KR20180032717A - 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20180032717A
KR20180032717A KR1020160121518A KR20160121518A KR20180032717A KR 20180032717 A KR20180032717 A KR 20180032717A KR 1020160121518 A KR1020160121518 A KR 1020160121518A KR 20160121518 A KR20160121518 A KR 20160121518A KR 20180032717 A KR20180032717 A KR 20180032717A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pattern
mask
frame assembly
substrate
clamping
Prior art date
Application number
KR1020160121518A
Other languages
English (en)
Inventor
정동섭
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020160121518A priority Critical patent/KR20180032717A/ko
Priority to US15/671,250 priority patent/US10964889B2/en
Priority to CN201710846890.1A priority patent/CN107871826B/zh
Publication of KR20180032717A publication Critical patent/KR20180032717A/ko
Priority to US17/215,055 priority patent/US20210217957A1/en

Links

Images

Classifications

    • H01L51/56
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B05C21/005Masking devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321After treatment
    • H01L21/3213Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
    • H01L21/32139Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer using masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L51/0011
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/20Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/20Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning
    • H10K71/211Changing the shape of the active layer in the devices, e.g. patterning by selective transformation of an existing layer
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/40Thermal treatment, e.g. annealing in the presence of a solvent vapour

Abstract

본 발명의 일 실시예는 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고, 패턴부는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며, 패턴부는 제1 방향을 기준으로 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고, 서로 인접하는 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은 증착용 마스크를 개시한다.

Description

증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법{mask for deposition, apparatus for manufacturing display apparatus and method of manufacturing display apparatus}
본 발명의 실시예들은 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
이동성을 기반으로하는 전자 기기가 폭 넓게 사용되고 있다. 이동용 전자 기기로는 모바일 폰과 같은 소형 전자 기기 이외에도 최근 들어 태블릿 PC가 널리 사용되고 있다.
이와 같은 이동형 전자 기기는 다양한 기능을 지원하기 위하여, 이미지 또는 영상과 같은 시각 정보를 사용자에게 제공하기 위하여 디스플레이 장치를 포함한다. 최근, 디스플레이 장치를 구동하기 위한 기타 부품들이 소형화됨에 따라, 디스플레이 장치가 전자 기기에서 차지하는 비중이 점차 증가하고 있는 추세이며, 평평한 상태에서 소정의 각도를 갖도록 구부릴 수 있는 구조도 개발되고 있다.
표시 장치에 증착되는 유기물이나 전극으로 사용되는 금속 등은 진공 분위기에서 해당 물질을 기판 상에 증착하여 박막을 형성하는 진공 증착법을 사용하여 제조된다. 진공 증착법은 진공챔버 내부에 유기 박막을 성막시킬 기판을 위치시키고, 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 증착용 마스크를 밀착시킨 후, 증착 소스를 이용하여 유기물을 증발 또는 승화시켜 기판에 증착시키는 방법으로 수행된다.
최근들어 표시 장치는 대형화될 것이 요구되고 있다. 이에 따라, 증착용 마스크 또한 기존보다 크게 제작되고 있다. 또한 고해상도의 구현을 위해서는 쉐도우 현상(shadow effect)을 줄이는 것이 중요한 데, 이를 위해 증착 공정 시 증착용 마스크는 기판과 밀착해야 하고, 그 두께도 얇게 제작되어야 한다.
일반적으로, 증착용 마스크와 기판이 서로 밀착하여 증착용 마스크와 기판 사이에 간극이 발생하지 않는 구조를 얻기 위하여, 증착용 마스크의 양 단에는 인장력이 가해져 평평한 상태로 프레임에 설치된다.
전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 실시예들의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 실시예들의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
본 발명의 실시예들은 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고, 패턴부는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며, 패턴부는 제1 방향을 기준으로 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고, 서로 인접하는 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은 증착용 마스크를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 패턴부의 각 모서리는 라운드질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 간격 및 제2 간격은 각각 일정할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커질 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 기판과 대향하도록 배치되는 마스크 프레임 조립체와, 마스크 프레임 조립체에 대향하도록 배치되어 마스크 프레임 조립체를 향하는 방향으로 증착 물질을 분사하는 증착원을 포함하고, 마스크 프레임 조립체는, 중앙에 개구부를 갖는 프레임과, 기판에 대향하도록 배치되고, 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되어 프레임에 설치되는 증착용 마스크를 포함하며, 증착용 마스크는, 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고, 패턴부는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며, 패턴부는 제1 방향을 기준으로 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고, 서로 인접하는 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은 표시 장치의 제조 장치를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 패턴부의 각 모서리는 라운드질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 간격 및 제2 간격은 각각 일정할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 클램핑부는 증착용 마스크가 프레임에 설치되면서 제거될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 증착용 마스크의 클램핑부가 제1 방향으로 인장된 상태에서, 제1 간격은 제2 간격과 실질적으로 대응할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예는 챔버 내부에 마스크 프레임 조립체와 기판을 장입하는 단계와, 마스크 프레임 조립체와 기판이 대향하도록 배치 및 정렬하는 단계와, 정전척으로 마스크 프레임 조립체에 인력을 가해 마스크 프레임 조립체를 기판 측으로 밀착하는 단계와, 증착원에서 분사되는 증착 물질을 마스크 프레임 조립체로 통과시켜 기판 상에 증착 물질을 증착하는 단계를 포함하고, 마스크 프레임 조립체는, 중앙에 개구부를 갖는 프레임과, 기판에 대향하도록 배치되고, 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되어 프레임에 설치되는 증착용 마스크를 포함하며, 증착용 마스크는, 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고, 패턴부는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며, 패턴부는 제1 방향을 기준으로 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고, 서로 인접하는 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은 표시 장치의 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서, 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 패턴부의 각 모서리는 라운드질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제1 간격 및 제2 간격은 각각 일정할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커질 수 있다.
본 실시예에 있어서, 클램핑부는 증착용 마스크가 프레임에 설치되면서 제거될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 증착용 마스크의 클램핑부가 제1 방향으로 인장된 상태에서, 제1 간격은 제2 간격과 실질적으로 대응할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들에 관한 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법에 따르면, 프레임과 증착용 마스크의 결합 시 증착용 마스크의 클램핑부를 인장하더라도 패턴부의 배열이 어긋나지 않도록 방지할 수 있다.
물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착용 마스크를 나타내는 사시도이다.
도 2는 도 1의 증착용 마스크를 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 2의 증착용 마스크가 인장된 모습을 나타내는 평면도이다.
도 4는 도 1의 증착용 마스크를 포함하는 표시 장치의 제조 장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 도 4의 표시 장치의 제조 장치를 통하여 제조된 표시 장치를 보여주는 평면도이다.
도 6은 도 5의 V-V'선을 따라 취한 단면도이다.
