JPH0863274A - 入力パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 入力パネルの改善に関し、周囲電極及び抵抗
膜の構造を工夫し、それらの実質的な面積抵抗を増加さ
せ、当該電極からの電位分布の均一化を図りつつ、低電
力消費化を向上させる。 【構成】 指定された入力座標位置に応じた検出電位を
与える抵抗膜１１と、抵抗膜１１の周辺に設けられ、該
抵抗膜１１の横方向及び縦方向から、交互に電界を発生
する周囲電極１２とを備え、抵抗膜１１は、全面を均一
なピッチに開孔した複数の開孔部11Ａを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、入力パネル及びその製
造方法に関するものであり、更に詳しく言えば、指又は
ペン等により押下した位置を検出する入力装置及びその
形成方法に関するものである。近年、情報処理装置の取
扱いの利便性及び電子機器の高密度化の要求に伴い、指
又はペン等により押下した位置を検出する抵抗膜方式の
入力パネルが使用されている。

【０００２】これによれば、入力パネルの抵抗膜面に均
一な電位分布を発生させる必要がある。周囲電極からの
電位分布は、抵抗膜の面積抵抗と当該電極の面積抵抗と
の比に関係し、これを均一（リニアリティ）化するため
には、周囲電極の面積抵抗を低く設計する方法が採られ
る。しかし、当該入力パネルをバッテリー駆動方式の表
示装置に組み合わせた場合には、周囲電極の低抵抗化は
消費電流の増大につながる。

【０００３】そこで、周囲電極及び抵抗膜の構造を工夫
し、それらの実質的な面積抵抗を増加させ、当該電極か
らの電位分布の均一化を図りつつ、低電力消費化を向上
させることができるパネル及びその形成方法が望まれて
いる。

【０００４】

【従来の技術】図６は、従来例に係る説明図である。図
６（Ａ）は従来例に係る入力パネルの構成図であり、図
６（Ｂ）は、その入力パネルの抵抗膜の構造図であり、
図６（Ｃ）は、他の入力パネルの抵抗膜の構造図をそれ
ぞれ示している。例えば、特開昭４７−３６９２３に見
られるような入力パネル装置は、図６（Ａ）に示すよう
に、抵抗膜１，周囲電極２，プローブペン３，電源部４
及び電圧検出部５を備える。

【０００５】当該装置の機能は、まず、電源部４から、
抵抗膜１の周辺に設けられた周囲電極２に電圧が供給さ
れると、交互に電界が発生される。このような状態で、
抵抗膜１をプローブペン３によって接触すると、電源部
４の電圧供給タイミングに同期して、入力座標位置に応
じた検出電圧Ｖｘ及びＶｙが電圧検出部５から出力され
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】一般に、周囲電極２か
らの電位分布は、図６（Ｂ）に示すように抵抗膜１の面
積抵抗をＰｏと周囲電極２の面積抵抗をＰｅとすると、
ＰｏとＰｅとの比が大きいほど、均一（リニアリティ）
になる。このため、周囲電極２の面積抵抗を低く設計す
る方法が採られる。しかし、当該入力パネルをバッテリ
ー駆動方式の表示装置に組み合わせた場合には、周囲電
極２の抵抗を低くすることは、消費電流の増大につなが
り、使用継続時間の長期化の妨げとなるという問題があ
る。

【０００７】特に、透明導電膜によって構成された抵抗
膜１では、面積抵抗が５００〜２ｋΩ／□程度となるの
に対して、その周囲電極２では数Ω／□（シート抵抗と
示す）以下となる。従って、周囲電極２による消費電流
が全体の消費電力の多くを占める。また、図６（Ｃ）に
示すように周囲電極６の形状を撓ませて、リニアリティ
を改善する方法が提案されている。しかし、当該電極６
部分が大きくなり、入力パネルとして使用できる有効面
積が小さくなり、その小型化の妨げとなるという問題が
ある。

【０００８】本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創
作されたものであり、周囲電極及び抵抗膜の構造を工夫
し、それらの実質的な面積抵抗を増加させ、当該電極か
らの電位分布の均一化を図りつつ、低電力消費化を向上
させることが可能となる入力パネル及びその製造方法の
提供を目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の入力パネ
ルは、その実施例を図１に示すように、指定された入力
座標位置に応じた検出電位を与える抵抗膜と、前記抵抗
膜の周辺に設けられ、該抵抗膜の横方向及び縦方向か
ら、交互に電界を発生する周囲電極とを備え、前記抵抗
膜は複数の開孔部を有することを特徴とする。

