JP5967282B2 - 蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
蒸着マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5967282B2 JP5967282B2 JP2015203433A JP2015203433A JP5967282B2 JP 5967282 B2 JP5967282 B2 JP 5967282B2 JP 2015203433 A JP2015203433 A JP 2015203433A JP 2015203433 A JP2015203433 A JP 2015203433A JP 5967282 B2 JP5967282 B2 JP 5967282B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- slit
- metal mask
- resin layer
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
また、一実施形態の蒸着マスクの製造方法は、スリットが設けられた金属マスクと、前記金属マスクの表面に位置し、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクと、が積層されてなる蒸着マスクの製造方法であって、スリットが設けられた金属マスクの一方の面上に、該金属マスクのスリットを覆う樹脂層が設けられた樹脂層付金属マスクを準備する工程と、前記スリット内にレジスト材を充填する工程と、前記レジスト材が充填されたスリット内に、該スリットの開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔を形成する工程と、前記樹脂層上に耐エッチング性を有する材料を含む耐エッチング層を形成する工程と、前記レジスト材及び前記耐エッチング層を耐エッチングマスクとして用いて、前記貫通孔側から前記樹脂層をエッチング加工し、エッチング終了後に前記レジスト材及び前記耐エッチング層を洗浄除去することで、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクを形成する工程と、を備えることを特徴とする。
本工程は、図1(a)に示すように、スリット16が設けられた金属マスク15の一方の面上に、該金属マスク15のスリット16を覆う樹脂層20が設けられた樹脂層付金属マスク5を準備する工程である。
本工程は、図1(b)に示すように、樹脂層付金属マスク5のスリット16内にレジスト材30を充填する工程である。レジスト材30は、後述する貫通孔32を形成する工程において、レーザー加工法によって除去可能な性質を有する材料、或いはフォトリソグラフィー法によって現像可能な性質を有する材料であるとともに、開口部50を形成するエッチング材に対する耐性を有する材料であればよく、従来公知のレジスト材を適宜選択して用いることができる。
本工程では、図1(c)に示すように、レジスト材30が充填されたスリット16内にスリット16の開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔32を形成する。貫通孔32は、後述する樹脂マスク25をエッチング加工して開口部50を形成する工程において、エッチング材を金属マスク15と接する側の樹脂層20の表面に接触させるための孔である。なお、スリット16の開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔32とは、金属マスク15の樹脂層20と接しない側のスリット16の開口寸法よりも、金属マスク15の樹脂層20と接しない側の貫通孔32の開口寸法が狭く、かつ、金属マスク15の樹脂層20と接する側のスリット16の開口寸法よりも、金属マスク15の樹脂層20と接する側の貫通孔32の開口寸法が狭いことを意味する。
本工程では、図1(d)に示すように、樹脂層20上に耐エッチング層26を形成する工程である。当該工程によって、後述する樹脂層20をエッチング加工する際に、樹脂層20の金属マスク15と接しない側の表面がエッチング材によって浸食されることを防止している。
本工程では、図1(e)に示すように、上記スリット16内に充填されたレジスト材30及び耐エッチング層26をエッチングマスクとして用いて、貫通孔32を通してエッチング材を樹脂層20に接触させることで、樹脂層20をエッチング加工して、樹脂層20に開口部50が形成されてなる樹脂マスク25を形成する。そして、樹脂マスク25を形成した後に、スリット16内に充填されたレジスト材30及び耐エッチング層26を洗浄除去することで、図1(f)に示すようにスリット16が設けられた金属マスク15と、開口部50が設けられた樹脂マスク25とが積層されてなる蒸着マスク100が得られる。
また、本発明の製造方法においては、上記で説明した工程間、或いは工程後にスリミング工程を行ってもよい。当該工程は、本発明の製造方法における任意の工程であり、金属マスク15の厚みや、樹脂マスク25の厚みを最適化する工程である。金属マスク15や樹脂マスク25の好ましい厚みとしては上記で説明した範囲内で適宜設定すればよく、ここでの詳細な説明は省略する。
5・・・樹脂層付金属マスク
15・・・金属マスク
16・・・スリット
20・・・樹脂層
25・・・樹脂マスク
26・・・耐エッチング層
30・・・レジスト材
32・・・貫通孔
50・・・開口部
Claims (3)
- スリットが設けられた金属マスクと、前記金属マスクの表面に位置し、蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクと、が積層されてなる蒸着マスクの製造方法であって、
スリットが設けられた金属マスクの一方の面上に、該金属マスクのスリットを覆う樹脂層が設けられた樹脂層付金属マスクを準備する工程と、
前記スリット内にレジスト材を充填し、且つ前記金属マスクの前記樹脂層と接しない側の表面をレジスト材で覆う工程と、
前記レジスト材が充填されたスリット内に、該スリットの開口寸法よりも狭い開口寸法を有する貫通孔を形成する工程と、
前記樹脂層上に耐エッチング性を有する材料を含む耐エッチング層を形成する工程と、
前記レジスト材及び前記耐エッチング層を耐エッチングマスクとして用いて、前記貫通孔側から前記樹脂層をエッチング加工し、エッチング終了後に前記レジスト材及び前記耐エッチング層を洗浄除去することで、蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを形成する工程と、
を備えることを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記貫通孔を形成する工程が、
前記レジスト材が充填されたスリットにレーザーを照射することにより貫通孔を形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記金属マスクが、複数のスリットが設けられた金属マスクであることを特徴とする請求項1又は2に記載の蒸着マスクの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015203433A JP5967282B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | 蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015203433A JP5967282B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | 蒸着マスクの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012035623A Division JP5825139B2 (ja) | 2012-02-21 | 2012-02-21 | 蒸着マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016135159A Division JP6137393B2 (ja) | 2016-07-07 | 2016-07-07 | 樹脂層付金属マスク |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016006237A JP2016006237A (ja) | 2016-01-14 |
JP5967282B2 true JP5967282B2 (ja) | 2016-08-10 |
Family
ID=55224804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015203433A Active JP5967282B2 (ja) | 2015-10-15 | 2015-10-15 | 蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5967282B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07300664A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-14 | Fujitsu Ltd | メタルマスクの製造方法とその再生方法 |
JP4104964B2 (ja) * | 2002-12-09 | 2008-06-18 | 日本フイルコン株式会社 | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
JP2012212522A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-11-01 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子素子用積層基板、電子素子、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、電子ペーパー、および電子素子用積層基板の製造方法 |
JP2013021165A (ja) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Sony Corp | 蒸着用マスク、蒸着用マスクの製造方法、電子素子および電子素子の製造方法 |
JP5517308B2 (ja) * | 2011-11-22 | 2014-06-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスクの製造方法、マスク及びマスクの製造装置 |
-
2015
- 2015-10-15 JP JP2015203433A patent/JP5967282B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016006237A (ja) | 2016-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6344505B2 (ja) | フレーム一体型の樹脂層付き金属マスクの製造方法 | |
JP5741743B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着マスクの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6123301B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、金属マスク付き樹脂層、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6569880B2 (ja) | フレーム付き蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、フレーム付き蒸着マスク準備体、パターンの製造方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP5895540B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP6394877B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP5895539B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP5935629B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6191711B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP6380606B2 (ja) | 樹脂層付金属マスク | |
JP6003464B2 (ja) | 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法 | |
JP5825139B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6191712B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
JP6137393B2 (ja) | 樹脂層付金属マスク | |
JP6304425B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法、金属マスク付き樹脂層、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP5967282B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6332531B2 (ja) | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、有機半導体素子の製造方法 | |
JP6066000B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP6123928B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP6168221B2 (ja) | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、及び有機半導体素子の製造方法 | |
JP6376237B2 (ja) | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、および有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP5966814B2 (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP2017066533A (ja) | 蒸着マスクの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151022 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160526 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160620 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Ref document number: 5967282 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |