KR100922753B1 - 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자 - Google Patents

증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자 Download PDF

Info

Publication number
KR100922753B1
KR100922753B1 KR1020030065403A KR20030065403A KR100922753B1 KR 100922753 B1 KR100922753 B1 KR 100922753B1 KR 1020030065403 A KR1020030065403 A KR 1020030065403A KR 20030065403 A KR20030065403 A KR 20030065403A KR 100922753 B1 KR100922753 B1 KR 100922753B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
electrode
forming
opening
unit
Prior art date
Application number
KR1020030065403A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20040047556A (ko
Inventor
시게무라코지
Original Assignee
삼성모바일디스플레이주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성모바일디스플레이주식회사 filed Critical 삼성모바일디스플레이주식회사
Publication of KR20040047556A publication Critical patent/KR20040047556A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100922753B1 publication Critical patent/KR100922753B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/88Dummy elements, i.e. elements having non-functional features
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/17Passive-matrix OLED displays

Abstract

본 발명은 마스크를 인장력이 가해지도록 지지함으로써 발생될 수 있는 개구부 폭의 정밀도 변화를 줄여 패턴의 편차를 줄이고, 마스크에 인장력이 가해질 경우 토탈 피치를 보정하여 패턴 정밀도를 향상시키기 위한 것으로, 이를 위하여, 박판으로 이루어져 인장력이 가하여지도록 지지되는 것으로, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미(dummy) 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 하나 이상 구비한 것을 특징으로 하는 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자를 제공한다.

Description

증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 및 유기 전계 발광 소자{Mask for an evaporation, method of manufacturing an organic electroluminesence device thereused and organic electroluminesence device}
도 1은 종래의 증착 마스크를 나타내는 분리 사시도,
도 2는 도 1에 따른 증착 마스크의 부분 단면도,
도 3은 도 1에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 증착 마스크의 사시도,
도 5는 도 4에 따른 증착 마스크의 단위 마스크를 도시한 부분 사시도,
도 6 및 도 7은 도 5의 Ⅱ-Ⅱ에 대한 단면도,
도 8은 본 발명에 따른 마스크의 개구부 폭 편차량을 나타내는 그래프,
도 9는 도 4에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 10a 내지 도 10c는 본도 4에 따른 증착 마스크의 토탈 피치의 편차 및 라인 편차를 나타내는 개략도,
도 11은 본 발명의 바람직한 다른 일 실시예에 따른 증착 마스크의 단위 마스크의 일부를 도시한 부분 평면도,
도 12 및 도 13은 각각 본 발명의 바람직한 서로 다른 일 실시예들에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 증착 마스크의 사시도,
도 15는 도 14에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 16 내지 도 19는 각각 본 발명의 바람직한 서로 다른 일 실시예들에 따른 증착 마스크의 평면도,
도 20 내지 도 29는 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 단계별로 나타내 보인 도면들,
도 30은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 유기 전계 발광 소자의 분리 사시도.
본 발명은 증착 마스크에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 인장력을 가하였을 때에도 개구부 피치의 정밀도가 유지될 수 있는 증착 마스크와, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자에 관한 것이다.
전계 발광 소자는 자발 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어 차세대 표시 소자로서 주목을 받고 있다.
이러한 전계 발광 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 전계 발광 소 자와 유기 전계 발광 소자로 구분되는데, 유기 전계 발광 소자는 무기 전계 발광 소자에 비해 휘도, 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러 디스플레이가 가능하다는 장점을 가지고 있어 최근 그 개발이 활발하게 진행되고 있다.
이러한 유기 전계 발광소자는 투명한 절연기판 상에 소정 패턴으로 형성된 제1전극과, 이 제1전극이 형성된 절연기판 상에 진공증착법에 의해 형성된 유기막과, 상기 제1전극과 교차하는 방향으로 상기 유기막의 상면에 형성된 제2전극들을 포함한다.
이와 같이 구성된 유기 전계 발광소자를 제작함에 있어서, 상기 제1전극은 통상 ITO(indium tin oxide)로 이루어지는데, 이 ITO의 패턴닝은 포토리소그래피 법에 의해 이루어진다.
그런데, 상기와 같은 포토리소그래피법은 유기막이 형성되기 전 단계에서는 사용이 가능하나, 유기막이 형성된 후에는 그 사용에 문제가 있다. 즉, 유기막은 수분에 매우 취약하여 그 제조 과정과 제조 후에도 수분으로부터 철저히 격리시켜야 하기 때문이다. 따라서, 레지스트 박리 과정과 식각 과정에서 수분에 노출되는 상기 포토 리소그래피법은 유기막 및 제 2 전극층의 패터닝에 적합하지 않다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 유기막을 이루는 유기 발광재료와 제 2 전극층을 이루는 재료는 소정의 패턴을 가지는 마스크를 이용하여 진공 중에서 증착하는 방법을 많이 사용하고 있다. 특히, 상기 제 2 전극층은 소정의 격리벽인 캐소오드 세퍼레이터를 이용해 패터닝할 수도 있으나, 상기 유기막 중 저분자 유기막은 증착 마스크를 이용하여 진공 증착법에 의해 패터닝되는 것이 가장 적합한 것으로 알려져 있다.
상기와 같이 마스크를 이용하여 유기막 또는 제 2 전극층을 패터닝하는 방법에 있어서, 발광층인 유기막을 패터닝시키는 기술은 풀 칼라 유기 전계 발광 소자를 제조하는 데 있어서 매우 중요한 기술이다.
종래 알려져 있는 풀 컬러 유기 전계 발광 소자의 컬러화 방식에는 적(R), 녹(G), 청(B)의 각 화소를 기판상에 독립 증착시키는 삼색 독립 증착 방식과, 청색 발광을 발광원으로 하여 색변환층을 광취출면에 설치하는 색변환 방식(CCM 방식), 백색 발광을 발광원으로 하여 컬러 필터를 사용하는 컬러 필터 방식 등이 있다. 이 중 삼색 독립 증착 방식이 단순한 구조로 우수한 색순도 및 효율을 나타내는 점에서 가장 주목받고 있는 방식이다.
삼색 독립 증착 방식은 증착 마스크를 사용하여 적(R), 녹(G), 청(B) 각 화소를 기판 상에 독립 증착하는 것으로, 이 때, 상기 증착 마스크는 열팽창계수가 낮은 재료를 사용하여 열변형이 발생되지 않아야 하고, 자석부재로 기판에 밀착시킬 때에는 자성체여야 하는 데, 가장 중요한 인자는 증착 마스크의 고정밀도이다. 특히, 증착되는 각 화소간의 위치 정밀도, 즉, 패턴의 개구부 폭의 고정밀도가 요구되고, 마스크 토탈 피치의 고정밀도가 요구된다. 예컨대, 유기 전계 발광 소자가 130ppi 이상의 고정세화(高精細化)와 50% 이상의 개구율이 요구된다면, 증착 마스크의 개구부 폭의 편차는 ±5㎛이내여야 하고, 토탈 피치의 편차는 ±10㎛이내여야 한다.
통상적으로 유기 전계 발광 소자의 제조과정에서 유기막 또는 전극들의 증 착에 이용되는 증착 마스크는 도 1에 도시된 바와 같이 프레임(20)에 인장력이 가하여지도록 지지되는 것으로, 하나의 금속박판(11)에 하나의 유기 전계 발광소자를 증착할 수 있는 단위 마스크(12)들이 복수개 구비되어 있다.
상기와 같은 증착 마스크(10)는 판두께가 얇고, 패턴이 미세하기 때문에 그대로 사용하면 쳐지는 부분이 발생하게 되어 정확한 패터닝을 할 수 없다. 따라서, 도 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 증착 마스크(10)에는 소정의 토탈 피치(Pt)의 정밀도를 만족하도록 도 1에서 x축 및 y축 방향으로 최적의 인장력을 가한 후 마스크 프레임(20)에 접합시킨다. 이 접합 시에는 토탈 피치(Pt)의 정밀도를 변화시키지 않도록 하는 것이 중요하다. 상기와 같은 증착 마스크(10)와 마스크 프레임(20)의 접합은 다양한 방법에 의해 이루어질 수 있는 데, 접착제에 의한 접합이나 레이저 용접 혹은 저항 용접 등이 사용되어질 수 있다.
한편, 각 단위 마스크(12)들은 소정 패턴의 개구부들을 구비하는 데, 도 1에서 볼 수 있듯이, y축 방향으로 길게 형성된 스트라이프상의 개구부들을 구비할 수 있다. 그런데, 이러한 각 단위 마스크(12)들의 개구부들 중 가장자리의 개구부는 상기 인장력에 의해 소정의 정밀도가 유지되기 어렵게 된다.
도 2는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ에 대한 단면도로, 각 단위 마스크(12)에 개구부(13)들이 형성된 상태를 나타낸다. 도 2에서 볼 수 있듯이, 상기 개구부(13)들의 사이에는 차폐부(14)가 구비되고, 가장자리에 위치한 개구부(13a)는 차폐부(14)와 단위 마스크간의 리브(15)에 의해 형성된다.
그런데, 이러한 개구부(13)를 갖는 증착 마스크(10)에 도 1에서와 같이 x축 및 y축 방향으로 인장력을 가하면, 도 2에서 볼 수 있듯이, 각 단위 마스크(12)의 가장자리 개구부(13a)를 이루는 리브(15)의 단부(15a)가 높이 방향으로 변형될 수 있다. 이러한 리브(15) 단부(15a)의 변형은 가장자리 개구부(13a) 폭의 정밀도를 떨어뜨리게 되고, 이에 따라 이 가장자리 개구부(13a)에 의해 증착이 이루어지는 유기발광막은 그 정밀도가 떨어지며, 판넬의 외부영역에서 정확한 유기 발광막의 패터닝이 이루어지지 않게 되는 문제가 생긴다. 또한, 각 단위 마스크의 사이에 위치한 리브 단부가 변형될 경우, 이 부분이 유기막에 접촉되어 판넬 외곽부에 암점이나 화소쇼트 등의 결함을 유발시킬 수 있는 문제가 발생한다.
이러한 현상은 도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 복수개의 단위 마스크 중 최외곽에 위치한 단위 마스크에 보다 영향을 미쳐 토탈 피치의 정밀도를 해할 수 있다.
즉, 도 3에서 볼 수 있듯이, 복수개의 단위 마스크(12) 중 최외곽에 위치한 단위 마스크, 특히, 개구부(13)의 길이방향에 직각방향으로 가해지는 인장력의 방향, 즉, x 축 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크들(12a)(12b)은 x 축 방향의 인장력에 의해 더욱 큰 변형을 받을 수 있고, 이에 따라 일측 단위 마스크들(12a)의 외측 리브의 단부들을 연결한 선(16a)과, 타측 단위 마스크들(12b)의 외측 리브의 단부들을 연결한 선(16b) 사이의 간격인 토탈 피치(Pt)의 정밀도는 더욱 떨어지게 되어 각 단위 마스크(12)들의 패턴 형성의 정밀도는 더욱 낮아지게 된다.
일본 공개 특허 공보 2001-247961호에는 마스크의 열팽창으로 인하여 슬롯을 형성하는 스트립들의 크립(creep)변형의 문제점을 해결하기 의하여, 다수의 제 1 개구부를 구획한 격벽을 갖는 마스크부와, 상기 각각의 개구 면적이 상기 각 제 1개구부의 개구면적보다 작은 여러개의 제2개구부를 갖고, 상기 여러개의 제 2개구부가 상기 마스크부의 상기 각 제1개구부 상에 배치된 자성자료를 포함하는 스크린부을 구비한 마스크가 개시되어 있다.
일본 공개 특허 공보 2001-273979호에는 자성체 마스크의 구조가 개시되어 있으며, 일본 공개 특허 공보 2001-254169호에는 피 증착물에 밀착되어 증착 부분을 마스킹 하는 것으로, 증착영역에 대응하는 마스크 패턴이 형성된 증착마스크 프레임은 프레임 두께에 비하여 소정의 치수를 지지하기 어려운 미세한 간극과 미세 패턴부를 포함하는 마스크 패턴을 구비하고, 상기 마스크 패턴의 미세 패턴부가 미세 리브에 의해 지지된 구조를 가진다.
상술한 바와 같은 마스크는 프레임에 지지된 마스크가 자성체로 이루어져 피 증착물과 밀착될 수 있도록 하고 있으나, 이들의 경우에도 인장력의 인가 시 최외곽 개구부의 변형에 의한 정밀도 저하의 문제는 여전히 안고 있다.
또한, 일본 공개 특허 공보 2002-9098호에는 증착 과정에서 마스크가 열팽창하여 부분적으로 들뜨고, 이에 따라 기판 상에 이미 형성되어 있는 막에 손상을 주는 문제를 해결하기 위한 것으로, 마스크보다 크게 형성되고 단차부를 구비해 마스크를 이 단차부에 안착시키는 지지부재를 이용하여 성막 시 마스크가 열팽창되어도 지지부재에 의해 마스크가 파상(波狀)으로 휘어지지 않도록 하고, 또한, 성막 시에 자성부재가 마스크의 타면에서 마스크를 기판에 밀착시켜 마스크와 지지부재의 사이에 간격이 발생되도록 해 이 간격을 이용해 마스크를 냉각시켜주는 효과를 얻는 패턴 형성장치가 개시되어 있다.
그러나, 상기와 같은 마스크의 경우 슬릿이 구비된 마스크부가 프레임에 의해 고정적으로 지지된 구조가 아니어서 정밀한 위치 제어에는 다소 무리가 있으며, 특히, 고정밀의 패턴형성을 위해 마스크의 두께를 매우 얇게 형성하여야 하는 유기 전계 발광 소자의 증착 마스크에 있어서는 공정 중 위치 변형이 발생될 소지가 있다.
일본 공개 특허 공보 2002-8859호에는 성막 과정에서 마스크가 열에 의해 열팽창하는 것을 억제하기 위한 것으로, 마스크를 지지하고 있는 프레임의 내부에 유로를 형성시켜 이 유로내부로 냉각액을 순환시키는 패턴 형성장치가 개시되어 있으나, 이도 역시, 프레임에 고정시키는 과정에서 발생될 수 있는 인장력과 개구부 정밀도 변화 문제는 간과하고 있다.
일본 공개 특허 공보 2000-48954호, 2000-173769호, 2001-203079호, 2001-110567호에는 마스크와 프레임의 사이에 마스크 차폐부의 처짐을 방지하도록 보강선이 더 구비된 메탈 마스크가 개시되어 있으나, 이들 마스크의 경우에도 고정밀도 패턴 형성을 위해 마스크에 인장력을 가한 후 프레임에 고정시킬 경우에는 역시 동일하게 치수 변화의 문제가 발생될 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 마스크를 인장력이 가하여 지도록 지지함으로써 발생될 수 있는 개구부 폭의 정밀도 변화를 줄여 패턴의 편차를 줄일 수 있는 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방 법 및 이에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자를 제공하는 데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 마스크에 인장력이 가해질 경우 토탈 피치를 보정하여 패턴 정밀도를 향상시킬 수 있는 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자를 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 박판으로 이루어져 인장력이 가하여지도록 지지되는 것으로, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미(dummy) 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 하나 이상 구비한 것을 특징으로 하는 증착 마스크를 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 주 개구부는 유효 증착 영역을 형성하는 데 사용되고, 상기 제 1 더미 개구부는 무효 증착 영역을 형성하는 데 사용된다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 1 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 단위 마스크는 적어도 둘 이상 구비되고, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 더미 개구부는 상기 단위 마스 크들이 형성한 유효 증착 영역들의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 박판으로 이루어져 인장력이 가하여지도록 지지되는 것으로, 적어도 하나 이상의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비하고, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 마스크를 제공한다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 각 단위 마스크의 주 개구부는 유효 증착 영역을 형성하는 데 사용되고, 상기 제 2 더미 개구부는 상기 단위 마스크들이 형성한 유효 증착 영역들의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명은 또한 상기 목적을 달성하기 위하여, 기판에 소정 패턴의 제 1 전극을 형성하는 공정과, 상기 기판의 상부로 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미 개구부를 갖는 유기막 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 적어도 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 적어도 상기 제 1 전극을 덮도록 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 1 더미 패턴 영역을 형성하는 공정과, 상기 유기막의 상부로 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극을 형성하는 공정과, 상기 기판을 밀봉하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 제공한다.
이러한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 적어도 둘 이상의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고, 상기 유기막 형성용 증착 마스크는 적어도 둘 이상의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 유기막을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미 개구부를 갖는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 상부로 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역을 형성하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 적어도 둘 이상의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 적어도 둘 이상의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비되는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 적어도 둘 이상의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고, 상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 둘 이상의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 형성되는 것으로, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명은 또한 상기 목적을 달성하기 위하여, 기판에 유기 전계 발광 소자용 제 1 전극들을 적어도 둘 이상 형성하는 공정과, 상기 기판의 상부로 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비하며, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부를 구비한 유기막 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 각 단위 마스크의 주 개구부를 통해 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 적어도 유효 발광 영역을 포함하는 유기막들을 적어도 상기 각 제 1 전극들을 덮도록 형성하는 공정과, 상기 유기막의 상부로 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극을 형성하는 공정과, 상기 기판을 밀봉하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 제공한다.
이러한 본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비한 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 각 유효 발광 영역들의 상부로 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 각 유효 발광 영역들의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역들을 형성하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 단위 마스크들의 외측으로 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 둘 이상의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 형성되는 것으로, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판에 소정 패턴의 제 1 전극을 형성하는 공정과, 상기 기판에 형성된 상기 제 1 전극을 덮도록 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 적어도 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 형성하는 공정과, 상기 유기막의 상부로 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부와, 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 적어도 하나 이상의 제 1 더미 개구부를 갖는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극 라인들 을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역을 형성하는 공정과, 상기 기판을 밀봉하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 적어도 둘 이상의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 적어도 둘 이상의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부가 구비된 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판에 유기 전계 발광 소자용 제 1 전극들을 적어도 둘 이상 형성하는 공정과, 상기 기판에 형성된 상기 각 제 1 전극들을 덮도록 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 적어도 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 형성하는 공정과, 상기 유기막의 상부로 인장력이 가하여지도록 지지되고, 적어도 하나 이상의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비하며, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부를 구비한 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 각 단위 마스크의 주 개구부를 통해 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하는 공정과, 상기 기판을 밀봉하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것일 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 적어도 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것일 수 있다.
본 발명은 또한 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판과, 상기 기판 상에 제 1 전극 라인들과, 적어도 유기 발광층을 포함하는 유기막과, 상기 제 1 전극 라인들과 교차하는 제 2 전극 라인들이 순차로 구비되어 상기 제 1 및 제 2 전극 라인들이 서로 교차하는 부분에서 상기 유기막이 발광하는 유효 발광 영역과, 상기 유효 발광 영역의 외측으로 상기 기판의 가장자리에 형성되는 것으로, 상기 제 1 전극 라인들의 각 라인과 연결되는 제 1 전극 단자와, 상기 각 제 2 전극 라인들의 각 라인과 연결되는 제 2 전극 단자를 갖는 단자부와, 상기 단자부가 노출되도록 상기 기판 상에 형성되어 적어도 상기 유효 발광 영역을 밀봉하는 밀봉부와, 상기 유효 발광 영역의 외측에 형성된 더미 패턴 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자를 제공한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 유효 발광 영역과 상기 단자부의 사이에 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 밀봉부의 내측에 형성될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 유기 발광층과 동일한 물질로 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 유기막과 동일한 물질로 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 제 2 전극 라인들과 동일한 물질로 구비될 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 더미 패턴 영역은 상기 유기막 상부 중 상기 유기 발광 영역의 외측에 형성될 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 한 바람직한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 4 내지 도 6에는 본 발명에 따른 증착 마스크의 일 실시예를 나타내 보였다. 도 4는 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 증착 마스크의 사시도이고, 도 5는 그 중 단위 마스크에 대한 부분 사시도이며, 도 6은 도 5의 Ⅱ-Ⅱ에 대한 단면도이다.
도면을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 의한 증착 마스크(20)는 적어도 하나 이상의 단위 마스크(21)를 구비하는 데, 도 4에서 볼 수 있듯이, 복수 개의 단위 마스크(21)를 구비하여 단일 공정으로 여러 개의 제품에 패터닝할 수 있도록 한다. 이러한 증착 마스크(20)는 자성을 띤 박판으로 이루어져 있는 데, 니켈 또는 니켈과 코발트의 합금으로 이루어질 수 있고, 바람직하게는 미세 패턴의 형성이 용이하고, 표면 거칠기가 매우 좋은 니켈-코발트의 합금으로 형성할 수 있다. 또한, 이 마스크(20)는 후술하는 바와 같이 소정 패턴의 개구부들(211)(213)을 전주(electro forming)법에 의해 형성하여 미세한 패터닝과 우수한 표면 평활성을 얻도록 할 수 있다. 상기 니켈(Ni)과 코발트(Co)의 합금은 니켈 85 중량 %와 코발트 15중랑%로 이루어질 수 있다.
이러한 증착 마스크(20)는 물론 에칭법에 의해서도 제조될 수 있는 데, 포토 레지스트를 이용해 개구부들(211)(213)의 패턴을 가지는 레지스트 층을 박판에 형성하거나 개구부들(211)(213)의 패턴을 가진 필름을 박판에 부착한 후 박판을 에칭(etching)함으로써 제조할 수 있다.
상기와 같이 제조된 증착 마스크(20)는 그 가장자리가 크램프나 접착제 등에 의해 고정된 상태에서 도 4에서 x축 및 y축 방향으로 인장력을 가한 다음, 마스크 프레임(30)에 접합한다. 이 때, 상기 마스크 프레임(300)은 중공의 형상으로 상기 증착 마스크(20)의 각 단위 마스크(21)가 형성된 부분을 제외한 가장자리 부분을 지지할 수 있도록 형성된다. 접합 방법은 접착제에 의한 접합과, 레이저 용접, 저항가열 용접 등 다양한 방법을 적용할 수 있으나, 정밀도 변화 등을 고려하여 레이저 용접방법을 사용할 수 있다. 도 4에서 도면부호 31은 레이저 용접에 따른 용접개소를 나타낸다.
또한, 비록 도면으로 도시하지는 않았지만, 상기와 같이 증착 마스크(20)를 마스크 프레임(30)에 용접할 때에 용접 불량에 의해 치수 정밀도 변화의 문제를 해결하기 위하여 상기 증착 마스크(20)와 마스크 프레임(30)의 용접되는 부위의 증착 마스크(20) 상부로 커버 프레임을 덧씌워 용접 부위에서 들뜨는 현상을 방지하도록 할 수 있다.
한편, 상기 증착 마스크(20)에 구비된 각 단위 마스크(21)는 도 5에서 볼 수 있는 바와 같이 패턴화된 복수개의 개구부들(211)(213)을 구비하며, 이 개구부들(211)(213)은 스트립상의 차폐부(212)에 의해 형성된다. 도 4 및 도 5에 도시된 상기 개구부들(211)(213)은 서로 평행한 직선상으로 연장된 형상이지만, 반드시 이러한 패턴에 한정되는 것은 아니며, 그 외 격자상, 모자??상 등 다양한 패턴으로도 실시 가능하다. 그리고, 각 단위 마스크(21)들의 사이에는 리브(22)가 위치되어 단위 마스크(21)들간에 거리를 유지하도록 한다. 이 리브(22)는 x축 방향으 로 배열된 단위 마스크(21)들을 분리시키는 제 1 리브(221)와, y축 방향으로 배열된 단위 마스크(21)들을 분리시키는 제 2 리브(222)로 분류될 수 있다.
이러한 개구부들(211)(213) 중 상기 증착 마스크(20)에 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 개구부는 제 1 더미(dummy)개구부(213)가 되고, 그 내측으로는 주 개구부(211)가 된다. 상기 제 1 더미 개구부(213)는 증착 마스크에 가해지는 인장력에 의해 각 단위 마스크의 가장자리부근에서 개구부가 변형되는 것을 방지하기 위한 것이다. 도 5에서는 상기 주 개구부(211)가 y축 방향으로 연장된 스트라이프 형상이므로 y축 방향 인장력에 비해 x축 방향 인장력에 의해 단위 마스크(21)의 x 축 방향 가장자리에 위치한 개구부가 변형될 수 있다. 따라서, 상기 제 1 더미 개구부(213)는 주 개구부들(211) 중 x축 방향 인장력이 가해지는 방향의 최외곽에 위치한 주 개구부(211)에 인접하도록 설치되며, 이는 주 개구부(211)의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된다. 이 때, 상기 주 개구부들(211)은 사용자가 원하는 소정 패턴의 증착이 이루어지도록 하는 유효 증착 영역을 형성하는 데에 사용되고, 상기 제 1 더미 개구부(213)는 사용자가 원하는 패턴의 증착 영역 이외에 형성되는 무효 증착 영역을 형성하는 데에 사용된다.
도 6은 도 5의 Ⅱ-Ⅱ에 대한 단면도이다. x축 방향으로 단위 마스크(21)를 분할하는 제 1 리브(221)로부터 제 1 차폐부(212a), 제 2 차폐부(212b), 제 3 차폐부(212c) 등 차폐부(212)들이 순차로 형성되어 있고, 각 차폐부(212)들 사이에 제 1 주 개구부(211a), 제 2 주 개구부(211b) 등 주 개구부(211)들이 순차로 형성된다. 그리고, 상기 제 1 리브(221)와 제 1 차폐부(212a)의 사이에는 제 1 더미 개구 부(213)가 형성되어 있다.
도 6에서 제 1 주 개구부(211a)의 폭(Ws1)은 그 편차가 ΔWs1이 되고, 제 2 주 개구부(211b)의 폭(Ws2)은 그 편차가 ΔWs2가 된다. ΔWr1은 제 1 차폐부(212a)의 폭(Wr1)의 편차를 말한다. 그리고, 제 1 더미 개구부(213)의 폭(Wsd)의 편차는 ΔWsd이다.
이러한 개구부 폭을 갖는 증착 마스크에 인장력을 가하면, 도 4 및 도 5에서 x 축 방향으로의 변형에 의해 가장자리부에 위치한 제 1 더미 개구부(213)를 형성하는 제 1 리브(221)의 단부(221a)는 도 7에서 볼 수 있듯이, 상측 또는 하측으로 들리게 되고, 이에 따라 제 1 더미 개구부(213)의 폭(Wsd)의 편차 ΔWsd는 더욱 커지게 된다. 이렇게 인장력을 가한 후의 각 개구부 폭의 편차량을 도 8에 도시하였다. 도 8에서 A는 전주법에 의해 제조된 증착 마스크에 대한 것이고, B는 에칭법에 의해 제조된 증착 마스크에 대한 것이다. 통상 주 개구부 각각의 폭의 편차는 차폐부 폭의 편차인 ΔWr1, ΔWr2, ΔWr3,...등에 의존하므로, 도 8에서는 제 1 더미 개구부(213), 제 1 주 개구부(211a) 및 제 2 주 개구부(211b)의 각 개구부 폭 편차인 ΔWsd, ΔWs1 및 ΔWs2 를 제 1 차폐부 폭 편차인 ΔWr1로 나눠 무차원화한 다음 이를 백분율로 나타낸 것이다.
도 8에 도시된 바와 같이, 인장력이 가해진 후에는 제 1 리브(221) 단부(221a)의 변형에 의해 제 1 더미 개구부(213)의 개구부 폭 편차(ΔWsd)가 제 1 차폐부 폭 편차(ΔWr1)보다 25 내지 75% 크게 됨을 알 수 있고, 제 1 주 개구부(211a), 제 2 주 개구부(211b)의 개구부 폭 편차(ΔWs1)(ΔWs2)는 제 1 차폐 부 폭 편차(ΔWr1)와 거의 일치됨을 알 수 있다.
따라서, 상기 제 1 더미 개구부(213)가 x축 방향의 인장력에 대한 변형을 받게 되므로, 유효 증착 영역으로 증착이 이루어지도록 하는 주 개구부들(211)의 변형을 최소화할 수 있으며, 이에 따라 증착되는 패턴의 고정밀도를 얻을 수 있다.
한편, 상기와 같이 각 단위 마스크(21)의 최외곽 가장자리에 제 1 더미 개구부(213)가 존재하므로, 전체 토탈 피치(Pt)는 도 9에서 볼 수 있듯이, x축 방향으로 가장 바깥측에 위치한 단위 마스크들(21a)의 최외측 제 1 더미 개구부(213a)로부터 내측으로 첫 번째에 위치한 제 1 주 개구부(211a)들을 연결하는 선인 C, D 사이의 간격으로 정해진다. 이 토탈 피치(Pt)의 정밀도는 도 10a 및 도 10b에서 볼 수 있듯이, 토탈 피치(Pt)에 편차(Pt max - Pt min)가 존재할 수 있고, 도 10a 내지 도 10c에서 볼 수 있듯이, 라인 편차(△X)가 발생될 수 있으므로, 토탈 피치의 편차 뿐 아니라 라인 편차도 줄일 수 있도록 국부적으로 인장력을 조절하면서 용접해야 한다.
한편, 상기와 같은 제 1 더미 개구부(213)는 도 5에서 볼 수 있듯이, 주 개구부(211)와 그 폭이 같은 동일한 형상으로 구비되고, 이에 인접한 제 1 주 개구부(211a)와의 간격도 주 개구부들(211) 상호간의 간격과 동일하도록 형성할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 주 개구부들(211)의 패턴에 영향을 미치지 않는 한 어떠한 형상 및 패턴이어도 무방하다. 즉, 도 11에서 볼 수 있듯이, 제 1 더미 개구부(213)의 개구폭(Wsd)이 제 1 주 개구부(211a)의 개구폭(Ws1)보다 작을 수 있고, 제 1 더미 개구부(213)와 제 1 주 개구부(211a)를 분할하는 제 1 차폐부(212a)의 폭(Wr1)도 제 1 주 개구부(211a)와 제 2 주 개구부(211b)를 분할하는 제 2 차폐부(212b)의 폭(Wr2)보다 크게 형성할 수 있는 것이다. 비록 도면으로 나타내지는 않았지만, 이 밖에도 다양한 형상이 적용 가능하다.
그리고, 상기와 같은 제 1 더미 개구부(213)는 도 12에서 볼 수 있듯이, 각 단위 마스크(21)의 주 개구부들(211)이 격자상의 패턴을 구비할 경우에도 동일하게 적용될 수 있다. 다만, 이 때에는 주 개구부들(211)의 형상으로 인하여 x축 방향의 인장력 뿐 아니라, y축 방향의 인장력도 동일하게 패턴의 정밀도에 악영향을 미치므로 y축 방향으로도 최외곽 주 개구부에 인접하도록 제 1 더미 개구부(213)를 형성한다. 이 때, 제 1 더미 개구부(213)는 도 12에서 볼 수 있듯이, 단위 마스크(21)의 한 변에 대응되는 길이로 형성될 수도 있고, 비록 도면으로 나타내지는 않았지만, 격자상의 주 개구부들(211)의 한 변에 대응되는 길이로 형성되어 각 단위 마스크의 각 변에 복수개 배치될 수도 있다.
제 1 더미 개구부(213)는 이 밖에도 도 13에서 볼 수 있듯이, 단일의 주 개구부(211)를 갖는 개방형 단위 마스크(21)를 구비한 증착 마스크(20)에도 적용될 수 있음은 물론이다.
한편, 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따르면, 상기 증착 마스크(20)의 토탈 피치(Pt)의 정밀도를 향상시키기 위하여 도 14에서 볼 수 있듯이, 제 2 더미 개구부(22)를 구비하도록 할 수 있다. 도 14는 본 발명의 바람직한 또 다른 일 실시예에 따른 제 2 더미 개구부(22)를 구비한 증착 마스크(20)이고, 도 15는 그 평면도이다.
도 14 및 도 15에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 증착 마스크(20)는 소정 패턴의 주 개구부들(211)을 갖는 단위 마스크(21)를 적어도 둘 이상 구비한다. 이 단위 마스크(21)들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크들(21a)(21b)에 인접하도록 적어도 하나 이상의 제 2 더미 개구부(22)가 구비된다.
도 14에서 볼 수 있듯이, 상기 제 2 더미 개구부(22)는 주 개구부들(211)이 y축 방향으로 연장된 스트라이프상일 경우 상기 증착 마스크(20)의 주 개구부들(211)이 x축 방향으로 큰 변형을 받게 되므로, 토탈 피치(Pt)는 x축 방향으로 왜곡이 있게 된다. 이러한 토탈 피치(Pt)의 왜곡을 방지하기 위하여 단위 마스크(21)들이 구비된 증착 마스크(20)의 가장자리, 특히, x축 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크들(21a)(21b)의 열에 인접하도록 인장력에 따른 변형을 받는 제 2 더미 개구부(22)들을 형성하는 것이다. 따라서, 이 제 2 더미 개구부(22)들은 x축 방향의 인장력에 의해 변형되고, 이 변형에 의하여 그 내측으로 구비된 주 개구부들(211)을 변형없이 보다 안전하게 지킬 수 있게 되고, 결과적으로, 토탈 피치(Pt)를 보정하는 효과를 얻게 된다.
상기와 같은 제 2 더미 개구부(22)들은 도 14 및 도 15에서 볼 수 있는 바와 같이, 주 개구부(211)와 그 폭이 같은 동일한 형상으로 형성될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 주 개구부들(211)의 패턴에 영향을 미치지 않는 한 어떠한 형상 및 패턴이어도 무방하다. 또한, 인접한 최외곽 단위 마스크들(21a)(21b)와의 간격도 사용자가 원하는 증착 영역, 즉, 인접한 최외곽 단위 마스크들(21a)(21b)이 증착시킬 유효 증착 영역들에 간섭을 일으키지 않는 범위내에서 최대한 상기 인접한 최외곽 단위 마스크들(21a)(21b)에 가깝도록 그 외측에 위치시킬 수 있다. 그리고, 이 제 2 더미 개구부(22)들은 물론 증착 마스크(20)의 용접개소(31)의 내측으로 위치하여야 함은 물론이다.
한편, 도 16에서 볼 수 있듯이, 단위 마스크(21)들이 배치되어 있는 외측으로 증착이 이루어질 기판과의 정열을 위한 얼라인 마크(23)가 형성되어 있을 경우에는 이 얼라인 마크(23)도 인장력에 의해 변형되어서는 않된다. 이 얼라인 마크(23)가 변형될 경우에는 기판의 증착 시 기판과의 정열이 맞지 않게 되어 토탈 피치의 왜곡을 유발하게 되고, 패턴의 정밀도를 높일 수 없다.
따라서, 상기 얼라인 마크(23)의 내측과 외측에 한쌍의 제 2 더미 개구부(221)(222)를 형성한다. 내측 제 2 더미 개구부(221)는 토탈 피치(Pt)의 왜곡을 방지해 패턴 형성의 정밀도를 높이기 위한 것이고, 외측 제 2 더미 개구부(222)는 얼라인 마크(23)의 변형을 방지해 증착시 기판과 정확히 정렬할 수 있도록 하기 위한 것이다.
상기와 같은 제 2 더미 개구부(22)는 도 17에서 볼 수 있듯이, 각 단위 마스크(21)의 주 개구부들(211)이 격자상의 패턴을 구비할 경우에도 동일하게 적용될 수 있다. 다만, 이 때에는 주 개구부들(211)의 형상으로 인하여 x축 방향의 인장력 뿐 아니라, y축 방향의 인장력도 동일하게 토탈 피치(Pt)의 정밀도에 악영향을 미치므로 y축 방향으로도 최외곽 주 개구부에 인접하도록 제 2 더미 개구부(22)를 형성한다. 이는 동일하게 도 18에서 볼 수 있는 바와 같이 단일의 주 개구부(211)를 갖는 개방형 단위 마스크(21)를 구비한 증착 마스크(20)에도 적용될 수 있음은 물론이다.
한편, 도 14 내지 도 18을 참고로 설명한 제 2 더미 개구부(22)를 갖는 증착 마스크(20)는 전술한 제 1 더미 개구부(213)를 갖지 않은 것으로, 그 토탈 피치(Pt)는 최외곽 단위 마스크의 외측 주 개구부 사이의 간격이 된다. 그러나, 본 발명의 증착 마스크(20)는 이에 한정되지 않으며, 도 19에서 볼 수 있듯이, 제 1 더미 개구부(213)와 제 2 더미 개구부(22)가 혼합된 형태로서도 적용 가능함은 물론이다. 또한, 이러한 제 1 더미 개구부(213)와 제 2 더미 개구부(22)의 혼합 형태는 전술한 각각의 모든 실시 형태가 혼합될 수 있다.
이처럼 제 1 더미 개구부(213)와 제 2 더미 개구부(22)를 구비한 증착 마스크(20)는 각 단위 마스크(21)에 있어서, 유효 증착 영역을 증착시키는 주 개구부의 형상 왜곡을 방지하고, 토탈 피치의 정밀도를 향상시켜, 고정밀도의 패턴 형성이 가능해진다.
다음으로, 상기와 같은 증착 마스크를 이용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법을 설명한다.
도 20 내지 도 30에는 본 발명에 따른 유기 전계 발광 소자의 제조방법을 순차적으로 나타내 보였다.
유기 전계 발광 소자를 제조하기 위하여 도 20과 같이, 상면에 투명도전막(43)과 금속 도전막(44)이 적층된 투명한 기판(41)을 준비한다. 상기 투명 도전막(43)은 ITO로 형성할 수 있으며, 금속 도전막(44)은 크롬(Cr)으로 형성할 수 있다. 그리고, 상기 기판(41)은 투명한 글라스(Glass)나 플라스틱 등을 사용할 수 있는 데, 상기 기판(41)에 이들 투명 도전막(43) 및 금속 도전막(44)이 형성되기 이전에 상기 기판(41)에는 기판의 평활성과 불순원소의 침투를 차단하기 위하여 버퍼층(42)을 더 구비하도록 할 수 있다. 상기 버퍼층(42)은 SiO2 등으로 형성될 수 있다. 상기 기판(41)은 단일의 공정으로 적어도 둘 이상의 유기 전계 발광 소자를 제조할 수 있을 정도의 크기를 갖는 기판을 사용할 수 있다.
다음으로, 도 21에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 기판(41)의 상면에 형성된 금속 도전막(44)을 가공하여 제 1, 2 전극 단자가 될 수 있는 전극 외부 단자들(441)(442)을 각각 형성한다. 도 21에는 단일 공정의 복수개의 유기 전계 발광 소자를 제조할 경우를 나타낸 것이나, 이하, 설명의 편의를 위하여 그 중 하나의 유기 전계 발광 소자에 대한 제조공정을 중심으로 설명하겠다. 이는 도 21에서 각 소자들간을 절단함으로써 얻어질 수 있는 것이다.
도 22a는 도 21의 어느 한 유기 전계 발광 소자에 대한 것이고, 도 22b는 도 22a의 Ⅲ-Ⅲ에 관한 단면도이다. 도 22a 및 도 22b에서 볼 수 있듯이, 전극 외부 단자들(441)(442)은 제 1, 2 전극 단자의 형성을 위한 바탕이 되는 것으로, 기판(41) 상에는 여전히 투명 도전막(43)이 노출되어 있다.
다음으로는, 기판(41) 상에 노출된 투명도전막을 패터닝하여 도 23a 및 도 23b와 같이, 제 1, 2 전극 단자(51)(52)의 전극 내부 단자들(431)(432)을 형성하고, 제 1 전극 단자(51)들과 연결되는 소정 패턴의 투명 도전라인들(433)을 형성하 는 데, 상기 투명 도전라인들(433)이 제 1 전극 라인(61)이 된다. 도 23b는 도 23a의 Ⅳ-Ⅳ의 단면도이고, 도 23c는 도 23a의 Ⅴ-Ⅴ의 단면도이다. 이러한 공정에 있어서 상기 투명도전막의 패터닝은 포토리소그래피법을 이용할 수 있다.
그 다음으로 도 24a 및 24b에 도시된 바와 같이, 제 1 전극 라인(61)의 사이에 내부 절연막(inter-insulator: 64)을 형성한다. 도 24b는 도 24a의 Ⅵ-Ⅵ의 단면도이다. 상기 내부 절연막(64)은 포토 레지스트나 감광성 폴리 이미드 등을 사용하여 포토 리소그래피법 등으로 형성할 수 있다.
이 때, 상기 내부 절연막(64)의 형성과 동시에 비록 도면으로 나타내지는 않았지만, 캡이 밀봉되도록 접착제가 도포되는 자리를 중심으로 내측과 외측에 차단벽부가 더 형성될 수 있고, 상기 제 1 전극 라인(61)과 제 2 전극 단자(52)의 사이 공간에 외부 절연막이 형성될 수 있다. 이 외부 절연막은 후술하는 바와 같이 제 2 전극 라인의 형성시, 이 제 2 전극 라인과 제 2 전극 단자(52)가 연결되는 부분에서의 제 2 전극 단자(52)의 단차로 말미암아 단선되는 등의 문제를 방지하기 위한 것으로, 외부 절연막의 하부로는 접착력의 향상을 위하여 상기 투명 도전막으로 버퍼층을 더 형성할 수 있다. 또한, 유기 발광막 및 제 2 전극 라인의 패턴 형성을 위한 세퍼레이터나, 상기 내부 절연막의 상부로 마스크로 인한 유기막 손상을 방지하기 위한 격벽을 동시에 형성할 수 있으며, 접착제가 도포될 자리에 형성되는 차폐부를 동시에 형성할 수도 있다.
다음으로, 이러한 기판에 도 25에서 볼 수 있는 바와 같은 증착장치를 이용하여 유기막을 증착시킨다. 도 25에서 볼 수 있는 증착 장치는 진공으로 유지되는 챔버(91) 내에 유기막을 증착시킬 수 있는 증착원(92)을 배치하고, 상부로 마스크 프레임(30)에 지지된 증착 마스크(20)를 설치한다. 이 증착 마스크(20)의 상부로 상기와 같이, 제 1 전극 라인들과 내부 절연막 등이 형성된 기판(41)을 안착시키고, 그 상부로 상기 증착 마스크(20)가 상기 기판(41)에 밀착되도록 마그넷 유닛(93)이 설치된다.
상기와 같은 증착장치를 이용하여 도 26a 내지 도 26c에서 볼 수 있듯이, 유기막(63)을 증착한다. 이 때, 상기 유기막(63)은 유기 전계 발광 소자에 사용될 수 있는 유기막은 모두 적용 가능한데, 홀 수송층, 유기 발광층, 전자 수송층 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있다. 또한, 사용 가능한 유기 재료도 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘(N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. 또한, 상기 유기막(63)은 풀 칼라 유기 전계 발광 소자일 경우 상기 유기 발광층을 각 화소의 컬러에 대응되도록 다양한 패턴으로 형성 가능하다.
상기 유기막(63)의 형성은 도 25에서 볼 수 있는 증착장치에 증착 마스크(20)를 개재함으로써 가능한 데, 이 때, 상기 증착 마스크(20)는 도 4 내지 도 19를 참조로 설명한 본 발명의 모든 실시예에 따른 증착 마스크(20)를 사용할 수 있다.
즉, 도 4 내지 도 13에서 설명된 바와 같이, 적어도 하나 이상의 주 개구부(211)와, 인장력, 특히, 상기 주 개구부(211)의 길이 방향에 직교하는 방향으로 가해지는 인장력의 방향으로 최외곽의 주 개구부(211a)에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미 개구부(213)를 갖는 유기막 형성용 증착 마스크를 사용할 수 있고, 또한 도 14 내지 도 19에서 설명된 바와 같이, 각 유기 전계 발광 소자를 증착하는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비할 때에 이들 단위 마스크들의 외측으로, 상술한 바와 같이, 주 개구부(211)의 길이 방향에 직교하는 방향으로 가해지는 인장력의 방향으로 최외곽의 단위 마스크에 인접하는 위치에 형성된 제 2 더미 개구부(22)를 갖는 유기막 형성용 증착 마스크를 사용할 수 있다. 뿐만 아니라, 도면으로 나타내지는 않았지만, 이들의 혼합된 형태로 제 1 더미 개구부(213)와 제 2 더미 개구부(22)를 갖는 유기막 형성용 증착 마스크를 사용할 수 있다.
이러한 유기막 형성용 증착 마스크를 사용하게 되면, 상기 제 1 더미 개구부(213)에 의해 도 26c에서 볼 수 있는 바와 같이, 제 1 더미 패턴 영역(70)이 형성된다. 도 26c는 도 26b의 Ⅶ부분에 대한 부분 확대 단면도이다.
도 26a 내지 도 26c에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 유기막(63)은 먼저 제 1 전극 라인(61)과 내부 절연층(64)의 상부로 홀 수송층(631)이 증착되고, 그 상부로 칼라 패턴에 맞도록 적(R), 녹(G), 청(B)색의 유기 발광층(632)이 증착된다. 이 때, 상기 홀 수송층(631)은 패턴없이 전면 증착으로 이루어질 수 있고, 유기 발광층(632)은 패턴을 이룰 수 있다. 도 26c에서는 상기와 같이 패턴을 갖는 유기 발광층(632)을 전술한 바와 같은 본 발명에 따른 유기막 형성용 증착 마스크를 이용하여 증착한 것이다. 상기 제 1 전극 라인(61)의 상부에 형성된 적(R), 녹(G), 청(B) 색의 유기 발광층(632)은 후술하는 바와 같이 제 2 전극 라인과 제 1 전극 라인이 교차되는 영역에 해당되어 전원의 인가에 따라 발광하므로, 유효 발광 영역(60)이 된다.
도 26c에서 볼 수 있듯이, 적(R), 녹(G), 청(B) 각 유기 발광층(632)을 전술한 바와 같이 제 1 더미 개구부를 구비한 유기막 형성용 증착 마스크를 이용하여 증착할 경우에는 적(R), 녹(G), 청(B) 각 유기 발광층(632)을 증착할 때에 제 1 더미 개구부에 의해 제 2 단자(52)와 제 1 전극 라인(61), 즉, 유효 발광 영역(60)의 사이에 적(R), 녹(G), 청(B) 각각에 대한 더미 유기 발광층(632a)이 더 증착되고, 이것이 제 1 더미 패턴 영역(70)을 형성하는 것이다.
이러한 제 1 더미 패턴 영역(70)은 만일 홀 수송층(631)을 도 13에서 볼 수 있는 바와 같은 유기막 형성용 증착 마스크를 사용하여 증착하였을 경우에는 도 27에서 볼 수 있듯이, 더미 홀 수송층(631a)까지 구비하게 될 것이다. 이 때, 비록 도면으로 나타내지는 않았지만, 도 13에서 제 1 더미 개구부(213)의 너비를 조절하면 제 1 더미 패턴 영역(70)에 균일한 높이로 유기막들이 증착되도록 할 수 있다.
상술한 바와 같이 제 1 더미 패턴 영역(70)을 형성하도록 하는 유기막 형성용 증착 마스크가 제 2 더미 개구부를 구비할 경우에는 토탈 피치의 변화량을 줄여 유효 발광 영역, 특히, 유기 발광층의 패턴 정밀도를 더욱 향상시킬 수 있게 된다.
그리고, 이러한 제 1 더미 패턴 영역(70)은 제 1 전극 라인과 제 2 전극 라인이 교차하는 영역인 유효 발광 영역(60)의 외측에서 제 1 전극 라인과 제 2 전극 라인이 교차하지 않는 영역에 형성되므로 발광하지 않는 무효 발광 영역에 해당되 고, 이렇게 제 1 더미 패턴 영역(70)의 형성이 가능한 유기막 형성용 증착 마스크를 사용하여 증착하므로써 유효 발광 영역(60)내의 패턴 정밀도를 더욱 향상시킬 수 있게 된다.
상기와 같이, 유기막을 증착한 후에는 도 28a 및 도 28b에서 볼 수 있듯이, 상기 제 1 전극 라인(61)과 직교하도록 제 2 전극 라인(62)을 알루미늄(Al) 및 칼슘(Ca) 등으로 유기막(63)의 상부에 소정 패턴으로 증착한다. 상기 제 2 전극 라인(62)의 증착은 상기 유기막의 증착과 마찬가지로, 도 25와 같은 증착 장치에서 증착 마스크를 이용해 증착할 수 있다. 이 때, 상기 제 2 전극 라인(62)의 패터닝은 증착 마스크가 소정 패턴을 갖도록 함으로써 이루어질 수 있고, 이 밖에도 미리 패턴 형성을 위한 세퍼레이터를 형성해 놓고 전면 증착으로 패턴이 형성되도록 할 수도 있다.
상기와 같이, 제 2 전극 라인들(62)이 증착 마스크를 이용해 패터닝될 경우에는 상기 유기발광층을 포함하는 유기막의 증착과 마찬가지로, 도 4 내지 도 19를 참조로 설명한 제 1 더미 개구부 및/또는 제 2 더미 개구부를 갖는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 사용하여 패터닝할 수 있다. 그 중 일 예를 도 29에 나타내 보였다. 즉, 상기 제 2 전극 라인(62)을 소정 패턴을 지닌 주 개구부들(211)과 제 1 더미 개구부(213)를 지닌 도 4에서 볼 수 있는 증착 마스크(20)를 이용하여 증착하였을 경우에는 제 1 전극 라인들(61)과 제 2 전극 라인들(62)이 서로 교차해 유기막(63)이 발광하는 영역인 유효 발광 영역(60)의 외측으로 제 2 더미 전극 라인들(62a)이 증착되고, 이 제 2 더미 전극 라인들(62a)이 제 2 더미 패턴 영역(71) 이 된다. 이 제 2 더미 패턴 영역(71)을 형성하는 제 2 더미 전극 라인들(62a)에는 외부 전원이 공급되는 제 2 전극 단자가 연결되지 않으므로, 상술한 제 1 더미 패턴 영역(70)과 마찬가지로 발광하지 않는 무효 발광 영역이 된다. 한편, 도 29에서도 볼 수 있는 바와 같이, 상기 제 2 더미 전극 라인들(62a)은 상기 유기막(63)의 상부 중 유효 발광 영역(60)의 외측으로 형성되어 제 1 전극 라인들(61)과 접촉되지 않도록 하는 것이 바람직하다.
이처럼, 본 발명의 바람직한 일 실시예에서는 본 발명의 유기막 형성용 증착 마스크를 사용하여 유기막을 증착하고, 제 2 전극 라인들을 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 사용하여 증착하는 방법을 설명하였으나, 상기 제 2 전극 라인들은 상기 유기막을 어떠한 증착 마스크를 사용하여 증착하였는지에 무관하게 본 발명에 따른 증착 마스크를 사용하여 증착할 수 있음은 물론이다.
이렇게 유기막과 제 2 전극 라인의 형성이 완료되면 도 30에서 볼 수 있듯이, 밀봉을 위한 캡(81)을 기판(31)에 접합시켜 이 캡(81)이 밀봉부(80)가 되도록 하고, 이 밀봉부(80)의 바깥으로 노출된 제 1 단자(51)와 제 2 단자(52)에 플랙시블 인쇄회로기판(82)을 연결하여 유기 전계 발광 소자의 조립을 완료한다. 이러한 밀봉은 이처럼 캡을 사용하는 방법외에 유기 전계 발광 소자에 적용될 수 있는 어떠한 밀봉 방법도 적용 가능하다.
도 30에서 볼 수 있듯이, 본 발명에 따른 상기 유기 전계 발광 소자는 제 1 전극 라인들(61)과 제 2 전극 라인들(62)의 사이에 유기막이 배치된 유효 발광 영역(60)이 구비되며, 이 유효 발광 영역(60)의 제 1 및 제 2 전극 라인들(61)(62)에 각각 전원을 공급하는 제 1 및 제 2 전극 단자들(51)(52)을 포함하는 단자부(50)와, 상기 유효 발광 영역(60)의 외측, 즉, 상기 유효 발광 영역(60)과 단자부(50)의 사이에 위치한 제 1 더미 패턴 영역(70) 및 제 2 더미 패턴 영역(71)으로 구비될 수 있다. 그 각각의 구성 및 기능에 대해서는 도 20 내지 도 29에서 상세히 설명하였으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.
이처럼, 본 발명에 따르면, 제 1 더미 개구부 및/또는 제 2 더미 개구부를 갖는 증착 마스크를 이용하여 무효 발광 영역에 제 1 더미 패턴부 및/또는 제 2 더미 패턴부를 갖는 유기 전계 발광 소자를 제조함으로써 발광이 이루어지는 유효 발광 영역의 패턴 정밀도를 더욱 향상시킬 수 있다.
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 전계 발광 소자에 따르면, 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
첫째, 사용자가 증착을 소망하는 유효 증착 영역에 대한 패턴 정밀도를 향상시킬 수 있다.
둘째, 단일 공정으로 여러 소자를 동시에 증착할 경우 토탈 피치의 정밀도를 향상시켜, 불량률을 저하시킬 수 있다.
셋째, 증착 마스크와 기판간의 정렬 위치를 정확히 맞출 수 있다.
넷째, 유기 전계 발광 소자에 발광이 이루어지지 않는 무효 발광 영역인 더미 패턴 영역을 형성함으로써 발광이 이루어지는 유효 발광 영역의 고정세화를 이 룰 수 있다.
다섯째, 마스크를 인장력을 가해 지지할 경우에도 그 패턴 정밀도가 떨어지는 것을 방지할 수 있다.
본 명세서에서는 본 발명을 한정된 실시예를 중심으로 설명하였으나, 본 발명의 사상적 범위 내에서 다양한 실시예가 가능하다. 그리고 설명되지는 않았으나 균등한 수단도 본 발명에 포함되는 것이라 할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (48)

  1. 박판으로 이루어져 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되는 것으로, 복수의 주 개구부와, 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미(dummy) 개구부를 갖는 단위 마스크를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 주 개구부는 유효 증착 영역을 형성하는 데 사용되고, 상기 제 1 더미 개구부는 무효 증착 영역을 형성하는 데 사용되는 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  4. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 단위 마스크는 복수개 구비되고, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미(dummy) 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 더미 개구부는 상기 단위 마스크들이 형성한 유효 증착 영역들의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  7. 박판으로 이루어져 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되는 것으로, 복수의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 복수개 구비하고, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부를 구비한 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 각 단위 마스크의 주 개구부는 유효 증착 영역을 형성하는 데 사용되고, 상기 제 2 더미 개구부는 상기 단위 마스크들이 형성한 유효 증착 영역들의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 증착 마스크.
  10. 기판에 소정 패턴의 제 1 전극을 형성하는 공정;
    상기 기판의 상부로 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부와, 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미 개구부를 갖는 유기막 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 상기 제 1 전극을 덮도록 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 1 더미 패턴 영역을 형성하는 공정;
    상기 유기막의 상부로 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극을 형성하는 공정; 및
    상기 기판을 밀봉하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 복수의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고;
    상기 유기막 형성용 증착 마스크는 복수의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 유기막을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  15. 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부와, 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미 개구부를 갖는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 상부로 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 복수의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고;
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 복수의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  19. 제 17 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  20. 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 복수의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고;
    상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 형성되는 것으로, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  23. 기판에 유기 전계 발광 소자용 제 1 전극들을 복수개 형성하는 공정;
    상기 기판의 상부로 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 적어도 둘 이상 구비하며, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부를 구비한 유기막 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 각 단위 마스크의 주 개구부를 통해 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 유효 발광 영역을 포함하는 유기막들을 상기 각 제 1 전극들을 덮도록 형성하는 공정;
    상기 유기막의 상부로 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극을 형성하는 공정; 및
    상기 기판을 밀봉하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  24. 제 23 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  25. 제 23 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  26. 제 23 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부와, 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미 개구부를 갖는 단위 마스크를 복수개 구비한 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 각 유효 발광 영역들의 상부로 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 각 유효 발광 영역들의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역들을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  28. 제 26 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 단위 마스크들의 외측으로 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  30. 제 28 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  31. 제 23 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 전극의 형성 공정은 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 형성되는 것으로, 상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  32. 제 31 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  33. 제 31 항에 있어서,
    상기 유기막 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  34. 기판에 소정 패턴의 제 1 전극을 형성하는 공정;
    상기 기판에 형성된 상기 제 1 전극을 덮도록 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 형성하는 공정;
    상기 유기막의 상부로 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부와, 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽의 주 개구부에 인접하는 위치에 형성된 제 1 더미 개구부를 갖는 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 주 개구부를 통해 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하고, 상기 제 1 더미 개구부를 통해 상기 유효 발광 영역의 외측으로 제 2 더미 패턴 영역을 형성하는 공정; 및
    상기 기판을 밀봉하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  35. 제 34 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 상기 제 1 더미 개구부가 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  36. 제 34 항에 있어서,
    상기 유기 전계 발광 소자의 제조는 단일 공정으로 복수의 유기 전계 발광 소자를 제조하는 것이고;
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크는 복수의 단위 마스크를 구비해 상기 각 단위 마스크가 하나의 유기 전계 발광 소자의 제 2 전극을 증착할 수 있는 것으로, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부가 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  37. 제 36 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  38. 제 36 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  39. 기판에 유기 전계 발광 소자용 제 1 전극들을 복수개 형성하는 공정;
    상기 기판에 형성된 상기 각 제 1 전극들을 덮도록 적어도 유기 발광 물질을 포함하는 유기물로 유효 발광 영역을 포함하는 유기막을 형성하는 공정;
    상기 유기막의 상부로 인장력이 가하여지도록 마스크 프레임에 지지되고, 복수의 주 개구부를 갖는 단위 마스크를 복수개 구비하며, 상기 단위 마스크들의 외측으로는 상기 단위 마스크들 중 상기 마스크 프레임에 의한 인장력이 가해지는 방향으로 최외곽에 위치한 단위 마스크에 인접하도록 제 2 더미 개구부를 구비한 제 2 전극 형성용 증착 마스크를 개재하여 상기 각 단위 마스크의 주 개구부를 통해 상기 제 1 전극과 교차되는 부분에서 상기 유효 발광 영역이 형성되도록 소정 패턴의 제 2 전극 라인들을 포함한 제 2 전극을 형성하는 공정; 및
    상기 기판을 밀봉하는 공정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  40. 제 39 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 그에 인접한 최외곽 단위 마스크가 증착하는 유기 전계 발광 소자의 유효 발광 영역의 외측에 위치하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  41. 제 39 항에 있어서,
    상기 제 2 전극 형성용 증착 마스크의 제 2 더미 개구부는 상기 주 개구부의 길이방향에 직교하는 방향으로 상기 단위 마스크에 인접하게 설치된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조방법.
  42. 기판;
    상기 기판 상에 제 1 전극 라인들과, 유기 발광층을 포함하는 유기막과, 상기 제 1 전극 라인들과 교차하는 제 2 전극 라인들이 순차로 구비되어 상기 제 1 및 제 2 전극 라인들이 서로 교차하는 부분에서 상기 유기막이 발광하는 유효 발광 영역;
    상기 유효 발광 영역의 외측으로 상기 기판의 가장자리에 형성되는 것으로, 상기 제 1 전극 라인들의 각 라인과 연결되는 제 1 전극 단자와, 상기 각 제 2 전극 라인들의 각 라인과 연결되는 제 2 전극 단자를 갖는 단자부;
    상기 단자부가 노출되도록 상기 기판 상에 형성되어 상기 유효 발광 영역을 밀봉하는 밀봉부; 및
    상기 유효 발광 영역의 외측에 형성된 더미 패턴 영역;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  43. 제 42 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 유효 발광 영역과 상기 단자부의 사이에 형성된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  44. 제 42 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 밀봉부의 내측에 형성된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  45. 제 42 항 내지 제 44 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 유기 발광층과 동일한 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  46. 제 42 항 내지 제 44 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 유기막과 동일한 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  47. 제 42 항 내지 제 44 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 제 2 전극 라인들과 동일한 물질로 구비된 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자.
  48. 제 47 항에 있어서,
    상기 더미 패턴 영역은 상기 유기막 상부 중 상기 유기 발광 영역의 외측에 형성된 것을 특징으로 유기 전계 발광 소자.
KR1020030065403A 2002-11-29 2003-09-20 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자 KR100922753B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2002-00347977 2002-11-29
JP2002347977A JP4173722B2 (ja) 2002-11-29 2002-11-29 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040047556A KR20040047556A (ko) 2004-06-05
KR100922753B1 true KR100922753B1 (ko) 2009-10-21

Family

ID=32310666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020030065403A KR100922753B1 (ko) 2002-11-29 2003-09-20 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7837528B2 (ko)
EP (1) EP1426461B1 (ko)
JP (1) JP4173722B2 (ko)
KR (1) KR100922753B1 (ko)
CN (2) CN101451227B (ko)
DE (1) DE60336371D1 (ko)

Families Citing this family (109)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4440563B2 (ja) * 2002-06-03 2010-03-24 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
JP4173722B2 (ja) 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
JP4506214B2 (ja) * 2003-03-13 2010-07-21 東レ株式会社 有機電界発光装置およびその製造方法
JP4230258B2 (ja) * 2003-03-19 2009-02-25 東北パイオニア株式会社 有機elパネル、有機elパネルの製造方法
JP4463492B2 (ja) * 2003-04-10 2010-05-19 株式会社半導体エネルギー研究所 製造装置
KR100889764B1 (ko) * 2003-10-04 2009-03-20 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체및, 그것을 이용한 박막 증착 방법
JP4608874B2 (ja) * 2003-12-02 2011-01-12 ソニー株式会社 蒸着マスクおよびその製造方法
JP4944367B2 (ja) * 2004-05-25 2012-05-30 キヤノン株式会社 マスク構造体の製造方法
KR100627110B1 (ko) * 2004-06-01 2006-09-25 엘지전자 주식회사 마스크 장치와 이를 이용한 유기전계발광표시소자의제조방법
JP4538650B2 (ja) * 2004-06-18 2010-09-08 京セラ株式会社 蒸着装置
KR100659057B1 (ko) 2004-07-15 2006-12-21 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치
JP4671680B2 (ja) * 2004-12-16 2011-04-20 大日本印刷株式会社 メタルマスクのフレーム取付方法及び装置
TWI422270B (zh) * 2004-07-23 2014-01-01 Dainippon Printing Co Ltd Method and apparatus for sealing sheet of metal thin plate for manufacturing step of organic EL element
JP4656886B2 (ja) * 2004-07-23 2011-03-23 大日本印刷株式会社 金属薄板の枠貼り方法及び装置
US7531216B2 (en) * 2004-07-28 2009-05-12 Advantech Global, Ltd Two-layer shadow mask with small dimension apertures and method of making and using same
KR101070539B1 (ko) 2004-09-08 2011-10-05 도레이 카부시키가이샤 증착 마스크 및 이를 사용한 유기 전계 발광 장치의 제조 방법
WO2006027830A1 (ja) * 2004-09-08 2006-03-16 Toray Industries, Inc. 有機電界発光装置およびその製造方法
JP4606114B2 (ja) * 2004-10-15 2011-01-05 大日本印刷株式会社 メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
US20060081184A1 (en) * 2004-10-19 2006-04-20 Yeh Te L Evaporation mask with high precision deposition pattern
KR101102022B1 (ko) 2004-10-26 2012-01-04 엘지디스플레이 주식회사 마스크 장치와 이를 이용한 유기전계발광표시소자의제조방법
KR100603398B1 (ko) 2004-11-18 2006-07-20 삼성에스디아이 주식회사 증착용 마스크 및 전계발광 디스플레이 장치
KR100626041B1 (ko) * 2004-11-25 2006-09-20 삼성에스디아이 주식회사 평판표시장치의 박막 증착용 마스크 및 그의 제조방법
KR100676175B1 (ko) * 2005-03-18 2007-02-01 엘지전자 주식회사 유기 전계 발광 소자 제조용 마스크
KR20070015328A (ko) * 2005-07-30 2007-02-02 삼성에스디아이 주식회사 평판 디스플레이 장치
US8401675B2 (en) * 2005-12-16 2013-03-19 Intellischematic, Llc Methods and systems for machine-related information delivery
WO2007133252A2 (en) * 2006-05-10 2007-11-22 Advantech Global, Ltd. Tensioned aperture mask and method of mounting
KR101241140B1 (ko) 2006-06-26 2013-03-08 엘지디스플레이 주식회사 섀도우마스크와 이를 이용한 유기전계발광소자 및 그제조방법
KR100814818B1 (ko) * 2006-07-31 2008-03-20 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광 표시 장치 제조용 마스크
WO2008016279A1 (en) * 2006-08-03 2008-02-07 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting device
KR100836471B1 (ko) * 2006-10-27 2008-06-09 삼성에스디아이 주식회사 마스크 및 이를 이용한 증착 장치
KR100880944B1 (ko) * 2007-10-01 2009-02-04 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치
KR100947442B1 (ko) * 2007-11-20 2010-03-12 삼성모바일디스플레이주식회사 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법
KR100908658B1 (ko) 2007-11-20 2009-07-21 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치
KR101450728B1 (ko) * 2008-05-28 2014-10-14 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 그의 제조 방법
KR20100026655A (ko) 2008-09-01 2010-03-10 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 및 이를 이용한 유기전계발광 소자의 제조방법
KR101097305B1 (ko) * 2009-03-09 2011-12-23 삼성모바일디스플레이주식회사 더미 슬릿부를 차단하는 차단부를 구비한 고정세 증착 마스크, 상기 고정세 증착 마스크를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법, 및 상기 제조 방법에 의해 제조된 유기 발광 소자
KR101156432B1 (ko) * 2009-12-15 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 발광 디스플레이 장치
KR101182440B1 (ko) * 2010-01-11 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
KR101182239B1 (ko) * 2010-03-17 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR101156442B1 (ko) * 2010-04-29 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 프레임 조립체
JP2011256409A (ja) * 2010-06-04 2011-12-22 Sk Link:Kk 支持体付きメタルマスク装置及びそれを用いた装置の製造方法
JP2012064564A (ja) 2010-08-17 2012-03-29 Canon Inc 成膜マスク及び有機el表示装置の製造方法
JP2012059631A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Hitachi Displays Ltd 有機エレクトロルミネッセンス用マスク
KR101693578B1 (ko) * 2011-03-24 2017-01-10 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크
KR101820020B1 (ko) * 2011-04-25 2018-01-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
KR101813549B1 (ko) * 2011-05-06 2018-01-02 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치
KR20130028165A (ko) * 2011-06-21 2013-03-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 유닛
JP5770041B2 (ja) * 2011-07-29 2015-08-26 株式会社ブイ・テクノロジー フォトマスク及び露光装置
KR101854796B1 (ko) * 2011-09-15 2018-05-09 삼성디스플레이 주식회사 마스크 제조 방법
KR20130057794A (ko) * 2011-11-24 2013-06-03 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 증착용 마스크의 제조 방법
KR101931770B1 (ko) * 2011-11-30 2018-12-24 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 유기 발광 표시장치
KR20130081528A (ko) * 2012-01-09 2013-07-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 및 이를 이용한 증착 설비
CN103203549B (zh) * 2012-01-16 2015-11-25 昆山允升吉光电科技有限公司 一种应用于掩模板组装的激光焊接方法
KR101879831B1 (ko) * 2012-03-21 2018-07-20 삼성디스플레이 주식회사 플렉시블 표시 장치, 유기 발광 표시 장치 및 플렉시블 표시 장치용 원장 기판
KR102024853B1 (ko) * 2012-09-03 2019-11-05 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
KR101980232B1 (ko) 2012-11-14 2019-05-21 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 프레임 어셈블리
KR102002494B1 (ko) * 2012-11-30 2019-07-23 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
CN103869601A (zh) * 2012-12-10 2014-06-18 昆山允升吉光电科技有限公司 一种具有固定辅助边的掩模板及其制作方法
KR102100446B1 (ko) 2012-12-10 2020-04-14 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
CN103014618A (zh) * 2012-12-25 2013-04-03 唐军 蒸镀用掩模板及其制造方法
CN103911583B (zh) * 2012-12-29 2016-04-27 上海天马微电子有限公司 Amoled金属掩膜板
CN104018116A (zh) * 2013-03-01 2014-09-03 昆山允升吉光电科技有限公司 一种具有辅助开口的掩模板及其制作方法
CN104120380A (zh) * 2013-04-27 2014-10-29 昆山允升吉光电科技有限公司 一种有机发光显示器蒸镀用掩模板及其组件
KR102099238B1 (ko) * 2013-05-13 2020-04-10 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 박막 증착 방법
KR102106336B1 (ko) 2013-07-08 2020-06-03 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크
TWI480399B (zh) 2013-07-09 2015-04-11 金屬遮罩
KR102117088B1 (ko) * 2013-08-09 2020-06-01 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 제조 장치 및 제조 방법
KR20150019695A (ko) * 2013-08-14 2015-02-25 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
JP2015127441A (ja) * 2013-12-27 2015-07-09 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置の製造方法
CN103882375B (zh) * 2014-03-12 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制作方法
KR20160000069A (ko) * 2014-06-23 2016-01-04 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법
CN104062842B (zh) * 2014-06-30 2019-02-15 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩模板及其制造方法、工艺装置
CN105489522B (zh) * 2014-10-11 2018-10-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 光刻版及晶圆或晶圆承载台沾污的检测方法
KR102250047B1 (ko) 2014-10-31 2021-05-11 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
CN104451538B (zh) * 2014-12-30 2017-06-06 合肥鑫晟光电科技有限公司 掩膜板及其制作方法
JP6185498B2 (ja) * 2015-02-12 2017-08-23 株式会社半導体エネルギー研究所 蒸着用マスク
CN104651778B (zh) * 2015-03-13 2016-04-27 京东方科技集团股份有限公司 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件
KR102352280B1 (ko) * 2015-04-28 2022-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 제조 장치 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체 제조 방법
KR102411542B1 (ko) * 2015-05-19 2022-06-22 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치의 픽셀 패터닝 및 픽셀 위치 검사 방법과 그 패터닝에 사용되는 마스크
JP2017008342A (ja) * 2015-06-17 2017-01-12 株式会社ブイ・テクノロジー 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法
US10199588B2 (en) 2015-08-18 2019-02-05 Massachusetts Institute Of Technology Planar mixed-metal perovskites for optoelectronic applications
JP2017071842A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 株式会社ジャパンディスプレイ 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
JP2017150017A (ja) * 2016-02-23 2017-08-31 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法及び有機elディスプレイの製造方法
JP6954343B2 (ja) * 2016-03-16 2021-10-27 大日本印刷株式会社 蒸着マスク
KR20180032717A (ko) * 2016-09-22 2018-04-02 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN107868931A (zh) * 2016-09-23 2018-04-03 昆山国显光电有限公司 精密金属遮罩、oled基板及其对位方法
US10546537B2 (en) * 2016-11-02 2020-01-28 Innolux Corporation Display device with display drivers arranged on edge thereof
US20180125182A1 (en) * 2016-11-07 2018-05-10 Cathy Barouch Wrapped Jewelry Assembly
CN106583958B (zh) * 2016-12-21 2019-01-15 信利(惠州)智能显示有限公司 一种掩膜版的焊接方法
JP6252668B2 (ja) * 2016-12-28 2017-12-27 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法
WO2018131474A1 (ja) * 2017-01-10 2018-07-19 大日本印刷株式会社 蒸着マスク、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスクの製造方法
JP6376483B2 (ja) 2017-01-10 2018-08-22 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスクの良否判定方法
JP7232882B2 (ja) * 2017-03-29 2023-03-03 天馬微電子有限公司 Oled表示装置の製造方法、マスク及びマスクの設計方法
JP2018170152A (ja) * 2017-03-29 2018-11-01 Tianma Japan株式会社 Oled表示装置の製造方法、マスク及びマスクの設計方法
CN108977761B (zh) * 2017-06-02 2020-04-03 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板、掩膜装置及其制造方法和掩膜制造设备
KR102300029B1 (ko) * 2017-07-27 2021-09-09 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체와 이의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20190014272A (ko) * 2017-07-31 2019-02-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 방법
CN111886356A (zh) * 2018-03-20 2020-11-03 夏普株式会社 成膜用掩模及使用该成膜用掩模的显示装置的制造方法
WO2019186629A1 (ja) * 2018-03-26 2019-10-03 シャープ株式会社 蒸着マスク、蒸着マスクセット、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクセットの製造方法及び表示デバイスの製造方法
KR102514115B1 (ko) * 2018-06-12 2023-03-28 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR20200081990A (ko) * 2018-12-28 2020-07-08 엘지디스플레이 주식회사 표시장치용 마스크
CN109778116B (zh) * 2019-03-28 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件
CN110246989B (zh) * 2019-05-07 2021-04-30 信利半导体有限公司 一种全彩oled显示器的制作方法
CN112501558A (zh) * 2019-08-28 2021-03-16 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版、掩膜装置及掩膜版的设计优化方法
CN110396660B (zh) * 2019-08-30 2021-10-08 昆山国显光电有限公司 掩膜板及掩膜板制备方法
CN113302330A (zh) * 2019-09-12 2021-08-24 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制造方法、蒸镀方法、显示装置
KR20210116763A (ko) * 2020-03-13 2021-09-28 삼성디스플레이 주식회사 마스크 제조방법 및 표시 장치의 제조방법
KR20220027353A (ko) * 2020-08-26 2022-03-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 마스크 제조방법
US11659759B2 (en) * 2021-01-06 2023-05-23 Applied Materials, Inc. Method of making high resolution OLED fabricated with overlapped masks

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH108239A (ja) 1996-06-14 1998-01-13 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の電極形成方法およびそれに用いる電極形成装置
JP2000012238A (ja) * 1998-06-29 2000-01-14 Futaba Corp 有機el素子、有機el素子製造用マスク及び有機el素子の製造方法
JP2002060927A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Toray Ind Inc 薄膜パターン成膜用マスク
JP2002252083A (ja) * 2000-11-27 2002-09-06 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04173722A (ja) 1990-11-05 1992-06-22 Kanebo Ltd 養毛化粧料
US5707745A (en) 1994-12-13 1998-01-13 The Trustees Of Princeton University Multicolor organic light emitting devices
CN2306386Y (zh) 1997-02-05 1999-02-03 赵振寰 薄膜型光源
US6592933B2 (en) * 1997-10-15 2003-07-15 Toray Industries, Inc. Process for manufacturing organic electroluminescent device
JP2000048954A (ja) 1998-07-30 2000-02-18 Toray Ind Inc 有機電界発光素子の製造方法
JP3575303B2 (ja) 1998-11-26 2004-10-13 トヨタ自動車株式会社 薄膜形成方法
JP2000173769A (ja) 1998-12-03 2000-06-23 Toray Ind Inc 有機電界発光素子の製造方法
TW463528B (en) * 1999-04-05 2001-11-11 Idemitsu Kosan Co Organic electroluminescence element and their preparation
US6469439B2 (en) * 1999-06-15 2002-10-22 Toray Industries, Inc. Process for producing an organic electroluminescent device
JP2001110567A (ja) 1999-10-08 2001-04-20 Toray Ind Inc 有機電界発光装置の製造方法
JP2001118780A (ja) 1999-10-20 2001-04-27 Nikon Corp 電子線用転写マスクブランクス、電子線用転写マスク及びそれらの製造方法
EP1107331A3 (en) 1999-12-09 2005-11-02 Daicel Chemical Industries, Ltd. Material for organic electroluminescence device and process for producing the same
JP2001185350A (ja) * 1999-12-24 2001-07-06 Sanyo Electric Co Ltd 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法
JP2001203079A (ja) 2000-01-18 2001-07-27 Toray Ind Inc 有機電界発光装置の製造方法
JP2001247961A (ja) 2000-03-06 2001-09-14 Casio Comput Co Ltd 蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機el素子の製造方法
JP2001254169A (ja) 2000-03-13 2001-09-18 Optonix Seimitsu:Kk 蒸着用金属マスクおよび蒸着用金属マスク製造方法
JP2002009098A (ja) 2000-06-16 2002-01-11 Sony Corp パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法
JP2002008859A (ja) 2000-06-16 2002-01-11 Sony Corp パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法
JP3501218B2 (ja) * 2000-08-11 2004-03-02 日本電気株式会社 フラットパネル表示モジュール及びその製造方法
JP4006173B2 (ja) * 2000-08-25 2007-11-14 三星エスディアイ株式会社 メタルマスク構造体及びその製造方法
US7396558B2 (en) * 2001-01-31 2008-07-08 Toray Industries, Inc. Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same
CN1141859C (zh) 2001-04-27 2004-03-10 清华大学 一种有机电致发光器件的制备方法
KR100490534B1 (ko) * 2001-12-05 2005-05-17 삼성에스디아이 주식회사 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
KR100421720B1 (ko) * 2001-12-13 2004-03-11 삼성 엔이씨 모바일 디스플레이 주식회사 전자 발광 소자와 그 제조방법
EP1472907A1 (en) * 2002-01-22 2004-11-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display with dummy edge electrode
US6878208B2 (en) * 2002-04-26 2005-04-12 Tohoku Pioneer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display manufactured by using the same
JP4072422B2 (ja) * 2002-11-22 2008-04-09 三星エスディアイ株式会社 蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機el素子の製造方法
JP4173722B2 (ja) 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
WO2005067352A1 (en) * 2004-01-08 2005-07-21 Samsung Electronics Co., Ltd. Display device, and method of manufacturing the display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH108239A (ja) 1996-06-14 1998-01-13 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の電極形成方法およびそれに用いる電極形成装置
JP2000012238A (ja) * 1998-06-29 2000-01-14 Futaba Corp 有機el素子、有機el素子製造用マスク及び有機el素子の製造方法
JP2002060927A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Toray Ind Inc 薄膜パターン成膜用マスク
JP2002252083A (ja) * 2000-11-27 2002-09-06 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス装置並びに電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
CN101451227A (zh) 2009-06-10
JP4173722B2 (ja) 2008-10-29
CN101451227B (zh) 2011-10-12
US20110031486A1 (en) 2011-02-10
US20040104197A1 (en) 2004-06-03
KR20040047556A (ko) 2004-06-05
CN1510971A (zh) 2004-07-07
DE60336371D1 (de) 2011-04-28
US7837528B2 (en) 2010-11-23
EP1426461A1 (en) 2004-06-09
CN100492715C (zh) 2009-05-27
US8334649B2 (en) 2012-12-18
JP2004185832A (ja) 2004-07-02
EP1426461B1 (en) 2011-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100922753B1 (ko) 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의제조방법 및 유기 전계 발광 소자
KR100863901B1 (ko) 증착용 마스크 프레임 조립체와 그 제조방법 및 이를이용한 유기 el 소자의 제조방법
KR100908232B1 (ko) 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
KR100814181B1 (ko) 유기 전계발광 디스플레이 패널 및 그 제조 방법
JP4230258B2 (ja) 有機elパネル、有機elパネルの製造方法
JP3829148B2 (ja) 有機elデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
US7821199B2 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
KR101070539B1 (ko) 증착 마스크 및 이를 사용한 유기 전계 발광 장치의 제조 방법
JP4956642B2 (ja) 薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法
JP4506214B2 (ja) 有機電界発光装置およびその製造方法
JP2001237073A (ja) 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
US5896006A (en) Organic thin film light-emitting device having second electrodes layer covering periphery of first electrodes layer
JP2001196171A (ja) 有機elディスプレイパネル及びその製法方法
KR20060056193A (ko) 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법
KR20060056194A (ko) 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121008

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130930

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141001

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150930

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170928

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181001

Year of fee payment: 10