【００１０】本発明の第１の入力パネルにおいて、前記
抵抗膜は均一なピッチの開孔部を有することを特徴とす
る。本発明の第１の入力パネルにおいて、前記開孔部
は、プローブペンと抵抗膜との接触面積よりも小さいこ
とを特徴とする。本発明の第２の入力パネルは、その実
施例を図３に示すように、前記抵抗膜の開孔部は、六角
形状を成しハニカム構造を有することを特徴とする。

【００１１】本発明の第３の入力パネルは、その実施例
を図４（Ａ）に示すように、前記周囲電極の断面が、該
周囲電極の内側から外側に向かって傾斜する略三角形状
を有することを特徴とする。本発明の第４の入力パネル
は、その実施例を図４（Ｂ）に示すように、前記周囲電
極は、抵抗膜の比抵抗に比べて小さい所望の比抵抗の第
１の幅の周囲電極と、前記第１の幅よりも狭く第１の幅
の周囲電極の比抵抗と同等又はそれ以下の比抵抗の第２
の幅の周囲電極とが抵抗膜上に積層されて成ることを特
徴とする。

【００１２】本発明の第５の入力パネルは、その実施例
を図４（Ｃ）に示すように、前記周囲電極は、抵抗膜の
比抵抗に比べて小さい所望の比抵抗の周囲電極が第１の
周回路に沿って設けられ、前記第１の周回路に沿って設
けられた周囲電極の比抵抗と同等又はそれ以下の比抵抗
の周囲電極が第１の周回路の外側の第２の周回路に沿っ
て併設されて成ることを特徴とする。

【００１３】本発明の入力パネルの第１の製造方法は、
その実施例を図５（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、基板上
に抵抗膜を形成する工程と、前記抵抗膜が形成された基
板上にレジスト膜をパターニングする工程と、前記レジ
スト膜をマスクにして抵抗膜に所望の間隔の格子状の開
孔部を形成する工程とを有することを特徴とする。本発
明の入力パネルの第２の製造方法は、その実施例を図５
（Ｄ）に示すように、前記開孔部を形成した後に、前記
抵抗膜の開孔部のエッジを保護する工程とを有すること
を特徴とする。

【００１４】本発明の入力パネルの第２の製造方法にお
いて、前記開孔部を形成した後に、前記基板の全面に透
明性の導電膜を形成する工程とを有することを特徴とす
る。本発明の入力パネルの第１及び第２の製造方法にお
いて、前記抵抗膜は、有機樹脂材又は透明性の導電膜を
用いることを特徴とする。本発明の入力パネルの第１及
び第２の製造方法において、前記抵抗膜の開孔部の間隔
は、当該入力パネルが適用される表示装置の画素ピッチ
又は当該入力パネルの入力座標位置を画定するドットス
ペーサの配置ピッチに比較して小さくすることを特徴と
し、上記目的を達成する。

【００１５】

【作 用】本発明の第１の入力パネルによれば、その実
施例を図１に示すように、均一なピッチの開孔部によっ
て抵抗膜の電流密度が減少し、実質的な面積抵抗を増加
させることができ、抵抗膜面の電位分布が開孔部の無い
抵抗膜面の電位分布に比べて、更に、均一（リニアリテ
ィ良く）化する。また、透明導電膜を用いた抵抗膜で
は、透過率を向上させることが可能となる。

【００１６】これにより、抵抗膜面の電位分布の均一化
を図りつつ、周辺電極の抵抗を高めることができる。こ
のことで、抵抗膜の面積抵抗と周囲電極の面積抵抗とを
増加させることができ、消費電流の低減化を図ることが
可能となる。本発明の第２の入力パネルによれば、その
実施例を図３に示すように、抵抗膜の開孔部の間隔と、
当該入力パネルが適用される表示装置の画素ピッチ又は
当該入力パネルの入力座標位置を画定するドットスペー
サの配置ピッチとをずらすことにより、この位置関係を
原因とするモアレ縞が防止できる。

【００１７】本発明の第３の入力パネルによれば、断面
が四角形状を有する周囲電極の面積抵抗に比べて、その
実施例を図４（Ａ）に示すような略三角形状を有する周
囲電極では、該電極の断面積が１／２になることから、
その面積抵抗を約２倍に増加させることができる。これ
により、抵抗膜面の電位分布の均一化を図りつつ、周辺
電極の抵抗を高めることができ、消費電流の低減化を図
ることが可能となる。

【００１８】本発明の第４の入力パネルによれば、その
実施例を図４（Ｂ）に示すように、第１の幅の周囲電極
が第２の幅の周囲電極に比較して高抵抗化し、しかも、
抵抗膜に密着性良く固定される。また、その上部に積層
される第２の幅の周囲電極は、比抵抗が同等以下に低抵
抗化され、この上部電極から、第１の幅の周囲電極を介
して電流を供給することができる。

【００１９】これにより、低抵抗の周囲電極を単層で周
回させる場合に比べて、第１の幅の周囲電極と、第２の
幅の周囲電極とを積層することによって、その面積抵抗
を増加させることができ、抵抗膜面に均一な電位分布を
与えることができる。本発明の第５の入力パネルによれ
ば、その実施例を図４（Ｃ）に示すように、第１の周回
路に沿って設けられた比抵抗の大きな周囲電極から漏れ
た電流が、第２の周回路に沿って設けられた比抵抗の小
さな周囲電極を流れ、略周囲電極の中点付近から電位を
分布させることができる。

【００２０】これにより、低抵抗の周囲電極を単層で周
回させる場合に比べて、第１の周回路の周囲電極と、第
２の周回路の周囲電極とを併設させることによって、そ
の面積抵抗を増加させることができる。本発明の入力パ
ネルの第１の製造方法によれば、その実施例を図５
（Ｃ）に示すように、微小ピッチの開孔部を抵抗膜に形
成することにより、その電流密度を減少させることがで
きる。例えば、抵抗膜の開孔部の間隔は、当該入力パネ
ルが適用される表示装置の画素ピッチ又は当該入力パネ
ルの入力座標位置を画定するドットスペーサの配置ピッ
チに比較して小さくする。

【００２１】これにより、例えば、有機樹脂材又は透明
性の導電膜により形成された抵抗膜の実質的な面積抵抗
を増加させることができる。また、本発明の入力パネル
の第２の製造方法によれば、その実施例を図５（Ｄ）に
示すように、抵抗膜の開孔部のエッジを保護することに
より、抵抗膜の横方向からの応力から、その所定形状を
維持することができる。

【００２２】これにより、プローブペンを抵抗膜上で強
く滑らせても、抵抗膜のエッジ部が保護されることで、
筆記寿命を長くすることができる。

【００２３】

【実施例】次に、図を参照しながら本発明の各実施例に
ついて説明をする。図１〜５は、本発明の各実施例に係
る入力パネル及びその製造方法を説明する図である。 （１）第１の実施例の説明 図１は、本発明の第１の実施例に係る入力パネルの構成
図であり、図２は各実施例に係る入力パネルの機能説明
図をそれぞれ示している。

【００２４】例えば、縦×横＝７０ｍｍ×１２０ｍｍ程
度の入力パネルは、図１に示すように、格子状抵抗膜１
１及び周囲電極１２を備える。すなわち、格子状抵抗膜
１１は、指定された入力座標位置に応じた検出電位を与
えるものである。当該抵抗膜１１は、ガラス基板上に膜
厚数百Å程度のＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイ
ド）膜やＮＥＳＡ（酸化錫）膜から成り、全面を均一な
ピッチに開孔した複数の開孔部11Ａを有する。例えば、
格子幅βは１〜100 μｍ程度であり、開孔幅αと格子幅
βとの比は９：１程度である。ここで、開孔幅αとは、
抵抗膜１１を格子状に抜く開孔部11Ａの幅をいい、格子
幅βとは、抵抗膜１１を格子状に残す幅をいうものとす
る。開孔部11Ａの大きさは、プローブペンと抵抗膜との
接触面積よりも小さい方が好ましい。接触抵抗が小さく
なるからである。

【００２５】この際の格子ピッチは、ＬＣＤ（液晶表示
装置）やドットスペーサとの干渉によるモアレ縞の発生
を除くため、これらの画素ピッチよりも、極めて小さい
ピッチとする。好ましくは、１／２以下程度とする。こ
れにより、開孔部11Ａを設けていない抵抗膜の面積抵抗
に比べて約１０倍の面積抵抗が得られる。抵抗膜１１の
形成方法については、図５において説明する。

【００２６】周囲電極１２は抵抗膜１１を周回して設け
られ、該抵抗膜１１の横方向及び縦方向から、交互に電
界を発生するものである。電極１２は、例えば、断面が
四角形状を有する銀カーボン（ＡｇＣ）等から成り、当
該抵抗膜１１のＸ（横），Ｙ（縦）方向の上下部に設け
られる。周辺電極１２の幅はパネルの入力範囲を多く採
る都合上、狭いほど好ましい。周囲電極１２については
図４（Ａ）〜（Ｃ）において説明する。

【００２７】次に、本発明の各実施例に係る入力パネル
の機能について説明する。例えば、抵抗膜１１の周辺に
設けられた周囲電極１２により、該抵抗膜１１の横方向
及び縦方向から、交互に電界が発生される。具体的に
は、Ｙ方向の検出電圧Ｖｙを出力する場合には、図２に
示すようなスイッチＳＷ１，２が共にａ側を選択し、ス
イッチＳＷ３がｂ側を選択する。これにより抵抗膜１１
の上下方向に電位分布が発生する。この状態で、プロー
ブペン１３により入力座標位置が指定されると、これに
応じた検出電圧Ｖｙが抵抗膜１１から検出される。

【００２８】また、Ｘ方向の検出電圧Ｖｘを出力する場
合には、図２に示すようなスイッチＳＷ１，３が共にａ
側を選択し、スイッチＳＷ２がｂ側を選択する。これに
より抵抗膜１１の左右方向に電位分布が発生する。この
状態で、プローブペン１３により入力座標位置が指定さ
れると、これに応じた検出電圧Ｖｘが抵抗膜１１から検
出される。

【００２９】このようにして、本発明の第１の実施例に
係る入力パネルによれば、図１に示すように、全面が微
小ピッチに開孔され、開孔幅αと格子幅βが９：１の開
孔部11Ａを有する格子状抵抗膜１１を備える。このた
め、微小ピッチの開孔部11Ａによって抵抗膜１１の電流
密度が減少し、実質的な面積抵抗を約１０倍程度に増加
させることができる。例えば、ＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜に
よって構成された抵抗膜１１では、開孔部11Ａが無い場
合には、その面積抵抗が５００〜２ｋΩ／□程度となる
のに対して、その開孔幅αと格子幅βとの比を９対１に
すると、面積抵抗が５000 〜20ｋΩ／□程度に増加さ
れ、抵抗膜面の電位分布が開孔部11Ａの無い抵抗膜面の
場合に比べて、更に、均一（リニアリティが向上）化す
る。また、ＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜を用いた抵抗膜１１で
は、開孔部11Ａを設けることによって透過率を向上させ
ることが可能となる。

【００３０】これにより、抵抗膜面の電位分布の均一化
を図りつつ、周辺電極１２の抵抗を高めることができ
る。このことで、抵抗膜１１の面積抵抗と周囲電極１２
の面積抵抗とを増加させることができ、消費電流の低減
化を図ることが可能となる。 （２）第２の実施例の説明 図３は、本発明の第２の実施例に係る入力パネルの構成
図を示している。第２の実施例では第１の実施例と異な
り、抵抗膜２１の開孔部21Ａが六角形状を成したハニカ
ム構造を有する。

【００３１】すなわち、本発明の第２の入力パネルは、
図１の格子状の抵抗膜１１とは異なり、図３に示すよう
に、抵抗膜２１が六角（亀甲）形状に抜かれた開孔部21
Ａを有する。これは、当該入力パネルが適用される表示
装置（ＬＣＤ）の画素ピッチ又は当該入力パネルの入力
座標位置を画定するドットスペーサの配置ピッチがｐ１
で、抵抗膜２１の格子ピッチがｐ２で、ｐ１≒ｐ２の関
係があると、光の入射方向によっては、当該入力パネル
上でピッチｐ３（ｐ１≒ｐ２＜ｐ３）の明暗の縞模様が
表れる。この光の方向性を極力打ち消すためである。

【００３２】このようにして、本発明の第２の実施例に
係る入力パネルによれば、図３に示すように、開孔部21
Ａが六角形状を成したハニカム構造を有する抵抗膜２１
を備える。このため、抵抗膜２１の開孔部21Ａのピッチ
ｐ２と、ＬＣＤの画素ピッチ又はドットスペーサの配置
ピッチｐ１とをずらすことにより、この位置関係を原因
とするモアレ縞を防止できる。

【００３３】これにより、抵抗膜２１に開孔部21Ａを開
けた場合でも、入力パネルが適用される表示装置の表示
品質を確保できる。 （３）第３の実施例の説明 図４（Ａ）は本発明の第３の実施例に係る周辺電極の断
面図を示している。例えば、第１，第２の実施例の入力
パネルに適用可能な周辺電極３２は図４（Ａ）に示すよ
うに、周囲電極３２の断面が、該周囲電極３２の内側か
ら外側に向かって傾斜する略三角形状を有する。

【００３４】このため、第１の実施例のような断面が四
角形状を有する周囲電極１２の面積抵抗に比べて、略三
角形状を有する電極３２の断面積が１／２になることか
ら、比抵抗を変えることなく、後者の電極３２の面積抵
抗を約２倍に増加させることができる。第１の実施例の
周囲電極１２の面積抵抗＝数Ω／□程度に比べ、第２の
実施例では数十Ω／□程度に増加される。

【００３５】これにより、抵抗膜３１面の電位分布の均
一化を図りつつ、周辺電極３２の抵抗を高めることがで
き、消費電流の低減化を図ることが可能となる。このこ
とから、当該入力パネルをバッテリー駆動方式の表示装
置に組み合わせた場合、第１の実施例の周辺電極１２に
比べて、周囲電極３２による消費電流が低減されること
で、使用継続時間を長くすることができる。

【００３６】また、本発明の第３の実施例によれば、従
来例のような周囲電極の形状を撓ませて、リニアリティ
を改善する方法に比べて、当該電極部分が小さくするこ
とができ、入力パネルとして使用できる有効面積を多く
確保でき、その小型化を図ることが可能となる。 （４）第４の実施例の説明 図４（Ｂ）は本発明の第４の実施例に係る周辺電極の断
面図を示している。例えば、第１，第２の実施例の入力
パネルに適用可能な周辺電極は、図４（Ｂ）に示すよう
に、第１の幅φ１の周囲電極42Ａと第２の幅φ２の周囲
電極42Ｂとが積層されて成る。

【００３７】すなわち、周囲電極42Ａは、抵抗膜４１上
にカーボン樹脂が形成されて成る。カーボン樹脂は抵抗
膜４１との密着性に優れており、第２の幅φ２の周囲電
極42Ｂの比抵抗以上であることから、断面積が周囲電極
42Ｂよりも広くても高抵抗化する。周囲電極42Ｂは、周
囲電極42Ａ上に銀カーボンが形成されて成る。銀カーボ
ンはカーボン樹脂との密着性に優れている。銀カーボン
は、カーボン樹脂の比抵抗に比べて低いため、断面積が
周囲電極42Ａよりも狭くても低抵抗化する。銀カーボン
はスクリーン印刷法等により形成する。

【００３８】このようにして、本発明の第４の実施例に
係る入力パネルの周囲電極によれば、図４（Ｂ）に示す
ように、第１の幅φ１の周囲電極42Ａと第２の幅φ２の
周囲電極42Ｂとが積層されて成る。このため、第１の幅
φ１の周囲電極42Ａが第２の幅φ２の周囲電極42Ｂに比
較して高抵抗化し、しかも、抵抗膜４１に密着性良く固
定される。また、その上部に積層される第２の幅φ２の
周囲電極42Ｂは、比抵抗が低く低抵抗化され、この上部
電極42Ｂから、周囲電極42Ａを介して電流を供給するこ
とができる。

【００３９】これにより、低抵抗の周囲電極42Ｂを単層
で周回させる場合に比べて、第１の幅φ１の周囲電極42
Ａと、第２の幅φ２の周囲電極42Ｂとを積層することに
よって、その面積抵抗を増加させることができ、抵抗膜
４１面に均一な電位分布を与えることができる。このこ
とで、第３の実施例と同様に、抵抗膜４１面の電位分布
の均一化を図りつつ、周辺電極の抵抗を高めることがで
き、消費電流の低減化を図ることが可能となる。また、
当該入力パネルをバッテリー駆動方式の表示装置に組み
合わせた場合に使用継続時間を長くすることができる。

【００４０】（５）第５の実施例の説明 図４（Ｃ）は、本発明の第５の実施例に係る入力パネル
の平面図であり、その周辺電極の構成図を示している。
例えば、第１，第２の実施例の入力パネルに適用可能な
周辺電極は、図４（Ｃ）に示すように、内側周囲電極52
Ａと外側周囲電極52Ｂとが併設されて成る。

【００４１】すなわち、内側周囲電極52Ａは、抵抗膜５
１上に任意の幅のカーボン樹脂が周回（第１の周回路）
されて成る。銀カーボンはスクリーン印刷法等により形
成する。外側周囲電極52Ｂは、抵抗膜５１上に銀カーボ
ンが形成されて成る。周囲電極52Ｂは周囲電極52Ａに隣
接して設けられる。例えば、周囲電極52Ｂは周囲電極52
Ａと隙間ｇを開けて周回（第２の周回路）させる。これ
により、全体の周囲電極の抵抗値は、低抵抗の周囲電極
を単層で周回させる場合に比べて増加する。

【００４２】このようにして、本発明の第５の実施例に
係る入力パネルの周囲電極によれば、図４（Ｃ）に示す
ように、第１の周回路に沿って設けられた周囲電極52Ａ
と、第２の周回路に沿って設けられた周囲電極52Ｂとが
併設されて成る。このため、第１の周回路に沿って設け
られた比抵抗の大きな周囲電極52Ａから漏れた電流が、
第２の周回路に沿って設けられた比抵抗の小さな周囲電
極52Ｂを流れ、略周囲電極の中点付近から電位を分布さ
せることができる。

【００４３】これにより、低抵抗の周囲電極52Ａを単層
で周回させる場合に比べて、第１の周回路の周囲電極52
Ａと、第２の周回路の周囲電極52Ｂとを併設させること
によって、その面積抵抗を増加させることができる。こ
のことで、第３，第４の実施例と同様に、抵抗膜５１面
の電位分布の均一化を図りつつ、周辺電極の抵抗を高め
ることができ、消費電流の低減化を図ることが可能とな
る。また、当該入力パネルをバッテリー駆動方式の表示
装置に組み合わせた場合に使用継続時間を長くすること
ができる。

【００４４】（６）第６の実施例の説明 図５（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明の第６の実施例に係る入
力パネルの抵抗膜の形成工程図をそれぞれ示している。
例えば、第１の実施例に係る格子状抵抗膜１１を形成す
る場合、図５（Ａ）に示すように、まず、ガラス基板１
０上に抵抗膜１１を形成する。抵抗膜１１には、有機樹
脂材又は透明性の導電膜を用いる。具体的には、スパッ
タ法，蒸着法あるいはＣＶＤ（気相成長）法により、基
板１０上に膜厚数百Å程度のＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜を形
成する。

【００４５】次に、図５（Ｂ）に示すように、抵抗膜１
１が形成された基板１０上にレジスト膜２０をパターニ
ングする。本実施例では、レジスト膜２０のパターニン
グの際に、抵抗膜１１の開孔部11Ａの間隔を表示装置の
画素ピッチ又はドットスペーサの配置ピッチの１／２以
下とする。また、格子幅βは１〜100 μｍ程度とし、開
孔幅αと格子幅βとの比を９：１程度とする。開孔部11
Ａの大きさは、プローブペンと抵抗膜との接触面積より
も小さくする。接触抵抗が小さくなるからである。レジ
スト膜２０にはエマルジョン系を用い、そのパターニン
グはフォトリソグラフィにより行う。

【００４６】その後、図５（Ｃ）に示すように、レジス
ト膜２０をマスクにして抵抗膜１１に微細ピッチの格子
状の開孔部11Ａを形成する。具体的には、塩酸や塩化第
２鉄等のエッチング液３０により、抵抗膜１１を選択的
に抜く。ここで同図の破線円内図に示すように、残留す
る抵抗膜１１がメサ形状になることが好ましい。メサ形
状は、ＧａＡｓ半導体のエッチングに見られるような台
形状である。これをウエットエッチング法により実現す
る場合には、抵抗膜１１の素材に結晶方位を有するもの
を用いる。この他に、抵抗膜１１の素材に樹脂を用い、
スピンコート法により角を緩やかにすることも考えられ
る。

【００４７】本発明の入力パネルの形成工程では、開孔
部11Ａを形成した後に、そのエッジ部を保護する。例え
ば、基板１０の全面に保護膜４０を形成する。この保護
膜４０には、透明性を有し、接触抵抗の低い素材を用い
る。その後の入力パネルの形成方法は、従来例と同様に
行う。例えば、周囲電極をカーボン樹脂により形成する
場合には、スクリーン印刷法により行う。

【００４８】このようにして、本発明の第６の実施例に
係る入力パネルの形成方法によれば、図５（Ｃ）に示す
ように、レジスト膜２０をマスクにして抵抗膜１１に所
望の間隔の格子状の開孔部11Ａが形成される。このた
め、開孔部を有さない抵抗膜に比べて、微小ピッチの開
孔部11Ａによって抵抗膜１１の電流密度を減少させるこ
とができる。これにより、ＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜により
形成された抵抗膜１１の実質的な面積抵抗を増加させる
ことができる。

【００４９】また、本実施例によれば、図５（Ｄ）に示
すように、開孔部11Ａを形成した後に、抵抗膜１１の開
孔部11Ａのエッジが保護される。このため、横方向から
の応力から抵抗膜１１の所定形状を維持することがで
き、当該抵抗膜１１の筆記寿命を長くすることができ
る。すなわち、開孔部11Ａが形成された抵抗膜１１の全
面に透明性の導電膜が形成され、そのエッジ部が傾斜を
持つように保護される。

【００５０】これにより、プローブペンを抵抗膜１１上
で強く滑らせても、抵抗膜１１のエッジ部が保護される
ことで、筆記寿命を長くすることができる。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の入力パネ
ルによれば、抵抗膜の全面が微小ピッチに開孔された複
数の開孔部を有する。このため、複数の開孔部によって
抵抗膜の電流密度が減少し、実質的な面積抵抗を増加さ
せることができ、開孔部の無い抵抗膜面の電位分布に比
べて、より一層、抵抗膜面の電位分布が均一化する。ま
た、透明導電膜を用いた抵抗膜では、透過率を向上させ
ることが可能となる。

【００５２】本発明の他の入力パネルによれば、抵抗膜
の開孔部が六角形状を成したハニカム構造を有する。こ
のため、表示装置の画素ピッチ又はドットスペーサの配
置ピッチとの位置ずれを原因とするモアレ縞を防止でき
る。本発明の他の入力パネルによれば、周辺電極の断面
が内側から外側に向かって傾斜する略三角形状を有す
る。このため、周囲電極の断面積が１／２になることか
ら、面積抵抗を倍増することができる。

【００５３】本発明の他の入力パネルによれば、比抵抗
の高い第１の幅の周囲電極と、第１の幅よりも狭く比抵
抗の小さい第２の幅の周囲電極とが積層されて成る。ま
た、第１及び第２の周回路に沿って２つの周囲電極が併
設される。このため、低抵抗の周囲電極を単層で周回さ
せる場合に比べて、両周囲電極を積層したり併設するこ
とによって、面積抵抗の増加を図ることができ、抵抗膜
面に均一な電位分布を与えることができる。

【００５４】本発明の入力パネルの製造方法によれば、
抵抗膜に所望の間隔の格子状の開孔部が形成される。こ
のため、微小ピッチの開孔部によって抵抗膜の電流密度
を減少させることができ、抵抗膜の実質的な面積抵抗を
増加させることができる。また、本発明の入力パネルの
他の製造方法によれば、開孔部が形成された後に、抵抗
膜の開孔部のエッジが保護される。このため、抵抗膜の
所定形状が維持され、筆記寿命を長くすることができ
る。

【００５５】これにより、抵抗膜面の電位分布の均一化
を図りつつ、抵抗膜の面積抵抗と周囲電極の面積抵抗と
を増加させることができ、消費電流の低減化を図ること
が可能となる。また、バッテリー駆動方式の表示装置に
最適な低電力消費型の入力パネルの提供に寄与するとこ
ろが大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例に係る入力パネルの構成
図である。

【図２】本発明の各実施例に係る入力パネルの機能説明
図である。

【図３】本発明の第２の実施例に係る抵抗膜の構成図で
ある。

【図４】本発明の第３〜第５の実施例に係る周囲電極の
構成図である。

【図５】本発明の各実施例に係る入力パネルの格子状抵
抗膜の形成工程図である。

【図６】従来例に係る入力パネルの説明図である。

【符号の説明】

１０…ガラス基板、 １１…格子状抵抗膜、 １２，３２…周囲電極、 １３…プローブペン、 11Ａ，21Ａ…開孔部、 ２０…レジスト膜、 ２１…ハニカム構造の抵抗膜、 ３０…エッチング液、 ４０…保護膜、 42Ａ…幅φ１の周囲電極、 42Ｂ…幅φ２の周囲電極、 52Ａ…内側周囲電極、 52Ｂ…外側周囲電極、 ＳＷ１〜ＳＷ３…切り換えスイッチ。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 指定された入力座標位置に応じた検出電
   位を与える抵抗膜と、前記抵抗膜の周辺に設けられ、該
   抵抗膜の横方向及び縦方向から、交互に電界を発生する
   周囲電極とを備え、前記抵抗膜は複数の開孔部を有する
   ことを特徴とする入力パネル。
2. 【請求項２】 前記抵抗膜は均一なピッチの開孔部を有
   することを特徴とする請求項１記載の入力パネル。
3. 【請求項３】 前記開孔部は、プローブペンと抵抗膜と
   の接触面積よりも小さいことを特徴とする請求項１記載
   の入力パネル。
4. 【請求項４】 前記抵抗膜の開孔部は、六角形状を成し
   ハニカム構造を有することを特徴とする請求項１記載の
   入力パネル。
5. 【請求項５】 前記周囲電極の断面は、該周囲電極の内
   側から外側に向かって傾斜する略三角形状を有すること
   を特徴とする請求項１記載の入力パネル。
6. 【請求項６】 前記周囲電極は、抵抗膜の比抵抗に比べ
   て小さい所望の比抵抗の第１の幅の周囲電極と、前記第
   １の幅よりも狭く第１の幅の周囲電極の比抵抗と同等又
   はそれ以下の比抵抗の第２の幅の周囲電極とが抵抗膜上
   に積層されて成ることを特徴とする請求項１記載の入力
   パネル。
7. 【請求項７】 前記周囲電極は、抵抗膜の比抵抗に比べ
   て小さい所望の比抵抗の周囲電極が第１の周回路に沿っ
   て設けられ、前記第１の周回路に沿って設けられた周囲
   電極の比抵抗と同等又はそれ以下の比抵抗の周囲電極が
   第１の周回路の外側の第２の周回路に沿って併設されて
   成ることを特徴とする請求項１記載の入力パネル。
8. 【請求項８】 基板上に抵抗膜を形成する工程と、 前記抵抗膜が形成された基板上にレジスト膜をパターニ
   ングする工程と、 前記レジスト膜をマスクにして抵抗膜に所望の間隔の格
   子状の開孔部を形成する工程とを有することを特徴とす
   る入力パネルの製造方法。
9. 【請求項９】 前記開孔部を形成した後に、前記抵抗膜
   の開孔部のエッジを保護する工程とを有することを特徴
   とする請求項８記載の入力パネルの製造方法。
10. 【請求項10】 前記開孔部を形成した後に、前記基板の
    全面に透明性の導電膜を形成する工程とを有することを
    特徴とする請求項８記載の入力パネルの製造方法。
11. 【請求項11】 前記抵抗膜は、有機樹脂材又は透明性の
    導電膜を用いることを特徴とする請求項８記載の入力パ
    ネルの製造方法。
12. 【請求項12】 前記抵抗膜の開孔部の間隔は、当該入力
    パネルが適用される表示装置の画素ピッチ又は当該入力
    パネルの入力座標位置を画定するドットスペーサの配置
    ピッチに比較して小さくすることを特徴とする請求項８
    記載の入力パネルの製造方法。