JP2001237073A - 多面取り用メタルマスク及びその製造方法 - Google Patents

多面取り用メタルマスク及びその製造方法

Info

Publication number
JP2001237073A
JP2001237073A JP2000048173A JP2000048173A JP2001237073A JP 2001237073 A JP2001237073 A JP 2001237073A JP 2000048173 A JP2000048173 A JP 2000048173A JP 2000048173 A JP2000048173 A JP 2000048173A JP 2001237073 A JP2001237073 A JP 2001237073A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal mask
unit
openings
forming
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000048173A
Other languages
English (en)
Inventor
Isamu Oshita
勇 大下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tohoku Pioneer Corp
Original Assignee
Tohoku Pioneer Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tohoku Pioneer Corp filed Critical Tohoku Pioneer Corp
Priority to JP2000048173A priority Critical patent/JP2001237073A/ja
Publication of JP2001237073A publication Critical patent/JP2001237073A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機エレクトロルミネセンス表示パネルの有
機エレクトロルミネセンス媒体などの正確な形成ができ
るとともに製造効率を向上できるメタルマスク及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 メタルマスクは、蒸着源からの蒸着物質
が通過する複数の貫通開口を各々が有する複数のメタル
マスク領域を有する多面取り用メタルマスクであって、
各々がメタルマスク領域を有する複数の単位メタルマス
クと、単位メタルマスクの各々をメタルマスク領域以外
の縁部で支持する開口縁部で画定された開口部を複数有
する基材部と、を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電流の注入によっ
て発光するエレクトロルミネッセンス(以下、ELとも
いう)を呈する有機化合物材料の薄膜からなる発光層
(以下、有機発光層という)を各々が備えた複数の有機
EL素子を所定パターンでもって基板上に形成された有
機EL表示パネルの製造方法に関し、特に該製造方法の
蒸着工程に用いるメタルマスク及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】有機EL素子は、透明基板上に、透明電
極と、有機EL媒体と、金属電極とが順次積層されて構
成される。例えば、有機EL媒体は、有機発光層の単一
層、あるいは有機正孔輸送層、有機発光層及び有機電子
輸送層の3層構造の媒体、または有機正孔輸送層及び有
機発光層2層構造の媒体、さらにこれらの適切な層間に
電子或いは正孔の注入層を挿入した積層体の媒体などで
ある。
【0003】有機EL表示パネルの例えばマトリクス表
示タイプのものは透明電極層を含む行電極と、有機EL
媒体と、行電極に交差する金属電極層を含む列電極とが
順次積層されて構成される。行電極は、各々が帯状に形
成されるとともに、所定の間隔をおいて互いに平行とな
るように配列されており、列電極も同様である。このよ
うに、マトリクス表示タイプの表示パネルは、複数の行
と列の電極の交差点に形成された複数の有機EL素子の
発光画素からなる画像表示配列を有している。
【0004】この有機EL表示パネルの製造工程におい
て、透明電極層を透明基板上に形成後、有機EL媒体が
成膜される。有機EL媒体は、発光画素に対応する1層
以上の薄膜ではあるが、通常、メタルマスクを用いた蒸
着法により形成される。通常薄膜のパターニングに用い
られるフォトリソグラフィ法を有機EL素子に用いる場
合、フォトレジスト中の溶剤の素子への侵入や、レジス
トベーク中の高温雰囲気や、レジスト現像液またはエッ
チング液の素子への浸入や、ドライエッチング時のプラ
ズマによる有機EL媒体へのダメージにより、有機EL
素子特性が劣化する問題が生じるために、メタルマスク
を用いた蒸着法が用いられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】小型表示パネルを製造
する場合、蒸着法を用いる製造プロセスにおいて、小型
表示パネル用透明基板を大型の透明基板からの多面取り
することによりにより製造効率を高めている。大型化し
た透明基板を用いた場合、媒体の蒸着工程において、図
1に示すように、複数のメタルマスク領域101を有す
る多面取り用メタルマスク102を用いなければならな
い。
【0006】しかしながら、多面取り用メタルマスクの
大型化によって、複数のメタルマスク領域のうち1つで
も、精度不良、開口部のバリ、つぶれなどの欠陥がある
と、多面取り用メタルマスクの製造歩留まりが低下する
という問題点があった。また、開口部が大きくスリット
が細いパターンの場合にはマスク強度が不足し、各メタ
ルマスクが撓む問題により、微細なパターンが形成でき
ない問題があった。
【0007】本発明は、このような問題を解決すべくな
され、本発明の目的は、有機EL媒体などの正確な形成
ができるとともに製造効率を向上できる有機EL表示パ
ネルの製造方法、そこに用いるメタルマスク及びその製
造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明のメタルマスク
は、複数の貫通開口を各々が有する複数のメタルマスク
領域を有する多面取り用メタルマスクであって、各々が
メタルマスク領域を有する複数の単位メタルマスクと、
前記単位メタルマスクの各々を前記メタルマスク領域以
外の縁部で支持する開口縁部で画定された開口部を複数
有する基材部と、を備えたことを特徴とする。
【0009】本発明のメタルマスクにおいては、前記複
数の単位メタルマスクに対応した位置合わせマークが前
記基材部上に付与されていることを特徴とする。本発明
のメタルマスクにおいては、前記複数の単位メタルマス
クの複数の貫通開口はエッチングにより形成されたこと
を特徴とする。本発明のメタルマスクにおいては、前記
複数の単位メタルマスクの複数の貫通開口は電鋳により
形成されたことを特徴とする。
【0010】本発明のメタルマスク製造方法は、複数の
貫通開口を各々が有する複数のメタルマスク領域を有す
る多面取り用メタルマスクの製造方法であって、メタル
マスク領域を有する単位メタルマスクを形成する工程
と、前記単位メタルマスクをその縁部で支持する複数の
開口部を有する基材部を形成する工程と、前記基材部の
複数の開口部の縁部で支持されるように前記単位メタル
マスクを取り付ける工程と、を含むことを特徴とする。
【0011】本発明のメタルマスク製造方法において
は、前記基材部を形成する工程は前記複数の単位メタル
マスクに対応した位置合わせマークを前記基材部上に付
与する工程を含み、前記単位メタルマスクを取り付ける
工程において、前記位置合わせマークに前記単位メタル
マスクを合わせて前記基材部の所定位置に前記単位メタ
ルマスクを取り付けることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。 (メタルマスク)図2は実施の形態の一例の多面取り用
メタルマスク40を示す。この多面取り用メタルマスク
は蒸着用の複数のメタルマスク領域41を有しており、
メタルマスク領域41の各々は、蒸着源からの蒸着物質
が通過する複数の貫通開口31を有しており、単位メタ
ルマスク42に形成されている。多面取り用メタルマス
クは、複数のニッケルやステンレスなどからなる単位メ
タルマスク42と、これらを支持するステンレスなどか
らなる平坦板の基材部43とから構成される。基材部4
3には、複数の単位メタルマスク42のメタルマスク領
域41以外の縁部がそれぞれ当接して固着できる開口縁
部44aで画定された複数の開口部44が形成されてい
る。基材部43の開口部44縁部への単位メタルマスク
42の固着及び接合は、スポット溶接、テープによる貼
り付けなどによって行われる。テープにより固定した場
合は、着脱自在となる。よって、蒸着源からの蒸着物質
は開口部44及び貫通開口31を通過する。基材部43
上には、複数の単位メタルマスク42に対応した位置合
わせマークMが、レーザマーキングなどにより付与され
ている。
【0013】位置合わせマークMは、基材部43上だけ
でなく、図11に示すように、基材部43及び単位メタ
ルマスク42の両者に設けてもよい。また、図12に示
すように、位置合わせマークはピン及び貫通孔としても
設けることができ、例えば、対応する単位メタルマスク
42及び開口部44ごとに、基材部43上に突出したマ
ークピンMPを、単位メタルマスク42の対応する位置
にマーク貫通孔MHを設けてもよい。
【0014】さらに、位置合わせマークは、図13に示
すように、開口縁部44aに設けられた凹部の段部とし
ても設けることができ、例えば、単位メタルマスク42
の寸法に一致した大きさにて基材部43の開口部44縁
部をエッチングやNC旋盤などで平坦に研削しマーク段
部MRを形成したり、或いは、単位メタルマスク42の
寸法に一致した大きさ開口を有する上側板材と対応する
開口部44を有する下側板材との2枚の板材で張り合わ
せ基材部43を形成してマーク段部MRを設けてもよ
い。
【0015】この単位メタルマスク42の複数の貫通開
口31はエッチングにより形成される。また、他の形態
では電鋳により形成される。よって、多面取り用メタル
マスクは、単位メタルマスクを形成し、単位メタルマス
クをその縁部で支持する複数の開口部を有する基材部を
形成し、基材部の複数の開口部の縁部で支持されるよう
に、単位メタルマスクを基材部へ正確に取り付けること
により、製造される。
【0016】また、基材部を形成する場合に、複数の単
位メタルマスクに対応した位置合わせマークを、基材部
上に付与することで、単位メタルマスクの取り付ける時
に、位置合わせマークに単位メタルマスクを合わせて基
材部の所定位置に単位メタルマスクを正確に取り付ける
ことができる。本発明によれば、多面取り用メタルマス
クを基材部と単位メタルマスクとに分け、それぞれを接
合する構成としたので、小面積の単位メタルマスクを精
度高く高品質で作成できるようになり、従来の大面積の
多面取り用メタルマスク内の一部のメタルマスク領域欠
陥による全体の不良化を回避でき、多面取り用メタルマ
スクの製造歩留まりが向上するとともに、基材部を単位
メタルマスクより厚く形成できるので、自体の強度も改
善される。
【0017】上記実施形態の多面取り用メタルマスクを
用いた有機EL表示パネルの製造方法を説明する。 (第1表示電極ライン形成)まず、第1及び第2表示電
極の交点に発光部が画定されるので、透明基板上に、各
々が水平方向に伸長する複数の第1表示電極即ち陽極を
形成する工程を説明する。
【0018】ガラス等の透明基板2を用意し、その主面
に、図3に示すように、インジウム錫酸化物(以下、I
TOという)などの高仕事関数の材料からなる連結した
複数の島状透明電極3aを画像表示配列領域となるよう
にマトリクス状に形成する。次に、図4に示すように、
これら島状透明電極3aを水平方向に電気的に接続する
金属のバスライン3bを蒸着などにより形成する。バス
ラインの幅は島状透明電極の幅よりも小とする。この島
状透明電極及びバスラインからなる第1表示電極ライン
3は複数本で互いに平行に成膜する。画像表示配列領域
の外のバスライン端部に接続用パッド3Pも形成でき
る。さらに、後に形成される陰極の接続用パッドも形成
できる。なお、島状透明電極及びその上のバスラインを
除き、第1表示電極ライン上を絶縁膜で被覆することも
できる。 (隔壁形成)つぎに、図5に示すように、第1表示電極
3a、3bに対して垂直方向に伸長しかつ各々が島状透
明電極間に位置するように複数の電気絶縁性の隔壁7を
形成する。ここでは、隔壁材料をフォトレジストを用
い、通常のフォトリソグラフィ法等の手法を用いて形成
する。隔壁7は隔壁本体及びその上部に基板に平行な方
向に突出するオーバーハング部からなる断面が略T字型
又は逆テーパ(逆等脚台形)の形状を有する。この様に
して、少なくとも第1表示電極の一部分、特に透明電極
