JP2012132096A - マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法 - Google Patents
マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012132096A JP2012132096A JP2011238995A JP2011238995A JP2012132096A JP 2012132096 A JP2012132096 A JP 2012132096A JP 2011238995 A JP2011238995 A JP 2011238995A JP 2011238995 A JP2011238995 A JP 2011238995A JP 2012132096 A JP2012132096 A JP 2012132096A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- mask
- frame assembly
- pattern
- frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims abstract description 105
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims description 3
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 abstract description 10
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 6
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
- Y10T29/49863—Assembling or joining with prestressing of part
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24298—Noncircular aperture [e.g., slit, diamond, rectangular, etc.]
- Y10T428/24314—Slit or elongated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】フレームと、フレームに第1方向に引っ張られた状態で設けられるマスクと、を備え、マスクは、複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、蒸着領域より厚く形成され、蒸着領域の両側に前記第1方向に沿って延設されるエッジ部と、蒸着領域より厚く形成され、第1方向と垂直の第2方向に隣接した蒸着用パターン部の間に少なくとも2つ以上形成されるリブと、を備えるマスクフレーム組立体が提供される。
【選択図】図1
Description
100A、100B、… 分割マスク
110 蒸着領域
111 蒸着用パターン部
120 エッジ部
121 第1エッジ
122 第2エッジ
130 リブ
131 第1リブ
132 第2リブ
141 ダミー蒸着用パターン部
150 溶接部
200 フレーム
300 基板
400 遮蔽マスク
A 第1方向(長手方向)
B 第2方向(幅方向)
Claims (16)
- フレームと、
前記フレームに第1方向に引っ張られた状態で設けられるマスクと、
を備え、
前記マスクは、
複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、
前記蒸着領域より厚く形成され、前記蒸着領域の両側に前記第1方向に沿って延設されるエッジ部と、
前記蒸着領域より厚く形成され、前記第1方向と垂直の第2方向に隣接した蒸着用パターン部の間に少なくとも2つ以上形成されるリブと、
を備えることを特徴とする、マスクフレーム組立体。 - 前記リブの間にダミー蒸着用パターン部を備えることを特徴とする、請求項1に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記ダミー蒸着用パターン部のパターンは、前記蒸着用パターン部のパターンと同一パターンであることを特徴とする、請求項2に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記ダミー蒸着用パターン部に対応する領域を遮蔽する遮蔽マスクをさらに備えることを特徴とする、請求項2に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記ダミー蒸着用パターン部の幅は、前記蒸着用パターン部の幅より狭いことを特徴とする、請求項2に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記エッジ部の厚さは、前記リブの厚さと同一であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記エッジ部と前記リブとは互いに連結されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のマスクフレーム組立体。
- 前記マスクは、前記第1方向が長手方向であり、前記第2方向が幅方向である複数の分割マスクが前記フレームに設けられる分割マスクであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載のマスクフレーム組立体。
- フレームを用意するステップと、
複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、前記蒸着領域より厚く形成され、前記蒸着領域の両側に第1方向に沿って延設されるエッジ部と、前記蒸着領域より厚く形成され、前記第1方向と垂直の第2方向に前記複数の蒸着用パターン部の間に少なくとも2つ以上形成されるリブと、を備えるマスクを用意するステップと、
前記マスクの両端を前記第1方向に引っ張って前記フレームに設けるステップと、
を含むことを特徴とする、マスクフレーム組立体の製造方法。 - 前記マスクは、電鋳法により用意されることを特徴とする、請求項9に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 前記リブの間にダミー蒸着用パターン部をさらに形成することを特徴とする、請求項9、または10に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 前記ダミー蒸着用パターン部のパターンは、前記蒸着用パターン部のパターンと同一パターンで形成することを特徴とする、請求項11に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 前記ダミー蒸着用パターン部に対応する領域を遮蔽する遮蔽マスクをさらに用意し、前記遮蔽マスクが前記ダミー蒸着用パターン部を遮蔽するように設けることを特徴とする、請求項11に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 前記マスクとフレームとはレーザー溶接で接合されることを特徴とする、請求項9に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 前記マスクは、前記第1方向が長手方向であり、前記第2方向が幅方向である複数の分割マスクが前記フレームに設けられる分割マスクであり、前記複数の分割マスクの両端を前記第1方向に引っ張って前記フレームに設けることを特徴とする、請求項9〜14のいずれか1項に記載のマスクフレーム組立体の製造方法。
- 基板上に互いに対向する第1電極と第2電極、および前記第1電極と第2電極との間に備えられた有機膜を含む有機発光表示装置の製造方法において、
前記有機膜または第2電極は、
フレームおよび前記フレームに、第1方向に引っ張られた状態で設けられ、
複数の蒸着用パターン部が備えられる蒸着領域と、前記蒸着領域より厚く形成されて、前記蒸着領域の両側に前記第1方向に沿って延設されるエッジ部と、前記蒸着領域より厚く形成され、前記第1方向と垂直の第2方向に前記複数の蒸着用パターン部の間に少なくとも2つ以上形成されるリブを含むマスクと、を備えるマスクフレーム組立体を利用して蒸着することを特徴とする、有機発光表示装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100130933A KR101742816B1 (ko) | 2010-12-20 | 2010-12-20 | 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR10-2010-0130933 | 2010-12-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012132096A true JP2012132096A (ja) | 2012-07-12 |
JP5816519B2 JP5816519B2 (ja) | 2015-11-18 |
Family
ID=46234907
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011238995A Active JP5816519B2 (ja) | 2010-12-20 | 2011-10-31 | マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8701592B2 (ja) |
JP (1) | JP5816519B2 (ja) |
KR (1) | KR101742816B1 (ja) |
CN (1) | CN102569673B (ja) |
TW (1) | TWI541368B (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150071320A (ko) * | 2013-12-18 | 2015-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
KR20150096590A (ko) * | 2014-02-14 | 2015-08-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
JP2017533998A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 被覆処理及びウェブ被覆設備用の分離マスクを備えるマスキング装置 |
JP2017206732A (ja) * | 2016-05-17 | 2017-11-24 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク溶接方法 |
JP2018026344A (ja) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | マスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置 |
WO2019064420A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
WO2019064419A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
WO2019186629A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスクセット、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクセットの製造方法及び表示デバイスの製造方法 |
JP2019214783A (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 蒸着用マスク |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103205683A (zh) * | 2012-01-16 | 2013-07-17 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种易于焊接的蒸镀用掩模板及其制备工艺 |
US9507273B2 (en) * | 2013-05-01 | 2016-11-29 | Advantech Global, Ltd | Method and apparatus for tensioning a shadow mask for thin film deposition |
KR102097706B1 (ko) * | 2013-06-19 | 2020-04-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 조립체 |
KR102106336B1 (ko) | 2013-07-08 | 2020-06-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 |
KR102118641B1 (ko) * | 2013-07-30 | 2020-06-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
KR20150019695A (ko) * | 2013-08-14 | 2015-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
CN103451598B (zh) | 2013-09-05 | 2016-03-02 | 中山新诺科技有限公司 | 一种oled显示面板生产用新型精细金属掩膜版及制作方法 |
KR102159267B1 (ko) * | 2013-09-06 | 2020-09-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
JP2015069806A (ja) * | 2013-09-27 | 2015-04-13 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
CN103952666B (zh) * | 2014-04-22 | 2016-02-10 | 四川虹视显示技术有限公司 | 蒸镀掩膜板张紧方法 |
KR20160000069A (ko) * | 2014-06-23 | 2016-01-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 어셈블리 및 그 제조방법 |
KR102223677B1 (ko) * | 2014-07-24 | 2021-03-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR102250047B1 (ko) * | 2014-10-31 | 2021-05-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR102278606B1 (ko) * | 2014-12-19 | 2021-07-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 이를 포함하는 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
KR102404576B1 (ko) * | 2015-04-24 | 2022-06-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 |
TWI550108B (zh) * | 2015-04-28 | 2016-09-21 | 友達光電股份有限公司 | 遮罩 |
CN106637072A (zh) * | 2015-10-30 | 2017-05-10 | 上海和辉光电有限公司 | 一种高精度金属掩膜装置及其制造方法 |
KR102549358B1 (ko) * | 2015-11-02 | 2023-06-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 마스크 조립체 및 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
CN106048521B (zh) * | 2016-06-12 | 2018-09-18 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种金属掩膜板的制备方法及金属掩膜板 |
KR102696806B1 (ko) * | 2016-09-22 | 2024-08-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
KR102691002B1 (ko) * | 2016-11-30 | 2024-08-05 | 엘지디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 및 그 제조방법 |
KR102687856B1 (ko) * | 2017-02-01 | 2024-07-24 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 어셈블리 |
KR20190096577A (ko) * | 2018-02-09 | 2019-08-20 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
CN110373629A (zh) * | 2018-04-12 | 2019-10-25 | 上海和辉光电有限公司 | 一种高精度金属掩膜板及制造方法、高精度金属掩膜装置 |
KR102466835B1 (ko) | 2018-06-04 | 2022-11-15 | 주식회사 케이피에스 | 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법 |
KR101909582B1 (ko) | 2018-06-04 | 2018-10-18 | 주식회사 케이피에스 | 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법 |
CN109064474B (zh) * | 2018-07-30 | 2022-01-04 | 安徽慧视金瞳科技有限公司 | 一种交互式课堂教学系统自动获取掩膜图方法 |
KR102544342B1 (ko) | 2018-08-13 | 2023-06-16 | 주식회사 케이피에스 | 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법 |
CN109468587B (zh) * | 2019-01-02 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板安装架及掩膜板组件 |
CN109778116B (zh) * | 2019-03-28 | 2021-03-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件 |
WO2021087732A1 (zh) * | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模装置、掩模板及框架 |
CN111394692B (zh) * | 2020-05-09 | 2022-05-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版 |
KR20220082994A (ko) * | 2020-12-10 | 2022-06-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크 및 이를 포함하는 증착 장치 |
WO2022133994A1 (zh) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板遮片和掩模板设备 |
CN115667572B (zh) * | 2021-01-22 | 2024-05-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 遮挡掩膜版、掩膜版组件及蒸镀装置 |
KR20230010121A (ko) * | 2021-07-09 | 2023-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체를 포함한 증착 설비 및 마스크 조립체 리페어 방법 |
KR20240035264A (ko) * | 2022-09-08 | 2024-03-15 | 엘지이노텍 주식회사 | Oled 화소 증착을 위한 증착용 마스크 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001185350A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
JP2004055231A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けメタルマスク |
JP2005042147A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク |
WO2006027830A1 (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-16 | Toray Industries, Inc. | 有機電界発光装置およびその製造方法 |
JP2009287113A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体及びその製造方法 |
JP2010251320A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6469439B2 (en) * | 1999-06-15 | 2002-10-22 | Toray Industries, Inc. | Process for producing an organic electroluminescent device |
JP2001237071A (ja) | 2000-02-24 | 2001-08-31 | Tohoku Pioneer Corp | メタルマスク及びその製造方法 |
CN100464440C (zh) * | 2002-06-03 | 2009-02-25 | 三星移动显示器株式会社 | 用于有机电致发光装置的薄层真空蒸发的掩模框组件 |
KR100908232B1 (ko) | 2002-06-03 | 2009-07-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
JP2004273438A (ja) * | 2003-02-17 | 2004-09-30 | Pioneer Electronic Corp | エッチング用マスク |
KR101023396B1 (ko) | 2004-02-23 | 2011-03-18 | 사천홍시현시기건유한공사 | 유기 전계발광 소자용 쉐도우 마스크 제조방법 |
JP2005302457A (ja) | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Toray Ind Inc | 蒸着マスクおよびその製造方法並びに有機電界発光装置の製造方法 |
KR100696523B1 (ko) | 2005-05-30 | 2007-03-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법 |
JP4951960B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2012-06-13 | 大日本印刷株式会社 | メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 |
JP2009041054A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Sony Corp | 蒸着用マスクおよびその製造方法ならびに表示装置の製造方法 |
US8350468B2 (en) * | 2008-06-30 | 2013-01-08 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic electroluminescence display including a spacer and method for fabricating the same |
KR101030030B1 (ko) * | 2009-12-11 | 2011-04-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 마스크 조립체 |
KR101182440B1 (ko) * | 2010-01-11 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
KR101182239B1 (ko) * | 2010-03-17 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 이를 포함하는 마스크 조립체 |
KR20120081512A (ko) * | 2011-01-11 | 2012-07-19 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
KR20120105292A (ko) * | 2011-03-15 | 2012-09-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 마스크 및 증착 마스크 제조 방법 |
KR101837624B1 (ko) * | 2011-05-06 | 2018-03-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
-
2010
- 2010-12-20 KR KR1020100130933A patent/KR101742816B1/ko active IP Right Grant
-
2011
- 2011-09-23 US US13/242,521 patent/US8701592B2/en active Active
- 2011-10-31 JP JP2011238995A patent/JP5816519B2/ja active Active
- 2011-11-02 CN CN201110341551.0A patent/CN102569673B/zh active Active
- 2011-11-15 TW TW100141650A patent/TWI541368B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001185350A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Sanyo Electric Co Ltd | 被着用マスク、その製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
JP2004055231A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けメタルマスク |
JP2005042147A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスクの製造方法および蒸着用マスク |
WO2006027830A1 (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-16 | Toray Industries, Inc. | 有機電界発光装置およびその製造方法 |
JP2009287113A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | マスク組立体及びその製造方法 |
JP2010251320A (ja) * | 2009-04-16 | 2010-11-04 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着用マスクフレーム組立体、その製造方法及び有機発光表示装置の製造方法 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102219210B1 (ko) * | 2013-12-18 | 2021-02-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
KR20150071320A (ko) * | 2013-12-18 | 2015-06-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 단위 마스크 및 마스크 조립체 |
KR20150096590A (ko) * | 2014-02-14 | 2015-08-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
KR102237428B1 (ko) * | 2014-02-14 | 2021-04-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
JP2017533998A (ja) * | 2014-11-17 | 2017-11-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 被覆処理及びウェブ被覆設備用の分離マスクを備えるマスキング装置 |
JP2017206732A (ja) * | 2016-05-17 | 2017-11-24 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク溶接方法 |
JP2018026344A (ja) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | マスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置 |
JP6993804B2 (ja) | 2016-08-08 | 2022-01-14 | 三星ディスプレイ株式會社 | マスク組立体、表示装置の製造装置、表示装置の製造方法、及び表示装置 |
CN111108229A (zh) * | 2017-09-28 | 2020-05-05 | 夏普株式会社 | 蒸镀掩模以及蒸镀掩模的制造方法 |
US10808314B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-10-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition mask and method for manufacturing vapor deposition mask |
WO2019064419A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
WO2019064420A1 (ja) * | 2017-09-28 | 2019-04-04 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 |
US11066742B2 (en) | 2017-09-28 | 2021-07-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vapor deposition mask |
WO2019186629A1 (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスクセット、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクセットの製造方法及び表示デバイスの製造方法 |
JP2019214783A (ja) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. | 蒸着用マスク |
JP7327969B2 (ja) | 2018-06-12 | 2023-08-16 | 三星ディスプレイ株式會社 | 蒸着用マスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120156812A1 (en) | 2012-06-21 |
CN102569673B (zh) | 2016-02-10 |
US8701592B2 (en) | 2014-04-22 |
CN102569673A (zh) | 2012-07-11 |
TWI541368B (zh) | 2016-07-11 |
TW201231693A (en) | 2012-08-01 |
JP5816519B2 (ja) | 2015-11-18 |
KR101742816B1 (ko) | 2017-06-02 |
KR20120069397A (ko) | 2012-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5816519B2 (ja) | マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法 | |
US8402917B2 (en) | Mask frame assembly for thin film deposition and associated methods | |
KR102237428B1 (ko) | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 | |
CN109778116B (zh) | 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件 | |
KR100696472B1 (ko) | 증착 마스크, 이를 이용한 유기 전계 발광 소자의 제조방법 | |
WO2015192479A1 (zh) | 一种有机发光二极管显示面板及其制备方法、掩膜板 | |
KR102411540B1 (ko) | 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP6594615B2 (ja) | 蒸着用マスク及びそれを用いた有機el表示装置の製造方法、並びに、蒸着用マスクの製造方法 | |
KR20120069396A (ko) | 증착용 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 | |
KR101097305B1 (ko) | 더미 슬릿부를 차단하는 차단부를 구비한 고정세 증착 마스크, 상기 고정세 증착 마스크를 이용한 유기 발광 소자의 제조 방법, 및 상기 제조 방법에 의해 제조된 유기 발광 소자 | |
KR20160127290A (ko) | 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20170053779A (ko) | 마스크 프레임 조립체, 이를 포함하는 증착 장치 및 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2014105392A (ja) | 単位マスクストリップおよびこれを用いた有機発光表示装置の製造方法 | |
JP6977140B2 (ja) | マスク及びその製作方法 | |
US10522775B2 (en) | El display device including island shaped hole injection layer and island shaped electron injection layer and method of manufacturing the same | |
WO2019064420A1 (ja) | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | |
KR20150042601A (ko) | 박막 증착용 마스크 및 이를 사용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치 | |
KR20100101919A (ko) | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20240057395A (ko) | 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리 | |
KR102679609B1 (ko) | 마스크 및 이의 제조 방법 | |
KR102640219B1 (ko) | 분할 마스크 | |
KR100814818B1 (ko) | 유기 발광 표시 장치 제조용 마스크 | |
KR101818256B1 (ko) | 유기전계 발광 표시장치 및 그 제조방법 | |
JP2008010268A (ja) | メタルマスク及び有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法 | |
KR101818255B1 (ko) | 유기전계 발광 표시장치 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20120921 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140919 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150428 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150901 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150928 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5816519 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |