CN111477761A - 一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该显示基板包括基板，基板上设置有阵列排布的像素单元，像素单元包括依次叠置于基板上的阳极、发光功能层和阴极，基板上还设置有像素界定层，像素界定层中开设有开口，开口处暴露部分阳极；发光功能层位于开口中；阴极还延伸至覆盖部分像素界定层，阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近阴极的方向翘曲，阳极的翘曲部分在基板上的正投影与阴极在基板上的正投影不交叠，阴极至少在对应阳极翘曲的位置设置为镂空区。该显示基板能够避免翘曲的阳极与阴极的相对应位置相接触而发生短接，从而避免在阳极与阴极发生短路的位置出现暗点不良，提升了显示基板的良率和品质。

Description

一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。

背景技术

有机电激发光器件(OLED，OrganicLight-Emitting Diode)由于自主发光、色域广、响应快、面板薄、可弯曲、耐低温等独有的优异特性，已经广泛应用于手机，车载显示，相机等面板显示，大有取代传统的液晶显示器的趋势，成为公认的下一代屏幕显示技术。

有机电激发光器件具有由阳极、发光功能层和阴极相互叠置构成的三明治结构，在制备阳极的过程中需要用高压水持续冲洗基板，这会导致制备形成的阳极沿高压水冲洗方向的相对两端会出现翘曲卷起现象，翘曲卷起的阳极两端容易顶破界定像素区域的像素界定层以及发光功能层与阴极膜层直接短接，造成OLED显示面板出现暗点不良，影响OLED显示面板的良率和品质。

发明内容

本发明针对翘曲卷起的阳极容易与阴极发生短接，造成暗点不良的问题，提供一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置。该显示基板能够避免翘曲的阳极与阴极的相对应位置相接触而发生短接，从而避免阳极与阴极之间发生短路，进而避免在阳极与阴极发生短路的位置出现暗点不良，提升了显示基板的良率和品质。

本发明提供一种显示基板，包括基板，所述基板上设置有阵列排布的像素单元，所述像素单元包括依次叠置于所述基板上的阳极、发光功能层和阴极，所述基板上还设置有像素界定层，所述像素界定层中开设有开口，所述开口处暴露部分所述阳极；所述发光功能层位于所述开口中；所述阴极还延伸至覆盖部分所述像素界定层，所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲，所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠，所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置设置为镂空区。

可选地，所述第一方向为所述阵列的行方向或列方向。

可选地，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

可选地，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域分别沿第二方向等宽度延伸的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合；

所述宽度为所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域各自沿所述第一方向的尺寸；

当所述第一方向为所述阵列的行方向时，所述第二方向为所述阵列的列方向；或者，当所述第一方向为所述阵列的列方向时，所述第二方向为所述阵列的行方向。

可选地，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及沿所述第一方向相邻的两所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

可选地，所述第一方向为所述阵列的行方向，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两列所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

或者，所述第一方向为所述阵列的列方向，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两行所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

可选地，所述发光功能层在所述基板上的正投影覆盖所述阴极的所述镂空区在所述基板上的正投影区域。

可选地，还包括多个隔垫物，所述隔垫物对应设置于所述像素界定层所在区域，且位于所述像素界定层的背离所述基板的一侧；所述基板包括基底和设置于所述基底上的像素驱动电路，所述像素界定层和所述像素单元位于所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧，所述像素驱动电路与所述像素界定层和所述像素单元之间还设置有平坦层。

可选地，所述阳极采用透明金属氧化物材料，所述阴极采用导电金属或导电金属合金材料。

本发明还提供一种显示面板，包括上述显示基板，还包括封装层，所述封装层与所述显示基板对合，以对所述显示基板中的像素单元进行封装。

本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。

本发明还提供一种显示基板的制备方法，包括在基板上形成像素单元，所述像素单元阵列排布；形成所述像素单元包括依次在所述基板上形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；所述制备方法还包括在所述基板上形成像素界定层及所述像素界定层中的开口，所述开口处暴露部分所述阳极；所述发光功能层位于所述开口中；所述阴极还延伸至覆盖所述像素界定层，所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲，所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠，所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置形成为镂空区。

