JP6252668B2 - 蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 152
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 152
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 116
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 116
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 11
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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Description
、露光、現像することで、金属板の表面にレジストパターンを形成し、当該レジストパターンを第1の樹脂マスクとする工程と、当該第1の樹脂マスクを耐エッチングマスクとして用いて金属板のみをエッチング加工することで金属マスクを形成する工程と、前記第1
の樹脂マスクおよび前記金属マスクに形成されたスリットを通してレーザーを照射して、前記樹脂板に蒸着作製するパターンに応じた開口部を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
図1は、本発明の一例である蒸着マスクを構成する第1の樹脂マスク、金属マスク、および第2の樹脂マスクを分解して示す概略斜視図であり、(a)は第1の樹脂マスク、(b)は金属マスク、(c)は第2の樹脂マスクである。図2(a)は、図1に示す本発明の蒸着マスクの金属マスク側から見た正面図であり、図2(b)図1に示す蒸着マスクの概略断面図である。図3は、図1に示す蒸着マスクの拡大断面図である。なお、図1〜3ともに、金属マスクの設けられたスリットおよび蒸着マスクに設けられた開口部を強調するため、全体に対する比率を大きく記載してある。
第2の樹脂マスク20は、樹脂から構成され、図1、2に示すように、蒸着作製するパターンに対応した開口部25が縦横に複数列配置されている。なお、本願明細書において蒸着作製するパターンとは、当該蒸着マスクを用いて作製しようとするパターンを意味し、例えば、当該蒸着マスクを有機EL素子の有機層の形成に用いる場合には、当該有機層の形状である。
ましい。第2の樹脂マスク20の厚みをこの範囲内とすることで、ピンホール等の欠陥や変形等のリスクを低減でき、かつシャドウの発生を効果的に防止することができる。なお、本発明の蒸着マスクにおいて、金属マスク10と第2の樹脂マスク20とは、直接的に接合されていてもよく、粘着剤層を介して接合されていてもよいが、粘着剤層を介して金属マスク10と第2の樹脂マスク20とが接合される場合には、上記シャドウの点を考慮して、第2の樹脂マスク20と粘着剤層との合計の厚みが5μm〜25μmの範囲内となるように設定することが好ましい。
に向上する。バリア層は、無機酸化物、および無機窒化物の場合は各種PVD法、CVD法によって形成することが好ましい。金属の場合は、真空蒸着法によって形成することが好ましい。なお、ここでいうところの第2の樹脂マスク20の蒸着源側表面とは、第2の樹脂マスク20の蒸着源側の表面の全体であってもよく、第2の樹脂マスク20の蒸着源側の表面において金属マスクから露出している部分のみであってもよい。
金属マスク10は、金属から構成され、該金属マスク10の正面からみたときに、第2の樹脂マスク20に配置された全ての開口部25がみえる位置に、縦方向或いは横方向に延びるスリット15が複数列配置されている。なお、図1〜3では、金属マスク10の縦方向に延びるスリット15が横方向に連続して配置されている。
第1の樹脂マスク30は、樹脂から構成されており、図1〜3に示すように、所定の開
口部として、前述した金属マスク10に設けられたスリット25と同様のスリット35が形成されている。
図4は、本発明の一例である蒸着マスクを構成する第1の樹脂マスク、金属マスク、および第2の樹脂マスクを分解して示す概略斜視図であり、(a)は第1の樹脂マスク、(b)は金属マスク、(c)は第2の樹脂マスクである。
本発明においては、上記で説明した構成の蒸着マスクを製造することができる従来公知のいかなる製造方法も採用可能であるが、例えば以下の第1の製造方法や第2の製造方法により製造することが好ましい。
図5は、本発明の蒸着マスクの第1の製造方法を説明するための工程図である。なお(a)〜(e)はすべて断面図である。この方法によれば、前記第1の実施形態にかかる蒸着マスクを製造することができる。
図6は、本発明の蒸着マスクの第2の製造方法を説明するための工程図である。なお(a)〜(e)はすべて断面図である。この方法によれば、前記第2の実施形態にかかる蒸着マスクを製造することができる。
されることはなく、従来公知のレーザー装置を用いればよい。これにより、図5(e)に示すような、蒸着マスク80を得る。
10、66…金属マスク
15…スリット
20、70…第2の樹脂マスク
30…第1の樹脂マスク
25…開口部
61…金属板
62…レジスト材
64…レジストパターン
67…樹脂板
80…蒸着マスク
Claims (2)
- フレームに取り付けられて用いられる蒸着マスクの製造方法であって、
金属板の一方の面に樹脂板が設けられている樹脂板付き金属板を準備する工程と、
前記樹脂板付き金属板における樹脂板が設けられていない面に、スリットが設けられた 第1の樹脂マスクを形成する工程と、
前記金属板にスリットを形成することで金属マスクを形成する工程と、
前記樹脂板に蒸着作製するパターンに応じた開口部を形成する工程と、
を含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - フレームに取り付けられて用いられる蒸着マスクの製造方法であって、
金属板の一方の面に樹脂板が設けられている樹脂板付き金属板を準備する工程と、
前記金属板にスリットを形成することで金属マスクを形成する工程と、
前記金属マスクの前記樹脂板が形成されていない側の表面に樹脂層を設ける工程と、
前記樹脂層および前記樹脂板に蒸着作製するパターンに応じた開口部を形成する工程と 、
を含むことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016255113A JP6252668B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016255113A JP6252668B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 蒸着マスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016040017A Division JP6066000B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017066533A JP2017066533A (ja) | 2017-04-06 |
JP6252668B2 true JP6252668B2 (ja) | 2017-12-27 |
Family
ID=58494031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016255113A Active JP6252668B2 (ja) | 2016-12-28 | 2016-12-28 | 蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6252668B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4635348B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2011-02-23 | 凸版印刷株式会社 | パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 |
JP4173722B2 (ja) * | 2002-11-29 | 2008-10-29 | 三星エスディアイ株式会社 | 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子 |
JP4608874B2 (ja) * | 2003-12-02 | 2011-01-12 | ソニー株式会社 | 蒸着マスクおよびその製造方法 |
JP2010196091A (ja) * | 2009-02-24 | 2010-09-09 | Sony Corp | 蒸着用マスクおよびその製造方法 |
JP2013021165A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Sony Corp | 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法、電子素子および電子素子の製造方法 |
JP5515025B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2014-06-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスク、それに使用するマスク用部材、マスクの製造方法及び有機el表示用基板の製造方法 |
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2016
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017066533A (ja) | 2017-04-06 |
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