KR102640219B1 - 분할 마스크 - Google Patents

분할 마스크 Download PDF

Info

Publication number
KR102640219B1
KR102640219B1 KR1020160117412A KR20160117412A KR102640219B1 KR 102640219 B1 KR102640219 B1 KR 102640219B1 KR 1020160117412 A KR1020160117412 A KR 1020160117412A KR 20160117412 A KR20160117412 A KR 20160117412A KR 102640219 B1 KR102640219 B1 KR 102640219B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
branch
mask
distance
split mask
main body
Prior art date
Application number
KR1020160117412A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180030299A (ko
Inventor
김민영
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020160117412A priority Critical patent/KR102640219B1/ko
Priority to US15/700,256 priority patent/US10901313B2/en
Priority to CN201710810886.XA priority patent/CN107815639A/zh
Publication of KR20180030299A publication Critical patent/KR20180030299A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102640219B1 publication Critical patent/KR102640219B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C21/00Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
    • B05C21/005Masking devices
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
    • H01L27/153Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • H01L27/156Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 분할 마스크에 관한 것으로, 개구 패턴을 포함하는 본체부; 및 본체부의 양단에 배치되고, 적어도 3개 이상의 가지부를 포함하는 클램핑부; 를 포함하고, 가지부는 분할 마스크 중앙선과의 거리가 멀수록 작은 폭을 가진다.

