JP2017071842A - 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】成膜時において成膜用マスクの遮蔽部の直下へダメージが加わることを回避することが可能な成膜マスクと、それを用いた成膜方法を提供する。【解決手段】被成膜面に対向する第1面及び第1面とは反対側の第2面、被成膜面の一部を露出させる少なくとも一つの開口部を有し、少なくとも一つの開口部の各々の端部において、第1面側から薄板化された領域を有するマスク本体を備える成膜用マスクである。【選択図】図1
Description
本発明は、成膜用マスクの構成、及びそれを用いた成膜方法に関する。
表示装置は、各画素に発光素子が設けられ、個別に発光を制御することで画像を表示する。例えば発光素子として有機EL素子を用いる有機EL表示装置においては各画素に有機EL素子が設けられ、有機EL素子は、一方をアノード電極、他方をカソード電極として区別される一対の電極間に有機EL材料を含む層(以下、「有機EL層」ともいう)を挟んだ構造を有している。有機EL表示装置は、一方の電極が画素ごとに画素電極として設けられ、他方の電極は複数の画素に跨って共通の電位が印加される共通電極として設けられている。有機EL表示装置は、この共通電極の電位に対し、画素電極の電位を画素ごとに印加することで、画素の発光を制御している。
表示装置の製造において、発光層として用いられる有機膜を蒸着する際、有機膜が堆積される領域が開口されたマスクを通して成膜する方法が開発されている(例えば特許文献1)。しかし、アレイ基板と成膜用マスクが接触するため、マスクが直接アレイ基板に傷をつけてしまう恐れや、マスクに異物が付着していた際に転写してしまう恐れがある。そのような傷や異物によってアレイ基板の回路が破壊されたり、水分の侵入経路が発生したりすると、駆動不良やダークエッジの原因となり得る。
特許文献1には、金属板にエッチングにより成膜用開口部を設けると同時に、該開口部を形成する遮蔽部のエッジ部分を成膜面側からハーフエッチング処理することを特徴とする成膜用メタルマスクの製造方法が記載されている。更に、金属板にエッチングにより成膜用開口部を設けると同時に、遮蔽部の略中央部分を部分的に基板面側からハーフエッチング処理することを特徴とする成膜用メタルマスクの製造方法が記載されている。
上記の方法によって作製された成膜用メタルマスクは、遮蔽部のエッジ部分が、成膜時に基板面に接触することになる。ここで、遮蔽部のエッジ部分の直下に、例えばトランジスタやそれに接続された配線等が配置されている場合、成膜用メタルマスクとの接触によるダメージは考慮されていない。このようなダメージが加わると、表示装置の製造の歩留まりが低下することが懸念される。
本発明は、成膜時において成膜用マスクの遮蔽部の直下へダメージが加わることを回避することが可能な成膜マスクと、それを用いた成膜方法を提供する。
本発明による成膜用マスクの一態様は、被成膜面に対向する第1面及び第1面とは反対側の第2面、被成膜面の一部を露出させる少なくとも一つの開口部を有し、少なくとも一つの開口部の各々の端部において、第1面側から薄板化された領域を有するマスク本体を備える。
本発明による表示装置の製造方法の一態様は、基板の被成膜面上に、複数の画素を構成する複数の画素電極を含む表示領域、表示領域の外側にトランジスタを含む駆動回路領域、及び駆動回路領域の外側に表示領域を囲む封止領域を形成し、被成膜面に対向する第1面及び第1面とは反対側の第2面とを有し、表示領域を露出させる開口部を有し、少なくとも駆動回路領域を含む領域において、第1面側から薄板化された成膜用マスクの第1面を被成膜面に当接させ、有機材料を含む発光層を成膜することを含む表示装置の製造方法。
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
<第1実施形態>
図面を用いて、本実施形態に係る成膜用マスク100の構成、及びそれを用いた成膜方法について説明する。
図面を用いて、本実施形態に係る成膜用マスク100の構成、及びそれを用いた成膜方法について説明する。
[構成]
図1は、本実施形態に係る成膜用マスク100の構成を示す上面図及び断面図である。図1(a)は、成膜用マスク100の平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A´に沿った断面図である。図2は、本実施形態に係る成膜用マスク100の成膜時における配置を示す断面図である。
図1は、本実施形態に係る成膜用マスク100の構成を示す上面図及び断面図である。図1(a)は、成膜用マスク100の平面図であり、図1(b)は、図1(a)のA−A´に沿った断面図である。図2は、本実施形態に係る成膜用マスク100の成膜時における配置を示す断面図である。
本実施形態に係る成膜用マスク100は、被成膜面に対向する第1面102a及び第1面102aとは反対側の第2面102bを有する。また、成膜用マスク100は、少なくとも一つの開口部104、第1遮蔽部106、及び第2遮蔽部108を有するマスク本体102を備えている。この例では、マスク本体102に長方形の開口部104が3行3列の行列状に配列されている。
少なくとも一つの開口部104の各々は、被成膜面の一部を露出させる。第2遮蔽部108は、開口部104の各々の端部において、第1面102a側から薄板化された領域である。第1遮蔽部106は、マスク本体102において、開口部104及び第2遮蔽部108を除く領域である。換言すると、基板112の被成膜面114に対向する成膜用マスク100の第1面において、第1遮蔽部106が第2遮蔽部108よりも被成膜面114側に配置される。更に換言すると、基板112の被成膜面114と成膜用マスク100の第1遮蔽部106とが当接したときに、基板112の被成膜面114と成膜用マスク110の第2遮蔽部108との間には空隙が形成される。更に換言すると、第1遮蔽部106の端部から、庇状の第2遮蔽部108が開口部104側に延びている。
本実施形態に係る成膜用マスク100において、開口部104の各々の端部において、第2遮蔽部108を有する。この例では、開口部104の各々において、第2遮蔽部108が開口部104の端部を囲むように配置されている。開口部104及び第2遮蔽部108を除く領域は第1遮蔽部106である。
この例では、複数の開口部104を囲んで配置された第2遮蔽部108の各々は、互いに分離されている。換言すると、開口部104の各々において、第1遮蔽部106が第2遮蔽部108の端部を囲むように配置されている。
このような構成を有することによって、第1遮蔽部が梁の役割を担い、成膜用マスク100の機械的強度が向上する。
本実施形態に係る成膜用マスク100は、マスク本体102の外郭部に設けられたマスクフレームを更に備えてもよい。図2を参照すると、マスク本体102は、成膜時において、マスクフレーム110に支持され、基板112の被成膜面114側に配置される。基板112の被成膜面114側とは反対側には、金属板102から成る成膜用マスク100を基板112に対して固定するためのマグネット116が配置されてもよい。
この例では、第1遮蔽部106の、基板112の被成膜面114に対向する表面及び第2遮蔽部108の、基板112の被成膜面114に対向する表面は、それぞれ同一平面上に配置されている。つまり、成膜用マスク100の、基板112の被成膜面114に対向する表面は、第1遮蔽部106が配置される平面及び第2遮蔽部108が配置される平面の2段構成となっている。基板112の被成膜面114に対向する表面において、第1遮蔽部106及び第2遮蔽部108の境界は、階段状となっている。
ここで、基板112の被成膜面114において、成膜用マスク110の第1遮蔽部106に重畳する領域は、成膜用マスク110と接触しているため、薄膜が堆積されることはない。一方、基板112の被成膜面114において、成膜用マスク100の第2遮蔽部108に重畳する領域は、成膜用マスク100と接触しないが、第2遮蔽部108に覆われるため、薄膜が堆積されることはない。
このような構成を有することによって、成膜用マスク100の開口部104に対応する領域に選択的に薄膜を堆積することと、成膜用マスク100と被成膜面114との接触に起因するダメージの回避を両立することができる。更に、第2遮蔽部に異物が付着していたとしても、第2遮蔽部と基板112の被成膜面114との空隙のために、成膜に後に当該異物が基板112の被成膜面114上に転写されることが抑制される。
このような成膜用マスク100は、金属板102に対し、第2遮蔽部108に対応する領域をハーフエッチングすることによって作製すればよい。
[成膜方法]
図3は、本実施形態に係る成膜用マスク100を用いた成膜方法を説明する断面図である。図3(a)は、基板112に成膜用マスク100を配置し、薄膜118を成膜する前の状態を示す断面図である。図3(b)は、基板112に成膜用マスク100を用いて薄膜118を成膜した後を示す断面図である。
図3は、本実施形態に係る成膜用マスク100を用いた成膜方法を説明する断面図である。図3(a)は、基板112に成膜用マスク100を配置し、薄膜118を成膜する前の状態を示す断面図である。図3(b)は、基板112に成膜用マスク100を用いて薄膜118を成膜した後を示す断面図である。
薄膜118の成膜において、基板112の被成膜面114側の領域は、成膜領域120及び成膜禁止領域122に分類される。成膜領域120は、薄膜118が堆積される領域である。成膜禁止領域122は、成膜領域120を除く被成膜面114上の領域であり、薄膜118が堆積されない領域である。
従来技術による成膜用マスクを用いた成膜においては、成膜禁止領域と成膜用マスクの遮蔽部とを密着させることによって、薄膜の堆積を遮蔽していた。しかしながら、当該成膜禁止領域が成膜用マスクと接触することが好ましくない場合がある。例えば、成膜禁止領域にトランジスタやそれに接続された配線等の回路が配置されている場合、成膜用マスクの接触によって当該回路が破壊されることが懸念される。これによって製造の歩留まりが低下することが有り得る。
そこで、本実施形態に係る成膜方法においては、成膜禁止領域122を、接触禁止領域124及び接触可能領域126に分類する。接触禁止領域124は、上記の理由等によって成膜用マスク100との接触が好ましくない領域である。接触可能領域126は、成膜用マスク100と接触しても構わない領域である。
本実施形態に係る成膜用マスク100を用いた成膜方法においては、図3に示すように、第2遮蔽部108は、少なくとも接触禁止領域124と重畳するように配置される。この状態で薄膜118を成膜すると、接触禁止領域124と成膜用マスク100を接触させずに、当該接触禁止領域124上への薄膜118の堆積を遮蔽することができる。
尚、基板112の被成膜面114と第2遮蔽部108との間の空隙の幅によっては、第2遮蔽部内の端部近傍に回り込んで薄膜が堆積されることも考えられる。その場合は薄膜118の回り込み量を考慮し、成膜用マスク110の設計時に、第2遮蔽部108の端部の配置や、基板112の被成膜面114と第2遮蔽部108との空隙の幅を調整すればよい。
つまり、第2遮蔽部108の端部を開口部104側に配置することによって、成膜領域120に対して開口領域104を狭く設計しておき、成膜後に、成膜領域120に一致して薄膜118が堆積されるよう設計しておけばよい。
また、基板112の被成膜面114と第2遮蔽部108との空隙の幅を小さくすれば回り込み量を小さく抑えることができる。
本実施形態に係る成膜方法は、化学気相成長法(CVD法)、スパッタリング法、蒸着法等の成膜方法に適用することができる。また、上述の回り込み量については、成膜方法、成膜条件、膜種等に依存するため、適宜調整すればよい。
<変形例1>
本実施形態の一変形例による成膜用マスク100aの構成について説明する。図4は、本変形例に係る成膜用マスク100aの構成を示す平面図及び断面図である。
本実施形態の一変形例による成膜用マスク100aの構成について説明する。図4は、本変形例に係る成膜用マスク100aの構成を示す平面図及び断面図である。
本変形例に係る成膜用マスク100aと本実施形態に係る成膜用マスク100とを比較すると、第2遮蔽部108の平面形状が異なっている。本変形例では、第2遮蔽部108は、3行3列の行列状に配列された長方形の開口部104の全てを囲んでいる。つまり、薄板化された領域は、成膜用マスク110に配列された少なくとも一つの開口部104の全てを囲んでいる。換言すると、第1遮蔽部106は、少なくとも金属板102の周辺に沿って配置されている。
このような構成を有することによって、接触可能領域126を基板112に設ける必要が無いため、基板112内の領域を最大限に活用することができる。
このようなレイアウトであっても、接触禁止領域124と成膜用マスク100aを接触させずに、当該接触禁止領域上に薄膜が堆積することを避けることができる。
<変形例2>
本実施形態の他の一変形例による成膜用マスク100bの構成について説明する。図5は、本変形例に係る成膜用マスク100bの構成を示す平面図及び断面図である。
本実施形態の他の一変形例による成膜用マスク100bの構成について説明する。図5は、本変形例に係る成膜用マスク100bの構成を示す平面図及び断面図である。
本変形例に係る成膜用マスク100bと本実施形態に係る成膜用マスク100とを比較すると、第2遮蔽部108の平面形状が異なっている。本変形例においては、長方形の開口部104の各々の1辺に第1遮蔽部106が隣接している。本変形例のように、第2遮蔽部108は開口部104の端部の全てを囲まなくても構わない。
<変形例3>
本実施形態の他の一変形例による成膜用マスク100cの構成について説明する。図6は、本変形例に係る成膜用マスク100cの構成を示す平面図及び断面図である。
<変形例3>
本実施形態の他の一変形例による成膜用マスク100cの構成について説明する。図6は、本変形例に係る成膜用マスク100cの構成を示す平面図及び断面図である。
本変形例に係る成膜用マスク100cと本実施形態に係る成膜用マスク100とを比較すると、平面形状は相違しないが、断面形状が異なっている。本実施形態に係る成膜用マスク100cでは、基板112の被成膜面114に対向する表面において、第2遮蔽部108は同一の平面上に配置されていた。本変形例では、基板112の被成膜面114に対向する表面において、第2遮蔽部108は同一の平面上に配置されていない。つまり、基板112の被成膜面114に対向する表面において、第2遮蔽部108はテーパー形状を有していてもよい。
このような構成を有することによって、第1遮蔽部106と第2遮蔽部108との境界近傍における機械的強度を向上させることができる。
<第2実施形態>
本発明による成膜方法の応用例として、本発明による成膜方法を用いた表示装置200の製造方法について説明する。
本発明による成膜方法の応用例として、本発明による成膜方法を用いた表示装置200の製造方法について説明する。
[表示装置の構成]
本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の構成を、図面を参照しながら説明する。図7は、本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の概略構成を示す斜視図である。図8は、本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の構成を示す断面図である。
本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の構成を、図面を参照しながら説明する。図7は、本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の概略構成を示す斜視図である。図8は、本実施形態に係る表示装置の製造方法を用いて作製した表示装置200の構成を示す断面図である。
表示装置200は、第1基板202に表示領域206が設けられている。表示領域206は複数の画素208が配列することによって構成されている。表示領域206の上面には封止材としての第2基板204が設けられている。第2基板204は表示領域206を囲むシール材210によって、第1基板202に固定されている。第1基板202に形成された表示領域206は、封止材である第2基板204とシール材210によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素208に設けられる発光素子の劣化を抑制している。
第1基板202は、一端部に端子領域214が設けられている。端子領域214は第2基板204の外側に配置されている。端子領域214は、複数の接続端子216によって構成されている。接続端子216には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネルとを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子216の接点は、外部に露出している。
図8に示すように、表示装置200の複数の画素208の各々は、トランジスタ218及び発光素子220を有する。発光素子220は、画素電極222とこれに対向して配置される共通電極224とで発光層226を挟んだ構造を有している。画素電極222は画素ごとに独立しており、それぞれトランジスタ218と接続される。
隣接する2つの画素の間には、バンク228が設けられている。バンク128は、端部が画素電極122の周縁部を覆うように設けられている。なお、バンク128は、画素電極122の端部で発光層126が十分に被覆されず、共通電極124と短絡することを防ぎ、隣接する画素108間を絶縁するものであるので、絶縁材料で形成されることが好ましい。例えば、バンク128を形成するには、ポリイミドやアクリル等の有機材料、若しくは酸化珪素等の無機材料を用いることが好ましい。
表示装置200の外縁近傍には、封止領域230が配置されている。封止領域230は、上面図において閉じた周の形状を成し、行列状に配列された複数の画素208を囲む。周状の封止領域230内においては、発光層226やバンク228等といった有機系の膜が除去されている。つまり、周状の封止領域230を境に、その内部及び外部に配置された有機系の膜が分離される。有機系の膜は水分の伝搬経路となり易い。以上のような封止領域230を設けることによって、表示装置200の外部から、表示装置200の内部に配置された画素208への水分の伝搬経路を遮断することができる。
本実施形態に係る表示装置200は、発光素子220が発光した光を共通電極224側に出射する、いわゆるトップエミッション型の構造を有している。本実施形態においてはトップエミッション型を例示するが、これに限らず画素電極222側に出射する、いわゆるボトムエミッション型に適用することも可能である。
発光層226が、例えば有機EL層から成る場合、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成される。低分子系の有機材料を用いる場合、発光層226は発光性の有機材料を含む発光層226に加え、当該発光層226を挟むように正孔注入層や電子注入層、更に正孔輸送層や電子輸送層等を含んで構成される。本実施形態においては、発光層226は、白色発光を呈するものを用い、カラーフィルタ234によってフルカラー発光を実現している。
画素電極222は、発光層226で発光した光を、共通電極224側に反射させるため、反射率の高い金属膜で形成されていることが好ましい。或いは、画素電極222を金属膜と透明導電膜との積層構造とし、光反射面が含まれる構造としてもよい。
一方、共通電極224は、発光層226で発生した光を透過させるため、透光性を有しかつ導電性を有するITO(酸化スズ添加酸化インジウム)やIZO(酸化インジウム・酸化亜鉛)等の透明導電膜で形成されていることが好ましい。または、共通電極224として、出射光が透過できる程度の膜厚で金属層を形成しても良い。
共通電極224の上部には封止層232を設けておくことが好ましい。例えば発光素子220として有機EL素子を用いる有機EL表示装置においては、有機EL層は、水分に極めて弱いため、外部からパネル内部に水分が浸入し、有機EL層に到達するとダークスポットと呼ばれる発光欠陥点が発生し得る。そのため、封止層232としては水分の浸入を遮断できる絶縁膜を用いることが好ましく、無機絶縁材料と有機絶縁材料の複層の膜を用いることができる。例えば、無機絶縁材料を使用する場合、SiOx、SixNy、SiOxNy、SiNxOy、AlxOy、AlxNy、AlxOyNz、AlxNyOz膜などを使用することができる(x、y、zは任意)。また、上述の無機絶縁膜を覆う有機絶縁材料は、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、シロキサン樹脂などを使用することができる。
[表示装置の製造方法]
図面を参照して、本発明による成膜方法を用いた表示装置200の製造方法について説明する。図9は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法を説明するための平面図である。図10は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法に用いる成膜用マスク100を説明するための平面図である。図11乃至図14は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法を説明するための断面図である。図11乃至図14は、個々の表示装置200に個片化する前の状態の断面図であり、図9に示したA−A´に沿った断面図である。
図面を参照して、本発明による成膜方法を用いた表示装置200の製造方法について説明する。図9は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法を説明するための平面図である。図10は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法に用いる成膜用マスク100を説明するための平面図である。図11乃至図14は、本実施形態に係る表示装置200の製造方法を説明するための断面図である。図11乃至図14は、個々の表示装置200に個片化する前の状態の断面図であり、図9に示したA−A´に沿った断面図である。
図11は、第1基板202に対し、画素電極222の形成までを行った状態の断面図である。ここまでの工程についての詳細な説明は省略する。
画素電極22を形成した後、発光層226を形成する。発光層226は、表示領域206に配置される複数の画素208に亘って形成される。図9の平面図には、発光層226の成膜領域120、接触禁止領域124、封止領域230が示されている。この例では、接触禁止領域124は、成膜領域120を囲んでいる。
ここで、成膜領域120は、表示領域206に対応する。接触禁止領域124にはトランジスタ218を含む駆動回路が配置されるため、駆動回路領域とも呼ぶ。封止領域230は、表示領域206(成膜領域120)及び駆動回路領域(接触禁止領域124)を囲み、表示領域206及び駆動回路領域(接触禁止領域124)に配置された有機層を島状に分離する。つまり、この例では、駆動回路領域(接触禁止領域124)は、表示領域206を囲んでいる。
つまり、第1基板202の被成膜面上に、複数の画素を構成する複数の画素電極222を含む表示領域206(成膜領域120)、表示領域206の外側にトランジスタ218を含む駆動回路領域(接触禁止領域124)、及び駆動回路領域(接触禁止領域124)の外側に表示領域206(成膜領域120)を囲む封止領域230を形成する。
本実施形態においては、成膜用マスク100を用いた蒸着法によって、発光層226の堆積と共にパターニングを行う。図12は、図10に示した発光層226の成膜用マスク100を第1基板202の被成膜面に当接した状態の断面図である。
成膜用マスク100は、第1基板202の被成膜面に対向する第1面及び第1面とは反対側の第2面とを有する。更に、成膜用マスク100は、表示領域206(成膜領域120)を露出させる開口部を有し、少なくとも駆動回路領域(接触禁止領域124)を含む領域において、第1面102a側から薄板化されている。成膜用マスク100の第1面102aを被成膜面に当接する。
ここで、成膜禁止領域122は、封止領域230を含む必要がある。つまり、封止領域230には発光層226が堆積されてはならない。封止領域230に発光層226が堆積されてしまうと、そこに堆積された発光層226が水分の伝搬経路となり、表示装置200の外部から侵入した水分が、封止領域230を通過して表示領域200内の画素に侵入してしまう。これでは、封止領域230としての役割を果たさなくなる。
また、この例では、成膜禁止領域122内に、トランジスタ218等を含む回路が配置される接触禁止領域124が存在する。本実施形態に係る成膜方法においては、このトランジスタ218は、成膜用マスク100の第2遮蔽部108に重畳するため、成膜時に成膜用マスク100が直接接触したり、成膜用マスク100の打痕によって破壊されることが無い。
以上説明した成膜用マスクを通して、有機材料を含む発光層226を成膜する。図13は、図12に示した状態で発光層226成膜した後の状態を示す断面図である。
よって、本実施形態に係る成膜方法によれば、成膜用マスク100の開口部104に対応する領域に選択的に発光層226を堆積することと、成膜用マスク100と第1基板202の被成膜面との接触に起因するダメージの回避を両立することができる。よって、表示装置200の製造における歩留まりが向上し、信頼性の高い表示装置200を提供することができる。
発光層を形成した後、共通電極224、封止層232を形成し、第1基板202側(アレイ基板側)の工程が終了する。
共通電極224は、発光層226及び封止領域230を覆うように形成されてもよい。これによって、封止領域230を境に有機膜を効率的に分離することができ、水分の侵入への耐性が向上した表示装置を提供することができる。
封止層232は、共通電極224を覆い、無機絶縁層を含んでもよい。封止層232としては水分の浸入を遮断できる絶縁膜を用いることが好ましく、無機絶縁材料と有機絶縁材料の複数層の膜を用いることができる。例えば、無機絶縁材料を使用する場合、SiOx、SixNy、SiOxNy、SiNxOy、AlxOy、AlxNy、AlxOyNz、AlxNyOz膜などを使用することができる(x、y、zは任意)。また、上述の無機絶縁膜を覆う有機絶縁材料は、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、シロキサン樹脂などを使用することができる。これによって、水分の侵入への耐性が向上した表示装置を提供することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態による成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法について説明した。しかし、これらは単なる例示に過ぎず、本発明の技術的範囲はそれらには限定されない。例えば、表示装置の製造方法について、発光層の成膜を例として本発明による成膜方法を説明したが、本発明による成膜方法は、発光層の成膜のみに限られるものではなく、成膜用マスクを用いた成膜法であれば適用することが可能である。
実際、当業者であれば、特許請求の範囲において請求されている本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変更が可能であろう。よって、それらの変更も当然に、本発明の技術的範囲に属すると解されるべきである。
100:成膜用マスク
102:マスク本体
102a:第1面
102b:第2面
104:開口部
106:第1遮蔽部
108:第2遮蔽部
110:マスクフレーム
112:基板
114:被成膜面
116:マグネット
118:薄膜
120:成膜領域
122:成膜禁止領域
124:接触禁止領域
126:接触可能領域
200:表示装置
202:第1基板
204:第2基板
206:表示領域
208:画素
210:シール材
212:ドライバIC
214:端子領域
216:接続端子
218:トランジスタ
220:発光素子
222:画素電極
224:共通電極
226:発光層
228:バンク
230:封止領域
232:封止層
234:カラーフィルタ
102:マスク本体
102a:第1面
102b:第2面
104:開口部
106:第1遮蔽部
108:第2遮蔽部
110:マスクフレーム
112:基板
114:被成膜面
116:マグネット
118:薄膜
120:成膜領域
122:成膜禁止領域
124:接触禁止領域
126:接触可能領域
200:表示装置
202:第1基板
204:第2基板
206:表示領域
208:画素
210:シール材
212:ドライバIC
214:端子領域
216:接続端子
218:トランジスタ
220:発光素子
222:画素電極
224:共通電極
226:発光層
228:バンク
230:封止領域
232:封止層
234:カラーフィルタ
Claims (9)
- 被成膜面に対向する第1面及び前記第1面とは反対側の第2面、前記被成膜面の一部を露出させる少なくとも一つの開口部を有し、前記少なくとも一つの開口部の各々の端部において、前記第1面側から薄板化された領域を有するマスク本体を備えた成膜用マスク。
- 前記薄板化された領域は、前記少なくとも一つの開口部の各々を囲むことを特徴とする請求項1に記載の成膜用マスク。
- 前記薄板化された領域は、前記少なくとも一つの開口部の全てを囲むことを特徴とする請求項1に記載の成膜用マスク。
- 前記マスク本体の外郭部に設けられたマスクフレームを更に備えた請求項1に記載の成膜用マスク。
- 請求項1乃至請求項4に記載の成膜マスクを用いた成膜方法。
- 基板の被成膜面上に、複数の画素を構成する複数の画素電極を含む表示領域、前記表示領域の外側にトランジスタを含む駆動回路領域、及び前記駆動回路領域の外側に前記表示領域を囲む封止領域を形成し、
前記被成膜面に対向する第1面及び前記第1面とは反対側の第2面とを有し、前記表示領域を露出させる開口部を有し、少なくとも前記駆動回路領域を含む領域において、前記第1面側から薄板化された成膜用マスクの前記第1面を前記被成膜面に当接させ、
有機材料を含む発光層を成膜することを含む表示装置の製造方法。 - 前記駆動回路領域は、前記表示領域を囲むことを特徴とする請求項6に記載の表示装置の製造方法。
- 前記発光層及び前記封止領域を覆う共通電極を形成することを更に含む請求項6に記載の表示装置の製造方法。
- 前記共通電極を覆う封止層を形成することを更に含む請求項8に記載の表示装置の製造方法。
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