JP2000243577A - 有機薄膜発光素子 - Google Patents
有機薄膜発光素子Info
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- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
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- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】シャドウマスクである隔壁につきその端部を残
さないようにして、隔壁の端部剥離を防止し、任意の形
状にパターニングされた上部電極を確実に製造すること
が可能な有機薄膜発光素子を得る。 【解決手段】基板と、基板上に並行に配置された複数の
第一電極と、第一電極の電極パターン上に形成された有
機物質からなる電界発光層と、電界発光層上に形成され
た複数の第二電極と、電気絶縁性の隔壁を備え、前記隔
壁は第二電極の電極パターンのギャップ部分に設けられ
た隔壁ライン部と、当該隔壁ラインの端部を連結して隔
壁ラインの端部を残さないようにした隔壁ライン端部か
らなる。
さないようにして、隔壁の端部剥離を防止し、任意の形
状にパターニングされた上部電極を確実に製造すること
が可能な有機薄膜発光素子を得る。 【解決手段】基板と、基板上に並行に配置された複数の
第一電極と、第一電極の電極パターン上に形成された有
機物質からなる電界発光層と、電界発光層上に形成され
た複数の第二電極と、電気絶縁性の隔壁を備え、前記隔
壁は第二電極の電極パターンのギャップ部分に設けられ
た隔壁ライン部と、当該隔壁ラインの端部を連結して隔
壁ラインの端部を残さないようにした隔壁ライン端部か
らなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフラットパネルディ
スプレイ等に用いられる有機薄膜発光素子に係り, 特に
製造に際して上部電極パターン相互に導通の発生がなく
生産性の高い有機薄膜発光素子の構造に関する。
スプレイ等に用いられる有機薄膜発光素子に係り, 特に
製造に際して上部電極パターン相互に導通の発生がなく
生産性の高い有機薄膜発光素子の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機薄膜発光素子は有機薄膜電界発光(E
L,Electroluminescence)素子とも称され、電場を印加し
て有機薄膜に電子と正孔を注入しその再結合により発光
させる。有機層は一般に多層化して用いられる。
L,Electroluminescence)素子とも称され、電場を印加し
て有機薄膜に電子と正孔を注入しその再結合により発光
させる。有機層は一般に多層化して用いられる。
【０００３】図３は従来の有機薄膜発光素子を示し、
（ａ）は二層型の断面図、（ｂ）は三層型の断面図であ
る。（ａ）に示す有機薄膜発光素子は透明基板１上にIT
O からなる透明電極の陽極２、有機層４である正孔輸送
層４ａ、発光層４ｂ、金属電極である陰極５を順次形成
したもので有機層が２層構造のものである(Appl. Phys.
Lett. 51 巻, 913 頁, 1987年) 。（ｂ）に示す有機薄
膜発光素子はさらに陰極３と発光層４ｂの間に電子輸送
層４ｃを形成したもので有機層が３層構造のものであ
る。また最近ではさらに陽極２と正孔輸送層４ａの間に
正孔注入層を形成した４層構造のものも知られている(
例えばSID 97 DIGEST, 1073 頁, 1997年) 。
（ａ）は二層型の断面図、（ｂ）は三層型の断面図であ
る。（ａ）に示す有機薄膜発光素子は透明基板１上にIT
O からなる透明電極の陽極２、有機層４である正孔輸送
層４ａ、発光層４ｂ、金属電極である陰極５を順次形成
したもので有機層が２層構造のものである(Appl. Phys.
Lett. 51 巻, 913 頁, 1987年) 。（ｂ）に示す有機薄
膜発光素子はさらに陰極３と発光層４ｂの間に電子輸送
層４ｃを形成したもので有機層が３層構造のものであ
る。また最近ではさらに陽極２と正孔輸送層４ａの間に
正孔注入層を形成した４層構造のものも知られている(
例えばSID 97 DIGEST, 1073 頁, 1997年) 。
【０００４】図４は従来の有機薄膜発光素子を示す破断
斜視図である。この有機薄膜発光素子は、X,Y マトリク
ス型( 単純マトリクス型) と称されるものである。透明
ガラス基板１上に、ITO 等の複数の透明電極からなる陽
極２、電気絶縁層６、有機EL媒体層４、透明電極に直交
する上部電極である金属陰極５を順に積層して形成され
る。有機EL媒体層４を挟持して互いに対向する陽極２お
よび金属陰極５によって有機薄膜発光素子となる発光部
が形成される。透明陽極２及び金属陰極５の各々が互い
に対向して交差する交差領域の発光部を１単位として１
画素が形成される。この様な有機薄膜発光素子の複数個
を画素数に応じ一枚の素子基板上に形成したパネルをそ
の周囲から引き出された透明陽極２及び金属陰極５を介
して駆動することによりフラットパネルディスプレイ装
置が構成される。一般に陽極２のパターニングは、基板
上に陽極材料を成膜した後にフォトリソグラフィ法によ
り行われる。すなわち陽極膜上にフォトレジストを塗
布、露光、現像し、レジストを所望の形状にパターニン
グした後に陽極材料をエッチングし、レジストを剥離す
る。
斜視図である。この有機薄膜発光素子は、X,Y マトリク
ス型( 単純マトリクス型) と称されるものである。透明
ガラス基板１上に、ITO 等の複数の透明電極からなる陽
極２、電気絶縁層６、有機EL媒体層４、透明電極に直交
する上部電極である金属陰極５を順に積層して形成され
る。有機EL媒体層４を挟持して互いに対向する陽極２お
よび金属陰極５によって有機薄膜発光素子となる発光部
が形成される。透明陽極２及び金属陰極５の各々が互い
に対向して交差する交差領域の発光部を１単位として１
画素が形成される。この様な有機薄膜発光素子の複数個
を画素数に応じ一枚の素子基板上に形成したパネルをそ
の周囲から引き出された透明陽極２及び金属陰極５を介
して駆動することによりフラットパネルディスプレイ装
置が構成される。一般に陽極２のパターニングは、基板
上に陽極材料を成膜した後にフォトリソグラフィ法によ
り行われる。すなわち陽極膜上にフォトレジストを塗
布、露光、現像し、レジストを所望の形状にパターニン
グした後に陽極材料をエッチングし、レジストを剥離す
る。
【０００５】一方、電荷注入層や発光層等の有機EL媒体
層を形成する有機EL媒体は耐熱性，耐溶剤性，耐湿性が
低いために上部電極をフォトリソグラフィ法によってパ
ターニングすることは極めて困難である。そこで特開平
9 −320758号公報に開示されているように蒸着マスクを
用いてパターニングする方法もあるが、基板とマスクの
密着不良による蒸着物の回り込みによるパターンぼけが
生じたり、マスク部の細い微細なパターンを形成しよう
とすると、マスクの強度不足によりマスクが撓むこと等
の問題が生じ、精度の良いパターン形成が出来ない。さ
らにエキシマレーザやYAG レーザ等を用いたレーザ加工
も考えられるが( 特開平9 50888 号公報) 、陰極膜の下
地に有機膜がある場所とない場所での加工性の違いによ
る生産性の悪さや、加工してできた陰極ラインエッヂ周
辺にばりが生じ、それが陽極と短絡する原因になった
り、さらにレーザ光照射部周辺の有機層が、レーザ光に
よるダメージを受けるという問題があった。
層を形成する有機EL媒体は耐熱性，耐溶剤性，耐湿性が
低いために上部電極をフォトリソグラフィ法によってパ
ターニングすることは極めて困難である。そこで特開平
9 −320758号公報に開示されているように蒸着マスクを
用いてパターニングする方法もあるが、基板とマスクの
密着不良による蒸着物の回り込みによるパターンぼけが
生じたり、マスク部の細い微細なパターンを形成しよう
とすると、マスクの強度不足によりマスクが撓むこと等
の問題が生じ、精度の良いパターン形成が出来ない。さ
らにエキシマレーザやYAG レーザ等を用いたレーザ加工
も考えられるが( 特開平9 50888 号公報) 、陰極膜の下
地に有機膜がある場所とない場所での加工性の違いによ
る生産性の悪さや、加工してできた陰極ラインエッヂ周
辺にばりが生じ、それが陽極と短絡する原因になった
り、さらにレーザ光照射部周辺の有機層が、レーザ光に
よるダメージを受けるという問題があった。
【０００６】この問題を解決する方法として、特開平5
−275172号公報に開示されている、いわゆるシャドウマ
スク法がある。この技術は、ITO パターニング後の基板
上に平行に配置したストライプ状の数〜数１０μm の高
さの隔壁を作製し、この隔壁ラインに対して垂直方向，
あるいは基板面に対して斜め方向から有機EL媒体や陰極
材料を蒸着することにより陰極または有機EL媒体をパタ
ーニングする方法である。
−275172号公報に開示されている、いわゆるシャドウマ
スク法がある。この技術は、ITO パターニング後の基板
上に平行に配置したストライプ状の数〜数１０μm の高
さの隔壁を作製し、この隔壁ラインに対して垂直方向，
あるいは基板面に対して斜め方向から有機EL媒体や陰極
材料を蒸着することにより陰極または有機EL媒体をパタ
ーニングする方法である。
【０００７】また特開平8 −315981号公報に開示されて
いる方法は、基板面に平行な方向に突出するオーバーハ
ング部を上部に有する電機絶縁性の隔壁、すなわち逆テ
ーパ断面を有する隔壁をITO ラインに直行するように、
基板及びITO ライン上に形成し、その後有機EL媒体層、
陰極を順次成膜して陰極を隔壁のオーバーハング部によ
り分断し、隔壁両側の陰極ラインを電気的に絶縁させる
ものである。この方法は、陽極であるITO と陰極との短
絡を防ぐために、発光層成膜時に有機EL媒体の蒸気流が
隔壁のオーバーハング部を回り込む工夫をし、その後の
陰極成膜時に、金属蒸気が隔壁オーバーハング部を回り
込む程度が、有機EL媒体の回り込みの程度より小さくす
る。陽極と陰極との短絡、特に陰極エッヂでの短絡を防
ぐために、オーバーハング部を有する隔壁の下部に絶縁
膜を配置することも示されている。
いる方法は、基板面に平行な方向に突出するオーバーハ
ング部を上部に有する電機絶縁性の隔壁、すなわち逆テ
ーパ断面を有する隔壁をITO ラインに直行するように、
基板及びITO ライン上に形成し、その後有機EL媒体層、
陰極を順次成膜して陰極を隔壁のオーバーハング部によ
り分断し、隔壁両側の陰極ラインを電気的に絶縁させる
ものである。この方法は、陽極であるITO と陰極との短
絡を防ぐために、発光層成膜時に有機EL媒体の蒸気流が
隔壁のオーバーハング部を回り込む工夫をし、その後の
陰極成膜時に、金属蒸気が隔壁オーバーハング部を回り
込む程度が、有機EL媒体の回り込みの程度より小さくす
る。陽極と陰極との短絡、特に陰極エッヂでの短絡を防
ぐために、オーバーハング部を有する隔壁の下部に絶縁
膜を配置することも示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】この方法により陰極及
び有機層の微細加工を行うことはできるが、逆テーパ形
状の隔壁にリフトオフ用レジストを用いると、隔壁が剥
離しやすくそのために上部電極が相互に導通して良好な
上部電極パターンが形成されないという問題があった。
び有機層の微細加工を行うことはできるが、逆テーパ形
状の隔壁にリフトオフ用レジストを用いると、隔壁が剥
離しやすくそのために上部電極が相互に導通して良好な
上部電極パターンが形成されないという問題があった。
【０００９】この発明は上述の点に鑑みてなされその目
的は、シャドウマスクである隔壁につきその端部を残さ
ないようにして、隔壁の端部剥離を防止し、任意の形状
にパターニングされた上部電極を確実に製造することが
可能な有機薄膜発光素子を提供することにある。
的は、シャドウマスクである隔壁につきその端部を残さ
ないようにして、隔壁の端部剥離を防止し、任意の形状
にパターニングされた上部電極を確実に製造することが
可能な有機薄膜発光素子を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的は第一の発明
によれば複数の発光部からなる画像表示配列を有する有
機薄膜発光素子であって、基板と、基板上に並行に配置
された複数の第一電極と、第一電極の電極パターン上に
形成された有機物質からなる電界発光層と、電界発光層
上に形成された複数の第二電極と、電気絶縁性の隔壁を
備え、前記隔壁は第二電極の電極パターンのギャップ部
分に設けられた隔壁ライン部と、当該隔壁ラインの端部
を連結して隔壁ラインの端部を残さないようにした隔壁
ライン端部からなるとすることにより達成される。
によれば複数の発光部からなる画像表示配列を有する有
機薄膜発光素子であって、基板と、基板上に並行に配置
された複数の第一電極と、第一電極の電極パターン上に
形成された有機物質からなる電界発光層と、電界発光層
上に形成された複数の第二電極と、電気絶縁性の隔壁を
備え、前記隔壁は第二電極の電極パターンのギャップ部
分に設けられた隔壁ライン部と、当該隔壁ラインの端部
を連結して隔壁ラインの端部を残さないようにした隔壁
ライン端部からなるとすることにより達成される。
【００１１】第二の発明によれば第一の発明において、
電気絶縁性隔壁が絶縁膜とその上に形成されたリフトオ
フ用レジストであることが有効である。第三の発明によ
れば第一の発明または第二の発明において、隔壁ライン
端部の幅を前記第二電極の電極パターンの端部剥離が生
じない程度に当該電極パターンのギャップの幅よりも広
くすることが有効である。
電気絶縁性隔壁が絶縁膜とその上に形成されたリフトオ
フ用レジストであることが有効である。第三の発明によ
れば第一の発明または第二の発明において、隔壁ライン
端部の幅を前記第二電極の電極パターンの端部剥離が生
じない程度に当該電極パターンのギャップの幅よりも広
くすることが有効である。
【００１２】
【発明の実施の形態】第二電極の電極パターンのギャッ
プ部分に設けられた隔壁ライン部は、電気絶縁性の隔壁
の隔壁ライン端部に連結される。以下に本発明の実施例
につき、図面を参照しながら説明する。
プ部分に設けられた隔壁ライン部は、電気絶縁性の隔壁
の隔壁ライン端部に連結される。以下に本発明の実施例
につき、図面を参照しながら説明する。
【００１３】図１はこの発明の実施例に係る有機薄膜発
光素子を示し、（ａ）は透視平面図、（ｂ）は（ａ）の
Ｘ−Ｘ矢視局部断面図である。基板1 上にITO 等からな
る複数の下部電極（第一電極）2 がストライプ状に配列
され、その上に有機EL媒体層4 が積層される。有機EL媒
体層4 の上には複数の上部電極( 第二電極)5が下部電極
（第一電極）2 と直行してストライプ状に積層して配列
される。上部電極( 第二電極)5は上部電極と同じ幅の引
き出し電極6 に接続する。次いで電気絶縁性の隔壁3 の
隔壁ライン端部が下部電極2 の端部と引き出し電極6 の
上に形成される。電気絶縁性の隔壁3 の隔壁ライン部が
上部電極5 のギャップに設けられるとともに隔壁ライン
端部に接続される。
光素子を示し、（ａ）は透視平面図、（ｂ）は（ａ）の
Ｘ−Ｘ矢視局部断面図である。基板1 上にITO 等からな
る複数の下部電極（第一電極）2 がストライプ状に配列
され、その上に有機EL媒体層4 が積層される。有機EL媒
体層4 の上には複数の上部電極( 第二電極)5が下部電極
（第一電極）2 と直行してストライプ状に積層して配列
される。上部電極( 第二電極)5は上部電極と同じ幅の引
き出し電極6 に接続する。次いで電気絶縁性の隔壁3 の
隔壁ライン端部が下部電極2 の端部と引き出し電極6 の
上に形成される。電気絶縁性の隔壁3 の隔壁ライン部が
上部電極5 のギャップに設けられるとともに隔壁ライン
端部に接続される。
【００１４】有機EL媒体層4 は発光層の単一層、正孔輸
送層と発光層の2 層構造、または正孔輸送層、発光層、
電子輸送層の3 層構造である。下部電極2 ラインと上部
電極5 ラインが交差して挟まれた有機EL媒体層の部分が
発光部となる。
送層と発光層の2 層構造、または正孔輸送層、発光層、
電子輸送層の3 層構造である。下部電極2 ラインと上部
電極5 ラインが交差して挟まれた有機EL媒体層の部分が
発光部となる。
【００１５】基板1 には石英やガラス板の他にポリエス
テル，ポリメタクリルアクリレート，ポリカーボネー
ト，ポリサルホン等の透明な合成樹脂板を用いることが
できる。また金属板や金属箔，プラスティックフィルム
等も用いることができる。
テル，ポリメタクリルアクリレート，ポリカーボネー
ト，ポリサルホン等の透明な合成樹脂板を用いることが
できる。また金属板や金属箔，プラスティックフィルム
等も用いることができる。
【００１６】本発明の有機薄膜発光素子は、下部電極2
が陽極として正孔注入の役割を果たす。陽極としては、
前記ITO(インジウムスズ酸化物,In2O3+SnO2)の他にイン
ジウム亜鉛酸化物(In2O3+ZnO) を用いてもよい。さらに
これら透明導電膜と金属膜との積層体でもよい。
が陽極として正孔注入の役割を果たす。陽極としては、
前記ITO(インジウムスズ酸化物,In2O3+SnO2)の他にイン
ジウム亜鉛酸化物(In2O3+ZnO) を用いてもよい。さらに
これら透明導電膜と金属膜との積層体でもよい。
【００１７】また有機薄膜発光素子は基板1 及び下部電
極2 が透明であり、発光は基板側から取り出されるが、
上部電極を透明電極で構成し、発光を上部電極から取り
出すこともできる。この場合に光の取り出し効率を高め
るために、下部電極に金属を用いるか基板の成膜面と反
対側に反射膜を形成することが好ましい。
極2 が透明であり、発光は基板側から取り出されるが、
上部電極を透明電極で構成し、発光を上部電極から取り
出すこともできる。この場合に光の取り出し効率を高め
るために、下部電極に金属を用いるか基板の成膜面と反
対側に反射膜を形成することが好ましい。
【００１８】次に有機薄膜発光素子の製造工程を説明す
る。図２はこの発明の実施例に係る有機薄膜発光素子の
製造工程を示し、（ａ）は絶縁膜を示す要部断面図、
（ｂ）は絶縁膜とレジストを示す要部断面図、（ｃ）は
隔壁を示す要部断面図である。
る。図２はこの発明の実施例に係る有機薄膜発光素子の
製造工程を示し、（ａ）は絶縁膜を示す要部断面図、
（ｂ）は絶縁膜とレジストを示す要部断面図、（ｃ）は
隔壁を示す要部断面図である。
【００１９】ガラス等の透明基板1 上にITO 等をスパッ
タリング法等により成膜し、フォトリソグラフィ法によ
り、ストライプ状に加工し、透明な下部電極2 ラインを
形成した。下部電極2 は、膜厚約100nm ，線幅90μｍ，
ギャップ20μm となるように形成した。このとき下部電
極2 ラインのラインエッヂがテーパ形状になるように形
成した。ストライプ状にITO 等の下部電極2 がパターニ
ングされた基板上にスパッタ法やPECVD 法等でSi3N4 や
SiO2等の絶縁膜を300nm 程度成膜し、ポジ型レジストを
その上に成膜しパターニングした後に、ドライエッチン
グ等の異方性エッチングで絶縁膜をパターニングし、絶
縁膜3Aラインを形成した( 図2(a)) 。
タリング法等により成膜し、フォトリソグラフィ法によ
り、ストライプ状に加工し、透明な下部電極2 ラインを
形成した。下部電極2 は、膜厚約100nm ，線幅90μｍ，
ギャップ20μm となるように形成した。このとき下部電
極2 ラインのラインエッヂがテーパ形状になるように形
成した。ストライプ状にITO 等の下部電極2 がパターニ
ングされた基板上にスパッタ法やPECVD 法等でSi3N4 や
SiO2等の絶縁膜を300nm 程度成膜し、ポジ型レジストを
その上に成膜しパターニングした後に、ドライエッチン
グ等の異方性エッチングで絶縁膜をパターニングし、絶
縁膜3Aラインを形成した( 図2(a)) 。
【００２０】その上に日本ゼオン製リフトオフ用のレジ
ストZPN1100 を用いて、レジスト膜3Cを4 〜5 μm 程度
成膜し（図2(b)）、絶縁膜3Aラインと重なるように露
光、現像し、オーバーハング形状の側面を持ったレジス
トライン3Bを形成し、絶縁膜ライン3Aとレジストライン
3Bによって電気絶縁性の隔壁3 ラインを形成した( 図2
(c))。電気絶縁性の隔壁3 ラインはライン端部を残さな
い形状としている。上述のレジストライン3Bはリフトオ
フ用レジストはZPN1100 を用いたが、信越化学製ポジ型
レジストSIPR-9691 を用いてもよい。電気絶縁性の隔壁
3 の隔壁ライン端部は、上部電極5 の引出しのために引
き出し電極6 の内側を一部残して形成し、隔壁3 の隔壁
ライン端部の幅は引き出し電極6 と充分に重なるよう
に、上部電極ギャップ( 数１０μm)よりも広く形成し
た。
ストZPN1100 を用いて、レジスト膜3Cを4 〜5 μm 程度
成膜し（図2(b)）、絶縁膜3Aラインと重なるように露
光、現像し、オーバーハング形状の側面を持ったレジス
トライン3Bを形成し、絶縁膜ライン3Aとレジストライン
3Bによって電気絶縁性の隔壁3 ラインを形成した( 図2
(c))。電気絶縁性の隔壁3 ラインはライン端部を残さな
い形状としている。上述のレジストライン3Bはリフトオ
フ用レジストはZPN1100 を用いたが、信越化学製ポジ型
レジストSIPR-9691 を用いてもよい。電気絶縁性の隔壁
3 の隔壁ライン端部は、上部電極5 の引出しのために引
き出し電極6 の内側を一部残して形成し、隔壁3 の隔壁
ライン端部の幅は引き出し電極6 と充分に重なるよう
に、上部電極ギャップ( 数１０μm)よりも広く形成し
た。
【００２１】有機EL媒体の蒸着は、基板上の画素部分で
下部電極が露出しないように成膜する。有機EL媒体層の
蒸着は以下のように行った。まずN,N'- ジフェニル-N,
N'-ビス(3メチルフェニル)-1,1'- ビフェニル-4,4'-ジ
アミン（TPD ）からなる有機正孔輸送層4aと、トリス(8
- キノリノール) アルミニウム（Alq3）から成る発光層
4bをそれぞれ膜厚約50nmで成膜した。上部電極5 として
は、Al-Li 合金を膜厚約100nm で成膜した。
下部電極が露出しないように成膜する。有機EL媒体層の
蒸着は以下のように行った。まずN,N'- ジフェニル-N,
N'-ビス(3メチルフェニル)-1,1'- ビフェニル-4,4'-ジ
アミン（TPD ）からなる有機正孔輸送層4aと、トリス(8
- キノリノール) アルミニウム（Alq3）から成る発光層
4bをそれぞれ膜厚約50nmで成膜した。上部電極5 として
は、Al-Li 合金を膜厚約100nm で成膜した。
【００２２】
【発明の効果】この発明によれば複数の発光部からなる
画像表示配列を有する有機薄膜発光素子であって、基板
と、基板上に並行に配置された複数の第一電極と、第一
電極の電極パターン上に形成された有機物質からなる電
界発光層と、電界発光層上に形成された複数の第二電極
と、電気絶縁性の隔壁を備え、前記隔壁は第二電極の電
極パターンのギャップ部分に設けられた隔壁ライン部
と、当該隔壁ラインの端部を連結して隔壁ラインの端部
を残さないようにした隔壁ライン端部からなるので、電
気絶縁性隔壁の隔壁ライン部は隔壁ライン端部により機
械的に補強され、その結果、隔壁ライン部の剥離が防止
され、上部電極相互の導通が回避される。このようにし
て生産効率に優れる有機薄膜発光素子が得られる。
画像表示配列を有する有機薄膜発光素子であって、基板
と、基板上に並行に配置された複数の第一電極と、第一
電極の電極パターン上に形成された有機物質からなる電
界発光層と、電界発光層上に形成された複数の第二電極
と、電気絶縁性の隔壁を備え、前記隔壁は第二電極の電
極パターンのギャップ部分に設けられた隔壁ライン部
と、当該隔壁ラインの端部を連結して隔壁ラインの端部
を残さないようにした隔壁ライン端部からなるので、電
気絶縁性隔壁の隔壁ライン部は隔壁ライン端部により機
械的に補強され、その結果、隔壁ライン部の剥離が防止
され、上部電極相互の導通が回避される。このようにし
て生産効率に優れる有機薄膜発光素子が得られる。
【図１】この発明の実施例に係る有機薄膜発光素子を示
し、（ａ）は透視平面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ矢視
局部断面図
し、（ａ）は透視平面図、（ｂ）は（ａ）のＸ−Ｘ矢視
局部断面図
【図２】有機薄膜発光素子の製造工程を示し、（ａ）は
絶縁膜を示す要部断面図、（ｂ）は絶縁膜とレジストを
示す要部断面図、（ｃ）は隔壁を示す要部断面図
絶縁膜を示す要部断面図、（ｂ）は絶縁膜とレジストを
示す要部断面図、（ｃ）は隔壁を示す要部断面図
【図３】従来の有機薄膜発光素子を示し、（ａ）は二層
型の断面図、（ｂ）は三層型の断面図
型の断面図、（ｂ）は三層型の断面図
【図４】従来の有機薄膜発光素子を示す破断斜視図
１ 基板 ２ 下部電極 ３ 電気絶縁性の隔壁 3A 絶縁膜 3B レジストライン 3C レジスト膜 ４ 有機EL媒体層 4a 正孔輸送層 4b 発光層 4c 電子輸送層 ５ 上部電極 ６ 引き出し電極
Claims (3)
- 【請求項１】複数の発光部からなる画像表示配列を有す
る有機薄膜発光素子であって、基板と、基板上に並行に
配置された複数の第一電極と、第一電極の電極パターン
上に形成された有機物質からなる電界発光層と、電界発
光層上に形成された複数の第二電極と、電気絶縁性の隔
壁を備え、前記隔壁は第二電極の電極パターンのギャッ
プ部分に設けられた隔壁ライン部と、当該隔壁ラインの
端部を連結して隔壁ラインの端部を残さないようにした
隔壁ライン端部からなることを特徴とする有機薄膜発光
素子。 - 【請求項２】電気絶縁性の隔壁が絶縁膜とその上に形成
されたリフトオフ用レジストである請求項１に記載の有
機薄膜発光素子。 - 【請求項３】隔壁ライン端部の幅を前記第二電極の電極
パターンの端部剥離が生じない程度に当該電極パターン
のギャップの幅よりも広くした請求項１または２に記載
の有機薄膜発光素子。
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