도 7은 내지 도 11은 도 1의 증착용 마스크의 다른 실시예들을 나타내는 평면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수개의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분의 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함된다.
또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
한편, 본 발명의 실시예들에서 표시 장치는 다양한 장치를 포함할 수 있다. 예를 들면, 표시 장치는 액정 표시 장치 또는 유기 발광 표시 장치를 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 표시 장치가 유기 발광 표시 장치인 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착용 마스크를 나타내는 사시도이고, 도 2는 도 1의 증착용 마스크를 나타내는 평면도이며, 도 3은 도 2의 증착용 마스크가 인장된 모습을 나타내는 평면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 증착용 마스크(120)는 패턴부(121)와 클램핑부(122) 및 클램핑홈(123)을 포함할 수 있다.
패턴부(121)는 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀(121h)을 구비한다. 복수개의 패턴홀(121h)들은 서로 대응하는 면적을 갖도록 동일한 형상으로 형성될 수 있다. 도 1 및 도 2는 직사각형의 패턴홀(121h)을 도시하나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 즉, 패턴홀(121h)은 다각형, 원형 또는 타원형 등의 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 단, 이하에서는 설명의 편의를 위해 패턴홀(121h)이 직사각형일 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
다음으로, 클램핑부(122)는 증착용 마스크(120)의 양단부에 위치하며, 인장 시 클램프(미도시)에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장될 수 있다.
클램핑홈(123)은 증착용 마스크(120)의 양단부 중 클램핑부(122)를 제외한 나머지 영역으로, 클램프에 의해 인장되지 않는 영역이다. 클램핑홈(123)은 증착용 마스크(120)의 양단부로부터 패턴부(121)를 향하는 방향으로 인입되도록 형성될 수 있다. 일반적으로 클램핑홈(123)의 내주면은 증착용 마스크(120)에 가해지는 인장력으로 인해 증착용 마스크(120)가 변형되거나 파손되는 것을 방지하기 위해 곡면으로 형성되는 것이 바람직하나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않으며, 하나 이상의 절곡점을 갖도록 형성될 수도 있다.
이하, 증착용 마스크(120)의 클램핑부(122)와 클램핑홈(123)에 대해 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
증착용 마스크(120)는 표시 장치(미도시)의 기판(도 4의 S)에 유기물이나 금속과 같은 증착 물질을 증착하는 공정에서 사용되며, 쉐도우 현상(shadow effect)을 방지하기 위해 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 프레임(도 4의 110)에 용접될 수 있다.
여기서, "쉐도우 현상"이란 기판(S)과 증착용 마스크(120)가 서로 밀착되지 않고 그 중간 영역에 간극이 형성됨에 따라, 증착 물질이 증착되어야 할 기판(S) 상의 기 설정된 유효 영역 이외의 다른 영역에 증착 물질이 증착됨으로써 디스플레이 불량을 일으키는 현상을 일컫는다. 따라서, 쉐도우 현상을 방지하기 위해서는, 증착용 마스크(120)와 기판(S) 사이에 간극이 발생하지 않도록 증착용 마스크(120)를 최대한 팽팽하게 인장시킨 상태에서 기판(S)에 밀착시킬 필요가 있다.
이를 위해, 클램프는 프레임(110)에 증착용 마스크(120)를 용접하기 이전에 증착용 마스크(120)의 클램핑부(122)를 클램핑하고, 클램핑부(122)를 클램핑한 상태에서 제1 방향으로 인장력을 가해 증착용 마스크(120)를 팽팽하게 잡아 당긴다. 그 이후, 증착용 마스크(120)의 양단부가 프레임(110)에 안착된 상태로 프레임(110)과 증착용 마스크(120)를 용접하는 공정을 거친다. 예컨대, 프레임(110)과 증착용 마스크(120)는 용접부(115, 도 4 참조)를 통해 서로 결합될 수 있다.
프레임(110)과 증착용 마스크(120)의 용접 공정 이후에는, 증착용 마스크(120)의 양단부 중 일부는 제거되는데, 예컨대 도 1 및 도 2에 나타난 클램핑부(122)가 제거될 수 있다. 상기 전술한 공정들의 결과로써, 증착용 마스크(120)와 기판(S) 사이의 간극을 최소화할 수 있으며, 이에 따라 쉐도우 현상을 효과적으로 방지할 수 있다.
다시 도 1 및 도 2를 참조하면, 패턴부(121)는 제1 방향과, 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치될 수 있다. 도 1 및 도 2는 직사각형 형태의 패턴부(121)가 제1 방향을 따라 5개, 제2 방향을 따라 3개가 형성된 모습을 도시하나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 패턴부(121)의 다양한 변형예들에 대해서는 도 6 내지 도 10을 참조하여 자세하게 후술하기로 한다. 다만, 여기서는 설명의 편의를 위해 패턴부(121)가 직사각형의 형태를 갖고, 제1 방향을 따라 5개, 제2 방향을 따라 3개가 형성된 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
패턴부(121)는 제1 방향을 기준으로 클램핑부(122)와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부(121A)와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈(123)과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부(121B)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 패턴부(121A)는 클램프에 의해 인장되는 제1 영역(A1)에 배치되고, 제2 패턴부(121B)는 직접적으로 인장력이 가해지지는 않으나, 간접적으로 인장력의 영향을 받거나, 인장력이 가해지지 않는 제2 영역(A2)에 배치된다고 가정하기로 한다.
도 2를 참조하면, 서로 인접하는 제1 패턴부들(121A) 사이의 제1 간격(d1)은 서로 인접하는 제2 패턴부들(121B) 사이의 제2 간격(d2)보다 더 좁게 형성될 수 있다. 이와 같은 구조를 갖는 증착용 마스크(120)를 클램프로 인장하여 프레임(110)에 결합할 경우, 그 인장력으로 인해 제2 방향을 기준으로 패턴부(121)들의 배치가 어긋나는 현상을 방지할 수 있다.
이에 대해, 도 2 및 도 3을 참조하여 더 자세히 설명하면 다음과 같다. 인장력이 가해지기 이전(도 2 참조)에 제1 영역(A1)에 배치된 제1 패턴부들(121A) 사이의 간격은 제1 간격(d1)이나, 클램프가 클램핑부(122)의 양단에 인장방향으로 인장력을 가할 경우(도 3 참조), 제1 패턴부(121A) 사이의 간격은 제1 간격(d1)보다 더 커지게 된다(d1'). 한편, 제2 영역(A2)에 배치된 제2 패턴부들(121B) 사이의 제2 간격(d2)은 제1 영역(A1)에 인장력이 가해지더라도 그 영향이 미비한 바, 제2 간격(d2)은 늘어난 제1 간격(d1')과 실질적으로 대응(d1'≒d2)되도록 형성될 수 있다.
도 4는 도 1의 증착용 마스크를 포함하는 표시 장치의 제조 장치를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
표시 장치의 제조 장치(100)는 마스크 프레임 조립체(MF)와, 증착원(130)과, 챔버(140)와, 서포터(150)와, 정전척(160)과, 비전부(170)와, 압력조절부(180)를 포함할 수 있다.
마스크 프레임 조립체(MF)는 기판(S)과 대향하도록 배치될 수 있으며, 중앙에 개구부를 갖는 프레임(110)과, 기판(S)에 대향하도록 배치되고, 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되어 프레임(110)에 설치되는 증착용 마스크(120)를 포함할 수 있다. 도 4에 나타난 증착용 마스크(120)는 도 2에 도시된 증착용 마스크(120)를 도 3에 도시된 증착용 마스크(120)와 같이 제1 방향으로 인장한 이후, 용접부(115)를 통해 양단부가 프레임(110)에 설치된 모습을 나타낸다. 전술한 바와 같이, 증착용 마스크(120)가 프레임(110)에 설치된 이후에는 도 1 내지 도 3의 증착용 마스크(120)의 양단부 측에서 돌출된 클램핑부(122)가 제거될 수 있다.
여기서, 증착용 마스크(120)는 도 1 내지 도 3에 도시된 증착용 마스크(120)와 그 구조적 특징이 실질적으로 대응하므로, 이를 원용하여 이하에서는 증착용 마스크(120)에 대한 추가적인 설명은 생략하기로 한다.
한편, 증착원(130)은 마스크 프레임 조립체(MF)와 대향하도록 배치될 수 있으며, 마스크 프레임 조립체(MF)를 향하는 방향으로 증착 물질을 분사할 수 있다. 따라서, 증착원(130)의 내부에는 증착 물질이 수납될 수 있으며, 증착 물질을 가열하는 히터(미도시)를 포함할 수도 있다. 이때, 증착 물질은 승화 또는 기화될 수 있는 물질로서, 무기물, 금속 및 유기물 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 증착 물질이 유기물인 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
챔버(140)의 내부에는 밀폐 공간이 형성될 수 있으며, 일부가 개방될 수 있다. 이때, 챔버(140)의 개방된 부분에는 게이트밸브(141a) 등이 설치되어 개방된 부분을 개폐할 수 있다.
서포터(150)는 마스크 프레임 조립체(MF)를 지지 및 고정할 수 있다. 또한, 서포터(150)는 마스크 프레임 조립체(MF)를 회전시키거나 선형 운동시킴으로써, 마스크 프레임 조립체(MF)와 기판(S)을 정렬할 수 있다.
정전척(160)은 기판(S)과 대향하도록 챔버(140)의 내부에 설치될 수 있다. 이때, 정전척(160)은 증착용 마스크(120)에 인력을 가하여 기판(S) 측으로 마스크 프레임 조립체(MF)를 당겨올 수 있다. 즉, 정전척(160)은 증착용 마스크(120)의 처짐을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 증착용 마스크(120)를 기판(S)에 밀착시킬 수 있다.
비전부(170)는 챔버(140)에 설치되며, 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 촬영할 수 있다. 비전부(170)는 기판(S) 및 마스크 프레임 조립체(MF)를 촬영하는 카메라를 포함할 수 있다. 이렇게, 비전부(170)에서 촬영된 이미지 또는 형상을 근거로 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 모니터링할 수 있으며, 상기 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치 정보를 근거로 서포터(150)를 이동하여 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 미세하게 조정할 수 있다.
압력조절부(180)는 챔버(140)와 연결되는 연결배관(181)과 연결배관(181)에 설치되는 펌프(182)를 포함할 수 있다. 이때, 펌프(182)의 작동에 따라서 연결배관(181)을 통하여 외기가 유입되거나, 챔버(140) 내부의 기체를 연결배관(181)을 통하여 외부로 배출할 수 있다.
한편, 상기와 같은 표시 장치의 제조 장치(100)는 후술할 표시 장치(도 5의 20 참조)를 제조하는 데 사용될 수 있다. 구체적으로, 압력조절부(180)가 챔버(140)의 내부 압력을 대기압과 동일 또는 유사한 상태로 만들면, 게이트밸브(141a)가 작동하여 챔버(140)의 개구된 부분을 개방할 수 있다.
이후, 외부에서 기판(S)을 챔버(140)의 내부로 장입할 수 있다. 이때, 기판(S)은 다양한 방식으로 챔버(140)에 장입될 수 있다. 예를 들면, 기판(S)은 챔버(140)의 외부에 설치된 로봇암 등을 통해 챔버(140)의 내부로 장입될 수 있다.
다른 실시예로써, 서포터(150)가 셔틀(shuttle)로 구성되는 경우, 서포터(150)가 챔버(140)의 내부에서 외부로 반출된 후, 챔버(140)의 외부에 설치된 별도의 로봇암 등을 통하여 기판(S)을 서포터(150)에 안착시킨 후, 기판(S)을 지지한 상태로 서포터(150)가 챔버(140)의 내부로 장입되는 방식도 가능하다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 챔버(140)의 외부에 설치된 로봇암을 통해 기판(S)이 챔버(140)의 외부로부터 내부로 장입하는 경우를 중심으로 자세하게 설명하기로 한다.
마스크 프레임 조립체(MF)는 상기와 같이 챔버(140)의 내부에 배치된 상태일 수 있다. 다른 실시예로써, 마스크 프레임 조립체(MF)는 기판(S)과 동일 또는 유사하게 챔버(140) 외부에서 챔버(140) 내부로 장입하는 것도 가능하다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 마스크 프레임 조립체(MF)는 챔버(140)의 내부에 배치된 상태에서 기판(S)만 챔버(140) 외부에서 챔버(140) 내부로 장입하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
기판(S)이 챔버(140)의 내부로 장입되면, 도면에 도시되지는 않았으나 기판(S)은 서포터(150)와 유사한 구조와 기능을 갖는 지지부(미도시)에 안착될 수 있다. 이때, 비전부(170)는 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 촬영할 수 있다. 특히, 비전부(170)는 기판(S)의 제1 얼라인마크(미도시) 및 마스크 프레임 조립체(MF)의 제2 얼라인마크(미도시)를 촬영할 수 있다.
상기와 같이 촬영된 제1 얼라인마크와 제2 얼라인마크의 위치를 근거로, 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 파악할 수 있다. 이때, 표시 장치의 제조 장치(100)는 별도의 제어부(미도시)를 구비하여, 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 모니터링할 수 있다. 기판(S)과 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치 파악이 완료되면, 기판(S)을 지지하는 지지부와 마스크 프레임 조립체(MF)를 지지하는 서포터(150) 중 적어도 하나는 마스크 프레임 조립체(MF)의 위치를 조정할 수 있다.
이후, 증착원(130)이 작동하여 증착 물질을 마스크 프레임 조립체(MF) 측으로 분사하고, 복수개의 패턴홀(121h)을 통과한 증착 물질은 기판(S)에 증착될 수 있다. 이때, 펌프(182)는 챔버(140) 내부의 기체를 흡입하여 외부로 배출시킴으로써 챔버(140)의 내부의 압력을 진공과 동일 또는 유사한 형태로 유지시킬 수 있다.
한편, 이하에서는 상기와 같은 증착용 마스크(120)와, 이를 포함하는 표시 장치의 제조 장치(100) 및 표시 장치의 제조 방법을 통하여 제조되는 표시 장치(20)에 대해서 상세히 설명하기로 한다.
도 5는 도 4의 표시 장치의 제조 장치를 통하여 제조된 표시 장치를 보여주는 평면도이고, 도 6는 도 5의 V-V'선을 따라 취한 단면도이다.
도 5 및 도 6을 참고하면, 표시 장치(20)는 기판(21) 상에서 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 외곽에 위치하는 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)에는 발광부(D)가 배치되고, 비표시 영역에는 전원 배선(미도시) 등이 배치될 수 있다. 또한, 비표시 영역에는 패드부(C)가 배치될 수 있다.
표시 장치(20)는 기판(21) 및 발광부(D)를 포함할 수 있다. 또한, 표시 장치(20)는 발광부(D)의 상부에 형성되는 박막 봉지층(E) 을 포함할 수 있다. 이때, 기판(21)은 유리 재질을 사용할 수 있는 데, 반드시 이에 한정되지 않으며, 플라스틱재를 사용할 수도 있으며, SUS, Ti과 같은 금속재를 사용할 수도 있다. 또한, 기판(21)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 사용할 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판(21)이 유리 재질로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
