JPH08227276A - 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法 - Google Patents

有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法

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JPH08227276A
JPH08227276A JP7032043A JP3204395A JPH08227276A JP H08227276 A JPH08227276 A JP H08227276A JP 7032043 A JP7032043 A JP 7032043A JP 3204395 A JP3204395 A JP 3204395A JP H08227276 A JPH08227276 A JP H08227276A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡素な工程で製造できる有機エレクトロルミ
ネッセンス（ＥＬ）ディスプレイパネル及びその製造方
法を提供する。 【構成】 マトリクス状配置された発光画素からなる画
像表示配列の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法
は、第１表示電極が形成された基板上に、第１表示電極
の各々を囲み基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成
する工程と、隔壁内の第１表示電極を露出せしめる複数
の開口を有するマスクを、隔壁の上面に載置し、有機Ｅ
Ｌ媒体を開口を介して隔壁内の第１表示電極の各々上に
堆積させ、有機ＥＬ媒体の薄膜を形成する発光層形成工
程と、第２表示電極を有機ＥＬ媒体薄膜の複数の上に共
通に形成する工程とを含む。また、上記発光層形成工程
において、１つの開口が１つの第１表示電極上からその
隣接する第１表示電極上へ配置されるようにマスクを順
次移動せしめてを順次繰り返す。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電流の注入によって発
光する有機化合物材料のエレクトロルミネッセンス（以
下、ＥＬという）を利用して、かかる有機ＥＬ材料の薄
膜からなる発光層を備えた有機ＥＬ素子の複数をマトリ
クス状に配置した有機ＥＬディスプレイパネルに関し、
特に有機ＥＬ素子を用いたフルカラーディスプレイに関
する。
【０００２】
【従来の技術】現在、有機ＥＬ材料を用いたフルカラー
ディスプレイとしては、特開平第５-２７５１７２号特
開平第５-２５８８５９号及び特開平第５-２５８８６０
号の公報に開示されているものがある。このフルカラー
ディスプレイは、交差している行と列において配置され
た複数の発光画素からなる画像表示配列を有している発
光装置である。
【０００３】この発光装置においては、各々の画素が共
通の電気絶縁性の光透過性基板上に配置されている。各
行内の画素は、基板上に伸長して配置された共通の光透
過性第１電極を含有し且つ該電極によって接合されてい
る。隣接行内の第１電極は、基板上で横方向に間隔をあ
けて配置されている。有機ＥＬ媒体は、第１電極及び基
板によって形成された支持面の上に配置されている。各
列の画素は、有機ＥＬ媒体上に配置された共通に伸長し
た第２電極を含有し且つ該電極によって接続されてい
る。隣接列内の第２電極は、有機ＥＬ媒体上で横方向に
間隔をあけて配置されている。該有機ＥＬ媒体の厚さを
上回る高さの壁が、隣接列内の画素の共通の境界に沿っ
て予め配置されている。この発光装置においては有機Ｅ
Ｌ媒体を挟んで交差している第１及び第２電極のライン
を用いた単純マトリクス型を採用している。
【０００４】また、この従来の発光装置において、第１
電極ライン及び有機ＥＬ媒体の薄膜を、予め基板に設け
られている境界の高い壁により所定気体流れを遮って、
選択的に斜め真空蒸着して形成する製造方法が採用され
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この従来技術は基板に
垂直な高い壁を設けてその高い壁を蒸着マスクとして使
用するというものだが、特にパターンが微細になった場
合、断面のアスペクト比（底辺／高さ）の非常に大きな
高い壁をレジスト等で形成するのは困難であり、また、
その形成後の第１及び第２電極ライン及び有機ＥＬ媒体
膜の信頼性に不安定要素が大きい。また、斜め真空蒸着
の精度、工程の複雑さ等の問題点がある。
【０００６】本発明の目的は、かかる問題点を解消する
べく簡素な工程で製造できる有機ＥＬディスプレイパネ
ル及びその製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、マトリクス状
に配置された複数の発光部からなる画像表示配列を有し
ている有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネ
ルであって、前記発光部に対応する複数の第１表示電極
が表面上に形成された基板と、前記第１表示電極の各々
を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁と、前記
隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少くと
も１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜と、
前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の
上に共通、またはマスクによってストライプ状に形成さ
れた第２表示電極とからなることを特徴とする。
【０００８】上記有機ＥＬディスプレイパネルにおい
て、前記基板の略同一平面上に形成されかつ、互いに直
交する位置に離間して配列された共通走査信号ライン及
び共通データ信号ラインと、前記走査信号ライン、前記
データ信号ライン及び前記第１表示電極に接続された非
線形素子をさらに有することが好ましい。上記有機ＥＬ
ディスプレイパネルにおいて、前記非線形素子は互いに
接続された薄膜トランジスタ及びコンデンサからなるこ
とが好ましい。
【０００９】また、上記有機ＥＬディスプレイパネルに
おいて、前記基板及び前記第１表示電極が透明であるこ
と、また、前記第２表示電極に金属光沢があるか、前記
第２表示電極上に形成された反射膜を有することが好ま
しい。さらにまた他の実施例の有機ＥＬディスプレイパ
ネルにおいて、前記第２表示電極が透明である場合、前
記第１表示電極に金属光沢があるか、前記前記第１表示
電極の外側に形成された反射膜を有することが好まし
い。
【００１０】本発明は、マトリクス状に配置された複数
の発光部からなる画像表示配列を有している有機エレク
トロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法であ
って、基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示
電極を形成するパターン工程と、前記第１表示電極の各
々を囲み前記基板上に突出する電気絶縁性の隔壁を形成
する工程と、前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せし
める複数の開口を有するマスクを、前記隔壁の上面に載
置し、有機エレクトロルミネッセンス媒体を前記開口を
介して前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積さ
せ、少くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体
の薄膜を形成する発光層形成工程と、前記有機エレクト
ロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の上に第２表示電極
を共通、またはマスクによってストライプ状に形成する
工程とを含むことを特徴とする。
【００１１】また、上記有機ＥＬディスプレイパネルの
製造方法において、１つの前記開口が１つの前記第１表
示電極上からその隣接する前記第１表示電極上へ配置さ
れるように前記マスクを順次移動せしめて前記発光層形
成工程を順次繰り返し、より効率良く製造することも可
能である。このように、有機ＥＬ膜の発光層を隔壁によ
り保護するので、マスクが発光層に損傷を与えることが
少なくなり、隔壁及びマスクによりＲＧＢ有機層の分離
が確実に行なえ、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けがで
きる。
【００１２】
【実施例】以下に、本発明による実施例を図面を参照し
つつ説明する。図１に示すように、実施例の有機ＥＬデ
ィスプレイパネルはマトリクス状に配置されかつ各々が
赤Ｒ、緑Ｇ及び青Ｂの発光部からなる発光画素１の複数
からなる画像表示配列を有している。
【００１３】図２に示すように、この有機ＥＬディスプ
レイパネルの基板２上には、互いに直交する位置に電気
的に離間して配列された共通走査信号ライン３及び共通
データ信号ライン４が設けられ、さらに走査信号ライン
及びデータ信号ラインに接続された非線形素子５と、非
線形素子に接続された発光部Ｒ、Ｇ及びＢに対応する複
数の島状の第１表示電極６とが表面の略同一平面上に形
成されている。
【００１４】さらに基板２上には、図２及び図３に示す
ように、第１表示電極６の各々を囲み基板上に突出する
電気絶縁性の隔壁７が形成されている。隔壁７内凹部の
第１表示電極６の各々上には、少くとも１層の有機ＥＬ
媒体たとえば、有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電
子輸送層の３層構造の媒体または有機正孔輸送層及び有
機発光層２層構造の媒体などの薄膜が形成されている。
【００１５】有機ＥＬ媒体８の薄膜の複数の上に共通に
形成された第２表示電極９が形成されている。第２表示
電極９の上には保護膜１０または保護基板が設けられる
ことが好ましい。さらに、具体的な実施例のアクティブ
マトリクス形有機ＥＬディスプレイパネルでは、図４に
示すように、ガラスなどの透明な基板２の上にインジウ
ム錫酸化物（以下、ＩＴＯという）の複数の島状の第１
表示電極６と、この第１表示電極に接続された非線形素
子５、たとえば互いに接続された薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）Ｔ1，Ｔ2及びコンデンサＣとがフォトリソグラフ
ィ真空蒸着技術などにより形成され、さらに、同様にデ
ータ信号ラインの共通ドレインライン４と走査信号ライ
ンの共通ゲートライン３が略一基板平面上に直交する位
置に配列されている。そして、図５に示すように、第１
のＴＦＴ（Ｔ1）のソース電極にはコンデンサＣと第２
のＴＦＴ（Ｔ2）のゲートが接続され、ソース電極はコ
ンデンサＣとともにアースラインEに接続されている。
また、Ｔ2のドレインラインは第１表示電極６に接続さ
れている。このような発光部組合せユニットが各画素ご
とに全画素数の数だけ集積され、マトリクス状に配置さ
れた複数の発光画素からなる画像表示配列の有機ＥＬデ
ィスプレイパネルの基板が形成されている。
【００１６】なお、上記実施例では、非線形素子は互い
に接続された薄膜トランジスタ及びコンデンサからなる
３端子タイプで構成しているが、薄膜トランジスタはp-
Si、a-Si、CdSe、Teが採用され得、また代わりにMOS-FE
Tを用いた回路としても良い。さらに、３端子タイプで
はなく、２端子タイプのMIMなどを用いて構成すること
もできる。
【００１７】このアクティブマトリクス回路基板２上
に、フォトリソグラフィなどにより図６及び図７に示す
ように、Si3N4などの保護膜７aを、非線形素子５並びに
データ信号ラインの共通ドレインライン４及び走査信号
ラインの共通ゲートライン３上に選択的に蒸着して形成
し、その上に、所定高さまでレジストまたは感光性ポリ
イミド等を選択的に形成し隔壁７を形成する。また、図
８に示すように、保護膜を形成せずに、非線形素子５並
びにデータ信号ラインの共通ドレインライン４及び走査
信号ラインの共通ゲートライン３上にレジストを選択的
に形成し隔壁７を形成することもできる。
【００１８】また、上記実施例の有機ＥＬディスプレイ
パネルにおいて、基板及び第１表示電極が透明であり、
発光は基板側から放射されるので、図３に示すように、
発光効率を高めるために第２表示電極上または保護膜を
介して反射膜２１を設けることが好ましい。逆に、他の
実施例の有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、第２表
示電極を透明材料で構成して、発光を第２表示電極側か
ら放射させることもできる。この場合、発光効率を高め
るために第１表示電極の外側に反射膜を設けることが好
ましい。
【００１９】次に、図５を用いて、アクティブマトリク
ス駆動方法について簡単に説明する。ドレインライン群
Ｘi，Ｘi+1，Ｘi+2，…とゲートライン群Ｙj，Ｙj+1，
Ｙj+2，…の選択交点にパルス電圧が印加されると、Ｔ
１はオン状態になり、コンデンサを充電する。この充電
電圧はゲートへ印加されるパルス幅で決まる。充電電圧
が十分大きい場合は、Ｔ２のゲート電圧が大きくオン状
態になるので、ＥＬ層８を介して上部の透明電極に印加
設定されている電圧がＥＬ層８に印加される。そして、
コンデンサの放電が進み、ゲート電圧は徐々に減少して
ゆく。このためコンデンサの充電電圧でＴ２の導通時間
が決定される。発光部の明るさは、この導通時間にも関
係している。ドレインラインへのＲＧＢ信号に応じてＸ
電極群とＹ電極群を順次走査して、交点画素を選択発光
させる。
【００２０】次に、有機ＥＬディスプレイパネル製造工
程を説明する。まず、ゲートライン、ゲート絶縁膜、チ
ャネル層、コンタクト層、第１表示電極の透明電極（Ｉ
ＴＯ陽極）、ソース、ドレインライン、信号線等、所定
のＴＦＴアレイをガラス基板上に形成する。図９は、得
られたＴＦＴ等所定の機能素子を備えている基板２の上
に、レジストあるいは感光性ポリイミド等で、個々の画
素を囲む絶縁性の隔壁７をフォトリソグラフィ等で形成
した後の状態の斜視図である。例えば隔壁７の凸部の幅
は、いずれも０．０２mm程度、隔壁凹部の底面積は、
０．３mm×０．１mm程度であり、この寸法であれば６４
０×４８０画素の１０インチフルカラーディスプレイが
実現できる。また後の工程で複数回成膜する有機ＥＬ媒
体を分離する隔壁は、成膜用マスクが隔壁に突き合わさ
れた際にマスクで既に成膜された有機ＥＬ媒体８を傷つ
けない程度の高さ（０．５μm以上）であればよい。ま
た隔壁が高すぎても壊れやすくなるので１０μｍ以下程
度、できれば１〜２μｍ程度が望ましい。更に、その後
の工程で成膜する第２表示電極の陰極が隔壁によって断
線しない程度に、隔壁の断面が略台形の形状になること
が望ましい。なお、マトリクス状隔壁は、ガラスペース
トの光吸収性物質を塗布するスクリーン印刷法により、
基板上に形成することもできる。隔壁は、目視側から見
て長方形底面の壁となるように形成しているが、正方
形、円形などその形状は如何なるものでも良い。
【００２１】図１０に示すように、この成膜用マスク３
０を千鳥格子状に配列した開口３１を有するものとし
て、これを図の矢印に示すように隔壁付き基板２上にて
順次移動して、Ｒ媒体、Ｇ媒体及びＢ媒体の最低３回の
マスク蒸着を行う。図１１（ａ）〜（ｄ）で、この隔壁
付き基板を用いて有機ＥＬディスプレイパネルを作製す
る発光層形成工程及び第２表示電極形成工程を順を追っ
て説明する。図ではＲＧＢ３色のみの１画素のみの説明
であるが、実際は２次元に複数個の画素を同時に形成す
るのはもちろんである。
【００２２】図１１（ａ）の工程では、隔壁７が形成さ
れた基板２の凹部の各１つに成膜用マスク３０の各１つ
の穴部３１を位置合わせした後、隔壁上にマスクを載置
して、１番目（例えば赤色）の有機ＥＬ媒体８ａを例え
ば蒸着などの方法を用いて０．１〜０．２μm程度の厚
さに成膜する。尚、成膜用マスク３０の開口３１の各々
は、図に示すように隔壁凹部の底面の第１表示電極を全
て覆う有機ＥＬ媒体層を形成できるような大きさを有し
ている。
【００２３】図１１（ｂ）の工程では、例えば成膜用マ
スクを左に隔壁１個分ずらして位置合わせをした後、隔
壁上にマスクを載置して２番目（例えば緑色）の有機Ｅ
Ｌ媒体８ｂを所定膜厚に成膜する。図１１（ｃ）の工程
で残った１個の凹部に成膜用マスクを位置合わせをした
後、隔壁上にマスクを載置して３番目（例えば青色）の
有機ＥＬ媒体８ｃを所定膜厚に成膜する。
【００２４】このように、１つの開口が１つの第１表示
電極上からその隣接する第１表示電極上へ配置されるよ
うにマスクを順次移動せしめる発光層形成工程を順次繰
り返すことが好ましい。また、隔壁７があるので、成膜
用マスクの位置合わせ、移動、載置して蒸着する際に、
マスクによる有機ＥＬ媒体層を傷つけることがない。図
１１（ｄ）の第２表示電極形成工程では、成膜用マスク
を取り除き、Ａｌ、Ａｕ等の低抵抗金属を、成膜された
３種類の有機ＥＬ媒体の上に全体が電気的に導通するよ
うに蒸着、あるいはスパッタ等の手段を用いて陰極とし
て例えば０．１〜１０μｍ程度被着させる。この金属膜
の膜厚は支障のない限り厚く被着させても構わない。
【００２５】このように隔壁とマスクとを突き合わせて
有機ＥＬ媒体を成膜することで、有機ＥＬ媒体を劣化さ
せる事なく、また隔壁があるため隣接した画素に成膜さ
れた有機ＥＬ媒体が回り込まずに微細な領域に塗り分け
ることが可能となり、高精彩なフルカラーディスプレイ
が実現できる。この時、基板のＩＴＯやＴＦＴと陰極が
ショートしないよう、また隣接した凹部にまで成膜しな
いように、有機ＥＬ媒体成膜用マスクの穴部を最適な大
きさにするのはもちろんである。ただし有機ＥＬ媒体が
隔壁凸部に成膜されるのは問題ない。
【００２６】図１０に示す成膜用マスク３０の代わり
に、図１２（ａ）に示す千鳥格子状に配列した開口３１
を有するマスクを用いて、これを図の矢印に示すように
隔壁付き基板２上にて順次移動して、ＲＧＢの有機ＥＬ
媒体を蒸着することもできる。この場合、図１２（ｂ）
に示すように、もともと輝度がとれないＢ媒体領域を１
画素あたり広く取れ、マスク剛性も更に上がるが、蒸着
回数が最低４回に増える。
【００２７】他の実施例の有機ＥＬディスプレイパネル
として、有機ＥＬ媒体を挟んで交差する第１及び第２表
示電極のラインを用いた単純マトリクス型のパネルがあ
る。図１３に示すかかる単純マトリクス型有機ＥＬディ
スプレイパネルの基板２上には、互いに直交する位置に
電気的に離間して配列された第１表示電極ライン５１が
設けられている。さらに基板２上には、発光部Ｒ、Ｇ及
びＢに対応する複数の島状の第１表示電極部分６１をな
すように、各々を囲み基板から突出する電気絶縁性の隔
壁７が形成されている。隔壁７内凹部の第１表示電極６
１の各々上には、少くとも１層の有機ＥＬ媒体たとえ
ば、有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子輸送層の
３層構造の媒体または有機正孔輸送層及び有機発光層２
層構造の媒体などの薄膜が形成されている。有機ＥＬ媒
体８の薄膜の複数の上に、第１表示電極ライン５１と交
差した第２表示電極ライン７１が形成されている。第２
表示電極ライン５１の上には、保護膜または保護基板が
設けられることが好ましい。
【００２８】図１４に、単純マトリクス型有機ＥＬディ
スプレイパネルの製造手順を簡単に示す。まずガラス基
板２上に、ストライプ状に複数の平行第１表示電極ライ
ン５１をＩＴＯなどで成膜する（図１４（ａ））。次
に、図１４（ｂ）に示すように、第１表示電極ラインが
設けられている基板２の上に、レジストあるいは感光性
ポリイミド等で、個々の島状の第１表示電極部分６１を
囲む絶縁性の隔壁７をフォトリソグラフィ等で形成す
る。
【００２９】次に、上記図１１（ａ）〜（ｃ）で示した
工程と同様に、この隔壁付き基板２の凹部の各１つに、
ＲＧＢ有機ＥＬ媒体の発光層を、蒸着マスクを順次移動
せしめて形成する。図１４（ｃ）に示すように、隔壁７
及び発光層上に、第１表示電極ライン５１と交差した複
数のストライプ状平行第２表示電極ライン７１を低抵抗
金属で蒸着マスクを用いて蒸着形成する。
【００３０】
【発明の効果】以上の如く本発明によれば、以下の効果
が得られる。 (1) 有機ＥＬ膜を成膜後はパターニング等有機ＥＬ媒体
に損傷を与える工程を行う必要がない。 (2) 陰極はベタ付けで成膜でき効率が良い。
【００３１】(3) 従来の有機ＥＬディスプレイパネル製
造方法より工程が少なく、ＲＧＢ有機層の分離が確実に
行なえ、精度良くＲＧＢの媒体の塗り分けができる。 (4) 隔壁により、有機ＥＬ媒体層へ傷付けを防止でき有
機機能層の保護が達成できる。 (5) 金属マスクを千鳥格子状にする事により、マスクの
剛性が増し、移動及び位置合わせのマスクの撓みによる
有機ＥＬ媒体層及び隔壁へ傷付けをさらに防止する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの
部分拡大平面図。
【図２】 本発明による有機ＥＬディスプレイパネルの
概略部分拡大平面図。
【図３】 図２の線ＡＡの断面図。
【図４】 本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイ
パネルの基板の概略部分拡大平面図。
【図５】 本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイ
パネルの基上に形成された非線形素子を示す回路図。
【図６】 本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイ
パネルの隔壁付き基板の概略部分拡大平面図。
【図７】 図６の線ＡＡにおける断面図。
【図８】 本発明による他の実施例の有機ＥＬディスプ
レイパネルの隔壁付き基板の概略部分拡大断面図。
【図９】 本発明による実施例の有機ＥＬディスプレイ
パネルの隔壁付き基板の概略斜視図。
【図１０】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造
方法に用いる成膜用マスクの概略部分拡大平面図。
【図１１】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造
方法における有機ＥＬディスプレイパネルの隔壁付き基
板の概略部分拡大平面図。
【図１２】 本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造
方法に用いる他の成膜用マスクの概略部分拡大平面図。
【図１３】 本発明による他の実施例の有機ＥＬディス
プレイパネルの概略部分拡大断面図。
【図１４】 本発明による他の実施例の有機ＥＬディス
プレイパネルの隔壁付き基板の概略斜視図。
【主要部分の符号の説明】
１ 発光画素 ２ 基板 ３ 走査信号ライン ４ データ信号ライン ５ 非線形素子 ６ 第１表示電極 ７ 隔壁 ８ 有機ＥＬ媒体 ９ 第２表示電極 １０ 保護膜 ３０ 成膜用マスク ３１ 開口 ５１ 第１表示電極ライン ６１ 第１表示電極部分 ７１ 第２表示電極ライン

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 マトリクス状に配置された複数の発光部
    からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミ
    ネッセンスディスプレイパネルであって、 前記発光部に対応する複数の第１表示電極が表面上に形
    成された基板と、 前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電