Description

분할 마스크{DIVISION MASK}
본 발명은 분할 마스크에 관한 것으로, 특히 웨이브를 방지할 수 있는 분할 마스크에 대한 것이다.
유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display)는 빛을 방출하는 유기 발광 소자를 가지고 화상을 표시하는 자발광형 표시 장치이다. 유기 발광 표시 장치는 액정 표시 장치(liquid crystal display)와 달리 별도의 광원을 필요로 하지 않으므로 상대적으로 작은 두께와 무게를 갖는다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 낮은 소비 전력, 높은 휘도 및 높은 반응 속도 등의 고품위 특성을 가지므로 휴대용 전자 기기의 차세대 표시 장치로 주목 받고 있다.
유기 발광 표시 장치는 애노드와 캐소드에 주입되는 정공과 전자가 발광층에서 재결합하여 발광하여 색상을 구현하며, 애노드와 캐소드 사이에 발광층을 삽입한 적층형 구조이다. 그러나, 상기한 구조로는 고효율 발광을 얻기 어렵기 때문에 각각의 전극과 발광층 사이에 전자 주입층, 전자 수송층, 정공 수송층, 및 정공 주입층 등의 중간층을 선택적으로 추가 삽입하여 이용하고 있다.
한편, 유기 발광 표시 장치의 전극들 및 발광층을 포함한 중간층은 여러 가지 방법에 의하여 형성할 수 있는데, 그 중 하나의 방법이 증착법이다. 증착법을 이용하여 유기 발광 표시 장치를 제조하기 위해 기판 상에 형성될 박막의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 파인 메탈 마스크(Fine Metal Mask; FMM)를 이용한다. 파인 메탈 마스크(FMM)는 기판 상에 정렬되고 박막을 이루는 물질이 증착되어, 기판 상에 박막이 패터닝된다.
이러한 파인 메탈 마스크가 대면적화되는 경우 패턴 형성을 위한 에칭 오차가 커지고 자중에 의한 중앙부분의 쳐짐 현상이 발생한다. 이에 따라, 최근에는 여러 개의 스틱(stick) 형상의 분할 마스크를 프레임에 부착하여 마스크 프레임 조립체를 이용한다. 이러한 분할 마스크를 프레임에 부착할 때, 분할 마스크의 길이방향으로 인장력이 작용된다. 이에 따라, 분할 마스크에 웨이브가 형성될 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 분할 마스크의 웨이브를 방지할 수 있는 분할 마스크를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크는, 개구 패턴을 포함하는 본체부; 및 본체부의 양단에 배치되고, 적어도 3개 이상의 가지부를 포함하는 클램핑부; 를 포함하고, 가지부는 분할 마스크 중앙선과의 거리가 멀수록 작은 폭을 가진다.
클램핑부는 4개의 가지부를 포함하는 클램핑부를 포함할 수 있다.
클램핑부는 5개의 가지부를 포함하는 클램핑부를 포함할 수 있다.
본체부 및 클램핑부는 금속으로 이루어질 수 있다.
본체부 및 클램핑부는 인바(Invar) 합금으로 이루어질 수 있다.
클램핑부는 좌우 대칭일 수 있다.
본체부는 개구 패턴을 더 포함할 수 있다.
복수의 가지부는 U자 형상의 홈을 형성할 수 있다.
클램핑부와 본체부 사이에 위치하는 접합부를 더 포함할 수 있다.
가지부 각각은 본체부와 멀어질수록 더 작은 폭을 가질 수 있다.
복수의 가지부는 반구 형상의 홈을 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 분할 마스크는 다음과 같은 효과를 제공한다.
분할 마스크에 발생하는 웨이브의 발생을 감소시켜 마스크 프레임 조립체의 용접 불량을 개선하고, 패터닝 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또한, 18um 이하의 두께를 갖는 얇은 분할 마스크의 경우에도 추가 공정없이 마스크 프레임 조립체를 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크의 평면도이다.
도 2a 내지 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크의 클램핑부를 확대한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 다른 분할 마스크를 포함하는 마스크 프레임 조립체의 평면도이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크를 이용한 마스크 프레임 조립체의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 클램핑부를 확대한 도면이다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 나타낸 도면이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 나타낸 다른 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "아래에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 아래에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.
본 명세서에서 어떤 부분이 다른 부분과 연결되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 소자를 사이에 두고 전기적으로 연결되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 포함한다고 할 때, 이는 특별히 그에 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서에서 제 1, 제 2, 제 3 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이러한 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되는 것은 아니다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소들로부터 구별하는 목적으로 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위로부터 벗어나지 않고, 제 1 구성 요소가 제 2 또는 제 3 구성 요소 등으로 명명될 수 있으며, 유사하게 제 2 또는 제 3 구성 요소도 교호적으로 명명될 수 있다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크에 대해 자세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크의 평면도이고, 도 2a 내지도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크의 클램핑부를 확대한 도면이다.
도 1을 참조하면, 분할 마스크(100)는 본체부(110) 및 클램핑부(120)를 포함한다.
분할 마스크(100)는 니켈(Ni), 코발트(Co), 니켈 합금, 니켈-코발트 합금, 스테인레스 스틸(SUS) 및 인바(Invar)합금 등의 금속으로 이루어질 수 있다.
본체부(110)는 개구 패턴(111)을 포함한다. 개구 패턴(111)은 분할 마스크(100)의 길이 방향을 따라 위치할 수 있다. 각 개구 패턴(111)은 복수의 미세 개구 패턴(미도시)으로 이루어질 수 있다. 복수의 미세 개구 패턴 각각은 복수의 분할 마스크(100) 상에 배치되는 기판에 증착하고자 하는 박막 형상과 대응하는 형상으로 형성될 수 있다. 이에 따라, 증착 공정에서 증착 물질이 개구 패턴(111)을 통해 기판 상에 증착되어 원하는 모양의 박막이 형성될 수 있다. 개구 패턴(111)은, 도면에 도시된 바와 같이, 직사각형을 이룰 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 개구 패턴(111)은 여러 가지 형태를 이룰 수 있다.
클램핑부(120)는 본체부(110)의 양단에 위치하며, 적어도 3개 이상의 가지부(121)를 갖는다.
본 발명의 일 실시예에 따른 클램핑부(120)는 4개의 가지부(121)를 가질 수 있다. 구체적으로, 클램핑부(120)는 제 1 가지부(121a), 제 2 가지부(121b), 제 3 가지부(121c) 및 제 4 가지부(121d)를 가질 수 있다. 도 2a 내지 도 2b를 참조하면, 분할 마스크(100)의 중앙을 따라 연장한 선을 분할 마스크(100)의 중앙선(C)라고 정의할 때, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 1 가지부(121a)의 중앙을 따라 연장한 선(C1)과의 거리를 제 1 거리(D1)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 2 가지부(121b)의 중앙을 따라 연장한 선(C2)과의 거리를 제 2 거리(D2)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 3 가지부(121c)의 중앙을 따라 연장한 선(C3)과의 거리를 제 3 거리(D3)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 4 가지부(121d)의 중앙을 따라 연장한 선(C4)과의 거리를 제 4 거리(D4)라고 정의한다. 이때, 제 1 거리(D1)는 제 4 거리(D4)와 동일하고(D1=D4), 제 2 거리(D2)는 제 3 거리(D3)와 동일하다(D2=D3). 제 1 거리 및 제 4 거리(D1,D4)는 제 2 거리 및 제 3 거리(D2,D3)보다 크다(D1,D4<D2,D3).
클램핑부(120)는 좌우 대칭일 수 있다. 예를 들어, 제 1 가지부(121a)는 제 4 가지부(121d)와 동일한 형태일 수 있고, 제 2 가지부(121b)는 제 3 가지부(121c)와 동일한 형태일 수 있다. 구체적으로, 전술한 바와 같이, 제 1 가지부(121a)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리인 제 1 거리(D1)는 제 4 가지부(121d)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리인 제 4 거리(D4)와 동일할 수 있고(D1=D4), 제 2 가지부(121b)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리인 제 2 거리(D2)는 제 3 가지부(121c)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리인 제 3 거리(D3)와 동일할 수 있다(D2=D3). 또한, 제 1 가지부(121a)는 제 4 가지부(121d)와 동일한 폭을 가질 수 있고(W1=W4), 제 2 가지부(121b)는 제 3 가지부(121c)와 동일한 폭을 가질 수 있다(W2=W3). 이에 따라, 인장력이 분할 마스크(100)의 좌우에 균일하게 작용하여 웨이브의 발생을 감소시킬 수 있다.
각 가지부(121a,121b,121c,121d)는 분할 마스크(100)의 중앙으로부터 먼 거리에 위치할수록 작은 폭을 가진다. 구체적으로, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)에 더 멀리 위치한 제 1 가지부(121a) 및 제 4 가지부(121d)는 제 2 가지부(121b) 및 제 3 가지부(121c)보다 더 작은 폭을 가진다. 제 1 가지부(121a) 및 제 4 가지부(121d)의 폭(W1,W4)은 제 2 가지부(121b) 및 제 3 가지부(121c)의 폭(W2,W3) 보다 더 좁다(W1,W4 < W2,W3).
복수의 가지부(121)들은 복수의 홈(123a,123b,123c)들을 형성한다. 예를 들어, 도 2a 내지 도 2b에 도시된 바와 같이, 제 1 가지부(121a) 및 제 2 가지부(121b)는 제 1 홈(123a)을 형성하고, 제 2 가지부(121b) 및 제 3 가지부(121c)는 제 2 홈(123b)을 형성하고, 제 3 가지부(121c) 및 제 4 가지부(121d)는 제 3 홈(123c)를 형성한다. 각 홈(123a,123b,123c)은, 도 2a에 도시된 바와 같이, U자 형상으로 형성될 수 있다. 한편, 도 2b에 도시된 바와 같이, 각 홈(123a,123b,123c)은 반구 형상으로 형성될 수 있다. 각 홈(123a,123b,123c)이 반구 형상으로 형성된 경우, 가지부(121) 각각은 본체부(110)에서 멀어질수록 더 작은 폭을 가질 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니며, 각 홈(123a,123b,123c)은 곡선으로 형성될 수도 있으며, 일정한 기울기를 갖는 직선으로 형성될 수도 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크를 포함하는 마스크 프레임 조립체의 평면도이다.
도 3을 참조하면, 마스크 프레임 조립체(300)는 프레임(200)에 복수의 분할마스크(100)를 고정하여 만들어진다. 이때, 프레임(200)에 고정된 분할 마스크(100)의 클램핑부(120)가 제거될 수 있다.
분할 마스크(100)는 접합부(130)를 더 포함할 수 있다. 접합부(130)는 전술된 본체부(110)와 클램핑부(120) 사이에 위치한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 접합부(130)는 프레임(200)에 용접되어 분할 마스크(100)를 프레임(200)에 고정시킨다. 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크(100)는 웨이브 발생을 감소시켜 분할 마스크(100)의 용접 불량을 감소시킬 수 있다.
프레임(200)은 중앙에 위치하는 개구 영역(201)을 포함하며, 프레임(200)은사각의 고리 형상을 가질 수 있다. 프레임(200) 상에 분할 마스크(100)의 적어도 일부가 배치되고, 분할 마스크(100)의 개구 패턴(111)은 개구 영역(201)에 위치한다.
프레임(200)은 프레임(200)에 작용하는 압축 또는 열에 의한 변형을 최소화하기 위해 강성이 큰 금속 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 스테리인리스 스틸(SUS) 등의 금속으로 이루어질 수 있다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크를 이용한 마스크 프레임 조립체의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
도 4a는 분할 마스크(100)를 프레임(200)에 고정시키는 과정을 나타낸 도면이다. 도 4a에 도시된 바와 같이, 클램핑부(120)는 인장 기구(미도시)에 의해 파지되고, 분할 마스크(100)의 양단으로 인장력(T)이 작용한다. 이때, 가지부(121)는 분할 마스크(100)의 중앙선(C)에 가까이 위치할수록 더 큰 폭을 갖기 때문에, 분할 마스크(100)의 본체부(110)는 중앙선(C)에 가까이 위치할수록 인장력이 작용하는 면적이 증가한다. 이에 따라, 분할 마스크(100)에 발생하는 웨이브 및 쳐짐을 감소시킬 수 있다.
이어서, 접합부(130)를 프레임(200)에 용접하여 분할 마스크(100)를 프레임(200)에 고정시킨다.
도 4b는 클램핑부(120)가 제거되는 과정을 나타낸 도면이다. 도 4b에 도시된 바와 같이, 클램핑부(120)는 절단하여 제거된다. 도 4a 및 도 4b에 도시된 제조 과정을 반복하여 복수의 분할 마스크(100)를 프레임(200)에 고정한다. 이에 따라, 도 2에 도시된 마스크 프레임 조립체(300)이 만들어진다.
이하, 도 5 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크에 대해 자세히 설명한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 분할 마스크에 관련된 설명 가운데 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크와 관련된 설명과 중복되는 내용은 생략한다.
도 5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 평면도이고, 도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 클램핑부를 확대한 도면이다.