を露出せしめかつ全体が基板上から突出する隔壁を形成
する。
【0019】隔壁7の端部7aは後で形成される第2表
示電極間同士の短絡防止のために画像表示配列領域の外
に延在するように形成され、隔壁7の基板からの高さ
は、後に形成される第2表示電極の陰極9と第1表示電
極が電気的に短絡されない様な高さであればいくらでも
よい。 (発光層形成)次に、各々の前記第1表示電極の一部上
に、有機EL媒体を堆積し、複数の少くとも1層の有機
EL媒体の薄膜を形成する工程を説明する。有機EL媒
体の正孔輸送層を予め一様に形成しておく。つぎに、有
機発光層を成膜し、この工程で電子輸送層も成膜でき
る。さらにこれらの適切な機能層間に電子或いは正孔の
注入層をも成膜できる。
【0020】図6に示すように、例えば有機発光層の成
膜では、メタルマスク30の貫通開口31を、隔壁7間
の露出したITO電極3に位置合わせして、隔壁上にメ
タルマスクを載置して、1番目(例えば赤色発光)の有
機EL媒体8aを蒸着方法を用いて所定厚さに成膜す
る。次に、メタルマスクをずらして位置合わせをした
後、同様に、隔壁上にメタルマスクを載置して2番目
(例えば緑色発光)、3番目(例えば青色発光)の有機
EL媒体を所定膜厚に順次成膜する。このように、1つ
の開口が1つの第1表示電極上からその隣接する第1表
示電極上へ配置されるようにメタルマスクを順次移動せ
しめる発光層形成工程を順次繰り返す。このように、有
機EL媒体の薄膜は、同一の前記電鋳メタルマスクを用
いて蒸着により形成される。有機EL媒体はそれぞれ第
1表示電極上に別個に並置されかつ電圧印加によりそれ
ぞれ赤、緑及び青色などの所定色の光を発光する複数の
有機発光層が形成される。
【0021】RGB3種類の有機EL媒体を所定の個所
に成膜した後、メタルマスクを取り除くと、図7に示す
ように、露出した第1表示電極ラインの透明電極部分の
各々上に有機EL媒体8が現れる。 (第2表示電極形成)有機EL媒体の薄膜上に、図8に
示すように、垂直方向に伸長する複数の第2表示電極9
の陰極を形成し、前記第1表示電極ラインとの各交差部
にて発光部を画定する。
【0022】隔壁7の頂上及びオーバーハング部は、金
属蒸気流れに対して屋根及び軒となり、隔壁7の頂上及
びオーバーハング部上に堆積した金属膜が第2表示電極
9から離れているので、有機EL媒体8の薄膜とともに
第2表示電極ライン9間の短絡を防止できる。また、金
属蒸気の垂直入射により、隔壁のオーバーハング部7a
で複数の陰極の第2表示電極ライン9が分断され、電気
的に絶縁されだけでなく、図9に示すように、金属蒸気
流が隔壁のオーバーハング部7aを回り込む程度が、有
機EL媒体材料粒子流の回り込む程度よりも小さいの
で、有機EL媒体8が第2表示電極ライン9からはみ出
し、陰極9とITO陽極3とのショ−トを生じさせな
い。
【0023】このようにして、第2表示電極を形成した
あと、防湿処理及び封止してフルカラーの有機EL表示
パネルが得られる。この実施形態では、有機EL媒体の
薄膜を形成する工程において蒸着用メタルマスクを用い
ているが、第1又は第2表示電極を形成する工程におい
て、金属又は透明電極などの第1又は第2表示電極の少
なくとも1種類の成膜について、電鋳メタルマスクを透
明基板近傍にて、蒸着源との間に配置して蒸着により形
成するようにしてもよい。
【0024】図10に示すように、有機EL表示パネル
は、基板2上にマトリクス状に配置されかつ各々が赤
R、緑G及び青Bの発光部からなる発光画素1の複数か
らなる画像表示配列領域1aを有している。第1表示電
極ライン3と垂直方向の第2表示電極ライン9との交差
する部分透明電極3a上で発光部が形成される。以上の
実施形態では、蒸着に用いるメタルマスクを示したが、
このメタルマスクは、スパッタ、CVDなどの成膜方法
における、金属膜、誘電体膜、透明導電膜などを、平板
上に成膜するために用いることができる。
【0025】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、蒸着源か
らの蒸着物質が通過する複数の貫通開口を各々が有する
複数のメタルマスク領域を有する多面取り用メタルマス
クにおいて、各々がメタルマスク領域を有する複数の単
位メタルマスクと、単位メタルマスクの各々を前記メタ
ルマスク領域以外の縁部で支持する開口縁部で画定され
た開口部を複数有する基材部と、を備えたので、有機エ
レクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法におい
て、有機EL媒体などの正確な形成ができるとともに製
造効率を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 多面取り用メタルマスクの概略部分斜視図。
【図2】 本発明による実施例の多面取り用メタルマス
クの概略部分斜視図。
【図3】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の概略部分斜視図。
【図4】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の概略部分斜視図。
【図5】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の概略部分斜視図。
【図6】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の隔壁伸長方向に垂直な概略部分断
面図。
【図7】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の概略部分斜視図。
【図8】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の概略部分断面図。
【図9】 本発明による実施例の有機EL表示パネル製
造工程における基板の隔壁伸長方向に垂直な概略部分断
面図。
【図10】 本発明による有機EL表示パネルの透明基
板側からの概略部分拡大平面図。
【図11】 本発明による他の実施例の多面取り用メタ
ルマスクの概略部分斜視図。
【図12】 本発明による他の実施例の多面取り用メタ
ルマスクの概略部分斜視図。
【図13】 本発明による他の実施例の多面取り用メタ
ルマスクの概略部分斜視図。
【符号の説明】
1 発光画素 2 透明基板 3 第1表示電極ライン 3a 島状透明電極 3b バスライン 3P 端子パッド 7 隔壁 7a オーバーハング部 7b 隔壁端部 8 有機EL媒体 9 第2表示電極ライン 31 貫通開口 40 多面取り用メタルマスク 41 メタルマスク領域 42 単位メタルマスク 43 基材部 44 開口部 44a 開口縁部