    気絶縁性の隔壁と、 前記隔壁内の前記第１表示電極の各々上に形成された少
    くとも１層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜
    と、 前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の
    上に共通に形成された第２表示電極とからなることを特
    徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパ
    ネル。
  2. 【請求項２】 前記基板の略同一平面上に形成されか
    つ、互いに直交する位置に離間して配列された共通走査
    信号ライン及び共通データ信号ラインと、前記走査信号
    ライン、前記データ信号ライン及び前記第１表示電極に
    接続された非線形素子をさらに有することを特徴とする
    請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプ
    レイパネル。
  3. 【請求項３】 前記非線形素子は互いに接続された薄膜
    トランジスタ及びコンデンサからなることを特徴とする
    請求項２記載の有機エレクトロルミネッセンスディスプ
    レイパネル。
  4. 【請求項４】 前記基板及び前記第１表示電極が透明で
    あることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロル
    ミネッセンスディスプレイパネル。
  5. 【請求項５】 前記第２表示電極上に形成された反射膜
    を有することを特徴とする請求項４記載の有機エレクト
    ロルミネッセンスディスプレイパネル。
  6. 【請求項６】 前記第２表示電極が透明であることを特
    徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス
    ディスプレイパネル。
  7. 【請求項７】 前記第１表示電極の外側に形成された反
    射膜を有することを特徴とする請求項６記載の有機エレ
    クトロルミネッセンスディスプレイパネル。
  8. 【請求項８】 マトリクス状に配置された複数の発光部
    からなる画像表示配列を有している有機エレクトロルミ
    ネッセンスディスプレイパネルの製造方法であって、 基板上に、前記発光部に対応する複数の第１表示電極を
    形成するパターン工程と、 前記第１表示電極の各々を囲み前記基板上に突出する電
    気絶縁性の隔壁を形成する工程と、 前記隔壁内の前記第１表示電極を露出せしめる複数の開
    口を有するマスクを、前記隔壁の上面に載置し、有機エ
    レクトロルミネッセンス媒体を前記開口を介して前記隔
    壁内の前記第１表示電極の各々上に堆積させ、少くとも
    １層の有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成
    する発光層形成工程と、 前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜の複数の
    上に第２表示電極を共通に形成する工程とを含むことを
    特徴とする有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ
    パネルの製造方法。
  9. 【請求項９】 前記パターン工程は、互いに直交する位
    置に離間して配列された共通走査信号ライン及び共通デ
    ータ信号ラインと、前記走査信号ライン及びデータ信号
    ラインに接続された非線形素子と、前記非線形素子に接
    続された前記発光部に対応する複数の島状の第１表示電
    極とを形成する工程を含むことを特徴とする請求項８記
    載の有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル
    の製造方法。
  10. 【請求項１０】 前記非線形素子は互いに接続された薄
    膜トランジスタ及びコンデンサからなることを特徴とす
    る請求項９記載の有機エレクトロルミネッセンスディス
    プレイパネルの製造方法。
  11. 【請求項１１】 １つの前記開口が１つの前記第１表示
    電極上からその隣接する前記第１表示電極上へ配置され
    るように前記マスクを順次移動せしめて前記発光層形成
    工程を順次繰り返すことを特徴とする請求項８記載の有
    機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造
    方法。
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