기판(21) 상에는 발광부(D)가 형성될 수 있다. 이때, 발광부(D)에는 박막 트랜지스터(TFT)가 구비되고, 이들을 덮도록 패시베이션막(27)이 형성되며, 이 패시베이션막(27) 상에 유기 발광 소자(28)가 형성될 수 있다.
기판(21)의 상면에는 유기화합물 및/또는 무기화합물로 이루어진 버퍼층(22)이 더 형성되는 데, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1)로 형성될 수 있다.
이 버퍼층(22) 상에 소정의 패턴으로 배열된 활성층(23)이 형성된 후, 활성층(23)이 게이트 절연층(24)에 의해 매립된다. 활성층(23)은 소스 영역(23-1)과 드레인 영역(23-3)을 갖고, 그 사이에 채널 영역(23-2)을 더 포함한다.
이러한 활성층(23)은 다양한 물질을 함유하도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 활성층(23)은 비정질 실리콘 또는 결정질 실리콘과 같은 무기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다른 예로서 활성층(23)은 산화물 반도체를 함유할 수 있다. 또 다른 예로서, 활성층(23)은 유기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 활성층(23)이 비정질 실리콘으로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
이러한 활성층(23)은 버퍼층(22) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 이를 결정화하여 다결정질 실리콘막으로 형성하고, 이 다결정질 실리콘막을 패터닝하여 형성할 수 있다. 상기 활성층(23)은 구동 TFT(미도시), 스위칭 TFT(미도시) 등 TFT 종류에 따라, 그 소스 영역(23-1) 및 드레인 영역(23-3)이 불순물에 의해 도핑된다.
게이트 절연층(24)의 상면에는 활성층(23)과 대응되는 게이트 전극(25)과 이를 매립하는 층간 절연층(26)이 형성된다.
그리고, 층간 절연층(26)과 게이트 절연층(24)에 콘택홀(H1)을 형성한 후, 층간 절연층(26) 상에 소스 전극(27-1) 및 드레인 전극(27-2)을 각각 소스 영역(23-1) 및 드레인 영역(23-3)에 콘택되도록 형성한다.
이렇게 형성된 상기 박막 트랜지스터의 상부로는 패시베이션막(27)이 형성되고, 이 패시베이션막(27) 상부에 유기 발광 소자(28, OLED)의 화소 전극(28-1)이 형성된다. 이 화소 전극(28-1)은 패시베이션막(27)에 형성된 비아 홀(H2)에 의해 TFT의 드레인 전극(27-2)에 콘택된다. 상기 패시베이션막(27)은 무기물 및/또는 유기물, 단층 또는 2개층 이상으로 형성될 수 있는 데, 하부 막의 굴곡에 관계없이 상면이 평탄하게 되도록 평탄화막으로 형성될 수도 있는 반면, 하부에 위치한 막의 굴곡을 따라 굴곡이 가도록 형성될 수 있다. 그리고, 이 패시베이션막(27)은, 공진 효과를 달성할 수 있도록 투명 절연체로 형성되는 것이 바람직하다.
패시베이션막(27) 상에 화소 전극(28-1)을 형성한 후에는 이 화소 전극(28-1) 및 패시베이션막(27)을 덮도록 화소 정의막(29)이 유기물 및/또는 무기물에 의해 형성되고, 화소 전극(28-1)이 노출되도록 개구된다.
그리고, 적어도 상기 화소 전극(28-1) 상에 중간층(28-2) 및 대향 전극(28-3)이 형성된다.
화소 전극(28-1)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(28-3)은 캐소오드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 화소 전극(28-1)과 대향 전극(28-3)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.
화소 전극(28-1)과 대향 전극(28-3)은 상기 중간층(28-2)에 의해 서로 절연되어 있으며, 중간층(28-2)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기 발광층에서 발광이 이뤄지도록 한다.
중간층(28-2)은 유기 발광층을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 중간층(28-2)은 유기 발광층(organic emission layer)을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(HIL:hole injection layer), 정공 수송층(hole transport layer), 전자 수송층(electron transport layer) 및 전자 주입층(electron injection layer) 중 적어도 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예는 이에 한정되지 아니하고, 중간층(28-2)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층(미도시)을 더 구비할 수 있다.
한편, 하나의 단위 화소는 복수의 부화소로 이루어지는데, 복수의 부화소는 다양한 색의 빛을 방출할 수 있다. 예를 들면 복수의 부화소는 각각 적색, 녹색 및 청색의 빛을 방출하는 부화소를 구비할 수 있고, 적색, 녹색, 청색 및 백색의 빛을 방출하는 부화소(미표기)를 구비할 수 있다.
한편, 상기와 같은 박막 봉지층(E)은 복수의 무기층들을 포함하거나, 무기층 및 유기층을 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E)의 상기 유기층은 고분자로 형성되며, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴라카보네이트, 에폭시, 폴리에틸렌 및 폴리아크릴레이트 중 어느 하나로 형성되는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 유기층은 폴리아크릴레이트로 형성될 수 있으며, 구체적으로는 디아크릴레이트계 모노머와 트리아크릴레이트계 모노머를 포함하는 모노머 조성물이 고분자화된 것을 포함할 수 있다. 상기 모노머 조성물에 모노아크릴레이트계 모노머가 더 포함될 수 있다. 또한, 상기 모노머 조성물에 TPO(Diphenyl(2,3,6-trimethylbenzoyl)phosphine oxide)와 같은 공지의 광개시제가 더욱 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
박막 봉지층(E)의 상기 무기층은 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 구체적으로, 상기 무기층은 SiNx, Al2O3, SiO2, TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E) 중 외부로 노출된 최상층은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기층으로 형성될 수 있다.
박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조 및 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 포함할 수도 있다.
박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층을 포함할 수 있다.
다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 제2 유기층, 제3 무기층을 포함할 수 있다.
또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 상기 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 상기 제2 유기층, 제3 무기층, 제3 유기층, 제4 무기층을 포함할 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)와 제1 무기층 사이에 LiF를 포함하는 할로겐화 금속층이 추가로 포함될 수 있다. 상기 할로겐화 금속층은 제1 무기층을 스퍼터링 방식으로 형성할 때 상기 유기 발광 소자(OLED)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
제1 유기층은 제2 무기층 보다 면적이 좁게 할 수 있으며, 상기 제2 유기층도 제3 무기층 보다 면적이 좁을 수 있다.
따라서 표시 장치(20)는 정밀한 패턴을 형성하는 중간층(28-2)을 구비하고, 중간층(28-2)이 정확한 위치에 증착되어 형성됨으로써 정밀한 이미지 구현이 가능하다. 또한, 표시 장치(20)는 반복적으로 중간층(28-2)을 증착하더라도 일정한 패턴을 형성함으로써 지속적인 생산에 따라 균일한 품질을 나타낸다.
이때, 상기와 같은 중간층(28-2)은 상기에서 설명한 증착용 마스크(120)와, 증착용 마스크(120)를 포함하는 표시 장치의 제조 장치(10)를 이용하여 형성될 수 있다.
도 7은 내지 도 11은 도 1의 증착용 마스크의 다른 실시예들을 나타내는 평면도이다.
도 7을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(220)는 도 1 내지 도 3에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 증착용 마스크(120)의 모든 구성요소들을 동일하게 구비할 수 있다. 즉, 증착용 마스크(220)는 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀(221h)을 구비하는 패턴부(221)와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부(222)와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈(223)을 포함할 수 있다.
또한, 증착용 마스크(220)의 패턴부(221)는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치될 수 있으며, 제1 방향을 기준으로 클램핑부(222)와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부(221A)와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈(223)과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부(221B)를 포함할 수 있다. 그리고, 서로 인접하는 제1 패턴부(221A)들 사이의 제1 간격(d1)은 서로 인접하는 제2 패턴부(221B)들 사이의 제2 간격(d2, d3)보다 더 좁게 형성될 수 있다.
다만, 도 7의 증착용 마스크(220)는 도 1의 증착용 마스크(120)와는 달리, 중앙에서 양단부로 갈수록 제2 간격(d2, d3)이 점점 더 커지는 특징을 가질 수 있다. 즉, 중앙에 가까운 제2 패턴부(221B)들 사이의 간격(d2)보다, 양단부에 가까운 제2 패턴부(221B)들 사이의 간격(d3)이 더 크게 형성될 수 있다. 이러한 구조를 갖는 증착용 마스크(220)를 클램프로 인장하는 경우에도, 그 인장강도를 조절함에 따라 도 3에 나타난 증착용 마스크(120)와 같이, 제1 패턴부(221A)와 제2 패턴부(221B)가 제1 방향 및 제2 방향을 따라 어긋나지 않고 나란하게 배치될 수 있다.
한편, 도 8 내지 도 10은 도 1 내지 도 3에 나타난 패턴부(121)의 다양한 변형예를 나타낸다.
도 8은 원형의 패턴부(321)를 나타내고, 도 9는 타원형의 패턴부(421)를 나타내며, 도 10은 각 모서리가 라운드 진 직사각형 형태의 패턴부(521)를 나타낸다.
도 8 내지 도 10에 나타난 바와 같이, 패턴부(321)(421)(521)는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 다만, 그 어떠한 경우에도, 패턴부(321)(421)(521)에 형성된 패턴홀(321h)(421h)(521h)의 형태는 동일하게 형성될 수 있으며, 바람직하게는 사각형 형태로 형성될 수 있으나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다.
또한, 패턴부(321)(421)(521)가 다양한 형태로 형성되는 경우에도, 서로 인접하는 제1 패턴부(321A)(421A)(521A)들 사이의 제1 간격(d1)은 서로 인접하는 제2 패턴부(321B)(421B)(521B)들 사이의 제2 간격(d2)보다 좁게 형성될 수 있다. 그리고, 도면에 나타나지는 않았으나 도 8 내지 도 10에 나타난 패턴부(321)(421)(521)의 경우에도 도 7에 나타난 바와 같이 서로 인접하는 제2 패턴부(321B)(421B)(521B)들 사이의 제2 간격(d2, d3)이 중앙에서 양단부로 갈수록 점점 더 커지는 특징을 가질 수도 있다.
한편, 도 11은 양단부에 3개의 클램핑부(622)를 갖는 증착용 마스크(620)를 나타낸다.
도 11을 참조하면, 도 11의 증착용 마스크(620)는 도 1 내지 도 3에 도시된 본 발명의 일 실시예에 따른 증착용 마스크(120)의 모든 구성요소들을 동일하게 구비할 수 있다. 즉, 증착용 마스크(620)는 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀(621h)을 구비하는 패턴부(621)와, 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부(622)와, 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈(623)을 포함할 수 있다.
또한, 증착용 마스크(620)의 패턴부(621)는 제1 방향 및 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치될 수 있으며, 제1 방향을 기준으로 클램핑부(622)와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부(621A)와, 제1 방향을 기준으로 클램핑홈(623)과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부(621B)를 포함할 수 있다. 그리고, 서로 인접하는 제1 패턴부(621A)들 사이의 제1 간격(d1)은 서로 인접하는 제2 패턴부(621B)들 사이의 제2 간격(d2)보다 더 좁게 형성될 수 있다.
다만, 도 11의 증착용 마스크(620)에는 제1 방향을 따라 클램핑부(622)와 중첩되는 3개의 제1 영역(A1)이 형성될 수 있으며, 3개의 제1 영역(A2)들 사이에 클램프에 의해 클램핑되지 않는 2개의 제2 영역(A2)이 형성될 수 있다.
즉, 도 11의 증착용 마스크(620)는 하나의 증착용 마스크(620)에 제1 방향으로 5개, 제2 방향으로 5개의 패턴부(621)를 구비함으로써, 총 25개의 패턴부(621)를 구비할 수 있다. 하지만, 본 발명의 실시예들은 이러한 구체적인 패턴부(621)의 개수에 한정되는 것은 아니다. 도 11에 나타난 패턴부(621)의 개수는 설명의 편의를 위한 것으로, 구체적으로는 하나의 증착용 마스크(620)가 다열(多列)의 패턴부(621)를 구비할 수 있음을 나타내기 위한 것이다.
증착용 마스크(620)의 클램핑부(622)가 제1 방향으로 인장된 상태로 프레임(도 4의 110 참조)에 결함됨으로써, 도 3에 나타난 증착용 마스크(120)와 같이 제1 방향 및 제2 방향을 따라 패턴부(621)가 규칙적으로 나란히 배치될 수 있는 효과는 동일하다.
이에 더해, 도 11의 증착용 마스크(620)는 대수의 패턴부(621)를 하나의 증착용 마스크(620)에 구현함으로써, 마스크 프레임 조립체(도 4의 MF)의 제작에 필요한 증착용 마스크(620)의 개수를 획기적으로 줄일 수 있으며, 이에 따라 증착용 마스크(620)의 제작에 필요한 시간을 단축시킬 수 있다.
예를 들어, 기판(도 4의 S)에 증착 물질을 증착시키기 위해 증착용 마스크(620)는 패턴부(621)를 복수개 구비할 필요가 있는데, 도 1 내지 3 및 도 11에 나타난 증착용 마스크(120)(620)는 하나의 증착용 마스크(120)(620)에 다열의 패턴부를 구비함으로써 클램핑부(122)(622)를 제1 방향으로 인장시켜 프레임(110)에 결합하는데 필요한 증착용 마스크(120)(620)의 개수를 줄일 수 있으며, 이에 따라 증착용 마스크(120)(620)의 제작에 필요한 시간을 단축시킬 수 있다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
20: 표시 장치 123: 클램핑홀
100: 표시 장치의 제조 장치 130: 증착원
110: 프레임 140: 챔버
120: 증착용 마스크 150: 서포터
121: 패턴부 160: 정전척
121h: 패턴홀 170: 비전부
122: 클램핑부 180: 압력조절부

