CN207009484U - 掩膜板 - Google Patents

掩膜板 Download PDF

Info

Publication number
CN207009484U
CN207009484U CN201720932459.4U CN201720932459U CN207009484U CN 207009484 U CN207009484 U CN 207009484U CN 201720932459 U CN201720932459 U CN 201720932459U CN 207009484 U CN207009484 U CN 207009484U
Authority
CN
China
Prior art keywords
opening
contact conductor
mask plate
device region
step surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201720932459.4U
Other languages
English (en)
Inventor
安乐平
李高敏
郝力强
刘宏俊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Qingyue Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Visionox Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Visionox Technology Co Ltd filed Critical Kunshan Visionox Technology Co Ltd
Priority to CN201720932459.4U priority Critical patent/CN207009484U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN207009484U publication Critical patent/CN207009484U/zh
Priority to PCT/CN2018/084521 priority patent/WO2019019728A1/zh
Priority to TW107205590U priority patent/TWM564826U/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

一种掩膜板,用于基板上OLED器件的制备,所述基板上设置有器件区和设置于所述器件区至少一侧的电极引线区,所述器件区用于设置所述OLED器件,所述电极引线区用于设置与所述OLED器件的电极电连接的电极引线层,所述掩膜板沿其厚度方向设置有相互连接的第一开口和第二开口,所述第一开口与所述器件区相对应,所述第二开口大于所述第一开口,且与所述第一开口共同形成台阶面,所述台阶面能够覆盖所述电极引线区,所述第二开口的深度大于所述电极引线层的厚度。本实用新型提供的掩膜板,不会蹭伤电极引线层,大大提高了OLED制备的良率。

Description

掩膜板
技术领域
本实用新型涉及半导体领域,特别是涉及一种半导体器件制备过程中使用的掩膜板。
背景技术
请参阅图1,现有技术在制备OLED时,一般先在基板110上制备阳极层122(例如ITO图型层)以及与阳极层电连接的阳极引线层124,然后再制备绝缘层126、隔离柱128、有机材料层(图未示)等各膜层。在所述阳极层122上制备所述有机材料层时,需要使用掩膜板210对所述阳极引线层124进行屏蔽,而掩膜板210会与阳极引线层124直接接触,导致所述阳极引线层124容易被蹭伤,从而使所述OLED出现不良现象。
实用新型内容
基于此,有必要提供一种不会蹭伤OLED电极引线层的掩膜板。
一种掩膜板,用于基板上OLED器件的制备,所述基板上设置有器件区和设置于所述器件区至少一侧的电极引线区,所述器件区用于设置所述OLED器件,所述电极引线区用于设置与所述OLED器件的电极电连接的电极引线层,所述掩膜板沿其厚度方向设置有相互连接的第一开口和第二开口,所述第一开口与所述器件区相对应,所述第二开口的面积大于所述第一开口且覆盖所述第一开口,所述第二开口与所述第一开口共同形成台阶面,所述台阶面能够覆盖所述电极引线区,所述第二开口的深度大于所述电极引线层的厚度。
在其中一个实施例中,所述第一开口的深度等于或小于所述掩膜板厚度的1/2。
在其中一个实施例中,所述台阶面的形状与所述电极引线区的形状相同。
在其中一个实施例中,所述台阶面的尺寸与所述电极引线区的尺寸相同。
在其中一个实施例中,所述器件区相对的两侧分别设置有所述电极引线区,所述第二开口与所述第一开口在所述相对的两侧分别形成所述台阶面。
在其中一个实施例中,所述基板上设置有多个所述器件区,每一所述器件区的至少一侧均设置有所述电极引线区,所述掩膜板上设置有多个所述相互连接的第一开口和第二开口。
在其中一个实施例中,所述台阶面用于与所述基板形成一用于容纳所述电极引线层的容纳腔。
在其中一个实施例中,所述掩膜板设置有所述第二开口的一面用于与所述基板接触。
在其中一个实施例中,沉积材料通过所述第一开口沉积于所述器件区内。
本实用新型通过设置所述第二开口和所述台阶面,能够使得所述掩膜板与所述基板接触时,所述台阶面与所述基板共同形成一用于容纳所述电极引线层的容纳腔。在所述器件区上沉积有机材料层时,所述容纳腔可以屏蔽所述电极引线层,防止有机材料沉积于所述电极引线层,并且所述台阶面与所述电极引线层之间会形成一间隙,从而使得所述电极引线层不会被所述掩膜板蹭伤。
附图说明
图1为传统掩膜板的结构示意图;
图2为本实用新型一实施例提供的掩膜板的结构示意图;
图3为本实用新型另一实施例提供的掩膜板的结构示意图;
图4为图3中A处的局部放大图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下通过实施例,并结合附图,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图2,本实用新型提供一种掩膜板220,用于基板110上OLED器件的制备。所述基板110上设置有器件区112和设置于所述器件区112至少一侧的电极引线区114。所述器件区112用于设置所述OLED器件,所述电极引线区114用于设置与所述OLED器件的电极电连接的电极引线层124。
所述掩膜板220沿其厚度方向设置有相互连接的第一开口222和第二开口224。所述第一开口222与所述器件区112相对应。所述第二开口224的面积大于所述第一开口222且覆盖所述第一开口222。所述第二开口222与所述第一开口224可共同形成台阶面。所述台阶面223能够覆盖所述电极引线区114。所述第二开口224的深度大于所述电极引线层124的厚度。
本实用新型通过设置所述第二开口224和所述台阶面223,能够使得所述掩膜板220通过设置有所述第二开口224的一面与所述基板110接触时,所述台阶面223与所述基板110共同形成一用于容纳所述电极引线层124的容纳腔。在所述器件区112上沉积有机材料层时,所述容纳腔可以屏蔽所述电极引线层124,防止有机材料沉积于所述电极引线层124上,并且所述台阶面223与所述电极引线层124之间会形成一间隙,从而使得所述电极引线层124不会被所述掩膜板220蹭伤。所述有机材料层可通过所述第一开口222沉积于所述器件区112内。
优选地,所述第二开口224的深度等于或小于所述掩膜板220厚度的1/2,此时,不仅可以保证在沉积所述有机材料层时,所述有机材料层不会通过所述台阶面223与所述电极引线层124之间的间隙沉积到所述电极引线层124上,而且可以保证所述掩膜板220在所述台阶面223处有足够的厚度(等于所述第一开口222的深度)而不会在所述掩膜板220使用过程中发生形变而蹭伤所述电极引线层124。
所述台阶面223的形状可以与所述电极引线区124的形状相匹配,以便于覆盖所述电极引线区124。所述台阶面223的尺寸可以与所述电极引线区124的尺寸相同,使得所述台阶面223既能够覆盖所述电极引线区124,又能够使得所述第二开口224区域尽可能小,以保证所述掩膜板220不易发生变形。
在一实施例中,所述器件区112相对的两侧分别设置有所述电极引线区114,所述第二开口224与所述第一开口222在所述器件区112相对的两侧分别形成所述台阶面223。两个所述台阶面223分别与两个所述电极引线区114对应,用于对该两个电极引线区114进行保护。
请参阅图3和图4,在一实施例中,所述基板110上设置有多个所述器件区112,每一所述器件区112的至少一侧均设置有所述电极引线区114。所述掩膜板220沿其厚度方向可设置有多个所述相互连接的第一开口222和第二开口224。此时,可使得所述有机材料层同时沉积于所述多个器件区112上,从而大大提高了OLED器件的制备效率。
在其中一个实施例中,所述台阶面用于与所述基板形成一用于容纳所述电极引线层的容纳腔。
在其中一个实施例中,所述掩膜板设置有所述第二开口的一面用于与所述基板接触,沉积材料通过所述第一开口沉积于所述器件区内。
可以理解,所述掩膜板220不仅仅适用于所述有机材料层的制备,也适用于其他只设置于所述器件区112而不设置于所述电极引线区114的膜层的制备。
本实用新型提供的掩膜板,在制备OLED器件的膜层时,可以避免基板上已设有的其他图型层被蹭伤,从而大大提高了OLED器件的良率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (8)