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の貫通開口を各々が有する複数のメ
    タルマスク領域を有する多面取り用メタルマスクであっ
    て、 各々がメタルマスク領域を有する複数の単位メタルマス
    クと、 前記単位メタルマスクの各々を前記メタルマスク領域以
    外の縁部で支持する開口縁部で画定された開口部を複数
    有する基材部と、を備えたことを特徴とする多面取り用
    メタルマスク。
  2. 【請求項2】 前記複数の単位メタルマスクに対応した
    位置合わせマークが前記基材部上に付与されていること
    を特徴とする請求項1記載の多面取り用メタルマスク。
  3. 【請求項3】 前記複数の単位メタルマスクの複数の貫
    通開口はエッチングにより形成されたことを特徴とする
    請求項1又は2記載の多面取り用メタルマスク。
  4. 【請求項4】 前記複数の単位メタルマスクの複数の貫
    通開口は電鋳により形成されたことを特徴とする請求項
    1又は2記載の多面取り用メタルマスク。
  5. 【請求項5】 複数の貫通開口を各々が有する複数のメ
    タルマスク領域を有する多面取り用メタルマスクの製造
    方法であって、 メタルマスク領域を有する単位メタルマスクを形成する
    工程と、 前記単位メタルマスクをその縁部で支持する複数の開口
    部を有する基材部を形成する工程と、 前記基材部の複数の開口部の縁部で支持されるように前
    記単位メタルマスクを取り付ける工程と、を含むことを
    特徴とする多面取り用メタルマスクの製造方法。
  6. 【請求項6】 前記基材部を形成する工程は前記複数の
    単位メタルマスクに対応した位置合わせマークを前記基
    材部上に付与する工程を含み、前記単位メタルマスクを
    取り付ける工程において、前記位置合わせマークに前記
    単位メタルマスクを合わせて前記基材部の所定位置に前
    記単位メタルマスクを取り付けることを特徴とする請求
    項5記載の製造方法。
  7. 【請求項7】 基板上に複数の発光部を備えた有機エレ
    クトロルミネッセンス表示パネルの製造方法であって、 透明基板上に、複数の第1表示電極を形成する工程と、 各々の前記第1表示電極の一部上に、有機エレクトロル
    ミネッセンス媒体を堆積し、複数の少くとも1層の有機
    エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜を形成する工程
    と、 前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜上に、複
    数の第2表示電極を形成し、前記第1表示電極との各交
    差部にて発光部を画定する工程とを含み、 第1表示電極を形成する工程、薄膜を形成する工程及び
    第2表示電極を形成する工程において、前記第1表示電
    極、前記有機エレクトロルミネッセンス媒体の薄膜、及
    び前記第2表示電極の少なくとも1種類は、多面取り用
    メタルマスクを前記透明基板近傍の蒸着源との間に配置
    して蒸着により形成されること、 前記多面取り用メタルマスクは、各々が複数の貫通開口
    を有するメタルマスク領域を有する複数の単位メタルマ
    スクと、前記単位メタルマスクをその縁部で支持する複
    数の開口部を有する基材部と、からなることを特徴とす
    る製造方法。
  8. 【請求項8】 前記有機エレクトロルミネッセンス媒体
    の薄膜は、それぞれ前記第1表示電極上に別個に並置さ
    れかつ電圧印加によりそれぞれ所定色の光を発光する複
    数の有機発光層を含み、前記有機発光層は同一の前記多
    面取り用メタルマスクを用いて蒸着により形成されたこ
    とを特徴とする請求項7記載の製造方法。
  9. 【請求項9】 少なくとも前記第1表示電極の一部分を
    露出せしめかつ全体が前記基板上から突出しかつ各々が
    前記第2表示電極間に位置する複数の電気絶縁性の隔壁
    を形成する工程を含むことを特徴とする請求項7記載の
    製造方法。
JP2000048173A 2000-02-24 2000-02-24 多面取り用メタルマスク及びその製造方法 Pending JP2001237073A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000048173A JP2001237073A (ja) 2000-02-24 2000-02-24 多面取り用メタルマスク及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000048173A JP2001237073A (ja) 2000-02-24 2000-02-24 多面取り用メタルマスク及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001237073A true JP2001237073A (ja) 2001-08-31

Family

ID=18570297

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000048173A Pending JP2001237073A (ja) 2000-02-24 2000-02-24 多面取り用メタルマスク及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001237073A (ja)

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003019988A1 (fr) * 2001-08-24 2003-03-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Dispositif de masque de formation a plusieurs faces pour depot sous vide
FR2833134A1 (fr) * 2001-12-05 2003-06-06 Samsung Nec Mobile Display Co Systeme de masque sous tension utilise dans le depot sous vide de film fin pour dispositif electroluminescent organique
JP2003257650A (ja) * 2002-03-05 2003-09-12 Sanyo Electric Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子およびマスク
JP2004006371A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 蒸着用マスク、蒸着用マスクフレーム組立体及びこれらの製造方法
JP2004030975A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法
WO2004028214A1 (en) * 2002-09-20 2004-04-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Fabrication system and manufacturing method of light emitting device
JP2005005070A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びその溶接固定方法
KR100472012B1 (ko) * 2001-12-17 2005-03-08 조수제 섀도우 마스크 및 그 제조 방법
US6866720B2 (en) * 2000-11-28 2005-03-15 Lg Electronics Inc. Mask for fabricating display panel
US6875542B2 (en) 2001-09-25 2005-04-05 Seiko Epson Corporation Mask and method of manufacturing the same, electroluminescence device and method of manufacturing the same, and electronic instrument
KR100484024B1 (ko) * 2001-09-25 2005-04-20 세이코 엡슨 가부시키가이샤 마스크 및 그 제조 방법, 일렉트로루미네선스 장치 및 그제조 방법, 및 전자 기기
JP2005116526A (ja) * 2003-10-04 2005-04-28 Samsung Oled Co Ltd 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法
JP2005163099A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、有機el装置の製造方法、有機el装置
JP2005276480A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP2006037203A (ja) * 2004-07-30 2006-02-09 Sony Corp メタルマスクの製造方法およびメタルマスク
JP2006216475A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びマスクユニット
JP2006244746A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 Kyocera Corp マスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法
KR100626041B1 (ko) 2004-11-25 2006-09-20 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법
JP2006331973A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Toppan Printing Co Ltd 多面付けメタルマスクの製造方法
KR100659057B1 (ko) 2004-07-15 2006-12-21 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치
KR100704688B1 (ko) 2003-07-25 2007-04-10 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 증착용 마스크의 제조방법 및 증착용 마스크
CN100393908C (zh) * 2003-03-07 2008-06-11 精工爱普生株式会社 掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法
JP2008163448A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Samsung Sdi Co Ltd マスク装置とマスク装置の製造方法及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法
KR100870799B1 (ko) * 2001-11-26 2008-11-27 이스트맨 코닥 캄파니 정렬 장치 및 다수의 마스크 세그먼트를 정렬하는 방법
CN100448053C (zh) * 2004-08-31 2008-12-31 清华大学 含有屏蔽掩膜支撑体的有机电致发光器件及其制备方法
US7718006B2 (en) 2005-05-16 2010-05-18 Seiko Epson Corporation Mask holding structure, film forming method, electro-optic device manufacturing method, and electronic apparatus
US7771789B2 (en) 2005-01-06 2010-08-10 Seiko Epson Corporation Method of forming mask and mask
JP2011044416A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Samsung Mobile Display Co Ltd 静電破壊防止構造を有するマスターグラス
US7909932B2 (en) 2005-07-20 2011-03-22 Seiko Epson Corporation Mask, mask manufacturing method, film forming method, electro-optic device manufacturing method, and electronic apparatus
US7976633B2 (en) 2005-01-20 2011-07-12 Seiko Epson Corporation Device and method of forming film
JP2017066440A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 大日本印刷株式会社 基板付蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造方法および基板付蒸着マスク
JP2019173181A (ja) * 2019-07-09 2019-10-10 大日本印刷株式会社 基板付蒸着マスク

Cited By (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6866720B2 (en) * 2000-11-28 2005-03-15 Lg Electronics Inc. Mask for fabricating display panel
WO2003019988A1 (fr) * 2001-08-24 2003-03-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Dispositif de masque de formation a plusieurs faces pour depot sous vide
US6890385B2 (en) 2001-08-24 2005-05-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Multi-face forming mask device for vacuum deposition
KR100848972B1 (ko) 2001-08-24 2008-07-30 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 진공증착용 다면부착 마스크장치
KR100484023B1 (ko) * 2001-09-25 2005-04-20 세이코 엡슨 가부시키가이샤 마스크 및 그 제조 방법, 및 일렉트로루미네선스 장치의 제조 방법
KR100484024B1 (ko) * 2001-09-25 2005-04-20 세이코 엡슨 가부시키가이샤 마스크 및 그 제조 방법, 일렉트로루미네선스 장치 및 그제조 방법, 및 전자 기기
US6930021B2 (en) 2001-09-25 2005-08-16 Seiko Epson Corporation Mask and method of manufacturing the same, electro-luminescence device and method of manufacturing the same, and electronic instrument
US6875542B2 (en) 2001-09-25 2005-04-05 Seiko Epson Corporation Mask and method of manufacturing the same, electroluminescence device and method of manufacturing the same, and electronic instrument
KR100870799B1 (ko) * 2001-11-26 2008-11-27 이스트맨 코닥 캄파니 정렬 장치 및 다수의 마스크 세그먼트를 정렬하는 방법
JP2003217850A (ja) * 2001-12-05 2003-07-31 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機elデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
FR2833134A1 (fr) * 2001-12-05 2003-06-06 Samsung Nec Mobile Display Co Systeme de masque sous tension utilise dans le depot sous vide de film fin pour dispositif electroluminescent organique
KR100472012B1 (ko) * 2001-12-17 2005-03-08 조수제 섀도우 마스크 및 그 제조 방법
JP2003257650A (ja) * 2002-03-05 2003-09-12 Sanyo Electric Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス素子およびマスク
JP2004006371A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 蒸着用マスク、蒸着用マスクフレーム組立体及びこれらの製造方法
JP2004030975A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法
WO2004028214A1 (en) * 2002-09-20 2004-04-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Fabrication system and manufacturing method of light emitting device
US8377764B2 (en) 2002-09-20 2013-02-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method for light emitting device
US8168483B2 (en) 2002-09-20 2012-05-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method for light emitting device
US7943443B2 (en) 2002-09-20 2011-05-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of light-emitting device
CN100459220C (zh) * 2002-09-20 2009-02-04 株式会社半导体能源研究所 制造系统以及发光元件的制作方法
US8609476B2 (en) 2002-09-20 2013-12-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of light emitting device
US8110063B2 (en) 2003-03-07 2012-02-07 Seiko Epson Corporation Mask, method of manufacturing mask, device for manufacturing mask, method of manufacturing layer of luminescent material, electro-optical device, and electronic device
US7648729B2 (en) 2003-03-07 2010-01-19 Seiko Epson Corporation Mask, method of manufacturing mask, device for manufacturing mask, method of manufacturing layer of luminescent material, electro-optical device, and electronic device
CN100393908C (zh) * 2003-03-07 2008-06-11 精工爱普生株式会社 掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法
JP4592261B2 (ja) * 2003-06-11 2010-12-01 大日本印刷株式会社 メタルマスクの溶接固定方法
JP2005005070A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びその溶接固定方法
KR100704688B1 (ko) 2003-07-25 2007-04-10 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 증착용 마스크의 제조방법 및 증착용 마스크
JP4620420B2 (ja) * 2003-10-04 2011-01-26 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法
JP2005116526A (ja) * 2003-10-04 2005-04-28 Samsung Oled Co Ltd 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法
JP2005163099A (ja) * 2003-12-02 2005-06-23 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、有機el装置の製造方法、有機el装置
JP2005276480A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、薄膜パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法および電子機器
EP1584703A1 (en) * 2004-03-23 2005-10-12 Seiko Epson Corporation Mask, method of manufacturing the same, method of forming thin film pattern, method of manufacturing electro-optical device and electronic equipment
KR100659057B1 (ko) 2004-07-15 2006-12-21 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치
JP4604593B2 (ja) * 2004-07-30 2011-01-05 ソニー株式会社 メタルマスクの製造方法
JP2006037203A (ja) * 2004-07-30 2006-02-09 Sony Corp メタルマスクの製造方法およびメタルマスク
CN100448053C (zh) * 2004-08-31 2008-12-31 清华大学 含有屏蔽掩膜支撑体的有机电致发光器件及其制备方法
KR100626041B1 (ko) 2004-11-25 2006-09-20 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법
US7771789B2 (en) 2005-01-06 2010-08-10 Seiko Epson Corporation Method of forming mask and mask
US7976633B2 (en) 2005-01-20 2011-07-12 Seiko Epson Corporation Device and method of forming film
JP4614784B2 (ja) * 2005-02-07 2011-01-19 大日本印刷株式会社 メタルマスク及びマスクユニット
JP2006216475A (ja) * 2005-02-07 2006-08-17 Dainippon Printing Co Ltd メタルマスク及びマスクユニット
JP4616667B2 (ja) * 2005-03-01 2011-01-19 京セラ株式会社 マスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法
JP2006244746A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 Kyocera Corp マスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法
US7718006B2 (en) 2005-05-16 2010-05-18 Seiko Epson Corporation Mask holding structure, film forming method, electro-optic device manufacturing method, and electronic apparatus
JP4609187B2 (ja) * 2005-05-30 2011-01-12 凸版印刷株式会社 多面付けメタルマスクの製造方法
JP2006331973A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Toppan Printing Co Ltd 多面付けメタルマスクの製造方法
US7909932B2 (en) 2005-07-20 2011-03-22 Seiko Epson Corporation Mask, mask manufacturing method, film forming method, electro-optic device manufacturing method, and electronic apparatus
JP2008163448A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Samsung Sdi Co Ltd マスク装置とマスク装置の製造方法及びこれを用いた有機電界発光表示装置の製造方法
US8545631B2 (en) 2006-12-27 2013-10-01 Samsung Display Co., Ltd. Mask device, method of fabricating the same, and method of fabricating organic light emitting display device using the same
JP2011044416A (ja) * 2009-08-20 2011-03-03 Samsung Mobile Display Co Ltd 静電破壊防止構造を有するマスターグラス
US8786173B2 (en) 2009-08-20 2014-07-22 Samsung Display Co., Ltd. Master glass having structure capable of preventing damage caused by static electricity
JP2017066440A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 大日本印刷株式会社 基板付蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造方法および基板付蒸着マスク
JP2019173181A (ja) * 2019-07-09 2019-10-10 大日本印刷株式会社 基板付蒸着マスク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001237073A (ja) 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
US9321074B2 (en) Method of manufacturing a mask frame assembly for thin film deposition
JP3813217B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法
JP4142117B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル及びその製造方法
KR100922753B1 (ko) 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자
US20010019807A1 (en) Deposition mask and manufacturing method thereof, and electroluminescence display device and manufacturing method thereof
US20030185970A1 (en) Organic electroluminescent display panel and method of manufacturing the same
KR100819216B1 (ko) 유기 el 디스플레이 및 그 제조 방법
JPH08227276A (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法
JP2001234385A (ja) メタルマスク及びその製造方法
US6717357B2 (en) Organic electroluminescent display panel
JP4478274B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及びその製造方法
JP2001237072A (ja) メタルマスク及びその製造方法
KR100665941B1 (ko) 유기전계발광 소자 및 그의 제조방법
JP2008208426A (ja) 成膜用マスクおよび成膜用マスクの製造方法
JP2001237071A (ja) メタルマスク及びその製造方法
JP2001043981A (ja) 表示装置およびその製造方法
CN111477761A (zh) 一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置
JP2009252539A (ja) 有機elパネルの製造方法及び有機elパネル並びに電子機器
JP4392113B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンス表示パネル及び有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法
JP3901719B2 (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルとその製造方法
US20220302236A1 (en) Array substrate and display apparatus
JP4494681B2 (ja) 堆積膜形成方法およびこれに用いるマスク、並びに有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネル
JP2001326075A (ja) 有機el素子の製造方法
JP2001196171A (ja) 有機elディスプレイパネル及びその製法方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060220

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070828