可选地，形成阴极包括：采用包括所述阴极图形的掩膜板蒸镀形成所述阴极。

可选地，在形成所述像素界定层之后且在形成所述发光功能层之前还包括形成隔垫物的步骤，所述隔垫物对应位于所述像素界定层所在区域，且位于所述像素界定层的背离所述基板的一侧；形成所述基板包括在基底上形成像素驱动电路，所述像素界定层和所述像素单元位于所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧；

在形成所述像素驱动电路之后且在形成所述像素界定层和所述像素单元之前还包括在所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧形成平坦层的步骤。

本发明的有益效果：本发明所提供的显示基板，通过将阴极的至少对应阳极翘曲位置的区域设置为镂空区，能够避免翘曲的阳极与阴极的相对应位置相接触而发生短接，从而避免阳极与阴极之间发生短路，进而避免在阳极与阴极发生短路的位置出现暗点不良，提升了显示基板的良率和品质。

本发明所提供的显示面板，通过采用上述显示基板，能够避免该显示面板出现阳极与阴极发生短路的情况，从而避免该显示面板出现由此导致的暗点不良，提升了该显示面板的良率和品质。

本发明所提供的显示装置，通过采用上述显示面板，能够提升该显示装置的良率和品质。

附图说明

图1为现有OLED显示基板的结构剖视示意图；

图2为本发明一实施例中显示基板的结构俯视示意图；

图3为图2中显示基板沿AA剖切线的结构剖视示意图；

图4为本发明另一实施例中显示基板的结构俯视示意图；

图5为本发明又一实施例中显示基板的结构俯视示意图；

图6为图5中显示基板沿BB剖切线的结构剖视示意图；

图7为本发明又一实施例中显示基板的结构俯视示意图。

其中附图标记为：

1、基板；11、基底；12、像素驱动电路；13、平坦层；2、像素界定层；3、像素单元；31、阳极；32、发光功能层；33、阴极；330、镂空区；L、第一方向；M、第二方向；4、隔垫物；130、过孔。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置作进一步详细描述。

如图1所示，有机电激发光器件的阳极31沿高压水冲洗方向的相对两端会出现翘曲卷起现象，翘曲卷起的阳极31两端容易顶破界定像素区域的像素界定层2以及发光功能层32与阴极33膜层直接短接，造成OLED显示面板出现暗点不良，影响OLED显示面板的良率和品质。

基于有机电激发光器件存在的上述问题，本发明实施例提供一种显示基板，如图2和图3所示，包括基板1，基板1上设置有阵列排布的像素单元3，像素单元3包括依次叠置于基板1上的阳极31、发光功能层32和阴极33，基板1上还设置有像素界定层2，像素界定层2中开设有开口，开口处暴露部分阳极31；发光功能层32位于开口中；阴极33还延伸至覆盖部分像素界定层2，阳极31沿第一方向L的相对两端的至少局部向靠近阴极33的方向翘曲，阳极31的翘曲部分在基板1上的正投影与阴极33在基板1上的正投影不交叠，阴极33至少在对应阳极31翘曲的位置设置为镂空区330。

通过使阳极31的翘曲部分在基板1上的正投影与阴极33在基板1上的正投影不交叠，并将阴极33的至少对应阳极31翘曲位置的区域设置为镂空区330，能够避免翘曲的阳极31与阴极33的相对应位置相接触而发生短接，从而避免阳极31与阴极33之间发生短路，进而避免在阳极31与阴极33发生短路的位置出现暗点不良，提升了显示基板的良率和品质。

本实施例中，第一方向L为阵列的行方向。当然，第一方向也可以为阵列的列方向。在制备阳极的过程中，如果高压水沿阵列的行方向冲洗基板1，则阳极31沿行方向的相对两端容易发生翘曲卷起，第一方向L为阵列的行方向，如果高压水沿阵列的列方向冲洗基板1，则阳极31沿列方向的相对两端容易发生翘曲卷起，第一方向为阵列的列方向。

本实施例中，阳极31沿第一方向L的相对两端的区域在阴极33上的正投影与镂空区330重合。如此设置，使得阳极31沿第一方向L的相对两端的区域无论哪个位置有翘曲卷起，都不会与其对应区域的阴极33发生接触和短接，从而避免显示基板出现暗点不良。

可选的，本实施例中，发光功能层32在基板1上的正投影覆盖阴极33的镂空区330在基板1上的正投影区域。即发光功能层32在阳极31沿第一方向L相对两端的区域照常制备，只是发光功能层32的对应阳极31沿第一方向L相对两端的区域不会再发光，因为阴极33的该部分区域设置为镂空区330。

需要说明的是，发光功能层在阳极沿第一方向相对两端的区域也可以不制备。发光功能层未制备的区域由像素界定层填充。

本实施例中，显示基板还包括多个隔垫物4，隔垫物4对应设置于像素界定层2所在区域，且位于像素界定层2的背离基板1的一侧。隔垫物4能够对用于封装像素单元3的封装层进行支撑，从而更好地保护像素单元3。

本实施例中，基板1包括基底11和设置于基底11上的像素驱动电路12，像素界定层2和像素单元3位于像素驱动电路12的背离基底11的一侧，像素驱动电路12与像素界定层2和像素单元3之间还设置有平坦层13。像素驱动电路12通过开设在平坦层13中的过孔130与像素单元3的阳极31连接，用于驱动像素单元3发光。平坦层13的设置，有利于使基板1表面平整，以通过蒸镀的方法在基板1上形成像素界定层2和像素单元3。

本实施例中，像素单元3可以为OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)或者LED(Light Emitting Diode，发光二极管)。阳极31采用透明金属氧化物材料，如氧化铟锡等，阴极33采用导电金属或导电金属合金材料，如铝、银、镁合金、钙等金属。发光功能层32包括电子传输层、发光层和空穴传输层。像素单元3的发光原理为：在阴极33和阳极31加入电压后，两极之间产生可以移动的电子和空穴。电子和空穴由于受到电场作用，分别向阳极31和阴极33移动，离开两极，在发光功能层32结合。电子和空穴结合产生的能量使发光功能层32的最外层电子被激发，跨越到外一层电子轨道；由于只是激发，最外层电子轨道不稳定，最外层电子马上又会回到原来的轨道，这样就会把过剩的能量以光的形式释放出来。

基于显示基板的上述结构，本实施例还提供一种该显示基板的制备方法，包括在基板上形成像素单元，像素单元阵列排布；形成像素单元包括依次在基板上形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；制备方法还包括在基板上形成像素界定层及像素界定层中的开口，开口处暴露部分阳极；发光功能层位于开口中；阴极还延伸至覆盖像素界定层，阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近阴极的方向翘曲，阳极的翘曲部分在基板上的正投影与阴极在基板上的正投影不交叠，阴极至少在对应阳极翘曲的位置形成为镂空区。

本实施例中，形成阴极包括：采用包括阴极图形的掩膜板蒸镀形成阴极。其中，阳极沿第一方向的相对两端的区域在阴极上的正投影与镂空区重合。

需要说明的是，阴极也可以采用传统构图工艺(包括沉积阴极膜层、光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀等步骤)制备形成，曝光时所采用的掩膜板为包括阴极图形的掩膜板。具体制备工艺为比较成熟的工艺，这里不再赘述。

本实施例显示基板的制备方法中，在基板上形成像素界定层和像素单元的具体过程为：

S1：在基板上形成阳极的图形；阳极可以采用构图工艺形成，也可以采用蒸镀工艺形成。

S2：在完成S1的基板上形成像素界定层及其中开口的图形；像素界定层采用膜层涂布、曝光、显影工艺形成，或者采用蒸镀工艺形成。其中，阳极的边缘通常位于像素界定层下方。

S3：在完成S2的基板上形成发光功能层；发光功能层中的各膜层(电子传输层、发光层、空穴传输层)均通过蒸镀工艺形成。

S4：在完成S3的基板上形成阴极；阴极采用蒸镀工艺或者传统构图工艺形成。

本实施例中，显示基板的制备方法在形成像素界定层之后且在形成发光功能层之前还包括形成隔垫物的步骤，隔垫物对应位于像素界定层所在区域，且位于像素界定层的背离基板的一侧。隔垫物采用膜层涂布、曝光、显影的工艺形成。隔垫物用于对后续形成的封装像素单元的封装层进行支撑。

本实施例中，形成基板包括在基底上形成像素驱动电路，像素界定层和像素单元位于像素驱动电路的背离基底的一侧；在形成像素驱动电路之后且在形成像素界定层和像素单元之前还包括在像素驱动电路的背离基底的一侧形成平坦层的步骤。像素驱动电路的各膜层采用传统构图工艺形成，平坦层采用膜层涂布、曝光、显影的工艺形成。平坦层能使形成像素驱动电路的基板表面平齐，从而有利于在其上形成像素单元。

本发明实施例还提供一种显示基板，与上述实施例中不同的是，如图4所示，阳极31沿第一方向L的相对两端的区域分别沿第二方向M等宽度延伸的区域在阴极33上的正投影与镂空区330重合；其中，所述宽度为阳极31沿第一方向L的相对两端的区域各自沿第一方向L的尺寸，第一方向L为阵列的行方向，第二方向M为阵列的列方向。

需要说明的是，如果第一方向L为阵列的列方向，则第二方向M为阵列的行方向。

本实施例中显示基板的上述设置，同样能够使得阳极31沿第一方向L的相对两端的区域无论哪个位置有翘曲卷起，都不会与其对应区域的阴极33发生接触和短接，从而避免显示基板出现暗点不良；同时，由于本实施例中阴极33的镂空区330面积增大，所以相比于上述实施例，能够节约材料成本，从而降低生产成本。

本实施例中显示基板的其他结构与上述实施例中相同，这里不再赘述。

本实施例中显示基板的制备方法，只是形成阴极时所采用的掩膜板上阴极的图形不同，其他制备方法均相同，这里不再赘述。

本发明实施例还提供一种显示基板，与上述实施例中不同的是，如图5和图6所示，阳极沿第一方向L的相对两端的区域以及沿第一方向L相邻的两阳极31之间的间隔区域在阴极33上的正投影与镂空区330重合。

如此设置，同样能够使得阳极31沿第一方向L的相对两端的区域无论哪个位置有翘曲卷起，都不会与其对应区域的阴极33发生接触和短接，从而避免显示基板出现暗点不良；同时，相比于上述显示基板的第一个实施例，由于本实施例中阴极33的镂空区330面积增大，所以能够节约材料成本，从而降低生产成本。

本实施例中显示基板的其他结构与上述实施例中相同，这里不再赘述。

本实施例中显示基板的制备方法，只是形成阴极时所采用的掩膜板上阴极的图形不同，其他制备方法均相同，这里不再赘述。

本发明实施例还提供一种显示基板，与上述实施例中不同的是，如图7所示，第一方向L为阵列的行方向，阳极31沿第一方向L的相对两端的区域以及相邻两列像素单元3的阳极31之间的间隔区域在阴极33上的正投影与镂空区330重合。

需要说明的是，也可以是第一方向为阵列的列方向，阳极沿第一方向的相对两端的区域以及相邻两行像素单元的阳极之间的间隔区域在阴极上的正投影与镂空区重合。

如此设置，同样能够使得阳极31沿第一方向L的相对两端的区域无论哪个位置有翘曲卷起，都不会与其对应区域的阴极33发生接触和短接，从而避免显示基板出现暗点不良；同时，相比于上述显示基板的上述任一实施例，由于本实施例中阴极33的镂空区330面积增大，所以能够节约材料成本，从而降低生产成本。

本实施例中显示基板的其他结构与上述实施例中相同，这里不再赘述。

本实施例中显示基板的制备方法，只是形成阴极时所采用的掩膜板上阴极的图形不同，其他制备方法均相同，这里不再赘述。

本发明上述实施例中所提供的显示基板，通过将阴极的至少对应阳极翘曲位置的区域设置为镂空区，能够避免翘曲的阳极与阴极的相对应位置相接触而发生短接，从而避免阳极与阴极之间发生短路，进而避免在阳极与阴极发生短路的位置出现暗点不良，提升了显示基板的良率和品质。

本发明实施例还提供一种显示面板，包括上述任一实施例中的显示基板，还包括封装层，封装层与显示基板对合，以对显示基板中的像素单元进行封装。

通过采用上述任一实施例中的显示基板，能够避免该显示面板出现阳极与阴极发生短路的情况，从而避免该显示面板出现由此导致的暗点不良，提升了该显示面板的良率和品质。

本发明实施例还提供一种显示装置，包括上述实施例中的显示面板。

通过采用上述实施例中的显示面板，能够提升该显示装置的良率和品质。

本公开实施例所提供的显示装置可以为OLED面板、OLED电视、LED面板、LED电视、显示器、手机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种显示基板，包括基板，所述基板上设置有阵列排布的像素单元，所述像素单元包括依次叠置于所述基板上的阳极、发光功能层和阴极，所述基板上还设置有像素界定层，所述像素界定层中开设有开口，所述开口处暴露部分所述阳极；所述发光功能层位于所述开口中；所述阴极还延伸至覆盖部分所述像素界定层，所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲，其特征在于，所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠，所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置设置为镂空区。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一方向为所述阵列的行方向或列方向。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域分别沿第二方向等宽度延伸的区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合；

所述宽度为所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域各自沿所述第一方向的尺寸；

当所述第一方向为所述阵列的行方向时，所述第二方向为所述阵列的列方向；或者，当所述第一方向为所述阵列的列方向时，所述第二方向为所述阵列的行方向。

5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及沿所述第一方向相邻的两所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一方向为所述阵列的行方向，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两列所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

或者，所述第一方向为所述阵列的列方向，所述阳极沿所述第一方向的相对两端的区域以及相邻两行所述像素单元的所述阳极之间的间隔区域在所述阴极上的正投影与所述镂空区重合。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光功能层在所述基板上的正投影覆盖所述阴极的所述镂空区在所述基板上的正投影区域。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括多个隔垫物，所述隔垫物对应设置于所述像素界定层所在区域，且位于所述像素界定层的背离所述基板的一侧；

所述基板包括基底和设置于所述基底上的像素驱动电路，所述像素界定层和所述像素单元位于所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧，所述像素驱动电路与所述像素界定层和所述像素单元之间还设置有平坦层。

9.根据权利要求1所述述的显示基板，其特征在于，所述阳极采用透明金属氧化物材料，所述阴极采用导电金属或导电金属合金材料。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-9任意一项所述的显示基板，还包括封装层，所述封装层与所述显示基板对合，以对所述显示基板中的像素单元进行封装。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10所述的显示面板。

12.一种显示基板的制备方法，包括在基板上形成像素单元，所述像素单元阵列排布；形成所述像素单元包括依次在所述基板上形成阳极、发光功能层和阴极的步骤；所述制备方法还包括在所述基板上形成像素界定层及所述像素界定层中的开口，所述开口处暴露部分所述阳极；所述发光功能层位于所述开口中；所述阴极还延伸至覆盖所述像素界定层，所述阳极沿第一方向的相对两端的至少局部向靠近所述阴极的方向翘曲，其特征在于，所述阳极的翘曲部分在所述基板上的正投影与所述阴极在所述基板上的正投影不交叠，所述阴极至少在对应所述阳极翘曲的位置形成为镂空区。

13.根据权利要求12所述的显示基板的制备方法，其特征在于，形成阴极包括：采用包括所述阴极图形的掩膜板蒸镀形成所述阴极。

14.根据权利要求12所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在形成所述像素界定层之后且在形成所述发光功能层之前还包括形成隔垫物的步骤，所述隔垫物对应位于所述像素界定层所在区域，且位于所述像素界定层的背离所述基板的一侧；

形成所述基板包括在基底上形成像素驱动电路，所述像素界定层和所述像素单元位于所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧；

在形成所述像素驱动电路之后且在形成所述像素界定层和所述像素单元之前还包括在所述像素驱动电路的背离所述基底的一侧形成平坦层的步骤。

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