1.一种掩膜板,用于基板上OLED器件的制备,所述基板上设置有器件区和设置于所述器件区至少一侧的电极引线区,所述器件区用于设置所述OLED器件,所述电极引线区用于设置与所述OLED器件的电极电连接的电极引线层,其特征在于,
所述掩膜板沿其厚度方向设置有相互连接的第一开口和第二开口,所述第一开口与所述器件区相对应,所述第二开口的面积大于所述第一开口且覆盖所述第一开口,所述第二开口与所述第一开口共同形成台阶面,所述台阶面能够覆盖所述电极引线区,所述第二开口的深度大于所述电极引线层的厚度。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一开口的深度等于或小于所述掩膜板厚度的1/2。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述台阶面的形状与所述电极引线区的形状相同。
4.根据权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述台阶面的尺寸与所述电极引线区的尺寸相同。
5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述器件区相对的两侧分别设置有所述电极引线区,所述第二开口与所述第一开口在所述相对的两侧分别形成所述台阶面。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述基板上设置有多个所述器件区,每一所述器件区的至少一侧均设置有所述电极引线区,所述掩膜板上设置有多个所述相互连接的第一开口和第二开口。
7.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述台阶面用于与所述基板形成一用于容纳所述电极引线层的容纳腔。
8.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板设置有所述第二开口的一面用于与所述基板接触。
CN201720932459.4U 2017-07-28 2017-07-28 掩膜板 Active CN207009484U (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201720932459.4U CN207009484U (zh) 2017-07-28 2017-07-28 掩膜板
PCT/CN2018/084521 WO2019019728A1 (zh) 2017-07-28 2018-04-25 掩膜板
TW107205590U TWM564826U (zh) 2017-07-28 2018-04-30 Mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201720932459.4U CN207009484U (zh) 2017-07-28 2017-07-28 掩膜板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN207009484U true CN207009484U (zh) 2018-02-13

Family

ID=61456785

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201720932459.4U Active CN207009484U (zh) 2017-07-28 2017-07-28 掩膜板

Country Status (3)

Country Link
CN (1) CN207009484U (zh)
TW (1) TWM564826U (zh)
WO (1) WO2019019728A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019019728A1 (zh) * 2017-07-28 2019-01-31 昆山维信诺科技有限公司 掩膜板

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103205687B (zh) * 2012-01-16 2016-03-02 昆山允升吉光电科技有限公司 蒸镀掩模板及其制作方法
CN106381464A (zh) * 2015-07-28 2017-02-08 昆山国显光电有限公司 通用金属掩模板及其制造方法
JP2017071842A (ja) * 2015-10-09 2017-04-13 株式会社ジャパンディスプレイ 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
CN106637074B (zh) * 2017-01-09 2019-02-22 昆山国显光电有限公司 蒸镀掩膜板、oled基板及测量蒸镀像素偏位的方法
CN207009484U (zh) * 2017-07-28 2018-02-13 昆山维信诺科技有限公司 掩膜板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019019728A1 (zh) * 2017-07-28 2019-01-31 昆山维信诺科技有限公司 掩膜板

Also Published As

Publication number Publication date
TWM564826U (zh) 2018-08-01
WO2019019728A1 (zh) 2019-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104517999B (zh) 显示装置和制造显示装置的方法
CN205944094U (zh) 一种oled显示面板及显示装置
CN104659271B (zh) 一种有机发光二极管封装结构及封装方法、显示装置
CN107340928A (zh) 触控显示面板及其制造方法、触控显示装置
CN104681630B (zh) 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示面板
CN104091886B (zh) 一种有机薄膜晶体管、阵列基板及制备方法、显示装置
CN104051668A (zh) 有机电致发光显示装置及其制造方法
CN107275335A (zh) 显示设备
CN107482015B (zh) 一种三维存储器的制备方法及其结构
TW201038144A (en) Circuit board and manufacturing method thereof
CN103531593B (zh) 像素结构、阵列基板、显示装置及像素结构的制造方法
CN108920012A (zh) 一种触控显示面板、显示装置及其制作方法
CN109301079A (zh) 封装结构及其制作方法、发光二极管显示面板
CN110491929A (zh) 显示基板、制备方法及显示装置
CN107564949A (zh) 氧化物tft、其制造方法、使用其的显示面板和显示装置
CN207009484U (zh) 掩膜板
EP2908348B1 (en) Thin film transistor and manufacturing method thereof, array substrate and display device
CN104685653A (zh) 用于制造光电子器件的方法和设备
US9698373B2 (en) Photoelectric device comprising the barrier film layer
CN106415874B (zh) 光电子器件和用于制造光电子器件的方法
CN109638042A (zh) 一种oled显示面板
CN103928453B (zh) 一种阵列基板及其制造方法
WO2024036895A1 (zh) 显示面板和电子终端
CN208422917U (zh) 一种显示基板、显示装置
CN108493354B (zh) Oled基板及显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 215300, 188, Feng Feng Road, Kunshan hi tech Zone, Suzhou, Jiangsu, Kunshan

Patentee after: Suzhou Qingyue Photoelectric Technology Co., Ltd

Address before: 215300, 188, Feng Feng Road, Kunshan hi tech Zone, Suzhou, Jiangsu, Kunshan

Patentee before: Kunshan Visionox Technology Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder