TW202411765A - 用於oled像素沉積之沉積遮罩 - Google Patents
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Abstract
一種沉積遮罩,包括:一金屬板,包括一沉積區域和一非沉積區域,其中,該金屬板經界定具有一縱向的一第一方向,和一寬度方向的一第二方向,其中,該沉積區域包括複數個有效區域;以及一非有效區域,其中,該非有效區域包括該些有效區域之間的一第一非有效區域,其中,該複數個通孔設置在該有效區域中,其中,至少一個圖案設置在該第一非有效區域中,其中該圖案和該通孔形成不同的形狀。
Description
本發明涉及一種用於OLED像素沉積之沉積遮罩。
顯示設備應用於各種設備。例如,顯示設備應用於智慧手機或平板電腦等小型設備。或者,顯示設備應用於大尺寸設備,如電視、顯示器或公共顯示幕。最近,對每英寸500像素(PPI)或更高的超高清(UHD)的需求不斷增加。因此,具有高解析度的顯示設備正被應用於小型設備和大型設備。
顯示設備根據驅動方式分為液晶顯示器(LCD)和有機發光二極體(OLED)。
LCD是使用液晶驅動的顯示設備。此外,OLED是使用有機材料驅動的顯示設備。
OLED可以實現無限對比度,回應速度是LCD的1000倍,並且具有出色的視角。因此,有機發光二極體作為一種可以取代LCD的顯示設備備受關注。
OLED包括發光層。發光層包括有機材料。有機材料使用沉積遮罩沉積在基板上。沉積遮罩可包括開放遮罩(OM)或精細金屬遮罩(FMM)。基板上形成與沉積遮罩上形成的圖案相對應的沉積圖案。因此,沉積圖案可用作像素。
開放式遮罩是一種薄板,在製造OLED時僅在特定位置形成沉積圖案。開放式遮罩用於顯示器製程中背板完成後在其上形成發光層的沉積製程。
也就是說,開放式遮罩是一種不覆蓋顯示器工作範圍內部的遮罩,以便沉積顯示器的整個表面。因此,在使用一種顏色的發光材料沉積發光層時,會使用開放式遮罩。
另一方面,精細金屬遮罩可使用於改變發光層子像素的顏色。因此,精細金屬遮罩包括超細孔。使用精細金屬遮罩的過程需要多步驟沉積製程。因此,該過程需要精確對準。因此,使用精細金屬遮罩的製程比使用開放式遮罩的製程更加困難。
使用開放式遮罩沉積OLED的發光層時,只能形成單色發光層。因此,需要單獨的彩色濾光片來實現各種顏色。另一方面,當使用精細金屬遮罩時,可形成RGB發光層。因此,不需要單獨的彩色濾光片。也就是說,使用精細金屬遮罩的技術難度較高。然而,與使用開放式遮罩的方法相比,由於不需要用於阻擋光線的濾光片,因此效果較好。
精細金屬遮罩通常由鎳鐵合金(Invar alloy)金屬板製成,包括鐵(Fe)和鎳(Ni)。通過金屬板的一個表面和另一個表面形成通孔。通孔形成在與像素圖案相對應的位置。因此,紅色、綠色和藍色有機材料可穿過金屬板的通孔並沉積在沉積基板上。因此,可在沉積基板上形成像素圖案。
同時,精細金屬遮罩包括在金屬板的一個表面上形成的小面孔和在金屬板的另一個表面上形成的大面孔。小面孔和大面孔通過連接部相連。這樣就形成了通孔。
有機材料沿精細金屬遮罩的方向噴射。有機材料以大表面孔為入口,小表面孔為出口沉積在沉積基板上。
具體而言,在沉積基板上設置了複數個條形精細金屬遮罩。有機材料沿著小表面孔的方向穿過複數個精細金屬遮罩的大表面孔。
精細金屬遮罩沿遮罩的縱向拉伸並與框架連接。因此,複數個精細金屬遮罩由框架固定。
因此,精細金屬遮罩在拉力作用下產生應力。因此,在應力作用下,精細金屬遮罩表面可能會形成波紋。
表面小孔和表面大孔之間的距離可因波紋而改變。因此,由精細金屬遮罩沉積的有機材料的位置會發生變化。因此,精細金屬遮罩的沉積可靠性可能會降低。
因此,需要一種具有能夠解決上述問題的新結構的沉積遮罩。
本實施例提供了一種具有更高沉積可靠性的沉積遮罩。
一種沉積遮罩,包括;金屬板,包括沉積區域和非沉積區域,其中,金屬板經界定具有第一方向,其為縱向和第二方向,其為寬度方向,其中,沉積區域包括複數個有效區域;以及非有效區域,其中,非有效區域包括有效區域之間的第一非有效區域,其中,複數個通孔設置在有效區域中,至少一個圖案設置在第一非有效區域中,其中,圖案和通孔形成不同的形狀。
根據本實施例的沉積遮罩的可靠性可通過設置在有效區域之間的圖案得到改善。
沉積遮罩由遮罩框架固定。此時,沉積遮罩在縱向被拉伸。因此,在沉積遮罩固定到遮罩框架後,沉積遮罩內部可能會殘留拉伸應力。由於殘餘應力,沉積遮罩表面的波浪度可能會增加。因此,沉積遮罩有效區域之間的間隔可能會改變。此外,設置在有效區域中的通孔之間的間隔可能會改變。
沉積遮罩可包括設置在沉積區域上的圖案。具體而言,圖案可設置在相鄰的有效區域之間。
沉積遮罩的殘餘應力可被圖案來分散。因此,可減少沉積遮罩的波紋度。
因此,有效區域之間和有效區域內部通孔之間的間隔變化最小。因此,沉積遮罩具有更好的沉積可靠性。
此外,圖案和通孔是通過不同製程形成的。因此,圖案的形狀和尺寸可以以各種方式形成。因此,圖案的形狀和尺寸可以根據施加到沉積遮罩上
的拉力大小以各種方式形成。因此,可根據沉積遮罩的尺寸和使用環境形成具有各種形狀和尺寸的圖案。因此,沉積遮罩可提高沉積可靠性。
此外,在金屬板的厚度方向上,圖案的寬度差異可以很小。因此,可減少從沉積遮罩的第一表面和第二表面去除的金屬量的差異。因此,可以防止沉積遮罩因第一表面和第二表面上的殘留金屬之間的差異而在一個方向上彎曲。
以下將參照附圖詳細描述本公開的實施例。然而,本公開的精神和範圍並不局限於所描述的部分實施例,可以以各種其他形式實現,並且在本公開的精神和範圍內,可以有選擇地組合和替換實施例中的一個或複數個要素。此外,除非另有明確的定義和描述,本公開的實施例中使用的術語(包括技術和科學術語)可解釋為與本公開所屬技術領域的普通技術人員通常理解的含義相同,並且諸如常用詞典中定義的術語可解釋為具有與其在相關技術背景下的含義一致的含義。
此外,本公開的實施例中使用的術語是用於描述本公開的實施例,並不用於限制本公開。在本說明書中,除非在短語中特別說明,否則單數形
式也可包括複數形式,並且在"A(和)、B和C中的至少一個(或複數個)"中描述時,可包括A、B和C中可組合的所有組合中的至少一個。
此外,在描述本公開實施例的要素時,可以使用諸如第一、第二、A、B、(a)和(b)等術語。這些術語僅用於將組件與其他組件區域分開來,術語並不限於組件的本質、順序或次序。
此外,當描述一個組件與另一個組件"連接"、"耦合"或"連通"時,不僅包括該元素與其他組件直接"連接"、"耦合"或"連通",還包括該組件與其他組件之間由另一個元素"連接"、"耦合"或"連通"。
此外,當描述為在每個組件的"上(上方)"或"下(下方)"形成或佈置時,"上(上方)"或"下(下方)"不僅可以包括兩個組件直接相互連接時,還可以包括一個或複數個其他組件在兩個組件之間形成或佈置時。
此外,當表示為"上(上)"或"下(下)"時,不僅可以包括上方向,還可以包括基於一個組件的下方向。
以下將參照附圖描述根據一實施例的沉積遮罩。
下面描述的沉積遮罩是一種精細金屬遮罩,能夠通過在沉積基板上沉積紅色、綠色和藍色有機材料而在沉積基板上形成RGB像素圖案。此外,以下描述不適用於開放式遮罩。
在以下描述中,第一方向1D是沉積遮罩的縱向。另外,第二方向2D是沉積遮罩的寬度方向。
圖1至圖3是用於解釋根據一實施例使用沉積遮罩100在沉積基板300上沉積有機材料的過程的視圖。
參考圖1和圖2,有機材料沉積設備包括沉積遮罩100、遮罩框架200、沉積基板300、有機材料沉積容器400和真空室500。
沉積遮罩100包括金屬。例如,沉積遮罩包括鐵(Fe)和鎳(Ni)。具體而言,沉積遮罩包括包括鐵(Fe)和鎳(Ni)的鎳鐵合金。
沉積遮罩100包括複數個通孔TH。通孔設置在有效區域中。通孔的設置與要在沉積基板上形成的像素圖案相對應。沉積遮罩100包括有效區域以外的非有效區域,有效區域包括沉積區域。
也就是說,沉積遮罩100可包括金屬板10,金屬板10上可形成複數個通孔TH。
遮罩框架200包括開口205。複數個通孔佈置在與開口205相對應的區域上。因此,供應給有機材料沉積容器400的有機材料沉積在沉積基板300上。沉積遮罩100放置並固定在遮罩框架200上。例如,用設定的拉力拉緊沉積遮罩100。此外,將沉積遮罩100焊接並固定在遮罩框架200上。
例如,焊接沉積遮罩100的非有效區域。因此,沉積遮罩100被固定在遮罩框架200上。然後,切割並移除凸出遮罩框架200的部分。
遮罩框架200包括具有高剛性的金屬。因此,可減少焊接過程中遮罩框架的變形。
沉積基板300是製造顯示設備時使用的基板。例如,在沉積基板300上形成OLED像素圖案。在沉積基板300上形成紅、綠、藍有機圖案,以形成三原色光的像素。也就是說,在沉積基板300上形成RGB圖案。
有機材料沉積容器400是一個坩堝。有機材料放置在坩堝內。有機材料沉積容器400在真空室500內移動。也就是說,有機材料沉積容器400在真空室500內沿一個方向移動。例如,有機材料沉積容器400在真空室500內沿沉積遮罩100的寬度方向移動。
向有機材料沉積容器400提供熱源和/或電流。導致有機材料沉積在沉積基板300上。
參考圖3,沉積遮罩100包括金屬板10。金屬板包括第一表面1S和第二表面2S。第一表面1S和第二表面2S彼此相對。
第一表面1S包括一個小表面孔V1。第二表面2S包括一個大表面孔V2。例如,在第一表面1S和第二表面2S上分別形成複數個小表面孔V1和複數個大表面孔V2。
此外,沉積遮罩100還包括通孔TH。通孔TH由連接小表面孔V1和大表面孔V2之間邊界的連接部CA形成。
大表面孔V2的寬度大於小表面孔V1的寬度。小表面孔V1的寬度是在沉積遮罩100的第一表面1S上測量的。大表面孔V2的寬度是在沉積遮罩100的第二表面2S上測量的。
另外,連接部CA的寬度具有設定尺寸。具體來說,連接部CA的寬度可以是15μm(微米)至33μm。更詳細地說,連接部CA的寬度可以是19μm至33μm。更詳細地說,連接部CA的寬度可以是20μm至27μm。當連接部CA的寬度超過33μm時,很難實現500PPI或更高的解析度。此外,當連接部CA的寬度小於15μm時,在沉積過程中可能會出現缺陷。
小表面孔V1面向沉積基板300。小表面孔V1靠近沉積基板300放置。因此,小表面孔V1具有與沉積圖案DP相對應的形狀。
大表面孔V2面向有機材料沉積容器400。因此,從有機材料沉積容器400供出的有機材料可容納通過大表面孔V2以較寬的寬度。此外,可通過小表面孔V1在沉積基板300上快速形成精細圖案。
因此,由大表面孔V2容納的有機材料通過小表面孔V1沉積在沉積基板300上。相應地,在沉積基板300上形成紅色、綠色和藍色像素圖案中的任意一種。然後,重複上述過程。因此,紅色、綠色和藍色像素圖案全部形成在沉積基板300上。
如上所述,沉積遮罩沿一個方向拉伸以固定到遮罩框架上。具體來說,沉積遮罩100可以沿第一方向拉伸。
因此,沉積遮罩100內部會形成拉伸應力。此外,在沉積遮罩100固定到遮罩框架200上之後,沉積遮罩100內部仍然存在應力。由於殘餘應力,沉積遮罩100表面形成的波紋可能會增加。
因此,有機材料移動所經過的有效區域之間的間隔可能會不同。另外,設置在有效區域中的通孔的間隔也可能不同。因此,當通過沉積遮罩在沉積基板上形成沉積圖案時,沉積圖案的間隔可能會改變。因此,沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。
下面將描述能夠解決上述問題的沉積遮罩。
圖4是根據本實施例的沉積遮罩的平面圖。圖5至圖7是沿圖4的A-A'區域拍攝的視圖。
參考圖4至圖7,沉積遮罩100包括沉積區域DA和非沉積區域NDA。
沉積區域DA是用於形成沉積圖案的區域。沉積區域DA包括有效區域AA和非有效區域UA。有效區域AA是形成有機材料通過的通孔TH的區域。此外,非有效區域UA是未形成通孔TH的區域。
在圖中,有效區域AA顯示為正方形。然而,本實施例並不局限於此。有效區域AA可為矩形。
有效區域AA可以包括複數個有效區域。複數個有效區域在第一方向上間隔開。
沉積區域DA是第一方向上從第一有效區域的起點到最後有效區域的終點的區域。
非有效區域UA是有效區域AA以外的區域。非有效區域UA可根據位置分為第一非有效區域UA1和第二非有效區域UA2。
第一非有效區域UA1是有效區域AA之間的區域。因此,複數個第一非有效區域UA1在第一方向1D上間隔開。另外,第二非有效區域UA2是有效區域AA和沉積遮罩100之間的區域。或者,第二非有效區域UA2是金屬板在第二方向兩端之間的區域。
非沉積區域NDA是不參與沉積的區域。非沉積區域NDA包括框架固定區域。框架固定區域是將沉積遮罩100固定到遮罩框架200的區域。此外,非沉積區域NDA可包括至少一個半蝕刻部HF和一個開口部OA。半蝕刻部HF可通過部蝕刻金屬板10形成。此外,開放部OA可以通過蝕刻金屬板10的全部來形成。
半蝕刻部HF可以分散沉積遮罩100拉伸時產生的應力。因此,可減少沉積遮罩的波紋度。
另外,開口部OA是用於在拉伸沉積遮罩100時固定夾具等夾具的區域。
通孔TH可以設置在有效區域AA中。詳細而言,通孔TH包括小表面孔V1、大表面孔V2和連接部CA。連接部CA連接小表面孔V1和大表面孔V2。
在非有效區域UA中可以設置圖案P。具體來說,可以在第一非有效區域UA1中設置複數個圖案P。也就是說,圖案P可以佈置在有效區域AA之間。也就是說,圖案P可以佈置在相鄰的有效區域AA之間。
圖案P可以分散沉積遮罩100的殘餘應力。因此,沉積遮罩的應力可以得到緩解。因此,沉積遮罩100的殘餘應力可被分散而不會集中在一個區域。因此,沉積遮罩100的波紋尺寸可通過圖案P減少。
因此,可以減少有效區域之間的間隔變化和/或設置在有效區域內部的通孔之間的間隔變化。也就是說,可以減少有效區域的位置變化和通孔的位置變化。
因此,當使用沉積遮罩100在沉積基板上形成沉積圖案時,可在沉積基板300的期望位置形成沉積圖案。因此,根據本實施例的沉積遮罩可具有改進的沉積可靠性。
圖案P和通孔TH可以形成不同的形狀。例如,圖案P和通孔TH可以具有不同的寬度。此外,圖案P和通孔TH可以具有不同形狀的內表面。
例如,通孔TH的寬度和圖案P的寬度在沿金屬板10的厚度方向延伸時可能會發生變化。也就是說,通孔TH的最大寬度和最小寬度之差可能大於圖案P的最大寬度和最小寬度之差。
例如,蝕刻金屬板10的第一表面1S和第二表面2S,分別形成小表面孔V1和大表面孔V2。通孔TH可以由連接小表面孔V1和大表面孔V2的連接部CA形成。例如,可以通過使用蝕刻劑蝕刻金屬板10來形成通孔TH。
因此,通孔TH的內表面可能具有曲率。因此,通孔TH的寬度可以在從第一表面1S延伸到第二表面2S的過程中發生變化。
另外,圖案P可以通過蝕刻金屬板10的第一表面1S或第二表面2S來形成。例如,可以使用雷射形成圖案P。例如,可以通過沿第一表面1S或第二表面2S的方向照射雷射來形成圖案P。
因此,通孔TH內表面的角度可以大於圖案P內表面的角度。
參考圖5,圖案P可以通過穿透第一表面1S和第二表面2S而形成。具體來說,雷射沿第一表面1S或第二表面2S的方向照射並穿透金屬板10。因此,圖案P可以形成孔狀。也就是說,圖案P可以是在沉積遮罩100中形成的孔。
由於圖案P形成為孔狀,第一表面1S和第二表面2S的殘餘應力可被圖案P分散。
或者,參照圖6和圖7,可以通過部去除第一表面1S或第二表面2S來形成圖案P。具體來說,可以沿第一表面1S或第二表面2S的方向照射雷射,以部去除第一表面1S或第二表面2S。因此,圖案P可以形成凹槽形狀。也就是說,圖案P可以是在沉積遮罩100中形成的凹槽。
因此,圖案P的內表面可以是平面。因此,在從第一表面1S延伸到第二表面2S的過程中,圖案P的寬度變化可以很小。
由於圖案P以凹槽形狀形成,因此第一表面1S或第二表面2S的殘餘應力可被圖案P分散。此外,當圖案P形成在形成小表面孔V1的第一表面1S上時,可減少第一表面1S和第二表面2S上剩餘金屬量的差異。因此,可以防止沉積遮罩向一個方向彎曲。
圖案P的寬度W1可以具有設定尺寸。圖案P的寬度W1可以不同於小表面孔V1的寬度W2。例如,圖案P的寬度W1可以小於小表面孔W1的寬度W2。
或者,圖案P的寬度W1可以不同於大表面孔V2的寬度W3。例如,圖案P的寬度W1可以小於大表面孔V2的寬度W3。
這裡,圖案P的寬度W1指圖案P的寬度中的最大寬度,小表面孔V1的寬度W2指小表面孔V1的寬度中的最大寬度。大表面孔V2的寬度W3指大表面孔V2的寬度中的最大寬度。
或者,圖案P的寬度W1可以不同於圖案P與小表面孔V1在第一方向上的第一距離D1。例如,圖案P的寬度W1可以小於第一距離D1。
或者,圖案P的寬度W1可以不同於圖案P與大表面孔V2在第一方向上的第二距離D2。例如,圖案P的寬度W1可以小於第二距離D2。
例如,圖案P的寬度W1可以是0.005毫米(mm)至20毫米。此外,圖案P內表面的傾斜角度可以是60°或更大。
由於圖案P具有上述設定寬度,因此可提高沉積遮罩的沉積可靠性。具體來說,當圖案P的寬度較大時,圖案P與有效區域AA之間的距離可能會因加工過程中的誤差而非常小。或者,圖案P可以部形成在有效區域AA內。
因此,有機材料可能會穿過圖案P。因此,在根據本實施例的沉積遮罩中,可通過如上所述設置圖案的寬度來提高沉積遮罩的沉積可靠性。
根據本實施例的沉積遮罩通過圖案提高了沉積可靠性。
沉積遮罩由遮罩框架固定。此時,沉積遮罩在縱向被拉伸。因此,在沉積遮罩固定到遮罩框架後,沉積遮罩內部可能會殘留拉應力。由於殘餘應力,沉積遮罩表面的波浪度可能會增加。因此,沉積遮罩有效區域之間的間隔可能會改變。此外,設置在有效區域中的通孔之間的間隔可能會改變。
沉積遮罩可包括設置在沉積區域上的圖案。具體來說,圖案可以佈置在相鄰的有效區域之間。
沉積遮罩的殘餘應力可被圖案分散。因此,可減少沉積遮罩的波紋度。
因此,有效區域之間的間隔和有效區域內通孔之間的間隔的變化最小。因此,沉積遮罩具有更好的沉積可靠性。
此外,圖案和通孔由不同的製程形成。因此,圖案的形狀和尺寸可以通過各種方式形成。相應地,圖案的形狀和尺寸可以根據施加到沉積遮罩上的拉伸應力的大小以各種方式形成。因此,可根據沉積遮罩的尺寸和使用環境形成具有各種形狀和尺寸的圖案。因此,沉積遮罩可具有改進的沉積可靠性。
此外,在金屬板的厚度方向上,圖案的寬度差異可以很小。因此,可減少從沉積遮罩的第一表面和第二表面去除的金屬量的差異。因此,可以防止
沉積遮罩因第一表面和第二表面上的殘留金屬之間的差異而在一個方向上彎曲。
以下將參照圖8至圖20描述根據其他實施例的沉積遮罩的圖案的各種排列和形狀。在描述根據另一實施例的沉積遮罩時,將省略與根據上述實施例的沉積遮罩相同或類似的描述。。
參考圖8,沉積遮罩100可包括複數個圖案部。例如,沉積遮罩100可包括第一圖案部PA1和第二圖案部PA2。為方便說明,圖8僅顯示了第一圖案部PA1和第二圖案部PA2。但是,本實施例並不局限於此。沉積遮罩可包括三個或更多圖案部。
第一圖案部PA1可以包括複數個第一圖案P1。複數個第一圖案P1可在第二方向2D上間隔開。第二圖案部PA2可以包括複數個第二圖案P2。複數個第二圖案P2可在第二方向2D上間隔開。
第一圖案部PA1和第二圖案部PA2可以在第一方向1D上彼此間隔開。
根據另一個實施例的沉積遮罩100包括第一圖案部PA1和第二圖案部PA2。因此,可在第一非有效區域UA1的不同位置形成圖案。因此,沉積遮罩的波浪度減少。因此,可提高沉積遮罩的沉積可靠性。
參考圖9和圖10,沉積遮罩100可包括複數個圖案部。例如,沉積遮罩100可包括第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。為便於解釋,圖9和圖10僅顯示了第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。但是,本實施例並不局限於此。沉積遮罩可包括四個或更多圖案部。
第一圖案部PA1可以包括複數個第一圖案P1。複數個第一圖案P1可在第二方向2D上間隔開。第二圖案部PA2可包括複數個第二圖案P2。複數個第二圖案P2可在第二方向2D上間隔開。第三圖案部PA3可以包括複數個第三圖案P3。複數個第三圖案P3可在第二方向2D上間隔開。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3可以在第一方向1D上彼此間隔開。
請參閱圖9,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以佈置成人字形圖案。也就是說,第二圖案P2佈置在相鄰的第一圖案P1之間。另外,第三圖案P3佈置在相鄰的第二圖案P2之間。
或者,參照圖10,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以沿第一方向1D佈置。也就是說,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以在第一方向1D上相互面對。
另外,沉積遮罩100可以包括設置在非沉積區域NDA中的半蝕刻部HF。半蝕刻部HF可以通過部去除金屬板10的第一表面1S而形成。也就是說,半蝕刻部HF可以是在第一表面1S上形成的凹槽。
半蝕刻部HF可以分散非沉積區域NDA中的應力。因此,可減少非沉積區域NDA的波浪度。因此,當使用沉積遮罩100在沉積基板上沉積有機材料時,可防止在沉積遮罩和沉積基板之間形成間隙。
因此,可以防止小表面孔V1和沉積基板300之間的距離增加。因此,可以防止陰影效應導致的沉積品質下降。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案數量可以不同。具體來說,第一圖案P1、第二圖案P2和第三圖案P3的圖案數量可以不同。更詳細地說,第一圖案P1的數量可以大於第二圖案P2和第三圖案P3的數量。另外,第二圖案P2的數量可能大於第三圖案P3的數量。
因此,在從有效區域AA延伸到第一非有效區域UA1的中央部C的過程中,圖案的數量可能會減少。也就是說,在從有效區域AA延伸到第一非有效區域UA1的中央部C的過程中,由圖案形成的開口區域的面積可能會減少。
因此,在第一方向1D上從第一非有效區域UA1的外部向內部延伸時,圖案的數量和開口區域的面積可能會減少。另外,在第二方向2D上從第一非有效區域UA1的外部向內部延伸時,圖案的數量和開口區域的面積可能會增加。
在根據另一個實施例的沉積遮罩中,在第一方向1D上從第一非有效區域UA1的外部向內部延伸時,圖案的數量和開口區域的面積減少。因此,
有效區域附近區域的應力分散效果增強。因此,有效區域鄰近區域的波浪度減少。相應地,通孔的位置變化也會減少。
此外,在根據另一個實施例的沉積遮罩中,當第一非有效區域UA1在第二方向2D上從外向內延伸時,圖案的數量和開口區域的面積增加。相應地,沉積遮罩在第二方向上的外部和中央部的殘餘應力可同樣形成。
參考圖11和12,沉積遮罩100可包括複數個圖案部。例如,沉積遮罩100可包括第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。圖11和圖12中僅顯示了第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3,以便於解釋。但是,本實施例並不局限於此。沉積遮罩可包括四個或更多圖案部。
第一圖案部PA1可以包括複數個第一圖案P1。複數個第一圖案P1可以在第二方向2D上間隔開。第二圖案部PA2可以包括複數個第二圖案P2。複數個第二圖案P2可在第二方向2D上間隔開。第三圖案部PA3可以包括複數個第三圖案P3。複數個第三圖案P3可在第二方向2D上間隔開。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3可以在第一方向1D上彼此間隔開。
請參閱圖11,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以佈置成之字形圖案。也就是說,第二圖案P2佈置在相鄰的第一圖案P1之間。此外,第三圖案P3位於相鄰的第二圖案P2之間。
或者,參照圖12,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以佈置在第一方向1D上。也就是說,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以在第一方向1D上相互面對。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案數量可以不同。具體來說,第一圖案P1、第二圖案P2和第三圖案P3的圖案數量可以不同。更詳細地說,第一圖案P1的數量可能小於第二圖案P2和第三圖案P3的數量。另外,第二圖案P2的數量可能小於第三圖案P3的數量。
因此,在從有效區域AA延伸到第一非有效區域UA1的中央部C的過程中,圖案的數量可能會增加。也就是說,在從有效區域AA延伸到第一非
有效區域UA1的中央部C的過程中,由於圖案而形成的開口區域的面積可能會增加。
因此,在第一方向1D上從第一非有效區域UA1的外部向內部延伸時,圖案的數量和開口區域的面積可能會增加。另外,在第二方向2D上從第一非有效區域UA1的外側向內側延伸時,圖案的數量和開口區域的面積可能會增加。
在根據另一個實施例的沉積遮罩中,圖案的數量和開口區域的面積在第一方向1D上從第一非有效區域UA1的外部向內部延伸時增加。因此,第一非有效區域中央部的應力分散效果增強。因此,可以減少第一非有效區域的波紋度。因此,有效區域之間的間隔變化減少。
另外,在根據另一個實施例的沉積遮罩中,在第二方向2D上從第一非有效區域UA1的外側向內側延伸時,圖案的數量和開口區域的面積增加。相應地,沉積遮罩在第二方向上的外部和中央部的殘餘應力可同樣形成。
參考圖13和14,沉積遮罩100可包括複數個圖案部。例如,沉積遮罩100可包括第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。在圖13和圖14中,為了描述方便,僅顯示了第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。但是,本實施例並不局限於此。沉積遮罩可包括四個或更多圖案部。
第一圖案部PA1可以包括複數個第一圖案P1。複數個第一圖案P1可以在第二方向2D上間隔開。第二圖案部PA2可包括複數個第二圖案P2。複數個第二圖案P2可在第二方向2D上間隔開。第三圖案部PA3可以包括複數個第三圖案P3。複數個第三圖案P3可在第二方向2D上間隔開。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3可以在第一方向1D上彼此間隔開。
複數個有效區域AA中的至少一個有效區域AA可以在第一方向1D上限定兩個佈置在兩端的非有效區域。在兩個非有效區域的中心與有效區域相鄰的區域中,圖案部的數量可以不同。也就是說,沿第一方向1D設置在有效區域AA兩端的開口區域的面積可能不同。
參照圖13,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3可以佈置在與有效區域AA的第一端E1相鄰的區域中。此外,可以僅將第一圖案部PA1設置在有效區域AA的第二端E2的鄰近區域中。
或者,參照圖14,第一圖案部PA1和第二圖案部PA2可以佈置在有效區域AA的第一端E1的鄰近區域中。此外,圖案部可以不佈置在與有效區域AA的第二端E2相鄰的區域中。
與有效區域AA的端部相鄰的區域是有效區域AA與第一非有效區域UA1的中央部之間的區域。
因此,設置在有效區域AA第一端E1鄰近區域中的圖案數量不同於設置在有效區域AA第二端E2鄰近區域中的圖案數量。也就是說,設置在與有效區域AA的第一端E1相鄰的區域中的開口區域的面積可能不同於設置在與有效區域AA的第二端E2相鄰的區域中的開口區域的面積。
另外,設置在複數個第一非有效區域UA1中的圖案數量或開口區域的面積可能彼此不同。
參考圖13和14,第一非有效區域UA1可包括沿第一方向間隔開的1-1非有效區域UA1-1和1-2非有效區域UA1-2。也就是說,有效區域AA可以設置在1-1非有效區域UA1-1和1-2非有效區域UA1-2之間。具體來說,一個有效區域可佈置在1-1非有效區域UA1-1和1-2非有效區域UA1-2之間。
佈置在1-1非有效區域UA1-1中的圖案數量和佈置在1-2非有效區域UA1-2中的圖案數量可以不同。例如,佈置在1-1非有效區域UA1-1中的圖案數量可能多於佈置在1-2非有效區域UA1-2中的圖案數量。也就是說,1-1非有效區域UA1-1的開口區域面積可能大於佈置在1-2非有效區域UA1-2中的開口區域面積。
在根據另一個實施例的沉積遮罩中,設置在鄰近有效區域兩端的區域中的圖案數量和開口區域的面積可以不同。或者,設置在每個第一非有效區域中的圖案數量和開口區域的面積可以不同。
通孔、圖案和開口區域可形成於金屬板中。在金屬板上形成通孔、圖案和開口區域之前,可以執行壓延製程。這樣,金屬板的厚度就可以形成設定的厚度。
應力過程會在金屬板內部產生應力。此外,金屬板表面可能會因應力而形成波紋。
因此,在金屬板上形成通孔、圖案和開口區域之前,要測量金屬板的波紋分佈。隨後,在波紋大的區域和波紋小的區域形成的圖案數量可能不同。
例如,在具有較大波紋的區域會形成許多圖案。此外,在波紋較小的區域形成少量圖案。因此,可以減少沉積遮罩拉伸時產生的拉伸應力引起的波紋。
也就是說,在具有較大波紋的區域形成許多圖案,而在具有較小波紋的區域形成較少圖案。因此,波紋較小區域的開口區域面積相對減少,以分散拉伸應力。因此,在將沉積遮罩固定到遮罩框架上之後,可以防止由於金屬板的原材料特性而導致的波紋進一步增加。
參考圖15和圖16,有效區域AA的形狀可能不同。
具體而言,有效區域AA的寬度可以在沿一個方向延伸時改變。具體而言,複數個有效區域中至少一個有效區域的寬度可以改變。
例如,參照圖15,有效區域AA的寬度可在沿第一方向1D延伸時改變。
或者,參照圖16,有效區域AA的寬度可在沿第二方向2D延伸時發生變化。
也就是說,沉積遮罩100的有效區域AA可以形成各種形狀。相應地,沉積在沉積基板300上的圖案可以形成各種設計。
沉積遮罩100可包括複數個圖案P,圖案P的數量可在遠離有效區域AA的一端時發生變化。
例如,參照圖15,有效區域AA的寬度在從2-1端E2-1向1-1端E1-1延伸的過程中變窄。此外,圖案P的數量從2-1端E2-1向1-1端E1-1減少。
或者,參照圖16,有效區域AA的寬度在從2-2端E2-2向1-2端E1-2延伸時變窄。此外,圖案P的數量從2-2端E2-2向1-2端E1-2增加。
因此,在根據另一個實施例的沉積遮罩中,圖案可以根據有效區域AA的形狀進行不同的佈置。因此,即使有效區域AA的形狀發生變化,殘餘應力也可被圖案有效分散。因此,可減少沉積遮罩的波浪度。因此,可提高沉積遮罩的沉積可靠性。
參考圖17至20,根據另一個實施例的沉積遮罩100可以包括複數個圖案部。例如,沉積遮罩100可包括第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。在圖17至20中,為了描述方便,僅顯示了第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3。但是,本實施例並不局限於此。沉積遮罩可包括四個或更多圖案部。
第一圖案部PA1可以包括複數個第一圖案P1。複數個第一圖案P1可在第二方向2D上間隔開。第二圖案部PA2可以包括複數個第二圖案P2。複數個第二圖案P2可在第二方向2D上間隔開。第三圖案部PA3可以包括複數個第三圖案P3。複數個第三圖案P3可在第二方向2D上間隔開。
第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3可以在第一方向1D上彼此間隔開。
圖案的尺寸可在沿一個方向延伸時發生變化。詳細而言,圖案的尺寸可在沿第一方向1D延伸時改變。
參考圖17,第一圖案部PA1、第二圖案部PA2和第三圖案部PA3的圖案可以具有不同的尺寸。具體來說,第一圖案P1的尺寸可以大於第二圖案P2和第三圖案P3的尺寸。另外,第二圖案P2的尺寸可大於第三圖案P3的尺寸。
也就是說,在從有效區域的末端向第一非有效區域UA1的中央部C延伸的過程中,圖案的尺寸可以減少。
或者,參照圖18,第一圖案P1的尺寸可以小於第二圖案P2和第三圖案P3的尺寸。另外,第二圖案P2的尺寸也可以小於第三圖案P3的尺寸。
也就是說,圖案的尺寸可以在從有效區域的末端向第一非有效區域UA1的中央部C延伸的過程中增加。
或者,圖案的間隔可以在向一個方向延伸時變化。具體而言,圖案的間隔可在沿第一方向1D延伸時改變。
參考圖19,第一圖案P1和第二圖案P2之間的距離G1可以小於第二圖案P2和第三圖案P3之間的距離G2。
也就是說,在從有效區域的末端向第一非有效區域UA1的中央部C延伸的過程中,圖案的間隔可以增加。
或者,參照圖20,第一圖案P1和第二圖案P2之間的距離G1可以大於第二圖案P2和第三圖案P3之間的距離G2。
也就是說,在從有效區域的末端向第一非有效區域UA1的中央部C延伸的過程中,圖案之間的間隔可以減少。
此外,雖然圖中未示出,但圖案的尺寸和間隔都可能在沿第一方向1D延伸時發生變化。
在根據另一個實施例的沉積遮罩中,圖案的尺寸和間隔可以改變。
因此,可以在鄰近有效區域的區域形成許多圖案。或者,可以在遠離有效區域的區域形成許多圖案。
金屬板可能具有不同的物理特性,這取決於製程或原材料的特性。因此,殘餘應力可能集中在沉積遮罩的中心區域或外部區域。
因此,圖案的尺寸和間隔有多種佈置方式。因此,可根據金屬板的物理特性控制圖案的位置。因此,由沉積遮罩的張力引起的拉伸應力被有效分散。因此,可減少沉積遮罩的波浪度。所以,沉積遮罩的沉積可靠性得到改善。
參考圖21和22,圖案部可形成在有效區域AA以外的區域中。
參考圖21,圖案P可在非沉積區域NDA中形成。因此,圖案P可在開口部OA和有效區域AA之間形成。
因此,殘餘應力可以有效地分散在非沉積區域NDA中。此外,還可省略在非沉積區域NDA中形成單獨的半蝕刻部的製程。
參考圖22,圖案P可在第二非有效區域UA2中形成。也就是說,圖案P可以在有效區域AA和沉積遮罩100在第二方向上的一端之間形成。
相應地,圖案P也可以形成在沉積區域DA外部的區域中。
因此,殘餘應力可以有效地分散在沉積區域NDA以外的區域中。此外,還可以防止小表面孔V1與沉積基板300之間的距離增加。因此,可以防止由於陰影效應導致的沉積品質下降。
另外,雖然圖中未示出,但圖案P可以在非沉積區域NDA和第二非有效區域UA2中形成。
參考圖23,可在有效區域之間形成一個圖案P。
圖案P的面積可以小於第一非有效區域UA1的面積。具體來說,圖案P的面積可以是第一非有效區域UA1面積的90%或以下、80%或以下、70%或以下或60%或以下。例如,圖案P的面積可以是第一非有效區域UA1面積的50%至90%。
當圖案P的面積超過第一非有效區域UA1面積的90%時,圖案P的一個區域可能由於製程中的誤差而佈置在有效區域AA內。因此,沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。
此外,當圖案P的面積小於第一非有效區域UA1面積的50%時,殘餘應力可能無法通過圖案P有效地分佈在有效區域之間。因此,沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。
在上述實施例中描述的特徵、結構、效果等包括在本發明的至少一個實施例中,但不僅限於一個實施例。此外,本領域技術人員可將各實施例中說明的特徵、結構和效果組合或修改為其他實施例。因此,應理解這種組合和修改包括在本發明的範圍內。
此外,上文主要描述了本發明的實施例,但這些實施例僅僅是示例,並不限制本發明,本領域技術人員可以理解,在不脫離本發明實施例基本特徵的情況下,可以做出上文未介紹的幾種變化和應用。例如,本發明實施例中具
體表示的每個組件都可以有所變化。此外,應該理解的是,與這種變化和這種應用有關的差異包括在以下權利要求書所定義的本發明的範圍內。
1D:第一方向
1S:第一表面
2D:第二方向
2S:第二表面
10:金屬板
100:沉積遮罩
200:遮罩框架
205:開口
300:沉積基板
400:有機材料沉積容器
500:真空室
A-A’:區域
AA:有效區域
C:中央部
CA:連接部
D1:第一距離
D2:第二距離
DA:沉積區域
DP:沉積圖案
E1:第一端
E1-1:1-1端
E1-2:1-2端
E2:第二端
E2-1:2-1端
E2-2:2-2端
G1:距離
G2:距離
HF:半蝕刻部
NDA:非沉積區域
OA:開口部
P:圖案
P1:第一圖案
P2:第二圖案
P3:第三圖案
PA1:第一圖案部
PA2:第二圖案部
PA3:第三圖案部
TH:通孔
UA:非有效區域
UA1:第一非有效區域
UA1-1:1-1非有效區域
UA1-2:1-2非有效區域
UA2:第二非有效區域
V1:小表面孔
V2:大表面孔
W1:第一寬度
W2:第二寬度
W3:第三寬度
圖1是顯示根據實施例的沉積遮罩和框架的組合的視圖。
圖2是包括根據本實施例的沉積遮罩的有機材料沉積設備的剖面圖。
圖3是說明根據本實施例通過沉積遮罩的通孔在沉積基板上形成沉積圖案的視圖。
圖4是根據本發明實施例的沉積遮罩的平面圖。
圖5至圖7是沿圖4的A-A'區域拍攝的視圖。
圖8至圖23是根據其他實施例的沉積遮罩的平面圖。
100:沉積遮罩
200:遮罩框架
205:開口
Claims (10)
- 一種沉積遮罩,包括:一金屬板,包括一沉積區域和一非沉積區域,其中,該金屬板經界定具有一縱向的一第一方向,和一寬度方向的一第二方向,其中,該沉積區域包括複數個有效區域;以及一非有效區域,其中,該非有效區域包括該些有效區域之間的一第一非有效區域,其中,該複數個通孔設置在該有效區域中,其中,至少一個圖案設置在該第一非有效區域中,其中該些圖案和該通孔形成不同的形狀。
- 如請求項1所述之沉積遮罩,其中,該第一非有效區域包括一第一圖案部,其包括複數個第一圖案;以及一第二圖案部,其包括複數個第二圖案,其中,該第一圖案部和該第二圖案部在該第一方向上彼此間隔開。
- 如請求項1所述之沉積遮罩,其中,該第一非有效區域包括一第一圖案部,其包括複數個第一圖案;一第二圖案部,包括複數個第二圖案;以及一第三圖案部,包括複數個第三圖案,其中,該第一圖案部、該第二圖案部和該第三圖案部在該第一方向上彼此間隔開,其中該第一圖案部、該第二圖案部和該第三圖案部的該些圖案數量各不相同。
- 如請求項3所述之沉積遮罩,其中,該些圖案的數量在該第一方向上從該第一非有效區域的外部至內部延伸時減少;其中,該些圖案的該數量在該第二方向上從該第一非有效區域的外部至內部延伸時增加。
- 如請求項3所述之沉積遮罩,其中,該些圖案的該數量在該第一方向上從該第一非有效區域的外部向內部延伸時增加;其中,該些圖案的該數量在該第二方向上從該第一非有效區域的外部向內部延伸時增加。
- 如請求項1所述之沉積遮罩,其中,在該第一方向上的該有效區域的兩端處設置的該些圖案數量不同。
- 如請求項1所述之沉積遮罩,其中,該第一非有效區域包括在該第一方向間隔開的一1-1非有效區域和一1-2非有效區域,其間插設一個該有效區域,其中,設置在該1-1非有效區域中的一圖案數量與設置在該1-2非有效區域中的該些圖案數量不同。
- 如請求項1所述之沉積遮罩,其中,複數個該有效區域中至少一個該有效區域的一寬度在沿該第一方向或該第二方向延伸時變化。
- 如請求項1所述的沉積遮罩,其中,該第一非有效區域包括一第一圖案部,包括複數個一第一圖案;一第二圖案部,包括複數個一第二圖案;以及一第三圖案部,包括複數個一第三圖案,其中,該第一圖案部、該第二圖案部和該第三圖案部在該第一方向上彼此間隔開,其中,該第一圖案、該第二圖案和該第三圖案具有不同的尺寸。
- 如請求項9所述之沉積遮罩,其中,該些圖案的一尺寸在從該有效區域的一端向該第一非有效區域的一中央部延伸時可減少或增加。
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