JP2006037203A - メタルマスクの製造方法およびメタルマスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】単位マスク本体12に所定の張力をかけて仮張り用枠体11の開口部11’を覆う状態で張設し、仮張り用枠体11の開口部11’の周縁に、単位マスク本体12を固着する工程と、単位マスク本体12側を支持枠体13に向けた状態で、単位マスク本体12が支持枠体13の一開口部13’を覆うように、仮張り用枠体11を支持枠体13上に配置する第2工程と、単位マスク本体12にかかる張力を維持したまま、支持枠体13の一開口部13’を覆う状態で、一開口部13’の周縁に単位マスク本体12を固着する第3工程と、支持枠体13の一開口部13’の周縁に固着された単位マスク本体12から、仮張り用枠体11を離す第4工程とを有することを特徴とするメタルマスクの製造方法およびメタルマスクである。
【選択図】図2
Description
ここでは、図5(a)に示すように、第1実施形態で図1(c)を用いて説明した支持枠体13に、各開口部13’を格子状に区切る仕切り板14が設けられた例について説明する。この仕切り板14は、支持枠体13と同じインバーにより形成されており、0.5mm〜1.0mmの膜厚で設けられている。仕切り板14には、支持枠体13の各開口部13’を区切る複数の開口部14’が配列形成されおり、各開口部14’は例えばエッチングにより形成されることとする。これらの開口部14’は、例えば有機EL表示装置の一パネル領域を形成可能な大きさに仕切られていることとする。
本実施形態では、図2(d)〜(e)を用いて説明したように、支持枠体13の開口部13’周縁に固着された単位マスク本体12から仮張り用枠体11を切り離した場合の単位マスク本体12の端部を支持枠体13に固着する例について説明する。
Claims (6)
- 複数の開口部が配列形成された支持枠体に、前記開口部を覆う状態で、開口パターンが設けられた単位マスク本体を前記開口部の周縁に固着するメタルマスクの製造方法であって、
前記単位マスク本体に所定の張力をかけて仮張り用枠体の開口部を覆う状態で張設し、前記仮張り用枠体の前記開口部の周縁に、前記単位マスク本体を固着する第1工程と、
前記単位マスク本体側を前記支持枠体に向けた状態で、前記単位マスク本体が前記支持枠体の一開口部を覆うように、前記仮張り用枠体を前記支持枠体上に配置する第2工程と、
前記単位マスク本体にかかる張力を維持したまま、前記支持枠体の一開口部を覆う状態で、当該一開口部の周縁に前記単位マスク本体を固着する第3工程と、
前記支持枠体の一開口部の周縁に固着された前記単位マスク本体から、前記仮張り用枠体を離す第4工程とを有する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 請求項1記載のメタルマスクの製造方法において、
前記第1工程から前記第4工程をこの順に繰り返して行い、
前記第2工程では、前記単位マスク本体が前記支持枠体の一開口部を覆うように、前記仮張り用枠体を前記支持枠体上に配置するとともに、配置する前記単位マスク本体の前記開口パターンと前記支持枠体の前記開口部に既に固着された前記単位マスク本体の前記開口パターンとの位置合わせを行う
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 請求項1記載のメタルマスクの製造方法において、
前記第4工程の後に、
前記仮張り用枠体を離した後の前記単位マスク本体の端部を前記支持枠体に固着する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 請求項3記載のメタルマスクの製造方法において、
前記支持枠体の開口部の周縁に沿って溝が設けられており、
前記単位マスク本体の前記端部を前記溝の内壁に固着する
ことを特徴とするメタルマスクの製造方法。 - 複数の開口部が配列形成された支持枠体と、開口パターンが設けられるとともに、前記開口部を覆う状態で、当該開口部の周縁に固着される単位マスク本体とを備えたメタルマスクであって、
前記単位マスク本体の端部と、当該端部よりも一回り内側の前記単位マスク本体の周縁部が、前記開口部の周縁に固着されている
ことを特徴とするメタルマスク。 - 請求項5記載のメタルマスクにおいて、
前記支持枠体の開口部の周縁に沿って溝が設けられており、
前記単位マスク本体の端部が前記溝の内壁に固着されている
ことを特徴とするメタルマスク。
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Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005339858A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
JP2006331973A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Toppan Printing Co Ltd | 多面付けメタルマスクの製造方法 |
JP2011068978A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-04-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置 |
JP2011256409A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-22 | Sk Link:Kk | 支持体付きメタルマスク装置及びそれを用いた装置の製造方法 |
JP2012142259A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着マスク引張用整列基板、その製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法 |
KR101322130B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2013-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 대면적 증착용 마스크 및 대면적 증착용 마스크의 제조방법 |
JP2014065930A (ja) * | 2012-09-24 | 2014-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法 |
CN103742758A (zh) * | 2013-12-28 | 2014-04-23 | 秦菊萍 | 一种支撑式的金属遮罩 |
CN104294212A (zh) * | 2014-09-03 | 2015-01-21 | 安徽省大富光电科技有限公司 | 掩膜板组件 |
JP2015145532A (ja) * | 2014-01-23 | 2015-08-13 | 上海和輝光電有限公司Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited | マスク装置、該マスク装置を製造するためのシステム及び方法 |
JP2016211080A (ja) * | 2016-09-08 | 2016-12-15 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
JP2017066440A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 大日本印刷株式会社 | 基板付蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造方法および基板付蒸着マスク |
JP2017179610A (ja) * | 2017-06-28 | 2017-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、有機半導体素子の製造方法 |
KR20180037253A (ko) * | 2015-08-05 | 2018-04-11 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 유기 발광 다이오드 제조용 섀도 마스크 |
JP2019173181A (ja) * | 2019-07-09 | 2019-10-10 | 大日本印刷株式会社 | 基板付蒸着マスク |
JP2020056109A (ja) * | 2019-11-07 | 2020-04-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
JP2020521872A (ja) * | 2017-06-02 | 2020-07-27 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | マスクプレート及びその準備方法と使用方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106884138A (zh) * | 2017-02-15 | 2017-06-23 | 武汉华星光电技术有限公司 | 荫罩组件及荫罩组件的重复使用方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001237073A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Tohoku Pioneer Corp | 多面取り用メタルマスク及びその製造方法 |
JP2002069619A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Nec Corp | メタルマスク構造体及びその製造方法 |
JP2005339861A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
-
2004
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001237073A (ja) * | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Tohoku Pioneer Corp | 多面取り用メタルマスク及びその製造方法 |
JP2002069619A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Nec Corp | メタルマスク構造体及びその製造方法 |
JP2005339861A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
Cited By (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005339858A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
JP2006331973A (ja) * | 2005-05-30 | 2006-12-07 | Toppan Printing Co Ltd | 多面付けメタルマスクの製造方法 |
JP4609187B2 (ja) * | 2005-05-30 | 2011-01-12 | 凸版印刷株式会社 | 多面付けメタルマスクの製造方法 |
KR101322130B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2013-10-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 대면적 증착용 마스크 및 대면적 증착용 마스크의 제조방법 |
US9284638B2 (en) | 2009-09-22 | 2016-03-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of fabricating mask assembly |
JP2011068978A (ja) * | 2009-09-22 | 2011-04-07 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体、その製造方法及びそれを用いた平板表示装置用蒸着装置 |
JP2011256409A (ja) * | 2010-06-04 | 2011-12-22 | Sk Link:Kk | 支持体付きメタルマスク装置及びそれを用いた装置の製造方法 |
JP2012142259A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-07-26 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 蒸着マスク引張用整列基板、その製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法 |
US8851009B2 (en) | 2011-01-05 | 2014-10-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Alignment master glass for tensioning vapor deposition mask, method for manufacturing the same, and method for tensioning vapor deposition mask using the same |
US9333600B2 (en) | 2011-01-05 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for tensioning vapor deposition mask using an alignment master glass |
JP2014065930A (ja) * | 2012-09-24 | 2014-04-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法 |
CN103742758A (zh) * | 2013-12-28 | 2014-04-23 | 秦菊萍 | 一种支撑式的金属遮罩 |
JP2015145532A (ja) * | 2014-01-23 | 2015-08-13 | 上海和輝光電有限公司Everdisplay Optronics (Shanghai) Limited | マスク装置、該マスク装置を製造するためのシステム及び方法 |
CN104294212A (zh) * | 2014-09-03 | 2015-01-21 | 安徽省大富光电科技有限公司 | 掩膜板组件 |
KR102050860B1 (ko) * | 2015-08-05 | 2019-12-02 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 유기 발광 다이오드 제조용 섀도 마스크 |
KR20180037253A (ko) * | 2015-08-05 | 2018-04-11 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 유기 발광 다이오드 제조용 섀도 마스크 |
JP2018526534A (ja) * | 2015-08-05 | 2018-09-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 有機発光ダイオード製造用のシャドウマスク |
JP2017066440A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 大日本印刷株式会社 | 基板付蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造方法および基板付蒸着マスク |
JP2016211080A (ja) * | 2016-09-08 | 2016-12-15 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、及び有機半導体素子の製造方法 |
JP2020521872A (ja) * | 2017-06-02 | 2020-07-27 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | マスクプレート及びその準備方法と使用方法 |
EP3633063A4 (en) * | 2017-06-02 | 2021-01-20 | BOE Technology Group Co., Ltd. | MASK PLATE, METHOD OF PREPARATION AND METHOD OF USE RELATED |
JP7092675B2 (ja) | 2017-06-02 | 2022-06-28 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | マスクプレート及びその準備方法と使用方法 |
US11746406B2 (en) | 2017-06-02 | 2023-09-05 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Mask, preparation method and operation method thereof |
JP2017179610A (ja) * | 2017-06-28 | 2017-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク材、蒸着マスク材の固定方法、有機半導体素子の製造方法 |
JP2019173181A (ja) * | 2019-07-09 | 2019-10-10 | 大日本印刷株式会社 | 基板付蒸着マスク |
JP2020056109A (ja) * | 2019-11-07 | 2020-04-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
JP7047828B2 (ja) | 2019-11-07 | 2022-04-05 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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