JP2005339861A - マスク構造体及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims description 3
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 abstract description 46
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 24
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 21
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 19
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】メタルマスク1に引張り力を付与した状態で支持フレーム2に固定されるマスク構造体であって、メタルマスク1の開口エリアを囲むようにメタルマスク1と支持フレーム2との第一固定部3が存在し、該第一固定部3から支持フレーム2の外周部に向けて1箇所以上の固定部が存在する。
【選択図】図1
Description
前記メタルマスクの開口エリアを囲むように該メタルマスクと前記支持フレームとの第一固定部が存在し、該第一固定部から前記支持フレームの外周部に向けて1箇所以上の固定部が存在することを特徴とする。
前記メタルマスクの開口エリアを囲むように該メタルマスクと前記支持フレームとの第一固定部を設け、該第一固定部から前記支持フレームの外周部に向けて1箇所以上の固定部を設けることを特徴とする。
図1は、実施例1におけるマスク構造体の構造で、(a)は概略平面図、(b)は概略側断面図であり、具体的にはメタルマスク1と基板5との密着性を高めることを目的としたマスク構造体の概略図である。また、図2は実施例1におけるマスク構造体の固定部の構造を示す模式図であり、図3は実施例1におけるマスク構造体の製造方法を示す模式図である。これらの図において、1はメタルマスク、2は支持フレーム、3は第一固定部、4は第二固定部、10はマスク開口エリア、11は固定間隔、12は第一固定ピッチ、13は第二固定ピッチ、14は支持フレーム幅、15は傾斜角度、18は引張り力(テンション)である。
◎:マスク開口寸法に対して±1μm以内の着膜寸法
○:マスク開口寸法に対して±2.5μm以内の着膜寸法
△:マスク開口寸法に対して±2.5μm以上の着膜寸法
実施例2は、実施例1における第二固定部4の固定方法を接着に代えたものである。使用したメタルマスク1の材質はNi−Co合金であり、板厚は40μmである。また、支持フレーム2の材質はインバーで、外形寸法は80mm×80mmである。本実施形態では、メタルマスク1の中央部の開口エリア10を囲むように該メタルマスク1と上記支持フレーム2との第一固定部3を溶接固定し、上記支持フレーム2の外周部において第二固定部4を接着固定した。
図5は、従来のマスク構造体の構造を模式的に示しており、(a)は概略平面図、(b)は概略側断面図である。図5において、1はメタルマスク、2は支持フレーム、3は第一固定部、10はマスク開口エリア、18は引張り力(テンション)である。
◎:蒸着エリアの全面にわたり良好なパターニングができた。
×:蒸着エリアの隅に一部斑ができた。
2 支持フレーム
3 第一固定部
4 第二固定部
5 基板
6 蒸着源
7 真空チャンバー
8 蒸着源シャッター
9 基板シャッター
10 マスク開口エリア
11 固定間隔
12 第一固定ピッチ
13 第二固定ピッチ
14 支持フレーム幅
15 傾斜角度
16 電極
17 XY粗微動ステージ
18 テンション
Claims (6)
- メタルマスクに引張り力を付与した状態で支持フレームに固定されるマスク構造体において、
前記メタルマスクの開口エリアを囲むように該メタルマスクと前記支持フレームとの第一固定部が存在し、該第一固定部から前記支持フレームの外周部に向けて1箇所以上の固定部が存在することを特徴とするマスク構造体。 - 前記固定部の固定ピッチが50mm以下であることを特徴とする請求項1に記載のマスク構造体。
- 前記開口エリアの存在する面とは異なる前記支持フレーム側の面に、1箇所以上の固定部が存在することを特徴とする請求項1または2に記載のマスク構造体。
- メタルマスクに引張り力を付与した状態で支持フレームに固定するマスク構造体の製造方法において、
前記メタルマスクの開口エリアを囲むように該メタルマスクと前記支持フレームとの第一固定部を設け、該第一固定部から前記支持フレームの外周部に向けて1箇所以上の固定部を設けることを特徴とするマスク構造体の製造方法。 - 前記固定部の固定ピッチを50mm以下とすることを特徴とする請求項4に記載のマスク構造体の製造方法。
- 前記開口エリアの存在する面とは異なる前記支持フレーム側の面に、1箇所以上の固定部を設けることを特徴とする請求項4または5に記載のマスク構造体の製造方法。
請求項1〜3のいずれかに記載のマスク構造体を基板上に配置して、有機膜を成膜することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004154301A JP4944367B2 (ja) | 2004-05-25 | 2004-05-25 | マスク構造体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004154301A JP4944367B2 (ja) | 2004-05-25 | 2004-05-25 | マスク構造体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005339861A true JP2005339861A (ja) | 2005-12-08 |
JP4944367B2 JP4944367B2 (ja) | 2012-05-30 |
Family
ID=35493199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004154301A Expired - Fee Related JP4944367B2 (ja) | 2004-05-25 | 2004-05-25 | マスク構造体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4944367B2 (ja) |
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JP4944367B2 (ja) | 2012-05-30 |
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