JP4620420B2 - 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 - Google Patents

有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4620420B2
JP4620420B2 JP2004284965A JP2004284965A JP4620420B2 JP 4620420 B2 JP4620420 B2 JP 4620420B2 JP 2004284965 A JP2004284965 A JP 2004284965A JP 2004284965 A JP2004284965 A JP 2004284965A JP 4620420 B2 JP4620420 B2 JP 4620420B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
icon
thin film
film deposition
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004284965A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005116526A (ja
Inventor
金鮮喜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Mobile Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Mobile Display Co Ltd filed Critical Samsung Mobile Display Co Ltd
Publication of JP2005116526A publication Critical patent/JP2005116526A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4620420B2 publication Critical patent/JP4620420B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/10Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Description

本発明は、有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体に係り、より詳細には、セルに対応するパターンが形成されたメインマスクと特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンが形成されたアイコンマスクを相互に分離された状態で具備する有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体に関する。
電子発光素子は、能動発光型表示素子であって、視野角が広く、コントラストが優れているだけでなく、応答速度が速いという長所を有しており、次世代の表示素子として注目されている。
このような電子発光素子は、発光層を形成する物質によって無機電子発光素子と有機電子発光素子とに区分されるが、有機電子発光素子は、無機電子発光素子に比べて輝度及び応答速度などの特性が優れていて、カラーディスプレイが可能である長所を有している。
このような有機電子発光素子は、透明な絶縁基板上に所定パターンとして形成された第1電極と、前記第1電極が形成された絶縁基板上に真空蒸着法により形成された有機発光層と、前記有機発光層の上面で前記第1電極と交差する方向に形成された第2電極(カソード電極)と、を含む。
このように構成された有機電子発光素子の製作において、前記第1電極はITO(indium tin oxide)よりなるが、このITOのパターニングは、フォトリソグラフィ法を使用して塩化第2鉄を含むエッチング液を使ったウェットエッチング法でなされる。しかし、第2電極(カソード電極)をフォトリソグラフィ法でエッチングすれば、レジストを剥離する過程と、第2電極をエッチングする過程で水分が有機発光層と第2電極との境界面に浸透するようになるので、有機電子発光素子の性能及び寿命特性を顕著に劣化させる問題をもたらす。
このような問題点を解決するために有機発光層をなす有機電子発光材料と第2電極をなす材料とを蒸着法で形成する方法が提案された。
このような蒸着法を利用した有機電子発光素子の製作においては、透明な絶縁基板にITOなどの材料で第1電極をスパッタリング法及びフォトリソグラフィ法によりストライプパターンで形成する。そして、第1電極が形成された透明基板に有機発光層を積層して形成し、更に第2電極の形成パターンと同じパターンを有するマスクを有機発光層に密着させた後に、同じ第2電極形成材料を蒸着する。
このような製造過程で有機発光層を蒸着するためのマスクと、このマスクを利用した有機電子発光素子と、その製造方法とが特許文献1に開示されている。
ここに開示された蒸着のためのマスクは、薄板の本体に相互に所定間隔で離隔されるストライプ状のスロットが形成された構造を有する。
特許文献2に開示されたマスクは、金属薄板においてスリット部とブリッジ部とがメッシュ状をなす。
特許文献3に開示されているマスクは、電極マスク部と1対の端子マスク部とを有している。電極マスク部は、カソード電極すなわち第2電極間のギャップに該当する幅を具備し、相互に平行に設置されるストライプ状のマーキング部と複数のマーキング部の両端をそれぞれ連結する連結部を具備する。
図1は、有機発光層薄膜の量産のためのマスク組立て体についての概略的な分離斜視図である。
図1を参照すれば、マスク組立て体は、マスク11と、マスク11に結合されるマスクフレーム12と、を具備する。マスクフレーム12には開口16が形成され、開口16に対応するようにマスク11の面積が設定される。マスク11は、マスクフレーム12にクリッピングされ、この時にマスク11に引張り力が加えられる場合もある。
マスク11上には多数の単位セル15が形成されており、多数の単位セル15は微細ピッチパターン13と特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターン14とを具備する。微細ピッチパターン13は、マスクを穿孔して形成された多数のスリットと、スリット間に存在するストリップと、を具備する。また、アイコンパターン14は、特定のキャラクタのような所定の形状でマスクを穿孔して形成されたものである。
前記のような構成を有したマスクフレーム組立て体を利用した有機発光層薄膜の蒸着を概略的に説明すれば、真空チャンバ(図示せず)内で第1電極が形成された基板上にマスク11を密着させた状態で、有機膜蒸着容器から蒸発される有機物をマスク11の微細ピッチパターン13とアイコンパターン14とを通過させて基板(図示せず)上に所定の形状に蒸着させる。
前述したようなマスクフレーム組立て体では、1つのマスク11に具備された各単位セル15に微細ピッチパターン13とアイコンパターン14とが同時に形成されることによって製造過程で次のような問題が発生する。ほとんどの場合、画面のサイズが同一である場合に微細ピッチパターン13の設計は変更されないが、アイコンパターン14の形状は顧客からの注文によってよく変更されるので、アイコンパターン14が変更される度に全体マスク11を新規に製作しなければならない。したがって、製造コストが増加し、納期が遅延する。また、アイコンパターン14が同じ場合でも、アイコンのカラーが変更される場合には該当カラーに対応するマスクの数が増加するので、同じ問題が発生する。
大韓民国特許公開2000−60589号公報 大韓民国特許公開1998−71583号公報 日本公開特許公報2000−12238号公報
本発明は、前記の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、改善された有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体を提供することである。
本発明の他の目的は、微細ピッチパターンが形成されたマスクと特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンが形成されたマスクとを相互に分離状態で具備するマスクフレーム組立て体を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、微細ピッチパターンが形成されたマスクと特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンが形成されたマスクとを相互に分離状態で具備するマスクフレーム組立て体を利用して有機電子発光素子の薄膜を蒸着する方法を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明によれば、複数の単位セルに対応するパターンが形成されたメインマスクと、前記メインマスクに形成された開口に対応して前記メインマスク上に重畳されて配置され、特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンが形成されたアイコンマスクと、前記メインマスクに対応する開口が形成されており、前記メインマスク及びアイコンマスクが結合されるマスクフレームとを具備することを特徴とする有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体が提供される。
本発明の望ましい実施形態によれば、前記メインマスクは前記マスクフレームに接合され、前記アイコンマスクは前記マスクフレームに解除可能に結合されうる。
また、本発明によれば、単位セルに対応するパターンと前記パターンの一方の側に形成された開口とを有し、マスクフレームに接合されたメインマスクを準備する段階と、特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンを有するアイコンマスクを前記メインマスクの開口に重畳配置されるように前記マスクフレームに対して解除可能に結合させる段階と、前記メインマスクとアイコンマスクとを具備するマスクフレーム組立て体を真空チャンバ内に設置し、前記マスクフレームの一方の側に基板を密着させた状態で有機物形成物質を蒸発させて前記基板に蒸着させる段階と、を具備することを特徴とする有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体を利用した薄膜蒸着方法が提供される。
本発明による有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体は、メインマスクとアイコンマスクとを別途に具備することによって、特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンの変更時にアイコンマスクのみを設計製作することによって生産体制に対応でき、したがって、コストと時間が節減できる。また、顧客からの要請に即座に対応でき、生産性を向上させうる長所がある。
以下、添付された図面に示された本発明の一実施形態を参照して本発明をより詳細に説明する。
図2は、本発明による有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体についての概略的な分離斜視図である。
図2を参照して説明すると、本発明の一実施形態のマスクフレーム組立て体は、各単位セルに対応するパターン23が形成されたメインマスク21と、メインマスク21に形成された開口27に対応してメインマスク21上に重畳配置されるように構成され、特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターン32が形成されたアイコンマスク31と、メインマスク21に対応する開口26が形成されており、マスク21及びアイコンマスク31が結合されるマスクフレーム22とを具備する。
メインマスク21には、複数のパターン23と複数の開口27とが形成されている。各パターン23は単位セルを形成する。パターン23は、Aで表示された円内に拡大されて示されたように、メインマスク21を穿孔させて形成された複数の平行なスリット35とスリット35間に形成された複数のストリップ36よりなる。スリット35を通じて有機物が基板に蒸着されうる。メインマスク21は、マスクフレーム22に対して、例えば溶接によって接合される。
開口27は、列をなして配置されたパターン23間に形成されている。開口27が形成される位置は、図1に示されたアイコンパターン14が配置される位置に対応する。メインマスク21に形成される開口27は、アイコンマスク31がそれに取り付けられた状態において、アイコンマスク31を通じた有機物の蒸着を妨げないように形成される。
開口27には、図2に示されたように、アイコンマスク31が取り付けられる。アイコンマスク31には、図2に示されたように、多数のアイコンパターン32が形成されている。アイコンパターン32は、それぞれのパターン23に対応するように形成される。アイコンマスク31は、メインマスク21の開口27に適合するように配置され、その両端部がマスクフレーム2のクリッピング位置33において分離可能にクリッピングされる。クリッピングは、多様な方法で行うことができ、例えば固定力が保証されるクリップ等によりなされうる。図2には、メインマスク21から分離された1つのアイコンマスク31と、メインマスク21に取り付けられた3つのアイコンマスク31が示されているが、メインマスク21に取り付けられるアイコンマスク31の個数に制限はない。また、いずれのアイコンマスク31も、マスク27に形成された開口27に対して分離可能に取り付けられる。
アイコンマスク31に形成されるアイコンパターン32は、設計上の目的に応じて、または顧客からの要請に応じて多様な形態に形成されうる。例えば、モデルの変更が必要な場合には、メインマスク21全体を変更させる必要なしに、アイコンマスク31のみを替えても、そのようなモデル変更に対応できる。また、アイコンパターン32を通して蒸着によって形成されうるアイコンのカラー化、及び、カラーの変更に対応するために、例えば、レッド、ブルー、グリーンの蒸着のためのアイコンマスクを具備することができる。
図3は、本発明の望ましい実施形態の有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクを利用して有機膜を形成することを概略的に示した説明図である。
図面を参照すれば、本発明の望ましい実施形態のマスクフレーム組立て体100は、真空チャンバ(図示せず)内に設置された支持台150上に固定される。有機電子発光素子のレッド、グリーン、ブルーの薄膜を蒸着するためには、真空チャンバの内部に設置された有機膜蒸着容器202と対応する側にマスクフレーム組立て体100を設置し、その上部に薄膜が形成される基板300を装着する。基板300は、マスク100を基板300に密着させるためのマグネットユニット400により加圧されることによってマスク100が基板300に密着される。
この状態で有機膜蒸着容器202の動作によって有機物形成物質が蒸発して基板300に蒸着される。蒸発した有機物形成物質は、メインマスク21に形成されたパターンとアイコンマスク31に形成されたアイコンパターンとを通じて基板300上に蒸着される。
本明細書では、本発明を限定された実施形態を中心に説明したが、本発明の技術的範囲内で多様な実施形式の採用が可能である。また、均等な手段による置換を伴う構成及び方法も、本発明の技術的範囲に属するものと理解されなければならない。
本発明は、有機電子発光素子の製造に有用である。
通常の有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体の分離斜視図である。 本発明の望ましい実施形態の有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体の分離斜視図である。 図2に示されたマスクフレーム組立て体を利用した薄膜蒸着方法を示した図である。
符号の説明
21 メインマスク
22 マスクフレーム
23 パターン
26、27 開口
31 アイコンマスク
32 アイコンパターン
33 クリッピング地点
35 スリット
36 ストリップ

