CN116254503B - 一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备 - Google Patents
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Abstract
本公开实施例提供了一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备，金属屏蔽片掩膜板，包括：支撑框架、金属屏蔽片、辅助屏蔽片，其中，支撑框架和辅助屏蔽片均为中空的框架结构；金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，四周区域仅包括多个第一固定支脚，第一固定支脚承载在辅助屏蔽片上，第一固定支脚的端部与支撑框架连接；辅助屏蔽片承载在支撑框架上，辅助屏蔽片由四周区域和蒸镀区域的分界线延伸至支撑框架，与支撑框架连接。在采用本公开实施例金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，原有四周区域附着的蒸镀材料会附着在辅助屏蔽片上，不会造成金属屏蔽片的形变，保证所有蒸镀结构的蒸镀效果。
Description
技术领域
本公开涉及显示器制备领域，特别涉及一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备。
背景技术
OLED(有机发光二极管，Organic Light-Emitting Diode)显示包括PMOLED(无源矩阵OLED)和AMOLED(有源矩阵OLED)显示，其中，AMOLED显示的实现方式有LTPS(低温多晶硅)背板+金属掩膜(Mask)方式，以及Oxide(氧化物)背板+WOLED(白光有机发光二极管)+彩膜的方式。前者实现方式主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动设备；后者实现方式主要应用于大尺寸面板，对应Monitor(显示器)和电视等应用。现在LTPS背板+Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。
金属掩膜(Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上，利用掩膜上的图形，形成红绿蓝器件以及多种辅助功能层。现有的金属屏蔽片掩膜板为单层设计，根据Panel(显示面板)排版设计预留实材遮挡缝隙，四周需要遮挡的面积较大，金属屏蔽片整体需要放置在其对应的支撑框架上，所以金属屏蔽片需要预留更多实材用于遮挡和固定，导致金属屏蔽片四周支撑遮挡区域的可活动性低，随着蒸镀次数累计，在蒸镀时会金属屏蔽片与Halfglass(玻璃基板)之间贴合空隙变大，影响蒸镀效果，降低显示面板的产品性能。
发明内容
有鉴于此，本公开实施例提出了一种金属屏蔽片掩膜板和蒸镀辅助设备，用以解决现有技术的如下问题：现有金属屏蔽片四周支撑遮挡区域的可活动性低，随着蒸镀次数累计，在蒸镀时会金属屏蔽片与玻璃基板之间贴合空隙变大，影响蒸镀效果，降低显示面板的产品性能。
一方面，本公开实施例提出了一种金属屏蔽片掩膜板，包括：支撑框架、金属屏蔽片、辅助屏蔽片，其中，所述支撑框架和所述辅助屏蔽片均为中空的框架结构；所述金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，所述蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，所述四周区域仅包括多个第一固定支脚，所述第一固定支脚承载在所述辅助屏蔽片上，所述第一固定支脚的端部与所述支撑框架连接；所述辅助屏蔽片承载在所述支撑框架上，所述辅助屏蔽片由所述四周区域和所述蒸镀区域的分界线延伸至所述支撑框架，与所述支撑框架连接。
在一些实施例中，所述第一固定支脚设置在所述间隔结构的延伸方向上。
在一些实施例中，各个所述间隔结构的延伸方向上均设置有一个所述第一固定支脚。
在一些实施例中，所述辅助屏蔽片包括主体遮盖区域和第二固定支脚，所述辅助屏蔽片通过第二固定支脚与所述支撑框架连接。
在一些实施例中，所述第二固定支脚设置在相邻的所述第一固定支脚之间。
在一些实施例中，所述辅助屏蔽片在金属屏蔽片上的投影与四周区域具有相同宽度，所述主体遮盖区域在所述金属屏蔽片上的投影处于所述四周区域之内。
在一些实施例中，所述支撑框架上设置有多个第一类凹槽和多个第二类凹槽，所述第一类凹槽用于放置所述辅助屏蔽片的第二固定支脚，所述第二类凹槽用于放置所述金属屏蔽片的第一固定支脚。
在一些实施例中，所述第二类凹槽的深度等于所述金属屏蔽片的厚度，所述第一类凹槽的深度等于所述辅助屏蔽片与所述金属屏蔽片的厚度之和。
在一些实施例中，所述辅助屏蔽片的材料与所述金属屏蔽片的材料相同。
另一方面，本公开实施例提出了一种蒸镀辅助设备，至少包括：本公开任意实施例提供的金属屏蔽片掩膜板。
在采用本公开实施例金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，原有四周区域附着的蒸镀材料会附着在辅助屏蔽片上，由于辅助屏蔽片与金属屏蔽片并不是整体结构，因此，当辅助屏蔽片随着附着重量增加而存在下坠时，并不会造成金属屏蔽片的形变，也不会影响金属屏蔽片蒸镀区域的蒸镀效果，保证所有蒸镀结构的蒸镀效果。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术金属屏蔽片掩膜板用的支撑框架的结构示意图；
图2为现有技术金属屏蔽片掩膜板用的金属屏蔽片的结构示意图；
图3为现有技术金属屏蔽片掩膜板的组合结构示意图；
图4为本公开第一实施例提供的金属屏蔽片掩膜板的整体结构示意图；
图5为本公开第一实施例提供的金属屏蔽片的结构示意图；
图6为本公开第一实施例提供的辅助屏蔽片的结构示意图；
图7为本公开第二实施例提供的金属屏蔽片掩膜板的整体结构示意图；
图8为本公开第二实施例提供的支撑框架的凹槽示意图；
图9为本公开第二实施例提供的辅助屏蔽片的结构示意图；
图10为本公开第二实施例提供的图7中剖面位置剖开后的结构示意图。
附图标记：
支撑框架1，金属屏蔽片2，辅助屏蔽片3，第一固定支脚4，第二固定支脚5，第一类凹槽6，第二类凹槽7。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
图1为一般的金属屏蔽片掩膜板用的Frame(支撑框架)结构示意，图2为金属屏蔽片掩膜板用的Sheet(金属屏蔽片)结构示意；图1中的支撑框架中间挖空，四周边框用于与金属屏蔽片四周支撑遮挡区域连接，图2中包括各个方框区域(即显示面板的蒸镀结构)和间隔细条区域(即分隔各个蒸镀结构的间隔结构)即为蒸镀区域(虚线内部)，各个方框区域对应Panel(显示面板)区域，蒸镀区域四周即为支撑遮挡区域(虚线外部)，在图2中用虚线进行了划分示意。图3为图1和图2结合使用后的组合结构示意，即将金属屏蔽片放置于支撑框架上的组合结构，图3为从支撑框架方向看向金属屏蔽片方向的示意图。
在采用图3的金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，会在图3的上层放置玻璃基板，玻璃基板上层会放置磁吸板，进而通过磁吸板和金属屏蔽片之间形成的磁吸作用将玻璃基板进行固定。由于金属屏蔽片四周预留金属实材面积较大，焊点固定位置常沿外围密布于四周，蒸镀时四周支撑遮挡区域更容易附着蒸镀材料，四周的支撑遮挡区域重于中间的蒸镀区域，金属屏蔽片下坠，蒸镀厚度不一致，导致蒸镀阴影程度出现较大位置差异，主要表现为掩膜板中心位置与四周支撑框架相邻位置阴影程度差距加大。
为了解决上述问题，本公开第一实施例提供了一种金属屏蔽片掩膜板，其整体结构示意如图4所示，包括：
支撑框架1、金属屏蔽片2、辅助屏蔽片3，其中，所述支撑框架和所述辅助屏蔽片均为中空的框架结构；
所述金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，所述蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，所述四周区域仅包括多个第一固定支脚4，所述第一固定支脚承载在所述辅助屏蔽片上，所述第一固定支脚的端部与所述支撑框架连接；
所述辅助屏蔽片承载在所述支撑框架上，所述辅助屏蔽片由所述四周区域和所述蒸镀区域的分界线延伸至所述支撑框架，与所述支撑框架连接。
图4所示的第一固定支脚设置在所述间隔结构的延伸方向上，且各个所述间隔结构的延伸方向上均设置有一个所述第一固定支脚，此种设计方式便于金属屏蔽片的生产加工，但其仅为一种可能的实现方式，对本公开实施例不构成限定。
图5为金属屏蔽片的结构示意图，由图中可以看出，原有蒸镀区域并未进行任何改进，而是将四周区域进行了改进，即将四周区域原有的整面结构调整为多个第一固定支脚的结构，此种结构形式，相对于整面结构，能够附着更少的蒸镀材料。
由于四周区域改进为只包括第一固定支脚的镂空结构，因此，为了保证四周区域的遮挡能力不变，本公开实施例还包括图6所示的辅助屏蔽片，将其设置在金属屏蔽片与支撑框架之间，本领域技术人员可以将其外围周边的边框与支撑框架进行任意位置的焊接，进而在金属屏蔽片放置在辅助屏蔽层上时，能够通过辅助屏蔽片遮挡四周区域。
在采用本公开实施例金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，原有四周区域附着的蒸镀材料会附着在辅助屏蔽片上，由于辅助屏蔽片与金属屏蔽片并不是整体结构，因此，当辅助屏蔽片随着附着重量增加而存在下坠时，并不会造成金属屏蔽片的形变，也不会影响金属屏蔽片蒸镀区域的蒸镀效果，保证所有蒸镀结构的蒸镀效果。
相对于第一实施例而言，本公开第二实施例对金属屏蔽片掩膜板中辅助屏蔽片和支撑框架的结构进行了进一步限定，以保证在使用金属屏蔽片掩膜板时，能够使得金属屏蔽片掩膜板具有更稳定的结构，避免蒸镀过程中存在的晃动问题。
本公开第二实施例提供了一种金属屏蔽片掩膜板，其整体结构示意如图7所示，包括：
支撑框架1、金属屏蔽片2、辅助屏蔽片3，其中，所述支撑框架和所述辅助屏蔽片均为中空的框架结构；
所述金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，所述蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，所述四周区域仅包括多个第一固定支脚4，所述第一固定支脚承载在所述辅助屏蔽片上，所述第一固定支脚的端部与所述支撑框架连接；
所述辅助屏蔽片承载在所述支撑框架上，所述辅助屏蔽片由所述四周区域和所述蒸镀区域的分界线延伸至所述支撑框架，与所述支撑框架连接；
所述辅助屏蔽片包括主体遮盖区域和第二固定支脚5，所述辅助屏蔽片通过第二固定支脚与所述支撑框架连接；
所述支撑框架上设置有多个第一类凹槽6和多个第二类凹槽7，所述第一类凹槽用于放置所述辅助屏蔽片的第二固定支脚，所述第二类凹槽用于放置所述金属屏蔽片的第一固定支脚。
图7所示的第一固定支脚设置在所述间隔结构的延伸方向上，且各个所述间隔结构的延伸方向上均设置有一个所述第一固定支脚，此种设计方式便于金属屏蔽片的生产加工，但其仅为一种可能的实现方式，对本公开实施例不构成限定。
在图7中，所述第二固定支脚设置在相邻的所述第一固定支脚之间，其数量可以根据实际需求设定，可以在每个相邻的所述第一固定支脚之间均设置第二固定支脚。第二固定支脚为焊接的焊点，其作用是固定辅助屏蔽片，因此，第二固定支脚设置在所述辅助屏蔽片远离所述蒸镀区域的一侧。
图8示出了支撑框架的凹槽示意图，支撑框架上设置有多个第一类凹槽和多个第二类凹槽，这些凹槽用来放置固定支脚；由于金属屏蔽片是承载在辅助屏蔽片上进而与支撑框架连接的，所以，为了使得整个金属屏蔽片掩膜板处于平整且稳定的状态，设置所述第二类凹槽的深度等于所述金属屏蔽片的厚度，所述第一类凹槽的深度等于所述辅助屏蔽片与所述金属屏蔽片的厚度之和。图9为辅助屏蔽片的结构示意图，图10为图7中剖面位置剖开后的结构示意图。
由于辅助屏蔽片也设置了第二固定支脚，因此，在设置时，优选设置所述辅助屏蔽片在金属屏蔽片上的投影与四周区域具有相同宽度，所述主体遮盖区域在所述金属屏蔽片上的投影处于所述四周区域之内，如图7所示，所述支撑框架同一边框方向上的所述第二固定支脚与所述支撑框架连接的端部与第一固定支脚与支撑框架连接的端部处于同一直线上。
本公开实施例原有蒸镀区域并未进行任何改进，而是将四周区域进行了改进，即将四周区域原有的整面结构调整为多个第一固定支脚的结构，此种结构形式，相对于整面结构，能够附着更少的蒸镀材料。
由于四周区域改进为只包括第一固定支脚的镂空结构，因此，为了保证四周区域的遮挡能力不变，本公开实施例还包括辅助屏蔽片，将其设置在金属屏蔽片与支撑框架之间，本领域技术人员可以将其外围周边的边框与支撑框架进行任意位置的焊接，进而在金属屏蔽片放置在辅助屏蔽层上时，能够通过辅助屏蔽片遮挡四周区域。
在采用上述金属屏蔽片掩膜板进行蒸镀时，原有四周区域附着的蒸镀材料会附着在辅助屏蔽片上，由于辅助屏蔽片与金属屏蔽片并不是整体结构，因此，当辅助屏蔽片随着附着重量增加而存在下坠时，并不会造成金属屏蔽片的形变，也不会影响金属屏蔽片蒸镀区域的蒸镀效果，保证所有蒸镀结构的蒸镀效果。
本公开第三实施例还提供了一种蒸镀辅助设备，其至少包括本公开上述实施例中的金属屏蔽片掩膜板，金属屏蔽片掩膜板和磁吸板配合使用，此处不再赘述。
本公开实施例采用的双层结构以支脚固定，通过辅助屏蔽层遮挡四周空隙，大大减少主要屏蔽层需要预留的实材面积和所需固定的位置，在磁场中蒸镀可有效降低阴影。
此外，尽管已经在本文中描述了示例性实施例，其范围包括任何和所有基于本公开的具有等同元件、修改、省略、组合(例如，各种实施例交叉的方案)、改编或改变的实施例。权利要求书中的元件将被基于权利要求中采用的语言宽泛地解释，并不限于在本说明书中或本申请的实施期间所描述的示例，其示例将被解释为非排他性的。因此，本说明书和示例旨在仅被认为是示例，真正的范围和精神由以下权利要求以及其等同物的全部范围所指示。
以上描述旨在是说明性的而不是限制性的。例如，上述示例(或其一个或更多方案)可以彼此组合使用。例如本领域普通技术人员在阅读上述描述时可以使用其它实施例。另外，在上述具体实施方式中，各种特征可以被分组在一起以简单化本公开。这不应解释为一种不要求保护的公开的特征对于任一权利要求是必要的意图。相反，本公开的主题可以少于特定的公开的实施例的全部特征。从而，以下权利要求书作为示例或实施例在此并入具体实施方式中，其中每个权利要求独立地作为单独的实施例，并且考虑这些实施例可以以各种组合或排列彼此组合。本公开的范围应参照所附权利要求以及这些权利要求赋权的等同形式的全部范围来确定。
以上对本公开多个实施例进行了详细说明，但本公开不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本公开构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。
Claims (10)
1.一种金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，包括：
支撑框架、金属屏蔽片、辅助屏蔽片，其中，所述支撑框架和所述辅助屏蔽片均为中空的框架结构；
所述金属屏蔽片包括蒸镀区域和四周区域，所述蒸镀区域包括多个显示面板的蒸镀结构和分隔各个蒸镀结构的间隔结构，所述四周区域仅包括多个第一固定支脚，所述第一固定支脚承载在所述辅助屏蔽片上，所述第一固定支脚的端部与所述支撑框架连接；
所述辅助屏蔽片承载在所述支撑框架上，所述辅助屏蔽片由所述四周区域和所述蒸镀区域的分界线延伸至所述支撑框架，与所述支撑框架连接。
2.如权利要求1所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述第一固定支脚设置在所述间隔结构的延伸方向上。
3.如权利要求2所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
各个所述间隔结构的延伸方向上均设置有一个所述第一固定支脚。
4.如权利要求1至3中任一项所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述辅助屏蔽片包括主体遮盖区域和第二固定支脚，所述辅助屏蔽片通过第二固定支脚与所述支撑框架连接。
5.如权利要求4所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述第二固定支脚设置在相邻的所述第一固定支脚之间。
6.如权利要求5所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述辅助屏蔽片在金属屏蔽片上的投影与四周区域具有相同宽度，所述主体遮盖区域在所述金属屏蔽片上的投影处于所述四周区域之内。
7.如权利要求4所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述支撑框架上设置有多个第一类凹槽和多个第二类凹槽，所述第一类凹槽用于放置所述辅助屏蔽片的第二固定支脚，所述第二类凹槽用于放置所述金属屏蔽片的第一固定支脚。
8.如权利要求7所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述第二类凹槽的深度等于所述金属屏蔽片的厚度，所述第一类凹槽的深度等于所述辅助屏蔽片与所述金属屏蔽片的厚度之和。
9.如权利要求1所述的金属屏蔽片掩膜板，其特征在于，
所述辅助屏蔽片的材料与所述金属屏蔽片的材料相同。
10.一种蒸镀辅助设备，其特征在于，至少包括：权利要求1至9中任一项所述的金属屏蔽片掩膜板。
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Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005339861A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
| CN106086781A (zh) * | 2016-06-15 | 2016-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制造方法、显示装置 |
| CN107371358A (zh) * | 2017-09-11 | 2017-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种应用于显示模组的屏蔽面板及加固显示装置 |
| CN107699854A (zh) * | 2017-11-10 | 2018-02-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制造方法 |
| CN109306448A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-02-05 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 掩膜组件、蒸镀装置、蒸镀方法、阵列基板及显示面板 |
| CN110029307A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-07-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀掩膜板 |
| CN209845168U (zh) * | 2019-03-18 | 2019-12-24 | 深圳市兆能讯通科技有限公司 | 一种新型机顶盒屏蔽罩结构 |
| CN111020478A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件及一种蒸镀设备 |
| CN212102988U (zh) * | 2020-05-08 | 2020-12-08 | 上海和辉光电股份有限公司 | 金属掩膜板 |
| CN112226731A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-15 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜板框架及蒸镀掩膜板组件 |
| CN113061840A (zh) * | 2021-03-15 | 2021-07-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀掩膜板及其制作方法、显示面板 |
| CN113652633A (zh) * | 2021-08-13 | 2021-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板框架、掩模板组件及其制备方法 |
| CN215628244U (zh) * | 2020-12-24 | 2022-01-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板 |
| KR20220016383A (ko) * | 2020-07-31 | 2022-02-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 마스크의 제조방법 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
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Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005339861A (ja) * | 2004-05-25 | 2005-12-08 | Canon Inc | マスク構造体及びその製造方法 |
| CN106086781A (zh) * | 2016-06-15 | 2016-11-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制造方法、显示装置 |
| CN107371358A (zh) * | 2017-09-11 | 2017-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种应用于显示模组的屏蔽面板及加固显示装置 |
| CN107699854A (zh) * | 2017-11-10 | 2018-02-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制造方法 |
| CN109306448A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-02-05 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 掩膜组件、蒸镀装置、蒸镀方法、阵列基板及显示面板 |
| CN209845168U (zh) * | 2019-03-18 | 2019-12-24 | 深圳市兆能讯通科技有限公司 | 一种新型机顶盒屏蔽罩结构 |
| CN110029307A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-07-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀掩膜板 |
| CN111020478A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-04-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件及一种蒸镀设备 |
| CN212102988U (zh) * | 2020-05-08 | 2020-12-08 | 上海和辉光电股份有限公司 | 金属掩膜板 |
| KR20220016383A (ko) * | 2020-07-31 | 2022-02-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 마스크의 제조방법 |
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| CN215628244U (zh) * | 2020-12-24 | 2022-01-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板 |
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