選択された金属の塩または可溶性錯体である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
触媒系の個々の金属成分の前駆物質を、沈殿、含浸または吸着により、担体上に分散させる、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
金属の還元が、熱処理、および／または還元性物質を使用する化学的処理により行なわれる、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
還元性物質が、水素、ギ酸ナトリウムまたはクエン酸ナトリウムである、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
反応媒体が、水、Ｃ_１〜Ｃ_３アルコールまたはそれらの混合物から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
アルコールがメタノールである、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
反応媒体が、アルコール：水の、重量比５０：５０〜９９．９：０．１の混合物である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１８】
アルコール：水の重量比が９０：１０〜９９：１である、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
ハロゲン化助触媒が、液体反応媒体中でハロゲンイオンを発生し得る物質から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
ハロゲン化助触媒が、ブロマイドイオンを発生し得る物質から選択される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
ハロゲン化助触媒が、臭化水素酸およびその、反応媒体に可溶な塩である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
ハロゲン化助触媒が、アルカリ金属臭化物、臭化ナトリウム、または臭化アンモニウムである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
化合物が臭化水素酸、臭化ナトリウムまたは臭化カリウムである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
ハロゲン化助触媒の濃度が、溶液１ｋｇあたり０．１〜５０ｍｇである、請求項１に記載の方法。
【請求項２５】
ハロゲン化助触媒の濃度が、溶液１ｋｇあたり１〜１０ｍｇである、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
酸助触媒が、液体反応媒体中で水素イオンＨ^＋を発生することができる物質から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
酸助触媒が、無機酸または有機酸から選択される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
酸助触媒が、硫酸、リン酸、硝酸、またはスルホン酸である、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
酸助触媒が硫酸またはリン酸である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
酸助触媒の濃度が、溶液１ｋｇあたり２０〜１０００ｍｇである、請求項１に記載の方法。
【請求項３１】
酸助触媒の濃度が、溶液１ｋｇあたり５０〜５００ｍｇである、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
触媒が、反応媒体１リットルあたり、触媒中に含まれる総金属が１０^−６〜１０^−２モルになる量で使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項３３】
触媒が、反応媒体１リットルあたり、触媒中に含まれる総金属が１０^−４〜１０^−３モルになる量で使用される、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
反応が温度−５〜９０℃で行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３５】
温度が２〜５０℃である、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
反応が、大気圧より高い総圧で行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項３７】
総圧が５０〜３００気圧である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
供給原料中の水素：酸素のモル比が１：２〜１：１００である、請求項１に記載の方法。
【請求項３９】
供給原料中の水素：酸素のモル比が１：３〜１：１５である、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
反応が、窒素、ヘリウムおよびアルゴンから選択された不活性ガスの存在下で行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項４１】
不活性ガスが窒素である、請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
液体反応媒体と接触している気相中の水素濃度が４．５モル％未満の値に維持される、請求項１に記載の方法。
【請求項４３】
反応が、酸素供給源として空気を使用して行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項４４】
反応がバッチ式または連続式に行なわれる、請求項１に記載の方法。
【請求項４５】
過酸化水素の溶液が、オレフィン、芳香族炭化水素、アンモニアおよびカルボニル化合物から選択された基質の、触媒としてケイ酸チタンを使用する酸化製法に直接使用される、請求項１に記載の方法。
【請求項４６】
触媒の個々の金属成分前駆物質を順次かつ交代で分散させることにより製造される、過酸化水素の製造に有用な２元金属触媒であって、
（ａ）触媒系の個々の金属成分前駆物質の溶液または懸濁液を製造する工程、
（ｂ）工程（ａ）で得た溶液または懸濁液を担体上に順次分散させる工程、および
（ｃ）分散工程と分散工程の間に、金属の還元剤で触媒を処理し、１２０〜１４０℃で乾燥させる工程
により製造されることを特徴とする２元金属触媒。
【請求項４７】
工程（ｂ）および（ｃ）を１回または数回繰り返す、請求項４６に記載の触媒。
【請求項４８】
触媒の金属成分が、白金族の金属から選択される、請求項４６に記載の触媒。
【請求項４９】
金属がパラジウムおよび白金である、請求項４７に記載の触媒。