Claims (19)

  1. 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부;
    클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부; 및
    상기 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈;을 포함하고,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고,
    서로 인접하는 상기 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 상기 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은, 증착용 마스크.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성되는, 증착용 마스크.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 상기 패턴부의 각 모서리는 라운드진, 증착용 마스크.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 간격 및 상기 제2 간격은 각각 일정한, 증착용 마스크
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커지는, 증착용 마스크.
  6. 기판과 대향하도록 배치되는 마스크 프레임 조립체; 및
    상기 마스크 프레임 조립체에 대향하도록 배치되어 상기 마스크 프레임 조립체를 향하는 방향으로 증착 물질을 분사하는 증착원;을 포함하고,
    상기 마스크 프레임 조립체는,
    중앙에 개구부를 갖는 프레임과,
    상기 기판에 대향하도록 배치되고, 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되어 상기 프레임에 설치되는 증착용 마스크를 포함하며,
    상기 증착용 마스크는,
    상기 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와,
    상기 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와,
    상기 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고,
    서로 인접하는 상기 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 상기 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은, 표시 장치의 제조 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성되는, 표시 장치의 제조 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 상기 패턴부의 각 모서리는 라운드진, 표시 장치의 제조 장치.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 간격 및 상기 제2 간격은 각각 일정한, 표시 장치의 제조 장치.
  10. 제6 항에 있어서,
    상기 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커지는, 표시 장치의 제조 장치.
  11. 제6 항에 있어서,
    상기 클램핑부는 상기 증착용 마스크가 상기 프레임에 설치되면서 제거되는, 표시 장치의 제조 장치.
  12. 제6 항에 있어서,
    상기 증착용 마스크의 상기 클램핑부가 상기 제1 방향으로 인장된 상태에서,
    상기 제1 간격은 상기 제2 간격과 실질적으로 대응하는, 표시 장치의 제조 장치.
  13. 챔버 내부에 마스크 프레임 조립체와 기판을 장입하는 단계;
    상기 마스크 프레임 조립체와 상기 기판이 대향하도록 배치 및 정렬하는 단계;
    정전척으로 상기 마스크 프레임 조립체에 인력을 가해 상기 마스크 프레임 조립체를 상기 기판 측으로 밀착하는 단계; 및
    증착원에서 분사되는 증착 물질을 상기 마스크 프레임 조립체로 통과시켜 상기 기판 상에 상기 증착 물질을 증착하는 단계;를 포함하고,
    상기 마스크 프레임 조립체는,
    중앙에 개구부를 갖는 프레임과,
    상기 기판에 대향하도록 배치되고, 양단부가 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되어 상기 프레임에 설치되는 증착용 마스크를 포함하며,
    상기 증착용 마스크는,
    상기 증착 물질을 통과시키는 복수개의 패턴홀을 구비하는 패턴부와,
    상기 클램프에 의해 클램핑된 상태로 제1 방향으로 인장되는 클램핑부와,
    상기 클램프에 의해 인장되지 않는 클램핑홈을 포함하고,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 복수개가 배치되며,
    상기 패턴부는 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑부와 중첩되는 복수개의 제1 패턴부와, 상기 제1 방향을 기준으로 상기 클램핑홈과 중첩되는 복수개의 제2 패턴부를 포함하고,
    서로 인접하는 상기 제1 패턴부들 사이의 제1 간격은 서로 인접하는 상기 제2 패턴부들 사이의 제2 간격보다 더 좁은, 표시 장치의 제조 방법.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 패턴부는 사각형, 원형 및 타원형 중 하나의 형태로 형성되는, 표시 장치의 제조 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 패턴부가 사각형의 형태로 형성될 경우 상기 패턴부의 각 모서리는 라운드진, 표시 장치의 제조 방법.
  16. 제13 항에 있어서,
    상기 제1 간격 및 상기 제2 간격은 각각 일정한, 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제13 항에 있어서,
    상기 제2 간격은 중앙으로부터 양단부로 갈수록 점진적으로 커지는, 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제13 항에 있어서,
    상기 클램핑부는 상기 증착용 마스크가 상기 프레임에 설치되면서 제거되는, 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제13 항에 있어서,
    상기 증착용 마스크의 상기 클램핑부가 상기 제1 방향으로 인장된 상태에서,
    상기 제1 간격은 상기 제2 간격과 실질적으로 대응하는, 표시 장치의 제조 방법.
KR1020160121518A 2016-09-22 2016-09-22 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 KR20180032717A (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160121518A KR20180032717A (ko) 2016-09-22 2016-09-22 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
US15/671,250 US10964889B2 (en) 2016-09-22 2017-08-08 Deposition mask, deposition apparatus using the same, and method of manufacturing display apparatus using the same
CN201710846890.1A CN107871826B (zh) 2016-09-22 2017-09-19 沉积掩模、沉积装置及制造显示装置的方法
US17/215,055 US20210217957A1 (en) 2016-09-22 2021-03-29 Deposition mask, deposition apparatus using the same, and method of manufacturing display apparatus using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160121518A KR20180032717A (ko) 2016-09-22 2016-09-22 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20180032717A true KR20180032717A (ko) 2018-04-02

Family

ID=61620677

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160121518A KR20180032717A (ko) 2016-09-22 2016-09-22 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법

Country Status (3)

Country Link
US (2) US10964889B2 (ko)
KR (1) KR20180032717A (ko)
CN (1) CN107871826B (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206706184U (zh) * 2017-05-12 2017-12-05 京东方科技集团股份有限公司 掩模板以及掩模片
KR102514115B1 (ko) * 2018-06-12 2023-03-28 삼성디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체
KR102559894B1 (ko) * 2018-06-15 2023-07-27 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리, 이를 포함하는 증착설비, 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법
KR20200038343A (ko) * 2018-10-02 2020-04-13 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR20200038345A (ko) * 2018-10-02 2020-04-13 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치
KR102083947B1 (ko) * 2019-05-24 2020-04-24 주식회사 케이피에스 하이브리드 스틱 마스크와 이의 제조 방법, 하이브리드 스틱 마스크를 포함하는 마스크 조립체 및 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치
KR20210032586A (ko) * 2019-09-16 2021-03-25 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법
KR20210107217A (ko) * 2020-02-21 2021-09-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조장치, 마스크 어셈블리의 제조방법, 및 표시 장치의 제조방법
KR20210113496A (ko) * 2020-03-06 2021-09-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이의 제조 방법
KR20210113526A (ko) * 2020-03-06 2021-09-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크의 제조 방법, 이에 따라 제조된 마스크 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법
CN111394692B (zh) * 2020-05-09 2022-05-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
KR20220004893A (ko) * 2020-07-03 2022-01-12 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
CN114392896A (zh) * 2021-12-31 2022-04-26 联想(北京)有限公司 配件及处理方法

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6943066B2 (en) * 2002-06-05 2005-09-13 Advantech Global, Ltd Active matrix backplane for controlling controlled elements and method of manufacture thereof
JP4173722B2 (ja) * 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
JP4170179B2 (ja) * 2003-01-09 2008-10-22 株式会社 日立ディスプレイズ 有機elパネルの製造方法および有機elパネル
US7214554B2 (en) * 2004-03-18 2007-05-08 Eastman Kodak Company Monitoring the deposition properties of an OLED
US7763114B2 (en) * 2005-12-28 2010-07-27 3M Innovative Properties Company Rotatable aperture mask assembly and deposition system
KR101192798B1 (ko) 2006-06-30 2012-10-18 엘지디스플레이 주식회사 섀도우 마스크 및 이를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법
KR101281909B1 (ko) * 2006-06-30 2013-07-03 엘지디스플레이 주식회사 박막 증착 장치
US20090311427A1 (en) * 2008-06-13 2009-12-17 Advantech Global, Ltd Mask Dimensional Adjustment and Positioning System and Method
KR20100035918A (ko) 2008-09-29 2010-04-07 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 제조 용 쉐도우 마스크
KR101117645B1 (ko) 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR101309864B1 (ko) * 2010-02-02 2013-09-16 엘지디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리
KR101742816B1 (ko) 2010-12-20 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR101837624B1 (ko) * 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR20130081528A (ko) * 2012-01-09 2013-07-17 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크 및 이를 이용한 증착 설비
KR102024853B1 (ko) * 2012-09-03 2019-11-05 삼성디스플레이 주식회사 단위 마스크 및 마스크 조립체
KR102000718B1 (ko) 2012-11-15 2019-07-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법
KR102002494B1 (ko) 2012-11-30 2019-07-23 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
JP6160356B2 (ja) * 2013-08-14 2017-07-12 ソニー株式会社 蒸着用マスクおよび表示装置の製造方法
KR102237428B1 (ko) 2014-02-14 2021-04-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR102316680B1 (ko) * 2014-11-24 2021-10-26 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 어셈블리와, 이의 제조 방법
CN204434720U (zh) 2015-01-09 2015-07-01 信利(惠州)智能显示有限公司 一种新型掩膜板结构
JP2016173460A (ja) * 2015-03-17 2016-09-29 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
JP7301497B2 (ja) * 2016-10-07 2023-07-03 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクが割り付けられた中間製品及び蒸着マスク
KR20180113675A (ko) 2017-04-06 2018-10-17 삼성디스플레이 주식회사 마스크 시트 및 마스크 조립체의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20210217957A1 (en) 2021-07-15
US10964889B2 (en) 2021-03-30
CN107871826A (zh) 2018-04-03
CN107871826B (zh) 2021-10-01
US20180083192A1 (en) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20180032717A (ko) 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
US10224350B2 (en) Mask for deposition, apparatus for manufacturing display apparatus having the same, and method of manufacturing display apparatus with manufacturing display apparatus having mask for deposition
KR102608420B1 (ko) 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102420460B1 (ko) 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102424976B1 (ko) 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR102631256B1 (ko) 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR20180017301A (ko) 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치, 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 및 표시 장치
KR102220427B1 (ko) 마스크 어셈블리, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
US20170133592A1 (en) Mask frame assembly, device for deposition including the same, and method of manufacturing display device
KR20170026960A (ko) 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102630638B1 (ko) 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR20180059606A (ko) 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180041294A (ko) 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR102411539B1 (ko) 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR20200096361A (ko) 마스크 조립체, 이를 포함하는 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR20160127888A (ko) 마스크 조립체, 마스크 조립체 제조방법 및 표시 장치 제조방법
KR20170049767A (ko) 마스크 어셈블리, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102388719B1 (ko) 박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법
KR20180113675A (ko) 마스크 시트 및 마스크 조립체의 제조방법
KR102300029B1 (ko) 마스크 프레임 조립체와 이의 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
CN110241381B (zh) 掩模组装体及掩模组装体、显示装置的制造方法
KR102322012B1 (ko) 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법
KR102427674B1 (ko) 마스크 조립체 및 이를 이용한 표시 장치의 제조장치
KR20230016097A (ko) 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
KR102354385B1 (ko) 마스크 조립체 및 이를 포함하는 증착 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application