TWI687529B - 掩膜板排版方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了一種掩膜板排版方法,包括:提供框架,具有間隔設置的預設區域、定位區域以及與預設區域和定位區域錯位設置的固定區域,相鄰兩個預設區域的間距為第一預定距離L1;對應於定位區域設置覆蓋掩膜板,覆蓋掩膜板的邊緣距離定位區域的中心間距為第二預定距離L2;根據預設條件將蒸鍍掩膜板設置於固定區域,相鄰兩個固定區域的間距為第三預定距離L3,第三預定距離L3為第一預定距離L1與第二預定距離L2差值;預設條件包括:框架具有用於連接蒸鍍掩膜板的連接區域,連接區域在固定區域內,連接區域的邊緣至蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第一距離D1,蒸鍍掩膜板的蒸鍍區域的邊緣與蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第二距離D2;第一距離D1小於第二距離D2。

Description

掩膜板排版方法
本發明涉及顯示面板技術領域,特別是涉及一種掩膜板排版方法。
有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode,簡稱OLED)顯示器因其具有自發光性、輕薄、功耗低、高對比、高色域、可實現柔性顯示等優點,已被廣泛地應用於包括電腦、手機等電子產品在內的各種電子設備中。OLED顯示器件包括陰極層、有機材料功能層以及陽極層等,其中,有機材料功能層一般利用掩膜版,採用蒸鍍的方式將蒸鍍材料蒸鍍至蒸鍍用背板的預設位置。
目前,掩模版的結構設計不合理,導致掩膜版排版密度低,從而導致待蒸鍍基板的蒸鍍有效區利用率低,嚴重影響一張待蒸鍍基板產出單個屏體的數量。
本發明實施例提供一種掩膜板排版方法。掩膜板排版方法能夠保證蒸鍍掩膜板的張網精度,提升蒸鍍掩膜板的排版密度,從而提升顯示面板的產量。
一方面,本發明實施例提出了一種掩膜板排版方法,其包括:提供框架,具有間隔設置的預設區域、相鄰兩個預設區域之間的定位區域以及與預設區域和定位區域錯位設置的固定區域,相鄰兩個預設區域之間的間距為第一預定距離L1;對應於定位區域設置覆蓋掩膜板,覆蓋掩膜板的邊緣距離定位區域的中心間距為第二預定距離L2;根據預設條件將蒸鍍掩膜板設置於固定區域,相鄰兩個固定區域之間的間距為第三預定距離L3,第三預定距離L3等於第一預定距離L1與第二預定距離L2的差 值;預設條件包括:框架具有用於連接蒸鍍掩膜板的連接區域,連接區域在固定區域內,連接區域的邊緣至蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第一距離D1,蒸鍍掩膜板的蒸鍍區域的邊緣與蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第二距離D2;第一距離D1小於第二距離D2。
根據本發明實施例的一個方面,第一距離D1為1~1.5mm。
根據本發明實施例的一個方面,第二距離D2大於1.5mm。
根據本發明實施例的一個方面,預設條件還包括:覆蓋掩膜板與蒸鍍掩膜板具有部分交疊,覆蓋掩膜板靠近蒸鍍區域的邊緣與蒸鍍區域的邊緣之間具有第三距離D3;定位區域的邊緣與覆蓋掩膜板的邊緣之間具有第四距離D4,第三距離D3大於等於第四距離D4。
根據本發明實施例的一個方面,固定區域的寬度小於預設區域的寬度。
根據本發明實施例的一個方面,蒸鍍區域具有輔助像素蒸鍍區,輔助像素蒸鍍區的邊緣與蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第二距離D2。
根據本發明實施例的一個方面,框架包括設置於固定區域的凸起以及設置於定位區域的凹槽,蒸鍍掩膜板固定於凸起,覆蓋掩膜板設置於凹槽內。
根據本發明實施例的一個方面,連接區域內設置焊點,蒸鍍掩膜板通過焊點固定於凸起,焊點的邊緣至蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第一距離D1。
根據本發明實施例的一個方面,蒸鍍掩膜板為條形。
根據本發明實施例的一個方面,多個預設區域沿蒸鍍掩膜板的寬度方向間隔設置。
本發明所提供的掩膜板排版方法,其通過以預設區域為參照,將蒸鍍掩膜板根據預設條件精準放置並固定於固定區域。使得各個 蒸鍍掩膜板在滿足張網精度的前提下,有利於縮小相鄰兩個蒸鍍掩膜板之間的間隙,因而能夠大幅度提升掩膜板組件中蒸鍍掩膜板的排版數量,同時保證張網精度,從而在一個大張玻璃基板上能夠製作更多數量的顯示面板,提升顯示面板的產量,節省成本。
101‧‧‧框架
101a‧‧‧預設區域
101b‧‧‧定位區域
101c‧‧‧固定區域
101d‧‧‧連接區域
102‧‧‧蒸鍍掩膜板
103‧‧‧間隙
104‧‧‧焊點
105‧‧‧蒸鍍孔
106‧‧‧覆蓋掩膜板
L1‧‧‧第一預定距離
L2‧‧‧第二預定距離
L3‧‧‧第三預定距離
D1‧‧‧第一距離
D2‧‧‧第二距離
D3‧‧‧第三距離
D4‧‧‧第四距離
X‧‧‧第一方向
Y‧‧‧第二方向
1011‧‧‧凸起
1012‧‧‧凹槽
1012a‧‧‧長條邊
1021‧‧‧蒸鍍區域
1021a‧‧‧輔助像素蒸鍍區
下面將通過參考圖式來描述本發明示例性實施例的特徵、優點和技術效果。
第1圖為本發明實施例的掩膜板排版方法流程圖。
第2圖為本發明實施例的框架和覆蓋掩膜板裝配結構示意圖。
第3圖為第2圖中A處的放大示意圖。
第4圖為本發明實施例的框架、覆蓋掩膜板和蒸鍍掩膜板局部裝配結構示意圖。
第5圖為本發明實施例的掩膜板元件的局部結構示意圖。
第6圖為本發明實施例的掩膜板元件的整體結構示意圖。
第7圖為第6圖中B處的放大示意圖。
下面結合圖式和實施例對本發明的實施方式作進一步詳細描述。以下實施例的詳細描述和圖式用於示例性地說明本發明的原理,但不能用來限制本發明的範圍,即本發明不限於所描述的實施例。
在本發明的描述中,需要說明的是,除非另有說明,“多個”的含義是兩個或兩個以上;術語“上”、“下”、“左”、“右”、“內”、“外”、“前端”、“後端”、“頭部”、“尾部”等指示的方位或位置關係僅是為了便於描述本發明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此不能理解為對本發明的限制。此外,術語“第一”、“第二”、“第三”等僅用於描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性。
下述描述中出現的方位詞均為圖中示出的方向,並不是對本發明的掩膜板元件的具體結構進行限定。在本發明的描述中,還需要說明的是,除非另有明確的規定和限定,術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連。對於本領域的普通技術人員而言,可視具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。
為了更好地理解本發明,下面結合第1圖至第4圖根據本發明實施例的掩膜板排版方法進行詳細描述。
參見第1圖至第3圖所示,本發明實施例提供一種掩膜板排版方法,其包括:提供框架101,該框架101具有多個間隔設置的預設區域101a、相鄰兩個預設區域101a之間的定位區域101b以及與預設區域101a和定位區域101b錯位設置的固定區域101c,相鄰兩個預設區域101a之間的間距為第一預定距離L1。參見第3圖所示,本實施例的固定區域101c與預設區域101a和定位區域101b錯位設置指的是固定區域101c與預設區域101a在第一方向X上彼此不重疊或僅有部分重疊區域,固定區域101c與定位區域101b在第一方向X上彼此不重疊或僅有部分重疊區域。
對應於定位區域101b設置覆蓋掩膜板106,覆蓋掩膜板106的邊緣距離定位區域101b的中心間距為第二預定距離L2。
根據預設條件將蒸鍍掩膜板102設置於固定區域101c,相鄰兩個固定區域101c之間的間距為第三預定距離L3,第三預定距離L3等於第一預定距離L1與第二預定距離L2的差值。
預設條件包括:框架101具有用於連接蒸鍍掩膜板102的連接區域101d,連接區域101d在固定區域101c內,連接區域101d的邊緣至蒸鍍掩膜板102的邊緣間距為第一距離D1,蒸鍍掩膜板102的蒸鍍區域1021的邊緣與蒸鍍掩膜板102的邊緣間距為第二距離D2;第一距離D1小於第二距離D2。
上述實施例中的預設區域101a是用於放置蒸鍍掩膜板102的參考區域。定位區域101b用於為放置覆蓋掩膜板106提供精確定位。固定區域101c是用於實現最終固定蒸鍍掩膜板102的區域。預設區域101a、定位區域101b、固定區域101c和連接區域101d如第2圖中虛線框示出的區域,上述各區域均為虛擬區域,並不限定框架101的結構。在將蒸鍍掩膜板102設置於固定區域101c後,相鄰兩個蒸鍍掩膜板102的間隙與第三預定距離L3相關。相鄰兩個蒸鍍掩膜板102的間隙小於第一預定距離L1。
本發明所提供的掩膜板排版方法,其通過以預設區域101a為參照,將蒸鍍掩膜板102根據預設條件精準放置並固定於固定區域101c。使得各個蒸鍍掩膜板102在滿足張網精度的前提下,有利於縮小相鄰兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙,因而能夠大幅度提升掩膜板組件中蒸鍍掩膜板102的排版數量,同時保證張網精度,從而在一個大張玻璃基板上能夠製作更多數量的顯示面板,提升顯示面板的產量,節省成本。
在一個實施例中,參見第4圖所示,第一距離D1為1~1.5mm。優選地,第一距離D1為1~1.1mm。第二距離D2大於1.5mm。這樣,能夠保證蒸鍍掩膜板102的張網精度,同時也降低蒸鍍掩膜板102的邊緣發生翹曲的可能性。
本實施例中,預設條件還包括:覆蓋掩膜板106與蒸鍍掩膜板102具有部分交疊,覆蓋掩膜板106靠近蒸鍍區域1021的邊緣與蒸鍍區域1021的邊緣之間具有第三距離D3,而定位區域101b的邊緣與覆蓋掩膜板106的邊緣之間具有第四距離D4,第三距離D3大於等於第四距離D4。這樣,能夠有利於縮小兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙,或者,減小蒸鍍掩膜板102自身尺寸,在單位面積內能夠設置更多數量的蒸鍍掩膜板102,提高蒸鍍掩膜板102的單位面積排版率。在一個實施例中,第三距離D3為0.3~0.5mm,第四距離D4為0.3mm。
本實施例中,固定區域101c的寬度小於預設區域101a的寬度。參見第2圖所示,固定區域101c在第一方向X上的尺寸為寬度 尺寸。預設區域101a在第一方向X上的尺寸為寬度尺寸。這樣,在本實施例中,蒸鍍掩膜板102的尺寸與固定區域101c的尺寸相對應,因此可以減小蒸鍍掩膜板102自身在第一方向X上的尺寸,從而在單位面積內能夠設置更多數量的蒸鍍掩膜板102,提高蒸鍍掩膜板102的單位面積排版率。
本實施例中,蒸鍍區域1021具有輔助像素蒸鍍區1021a。輔助像素蒸鍍區1021a的邊緣與蒸鍍掩膜板102的邊緣間距為第二距離D2。蒸鍍掩膜板102上設置的輔助像素蒸鍍區1021a用於蒸鍍輔助像素。蒸鍍掩膜板102的蒸鍍區域1021還具有與輔助像素蒸鍍區1021a相鄰的顯示像素蒸鍍區。蒸鍍掩膜板102上設置的顯示像素蒸鍍區用於蒸鍍顯示像素。
本實施例中,框架101包括設置於固定區域101c的凸起1011以及設置於定位區域101b的凹槽1012。蒸鍍掩膜板102固定於凸起1011,而覆蓋掩膜板106設置於凹槽1012內。覆蓋掩膜板106的邊緣距離凹槽1012的中心間距為第二預定距離L2。
在一個實施例中,連接區域101d內設置焊點104。蒸鍍掩膜板102通過焊點固定於凸起1011。焊點104的邊緣至蒸鍍掩膜板102的邊緣間距為第一距離D1。
在一個實施例中,蒸鍍掩膜板102為具有預定寬度和長度的條形結構體。多個預設區域101a沿蒸鍍掩膜板102的寬度方向間隔設置。
為了更好地理解本發明,下面結合第5圖至第7圖根據本發明實施例的掩膜板排版方法完成蒸鍍掩膜板102排版後形成的掩膜板元件進行詳細描述。
第5圖為本發明實施例的掩膜板元件的局部結構。參考第5圖,掩膜板元件包括框架101,蒸鍍掩膜板102以及焊點104。框架101為框形結構。蒸鍍掩膜板102的數量為多個。多個蒸鍍掩膜板102沿第一方向X依次設置於框架101上。相鄰兩個蒸鍍掩膜板102之間具有間 隙103。焊點104的數量為多個,焊點104將蒸鍍掩膜板102固定於框架101。在一個蒸鍍掩膜板102中,最靠近間隙103的焊點104與蒸鍍掩膜板102的邊緣之間在第一方向X上具有最短的第一距離D1。蒸鍍掩膜板102具有多個蒸鍍孔105,最靠近間隙103的蒸鍍孔105與蒸鍍掩膜板102的邊緣之間在第一方向X上具有最短的第二距離D2。第一距離D1小於第二距離D2。
有機發光顯示面板具有堆疊結構。在該堆疊結構中,發射層插入在陽極和陰極之間並基於如下原理實現顏色:從陽極和陰極注入到發射層中的空穴和電子會複合發射光。在本實施例中,使用蒸鍍掩膜板102蒸鍍發射層材料,以製造有機發光顯示面板。
通常有機發光顯示面板製作在大張玻璃基板上,大張的玻璃基板可以同時形成多個有機發光顯示面板。形成多個有機發光顯示面板後進行切割。在蒸鍍發光材料的過程中,將掩膜板組件與大張的玻璃基板對應,發光材料通過掩膜板元件的蒸鍍孔105蒸鍍到大張的玻璃基板上。
本實施例的掩膜板組件包括框架101。框架101一般為框形結構。框形結構的中空區域對應大張的玻璃基板上的蒸鍍有效區設置。蒸鍍形成的多個有機發光顯示面板位於蒸鍍有效區內。第5圖示意性地示出了矩形的框架101,但本實施例的框架101的形狀不限於矩形,還可以是其他的形狀。框架101用於支撐和固定多個蒸鍍掩膜板102。
本實施例的多個蒸鍍掩膜板102沿著第一方向X依次設置於框架101上。蒸鍍掩膜板102可以為精細金屬掩膜板(Fine Metal Mask,FMM),厚度很薄、熱膨脹係數小,具有較高的蒸鍍精度。蒸鍍掩膜板102上具有多個蒸鍍孔105。一個蒸鍍孔105可以在玻璃基板上蒸鍍一個以上的像素。發光材料通過蒸鍍孔105蒸鍍到玻璃基板上,從而形成發光像素。
本實施例中,在第一方向X上依次排列的多個蒸鍍掩膜板102之間通常具有間隙103。該間隙103通常無法做到很小,較大的間 隙103會使得在框架101上單位面積內排布的蒸鍍掩膜板102數量變少,從而導致大張玻璃基板上產出的有機發光顯示面板變少。
在第二方向Y上,蒸鍍掩膜板102具有相對的兩端。為了實現蒸鍍掩膜板102和框架101的固定,通常將蒸鍍掩膜板102焊接到框架101上,因而多個焊點104分佈於蒸鍍掩膜板102的兩端,以將蒸鍍掩膜板102固定於框架101上。
如第5圖所示,在第一方向X上,每個蒸鍍掩膜板102具有相對的兩個邊緣。在X方向上,每個蒸鍍掩膜板102上的多個焊點104中處於最外側的焊點104到蒸鍍掩膜板102的兩個邊緣具有兩個距離。兩個距離中最短的距離為上述的第一距離D1。在Y方向上,每個蒸鍍掩膜板102上的多個蒸鍍孔105中處於最外側的蒸鍍孔105到蒸鍍掩膜板102的兩個邊緣具有兩個距離。兩個距離中最短的距離為上述的第二距離D2。
在一個實施例中,第一距離D1為1~1.5mm,第二距離D2大於1.5mm。這樣,能夠保證蒸鍍掩膜板102的張網精度,同時也降低蒸鍍掩膜板102的邊緣發生翹曲的可能性。
本發明所提供的掩膜板元件和蒸鍍方法,蒸鍍掩膜板102的結構設計合理,能夠在滿足蒸鍍掩膜板102張網精度的同時,縮小相鄰兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙103,因而能夠大幅度提升掩膜板組件中蒸鍍掩膜板102的排版數量,從而在一個大張玻璃基板上能夠製作更多數量的顯示面板,提升顯示面板的產量,節省成本。
繼續參考第5圖,蒸鍍掩膜板102的形狀可以為條形。蒸鍍掩膜板102具有預定寬度和長度。蒸鍍掩膜板102的寬度方向為第一方向X。條形的蒸鍍掩膜板102上包括為多個有機發光顯示面板進行蒸鍍的蒸鍍孔105。蒸鍍掩膜板102的延伸方向為第二方向Y,這裡蒸鍍掩膜板102的延伸方向即為條形的延伸方向。第二方向Y與第一方向X相互交叉,即多個蒸鍍掩膜板102沿著第一方向X依次排列,並且每個蒸鍍掩膜板102沿著第二方向Y延伸。可選地,第一方向X和第二方向Y垂直。 可選地,框架101可以設置為矩形,並且該矩形的長邊和短邊分別平行於第一方向X和第二方向Y。蒸鍍掩膜板102的延伸方向為第二方向Y,即蒸鍍掩膜板102沿著矩形框架的一條邊的方向延伸。多個蒸鍍掩膜板102沿著矩形框架101的另一條邊的方向依次排布。這種設置方式能夠實現蒸鍍掩膜板102的最佳排布方式,在特定形狀的框架101上能夠排布更多的蒸鍍掩膜板102。
為了更好的實現蒸鍍掩膜板102和框架101之間的固定連接,可以在蒸鍍掩膜板102延伸方向上的一端通過規則排布的多個焊點104進行連接。可選地,焊點104在蒸鍍掩膜板102的沿第二方向Y的兩端分別呈陣列分佈。該陣列的列行方向分別平行於第一方向X和第二方向Y。在這種條件下,位於同一行的焊點104(行方向為第二方向Y)與最靠近的間隙103可以具有相同距離,與蒸鍍掩膜板102的邊緣可以具有相同的最短的第一距離D1,從而能夠有利於縮小兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙,在單位面積內能夠設置更多數量的蒸鍍掩膜板102,提高蒸鍍掩膜板102的單位面積排版率。
第6圖為本發明實施例提供的掩膜板元件的整體結構。第7圖為第6圖中A區域的放大示意圖。一併參考第6圖和第7圖,與上述實施方式中相同的部分此處不再贅述,本實施例的掩膜板元件還可以包括覆蓋掩膜板106。覆蓋掩膜板106用於覆蓋相鄰蒸鍍掩膜板102之間的間隙103,防止在蒸鍍過程中有機發光材料通過相鄰蒸鍍掩膜板之間的間隙103蒸鍍到玻璃基板上。覆蓋掩膜板106也能夠用於為蒸鍍掩膜板102提供支撐力,阻止蒸鍍掩膜板102下垂,避免蒸鍍掩膜板102上的蒸鍍孔105變形,保證蒸鍍掩膜板102上的蒸鍍孔105的蒸鍍精度。覆蓋掩膜板106同樣通過焊接的方式固定到框架101,為了完全覆蓋住間隙103,覆蓋掩膜板106與蒸鍍掩膜板102之間具有部分交疊。覆蓋掩膜板106靠近蒸鍍孔105的邊緣與最靠近間隙的蒸鍍孔之間在第一方向X上具有第三距離D3,第三距離D3為0.3~0.5mm。
如第7圖所示,在第一方向X上,一個覆蓋掩膜板106具有相對的兩個邊緣。一個覆蓋掩膜板106的兩個邊緣分別與兩個相鄰的蒸鍍掩膜板102層疊設置。一個蒸鍍掩膜板102上設置的多個蒸鍍孔105中最靠近相鄰的覆蓋掩膜板106的一個邊緣的距離為上述的第三距離D3。
本實施例中,通過設置覆蓋掩膜板106靠近蒸鍍孔105的邊緣與最靠近間隙103的蒸鍍孔105之間在第一方向X上具有第三距離D3為0.3~0.5mm,能夠有利於縮小兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙,或者,減小蒸鍍掩膜板102自身在第一方向X上的尺寸,在單位面積內能夠設置更多數量的蒸鍍掩膜板102,提高蒸鍍掩膜板102的單位面積排版率。可選地,在本實施例中,覆蓋掩膜板106為條形,並完全覆蓋相鄰蒸鍍掩膜板102之間的間隙103。條形的覆蓋掩膜板106的延伸方向為第二方向Y,即與蒸鍍掩膜板102的延伸方向相同。
本實施例中,與蒸鍍掩膜板102類似的方式,覆蓋掩膜板106同樣可以通過焊接與框架101實現固定,框架101上,在框架與蒸鍍掩膜板102進行固定的部分上可以設置多個凸起1011,多個凸起1011可以沿著第一方向X排布,相鄰的凸起1011之間具有凹槽1012,蒸鍍掩膜板102固定到框架101的多個凸起1011上。可選地,一個蒸鍍掩膜板102可以分別在蒸鍍掩膜板102的一個端部固定在一個凸起1011上。由於蒸鍍掩膜板102為條形並且沿著第二方向Y延伸,因而蒸鍍掩膜板102固定於在第二方向Y上相對設置的凸起1011之上,而覆蓋掩膜板106固定於相鄰的凸起1011之間的凹槽1012內。
可以理解地,凹槽1012是由相鄰的兩個凸起1011之間具有一定的距離形成的,因此凹槽1012具有由相鄰的凸起1011構成的長條邊1012a。該長條邊1012a即為構成凹槽1012的凸起1011的邊緣,長條邊1012a的延伸方向可以為第二方向Y,如第7圖所示,覆蓋掩膜板106位於長條邊1012a所構成的凹槽1012內,長條邊1012a最靠近覆蓋掩膜板106的一個邊緣,長條邊1012a與最靠近的覆蓋掩膜板106的邊緣之 間在第一方向X上具有第四距離D4。第四距離D4可以為0.3mm,覆蓋掩膜板106的邊緣為沿著第二方向Y延伸的邊緣。通過設置第四距離D4為0.3mm,能夠有利於縮小兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙,在單位面積內能夠設置更多數量的蒸鍍掩膜板102,提高蒸鍍掩膜板102的單位面積排版率。
進一步地,本發明實施例還提供了一種蒸鍍方法,包括將上述任一種掩膜板元件放置於目標基板上方,這裡目標基板即前述實施方式中的大張的玻璃基板,通過上述掩膜板元件對目標基板進行蒸鍍。
本發明所提供的掩膜板元件和蒸鍍方法,由於蒸鍍掩膜板102的結構設計合理,能夠在滿足蒸鍍掩膜板102張網精度的同時,縮小相鄰兩個蒸鍍掩膜板102之間的間隙103,因而能夠大幅度提升掩膜板組件中蒸鍍掩膜板102的排版數量,提升張網精度,從而在一個大張玻璃基板上能夠製作更多數量的顯示面板,提升顯示面板的產量,節省成本。
雖然已經參考優選實施例對本發明進行了描述,但在不脫離本發明的範圍的情況下,可以對其進行各種改進並且可以用等效物替換其中的部件,尤其是,只要不存在結構衝突,各個實施例中所提到的各項技術特徵均可以任意方式組合起來。本發明並不局限於文中公開的特定實施例,而是包括落入申請專利範圍內的所有技術方案。
L1‧‧‧第一預定距離
L2‧‧‧第二預定距離
L3‧‧‧第三預定距離
D1‧‧‧第一距離
D2‧‧‧第二距離

Claims (10)

  1. 一種掩膜板排版方法,其中,包括:提供框架,具有間隔設置的預設區域、位於相鄰兩個所述預設區域之間的定位區域以及與所述預設區域和所述定位區域錯位設置的固定區域,相鄰兩個所述預設區域之間的間距為第一預定距離L1;對應於所述定位區域設置覆蓋掩膜板,所述覆蓋掩膜板的邊緣距離所述定位區域的中心間距為第二預定距離L2;根據預設條件將蒸鍍掩膜板設置於所述固定區域,相鄰兩個所述固定區域之間的間距為第三預定距離L3,所述第三預定距離L3等於所述第一預定距離L1與所述第二預定距離L2的差值;所述預設條件包括:所述框架具有用於連接所述蒸鍍掩膜板的連接區域,所述連接區域在所述固定區域內,所述連接區域的邊緣至所述蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第一距離D1,所述蒸鍍掩膜板的蒸鍍區域的邊緣與所述蒸鍍掩膜板的邊緣間距為第二距離D2;所述第一距離D1小於所述第二距離D2。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的掩膜板排版方法,其中,所述第一距離D1為1~1.5mm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所述第二距離D2大於1.5mm。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所述預設條件還包括:所述覆蓋掩膜板與所述蒸鍍掩膜板具有部分交疊,所述覆蓋掩膜板靠近所述蒸鍍區域的邊緣與所述蒸鍍區域的邊緣之間具有第三距離D3;所述定位區域的邊緣與所述覆蓋掩膜板的邊緣之間具有第四距離D4,所述第三距離D3大於等於所述第四距離D4。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所述固定區域的寬度小於所述預設區域的寬度。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所 述蒸鍍區域具有輔助像素蒸鍍區,所述輔助像素蒸鍍區的邊緣與所述蒸鍍掩膜板的邊緣間距為所述第二距離D2。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所述框架包括設置於所述固定區域的凸起以及設置於所述定位區域的凹槽,所述蒸鍍掩膜板固定於所述凸起上,所述覆蓋掩膜板設置於所述凹槽內,其中,所述定位區域位於相鄰的兩個所述固定區域之間,使所述凹槽形成於相鄰的兩個所述凸起之間。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的掩膜板排版方法,其中,所述連接區域內設置焊點,所述蒸鍍掩膜板通過所述焊點固定於所述凸起,所述焊點的邊緣至所述蒸鍍掩膜板的邊緣的最短間距為所述第一距離D1。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的掩膜板排版方法,其中,所述蒸鍍掩膜板為條形。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的掩膜板排版方法,其中,多個所述預設區域沿所述蒸鍍掩膜板的寬度方向間隔設置。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109182964B (zh) 2018-08-31 2019-11-15 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板排版方法
JP7487481B2 (ja) * 2019-02-06 2024-05-21 大日本印刷株式会社 蒸着マスク装置、マスク支持機構及び蒸着マスク装置の製造方法
CN110098239B (zh) * 2019-05-17 2021-11-02 京东方科技集团股份有限公司 像素结构、显示基板、掩模板及蒸镀方法
CN111074205B (zh) 2020-01-22 2022-04-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及其制作方法
CN111206215A (zh) * 2020-02-28 2020-05-29 云谷(固安)科技有限公司 一种掩膜版
CN111666923B (zh) * 2020-07-02 2023-06-02 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板以及电子设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104317158A (zh) * 2014-11-14 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
CN104651778A (zh) * 2015-03-13 2015-05-27 京东方科技集团股份有限公司 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件
CN206340548U (zh) * 2016-12-26 2017-07-18 云谷(固安)科技有限公司 Oled像素排布结构、金属掩膜板及oled显示屏

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4200290B2 (ja) * 2003-05-21 2008-12-24 パナソニック株式会社 マスクユニット
KR100659057B1 (ko) * 2004-07-15 2006-12-21 삼성에스디아이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치
KR20120081512A (ko) * 2011-01-11 2012-07-19 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체
KR20120123918A (ko) * 2011-05-02 2012-11-12 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법
KR101837624B1 (ko) 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
CN105586568B (zh) * 2016-03-18 2018-01-26 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板
CN106373982B (zh) * 2016-09-06 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、以及显示装置
CN106676469B (zh) * 2017-01-09 2019-03-26 昆山国显光电有限公司 蒸镀掩膜板及其制造方法
CN207109080U (zh) * 2017-08-30 2018-03-16 信利(惠州)智能显示有限公司 掩膜板
CN107523788B (zh) * 2017-08-31 2023-12-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模板及其制作方法
CN107723659B (zh) * 2017-11-28 2019-11-08 信利(惠州)智能显示有限公司 用于蒸镀的掩膜板及制备方法
CN109182964B (zh) * 2018-08-31 2019-11-15 云谷(固安)科技有限公司 掩膜板排版方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104317158A (zh) * 2014-11-14 2015-01-28 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
CN104651778A (zh) * 2015-03-13 2015-05-27 京东方科技集团股份有限公司 一种金属掩膜板及其制作出的有机电致发光显示器件
CN206340548U (zh) * 2016-12-26 2017-07-18 云谷(固安)科技有限公司 Oled像素排布结构、金属掩膜板及oled显示屏

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