Claims (3)

  1. 複数の単位セルに対応するパターンが形成されたメインマスクと、
    前記メインマスクに形成された開口に対応して前記メインマスク上に重畳されて配置され、特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンが形成されたアイコンマスクと、
    前記メインマスクに対応する開口が形成されており、前記メインマスク及びアイコンマスクが結合されるマスクフレームと、
    を具備することを特徴とする有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体。
  2. 前記メインマスクは前記マスクフレームに接合され、前記アイコンマスクは前記マスクフレームに解除可能に結合されることを特徴とする請求項1に記載の有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体。
  3. 単位セルに対応するパターンと前記パターンの一方の側に形成された開口を有し、マスクフレームに接合されたメインマスクを準備する段階と、
    特定のキャラクタを表す所定の形状のアイコンパターンを有するアイコンマスクを、前記メインマスクの開口に重畳配置されるように、前記マスクフレームに対して解除可能に結合させる段階と、
    前記メインマスクとアイコンマスクとを具備するマスクフレーム組立て体を真空チャンバ内に設置し、前記マスクフレームの一方の側に基板を密着させた状態で有機物形成物質を蒸発させて前記基板に蒸着させる段階と、
    を具備することを特徴とする有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体を利用した薄膜蒸着方法。
JP2004284965A 2003-10-04 2004-09-29 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法 Active JP4620420B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020030068989A KR100889764B1 (ko) 2003-10-04 2003-10-04 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체및, 그것을 이용한 박막 증착 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005116526A JP2005116526A (ja) 2005-04-28
JP4620420B2 true JP4620420B2 (ja) 2011-01-26

Family

ID=34386733

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004284965A Active JP4620420B2 (ja) 2003-10-04 2004-09-29 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20050072359A1 (ja)
JP (1) JP4620420B2 (ja)
KR (1) KR100889764B1 (ja)
CN (1) CN100481577C (ja)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100683779B1 (ko) * 2005-05-28 2007-02-15 삼성에스디아이 주식회사 마스크 제조용 포토마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임어셈블리의 제작방법
KR101281909B1 (ko) * 2006-06-30 2013-07-03 엘지디스플레이 주식회사 박막 증착 장치
WO2009125882A1 (en) * 2008-04-10 2009-10-15 Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation Manufacturing large size organic light emitting displays
WO2009128569A1 (en) * 2008-04-14 2009-10-22 Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation Apparatuses for manufacturing large size display panels
TWI472639B (zh) 2009-05-22 2015-02-11 Samsung Display Co Ltd 薄膜沉積設備
JP5623786B2 (ja) 2009-05-22 2014-11-12 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置
KR101117719B1 (ko) * 2009-06-24 2012-03-08 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR20110014442A (ko) 2009-08-05 2011-02-11 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
JP5328726B2 (ja) 2009-08-25 2013-10-30 三星ディスプレイ株式會社 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法
JP5677785B2 (ja) 2009-08-27 2015-02-25 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法
US20110052795A1 (en) * 2009-09-01 2011-03-03 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus and method of manufacturing organic light-emitting display device by using the same
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR101030030B1 (ko) * 2009-12-11 2011-04-20 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체
KR101084184B1 (ko) 2010-01-11 2011-11-17 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101174875B1 (ko) 2010-01-14 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101274718B1 (ko) * 2010-01-28 2013-06-12 엘지디스플레이 주식회사 증착마스크 및 그를 포함하는 마스크 어셈블리
KR101193186B1 (ko) 2010-02-01 2012-10-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101156441B1 (ko) 2010-03-11 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101202348B1 (ko) 2010-04-06 2012-11-16 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
KR101223723B1 (ko) 2010-07-07 2013-01-18 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101723506B1 (ko) 2010-10-22 2017-04-19 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101738531B1 (ko) 2010-10-22 2017-05-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR20120045865A (ko) 2010-11-01 2012-05-09 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR20120065789A (ko) 2010-12-13 2012-06-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2017-07-25 삼성디스플레이 주식회사 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치
KR101813549B1 (ko) * 2011-05-06 2018-01-02 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치
KR101852517B1 (ko) 2011-05-25 2018-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101840654B1 (ko) 2011-05-25 2018-03-22 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101857249B1 (ko) 2011-05-27 2018-05-14 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR20130004830A (ko) 2011-07-04 2013-01-14 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR101826068B1 (ko) 2011-07-04 2018-02-07 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치
KR102015872B1 (ko) 2012-06-22 2019-10-22 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR102079170B1 (ko) * 2013-04-09 2020-02-20 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치 및 그에 적용되는 마스크 조립체
KR102081284B1 (ko) 2013-04-18 2020-02-26 삼성디스플레이 주식회사 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조 방법 및 유기발광 디스플레이 장치
KR102352280B1 (ko) * 2015-04-28 2022-01-18 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체 제조 장치 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체 제조 방법
KR102544244B1 (ko) * 2016-07-19 2023-06-19 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체
KR20180062486A (ko) * 2016-11-30 2018-06-11 엘지디스플레이 주식회사 증착용 마스크 및 그 제조방법
CN106816554A (zh) 2017-01-24 2017-06-09 京东方科技集团股份有限公司 蒸镀掩膜版及制作方法、oled显示基板及蒸镀方法
CN106868454A (zh) * 2017-03-10 2017-06-20 南京攀诺德自动化设备有限公司 一种减小蒸镀掩膜板变形的方法
CN110950301B (zh) * 2018-09-27 2023-04-07 哈尔滨工业大学(威海) 一种基于纳米线材料的柔性电极复杂图案的制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08176800A (ja) * 1994-12-27 1996-07-09 Daishinku Co 成膜マスク装置
JP2001237073A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Tohoku Pioneer Corp 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
JP2001254169A (ja) * 2000-03-13 2001-09-18 Optonix Seimitsu:Kk 蒸着用金属マスクおよび蒸着用金属マスク製造方法
JP2001273976A (ja) * 2000-03-28 2001-10-05 Tohoku Pioneer Corp 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置
JP2003027212A (ja) * 2001-07-23 2003-01-29 Sony Corp パターン成膜装置およびパターン成膜方法
JP2003068454A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Dainippon Printing Co Ltd 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置
JP2003217850A (ja) * 2001-12-05 2003-07-31 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機elデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3894487A (en) * 1973-12-10 1975-07-15 Miller Screen & Design Inc Method and apparatus for screen printing fixed and variable indicia
JP3504421B2 (ja) * 1996-03-12 2004-03-08 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
WO1999020080A1 (fr) * 1997-10-15 1999-04-22 Toray Industries, Inc. Procede de fabrication d'un dispositif electroluminescent organique
US6592933B2 (en) * 1997-10-15 2003-07-15 Toray Industries, Inc. Process for manufacturing organic electroluminescent device
US7396558B2 (en) * 2001-01-31 2008-07-08 Toray Industries, Inc. Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same
DE60228599D1 (de) * 2001-08-24 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd Maskeneinrichtung zur bildung mehrerer seiten für die vakuumablagerung
JP3651432B2 (ja) * 2001-09-25 2005-05-25 セイコーエプソン株式会社 マスク及びその製造方法並びにエレクトロルミネッセンス装置の製造方法
US6878208B2 (en) * 2002-04-26 2005-04-12 Tohoku Pioneer Corporation Mask for vacuum deposition and organic EL display manufactured by using the same
US6729927B2 (en) * 2002-08-01 2004-05-04 Eastman Kodak Company Method and apparatus for making a shadow mask array
JP4173722B2 (ja) * 2002-11-29 2008-10-29 三星エスディアイ株式会社 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子
KR100534580B1 (ko) * 2003-03-27 2005-12-07 삼성에스디아이 주식회사 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08176800A (ja) * 1994-12-27 1996-07-09 Daishinku Co 成膜マスク装置
JP2001237073A (ja) * 2000-02-24 2001-08-31 Tohoku Pioneer Corp 多面取り用メタルマスク及びその製造方法
JP2001254169A (ja) * 2000-03-13 2001-09-18 Optonix Seimitsu:Kk 蒸着用金属マスクおよび蒸着用金属マスク製造方法
JP2001273976A (ja) * 2000-03-28 2001-10-05 Tohoku Pioneer Corp 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置
JP2003027212A (ja) * 2001-07-23 2003-01-29 Sony Corp パターン成膜装置およびパターン成膜方法
JP2003068454A (ja) * 2001-08-24 2003-03-07 Dainippon Printing Co Ltd 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置
JP2003217850A (ja) * 2001-12-05 2003-07-31 Samsung Nec Mobile Display Co Ltd 有機elデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体

Also Published As

Publication number Publication date
US20050072359A1 (en) 2005-04-07
CN1607868A (zh) 2005-04-20
KR100889764B1 (ko) 2009-03-20
CN100481577C (zh) 2009-04-22
KR20050033086A (ko) 2005-04-12
JP2005116526A (ja) 2005-04-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4620420B2 (ja) 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立て体、及び、それを利用した薄膜蒸着方法
JP3829148B2 (ja) 有機elデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
JP4444909B2 (ja) マスク組立体及びそれを用いたマスクフレーム組立体
JP4440563B2 (ja) 有機電子発光素子の薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
TWI255666B (en) Vapor deposition mask and organic EL display device manufacturing method
EP1802177A1 (en) Organic electroluminescent device and manufacturing method thereof
JP4506214B2 (ja) 有機電界発光装置およびその製造方法
JP2004281339A (ja) 成膜用マスク、有機elパネル、有機elパネルの製造方法
KR20080060400A (ko) 어레이 기판의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 광 발생장치의 제조 방법
CN111020477B (zh) 一种掩膜装置、蒸镀方法及显示面板
US10533246B2 (en) Deposition mask, method for manufacturing the same, and touch panel
JPS62180989A (ja) 薄膜elデバイスにおいて電極構造体をパタ−ン形成する為のマスク
JP2001043981A (ja) 表示装置およびその製造方法
JP2004214015A (ja) 蒸着マスク、蒸着方法、有機elパネルの製造方法および有機el表示パネル
US6948994B2 (en) Masks for forming strengthened electrodes of a light emission display panel
JP2001273976A (ja) 有機エレクトロルミネセンス表示パネル、その製造方法、及びその成膜装置
KR100275492B1 (ko) 전방향 전기발광 평판 디스플레이 소자 및 그 제조 방법
JPH0863274A (ja) 入力パネル及びその製造方法
KR100889421B1 (ko) 플라즈마 디스플레이 패널 제조 방법
KR102100296B1 (ko) 분할 마스크 조립체
EP0295329B1 (en) Liquid crystal color display device
WO2020194632A1 (ja) 蒸着マスクおよびその製造方法
JP2002004045A (ja) パターン形成装置、パターン形成方法、有機電界発光素子ディスプレイの製造装置及び製造方法
JP2006120892A (ja) 有機エレクトロルミネセンス表示パネル及びその製造方法
JPH11297471A (ja) 電界発光素子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20050527

A072 Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073

Effective date: 20060313

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20070322

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070322

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070727

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20081208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090225

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100223

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100729

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100928

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101028

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4620420

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250