JP5895539B2 - 蒸着マスク - Google Patents
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 123
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 123
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 110
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 110
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 91
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 45
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 36
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 23
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 10
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 40
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 30
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 12
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018084 Al-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018192 Al—Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920005648 ethylene methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003562 lightweight material Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006350 polyacrylonitrile resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
また、一実施形態の蒸着マスクは、スリットが設けられた金属マスクと、粘着剤層と、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが、この順で積層された構成をとり、前記粘着剤層が、前記金属マスク又は前記樹脂マスクから剥離可能な粘着剤層であることを特徴とする。
また、上記課題を解決するための本発明は、フレーム上に蒸着マスクが固定されてなる蒸着マスク装置であって、前記蒸着マスクが、スリットが設けられた金属マスクと、粘着剤層と、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが、この順で積層された構成をとり、1つの前記スリットは、複数の前記開口部と重なっており、前記粘着剤層が、前記金属マスク又は前記樹脂マスクから剥離可能な粘着剤層であることを特徴とする。
樹脂マスク20は、樹脂から構成され、図1、2に示すように、蒸着作製するパターンに対応した開口部25が縦横に複数列配置されている。なお、本願明細書において蒸着作製するパターンとは、当該蒸着マスクを用いて作製しようとするパターンを意味し、例えば、当該蒸着マスクを有機EL素子の有機層の形成に用いる場合には、当該有機層の形状である。
本発明の蒸着マスク100は、金属マスク10と樹脂マスク20とを組み合わせて用いられるが、金属マスク10と比較して樹脂マスク20はその寿命が短い。換言すれば劣化の速度が速い。このとき、樹脂マスク20から金属マスク10を剥離できない場合には、樹脂マスク20とともに金属マスク10も併せて交換する必要がある。
金属マスク10は、金属から構成され、該金属マスク10の正面からみたときに、樹脂マスク20に配置された全ての開口部25がみえる位置に、縦方向或いは横方向に延びるスリット15が複数列配置されている。なお、図1、2では、金属マスク10の縦方向に延びるスリット15が横方向に連続して配置されている。
次に、本発明の蒸着マスク100の形成方法の一例について説明する。なお、本発明の蒸着マスクはこの例に何ら限定されるものではない。
次に、本発明の蒸着マスク100が、フレームに固定されてなる蒸着マスク装置の製造方法について説明する。
10…金属マスク
15…スリット
20…樹脂マスク
25…開口部
30…粘着剤層
Claims (7)
- 蒸着マスクであって、
前記蒸着マスクは、スリットが設けられた金属マスクと、粘着剤層と、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが、この順で積層された構成をとり、
前記蒸着マスクは、フレーム上に固定して用いられるものであり、
1つの前記スリットは、複数の前記開口部と重なっており、
前記粘着剤層が、前記金属マスク又は前記樹脂マスクから剥離可能な粘着剤層であることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記粘着剤層と前記樹脂マスクとの粘着性が、前記粘着剤層と前記金属マスクとの粘着性よりも高いことを特徴とする請求項1に記載の蒸着マスク。
- 前記金属マスクが、磁性体であることを特徴とする請求項1又は2に記載の蒸着マスク。
- 前記開口部の断面形状が、蒸着源方向に向かって広がりをもつことを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの前記開口部を形成する端面にバリア層が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- 前記樹脂マスクの厚みが5μm〜25μmであることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の蒸着マスク。
- フレーム上に蒸着マスクが固定されてなる蒸着マスク装置であって、
前記蒸着マスクが、
スリットが設けられた金属マスクと、粘着剤層と、蒸着作製するパターンに対応した開口部が縦横に複数列配置された樹脂マスクとが、この順で積層された構成をとり、
1つの前記スリットは、複数の前記開口部と重なっており、
前記粘着剤層が、前記金属マスク又は前記樹脂マスクから剥離可能な粘着剤層であることを特徴とする蒸着マスク装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012004485A JP5895539B2 (ja) | 2012-01-12 | 2012-01-12 | 蒸着マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012004485A JP5895539B2 (ja) | 2012-01-12 | 2012-01-12 | 蒸着マスク |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016040014A Division JP6191711B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
JP2016040015A Division JP6191712B2 (ja) | 2016-03-02 | 2016-03-02 | 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013142195A JP2013142195A (ja) | 2013-07-22 |
JP5895539B2 true JP5895539B2 (ja) | 2016-03-30 |
Family
ID=49038934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012004485A Active JP5895539B2 (ja) | 2012-01-12 | 2012-01-12 | 蒸着マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5895539B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9498755B2 (en) | 2011-11-25 | 2016-11-22 | Fujifilm Corporation | Gas separation membrane, method of producing the same, and gas separating membrane module using the same |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6163376B2 (ja) * | 2013-07-30 | 2017-07-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク |
JP6181463B2 (ja) * | 2013-08-20 | 2017-08-16 | 株式会社アスカネット | 対向する壁面への選択的蒸着方法 |
KR20160000069A (ko) * | 2014-06-23 | 2016-01-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 |
CN109072411B (zh) * | 2016-02-10 | 2021-04-06 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法 |
JP6510139B2 (ja) * | 2016-03-23 | 2019-05-08 | 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司Hon Hai Precision Industry Co.,Ltd. | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法および有機半導体素子の製造方法 |
WO2018142464A1 (ja) | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 堺ディスプレイプロダクト株式会社 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法 |
JP7005925B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2022-01-24 | 大日本印刷株式会社 | 多面付け蒸着マスクの製造方法、多面付け蒸着マスク |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07300664A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-14 | Fujitsu Ltd | メタルマスクの製造方法とその再生方法 |
JP4635348B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2011-02-23 | 凸版印刷株式会社 | パターン形成用マスクおよびそれを使用したパターン形成装置 |
JP4104964B2 (ja) * | 2002-12-09 | 2008-06-18 | 日本フイルコン株式会社 | パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法 |
KR20080111967A (ko) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | 삼성전기주식회사 | 섀도우 마스크 |
JP2009009777A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Canon Inc | 成膜用マスク |
JP5517308B2 (ja) * | 2011-11-22 | 2014-06-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスクの製造方法、マスク及びマスクの製造装置 |
JP5515025B2 (ja) * | 2011-10-06 | 2014-06-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスク、それに使用するマスク用部材、マスクの製造方法及び有機el表示用基板の製造方法 |
CN105322103B (zh) * | 2012-01-12 | 2019-01-25 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法 |
-
2012
- 2012-01-12 JP JP2012004485A patent/JP5895539B2/ja active Active
Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
US9498755B2 (en) | 2011-11-25 | 2016-11-22 | Fujifilm Corporation | Gas separation membrane, method of producing the same, and gas separating membrane module using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013142195A (ja) | 2013-07-22 |
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---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
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