JP5825139B2 - 蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
蒸着マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5825139B2 JP5825139B2 JP2012035623A JP2012035623A JP5825139B2 JP 5825139 B2 JP5825139 B2 JP 5825139B2 JP 2012035623 A JP2012035623 A JP 2012035623A JP 2012035623 A JP2012035623 A JP 2012035623A JP 5825139 B2 JP5825139 B2 JP 5825139B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- slit
- resin
- resin layer
- metal mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 46
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 127
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 127
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 100
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 100
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 90
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 59
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 238000000034 method Methods 0.000 description 45
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 9
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- 229920000219 Ethylene vinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本工程は、図1(a)に示すように、スリット16が設けられた金属マスク15の一方の面上に、該金属マスク15のスリット16を覆う樹脂層20が設けられた樹脂層付金属マスク5を準備する工程である。
本工程は、図1(b)に示すように、樹脂層付金属マスク5のスリット16内にレジスト材30を充填する工程である。レジスト材30は、後述する貫通孔32を形成する工程において、レーザー加工法によって除去可能な性質を有する材料、或いはフォトリソグラフィー法によって現像可能な性質を有する材料であるとともに、開口部50を形成するエッチング材に対する耐性を有する材料であればよく、従来公知のレジスト材を適宜選択して用いることができる。
本工程では、図1(c)に示すように、レジスト材30が充填されたスリット16内にスリット16の開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔32を形成する。貫通孔32は、後述する樹脂マスク25をエッチング加工して開口部50を形成する工程において、エッチング材を金属マスク15と接する側の樹脂層20の表面に接触させるための孔である。なお、スリット16の開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔32とは、金属マスク15の樹脂層20と接しない側のスリット16の開口寸法よりも、金属マスク15の樹脂層20と接しない側の貫通孔32の開口寸法が狭く、かつ、金属マスク15の樹脂層20と接する側のスリット16の開口寸法よりも、金属マスク15の樹脂層20と接する側の貫通孔32の開口寸法が狭いことを意味する。
本工程では、図1(d)に示すように、樹脂層20上に耐エッチング層26を形成する工程である。当該工程によって、後述する樹脂層20をエッチング加工する際に、樹脂層20の金属マスク15と接しない側の表面がエッチング材によって浸食されることを防止している。
本工程では、図1(e)に示すように、上記スリット16内に充填されたレジスト材30及び耐エッチング層26をエッチングマスクとして用いて、貫通孔32を通してエッチング材を樹脂層20に接触させることで、樹脂層20をエッチング加工して、樹脂層20に開口部50が形成されてなる樹脂マスク25を形成する。そして、樹脂マスク25を形成した後に、スリット16内に充填されたレジスト材30及び耐エッチング層26を洗浄除去することで、図1(f)に示すようにスリット16が設けられた金属マスク15と、開口部50が設けられた樹脂マスク25とが積層されてなる蒸着マスク100が得られる。
また、本発明の製造方法においては、上記で説明した工程間、或いは工程後にスリミング工程を行ってもよい。当該工程は、本発明の製造方法における任意の工程であり、金属マスク15の厚みや、樹脂マスク25の厚みを最適化する工程である。金属マスク15や樹脂マスク25の好ましい厚みとしては上記で説明した範囲内で適宜設定すればよく、ここでの詳細な説明は省略する。
5・・・樹脂層付金属マスク
15・・・金属マスク
16・・・スリット
20・・・樹脂層
25・・・樹脂マスク
26・・・耐エッチング層
30・・・レジスト材
32・・・貫通孔
50・・・開口部
Claims (2)
- スリットが設けられた金属マスクと、前記金属マスクの表面に位置し、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクと、が積層されてなる蒸着マスクの製造方法であって、
スリットが設けられた金属マスクの一方の面上に、該金属マスクのスリットを覆う樹脂層が設けられた樹脂層付金属マスクを準備する工程と、
前記スリット内にレジスト材を充填する工程と、
前記レジスト材が充填されたスリット内に、該スリットの開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔を形成する工程と、
前記樹脂層上に耐エッチング性を有する材料を含む耐エッチング層を形成する工程と、
前記レジスト材及び前記耐エッチング層を耐エッチングマスクとして用いて、前記貫通孔側から前記樹脂層をエッチング加工し、エッチング終了後に前記レジスト材及び前記耐エッチング層を洗浄除去することで、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクを形成する工程と、
を備える蒸着マスクの製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程が、
前記レジスト材が充填されたスリットにレーザーを照射することにより貫通孔を形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012035623A JP5825139B2 (ja) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012035623A JP5825139B2 (ja) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 蒸着マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015203433A Division JP5967282B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | 蒸着マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013170301A JP2013170301A (ja) | 2013-09-02 |
JP5825139B2 true JP5825139B2 (ja) | 2015-12-02 |
Family
ID=49264441
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012035623A Active JP5825139B2 (ja) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5825139B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109423602A (zh) * | 2017-09-01 | 2019-03-05 | 株式会社爱发科 | 掩膜板及成膜方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6465075B2 (ja) * | 2016-05-26 | 2019-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、有機半導体素子の製造方法、及びに有機elディスプレイの製造方法 |
-
2012
- 2012-02-21 JP JP2012035623A patent/JP5825139B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109423602A (zh) * | 2017-09-01 | 2019-03-05 | 株式会社爱发科 | 掩膜板及成膜方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013170301A (ja) | 2013-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6344505B2 (ja) | フレーム一体型の樹脂層付き金属マスクの製造方法 | |
JP6123301B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、金属マスク付き樹脂層、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6569880B2 (ja) | フレーム付き蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、フレーム付き蒸着マスク準備体、パターンの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP2014218735A (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP5895540B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP5895539B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP6394877B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP5935629B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6191711B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP6380606B2 (ja) | 樹脂層付金属マスク | |
JP5825139B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6003464B2 (ja) | 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法 | |
JP6191712B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
JP6137393B2 (ja) | 樹脂層付金属マスク | |
JP5967282B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6332531B2 (ja) | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、有機半導体素子の製造方法 | |
JP6066000B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6123928B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP6252668B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6168221B2 (ja) | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6376237B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP5966814B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141219 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150915 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5825139 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |