KR20240035264A

KR20240035264A - Oled 화소 증착을 위한 증착용 마스크

Info

Publication number: KR20240035264A
Application number: KR1020220114553A
Authority: KR
Inventors: 윤진석; 권기영; 권학노
Original assignee: 엘지이노텍 주식회사
Priority date: 2022-09-08
Filing date: 2022-09-08
Publication date: 2024-03-15
Also published as: WO2024053855A1

Abstract

실시예에 따른 증착용 마스크는, 증착 영역 및 비증착 영역을 포함하는 금속판을 포함하고, 상기 금속판은 길이 방향인 제 1 방향 및 폭 방향인 제 2 방향이 정의되고, 상기 증착 영역은 복수의 유효 영역; 및 비유효 영역을 포함하고, 상기 비유효 영역은 유효 영역 사이의 제 1 비유효 영역을 포함하고, 상기 유효 영역에는 복수의 관통홀이 배치되고, 상기 제 1 비유효 영역에는 적어도 하나의 패턴이 배치되고, 상기 패턴과 상기 관통홀은 서로 다른 형상으로 형성된다.

Description

OLED 화소 증착을 위한 증착용 마스크{DEPOSITION MASK FOR OLED PIXEL DEPOSITION}

실시예는 OLED 화소 증착을 위한 증착용 마스크에 관한 것이다.

표시 장치는 다양한 디바이스에 적용되어 사용되고 있다. 예를 들어, 표시 장치는 스마트폰, 태블릿 PC 등과 같은 소형 디바이스뿐만 아니라, TV, 모니터, 퍼블릭 디스플레이(PD, Public Display) 등과 같은 대형 디바이스에도 이용되고 있다. 특히, 최근에는 500 PPI(Pixel Per Inch) 이상의 초고해상도 UHD(UHD, Ultra High Definition)에 대한 수요가 증가하고 있으며, 고해상도 표시 장치가 소형 디바이스 및 대형 디바이스에 적용되고 있다. 이에 따라, 저전력 및 고해상도 구현을 위한 기술에 대한 관심이 높아지고 있다.

일반적으로 사용되는 표시 장치는 구동 방법에 따라 크게 LCD(Liquid Crystal Display) 및 OLED(Organic Light Emitting Diode) 등으로 구분될 수 있다.

LCD는 액정(Liquid Crystal)을 이용하여 구동되는 표시 장치로 상기 액정의 하부에는 CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp) 또는 LED(Light Emitting Diode) 등을 포함하는 광원이 배치되는 구조를 가지며, 상기 광원 상에 배치되는 상기 액정을 이용하여 상기 광원으로부터 방출되는 빛의 양을 조절하여 구동되는 표시 장치이다.

또한, OLED는 유기물을 이용해 구동되는 표시 장치로, 별도의 광원이 요구되지 않고, 유기물이 자체가 광원의 역할을 수행하여 저전력으로 구동될 수 있다. 또한, OLED는 무한한 명암비를 표현할 수 있고, LCD보다 약 1000배 이상의 빠른 응답 속도를 가지며 시야각이 우수하여 LCD를 대체할 수 있는 표시 장치로 주목 받고 있다.

OLED에서 발광층에 포함된 상기 유기물은 오픈 마스크(OM, Open Mask) 또는 파인 메탈 마스크(FMM, Fine Metal Mask)라 불리는 증착용 마스크에 의해 기판 상에 증착되고, 증착된 유기물은 증착용 마스크에 형성된 패턴과 대응되는 패턴으로 형성되어 화소의 역할을 수행할 수 있다.

상기 오픈마스크는 OLED 디스플레이 제조 시 특정 위치에만 증착이 되도록 하는 얇은 판으로서, 디스플레이 제조 과정에서 백플레인(Backplane)이 완료된 후 그 위에 발광층을 형성하기 위한 증착공정에서 사용된다. 즉, 상기 오픈마스크는 디스플레이 전면을 증착하기 위해 디스플레이가 작동하는 범위 내에 가림 부위가 없는 개방(Open)된 마스크로서, 발광층을 한 가지 색깔의 발광물질로 증착하거나 EIL, HTL 등의 층을 증착할 때에도 활용한다.

반면에, 파인 메탈 마스크는 구현하는 발광층의 서브 픽셀(Sub-pixel)에 색깔을 달리하기 위해 사용하며, 이를 위해 초미세 홀(Hole)이 형성된다. 파인 메탈 마스크를 이용하는 공정은 여러 단계의 증착과정을 진행해야 하므로 정확한 정렬이 필요하여, 이에 따라, 오픈 마스크만을 활용하는 기술보다 난도가 높다.

OLED 디스플레이 발광층을 오픈 마스크를 활용하여 증착하는 경우 한 색깔만을 낼 수 있게 되므로 색구현을 위해 컬러필터(Color Filter, C/F)와 같은 별도의 층이 요구된다. 반면에, 파인 메탈 마스크를 활용하여 RGB 발광층이 만들어진 경우에는 별도의 컬러필더가 요구되지 않는다. 즉, 서브 픽셀에 파인 메탈 마스크를 활용하는 기술은 난이도가 높지만 오픈 마스크를 활용한 방식과 대비하여 빛을 차단하는 필터가 요구되지 않으므로 빛 효율이 좋다.

상기 파인 메탈 마스크는 일반적으로 철(Fe) 및 니켈(Ni)을 포함하는 인바(Invar) 합금 금속판으로 제조된다. 이때, 상기 금속판의 일면 및 타면에는 상기 일면 및 상기 타면을 관통하는 관통홀이 형성되며 상기 관통홀은 화소 패턴과 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 이에 따라, 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue) 등의 유기물은 상기 금속판의 관통홀을 통과하여 기판 상에 증착될 수 있고, 기판 상에는 화소 패턴이 형성될 수 있다.

한편, 상기 파인 메탈 마스크는 금속판의 일면에 소면공이 형성되고, 상기 금속판의 타면에 대면공을 형성한다. 상기 관통홀은 상기 소면공과 상기 대면공을 연결하는 연통부에 의해 연결된다.

상기 유기물은 상기 파인 메탈 마스크 방향으로 분사되고, 상기 대면공을 입구로 하고, 상기 소면공을 출구로 하여 증착 기판에 증착된다.

자세하게, 상기 증착 기판 상에는 스트립 형상의 복수의 파인 메탈 마스크가 배치되고, 유기물은 복수의 파인 메탈 마스크의 대면공을 통해 소면공 방향으로 이동한다.

이때, 복수의 파인 메탈 마스크를 고정하기 위해 복수의 파인 메탈 마스크는 프레임에 고정된다, 자세하게, 상기 파인 메탈 마스크는 마스크의 길이 방향으로 인장되어 상기 프레임에 고정된다.

이에 따라, 상기 파인 메탈 마스크에는 상기 인장에 의해 인장 응력이 발생하므로, 파인 메탈 마스크의 표면에 상기 인장 응력에 의한 웨이비니스(waviness)가 발생할 수 있다.

이러한 웨이비니스는 상기 파인 메탈 마스크의 소면공 및 대면공의 간격을 변화시킬 수 있다. 따라서, 파인 메탈 마스크를 통한 유기물의 증착 위치가 변화하므로, 증착 신뢰성이 감소될 수 있다.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 새로운 구조의 증착용 마스크가 요구된다.

상기 증착용 마스크와 관련된 기술로서 한국공개공보 KR10-2020-0058072(2020.05.27)이 개시되어 있다.

실시예는 향상된 증착 신뢰성을 가지는 증착용 마스크를 제공하고자 한다.

실시예에 따른 증착용 마스크는 유효 영역 사이에 배치되는 패턴에 의해 증착 신뢰성이 향상될 수 있다.

상기 증착용 마스크는 증착 기판에 복수의 증착 패턴을 형성하기 위해 마스크 프레임에 고정된다. 이때, 상기 증착용 마스크는 길이 방향으로 인장되고, 상기 마스크 프레임에 고정될 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크를 상기 마스크 프레임에 고정한 이후, 상기 증착용 마스크의 내부에는 상기 인장에 의해 발생하는 인장 응력이 잔류할 수 있다. 이러한 잔류 응력은 상기 증착용 마스크의 표면에 웨이비니스를 증가시킬 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크의 유효 영역들 사이의 간격이 변할 수 있다. 또한, 상기 유효 영역 내부의 관통홀 사이의 간격이 변할 수 있다.

상기 증착용 마스크는 상기 증착 영역애 배치되는 패턴을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 패턴은 인접하는 유효 영역들 사이에 배치될 수 있다.

상기 패턴은 상기 증착용 마스크의 잔류 응력을 분산시킬 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크의 웨이비니스의 크기가 감소될 수 있다.

따라서, 실시예에 따른 증착용 마스크는 유효 영역들 사이의 간격 및 유효 영역 내부의 관통홀들 사이의 간격의 변화를 최소화할 수 있으므로, 향상된 증착 신뢰성을 가질 수 있다.

또한, 상기 패턴은 상기 관통홀과 다른 공정에 의해 형성된다. 이에 따라, 상기 패턴의 형상 및 크기를 다양하게 형성할 수 있다. 따라서, 상기 증착용 마스크에 인가되는 인장력의 크기에 따라, 상기 패턴의 형상 및 크기를 다양하게 형성할 수 있다. 따라서, 상기 증착용 마스크의 크기, 사용환경에 따라 다양한 형상 및 크기의 패턴을 형성할 수 있으므로, 상기 증착용 마스크는 향상된 증착 신뢰성을 가질 수 있다.

또한, 상기 패턴은 상기 금속판의 두께 방향으로 폭의 차이가 작게 형성될 수 있다. 따라서, 상기 증착용 마스크의 제 1 면 및 제 2 면에서 제거되는 금속판의 양의 차이를 감소 할 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크의 제 1 면 및 제 2 면에서 잔류 금속의 차이에 따라 상기 증착용 마스크가 일 방향으로 휘어지는 것을 방지할 수 있다.

도 1은 실시예에 따른 증착용 마스크와 프레임의 결합을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 증착용 마스크가 포함된 유기물 증착 장치를 나타낸 단면도이다.
도 3은 실시예에 따른 증착용 마스크의 관통홀을 통해 증착 기판 상에 증착 패턴이 형성되는 것을 도시한 도면이다.
도 4는 실시예에 따른 증착용 마스크의 평면도를 도시한 도면이다.
도 5 내지 도 7은 도 4의 A-A' 영역을 절단한 단면도를 도시한 도면이다.
도 8 내지 도 23은 다른 실시예에 따른 증착용 마스크의 평면도를 도시한 도면들이다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다.

또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, “A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한개이상)”로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나이상을 포함 할 수 있다.

또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다.

그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우 뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속＇되는 경우도 포함할 수 있다.

또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두 개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다.

또한 “상(위) 또는 하(아래)”으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.

이하 도면들을 참조하여 실시예에 따른 증착용 마스크를 설명한다.

이하에서 설명하는 증착용 마스크는 증착 기판에 적색(Red), 녹색(Green) 및 청색(Blue) 등의 유기물을 증착하여 상기 증착 기판 상에 RGB 화소 패턴을 형성할 수 있는 파인 메탈 마스크(FMM)이며, 오픈 마스크(OM)에 대해서는 이하의 설명이 적용되지 않는다.

또한, 이하의 설명에서, 제 1 방향(1D)은 증착용 마스크의 길이 방향으로 정의하고, 제 2 방향(2D)은 증착용 마스크의 폭 방향으로 정의한다.

도 1 내지 도 3은 실시예에 따른 증착용 마스크(100)를 사용하여 증착 기판(300) 상에 유기 물질을 증착하는 공정을 설명하기 위한 도면들이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 유기물 증착 장치는 증착용 마스크(100), 마스크 프레임(200), 증착 기판(300), 유기물 증착 용기(400) 및 진공 챔버(500)를 포함한다.

상기 증착용 마스크(100)는 금속을 포함한다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크는 철(Fe) 및 니켈(Ni)을 포함한다. 자세하게, 상기 증착용 마스크는 철(Fe) 및 니켈(Ni)을 포함하는 인바 합금을 포함한다.

상기 증착용 마스크(100)는 증착을 위한 유효부에 형성되는 복수 개의 관통홀(TH)을 포함한다. 이때, 상기 관통홀은 기판 상에 형성될 패턴과 대응되도록 형성된다.

즉, 상기 증착용 마스크(100)는 금속판(10)을 포함하고, 상기 금속판(10)에는 복수의 관통홀(TH)이 형성될 수 있다.

상기 마스크 프레임(200)은 개구부(205)를 포함한다. 상기 증착용 마스크(100)의 복수 개의 관통 홀은 상기 마스크 프레임(200)의 개구부(205)와 대응되는 영역 상에 배치된다. 이에 따라, 상기 유기물 증착 용기(400)로 공급되는 유기 물질이 상기 증착 기판(300) 상에 증착된다. 상기 증착용 마스크(100)는 상기 마스크 프레임(200) 상에 배치되어 고정된다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 설정 크기의 인장력으로 인장되고, 상기 마스크 프레임(200) 상에 용접되어 고정될 수 있다.

예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 상기 증착용 마스크(100)의 비증착 영역을 용접함에 따라, 상기 마스크 프레임(200)에 상기 증착용 마스크(100)를 고정할 수 있다. 이어서, 상기 마스크 프레임(200)의 외부에 배치되는 상기 증착용 마스크(100)의 일부분은 절단 등의 방법으로 제거된다.

상기 마스크 프레임(200)은 증착용 마스크(100)가 용접될 때, 변형이 작은 소재, 이를테면, 강성이 큰 금속으로 제조된다.

상기 증착 기판(300)은 표시 장치의 제조에 사용되는 기판이다. 예를 들어, 상기 증착 기판(300)은 OLED 화소 패턴용 유기물 증착을 위한 기판일 수 있다. 상기 증착 기판(300) 상에는 빛의 3원색인 화소를 형성하기 위하여 적색(Red), 녹색(Greed) 및 청색(Blue)의 유기물 패턴이 형성된다. 즉, 상기 증착 기판(300) 상에는 RGB 패턴이 형성될 수 있다.

상기 유기물 증착 용기(400)는 도가니이다. 상기 도가니의 내부에는 유기 물질이 배치된다. 상기 유기물 증착 용기(400)는 진공 챔버(500) 내에서 이동한다. 즉, 상기 유기물 증착 용기(400)는 진공 챔버(500) 내에서 일 방향으로 이동한다. 예를 들어, 상기 유기물 증착 용기(400)는 진공 챔버(500) 내에서 증착용 마스크(100)의 폭 방향으로 이동한다. 즉, 상기 유기물 증착 용기(400)는 진공 챔버(500) 내에서 증착용 마스크(100)의 길이 방향과 수직한 방향으로 이동한다.

상기 진공 챔버(500) 내에서 상기 유기물 증착 용기(400)인 도가니에 열원 및/또는 전류가 공급됨에 따라, 상기 유기 물질은 상기 증착 기판(300) 상에 증착된다.

도 3을 참조하면, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 면(1S) 및 상기 일면과 반대되는 제 2 면(2S)이 정의되는 금속판(10)을 포함한다,

상기 금속판(10)의 상기 제 1 면(1S)은 소면공(V1)을 포함하고, 상기 제 2 면(2S)은 대면공(V2)을 포함한다. 예를 들어, 상기 금속판(10)의 제 1 면(1S) 및 제 2 면(2S) 각각에는 복수 개의 소면공(V1)들 및 복수 개의 대면공(V2)들을 포함한다.

또한, 상기 증착용 마스크(100)는 관통홀(TH)을 포함한다. 상기 관통홀(TH)은 상기 소면공(V1) 및 상기 대면공(V2)의 경계가 연결되는 연통부(CA)에 의하여 연통된다.

상기 대면공(V2)의 폭은 상기 소면공(V1)의 폭보다 크다. 이때, 상기 소면공(V1)의 폭은 상기 증착용 마스크(100)의 제 1 면(1S)에서 측정되고, 상기 대면공(V2)의 폭은 상기 증착용 마스크(100)의 제 2 면(2S)에서 측정된다.

또한, 상기 연통부(CA)의 폭은 설정된 크기를 가진다. 자세하게, 상기 연통부(CA)의 폭은 15㎛ 내지 약 33㎛일 수 있다. 더 자세하게, 상기 연통부(CA)의 폭은 19㎛ 내지 약 33㎛일 수 있다. 더 자세하게, 상기 연통부(CA)의 폭은 20㎛ 내지 약 27㎛일 수 있다. 상기 연통부(CA)의 폭이 33㎛ 초과하면 500PPI 급 이상의 해상도를 구현하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 연통부(CA)의 폭이 15㎛ 미만인 경우에는 증착불량이 발생할 수 있다.

상기 소면공(V1)은 상기 증착 기판(300)을 향하여 배치된다. 상기 소면공(V1)은 상기 기판(300)과 가까이 배치된다. 이에 따라, 상기 소면공(V1)은 증착 물질, 즉 증착 패턴(DP)과 대응되는 형상을 가진다.

상기 대면공(V2)은 상기 유기물 증착 용기(400)를 향하여 배치된다. 이에 따라, 상기 대면공(V2)은 상기 유기물 증착 용기(400)로부터 공급되는 유기물질을 넓은 폭에서 수용할 수 있고, 상기 대면공(V2)보다 폭이 작은 상기 소면공(V1)을 통해 상기 증착 기판(300) 상에 미세한 패턴을 빠르게 형성할 수 있다.

이에 따라, 상기 대면공(V1)을 통해 수용되는 유기 물질은 상기 소면공(V1)을 통해 상기 증착 기판(300)에 증착된다. 이에 따라, 상기 증착 기판(300) 상에는 적색, 녹색 또는 청색의 화소 패턴 중 어느 하나의 패턴이 형성된다. 이어서, 상기 공정을 반복하여, 상기 증착 기판(300) 상에 적색, 녹색 또는 청색의 화소 패턴을 모두 형성할 수 있다.

앞서 설명하였듯이, 상기 증착용 마스크는 상기 마스크 프레임에 고정하기 위해 일 방향으로 인장된다, 자세하게, 상기 증착용 마스크(100)는 상기 증착용 마스크(100)의 길이 방향 즉, 제 1 방향으로 인장될 수 있다.

이에 따라, 상기 증착용 마스크(100)의 내부에는 인장에 따른 응력이 형성된다. 또한, 상기 증착용 마스크(100)를 상기 마스크 프레임(200)에 고정한 이후에는 상기 증착용 마스크(100)에는 잔류 응력이 존재한다. 상기 잔류 응력은 상기 증착용 마스크(100)의 표면에 형성되는 웨이비니스(waviness)를 증가시킬 수 있다.

따라서, 상기 증착용 마스크는 유기 물질이 이동하는 유효 영역 사이의 간격이 변할 수 있다. 또는, 상기 증착용 마스크의 유효 영역 내부의 관통홀들의 간격이 변할 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크를 통해 증착 기판에 증착 패턴을 형성할 때, 증착 패턴의 간격이 변화될 수 있고, 이에 의해 증착용 마스크의 증착 신뢰성이 감소될 수 있다.

이하에서는, 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 증착용 마스크를 설명한다.

도 4는 실시예에 따른 증착용 마스크(100)의 평면도를 도시한 도면이다. 도 5 내지 도 7은 도 4의 A-A'를 절단한 단면도를 도시한 도면들이다.

도 4 내지 도 7을 참조하면, 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 증착 영역(DA) 및 비증착 영역(NDA)을 포함할 수 있다.

상기 증착 영역(DA)은 증착 패턴을 형성하기 위한 영역이다. 상기 증착 영역(DA)은 유효 영역(AA) 및 비유효 영역(UA)을 포함할 수 있다. 상기 유효 영역(AA)은 상기 유기 물질이 통과하는 관통홀(TH)이 형성되는 영역으로 정의된다. 또한, 상기 비유효 영역(UA)은 상기 유기 물질이 통과하는 관통홀(TH)이 형성되지 않는 영역으로 정의된다.

도면에서는 상기 유효 영역(AA)이 정사각형 형상으로 도시되었으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 상기 유효 영역(AA)은 직사각형 형상일 수 있다.

상기 유효 영역(AA)은 복수의 유효 영역을 포함할 수 있다. 상기 복수의 유효 영역은 상기 제 1 방향으로 이격하여 배치될 수 있다.

상기 증착 영역(DA)은 상기 증착용 마스크(100)의 제 1 방향으로 첫 번째 유효 영역이 시작되는 지점에서, 마지막 유효 영역이 종료되는 지점까지의 영역으로 정의될 수 있다.

상기 비유효 영역(UA)은 상기 증착 영역(DA)에서 상기 유효 영역(AA) 이외의 영역으로 정의될 수 있다. 상기 비유효 영역(UA)은 상기 비유효 영역의 위치에 따라 제 1 비유효 영역(UA1) 및 제 2 비유효 영역(UA2)으로 구분될 수 있다.

상기 제 1 비유효 영역(UA1)은 상기 유효 영역(AA) 사이의 영역으로 정의될 수 있다. 이에 따라, 복수의 제 1 비유효 영역(UA1)은 상기 제 1 방향(1D)으로 이격하여 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 비유효 영역(UA2)은 상기 유효 영역(AA)과 상기 증착용 마스크(100) 또는 금속판(10)의 제 2 방향의 양 끝단 사이의 영역으로 정의될 수 있다.

상기 비증착 영역(NDA)은 증착에 관여하지 않는 영역이다. 상기 비증착 영역(NDA)은 상기 증착용 마스크(100)를 마스크 프레임(200)에 고정하기 위한 프레임 고정 영역을 포함할 수 있다. 또한, 상기 비증착 영역(NDA)은 하프에칭부(HF) 및 오픈부(OA) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 하프에칭부(HF)는 상기 금속판(10)이 부분적으로 식각되어 형성될 수 있다. 또한, 상기 오픈부(OA)는 상기 금속판(10)이 모두 식각되어 형성될 수 있다.

상기 하프에칭부(HF)는 증착용 마스크(100)를 인장할 때 발생하는 잔류 응력을 분산시킬 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크의 웨이비니스를 감소할 수 있다.

또한, 상기 오픈부(OA)는 상기 증착용 마스크(100)를 인장할 때, 클램프와 같은 지그(jig)를 고정하는 영역이다.

상기 유효 영역(AA)에는 앞서 설명한 관통홀(TH)이 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 유효 영역(AA)에는 상기 소면공(V1), 상기 대면공(V2) 및 상기 소면공(V1)과 상기 대면공(V2)을 연통하는 연통부(CA)를 포함하는 관통홀(TH)을 포함할 수 있다.

상기 비유효 영역(UA)에는 패턴(P)이 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 비유효 영역(UA1)에는 복수의 패턴(P)이 배치될 수 있다. 즉, 상기 패턴(P)은 상기 유효 영역(AA) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 상기 패턴(P)은 인접하는 유효 영역(AA)들 사이에 배치될 수 있다.

상기 패턴(P)은 상기 증착용 마스크(100)의 잔류 응력을 분산하여, 상기 증착용 마스크의 응력을 완화할 수 있다. 자세하게, 상기 증착용 마스크(100)의 인장에 의해 발생하는 잔류 응력은 상기 패턴(P)의 주변으로 전파될 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크(100) 내부의 잔류 응력이 일 영역에 집중되지 않고 분산될 수 있다. 따라서, 상기 증착용 마스크(100)는 상기 패턴(P)에 의해 웨이비니스의 크기가 감소될 수 있다.

이에 따라, 상기 웨이비니스의 증가에 의해 유효 영역들의 간격의 변화량 및/또는 상기 유효 영역 내에 배치되는 관통홀들의 간격의 변화량이 감소할 수 있다. 즉, 상기 증착용 마스크의 유효 영역의 위치 변화량 및 관통홀들의 위치 변화량을 감소할 수 있다.

이에 따라, 상기 증착용 마스크(100)를 통해 증착 기판에 증착 패턴을 형성할 때, 상기 증착 기판(300)의 원하는 위치에 상기 증착 패턴이 형성될 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 증착용 마스크는 향상되는 증착 신뢰성을 가질 수 있다.

상기 패턴(P)과 상기 관통홀(TH)은 서로 다른 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)과 상기 관통홀(TH)은 서로 다른 폭으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 패턴(P)과 상기 관통홀(TH)은 서로 다른 내측면 형상을 가질 수 있디.

예를 들어, 상기 관통홀(TH) 및 상기 금속판(10)은 상기 금속판(10)의 두께 방향으로 연장하면서 폭이 변화할 수 있다. 이때, 상기 관통홀(TH)의 폭의 변화량은 상기 패턴(P)의 폭의 변화량보다 클 수 있다. 즉, 상기 관통홀(TH)의 최대폭과 최소폭의 차이는 상기 패턴(P)의 최대폭과 최소폭의 차이보다 클 수 있다.

예를 들어, 상기 관통홀(TH)은 상기 금속판(10)의 제 1 면(1S) 및 제 2면(2S)을 각각 식각하여 소면공(V1) 및 대면공(V2)을 형성하고, 상기 소면공(V1) 및 상기 대면공(V2)이 연통하는 연통부(CA)에 의해 형성될 수 있다. 일례로, 상기 관통홀(TH)은 에칭액을 이용하여 상기 금속판(10)을 에칭함으로써 형성될 수 있다.

이에 따라, 상기 관통홀(TH)은 내측면이 곡률을 가지도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 관통홀(TH)은 상기 제 1 면(1S)에서 상기 제 2 면(2S) 방향으로 연장하면서 폭이 변화할 수 있다.

또한, 상기 패턴(P)은 상기 금속판(10)의 제 1 면(1S) 또는 제 2 면(2S)을 식각하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)은 레이저를 이용하여 형성될 수 있다. 일례로, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S) 방향에서 레이저를 조사하여 형성될 수 있다.

이에 따라, 상기 관통홀(TH)의 내측면의 각도는 상기 패턴(P)의 내측면의 각도보다 클 수 있다.

도 5를 참조하면, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S) 및 상기 제 2 면(2S)이 관통되어 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 레이저는 상기 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S) 방향에서 조사되고, 상기 금속판(10)을 관통할 수 있다. 이에 따라, 상기 패턴(P)은 홀 형상으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 패턴(P)은 상기 증착용 마스크(100)에 형성되는 홀일 수 있다.

상기 패턴(P)이 홀 형상으로 형성되므로, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S) 및 상기 제 2 면(2S)에서 모두 잔류 응력을 분산할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 면(1S) 및 상기 제 2 면(2S)의 웨이비니스 크기가 감소될 수 있다.

또는, 도 6 및 도 7을 참조하면, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S)이 부분적으로 제거되어 형성될 수 있다. 자세하게, 상기 레이저는 상기 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S) 방향에서 조사되고, 상기 금속판(10)의 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S)을 부분적으로 제거할 수 있다. 이에 따라, 상기 패턴(P)은 홈 형상으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 패턴(P)은 상기 증착용 마스크(100)에 형성되는 홈일 수 있다.

이에 따라, 상기 패턴(P)은 내측면이 평면을 가지도록 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S)에서 상기 제 2 면(2S) 방향으로 연장하면서 폭의 변화가 작을 수 있다.

상기 패턴(P)이 홈 형상으로 형성되므로, 상기 패턴(P)은 상기 제 1 면(1S) 또는 상기 제 2 면(2S)에서 응력을 분산시킬 수 있다. 또한, 상기 패턴(P)에 의해 증착용 마스크의 전체적인 강도가 감소되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 패턴(P)이 상기 소면공(V1)이 형성되는 제 1 면(1S) 형성되는 경우, 상기 제 1 면(1S)과 상기 제 2 면(2S)의 금속판의 잔류 영역 차이를 감소할 수 있다. 따라서, 상기 증착용 마스크가 일 방향으로 휘어지는 것을 방지할 수 있다.

상기 패턴(P)의 폭(W1)은 설정된 크기로 형성될 수 있다. 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 소면공(V1)의 폭(W2)과 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 소면공(W1)의 폭(W2)보다 작을 수 있다.

또는, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 대면공(V2)의 폭(W3)과 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 대면공(V2)의 폭(W3)보다 작을 수 있다.

여기서, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 패턴(P)의 폭들 중 최대폭을 의미하고, 상기 소면공(V1)의 폭(W2)은 상기 소면공(V1)의 폭들 중 최대 폭을 의미하며, 상기 대면공(V2)의 폭(W3)은 상기 대면공(V2)의 폭들 중 최대 폭을 의미한다.

또는, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 패턴(P)과 상기 소면공(V1)의 제 1 방향의 제 1 거리(D1)와 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 제 1 거리(D1)보다 작을 수 있다.

또는, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 패턴(P)과 상기 대면공(V2)의 제 1 방향의 제 2 거리(D2)와 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 상기 제 2 거리(D2)보다 작을 수 있다.

일례로, 상기 패턴(P)의 폭(W1)은 0.005㎜ 내지 20㎜일 수 있다. 또한, 상기 패턴(P)의 내측면의 경사각도는 60° 이상일 수 있다.

상기 패턴(P)이 상기와 같은 설정된 폭을 가지므로, 증착용 마스크의 증착 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 자세하게, 상기 패턴(P)의 폭이 크게 형성되는 경우, 공정 중 오차에 의해 상기 패턴(P)과 상기 유효 영역(AA) 사이의 거리가 매우 작아질 수 있다. 또는, 상기 패턴(P)이 상기 유효 영역(AA)의 내부에 일부 형성될 수도 있다.

이에 따라, 상기 유기 물질이 상기 패턴(P)을 통해서 이동하여, 증착 패턴의 품질이 감소될 수 있다. 따라서, 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 패턴(P)의 폭의 크기를 상기와 같이 설정하여, 증착용 마스크의 증착 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 패턴에 의해 증착 신뢰성이 향상될 수 있다.

상기 증착용 마스크는 상기 증착 기판에 복수의 증착 패턴을 형성하기 위해 마스크 프레임에 고정된다. 이때, 상기 증착용 마스크는 길이 방향으로 인장되고, 상기 마스크 프레임에 고정될 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크를 상기 마스크 프레임에 고정한 이후, 상기 증착용 마스크의 내부에는 상기 인장에 의해 발생하는 인장 응력이 잔류할 수 있다. 이러한 잔류 응력은 상기 증착용 마스크의 표면에 웨이비니스를 증가시킬 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크의 유효 영역들 사이의 간격이 변할 수 있다. 또한, 상기 유효 영역 내부의 관통홀 사이의 간격이 변할 수 있다.

상기 증착용 마스크는 상기 증착 영역의 배치되는 패턴을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 패턴은 인접하는 유효 영역들 사이에 배치될 수 있다.

이하, 도 8 내지 도 20을 참조하여, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크의 패턴의 다양한 배치 및 형상을 설명한다. 다른 실시에에 따른 증착용 마스크에 대한 설명에서는 앞서 설명한 실시예에 따른 증착용 마스크와 동일 유사한 설명에 대해서는 설명을 생략하며, 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여한다.

도 8을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 패턴부(PA1) 및 제 2 패턴부(PA2)를 포함할 수 있다. 도 8에서는 설명의 편의를 위해 제 1 패턴부(PA1) 및 제 2 패턴부(PA2)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 3개 이상의 패턴부를 포함할 수도 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1)는 복수의 제 1 패턴(P1)을 포함할 수 있다. 복수의 제 1 패턴(P1)은 상기 제 2 방향(2D)으로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 2 패턴부(PA2)는 복수의 제 2 패턴(P2)을 포함할 수 있다. 복수의 제 2 패턴(P2)은 상기 제 2 방향(2D)으로 이격하여 배치될 수 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1)와 상기 제 2 패턴부(PA2)는 상기 제 1 방향(1D)으로 이격하여 배치될 수 있다.

다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 제 1 패턴부(PA1)와 상기 제 2 패턴부(PA2)를 포함한다. 이에 따라, 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 내부에 보다 다양한 위치에 패턴들을 형성할 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크는 웨이비니스가 감소되어 증착 신뢰성이 향상될 수 있다.

도 9 및 도 10을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 패턴부(PA1), 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)를 포함할 수 있다. 도 9 및 도 10에서는 설명의 편의를 위해 제 1 패턴부(PA1) 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 4개 이상의 패턴부를 포함할 수도 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1)는 복수의 제 1 패턴(P1)을 포함할 수 있다. 복수의 제 1 패턴(P1)은 상기 제 2 방향(2D)으로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 2 패턴부(PA2)는 복수의 제 2 패턴(P2)을 포함할 수 있다. 복수의 제 2 패턴(P2)은 상기 제 2 방향(2D)으로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 제 3 패턴부(PA3)는 복수의 제 3 패턴(P3)을 포함할 수 있다. 복수의 제 3 패턴(P3)은 상기 제 2 방향(2D)으로 이격하여 배치될 수 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)는 상기 제 1 방향(1D)으로 이격하여 배치될 수 있다.

도 9를 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 지그재그로 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 패턴(P2)은 인접하는 제 1 패턴(P1)들 사이에 배치되고, 상기 제 3 패턴(P3)은 인접하는 제 2 패턴(P2)들 사이에 배치될 수 있다.

또는, 도 10을 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 나란하게 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 마주보며 배치될 수 있다.

또한, 상기 증착용 마스크(100)는 상기 비증착 영역(NDA)에 배치되는 하프에칭부(HF)를 포함할 수 있다. 상기 하프 에칭부(HF)는 금속판(10)의 제 1 면(1S)을 부분적으로 제거하여 형성될 수 있다. 즉, 상기 하프 에칭부(HF)는 상기 제 1 면(1S)에 형성되는 홈일 수 있다.

상기 하프 에칭부(HF)는 상기 비증착 영역(NDA)의 응력을 분산할 수 있다. 이에 따라, 상기 비증착 영역(NDA)의 웨이비니스를 감소할 수 있다. 이에 따라, 상기 증착용 마스크(100)를 통해 증착 기판에 유기 물질을 증착할 때, 상기 증착용 마스크(100)가 웨이비니스에 의해 들뜨는 현상을 방지할 수 있다.

이에 따라, 증착용 마스크의 소면공(V1)과 증착 기판(300) 사이의 거리가 증가하는 것을 방지할 수 있으므로 쉐도우 효과에 의한 증착 품질 감소를 방지할 수 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴의 수는 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1), 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 수는 다를 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)의 수는 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 수보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 2 패턴(P2)의 수는 상기 제 3 패턴(P3)의 수보다 클 수 있다.

이에 따라, 상기 유효 영역(AA)에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴의 수가 감소할 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴에 의한 개구 영역의 면적이 감소할 수 있다.

따라서, 상기 제 1 방향(1D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 감소할 수 있다. 또한, 상기 제 2 방향(2D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가할 수 있다.

다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 제 1 방향(1D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 감소하므로, 상기 유효 영역과 인접한 영역에서의 응력 분산 효과를 증가시킬 수 있다. 따라서, 상기 유효 영역과 인접한 영역에서의 웨이비니스를 감소할 수 있으므로, 유효 영역 내부의 관통홀들의 위치 변화가 감소될 수 있다.

또한, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 제 2 방향(2D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)은 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가하므로, 상기 증착용 마스크의 제 2 방향의 외측부와 중앙부의 잔류 응력을 유사하게 형성할 수 있다.

도 11 및 도 12를 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 패턴부(PA1), 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)를 포함할 수 있다. 도 11 및 도 12에서는 설명의 편의를 위해 제 1 패턴부(PA1) 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 4개 이상의 패턴부를 포함할 수도 있다.

도 11을 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 지그재그로 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 패턴(P2)은 인접하는 제 1 패턴(P1)들 사이에 배치되고, 상기 제 3 패턴(P3)은 인접하는 제 2 패턴(P2)들 사이에 배치될 수 있다.

또는, 도 12를 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 나란하게 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 마주보며 배치될 수 있다.

상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)의 패턴의 수는 다를 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1), 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 수는 다를 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)의 수는 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 수보다 작을 수 있다. 또한, 상기 제 2 패턴(P2)의 수는 상기 제 3 패턴(P3)의 수보다 작을 수 있다.

이에 따라, 상기 유효 영역(AA)에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴의 수가 증가할 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴에 의한 개구 영역의 면적이 증가할 수 있다.

따라서, 상기 제 1 방향(1D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가할 수 있다. 또한, 상기 제 2 방향(2D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가할 수 있다.

다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 제 1 방향(1D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가하므로, 상기 제 1 비유효 영역의 중앙부에서의 응력 분산 효과를 증가시킬 수 있다. 따라서, 상기 제 1 비유효 영역의 웨이비니스를 감소할 수 있으므로, 유효 영역들 사이의 간격 변화를 감소시킬 수 있다.

또한 다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 제 2 방향(2D)으로 상기 제 1 비유효 영역(UA1)은 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 증가하므로, 상기 증착용 마스크의 제 2 방향의 외측부와 중앙부의 잔류 응력을 유사하게 형성할 수 있다.

도 13 및 도 14를 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 패턴부(PA1), 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)를 포함할 수 있다. 도 13 및 도 14에서는 설명의 편의를 위해 제 1 패턴부(PA1) 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 4개 이상의 패턴부를 포함할 수도 있다.

상기 복수의 유효 영역(AA) 중 적어도 하나의 유효 영역(AA)의 제 1 방향(1D)의 양 끝단에 배치되는 두 개의 비유효 영역의 중앙부에서 상기 하나의 유효 영역에 인접하는 영역의 패턴부의 수 및 패턴의 수는 다를 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)의 제 1 방향(1D)의 양 끝단에 배치되는 개구 영역의 면적은 다를 수 있다.

도 13을 참조하면, 상기 유효 영역(AA)의 제 1 끝단(E1)에 인접한 영역에는 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)가 배치될 수 있다. 또한, 상기 유효 영역(AA)의 제 2 끝단(E2)에 인접한 영역에는 상기 제 1 패턴부(PA1)만이 배치될 수 있다.

또는, 도 14를 참조하면, 상기 유효 영역(AA)의 제 1 끝단(E1)에 인접한 영역에는 상기 제 1 패턴부(PA1) 및 상기 제 2 패턴부(PA2)가 배치될 수 있다. 또한, 상기 유효 영역(AA)의 제 2 끝단(E2)에 인접한 영역에는 상기 패턴부가 배치되지 않을 수 있다.

여기서 유효 영역(AA)의 끝단과 인접한 영역은 상기 유효 영역(AA)과 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부 사이의 영역으로 정의될 수 있다.

이에 따라, 상기 유효 영역(AA)의 제 1 끝단(E1)에 인접한 영역에 배치되는 패턴의 수와 상기 유효 영역(AA)의 제 2 끝단(E2)에 인접한 영역에 배치되는 패턴의 수는 다를 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)의 제 1 끝단(E1)에 인접한 영역에 배치되는 개구 면적과 상기 유효 영역(AA)의 제 2 끝단(E2)에 인접한 영역에 배치되는 개구 영역의 면적은 다를 수 있다.

또한, 복수의 제 1 비유효 영역(UA1)에 배치되는 패턴의 수 또는 개구 영역의 면적은 서로 다를 수 있다.

도 13 및 도 14를 참조하면, 상기 제 1 비유효 영역(UA1)은 상기 제 1 방향으로 이격하는 제 1-1 비유효 영역(UA1-1) 및 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)은 상기 제 1-1 비유효 영역(UA1-1) 및 상기 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)의 사이에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 비유효 영역(UA1)은 하나의 유효영역을 사이에 두고 상기 제 1 방향으로 이격하는 제 1-1 비유효 영역(UA1-1) 및 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)을 포함할 수 있다.

상기 제 1-1 비유효 영역(UA1-1)에 배치되는 패턴의 수와 상기 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)에 배치되는 패턴의 수는 다를 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1-1 비유효 영역(UA1-1)에 배치되는 패턴의 수는 상기 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)에 배치되는 패턴의 수보다 클 수 있다. 즉, 상기 제 1-1 비유효 영역(UA1-1)의 개구 영역의 면적은 상기 제 1-2 비유효 영역(UA1-2)에 배치되는 개구 영역의 면적보다 클 수 있다.

다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 유효 영역의 양 끝단에 인접하는 영역에 배치되는 패턴의 수 및 개구 영역의 면적 또는 각각의 제 1 비유효 영역에 배치되는 패턴의 수 및 개구 영역의 면적이 다를 수 있다.

상기 증착용 마스크는 금속판에 관통홀, 패턴, 오픈부를 형성하여 형성할 수 있다. 상기 금속판에 관통홀, 패턴, 오픈부를 형성하기 전에, 상기 금속판의 두께를 설정 두께로 형성하기 위해, 압연 공정이 진행될 수 있다.

이러한 압연 공정에 의해 상기 금속판의 내부에는 응력이 발생하고, 상기 응력은 금속판의 표면에 웨이비니스를 형성할 수 있다.

따라서, 금속판에 관통홀, 패턴, 오픈부를 형성하기 전에, 금속판의 웨이비니스의 분포를 측정한 후, 웨이비니스가 큰 영역과 작은 영역에 서로 다른 수의 패턴을 형성할 수 있다.

예를 들어, 금속판의 웨이비니스가 큰 영역에는 많은 수의 패턴을 형성하고, 작은 영역에는 적은 수의 패턴을 형성할 수 있다. 이에 따라, 금속판에 관통홀, 패턴, 오픈부를 형성하고, 증착용 마스크를 인장할 때 발생하는 인장 응력에 따른 웨이비니스의 크기를 감소할 수 있다.

즉, 금속판의 웨이비니스가 큰 영역에서는 패턴의 수를 증가시키고, 작은 영역에서는 패턴의 수 즉, 개구 영역의 면적을 상대적으로 감소하여 인장 응력을 분산시킴으로써, 증착용 마스크가 마스크 프레임에 고정 후에 금속판 원소재 특성에 의해 웨이비니스가 더 증가되는 것을 방지할 수 있다.

도 15 및 도 16을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 유효 영역(AA)의 형상이 다를 수 있다.

자세하게, 상기 유효 영역(AA)은 일 방향으로 연장하면서 상기 유효 영역(AA)의 폭이 변화되는 형상으로 형성될 수 있다. 자세하게, 복수의 유효 영역들 중 적어도 하나의 유효 영역은 폭이 변화되는 형상으로 형성될 수 있다.

예를 들어, 도 15를 참조하면, 상기 유효 영역(AA)은 제 1 방향(1D)으로 연장하면서 폭이 변화하는 형상으로 형성될 수 있다.

또는, 도 16을 참조하면, 상기 유효 영역(AA)은 제 2 방향(2D)으로 연장하면서 폭이 변화하는 형상으로 형성될 수 있다.

즉, 상기 증착용 마스크(100)의 유효 영역(AA)은 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 따라서, 증착 기판(300)에 증착되는 패턴을 다양한 디자인으로 형성할 수 있다.

상기 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴(P)을 포함할 수 있다. 상기 패턴(P)은 상기 유효 영역(AA)의 일 끝단에서 멀어지면서 수가 변화할 수 있다.

예를 들어, 도 15를 참조하면, 상기 유효 영역(AA)은 제 1-2 끝단(E1-2)에서 제 1-1 끝단(E1-1) 방향으로 연장하면서 폭이 좁아지고, 상기 패턴(P)의 수는 상기 제 1-2 끝단(E1-2)에서 상기 제 1-1 끝단(E1-1) 방향으로 갈수록 감소할 수 있다.

또는, 도 16을 참조하면, 상기 유효 영역(AA)은 제 2-2 끝단(E2-2)에서 제 1-2 끝단(E1-2) 방향으로 연장하면서 폭이 좁아지고, 상기 패턴(P)의 수는 상기 제 2-2 끝단(E2-2)에서 상기 제 1-2 끝단(E1-2) 방향으로 갈수록 증가할 수 있다.

이에 따라, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크는 상기 유효 영역(AA)의 형상에 따라 상기 패턴을 다양하게 배치할 수 있다. 따라서, 상기 유효 영역(AA)의 형상이 변화하여도, 상기 패턴에 의해 잔류 응력을 효과적으로 분산할 수 있으므로, 증착용 마스크의 웨이비니스의 크기를 감소시킬 수 있다. 따라서, 증착용 마스크의 증착 신뢰성이 향상될 수 있다.

도 17 내지 도 20을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 복수의 패턴부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 증착용 마스크(100)는 제 1 패턴부(PA1), 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)를 포함할 수 있다. 도 11 및 도 12에서는 설명의 편의를 위해 제 1 패턴부(PA1) 제 2 패턴부(PA2) 및 제 3 패턴부(PA3)만을 도시하였으나, 실시예는 이에 제한되지 않고, 4개 이상의 패턴부를 포함할 수도 있다.

상기 패턴은 일 방향으로 연장하면서 패턴의 크기가 변화할 수 있다. 자세하게, 상기 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 연장하면서 패턴의 크기가 변화할 수 있다.

도 17을 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)는 서로 다른 크기의 패턴을 가질 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)의 크기는 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 크기보다 클 수 있다. 또한, 상기 제 2 패턴(P2)의 크기는 상기 제 3 패턴(P3)의 크기보다 클 수 있다.

즉, 상기 패턴들은 상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴의 크기가 감소할 수 있다.

또는, 도 18을 참조하면, 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)의 크기는 상기 제 2 패턴(P2) 및 상기 제 3 패턴(P3)의 크기보다 작을 수 있다. 또한, 상기 제 2 패턴(P2)의 크기는 상기 제 3 패턴(P3)의 크기보다 작을 수 있다.

즉, 상기 패턴들은 상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴의 크기가 증가할 수 있다.

또는, 상기 패턴은 일 방향으로 연장하면서 패턴의 간격이 변화할 수 있다. 자세하게, 상기 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 연장하면서 패턴의 간격이 변화할 수 있다.

도 19를 참조하면, 상기 제 1 패턴부(PA1), 상기 제 2 패턴부(PA2) 및 상기 제 3 패턴부(PA3)는 서로 다른 간격으로 이격할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)과 상기 제 2 패턴(P2)의 간격(G1)은 상기 제 2 패턴(P2)과 상기 제 3 패턴(P3)의 간격(G2)보다 작을 수 있다.

즉, 상기 패턴들은 상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴부의 간격이 증가할 수 있다.

또는, 도 20을 참조하면, 자세하게, 상기 제 1 패턴(P1)과 상기 제 2 패턴(P2)의 간격(G1)은 상기 제 2 패턴(P2)과 상기 제 3 패턴(P3의 간격(G2)보다 클 수 있다.

즉, 상기 패턴들은 상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 중앙부(C) 방향으로 연장하면서 패턴부의 간격이 감소할 수 있다.

또한, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 패턴은 상기 제 1 방향(1D)으로 연장하면서 패턴의 크기 및 간격이 모두 변화할 수도 있다.

실시예에 따른 증착용 마스크는 패턴의 크기, 간격을 다양하게 배치할 수 있다.

이에 따라, 유효 영역과 인접한 영역에 패턴을 많이 형성하거나, 또는, 유효 영역과 먼 영역에 패턴을 많이 형성할 수 있다.

상기 증착용 마스크를 형성하는 금속판은 제조공정 또는 원소재의 특성에 따라 다른 물리적 특성을 가질 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크의 중앙 영역으로 잔류 응력이 집중되거나 또는 외측 영역으로 잔류 응력이 집중될 수 있다.

따라서, 실시예에 따른 증착용 마스크는 패턴의 크기, 간격을 다양하게 배치함에 따라, 금속판의 물리적 특성에 맞추어 패턴의 위치를 제어할 수 있다. 따라서, 증착용 마스크의 인장에 따른 인장 응력을 효과적으로 분산시킬 수 있으므로, 증착용 마스크의 웨이비니스를 감소할 수 있다. 이에 의해, 실시예에 따른 증착용 마스크는 향상된 증착 신뢰성을 가질 수 있다.

도 21 및 도 22를 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 유효 영역(AA) 이외의 영역에도 패턴부가 형성될 수 있다.

도 21을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 비증착 영역(NDA)에도 패턴(P)이 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 오픈부(OA)와 상기 유효 영역(AA) 사이에도 패턴(P)이 형성될 수 있다.

이에 따라, 상기 비증착 영역(NDA)에서도 잔류 응력을 효과적으로 분산시킬 수 있다. 또한, 상기 패턴(P)에 의해 상기 비증착 영역(NDA)에 별도의 하프에칭부를 형성하는 공정을 생략할 수 있다.

도 22를 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 제 2 비유효 영역(UA2)에도 패턴(P)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 유효 영역(AA)과 상기 증착용 마스크(100)의 제 2 방향의 끝단 사이에도 패턴(P)이 형성될 수 있다.

이에 따라, 상기 증착 영역(DA)의 외측 영역에도 패턴(P)이 형성될 수 있다.

이에 따라, 상기 증착 영역(NDA)의 외측 영역에서도 잔류 응력을 효과적으로 분산시킬 수 있다. 또한, 상기 제 1-2 비유효 영역의 웨이비니스에 의해 증착용 마스크의 소면공(V1)과 증착 기판(300) 사이의 거리가 증가하는 것을 방지할 수 있으므로 쉐도우 효과에 의한 증착 품질 감소를 방지할 수 있다.

또한, 도면에는 도시되지 않았지만, 상기 패턴(P)은 상기 비증착 영역(NDA) 및 상기 제 2 비유효 영역(UA2)에 모두 형성될 수도 있다.

도 23을 참조하면, 다른 실시예에 따른 증착용 마스크(100)는 상기 유효 영역 사이에 하나의 패턴(P)이 형성될 수 있다.

상기 패턴(P)은 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 면적보다 작을 수 있다. 자세하게, 상기 패턴(P)의 면적은 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 면적의 90% 이하, 80% 이하, 70% 이하 또는 60% 이하 이하일 수 있다. 예를 들어, 상기 패턴(P)의 면적은 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 면적의 50% 내지 90%일 수 있다.

상기 패턴(P)의 면적이 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 면적의 90%를 초과하는 경우, 공정 중 오차에 의해 상기 패턴(P)의 일 영역이 상기 유효 영역(AA) 내부에 배치되어, 증착 신뢰성이 감소될 수 있다.

또한, 상기 패턴(P)의 면적이 상기 제 1 비유효 영역(UA1)의 면적의 50% 미만인 경우, 상기 패턴(P)이 상기 유효 영역 사이에서 잔류 응력을 효과적으로 분산시키지 못할 수 있다. 이에 따라, 증착용 마스크의 웨이비니스가 증가하여, 증착 신뢰성이 감소될 수 있다.

상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims

증착 영역 및 비증착 영역을 포함하는 금속판을 포함하고,
상기 금속판은 길이 방향인 제 1 방향 및 폭 방향인 제 2 방향이 정의되고,
상기 증착 영역은 복수의 유효 영역; 및 비유효 영역을 포함하고,
상기 비유효 영역은 유효 영역 사이의 제 1 비유효 영역을 포함하고,
상기 유효 영역에는 복수의 관통홀이 배치되고,
상기 제 1 비유효 영역에는 적어도 하나의 패턴이 배치되고,
상기 패턴과 상기 관통홀은 서로 다른 형상으로 형성되는 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역은 복수의 제 1 패턴을 포함하는 제 1 패턴부; 및 복수의 제 2 패턴을 포함하는 제 2 패턴부를 포함하고,
상기 제 1 패턴부와 상기 제 2 패턴부는 상기 제 1 방향으로 이격하여 배치되는 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역은 복수의 제 1 패턴을 포함하는 제 1 패턴부; 복수의 제 2 패턴을 포함하는 제 2 패턴부; 및 복수의 제 3 패턴을 포함하는 제 3 패턴부를 포함하고,
상기 제 1 패턴부, 상기 제 2 패턴부 및 상기 제 3 패턴부는 상기 제 1 방향으로 이격하여 배치되고,
상기 제 1 패턴부 상기 제 2 패턴부 및 상기 제 3 패턴부의 패턴의 수는 다른 증착용 마스크.
제 3항에 있어서,
상기 제 1 방향으로 상기 제 1 비유효 영역의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수가 감소하고,
상기 제 2 방향으로 상기 제 1 비유효 영역의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수가 증가하는 증착용 마스크.
제 3항에 있어서,
상기 제 1 방향으로 상기 제 1 비유효 영역의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수가 증가하고,
상기 제 2 방향으로 상기 제 1 비유효 영역의 외측에서 내측으로 연장하면서 패턴의 수가 증가하는 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 유효 영역의 제 1 방향의 양 끝단에 배치되는 패턴의 수는 다른 증착용 마스크,
제 1항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역은 하나의 유효 영역을 사이에 두고 상기 제 1 방향으로 이격하는 제 1-1 비유효 영역 및 제 1-2 비유효 영역을 포함하고,
상기 제 1-1 비유효 영역에 배치되는 패턴의 수와 상기 제 1-2 비유효 영역에 배치되는 패턴의 수는 다른 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 복수의 유효 영역 중 적어도 하나의 유효 영역은 상기 제 1 방향 또는 상기 제 2 방향으로 연장하면서 폭이 변화하는 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역은 복수의 제 1 패턴을 포함하는 제 1 패턴부; 복수의 제 2 패턴을 포함하는 제 2 패턴부; 및 복수의 제 3 패턴을 포함하는 제 3 패턴부를 포함하고,
상기 제 1 패턴부, 상기 제 2 패턴부 및 상기 제 3 패턴부는 상기 제 1 방향으로 이격하여 배치되고,
상기 제 1 패턴, 상기 제 2 패턴 및 상기 제 3 패턴의 크기는 다른 증착용 마스크.
제 9항에 있어서,
상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역의 중앙부 방향으로 연장하면서 패턴의 크기는 감소 또는 증가하는 증착용 마스크,
제 1항 또는 제 9항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역은 복수의 제 1 패턴을 포함하는 제 1 패턴부; 복수의 제 2 패턴을 포함하는 제 2 패턴부; 및 복수의 제 3 패턴을 포함하는 제 3 패턴부를 포함하고,
상기 제 1 패턴부, 상기 제 2 패턴부 및 상기 제 3 패턴부는 상기 제 1 방향으로 이격하여 배치되고,
상기 제 1 패턴부, 상기 제 2 패턴부 및 상기 제 3 패턴부의 간격은 다른 증착용 마스크.
제 11항에 있어서,
상기 유효 영역의 끝단에서 상기 제 1 비유효 영역의 중앙부 방향으로 연장하면서 패턴부의 간격은 감소 또는 증가하는 증착용 마스크,
제 1항에 있어서,
상기 패턴은 상기 제 1 비유효 영역 및 상기 비증착 영역에 배치되는 증착용 마스크.
제 1항 또는 제 13항에 있어서,
상기 비유효 영역은 상기 유효 영역과 상기 금속판의 제 2 방향의 양 끝단 사이의 영역으로 정의되는 제 2 비유효 영역을 더 포함하고,
상기 패턴은 상기 제 1 비유효 영역 및 상기 제 2 비유효 영역에 배치되는 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 제 1 비유효 영역에는 하나의 패턴이 배치되고,
상기 패턴의 면적은 상기 제 1 비유효 영역의 면적의 50% 내지 90%인 증착용 마스크.
제 1항에 있어서,
상기 관통홀의 최대폭과 최소폭의 차이는 상기 패턴의 최대폭과 최소폭의 차이보다 큰 증착용 마스크.