KR102388719B1 - 박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법 - Google Patents

박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임에 결합되는 박막 증착용 마스크에 있어서, 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀이 형성되는 패턴부와, 프레임과 결합되는 용접부와, 패턴부와 용접부를 연결하는 연결부를 포함하고, 패턴부의 두께는 용접부의 두께보다 얇고, 연결부는 패턴부와 상기 용접부를 잇는 경사면을 포함하는 박막 증착용 마스크를 개시한다.

Description

박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법{Mask for thin film deposition, method for manufacturing thereof, and method for manufacturing a display apparatus using the same}
본 발명의 실시예들은 박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로 평판 디스플레이 중의 하나인 유기 발광 표시 장치는 능동 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 저전압으로 구동이 가능하며, 경량의 박형이면서 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시 소자로서 주목을 받고 있다.
이러한 발광 소자는 발광층을 형성하는 물질에 따라 무기 발광 소자와 유기 발광 소자로 구분되는데, 유기 발광 소자는 무기 발광 소자에 비해 휘도, 응답속도 등의 특성이 우수하고, 컬러 디스플레이가 가능하다는 장점을 가지고 있어 최근 그 개발이 활발하게 진행되고 있다.
유기 발광 표시 장치는 유기막 및/또는 전극을 진공 증착법에 의해 형성한다. 그러나 유기 발광 표시 장치가 점차 고해상화 됨에 따라 증착 공정 시 사용되는 마스크의 오픈 슬릿(open slit)의 폭이 점점 좁아지고 있으며, 그 산포(distribution) 또한 점점 더 감소될 것이 요구되고 있다.
또한, 고해상도 유기 발광 표시 장치를 제작하기 위해서는 쉐도우 현상(shadow effect)을 저감하거나 제거할 것이 요구된다. 그에 따라, 디스플레이 기판과 마스크를 밀착시킨 상태에서 증착 공정을 진행하고 있으며, 디스플레이 기판과 마스크의 밀착도를 향상시키기 위한 기술의 개발이 대두되고 있다.
전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 실시예들의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 실시예들의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
일반적으로, 박막 증착용 마스크의 두께가 얇아질수록, 박막 증착용 마스크와 프레임의 용접 시 용접 강도가 약해짐에 따라 박막 증착용 마스크를 사용할 때나 교체할 때 파손될 가능성이 높다. 또한, 박막 증착용 마스크와 프레임의 용접 시 박막 증착용 마스크에는 소정의 인장력이 가해지는데, 이러한 경우 얇은 두께를 갖는 박막 증착용 마스크의 낮은 강성으로 인해 박막 증착용 마스크가 변형될 가능성이 높다.
이를 해결하기 위해 용접부의 두께를 패턴부보다 두껍게 형성한다고 하더라도, 용접부와 패턴부의 급격한 두께 차이로 인해 박막 증착용 마스크의 디스플레이 기판의 밀착을 위해 마그넷 플레이트를 이용할 시 박막 증착용 마스크와 기판 사이에 척력이 발생하여 박막 증착용 마스크와 기판 사이에 소정의 공간이 형성되며, 이로 인해 쉐도우 현상이 발생한다.
이러한 문제점들을 해결하기 위해, 본 발명의 실시예들은 박막 증착용 마스크와 프레임의 용접 강도와, 박막 증착용 마스크와 디스플레이 기판의 밀착성을 향상시킬 수 있는 박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시예는 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임에 결합되는 박막 증착용 마스크에 있어서, 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀이 형성되는 패턴부와, 프레임과 결합되는 용접부와, 패턴부와 용접부를 연결하는 연결부를 포함하고, 패턴부의 두께는 용접부의 두께보다 얇고, 연결부는 패턴부와 상기 용접부를 잇는 경사면을 포함하는 박막 증착용 마스크를 개시한다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.025 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.045 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부와 용접부 및 연결부는 제1차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제1 도금층을 포함하고, 용접부와 상기부는 제2차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제2 도금층을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 도금층은 제1 도금층 상에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 경사면은 연결부의 제2 도금층에 형성될 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 전주도금(electroforming)에 의해 전극판 상에 금속을 도금함으로써 패턴부와 용접부 및 연결부를 포함하는 박막 증착용 마스크를 제조하는 방법에 있어서, 전극판에 패턴부와, 용접부가 형성될 용접 영역 및 연결부가 형성될 연결 영역을 포함하는 제1 도금층을 도금하는 단계와, 제1 도금층의 패턴부에 부도체(non-conductor)를 포함하는 구조체를 접촉시키는 단계와, 구조체와 접촉하는 패턴부를 제외한 나머지 제1 도금층의 용접 영역과 연결 영역에 제2 도금층을 도금하여, 접 영역에 용접부를 형성하고, 연결 영역에 연결부를 형성하는 단계를 포함하고, 구조체는 패턴부와 접촉 시 용접 영역 및 연결 영역과 소정 간격 이격되는 경사면을 포함하며, 연결 영역에 도금되는 상기 제2 도금층은 경사면에 대응하는 형상을 가지며, 패턴부의 두께는 용접부의 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 박막 증착용 마스크의 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.025도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.045도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 도금층을 도금하는 단계 이후에, 전극판을 제1 도금층으로부터 분리하고, 구조체를 제1 도금층 및 제2 도금층으로부터 분리하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 전극판을 제1 도금층으로부터, 구조체를 제1 도금층 및 제2 도금층으로부터 분리하는 단계 이후에, 패턴부에 레이저 빔을 조사하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 전극판을 제1 도금층으로부터, 구조체를 제1 도금층 및 제2 도금층으로부터 분리하는 단계 이후에, 패턴부와 용접부 및 연결부에 포토레지스트층을 도포하는 단계와, 포토레지스트층을 노광시키는 단계와, 포토레지스트층을 현상하여 패턴부에 배치되는 에칭 영역을 외부에 노출시키는 단계와, 에칭 영역을 습식식각(wet etching)하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예는 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임에 결합되는 박막 증착용 마스크를 이용하여 제조되는 표시 장치의 제조 방법에 있어서, 디스플레이 기판과 박막 증착용 마스크를 챔버 내부로 장입시키는 단계와, 증착원에서 분사되는 증착물질을 박막 증착용 마스크로 통과시켜 디스플레이 기판에 증착물질을 성막시키는 단계를 포함하고, 박막 증착용 마스크는, 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀이 형성되는 패턴부와, 프레임과 결합되는 용접부와, 패턴부와 용접부를 연결하는 연결부를 포함하고, 패턴부의 두께는 용접부의 두께보다 얇고, 용접부는 패턴부와 용접부를 잇는 경사면을 포함하는 표시 장치의 제조 방법을 개시한다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.025 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 경사면의 경사 각도는 0.045 이상 10도 이하인 것을 특징으로 할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 패턴부와 용접부 및 연결부는 제1차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제1 도금층을 포함하고, 용접부와 연결부는 제2차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제2 도금층을 포함할 수 있다.
본 실시예에 있어서, 제2 도금층은 제1 도금층 상에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 경사면은 연결부의 제2 도금층에 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 복수개의 패턴홀은 패턴부에 조사되는 레이저 빔에 의해 패턴부의 일부가 식각되어 형성될 수 있다.
본 실시예에 있어서, 복수개의 패턴홀은 습식식각(wet etching)에 의해 패턴부의 일부가 식각되어 형성될 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
본 발명의 실시예들에 관한 박막 증착용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 표시 장치 제조 방법에 따르면, 박막 증착용 마스크와 프레임의 용접 시 박막 증착용 마스크의 변형이나 파손을 방지할 수 있는 수준의 강성을 갖는 박막 증착용 마스크를 제조할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예들에 의하면 박막 증착용 마스크와 디스플레이 기판을 최대한 밀착시킬 수 있어, 쉐도우 현상 없이 고정밀의 패턴으로 증착물질을 디스플레이 기판에 증착시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예들에 의하면 고해상도의 표시 장치를 제조할 수 있다.
물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크를 도시하는 사시도이다.
도 2는 도 1의 박막 증착용 마스크를 정면 및 측면에서 각각 바라본 모습을 나타내는 정면도 및 측면도이다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 증착용 마스크의 제조 방법을 설명하기 위해 각각의 단계를 순차적으로 나타내는 개념도이다.
도 9는 도 1의 박막 증착용 마스크를 포함하는 증착 장치를 개략적으로 나타내는 개념도이다.
도 10은 도 9의 증착 장치를 통해 제조된 표시 장치를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 11은 도 10의 VI-VI선을 따라 취한 단면도이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다. 또한, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수개의 표현을 포함한다. 또한, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
이하의 실시예에서, 막, 영역, 구성 요소 등의 부분의 다른 부분 위에 또는 상에 있다고 할 때, 다른 부분의 바로 위에 있는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성 요소 등이 개재되어 있는 경우도 포함된다. 또한, 본 명세서에서 막, 영역, 구성요소 등이 전기적으로 연결되었다고 할 때, 막, 영역, 구성요소 등이 직접 전기적으로 연결되는 경우뿐만 아니라, 그 중간에 다른 막, 영역, 구성요소 등이 개재되어 간접적으로 전기적으로 연결되는 경우도 포함한다.
또한, 도면에서는 설명의 편의를 위하여 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다. 예컨대, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
또한, 어떤 실시예가 달리 구현 가능한 경우에 특정한 공정 순서는 설명되는 순서와 다르게 수행될 수도 있다. 예를 들어, 연속하여 설명되는 두 공정이 실질적으로 동시에 수행될 수도 있고, 설명되는 순서와 반대의 순서로 진행될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크를 도시하는 사시도이고, 도 2는 도 1의 박막 증착용 마스크를 정면 및 측면에서 각각 바라본 모습을 나타내는 정면도 및 측면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 박막 증착용 마스크(100)는 패턴부(110)와 용접부(120) 및 연결부(130)를 포함할 수 있다.
박막 증착용 마스크(100)는 자성을 띤 박판(thin film)으로, 바람직하게는 인바합급(invar alloy)로 형성될 수 있다. 도 1 및 도 2에 도시된 박막 증착용 마스크(100)는 스틱(stick) 형태로, 도 9에 도시된 프레임(140) 상에 박막 증착용 마스크(100)의 폭 방향으로 복수개가 나린히 배치되고, 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임(140)에 결합될 수 있다.
구체적으로, 패턴부(110)는 증착물질을 일정한 패턴으로 통과시키는 복수개의 패턴홀(111)을 포함할 수 있다. 그리고, 용접부(120)는 박막 증착용 마스크(100)를 프레임(도 9의 140 참조)에 결합시키는 박막 증착용 마스크(100)의 양단부에 해당한다.
일반적으로, 고해상도 디스플레이를 구현하기 위해서는 패턴홀(111)의 밀도가 높아져야 하는데, 이를 위해서는 얇은 두께를 갖는 박막 증착용 마스크(100)가 필요하다.
하지만, 박막 증착용 마스크(100)의 두께가 얇아질수록(도면에 도시되지는 않았으나, 용접부(120)의 두께가 패턴부(110)의 두께와 실질적으로 동일할 경우), 박막 증착용 마스크(100)와 프레임(140)의 용접 시 용접 강도가 약해 박막 증착용 마스크(100)가 쉽게 파손될 위험성이 있다. 따라서, 고해상도 디스플레이를 구현하기 위해서는 패턴홀(111)이 형성되는 패턴부(110)의 두께는 최대한 얇게 형성하되, 프레임(140)과 용접되는 용접부(120)의 두께는 패턴부(110)에 비해서는 두껍게 형성함으로써 박막 증착용 마스크(100)의 프레임(140)의 용접 강도를 높여, 박막 증착용 마스크(100)가 프레임(140)으로부터 쉽게 분리되거나 파손되는 것을 방지할 수 있다.
하지만, 상술한 바와 같이 패턴부(110)와 용접부(120)의 두께가 다르게 형성될 경우, 패턴부(110)와 용접부(120)의 경계면에서는 급격한 두께 차이가 발생하게 된다. 이러한 구조를 채용할 경우, 실제 증착 공정에서 박막 증착용 마스크(100)와 디스플레이 기판(도 9의 21 참조)을 밀착시키기 위해 박막 증착용 마스크(100)에 가해지는 자기력(후술하겠으나, 도 9의 기판지지부(14)에 의해 발생하는 자기력을 의미)에 의해 패턴부(110)와 용접부(120)의 경계면에 디스플레이 기판(21)에 대한 강한 척력이 발생하는 문제점이 추가로 발생할 수 있다.
즉, 용접부(120)의 두께를 패턴부(110)의 두께보다 두껍게 형성할 경우에는 용접부(120)를 프레임(140)에 결합하는 데 유리하나, 동시에 증착 공정 시 디스플레이 기판(21)과 박막 증착용 마스크(100)를 밀착시키는 데 있어서는 불리하다는 단점이 존재한다. 이렇게 패턴부(110)와 용접부(120)의 경계면에서 발생하는 디스플레이 기판(21)에 대한 척력에 의해 박막 증착용 마스크(100)는 디스플레이 기판(21)에 대해 소정 간격 들뜨는 현상이 발생하며, 이러한 들뜸 현상에 따라 패턴홀(111)을 통과한 증착물질이 디스플레이 기판(21)의 소망한 영역에 정확하게 성막되지 못하는 쉐도우(shadow) 현상이 발생할 수 있다.
상술한 문제점들을 해결하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크(100)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 패턴부(110)와 용접부(120)를 연결하되, 패턴부(110)와 용접부(120)를 잇는 경사면(IP)을 포함하는 연결부(130)를 구비할 수 있다.
구체적으로, 패턴부(110)는 제1 두께(t1)를 가지며, 용접부(120)는 제1 두께(t1)보다 두꺼운 제2 두께(t2)를 가지도록 형성될 수 있다. 그리고, 연결부(130)는 이러한 제1 두께(t1)를 갖는 패턴부(110)와, 제1 두께(t1)보다 두꺼운 제2 두께(t2)를 갖는 용접부(120)를 잇는 경사면(IP)을 포함함으로써, 패턴부(110)와 용접부(120) 사이에 급격한 두께 변화가 발생하지 않도록 패턴부(110)와 용접부(120)를 서로 연결할 수 있다.상세히, 연결부(130)의 길이(t3)를 약 20mm로 설계할 경우, 고해상도 디스플레이 구현을 위해 패턴부(110)와 용접부(120)의 높이 차이, 즉 제2 두께(t2)와 제1 두께(t1)의 차이(t2-t1)는 15㎛로 설계하는 것이 바람직하다. 이러한 구조에 따르면, 연결부(130)에서 경사면(IP)의 각도는 약 0.045도로 형성될 수 있으나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다.
예컨대, 제2 두께(t2)와 제1 두께(t1)의 차이(t2-t1)를 10㎛로 설계할 경우에는 경사면(IP)의 각도는 약 0.025도로 형성될 수도 있다. 즉, 경사면(IP)의 각도는 패턴부(110)와 용접부(120)의 두께 차이(t2-t1)와 연결부(130)의 길이(t3)를 박막 증착용 마스크(100)의 설계 시 어떻게 결정하느냐에 따라 결정될 수 있다. 다만, 이하에서는 패턴부(110)와 용접부(120)의 높이 차이(t2-t1)는 15㎛로, 그리고 연결부(130)의 길이는 20mm로 설계되어 경사면(IP)의 각도는 약 0.045도인 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
즉, 패턴부(110)와 용접부(120)를 경사면(IP)을 갖는 연결부(130)로 서로 연결함으로써, 패턴부(110)와 용접부(120) 사이의 급격한 두께 변화에 의해 발생할 수 있는 쉐도우 현상을 방지할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
또한, 연결부(130)는 박막 증착용 마스크(100)의 양단부를 클램프(미도시)로 클램핑하여 인장한 상태로 프레임(140)에 용접하는 공정에서, 박막 증착용 마스크(100)에 가해지는 인장력을 완충하는 역할을 할 수도 있다. 이에 따라, 박막 증착용 마스크(100)에 가해지는 인장력에 의해 패턴부(110)가 변형되는 것을 방지할 수 있으며, 결과적으로 패턴홀(111)의 변형을 방지함으로써 디스플레이 기판(21) 상의 목표한 위치에 고정밀의 패턴으로 증착물질을 증착할 수 있다.
상세히, 패턴부(110)와 용접부(120) 및 연결부(130)는 전주도금(electroforming)으로 형성될 수 있다. 후술하겠으나, 패턴부(110)와 용접부(120) 및 연결부(130)는 제1차 전주도금에 의해 형성되는 제1 도금층(도 8의 PL_1 참조)을 포함할 수 있다. 또한, 용접부(120) 및 연결부(130)는 제2차 전주도금에 의해 형성되는 제2 도금층(PL_2)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 도금층(PL_1)과 제2 도금층(PL_2)은 동일한 소재로 형성될 수 있으나, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않는다. 예컨대, 제1 도금층(PL_2)과 제2 도금층(PL_2)은 서로 다른 소재로 형성될 수도 있으나, 이하에서는 제1 도금층(PL_1)과 제2 도금층(PL_2)이 동시에 인바합금으로 구성된 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
이하, 도 3 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크(100)를 제조하는 방법에 대해 설명하기로 한다.
도 3 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막 증착용 마스크의 제조 방법을 설명하기 위해 각각의 단계를 순차적으로 나타내는 개념도이다.
먼저, 도 3에 도시된 바와 같이 전극판(EP)을 준비한다. 이때, 전극판(EP)은 서스(SUS, stainless steel)류의 금속일 수 있다.
도 4를 참조하면, 전극판(EP) 상에 제1 도금층(PL_1)을 도금한다. 여기서, 제1 도금층(PL_1)은 전주도금(electroforming)에 의해 전극판(EP) 상에 도금될 수 있으며, 패턴부(110)와, 용접부(120)가 형성될 용접 영역(WA)과 연결부(130)가 형성될 연결 영역(CA)을 포함할 수 있다.
다음으로, 도 5를 참조하면, 제1 도금층(PL_1)의 패턴부(110)에 구조체(ST)를 접촉시킨다. 여기서, 구조체(ST)는 전기를 통하지 않는 부도체(non-condunctor)를 포함하고, 이에 따라 후술할 제2 도금층(PL_2)은 제1 도금층(PL_1) 상에만 도금되며, 이때 구조체(ST)는 제1 도금층(PL_1) 상에 제2 도금층(PL_2)이 도금되는 경계면을 제공할 수 있다.
구체적으로, 구조체(ST)는 제1 도금층(PL_1)의 패턴부(110)와는 전면 접촉하도록 배치되며, 제1 도금층(PL_1)의 용접 영역(WA)과 연결 영역(CA)과는 소정 간격 이격되는 경사면(IL)을 구비할 수 있다. 이러한 구조에 따라, 연결 영역(CA)에 도금되는 제2 도금층(PL_2)은 구조체(ST)의 경사면(IL)에 대응하는 형상을 가질 수 있다.
여기서, 경사면(IL)의 경사 각도(θ)는 0.025도 이상 10도 이하일 수 있으며 더욱 바람직하게는 0.045도 이상 10도 이하일 수 있다. 만약, 경사면(IL)의 경사 각도(θ)가 0.025도 미만일 경우에는 실질적으로 경사면(IL)을 갖는 연결부(130)를 통해 패턴부(110)와 용접부(120)를 잇는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크(100)의 기대되는 효과를 얻을 수 없다. 즉, 경사면(IL)의 경사 각도(θ)가 0.025도 미만일 경우에는 연결부(130)의 경사면(도 2의 IP) 또한 0.025도 미만으로 형성되는 것을 의미하며, 이러한 구조는 실질적으로 연결부(130) 없이 패턴부(110)와 용접부(120)가 연결되고, 또한 패턴부(110)와 용접부(120)의 두께 차이가 거의 없다는 것을 의미한다. 즉, 구조체(ST)의 경사면(IL)의 경사 각도(θ)가 0.025도 미만일 경우에는 본 발명의 실시예들에 의해 기대하는 효과를 얻을 수 없다.
한편, 경사면(IL)의 경사 각도(θ)가 10도를 초과할 경우, 경사면(IP)을 갖는 연결부(130)로 패턴부(110)와 용접부(120)를 연결함으로써 얻을 수 있는 효과를 기대할 수 없다. 즉, 경사면(IL)의 경사 각도(θ)가 10도를 초과할 경우, 상술한 바와 같이 박막 증착용 마스크(100)를 디스플레이 기판(21)에 밀착시키려 할 경우 패턴부(110)와 용접부(120)의 두께 차이로 인해 발생하는 척력을 방지할 수 없게 된다. 따라서, 상술한 바와 같이 구조체(ST)의 경사면(IL)은 0.025도 이상 10도 이하로 형성됨이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 경사면(IL)은 0.045도 이상 10도 이하로 형성되는 것이 바람직하다.
다음으로, 도 6을 참조하면, 구조체(ST)와 접촉하는 패턴부(110)를 제외한 나머지 제1 도금층(PL_1)의 용접 영역(WA)과 연결 영역(CA)에 제2 도금층(PL_2)을 도금하여, 용접 영역(WA)에는 용접부(120)를 형성하고, 연결 영역(CA)에는 연결부(130)를 형성할 수 있다. 여기서, 제2 도금층(PL_2) 또한 전주도금에 의해 제1 도금층(PL_1) 상에 도금될 수 있다.
상세히, 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 도금층(PL_2)은 구조체(ST)와 제1 도금층(PL_1)사이에 허용되는 공간에 도금될 수 있으며, 이때 연결 영역(CA)에 도금되는 제2 도금층(PL_2)에는 이후 구조체(ST)와 전극판(EP)을 분리한 이후, 박막 증착용 마스크(100)의 연결부(130)에 구비되는 경사면(도 1의 IP 참조)으로 형성될 수 있다.
도 7은 제1 도금층(PL_1)과 제2 도금층(PL_2)을 순차적으로 도금한 이후, 전극판(EP)을 제1 도금층(PL_1)으로부터 분리하고, 구조체(ST)를 제1 도금층(PL_1) 및 제 2 도금층(PL_2)으로부터 분리하여 박막 증착용 마스크의 모재(100m)를 제조한 모습을 나타낸다.
도 8은 박막 증착용 마스크의 모재(100m)에 패턴홀(111)이 가공된 모습을 나타낸다. 예컨대, 전극판(EP)을 제1 도금층(PL_1)으로부터, 구조체(ST)를 제1 도금층(PL_1) 및 제2 도금층(PL_2)으로부터 분리하여 박막 증착용 마스크의 모재(100m)를 마련한 이후, 패턴부(110)에 레이저 빔(미도시)을 조사하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀(111)을 형성할 수 있다.
한편, 또 다른 예시로써 패턴홀(111)은 습식식각(wet etching)으로도 형성될 수 있다. 즉, 전극판(EP)을 제1 도금층(PL_1)으로부터, 구조체(ST)를 제1 도금층(PL_1) 및 제2 도금층(PL_2)으로부터 분리하여 박막 증착용 마스크의 모재(100m)를 마련한 이후, 패턴부(110)와 용접부(120) 및 연결부(130) 상에 포토레지스트층(미도시)을 도포하고, 포토마스크(미도시)를 배치하여 포토마스크에 의해 가려지지 않은 포토레지스트층의 일부를 빛(UV 또는 레이저)으로 노광(light exposure)시킨 후, 포토레지스트층을 현상하여 패턴부(110)에 배치되는 에칭 영역을 외부에 노출하는 단계를 순차적으로 거친 이후, 에칭 영역을 습식식각하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀(111)을 형성할 수 있다.
구체적으로, 포토레지스트층을 노광 및 현상하는 단계는 네거티브(negative) 방식 또는 포지티브(positive) 방식으로 수행될 수 있다. 예컨대, 네거티브 방식의 경우 노광된 포토레지스트층은 이후 현상 과정에서 잔류(노광되지 않은 포토레지스트층의 일부는 제거됨)하며, 반대로 포지티브 방식의 경우 노광된 포토레지스트층은 이후 현상 과정에서 현상(식각)(노광되지 않은 포토레지스트층의 일부는 잔류함)되어 제거될 수 있다.
즉, 패턴부(110)에 배치되는 에칭 영역은 포토레지스트층의 노광 및 현상 단계에서 제거된 포토레지스트층의 일부를 의미하며, 에칭 영역에 해당하는 패턴부(110)의 일부는 외부로 노출될 수 있다. 따라서, 에칭 영역에 위치하는 패턴부(110)의 일부가 습식식각에 의해 패턴홀(111)로 가공될 수 있다.
도 9는 도 1의 박막 증착용 마스크를 포함하는 증착 장치를 개략적으로 나타내는 개념도이다.
도 9를 참조하면, 표시 장치의 제조 장치(10)는 챔버(11), 마스크조립체지지부(12), 비전부(13), 기판지지부(14), 증착원(15), 흡입부(16) 및 박막 증착용 마스크(100)를 포함할 수 있다.
박막 증착용 마스크(100)는 상술한 바와 같이 패턴부(110)와, 용접부(120) 및 연결부(130)를 포함할 수 있으며, 용접부(120)는 프레임(140)과 결합될 수 있다. 이러한 박막 증착용 마스크(100)는 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명한 것과 동일 또는 유사하므로 이를 원용하여 상세한 설명은 생략하기로 한다.
챔버(11)는 내부에 공간이 마련될 수 있으며, 일부가 개구되도록 형성될 수 있다. 이때, 챔버(11)의 개구된 부분에는 게이트 밸브(11a)가 설치되어 챔버(11)의 개구된 부분을 선택적으로 개방하거나 폐쇄할 수 있다.
마스크조립체지지부(12)는 증착원(15)과 박막 증착용 마스크(100)의 사이에 배치될 수 있다. 이때, 마스크조립체지지부(12)에는 박막 증착용 마스크(100)와 결합된 프레임(140)이 안착되어 지지될 수 있다. 또한, 마스크조립체지지부(12)는 XY 평면 상에서 박막 증착용 마스크(100)의 변위를 작은 범위 내에서 가변시킴으로써 박막 증착용 마스크(100)와 디스플레이 기판(21)을 정렬시킬 수 있다.
또한, 도면에 도시되지는 않았으나 마스크조립체지지부(12)는 별도의 승강구동부(미도시)에 연결되어 Z축 방향으로 승강 구동할 수 있다. 이러한 구조에 따라, 마스크조립체지지부(12)에 안착된 박막 증착용 마스크(100)는 디스플레이 기판(21) 측으로 상승하거나, 증착원(15)을 향하는 방향으로 하강할 수 있다.
비전부(13)는 카메라를 포함할 수 있다. 이때, 비전부(13)는 디스플레이 기판(21)과 박막 증착용 마스크(100)의 위치를 촬영하여 디스플레이 기판(21)과 박막 증착용 마스크(100)의 정렬 시 필요한 데이터를 제공할 수 있다.
기판지지부(14)는 디스플레이 기판(21)을 지지할 수 있다. 여기서, 기판지지부(14)는 디스플레이 기판(21)을 다양한 방식으로 지지할 수 있다. 예를 들면, 기판지지부(14)는 정전척(electrostatic chuck)이나, 소정의 자기력을 갖는 여러 개의 영구자석이나, 외부에서 공급되는 전력으로 인해 자기력을 발생시키는 전자석을 포함할 수 있다. 또한, 기판지지부(14)는 다른 실시예로써 디스플레이 기판(21)의 일부를 지지하는 브라켓, 클램프 등을 포함할 수 있다. 하지만, 본 발명의 실시예들은 이에 한정되지 않으며, 디스플레이 기판(21)을 지지할 수 있는 그 어떠한 장치도 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 기판지지부(14)가 정전척을 포함하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
또한, 도면에 도시되지는 않았으나 기판지지부(14)는 챔버(11) 내부에서 승강 구동이 가능하도록 별도의 승강구동부(미도시)에 연결되어 Z축 방향으로 승강할 수 있다. 즉, 기판지지부(14)는 증착 공정 시에는 디스플레이 기판(21) 측으로 이동하여 디스플레이 기판(21)의 상면에 접촉하는 수준까지 접근할 수 있으며, 증착 공정이 중지된 경우에는 디스플레이 기판(21)으로부터 멀어지는 방향으로 챔버(11) 내부에서 승강 이동할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 증착용 마스크(100)는 경사면(IP)을 갖는 연결부(130)를 포함하므로, 기판지지부(14)에 의해 디스플레이 기판(21) 측으로 밀착될 경우 종래 연결부(130)를 포함하지 않는 박막 증착용 마스크(미도시)의 패턴부(110)와 용접부(120) 사이의 급격한 두께 차이로 인해 발생하는 들뜸 현상이 발생하지 않는다.
이에 따라, 박막 증착용 마스크(100)와 디스플레이 기판(21)은 최대한 밀착된 상태를 유지할 수 있으며, 이러한 상태에서 증착 공정이 이루어질 경우 종래 연결부(130)를 포함하지 않는 박막 증착용 마스크(미도시)에서 발생하는 쉐도우 현상을 현저하게 저감시킬 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
증착원(15)은 내부에 증착물질을 수납할 수 있다. 이때, 증착물질은 승화 또는 기화 가능한 물질로 무기물, 금속 및 유기물 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 증착물질이 유기물인 경우를 중심으로 설명하기로 한다.
구체적으로, 증착원(15)은 박막 증착용 마스크(100)와 대향하도록 배치될 수 있으며, 박막 증착용 마스크(100)와 대향하도록 배치된 증착원(15)의 일부는 개구되도록 형성될 수 있다. 또한, 증착원(15)은 증착물질에 열을 가하는 히터(15a)를 포함할 수 있다.
흡입부(16)는 챔버(11)와 연결되어 챔버(11) 내부의 압력을 일정하게 유지시킬 수 있다. 이때, 흡입부(16)는 챔버(11)와 연결되는 연결배관(16a) 및 연결배관(16a)에 설치되는 펌프(16b)를 포함할 수 있다.
도 10은 도 9의 증착 장치를 통해 제조된 표시 장치를 개략적으로 나타내는 평면도이고, 도 11은 도 10의 VI-VI선을 따라 취한 단면도이다.
도 10 및 도 11을 참고하면, 표시 장치(20)는 디스플레이 기판(21) 상에서 표시 영역(DA)과 표시 영역(DA)의 외곽에 배치되는 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)에는 발광부(D)가 배치되고, 비표시 영역(NDA)에는 전원 배선(미도시) 등이 배치될 수 있다. 또한, 비표시 영역에는 패드부(C)가 배치될 수 있다.
표시 장치(20)는 디스플레이 기판(21) 및 발광부(D)를 포함할 수 있다. 또한, 표시 장치(20)는 발광부(D)의 상부에 형성되는 박막 봉지층(E) 을 포함할 수 있다. 이때, 디스플레이 기판(21)은 유리 재질을 사용할 수 있는 데, 반드시 이에 한정되지 않으며, 플라스틱재를 사용할 수도 있으며, SUS, Ti과 같은 금속재를 사용할 수도 있다. 또한, 디스플레이 기판(21)은 폴리이미드(PI, Polyimide)를 사용할 수 있다.
디스플레이 기판(21) 상에 발광부(D)가 형성될 수 있다. 이때, 발광부(D)에는 박막 트랜지스터(TFT)가 구비되고, 이들을 덮도록 패시베이션막(27)이 형성되며, 이 패시베이션막(27) 상에 유기 발광 소자(28)가 형성될 수 있다.
디스플레이 기판(21)의 상면에는 유기화합물 및/또는 무기화합물로 이루어진 버퍼층(22)이 더 형성되는 데, SiOx(x≥1), SiNx(x≥1)로 형성될 수 있다.
이 버퍼층(22) 상에 소정의 패턴으로 배열된 활성층(23)이 형성된 후, 활성층(23)이 게이트 절연층(24)에 의해 매립된다. 활성층(23)은 소스 영역(23a)과 드레인 영역(23b)을 갖고, 그 사이에 채널 영역(23b)을 더 포함한다.
이러한 활성층(23)은 다양한 물질을 함유하도록 형성될 수 있다. 예를 들면, 활성층(23)은 비정질 실리콘 또는 결정질 실리콘과 같은 무기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다른 예로서 활성층(23)은 산화물 반도체를 함유할 수 있다. 또 다른 예로서, 활성층(23)은 유기 반도체 물질을 함유할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 활성층(23)이 비정질 실리콘으로 형성되는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
이러한 활성층(23)은 버퍼층(22) 상에 비정질 실리콘막을 형성한 후, 이를 결정화하여 다결정질 실리콘막으로 형성하고, 이 다결정질 실리콘막을 패터닝하여 형성할 수 있다. 상기 활성층(23)은 구동 TFT(미도시), 스위칭 TFT(미도시) 등 TFT 종류에 따라, 그 소스 영역(23a) 및 드레인 영역(23b)이 불순물에 의해 도핑된다.
게이트 절연층(24)의 상면에는 활성층(23)과 대응되는 게이트 전극(25)과 이를 매립하는 층간 절연층(26)이 형성된다.
그리고, 층간 절연층(26)과 게이트 절연층(24)에 콘택홀(H1)을 형성한 후, 층간 절연층(26) 상에 소스 전극(27a) 및 드레인 전극(27b)을 각각 소스 영역(23a) 및 드레인 영역(23b)에 콘택되도록 형성한다.
이렇게 형성된 상기 박막 트랜지스터의 상부로는 패시베이션막(27)이 형성되고, 이 패시베이션막(27) 상부에 유기 발광 소자(28, OLED)의 화소 전극(28a)이 형성된다. 이 화소 전극(28a)은 패시베이션막(27)에 형성된 비아 홀(H2)에 의해 TFT의 드레인 전극(27b)에 콘택된다. 상기 패시베이션막(27)은 무기물 및/또는 유기물, 단층 또는 2개층 이상으로 형성될 수 있는 데, 하부 막의 굴곡에 관계없이 상면이 평탄하게 되도록 평탄화막으로 형성될 수도 있는 반면, 하부에 위치한 막의 굴곡을 따라 굴곡이 가도록 형성될 수 있다. 그리고, 이 패시베이션막(27)은, 공진 효과를 달성할 수 있도록 투명 절연체로 형성되는 것이 바람직하다.
패시베이션막(27) 상에 화소 전극(28a)을 형성한 후에는 이 화소 전극(28a) 및 패시베이션막(27)을 덮도록 화소 정의막(29)이 유기물 및/또는 무기물에 의해 형성되고, 화소 전극(28a)이 노출되도록 개구된다.
그리고, 적어도 상기 화소 전극(28a) 상에 중간층(28b) 및 대향 전극(28c)이 형성된다.
화소 전극(28a)은 애노드 전극의 기능을 하고, 대향 전극(28c)은 캐소드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 화소 전극(28a)과 대향 전극(28c)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.
화소 전극(28a)과 대향 전극(28c)은 상기 중간층(28b)에 의해 서로 절연되어 있으며, 중간층(28b)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기 발광층에서 발광이 이뤄지도록 한다.
중간층(28b)은 유기 발광층을 구비할 수 있다. 선택적인 다른 예로서, 중간층(28b)은 유기 발광층(organic emission layer)을 구비하고, 그 외에 정공 주입층(HIL: hole injection layer), 정공 수송층(HTL: hole transport layer), 전자 수송층(ETL: electron transport layer) 및 전자 주입층(EIL: electron injection layer) 중 적어도 하나를 더 구비할 수 있다. 본 실시예는 이에 한정되지 아니하고, 중간층(28b)이 유기 발광층을 구비하고, 기타 다양한 기능층(미도시)을 더 구비할 수 있다.
이때, 상기와 같은 중간층(28b)은 상기에서 설명한 표시 장치의 제조 장치(10)를 통하여 형성될 수 있다.
한편, 하나의 단위 화소는 복수의 부화소로 이루어지는데, 복수의 부화소는 다양한 색의 빛을 방출할 수 있다. 예를 들면 복수의 부화소는 각각 적색, 녹색 및 청색의 빛을 방출하는 부화소를 구비할 수 있고, 적색, 녹색, 청색 및 백색의 빛을 방출하는 부화소(미표기)를 구비할 수 있다.
한편, 상기와 같은 박막 봉지층(E)은 복수의 무기층들을 포함하거나, 무기층 및 유기층을 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E)의 상기 유기층은 고분자로 형성되며, 바람직하게는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴라카보네이트, 에폭시, 폴리에틸렌 및 폴리아크릴레이트 중 어느 하나로 형성되는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 더욱 바람직하게는, 상기 유기층은 폴리아크릴레이트로 형성될 수 있으며, 구체적으로는 디아크릴레이트계 모노머와 트리아크릴레이트계 모노머를 포함하는 모노머 조성물이 고분자화된 것을 포함할 수 있다. 상기 모노머 조성물에 모노아크릴레이트계 모노머가 더 포함될 수 있다. 또한, 상기 모노머 조성물에 TPO와 같은 공지의 광개시제가 더욱 포함될 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
박막 봉지층(E)의 상기 무기층은 금속 산화물 또는 금속 질화물을 포함하는 단일막 또는 적층막일 수 있다. 구체적으로, 상기 무기층은 SiNx, Al2O3, SiO2, TiO2 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
박막 봉지층(E) 중 외부로 노출된 최상층은 유기 발광 소자에 대한 투습을 방지하기 위하여 무기층으로 형성될 수 있다.
박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 적어도 하나 포함할 수 있다. 또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 적어도 2개의 무기층 사이에 적어도 하나의 유기층이 삽입된 샌드위치 구조 및 적어도 2개의 유기층 사이에 적어도 하나의 무기층이 삽입된 샌드위치 구조를 포함할 수도 있다.
박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층을 포함할 수 있다.
다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 제2 유기층, 제3 무기층을 포함할 수 있다.
또 다른 예로서, 박막 봉지층(E)은 상기 유기 발광 소자(OLED)의 상부로부터 순차적으로 제1 무기층, 제1 유기층, 제2 무기층, 상기 제2 유기층, 제3 무기층, 제3 유기층, 제4 무기층을 포함할 수 있다.
유기 발광 소자(OLED)와 제1 무기층 사이에 LiF를 포함하는 할로겐화 금속층이 추가로 포함될 수 있다. 상기 할로겐화 금속층은 제1 무기층을 스퍼터링 방식으로 형성할 때 상기 유기 발광 소자(OLED)가 손상되는 것을 방지할 수 있다.
제1 유기층은 제2 무기층 보다 면적이 좁게 할 수 있으며, 상기 제2 유기층도 제3 무기층 보다 면적이 좁을 수 있다.
따라서 표시 장치(20)는 정밀한 패턴을 형성하는 중간층(28b)을 구비하고, 중간층(28b)이 정확한 위치에 증착되어 형성됨으로써 정밀한 이미지 구현이 가능하다. 또한, 표시 장치(20)는 반복적으로 중간층(28b)을 증착하더라도 일정한 패턴을 형성함으로써 지속적인 생산에 따라 균일한 품질을 나타낸다.
이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 하여 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 실시예의 변형이 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
10: 표시 장치의 제조 장치 120: 용접부
20: 표시 장치 130: 연결부
100: 박막 증착용 마스크 140: 프레임
110: 패턴부 IP: 경사면
111: 패턴홀

Claims (20)

  1. 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임에 결합되는 박막 증착용 마스크에 있어서,
    증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀이 형성되는 패턴부;
    상기 프레임과 결합되는 용접부; 및
    상기 패턴부와 상기 용접부를 연결하는 연결부;를 포함하고,
    상기 패턴부의 두께는 상기 용접부의 두께보다 얇고,
    상기 연결부는 상기 패턴부와 상기 용접부를 연결하는 경사면을 포함하되,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.025도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 박막 증착용 마스크.
  2. 삭제
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.045 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 박막 증착용 마스크.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 패턴부와 상기 용접부 및 상기 연결부는 제1차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제1 도금층을 포함하고,
    상기 용접부와 상기 연결부는 제2차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제2 도금층을 포함하는, 박막 증착용 마스크.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제2 도금층은 상기 제1 도금층 상에 형성되는, 박막 증착용 마스크.
  6. 제4 항에 있어서,
    상기 경사면은 상기 연결부의 상기 제2 도금층에 형성되는, 박막 증착용 마스크.
  7. 전주도금(electroforming)에 의해 전극판 상에 금속을 도금함으로써 패턴부와 용접부 및 연결부를 포함하는 박막 증착용 마스크를 제조하는 방법에 있어서,
    상기 전극판에, 상기 패턴부와, 상기 용접부가 형성될 용접 영역 및 상기 연결부가 형성될 연결 영역을 포함하는 제1 도금층을 도금하는 단계;
    상기 제1 도금층의 상기 패턴부에 부도체(non-conductor)를 포함하는 구조체를 접촉시키는 단계; 및
    상기 구조체와 접촉하는 상기 패턴부를 제외한 나머지 상기 제1 도금층의 상기 용접 영역과 상기 연결 영역에 제2 도금층을 도금하여, 상기 용접 영역에 상기 용접부를 형성하고, 상기 연결 영역에 상기 연결부를 형성하는 단계;를 포함하고,
    상기 구조체는 상기 패턴부와 접촉 시 상기 용접 영역 및 상기 연결 영역과 소정 간격 이격되는 경사면을 포함하며,
    상기 연결 영역에 도금되는 상기 제2 도금층은 상기 경사면에 대응하는 형상을 가지며,
    상기 패턴부의 두께는 상기 용접부의 두께보다 얇으며,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.025도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 박막 증착용 마스크의 제조 방법.
  8. 삭제
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.045도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 박막 증착용 마스크의 제조 방법.
  10. 제7 항에 있어서,
    상기 제2 도금층을 도금하는 단계 이후에,
    상기 전극판을 상기 제1 도금층으로부터 분리하고, 상기 구조체를 상기 제1 도금층 및 상기 제2 도금층으로부터 분리하는 단계를 더 포함하는, 박막 증착용 마스크의 제조 방법.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 전극판을 상기 제1 도금층으로부터, 상기 구조체를 상기 제1 도금층 및 상기 제2 도금층으로부터 분리하는 단계 이후에,
    상기 패턴부에 레이저 빔을 조사하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀을 형성하는 단계를 더 포함하는, 박막 증착용 마스크의 제조 방법.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 전극판을 상기 제1 도금층으로부터, 상기 구조체를 상기 제1 도금층 및 상기 제2 도금층으로부터 분리하는 단계 이후에,
    상기 패턴부와, 상기 용접부 및 상기 연결부에 포토레지스트층을 도포하는 단계;
    상기 포토레지스트층을 노광시키는 단계;
    상기 포토레지스트층을 현상하여 상기 패턴부에 배치되는 에칭 영역을 외부에 노출시키는 단계;
    상기 에칭 영역을 습식식각(wet etching)하여 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀을 형성하는 단계를 더 포함하는, 박막 증착용 마스크의 제조 방법.
  13. 길이 방향으로 인장된 상태로 양단부가 프레임에 결합되는 박막 증착용 마스크를 이용하여 제조되는 표시 장치의 제조 방법에 있어서,
    디스플레이 기판과 박막 증착용 마스크를 챔버 내부로 장입시키는 단계; 및
    증착원에서 분사되는 증착물질을 상기 박막 증착용 마스크로 통과시켜 상기 디스플레이 기판에 상기 증착물질을 성막시키는 단계;를 포함하고,
    상기 박막 증착용 마스크는,
    상기 증착물질이 통과하는 복수개의 패턴홀이 형성되는 패턴부와,
    상기 프레임과 결합되는 용접부와,
    상기 패턴부와 상기 용접부를 연결하는 연결부를 포함하고,
    상기 패턴부의 두께는 상기 용접부의 두께보다 얇고,
    상기 연결부는 상기 패턴부와 상기 용접부를 연결하는 경사면을 포함하되,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.025도 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 표시 장치의 제조 방법.
  14. 삭제
  15. 제13 항에 있어서,
    상기 경사면의 경사 각도는 0.045 이상 10도 이하인 것을 특징으로 하는, 표시 장치의 제조 방법.
  16. 제13 항에 있어서,
    상기 패턴부와 상기 용접부 및 상기 연결부는 제1차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제1 도금층을 포함하고,
    상기 용접부와 상기 연결부는 제2차 전주도금(electroforming)에 의해 형성되는 제2 도금층을 포함하는, 표시 장치의 제조 방법.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 제2 도금층은 상기 제1 도금층 상에 형성되는, 표시 장치의 제조 방법.
  18. 제16 항에 있어서,
    상기 경사면은 상기 연결부의 상기 제2 도금층에 형성되는, 표시 장치의 제조 방법.
  19. 제13 항에 있어서,
    상기 복수개의 패턴홀은 상기 패턴부에 조사되는 레이저 빔에 의해 상기 패턴부의 일부가 식각되어 형성되는, 표시 장치의 제조 방법.
  20. 제13 항에 있어서,
    상기 복수개의 패턴홀은 습식식각(wet etching)에 의해 상기 패턴부의 일부가 식각되어 형성되는, 표시 장치의 제조 방법.
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