본 발명의 다른 일 실시예에 따른 클램핑부(120)는 도 5에 도시된 바와 같이, 5개의 가지부(121)를 가질 수 있다. 구체적으로, 클램핑부(120)는 제 1 가지부(121a), 제 2 가지부(121b), 제 3 가지부(121c), 제 4 가지부(121d) 및 제 5 가지부(121e)를 가질 수 있다. 도 6을 참조하면, 분할 마스크(100)의 중앙을 따라 연장한 선을 분할 마스크의 중앙선(C)라고 정의할 때, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 1 가지부(121a)의 중앙을 따라 연장한 선(C1)과의 거리를 제 1 거리(D1)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 2 가지부(121b)의 중앙을 따라 연장한 선(C2)과의 거리를 제 2 거리(D2)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 3 가지부(121c)의 중앙을 따라 연장한 선(C3)과의 거리를 제 3 거리(D3)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 4 가지부(121d)의 중앙을 따라 연장한 선(C4)과의 거리를 제 4 거리(D4)라고 정의하고, 분할 마스크(100)의 중앙선(C)과 제 5 가지부(121d)의 중앙을 따라 연장한 선(C5)과의 거리를 제 5 거리(D5)라고 정의한다. 제 1 거리(D1)는 제 5 거리(D5)와 동일하고(D1=D5), 제 2 거리(D2)는 제 4 거리(D4)와 동일하다(D2=D4). 이때, 제 1 거리 및 제 5 거리(D1,D5)는 제 2 거리 및 제 4 거리(D2,D4)보다 크고(D2,D4<D1,D5), 제 3 거리(D3)는 0일 수 있다.
클램핑부(120)는 좌우 대칭일 수 있다. 예를 들어, 제 1 가지부(121a)는 제 5 가지부(121e)와 동일한 형태일 수 있고, 제 2 가지부(121b)는 제 4 가지부(121d)와 동일한 형태일 수 있다. 구체적으로, 전술한 바와 같이, 제 1 가지부(121a)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리(D1)는 제 5 가지부(121e)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리(D5)와 동일할 수 있고(D1=D5), 제 2 가지부(121b)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리(D2)는 제 4 가지부(121d)가 중앙선(C)으로부터 이격된 거리(D4)와 동일할 수 있다(D2=D4). 또한, 제 1 가지부(121a)는 제 5 가지부(121e)와 동일한 폭을 가질 수 있고(W1=W5), 제 2 가지부(121b)는 제 4 가지부(121d)와 동일한 폭을 가질 수 있다(W2=W4). 이에 따라, 인장력이 분할 마스크(100)의 좌우에 균일하게 작용하여 분할 마스크(100)에 발생하는 웨이브를 감소시킬 수 있다.
각 가지부(121a,121b,121c,121d,121e)는 분할 마스크(100)의 중앙으로부터 먼 거리에 위치할수록 작은 폭을 가진다. 구체적으로, 제 1, 제 2, 제 4, 제 5 가지부(121a,121b,121d,121e)는 분할 마스크(100)의 중앙선(C)에 위치한 제 3 가지부(121c)보다 더 작은 폭을 갖는다. 제 1 가지부(121a) 및 제 5 가지부(121e)는 분할 마스크(100)의 중앙선(C)에 더 가까이 위치한 제 2 가지부(121b) 및 제 4 가지부(121d)보다 더 작은 폭을 가진다. 구체적으로, 제 1 가지부(121a) 및 제 5 가지부(121e)의 폭(W1,W5)은 제 2 가지부(121b) 및 제 4 가지부(121d)의 폭(W2,W3)보다 더 좁고, 제 3 가지부(121c)의 폭(W3)이 가장 넓다. (W1,W5 < W2,W4 < W3). 이에 따라, 분할 마스크(100)의 중앙부분에서 인장력을 받는 면적이 증가하여 웨이브를 감소시킬 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 나타낸 도면이다.
도 7을 참조하면, x축은 제 3 가지부(121c)의 폭을 나타내고 y축은 웨이브의 범위를 나타낸다. 다음의 표 1은 제 3 가지부(121c)의 폭에 대한 웨이브 최소값, 최대값, 이에 따른 웨이브의 범위 및 종래 대비 웨이브 감소량을 나타낸다.
종래 1.5배 2배 2.2배
제 3 가지부(121c)의 폭(um) 13.741 20.6115 27.482 30.2302
최소값 -92.2 -87.9 -84.8 -84.7
최대값 96.6 91.2 90.3 89.4
범위 188.8 179.1 175 174.1
종래 대비 웨이브 감소량 9.7 13.8 14.7
전술된 표 1에 도시된 바와 같이, 제 3 가지부(121c)의 폭이 넓을수록 웨이브의 최소값은 증가하고 웨이브의 최대값은 감소하는 것을 확인할 수 있다. 이에 따라, 도 7에 도시된 바와 같이, 제 3 가지부(121c)의 폭이 넓을수록 분할 마스크(100)에서 발생하는 웨이브의 범위가 감소하는 것을 확인할 수 있다. 즉, 분할 마스크(100)의 중앙 부분에서 인장력이 작용하는 면적이 넓어질수록 분할 마스크(100)의 웨이브를 감소시킬 수 있다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 나타낸 다른 도면이다. 도 8a는 종래의 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 웨이브의 높이에 따라 다른 색상으로 나타낸 도면이고, 도 8b는 종래의 분할 마스크의 2배의 제 3 가지부(121c)의 폭을 갖는 분할 마스크의 웨이브 측정 결과를 웨이브의 높이에 따라 다른 색상으로 나타낸 도면이다.
웨이브의 높이가 높을수록 마스크의 색상의 파장이 짧고, 웨이브의 높이가 높을수록 마스크의 색상의 파장이 길다. 도 8a 및 도 8b를 참조하면, 종래보다 넓은 폭을 갖는 제 3 가지부(121c)를 포함하는 분할 마스크는 종래보다 웨이브가 감소하는 것을 확인할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
100: 분할 마스크 110: 본체부
111: 개구 패턴 113: 중앙부
120: 클램핑부 121: 가지부
123: 홈 130: 접합부

Claims (11)

  1. 개구 패턴을 포함하는 본체부; 및
    상기 본체부의 양단에 배치되고, 적어도 3개 이상의 가지부를 포함하는 클램핑부; 를 포함하고,
    상기 가지부는 분할 마스크 중앙선과의 거리가 멀수록 작은 폭을 가지는 분할 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 클램핑부는 4개의 가지부를 포함하는 클램핑부를 포함하는 분할 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 클램핑부는 5개의 가지부를 포함하는 클램핑부를 포함하는 분할 마스크.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 본체부 및 상기 클램핑부는 금속으로 이루어진 분할 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 본체부 및 상기 클램핑부는 인바(Invar) 합금으로 이루어진 분할 마스크.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 클램핑부는 좌우 대칭인 분할 마스크.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 본체부는 개구 패턴을 더 포함하는 분할 마스크.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 가지부는 U자 형상의 홈을 형성하는 분할 마스크.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 클램핑부와 상기 본체부 사이에 위치하는 접합부를더 포함하는 분할 마스크.
  10. 제 1 항에 있어서, 상기 가지부 각각은 상기 본체부와 멀어질수록 더 작은 폭을 갖는 분할 마스크.
  11. 제 1 항에 있어서, 상기 가지부는 반구 형상의 홈을 형성하는 분할 마스크.
KR1020160117412A 2016-09-12 2016-09-12 분할 마스크 KR102640219B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160117412A KR102640219B1 (ko) 2016-09-12 2016-09-12 분할 마스크
US15/700,256 US10901313B2 (en) 2016-09-12 2017-09-11 Division mask
CN201710810886.XA CN107815639A (zh) 2016-09-12 2017-09-11 分割掩模

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160117412A KR102640219B1 (ko) 2016-09-12 2016-09-12 분할 마스크

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180030299A KR20180030299A (ko) 2018-03-22
KR102640219B1 true KR102640219B1 (ko) 2024-02-23

Family

ID=61559707

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160117412A KR102640219B1 (ko) 2016-09-12 2016-09-12 분할 마스크

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10901313B2 (ko)
KR (1) KR102640219B1 (ko)
CN (1) CN107815639A (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102642345B1 (ko) * 2016-09-06 2024-02-29 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크
US11560616B2 (en) * 2019-11-05 2023-01-24 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask device, mask plate, and frame
CN111394692B (zh) * 2020-05-09 2022-05-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100989321B1 (ko) 2010-08-03 2010-10-25 (주)한 송 대면적 amoled 다면취 tv 패널 제작 및 모바일용 패널 제작을 위한 분할된 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법 및 그 마스크 프레임 어셈블리

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101117645B1 (ko) * 2009-02-05 2012-03-05 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR100941007B1 (ko) 2009-09-28 2010-02-05 (주)한 송 대면적 amoled 모바일 혹은 tv 원장 다면취 패널 제작용 분할마스크 및 이를 이용한 마스크프레임어셈블리의 제조방법
KR101784467B1 (ko) 2011-01-10 2017-10-12 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크 및 그것을 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법
KR101820020B1 (ko) * 2011-04-25 2018-01-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
KR20120123918A (ko) * 2011-05-02 2012-11-12 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체의 조립방법
KR101837624B1 (ko) * 2011-05-06 2018-03-13 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
KR101813549B1 (ko) * 2011-05-06 2018-01-02 삼성디스플레이 주식회사 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치
KR101272299B1 (ko) * 2011-08-25 2013-06-07 (주)한 송 Amoled 패널 제작용 분할 마스크 프레임 어셈블리 제조 장치
KR101969955B1 (ko) 2012-10-25 2019-04-18 삼성디스플레이 주식회사 평판표시장치용 증착 마스크 조립체 제조장치
KR102002494B1 (ko) 2012-11-30 2019-07-23 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100989321B1 (ko) 2010-08-03 2010-10-25 (주)한 송 대면적 amoled 다면취 tv 패널 제작 및 모바일용 패널 제작을 위한 분할된 마스크 프레임 어셈블리의 제조방법 및 그 마스크 프레임 어셈블리

Also Published As

Publication number Publication date
US10901313B2 (en) 2021-01-26
US20180074394A1 (en) 2018-03-15
CN107815639A (zh) 2018-03-20
KR20180030299A (ko) 2018-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5816519B2 (ja) マスクフレーム組立体、マスクフレーム組立体の製造方法、および有機発光表示装置の製造方法
US11993839B2 (en) Mask and method of manufacturing the same, and mask assembly
KR101135544B1 (ko) 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR102237428B1 (ko) 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법
TWI541994B (zh) 分割遮罩及利用該分割遮罩組裝遮罩框架組件之方法
KR102642345B1 (ko) 분할 마스크
US20110220019A1 (en) Mask frame assembly for thin film deposition and method of assembling the same
KR102640219B1 (ko) 분할 마스크
KR102072679B1 (ko) 박막 증착용 마스크 어셈블리 제조 방법
US20170133593A1 (en) Mask frame assembly for thin layer deposition, method of manufacturing the same and method of manufacturing display device by using the mask frame assembly
JP6594615B2 (ja) 蒸着用マスク及びそれを用いた有機el表示装置の製造方法、並びに、蒸着用マスクの製造方法
US20140326177A1 (en) Mask and a method for manufacturing the same
CN108374147B (zh) 掩模组件的制造方法
KR100982021B1 (ko) 분할 마스크 조립체
KR100462514B1 (ko) 반도체 장치 및 반도체 장치 제조용 마스크
US20200168800A1 (en) Mask frame assembly and method for manufacturing mask frame assembly
US10476019B2 (en) Organic optoelectronic device and method for manufacturing the same
US20220297236A1 (en) Deposition mask manufacturing method and manufacturing apparatus thereof
KR102186447B1 (ko) 오픈 마스크 조립체의 제조 방법
US20230265555A1 (en) Method of manufacturing mask assembly
KR100766902B1 (ko) 마스크 및 그 제조 방법
KR20210099758A (ko) 증착 마스크 모듈 및 그 제조 방법
KR20220105998A (ko) 이형시 발생되는 파손 방지를 위한 전주도금을 이용한 메탈 마스크 및 그 제조 방법
US8500505B2 (en) Method of manufacturing an organic electroluminescence display device
CN108075046A (zh) 发光元件及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant