JP3969673B2 - 過酸化水素の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
（技術分野）
本発明は、触媒の存在下で水素と酸素の間の直接反応により過酸化水素を製造し、過酸化水素ガスを生成する方法に関する。
【０００２】
（背景技術）
水素と酸素との間の直接反応による過酸化水素の製造は、例えば、米国特許４６６１３３７、米国特許４６８１７５１、米国特許４７７２４５８、米国特許５１８０５７３、米国特許５１２８１１４および米国特許５３３８５３１、並びにジェイ・アール・コザック（デュポン）「Ｈ₂とＯ₂との直接化合によるＨ₂Ｏ₂生成用新規固定床触媒」、化学工業（デッカー）、１９９５、Ｖｏｌ．６２、有機反応の触媒作用(J.R. Kosak (DuPont), "A Novel Fixed Bed Catalyst for the Direct Combination of H₂ and O₂ to H₂O₂", Chem. Ind. (Dekker), 1995, Vol. 62, Catalysis of Organic Reactions)に記載されているように、水素と酸素を水性反応媒体中で触媒と接触させることにより行なうことができる。
【０００３】
しかしながら、これらの方法での過酸化水素の生成はむしろ遅い。更に、高濃度の過酸化水素を得ることは難しく、生成物（製品）はまた不純物として反応媒体中に、硫酸および／または臭化物イオン若しくは塩化物イオンのような添加剤も含む。これらの問題は、少量の反応体のみが反応媒体へ溶解でき、しかも過酸化水素の生成を促進するのと同じ触媒が、また水と過酸化物の、水と酸素への分解の直接形成にも触媒反応を及ぼすという事実によるとみなされている。
【０００４】
反応媒体として有機溶剤中で行なわれた同様な方法がＷＯ９７／３２８１１に記載されている。しかしながら、水溶液の過酸化水素を得るために、抽出または脱着のような分離段階が必要である。
【０００５】
ドイツ（ＤＥ）特許５５８４３１、スイス（ＣＨ）特許１４０４０３、米国特許２３６８６４０およびＷＯ９７／３２８１２はガス相の水素と酸素からの過酸化水素の製造を開示している。しかしながら、極限条件下で実施をしなければ選択性は低く；最終生成物の多くは、過酸化水素ではなく、水である。
【０００６】
米国特許５５００２０２は、反応器での過酸化水素の製造を開示しており、ここで水素と酸素は固体触媒の表面でガス状態にて反応し，生成した過酸化水素は、反応器を少しずつ流れて通り抜ける液体へ溶解する。しかしながら，この方法でもまた低濃度および低純度の過酸化水素溶液のみしか得ることができない。
【０００７】
（発明の開示）
特別の種類の触媒を用いることにより、これらの問題を解決し、ガス相で得られる高い反応速度を高い選択性と結びつけることが可能なことが見出された。
【０００８】
従って、本発明は、触媒を備えた反応器へ、水素と酸素を含むガスを供給する段階；水素と酸素ガスを触媒と接触させ、これにより過酸化水素を生成する段階、および；反応器から過酸化水素含有ガスを取り出す段階、を含む過酸化水素を連続的に製造する方法に関する。反応器の自由容積は従って、好ましくは、水素、酸素および過酸化水素、並びに最も好ましくはまた窒素のような不活性ガスで満たされる。触媒は、触媒的に活性な物質と異なる固定相の層で少なくとも一部を覆われた、固体の触媒的に活性な物質を含む。固定相は、適切には単原子層または単分子層から約１００μｍまで、好ましくは約０．００２μｍ〜約２５μｍまで、最も好ましくは約０．００４μｍ〜約５μｍまでの厚さを有する。これらの範囲は固定相の厚さの平均値を云い、これは、例えば、繰り返しスパッター分析(sputter analysis)により測定できたり、または式ｍ／（ρｓ）から計算でき、ここでｍは固定相の重さ、ρは固定相の密度およびｓは基材の全表面（標準的にＢＥＴ比表面積）である。もし厚さの直接測定が何かの理由によりできなかったら、好ましくは、固定相は触媒的に活性な物質の実質的に全ての活性部位を覆う。
【０００９】
いかなる特定の理論に結び付けることなく、水素と酸素は固定相に溶解し、その中へ運ばれ、触媒的に活性な物質の表面へ到達し、この表面上で過酸化水素を生成する反応が起こるとみなされている。過酸化水素と任意に水は次に固定相を通って運ばれ、反応器中のガス状混合物へ放たれる。従って、固定相は、これは液体または固体であることができるが、適切には水素と酸素をガス状環境から触媒的に活性な物質へ溶解したり、運んだりする能力を有し、過酸化水素と好ましくはまた水を反対方向へ運ぶ能力を有する。最も好ましくは、水は過酸化水素が有する溶解度より高い固定相での溶解度を有する。このような触媒の使用は、極度に高い圧力で実施する必要なしに、高い反応速度と選択性での過酸化水素の製造を可能にする。
【００１０】
固定相は、反応器に広がる条件（温度、圧力等）のもとで好ましくは少なくとも２４時間、最も好ましくは少なくとも５００時間の寿命を有すべきである。固定相に適した物質は好ましくは十分に親水性であり、約９０°未満の接触角を示し、低揮発性の、好ましくは有機の、ガムまたは液体を含む。接触角は、例えば、界面およびコロイド科学、ｖｏｌ．５、編集イー・マティエビック、ウィレイ・インターサイエンス−１９７２、ｐ ２１１；物理化学、ダブル・ジェイ・モールドゥ、ロングマンズ １９６２、ｐ ７３０(Surface and Colloid Science, vol. 5, Ed E Matijevic, Wiley Interscience-1972, p 211; Physical Chemistry, W J Moorde, Longmans 1962, p 730)に記載されているような公知の方法で測定できる。どのような物質も好ましくは高沸点であり、これは適切には１００ｋＰａでの沸点が少なくとも約１００℃、好ましくは少なくとも約２００℃、最も好ましくは少なくとも約３００℃であることを意味する。固定相は、例えばシラン化(silanisation)試薬を用いることにより、化学結合で触媒および／または任意の触媒支持体へ結合できる。もし必要なら、損失を補うために、反応器へ流入するガス流へ、固定相のために少量の物質を添加することができる。
【００１１】
固定相用の有用な物質の例としては、混合した、重合したまたは架橋した形状での以下の成分の一つまたはいくつかが挙げられる：
好ましくは８〜３０の炭素原子を有する、すべての種類の炭化水素；ポリエチレン、ポリプロピレン、スクアラン、スクアレン、炭化水素油、炭化水素グリース等のようなポリマー；フルオロカーボン、クロロフルオロカーボン等のようなハロゲン化炭化水素；デカノール、シクロヘキシルメタノール、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール等のようなアルコールとポリオール；ジメチルポリシロキサンまたはここでメチル基が水素、フェニル、ビニル、トリフルオロプロピル、シアノエチルシアノプロピルまたはクロロフェニルのような他の基により置換されたもののようなポリシロキサン；単官能シランＲ₁Ｒ₂Ｒ₃ＳｉＸ、ここでＲが例えば水素、アルキル、フェニル、エーテル、エステル、アミド、アミン等であり、Ｘがハロゲン、ヒドロキシル、エーテル、アミン、アミド等であるもの；多官能シランＲ_n-1−Ｓｉ−Ｘ_n、ここでＲとＸが上述の型の基であるもの（例えばトリメトキシメチルシラン）；例えば酸素および／または窒素含有結合で架橋した単官能シランまたは多官能シラン；エチレングリコール、プロピレングリコールのようなジオールまたは重合したジオールとアジピン酸、テレフタル酸若しくはセバシン酸のようなジカルボン酸（例えばアジピン酸エチレングリコールまたはセバシン酸エチレングリコール）、からのポリエステル；任意に、末端で例えばメタノールのエーテルまたは例えばステアリン酸のエステルを生成するために誘導体化されている、ポリエチレングリコールのようなポリグリコール；フタル酸ジノニル、セバシン酸ジオクチルのような一酸または多重酸のエステル；マンニトール、ペンタエリトリトールまたはソルビトール（例えばステアリン酸ソルビトール、ショ糖酢酸またはイソ酪酸エステル）のようなモノ−、ジ−またはオリゴマーのポリヒドロキシ化合物のエステル。
【００１２】
固定相用の好ましい物質は、シランオキサン、シラン、エーテル、エステル、アルコール、酸、ハロゲン化物およびこれらの塩から選ばれる有機化合物を含む。他の好ましい物質は、ヒドロキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基、スルフォン酸基、ホスホン酸基、アミン基、第四級アンモニウム基、アルコキシド基、金属および／または他の極性基を含有する有機化合物を含む。化合物は、任意に重合した形状または架橋した形状および／または塩であることができる。
【００１３】
固定相はまた、低沸点液体のフィルムまたは吸着質であることができ、これは触媒的に活性な物質へまたはその上の多孔支持体へ直接付着した、水またはメタノールのような物である。
【００１４】
固定相はまた、選択性または反応速度を改善する添加剤も含んでよく、添加剤は無機酸若しくは有機酸またはハロゲン化合物、例えば、硫酸、燐酸、臭化水素酸、塩酸、ホスホン酸、ヘキサデカンスルホン酸のようなスルホン酸、またはこれらの塩、のようなものである。
【００１５】
触媒的に活性な物質は、好ましくはVIII族金属または金、最も好ましくはパラジウム、プラチナまたはこれらの混合物から選ばれた一つ以上の貴金属を含むことができる。最も好ましくは、この活性物質は約９０〜１００重量％のパラジウムと０〜約１０重量％のプラチナとの混合物である。触媒的に活性な物質はまた、より活性でないニッケルのような物質であることもでき、これはいくつかの方法において反応の選択性を増す。
【００１６】
触媒的に活性な物質は好ましくは固体支持体上へ沈着される。触媒支持体の低い全表面積は反応の選択性を助けることが見出されている。適切には支持体のＢＥＴ面積は約１００ｍ²／ｇ未満、好ましくは約２０ｍ²／ｇ未満、最も好ましくは約１０ｍ²／ｇ未満、そして特に最も好ましくは約１ｍ²／ｇ未満である。ＢＥＴ面積は好ましくは少なくとも約０．００００５ｍ²／ｇ、最も好ましくは少なくとも約０．０１ｍ²／ｇである。支持体用の適切な物質は、例えば、シリカ、アルカリまたはアルカリ土類金属の珪酸塩、アルミナ、炭素、ゼオライトのような珪酸アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、バリウムまたはストロンチウムのようなアルカリ土類金属の炭酸塩、マグネシウム、アルミニウム、チタンまたはジルコニウムの酸化物、またはマグネシウム、シリコン、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、セラミック物質若しくは有機ポリマーの炭化物を含む。好ましい有機ポリマーは、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルフォン酸基、アミン基、第四級アンモニウム基および／または他の極性基を含む。最も好ましい支持体物質は、ポリフルオロカーボン、ガラス、実質的に純粋なシリカ、石英または実質的に純粋な酸化アルミニウムから選ばれる。低い表面積の支持体が好まれ、このような支持体は多孔性でないビーズまたは１グラム当り約１０ｍ²未満、最も好ましくは１グラム当り約１ｍ²未満の表面積を有する物質のようなものである。もし支持体が多孔性であるなら、細孔はかなり大きく、そして好ましくは約１０ｎｍを超える直径を有する細孔、最も好ましくは約２０ｎｍを超える直径を有する細孔が、全細孔容積の約５０％を超え、最も好ましくは約８０％を構成するのが好ましい。
【００１７】
また、触媒的活性物質を、触媒支持体なしに配置することも可能である。支持されてない触媒的に活性な物質の好ましい配置は、多孔質粒子床の形状、多孔質金属気泡床の形状および金網床の形状である。
【００１８】
触媒は、例えば平均粒子径約０．１〜約１０ｍｍ、好ましくは約０．３〜約５ｍｍの固定粒子床の形状であってもよく、モノリスの切断面形状であってもよく、例えば直径約１〜約２０００μｍを有する繊維形状であってもよく、または例えば、平均粒子径約２０〜約５０００μｍ、好ましくは約１００〜約５００μｍを有する流動床の形状として存在できる。粒子は球状または非球状であることができ、大きさは粒子を横切る一番小さな寸法として定義される。また、触媒を網または箔の形状で用いることも可能である。
【００１９】
触媒は従来の方法で調製できる。一つの方法においては、任意に支持体上へ沈着した、触媒的に活性な固体物質に、高沸点液体またはガムのような他の相の物質を、活性部位を少なくとも部分的に覆うように塗布する。塗布は、例えば繊維の表面改質として公知の方法で成し遂げられ、この方法は蒸着、化学蒸着、含浸、溶液からの沈殿、塗装等のようなものである。適切な方法は、例えば、ケイ・ケイ・アンガー、多孔性シリカ、ジャーナル・オブ・クロマトグラフィー・ライブラリー、Ｖｏｌ．１６、エルセビアー １９７９；被膜技術ハンドブック、編集ディー・サタス、マーセル・デッカー １９９１；フィルムおよび被膜用析出技術のハンドブック、編集アール・ブンシャー、ノイエス出版 １９９４(K.K Unger, Porous silica, J. of Chromatography Library, Vol. 16, Elsevier 1979; Coating Technology Handbook, Ed D Satas, Marcel Dekker 1991;およびHandbook of Deposition Technologies for Films and Coatings. Ed: R Bunshah, Noyes Publishing 1994)に記載されている。
【００２０】
支持体上への触媒的に活性な物質の沈着は、ＥＰ８７８２３５および前述の米国特許５３３８５３１とジェイ・アール・コザック（デュポン）「Ｈ₂とＯ₂との直接化合によるＨ₂Ｏ₂生成用新規固定床触媒」、化学工業（デッカー）、１９９５、Ｖｏｌ．６２、有機反応の触媒作用、に記載されているような、いかなる公知の方法によっても達成できる。
【００２１】
約０℃のような低いおよび約２００℃のように高い、触媒と接触するガスの温度で実施することは可能であるが、温度は適切には約２０〜約１５０℃、好ましくは約７０〜約１２０℃、最も好ましくは約７０〜約１００℃に保持される。好ましくは、前記温度は過酸化水素の縮合温度を超えるべきであり、最も好ましくは少なくとも約５℃ほど前記縮合温度を超えるべきである。高温は、ガス流中に高濃度の過酸化水素を得ることができ、より高価でない製法装置を用いることができるので好都合である。しかしながら、選択性は温度が高すぎると低い。通常、外部源から熱を供給することなく、水素と酸素の間の反応により生成された熱のみを用いて実施することが可能である。
【００２２】
（発明を実施するための最良の形態）
好ましい実施態様において、水素と酸素を含むガス性反応混合物を入口より反応器へ供給し、過酸化水素が豊富なガスを反応器出口から取り出す。触媒と接触しているガス性反応混合物の、反応器への入口直後の位置と反応器出口位置の間の温度差は、適切には約４０℃未満、好ましくは２５℃未満、最も好ましくは１５℃未満に維持される。原則的に反応器を実質的に恒温状態で運転することは可能であるが、出口における反応混合物の温度を、反応器入口の温度より少なくとも約２℃、最も好ましくは少なくとも約５℃高く維持することが好ましい。適切には反応混合物の温度は、その中のいかなる成分の凝固点をも超えて維持され、最も好ましくは−（マイナス）１０℃超で保持される。圧力は、適切には１００バール未満、例えば約３〜約７０バール、好ましくは約６〜約５０バール、最も好ましくは約１０〜約２０バールに保持される。
【００２３】
本方法は、適切には連続的に水素と酸素を、触媒を含む反応器を通って流れるガス状反応混合物へ供給し、反応器の出口で過酸化水素の豊富なガスを得ることにより行なわれる。酸素は実質的に純粋なガスとしてまたは、好まれるように、空気のような酸素含有ガスの形状で供給できる。好ましくは、反応混合物は約２〜約９７モル％の酸素、最も好ましくは約４〜約７０モル％の酸素を含む。本方法の安全性は、酸素濃度が約５モル％未満に保たれている場合に増大することが見出されている。高水素濃度は過酸化水素製造へ有利に働くが、安全性の問題もまた含むだろう。従って、反応混合物中の水素濃度が、約１５モル％のデトネーション限界未満で運転するのが好ましく、約５モル％の爆発限界未満で運転することが最も好ましい。反応器中の反応混合物の最低水素濃度は適切には約１モル％、好ましくは約２モル％である。もし反応混合物の水素が尽きると、触媒が酸化および不動態化する恐れがある。本方法は、反応器中の水素濃度と酸素濃度の両方が、約５モル％未満でれば特に安全である。０．２モル％を超えた、好ましくは０．３モル％を超えた、最も好ましくは０．４モル％を超えた過酸化水素を含む、過酸化水素の豊富なガスを得るように運転することが好ましい。安全性の理由で、ガス中の過酸化水素が約５モル％を超えないことが好ましい。好ましくは、本方法は反応器中の限定された水素転化率で実施され、反応器の出口に比べた入口における反応混合物中の水素割合の差約０．７モル％未満、最も好ましくは約０．４モル％未満、しかし好ましくは少なくとも約０．０１モル％、最も好ましくは少なくとも約０．０７モル％を得る。例えば、もし反応器の入口での水素濃度が３．５モル％なら、出口での濃度は好ましくは２．８〜３．４９モル％、最も好ましくは３．１〜３．４３モル％である。水素、酸素および過酸化水素に加え、反応混合物は通常、窒素および／または他の実質的に不活性なガスを含む。
【００２４】
本方法は、適切には反応器の出口からの過酸化水素が豊富なガスの少なくとも一部を処理し、過酸化水素を回収し、好ましくはまたガスも冷却し、次にこのガスを反応器へ戻す段階を含む。この処理の間のガスの絶対圧力は、反応器中のガスの絶対圧力から好ましくは約２５％未満、最も好ましくは約１５％未満偏差すべきであり、このことは過酸化水素が豊富なガスを圧縮するエネルギーと投資費用を節約する。最も好ましくは、処理は反応器中で維持されているのと実質的に同一な圧力で行う。過酸化水素は、ガスから、水また水性過酸化水素溶液のようないかなる適切な溶剤にでも冷却凝縮および／または吸収によって回収できる。過酸化水素の分解を妨げるために、この液体は少量の従来の添加剤を含んでよい。好ましくは、ガスは水性媒体で処理され、ここで過酸化水素の吸収と冷却が同時に起こる。高い冷却率は、より濃縮した過酸化水素溶液の製造を可能にし、処理ガスと未処理ガスの間の温度差は、好ましくは約２０〜約１２０℃、最も好ましくは約４０〜約１００℃である。通常、約９０重量％まで、好ましくは約２０〜約７０重量％の過酸化水素と非常に少量の不純物を含む水性溶液を得ることが可能であり、これは生成物を更に濃縮する蒸留またはその他の費用のかかる段階の必要性を取り除く。
【００２５】
現場での過酸化水素の製造において、上述の回収段階をなくし、回収段階を用いようとするところで、過酸化水素ガスを媒体中でいかなる適切な薬剤とも直接に反応させることも可能である。
【００２６】
水素と酸素の間の反応中に生産された熱エネルギーを、反応器出口の過酸化水素が豊富なガスから、反応器へ入る前またはちょうど入ったときの反応混合物へ導くことにより、反応混合物内で十分に低い温度差に維持できることが見出された。これは以下に記載するようないくつかの方法により行なうことができる。
【００２７】
一つの実施態様において、非常に大きな寸法の装置を用いることなく本方法の安定な実施と高濃度の過酸化水素製造の両方を可能にするため、本方法は、反応器の出口からの過酸化水素が豊富なガスの一部好ましくは約４０〜約９５％、最も好ましくは約６０〜約９０％、を再循環して、反応器から過酸化水素を回収することなく、好ましくはガスを冷却することなく反応器へ戻し、これにより反応中に生成された熱エネルギーを、反応器へ入る反応混合物を加熱するために導き戻す。もし必要なら、再循環ガスは外部冷却媒体で冷却することができるが、しかし通常このガスを、ただ単に過酸化水素回収段階からの冷えたガスの一部または全てと混合することが好まれ、これにより反応混合物を生成し、次にこの混合物を反応器へ導入する。代替品または補完品として、過酸化水素回収段階からの冷えたガスはまた、反応器に沿ったおよび／または反応器の分離した部分の間の一つ若しくはいくつかの供給点へ、冷えたガスを直接導入することにより反応混合物へ添加できる。新鮮な水素と酸素または酸素含有ガスは、どのようなガス流へも添加できるが、けれども反応混合物が反応器へ入る直前に反応混合物へ添加することが好ましい。
【００２８】
他の実施態様において、冷却は、ガスを一連のモジュールを通過させることにより整えることができ、このモジュールはそれぞれが触媒床および次の機能の一つまたはいくつかを含む：水素および／または酸素の、冷却ゾーン（直接または間接）、吸収ゾーンおよび供給ゾーン。後者の機能は、全循環ガス流量を減少するという目的に役立つ。適切にはモジュールの数は２〜約１００、好ましくは約４〜約１５であり、最後のモジュールからのガスは好ましくは第一のモジュールへ再循環して戻される。
【００２９】
触媒粒子の流動床の使用が安定運転を促進しており、これは流動床中の加熱された粒子の一部が反応器内を再循環し、これが出口における過酸化水素が豊富なガスからの熱エネルギーを反応器へ入る冷たい反応混合物へ導き、この反応混合物が既に触媒と接触した反応混合物より著しく冷たいからであることもまた見出された。流動床を、他の型の反応器でより高い水素の転化率で運転することが可能である。好ましくは、反応器の出口と比べた入口における反応混合物中の水素割合の差は、約０．３〜約３モル％、最も好ましくは約０．６〜約２モル％である。
【００３０】
もし触媒床が、反応器出口近くの触媒床の部分から触媒床の始めへ戻って、熱エネルギーを導き戻す為に十分に高い熱伝導性を有していれば、特にもし反応器が比較的短い例えば約０．５ｍ未満、好ましくは約０．１ｍ未満ならば、反応混合物内の低い温度勾配もまた、粒子、繊維またはモノリス(monoliths)の切断部分からなる固定触媒床を有する反応器で達成できる。また、これらの種類の反応器は水素の比較的高い転化率ででも運転できる。好ましくは、このような短い反応器の出口と比較した入口での反応混合物中の水素割合の差は、反応器入口と比べて約０．３〜約３モル％、最も好ましくは約０．６〜約２モル％である。
【００３１】
断熱運転に加えて、冷却はまた、触媒からの反応熱を近接のガス流へ放つことまたは熱伝導表面の壁上への触媒沈着による冷却、これは水のような冷却媒体の循環による例えば他の側面からの直接の冷却、によっても達成できる。この概念は良好な温度制御を提供する。
【００３２】
もし必要なら、反応器は、ガス状反応混合物を外部冷却媒体で冷却するための手段を含む。次に、冷却媒体と反応混合物の間の温度差を、約４０℃未満、好ましくは約２５℃未満、最も好ましくは約１５℃未満に保つことが好ましい。もし必要なら、反応混合物が反応器へ入る前に更に反応混合物を熱することもまた可能である。
【００３３】
本発明を、ここで好ましい実施態様を概略的に示す図に関連し更に説明する。
【００３４】
約９０〜１００℃の好ましい温度、約１３〜１７バールの好ましい絶対圧力を有し、好ましくは約４０〜６０モル％の酸素、約３〜４モル％の水素および約０．７〜１．１モル％の過酸化水素を含み、残りが好ましくは窒素および／または他の不活性ガスである、ガス状の反応混合物を、反応器１の入口２へ導入する。反応器１において反応混合物が触媒と接触し、ここで酸素と水素が反応して過酸化水素になる。出口３で、好ましくは約０．８〜１．２モル％の過酸化水素を含むガスが反応器１を離れ、そして次に一つの再循環ライン４と、組合わされた冷却器と吸収器６へ導く一つのライン５とへ分れる。好ましくは、反応器１からの約１０〜２０％のガスが吸収器６へ移動し、この中でガスは過酸化水素を吸収する水と接触し、一方未反応の水素、酸素および不活性ガスは吸収器６を通過する。過酸化水素の水溶液がライン７と冷却器９を通って循環している。循環している過酸化水素溶液の一部が製品８として取り出され、一方残りの溶液は吸収器６へ再循環される。新鮮な水１０が吸収器６の上部へ供給される。吸収器６を通過するガスは好ましくはそこで約４０〜６０℃へ冷却され、次にデミスタ１１を通って導かれる。最後に、冷えたガスは混合地点１３で循環ライン４からのガスと混合され、そして補充の水素１４と酸素１５を供給され、反応混合物を生成し、これが反応器１の入口２へ導入される。もし、どのような不活性ガスが補充の水素１４または酸素１５と共に供給されても、相当する量のガスが、デミスタ１１の後ではあるが、混合地点１３の前に位置するライン１２を通って取り出されるべきである。
【００３５】
この方法は更に以下の実施例を通して説明されるが、これはしかしながら本発明の範囲を制限しない。
【００３６】
実施例：２０ｍｍ×５ｍｍ×０．１１ｍｍのＰＴＦＥ箔を、真空蒸着により５０ｎｍ厚のパラジウム層で被膜した。パラジウム被膜箔は、次に真空の高周波場でテトラメチルシラン、酸素およびアルゴンのガス混合物（モル比１：５：５）へさらされ、この結果、完全にパラジウムを覆うシロキサンの１０ｎｍ厚の層が沈着した。疎水性、これは酸素架橋の数に依存しており、は接触角を測定することにより決定された。
【００３７】
触媒は７５０ｍｍ×６．３ｍｍの円筒状反応器で試験され、この中へ３モル％の水素、５０モル％の酸素および４７モル％の窒素のガス混合物を、３０Ｎリットル／時間、絶対圧力１５バールで供給した。反応器へ入る前に、ガスを５０℃で１重量％のＨ₂ＳＯ₄と２０重量ｐｐｍのＮａＢｒを含む水性浴を通して泡立てた。反応器の出口におけるガスは１重量％のＨ₂ＳＯ₄の水性浴を通して泡立てられ、その中の過酸化水素を吸収した。
【００３８】
運転１：７５℃で、４５°の接触角を有する触媒を用い、２２０分間の運転の後０．２ｍｇのＨ₂Ｏ₂を生成した。
【００３９】
運転２：同一の触媒を、この方法を始める前に５分間、１重量％のＨ₂ＳＯ₄と２０重量ｐｐｍのＮａＢｒの溶液へ浸漬した。４５℃で、１８０分間の運転の後、０．４ｍｇのＨ₂Ｏ₂を生成した。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の好ましい実施態様を示す概略図である。

Claims (19)

1. 過酸化水素を連続的に製造する方法であり、水素と酸素を含むガスを、触媒を備えた反応器へ供給する段階；水素と酸素ガスを触媒と接触させ、これにより過酸化水素を生成する段階、および；反応器から過酸化水素含有ガスを取り出す段階を含み；ここで触媒が、触媒的に活性な物質と異なる水素と酸素をガス状環境から触媒的に活性な物質へ運ぶ能力を有し、かつ過酸化水素を反対方向へ運ぶ能力を有する液体又は固体の固定相の層により少なくとも部分的に覆われた固体の触媒的に活性な物質を含み、前記固定相が触媒的に活性な物質と異なり、十分に親水性で９０°未満の接触角を示し、１００ｋＰａでの沸点が少なくとも１００℃を有し、少なくとも２４時間の寿命を有する過酸化水素を連続的に製造する方法。
2. 固定相が、触媒的に活性な物質の実質的に全ての活性部位を覆う請求項１に記載の方法。
3. 固定相が、単原子層または単分子層から１００μｍまでの厚さを有する請求項１〜２のいずれか一項に記載の方法。
4. 固定相が０．００２から２５μｍまでの厚さを有する請求項３に記載の方法。
5. 固定相が液体または固体であり、かつ水素と酸素を、周囲の環境から触媒的に活性な物質へ運搬し、過酸化水素を、触媒的に活性な物質から周囲の環境へ運搬する能力を有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 水が、過酸化水素が有するより固定相へ高い溶解度を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 固定相が十分に親水性であり、９０°未満の接触角を示す請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 固定相が、揮発性の低い、ガムまたは液体から選ばれる請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 固定相が、ヒドロキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミン基、第四級アンモニウム基、アルコキシド基、金属および／または他の極性基を含む有機化合物から選ばれる請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
10. 固定相が、ヒドロキシ基、ハロゲン基、カルボキシル基、スルホン酸基、アミン基または第四級アンモニウム基を含む有機化合物から選ばれる請求項９に記載の方法。
11. 固定相が、シランオキサン、シラン、エーテル、エステル、アルコール、酸、ハロゲン化物およびこれらの塩から選ばれる有機化合物を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 触媒的に活性な物質が、VIII族金属または金から選ばれる一つ以上の貴金属を含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
13. 触媒的に活性な物質が、１００ｍ²／ｇ未満のＢＥＴ比表面積を有する固体支持体上に沈着されている請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
14. 固体支持体が、２０ｍ²／ｇ未満ではあるが少なくとも０．０００１ｍ²／ｇのＢＥＴ比表面積を有する請求項１３に記載の方法。
15. 支持体が、ポリフルオロカーボン、ガラス、実質的に純粋なシリカ、石英または実質的に純粋な酸化アルミニウムから選ばれる請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 反応器内の絶対圧力が３〜７０バールである請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 反応器中の絶対圧力が１０〜２０バールである請求項１６に記載の方法。
18. 反応器内の温度が２０〜１５０℃である請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 反応器中の水素濃度と酸素濃度が５モル％未満である請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。

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