TW202410510A - 用於ｏｌｅｄ像素沉積之沉積遮罩 - Google Patents

Abstract

一種沉積遮罩，包括：一金屬板，包括一沉積區和一非沉積區，其中，該沉積區包括至少一個有效區域，其中，該有效區域包括複數個單元通孔，其中，該複數個單元通孔包括形成在該金屬板的一第一表面上的一小表面孔；形成在該金屬板的一第二表面上的一大表面孔以及連接該小表面孔和該大表面孔的一連接部，其中，在該第一方向中相鄰的該些單元通孔之間設置有一肋條，其中，在該第二方向中相鄰的該些單元通孔之間設置有一島部，其中，該島部包括相互間隔的一第一島部和一第二島部，其中該第一島部與該肋條接觸，其中該第二島部與該肋條間隔開。

Description

用於OLED像素沉積之沉積遮罩

本發明涉及一種用於OLED像素沉積之沉積遮罩。

顯示設備應用於各種設備。例如，顯示設備應用於智慧手機或平板電腦等小型設備。或者，顯示設備應用於大尺寸設備，如電視、顯示器或公共顯示幕。最近，對每英寸500像素(PPI)或更高的超高清(UHD)的需求不斷增加。因此，具有高解析度的顯示設備正被應用於小型設備和大型設備。

顯示設備根據驅動方式分為液晶顯示器(LCD)和有機發光二極體(OLED)。

LCD是使用液晶驅動的顯示設備。此外，OLED是使用有機材料驅動的顯示設備。

OLED可以實現無限對比度，回應速度是LCD的1000倍，並且具有出色的視角。因此，有機發光二極體作為一種可以取代LCD的顯示設備備受關注。

OLED包括發光層。發光層包括有機材料。有機材料使用沉積遮罩沉積在基板上。沉積遮罩可包括開放遮罩(OM)或精細金屬遮罩(FMM)。基板上形成與沉積遮罩上形成的圖案相對應的沉積圖案。因此，沉積圖案可用作像素。

開放式遮罩是一種薄板，在製造OLED時僅在特定位置形成沉積圖案。開放式遮罩用於顯示器製造製程中背板完成後在其上形成發光層的沉積製程。也就是說，開放式遮罩是一種不覆蓋顯示器工作範圍內部的遮罩，以便沉積顯示器的整個表面。因此，在使用一種顏色的發光材料沉積發光層時，會使用開放式遮罩。

另一方面，精細金屬遮罩用於改變發光層子像素的顏色。因此，精細金屬遮罩包括超細孔。使用精細金屬遮罩的過程需要多步沉積製程。因此，該過程需要精確對準。因此，使用精細金屬遮罩的製程比使用開放式遮罩的製程更加困難。

使用開放式遮罩沉積OLED的發光層時，只能形成單色發光層。因此，需要單獨的彩色濾光片來實現各種顏色。另一方面，當使用精細金屬遮罩時，可形成RGB發光層。因此，不需要單獨的彩色濾光片。也就是說，使用精細金屬遮罩的技術難度較高。然而，與使用開放式遮罩的方法相比，由於不需要用於阻擋光線的濾光片，因此光效較好。

精細金屬遮罩通常由鎳鐵合金金屬板製成，包括鐵(Fe)和鎳(Ni)。通過金屬板的一個表面和另一個表面形成通孔。通孔形成在與像素圖案相對應的位置。因此，紅色、綠色和藍色有機材料可穿過金屬板的通孔並沉積在沉積基板上。因此，可在沉積基板上形成像素圖案。

同時，精細金屬遮罩包括在金屬板的一個表面上形成的小面孔和在金屬板的另一個表面上形成的大面孔。小面孔和大面孔通過連接部相連。這樣就形成了通孔。

有機材料沿精細金屬遮罩的方向噴射。有機材料以大表面孔為入口，小表面孔為出口沉積在沉積基板上。

精細金屬遮罩包括複數個通孔。因此，當複數個通孔的形狀或大小不一致時，遮罩的沉積可靠性可能會降低。

例如，由於通孔在長軸方向和短軸方向上的尺寸或形狀不同，沉積在沉積基板上的像素圖案可能會發生變化。因此，精細金屬遮罩的沉積可靠性可能會降低。

因此，需要一種具有能夠解決上述問題的新結構的沉積遮罩。

本實施例提供了一種用於OLED像素沉積的沉積遮罩，其沉積效率和剛性均有所提高。

一種沉積遮罩，包括；金屬板，包括沉積區域和非沉積區域，其中沉積區域包括至少一個有效區域；其中有效區域包括複數個單元通孔，其中單元通孔包括形成在金屬板的第一表面上的小表面孔；形成在金屬板的第二表面上的大表面孔；以及連接小表面孔和大表面孔的連接部，其中，在第一方向相鄰的單元通孔之間設置有肋條，在第二方向相鄰的單元通孔之間設置有島部，其中，島部包括相互間隔開的第一島部和第二島部，其中，第一島部與肋條接觸，第二島部與肋條間隔開。

根據一個實施例的沉積遮罩包括至少一個第二島部。

第二島部向連接部突出。單元通孔的形狀和尺寸由第二島部控制。

具體地說，第二島部減少了大表面孔內表面傾斜角的偏差和小表面孔高度的偏差。因此，通過第二島部，一個單元通孔沉積圖案的厚度變得均勻。

此外，由多個單元通孔沉積的沉積圖案的厚度偏差也會減少。

此外，多個單元通孔的尺寸和/或形狀的均勻性得到改善。因此，由多個單元通孔形成的沉積圖案的尺寸和/或形狀變得均勻。

因此，根據本實施例的沉積遮罩具有更好的沉積效率和沉積可靠性。

此外，大表面孔的內表面的傾斜角、大表面孔的內表面的曲率、大表面孔的高度和小表面孔的高度中的至少一個可以控制為不同區域的不同尺寸。

因此，在根據本發明實施例的沉積遮罩中，大表面孔和小表面孔的形狀或尺寸可以根據使用環境以各種方式進行調整。

因此，根據本發明實施例的沉積遮罩可以提高沉積效率。

1D:第一方向

1S:第一表面

2D:第二方向

2S:第二表面

10:金屬板

100:沉積遮罩

200:遮罩框架

205:開口

300:沉積基板

400:有機材料沉積容器

500:真空室

A-A’:區域

AA1:有效區域

AA2:有效區域

AA3:有效區域

B-B’:區域

C-C’:區域

CA:連接部

D-D’:區域

DA:沉積區域

DP:沉積圖案

E-E’:區域

ES:內表面

ES1:內表面

ES1-1 1-1:內表面

ES1-2 1-2:內表面

ES1-3 1-3:內表面

ES2:內表面

ES2-1 2-1:內表面

ES2-2 2-2:內表面

ES2-3 2-3:內表面

F-F’:區域

FA1:框架固定區域

FA2:框架固定區域

H:高度

H1-1 1-1:高度

H1-2 1-2:高度

H1-3 1-3:高度

H2-1 2-1:高度

H2-2 2-2:高度

H2-3 2-3:高度

HF1:半蝕刻部

HF2:半蝕刻部

IA1:分離區域

IA2:分離區域

IS:島部

IS1:第一島部

IS2:第二島部

IS2-1:島部

IS2-2:島部

IS2-3:島部

IS2-4:島部

IS3:第三島部

NDA:非沉積區域

RB:肋條

TH:通孔

UTH:單元通孔

UTH1:單元通孔

UTH2:單元通孔

V1:小表面孔

V2:大表面孔

W1:第一寬度

W2:第二寬度

θ1:第一傾斜角

θ2:第二傾斜角

θ3:第三傾斜角

圖1是顯示根據實施例的沉積遮罩和框架的組合的視圖。

圖2是包括根據本實施例的沉積遮罩的有機材料沉積裝置的剖面圖。

圖3是說明根據本實施例通過沉積遮罩的通孔在沉積基板上形成沉積圖案的視圖。

圖4是根據本實施例的沉積遮罩的平面圖。

圖5是根據本實施例的沉積遮罩的有效部的平面圖。

圖6是沿圖5的A-A'區域拍攝的截面圖。

圖7是沿圖5的B-B'區域拍攝的剖面圖。

圖8是沿圖5中C-C'區域拍攝的剖面圖。

圖9是根據本發明實施例的沉積遮罩的單元通孔的放大圖。

圖10和圖11是用於解釋根據本實施例的沉積遮罩的單元通孔的形狀的視圖。

圖12是沿圖5的D-D'區域拍攝的截面圖。

圖13是沿圖5的E-E'區域拍攝的截面圖。

圖14是沿圖5中F-F'區域拍攝的橫截面圖。

以下將參照附圖詳細描述本公開的實施例。然而，本公開的精神和範圍並不局限於所描述的部分實施例，可以以各種其他形式實現，並且在本公開的精神和範圍內，可以有選擇地組合和替換實施例中的一個或複數個要素。此外，除非另有明確的定義和描述，本公開的實施例中使用的術語(包括技術和科學術語)可解釋為與本公開所屬技術領域的普通技術人員通常理解的含義相同，並且諸如常用詞典中定義的術語可解釋為具有與其在相關技術背景下的含義一致的含義。

此外，本公開的實施例中使用的術語是用於描述本公開的實施例，並不用於限制本公開。在本說明書中，除非在短語中特別說明，否則單數形式也可包括複數形式，並且在"A(和)、B和C中的至少一個(或複數個)"中描述時，可包括A、B和C中可組合的所有組合中的至少一個。

此外，在描述本公開實施例的要素時，可以使用諸如第一、第二、A、B、(a)和(b)等術語。這些術語僅用於將組件與其他組件區分開來，術語並不限於組件的本質、順序或次序。

此外，當描述一個組件與另一個組件"連接"、"耦合"或"連通"時，不僅包括該元素與其他組件直接"連接"、"耦合"或"連通"，還包括該組件與其他組件之間由另一個元素"連接"、"耦合"或"連通"。

此外，當描述為在每個組件的"上(上方)"或"下(下方)"形成或佈置時，"上(上方)"或"下(下方)"不僅可以包括兩個組件直接相互連接時，還可以包括一個或複數個其他組件在兩個組件之間形成或佈置時。

此外，當表示為"上(上)"或"下(下)"時，不僅可以包括上方向，還可以包括基於一個組件的下方向。

以下將參照附圖描述根據一實施例的沉積遮罩。

下面描述的沉積遮罩是一種精細金屬遮罩，能夠通過在沉積基板上沉積紅色、綠色和藍色有機材料而在沉積基板上形成RGB像素圖案。此外，以下描述不適用於開放式遮罩。

圖1至圖3是用於解釋根據一實施例使用沉積遮罩100在沉積基板300上沉積有機材料的過程的視圖。

參考圖1和圖2，有機材料沉積設備包括沉積遮罩100、遮罩框架200、沉積基板300、有機材料沉積容器400和真空室500。

沉積遮罩100包括金屬。例如，沉積遮罩包括鐵(Fe)和鎳(Ni)。具體而言，沉積遮罩包括包括鐵(Fe)和鎳(Ni)的鎳鐵合金。

沉積遮罩100包括複數個通孔TH。通孔設置在有效區域中。通孔的設置與要在沉積基板上形成的像素圖案相對應。沉積遮罩100包括有效區域以外的非有效區域，有效區域包括沉積區域。

遮罩框架200包括開口205。複數個通孔佈置在與開口205相對應的區域上。因此，供應給有機材料沉積容器400的有機材料沉積在沉積基板 300上。沉積遮罩100放置並固定在遮罩框架200上。例如，用設定的拉力拉緊沉積遮罩100。此外，將沉積遮罩100焊接並固定在遮罩框架200上。

例如，焊接沉積遮罩100的非有效區域。因此，沉積遮罩100被固定在遮罩框架200上。然後，切割並移除凸出遮罩框架200的部分。

遮罩框架200包括具有高剛性的金屬。因此，可減少焊接過程中遮罩框架的變形。

沉積基板300是製造顯示設備時使用的基板。例如，在沉積基板300上形成OLED像素圖案。在沉積基板300上形成紅、綠、藍有機圖案，以形成三原色光的像素。也就是說，在沉積基板300上形成RGB圖案。

有機材料沉積容器400是一個坩堝。有機材料放置在坩堝內。有機材料沉積容器400在真空室500內移動。也就是說，有機材料沉積容器400在真空室500內沿一個方向移動。例如，有機材料沉積容器400在真空室500內沿沉積遮罩100的寬度方向移動。

向有機材料沉積容器400提供熱源和/或電流。結果，有機材料沉積在沉積基板300上。

參考圖3，沉積遮罩100包括金屬板10。金屬板包括第一表面1S和第二表面2S。第一表面1S和第二表面2S彼此相對。

第一表面1S包括一個小表面孔V1。第二表面2S包括一個大表面孔V2。例如，在第一表面1S和第二表面2S上分別形成複數個小表面孔V1和複數個大表面孔V2。

此外，沉積遮罩100還包括通孔TH。通孔TH由連接小表面孔V1和大表面孔V2之間邊界的連接部CA形成。

大表面孔V2的寬度大於小表面孔V1的寬度。小表面孔V1的寬度是在沉積遮罩100的第一表面1S上測量的。大表面孔V2的寬度是在沉積遮罩100的第二表面2S上測量的。

另外，連接部CA的寬度具有設定尺寸。具體來說，連接部CA的寬度可以是15μm(微米)至33μm。更詳細地說，連接部CA的寬度可以是19μm至33μm。更詳細地說，連接部CA的寬度可以是20μm至27μm。當連接部CA的寬度超過33μm時，很難實現500PPI或更高的解析度。此外，當連接部CA的寬度小於15μm時，在沉積過程中可能會出現缺陷。

小表面孔V1面向沉積基板300。小表面孔V1靠近沉積基板300放置。因此，小表面孔V1具有與沉積圖案DP相對應的形狀。

大表面孔V2面向有機材料沉積容器400。因此，從有機材料沉積容器400供出的有機材料可通過大表面孔V2以較寬的寬度容納。此外，可通過小表面孔V1在沉積基板300上快速形成精細圖案。

因此，由大表面孔V2容納的有機材料通過小表面孔V1沉積在沉積基板300上。相應地，在沉積基板300上形成紅色、綠色和藍色像素圖案中的任意一種。然後，重複上述過程。因此，紅色、綠色和藍色像素圖案全部形成在沉積基板300上。

圖4是根據本實施例的沉積遮罩100的平面圖。

參考圖4，沉積遮罩100包括沉積區域DA和非沉積區域NDA。

沉積區域DA是用於形成沉積圖案的區域。沉積區域DA包括圖案區域和非圖案區域。圖案區域是包括小表面孔V1、大表面孔V2、通孔TH和島部IS的區域。非圖案區域是不包括小表面孔V1、大表面孔V2、通孔TH和島部IS的區域。沉積區域DA可定義為在沉積遮罩100的縱向方向上從通孔或孔的初始起點到終點的區域。

另外，沉積區域DA包括複數個有效區域AA1、AA2和AA3。有效區域可形成複數個沉積圖案。詳細而言，圖案區域包括複數個有效區域AA1、AA2和AA3。

沉積區域DA包括複數個分離區域IA1和IA2。分離區域IA1和IA2設置在相鄰的有效區域之間。分離區域IA1和IA2是複數個有效區域之間的間隔區域。相鄰的有效區域可通過分隔區域IA1和IA2區分開來。此外，一個沉積遮罩100可支援複數個有效區域。

非沉積區域NDA是不參與沉積的區域。非沉積區域NDA包括框架固定區域FA1和FA2。框架固定區域FA1和FA2是將沉積遮罩100固定到遮罩框架200的區域。此外，非沉積區域NDA還可包括半蝕刻部HF1和HF2以及開放部。

半蝕刻部HF1和HF2可以分散沉積遮罩100張緊時產生的應力。

此外，開放部可分散沉積遮罩100受張力時產生的應力。因此，可減少沉積遮罩的變形。

如上所述，沉積遮罩100包括通孔。通孔是有機材料移動的通道。

通孔由一個小面孔、一個大面孔和一個連接部形成。金屬板包括複數個通孔，詳細而言，有效區域包括複數個通孔。

當一個通孔內的內表面角度、高度或小表面孔在長軸方向和短軸方向上的尺寸不一致時，通過通孔移動的沉積材料量可能會發生變化。此外，沉積遮罩與沉積基板之間的距離也可能出現差異。因此，沉積圖案的厚度可能不均勻。

此外，當多個通孔的形狀和/或尺寸不均勻時，沉積在沉積基板上的沉積圖案的尺寸或形狀偏差可能會增大。因此，沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。

下面將介紹能夠解決上述問題的沉積遮罩。

根據本實施例的沉積遮罩將參照圖5至圖14進行描述。

參考圖5至圖14，沉積遮罩100包括複數個通孔。詳細而言，沉積遮罩100包括複數個單元通孔UTH。單元通孔UTH由小表面孔V1、大表面孔V2和連接部CA形成。

單元通孔UTH包括沿第一方向1D的第一寬度W1和沿第二方向2D的第二寬度W2。第一方向1D和第二方向2D可以是沉積遮罩100的縱向或寬度方向。例如，第一方向1D可以是沉積遮罩100的縱向。同時，第二方向2D可以是沉積遮罩100的寬度方向。此外，寬度的大小定義為大表面孔V2的寬度大小。

第一寬度W1和第二寬度W2不同。例如，第一寬度W1大於第二寬度W2。因此，單元通孔UTH在第一方向上具有長寬度，在第二方向上具有短寬度。

然而，本實施例並不限於此。第一寬度和第二寬度可以相同或相近。

肋條RB設置在第一方向1D上相鄰的複數個單元通孔UTH之間。肋條RB為金屬板10部分蝕刻的區域。此外，島部IS為金屬板10未蝕刻的區域。

參考圖6至圖8，島部IS是金屬板的一個表面未被蝕刻的表面。此外，肋條RB是金屬板10部分蝕刻時兩個表面相交的側面或表面區域。例如，肋條RB可以是通孔內表面ES相交的側面或表面。肋條RB的縱向可沿第二方向延伸。

肋RB設置在第一方向1D上相鄰的單元通孔UTH之間。此外，島部IS設置在第二方向2D上相鄰的單元通孔UTH之間。

島部IS包括第一島部IS1、第二島部IS2和第三島部IS3。第一島部IS1、第二島部IS2和第三島部IS3相連。

參考圖5至圖8，第一島部IS1和第二島部IS2彼此間隔開。此外，第三島部IS3與第一島部IS1和第二島部IS2相連。因此，第一島部IS1和第二島部IS2由第三島部IS3連接。也就是說，第一島部IS1和第二島部IS2互不接觸。但是，第一島部IS1和第二島部IS2由第三島部IS3連接。

第一島部IS1設置在相鄰的單元通孔UTH1和UTH2之間。詳細而言，第一島部IS1設置在第一方向1D上彼此相鄰的單元通孔UTH之間。第一島部IS1與肋條RB相連。例如，肋條RB連接相鄰的第一島部IS1。因此，第一島部IS1的一端在第二方向2D上與第三島部IS3相連。同時，第一島部IS1的另一端與肋條RB連接。

第二島部IS2沿單元通孔UTH的連接部CA的方向突出。具體地說，第二島部IS2沿第二方向2D從第三島部IS3突出。第二島部IS2與肋條RB相隔一定距離。也就是說，第二島部IS2與肋條RB不接觸。第二島部IS2與第三島部IS3相連。第二島部IS2包括至少一個島部。例如，第二島部IS2包括多個島部。

第二島部IS連接到通孔的內表面ES。因此，第二島部IS2的一端在第二方向2D上與第三島部IS3連接。另外，第二島部IS2的另一端與通孔的內表面ES連接。

第三島部IS3設置在相鄰的單元通孔UTH之間。詳細而言，第三島部IS3設置在第二方向2D上彼此相鄰的單元通孔UTH之間。第三島部IS3與肋條RB相隔一定距離。也就是說，第三島部IS3不與肋條RB接觸。第三島部IS3與第一島部IS1和第二島部I3相連。具體來說，第三島部IS3的一端在 第二方向2D上與第一島部IS1和第二島部IS2連接。另外，第三島部IS3的另一端與第一島部IS1和第二島部IS2連接。

參見圖9，單元通孔UTH1和UTH2被劃分為多個區域。詳細而言，單元通孔UTH1和UTH2被第二島部IS2劃分為多個區域。

例如，單元通孔UTH1和UTH2包括第一區域1A、第二區域2A和第三區域3A。也就是說，第二島部IS2包括多個第二島部。因此，單元通孔UTH1和UTH2被劃分為多個區域。

圖中顯示，第二島部IS2包括2-1島部IS2-1、2-2島部IS2-2、2-3島部IS2-3和2-4島部IS2-4。此外，圖中顯示單元通孔UTH1和UTH2包括第一區域1A、第二區域2A和第三區域3A。然而，本實施例並不局限於此。第二島部可以包括少於四個或多於四個的第二島部。另外，單元通孔UTH1和UTH2的區域數量也可以不同。

第一區域1A佈置在單元通孔UTH1和UTH2的中心區域。此外，第三區域3A佈置在單元通孔UTH1和UTH2的外部區域。另外，第二區域2A位於第一區域1A和第三區域3A之間。因此，兩個第二區域2A在第一方向1D上與第一區域1A相鄰。此外，兩個第三區域3A在第一方向1D上與第二區域2A相鄰。

通過第二島部IS2，單元通孔各區域的尺寸變得均勻。同時，通過第二島部IS2減小了多個單元通孔的偏差。另外，多個單元通孔的形狀也變得一致。

詳細地說，第二島部IS2減小了第一至第三區域中大表面孔內表面的傾斜角偏差和小表面孔高度的偏差。

圖10和圖11是用於解釋大表面孔的內表面傾斜角偏差和小表面孔的高度偏差的視圖，由於第二島部的存在，這兩種偏差是不同的。

參考圖10，當不包括第二島部時，單元通孔的中心區域的蝕刻量相對大於週邊區域。

具體而言，大表面孔V2的內表面ES2在每個區域的蝕刻程度不同。具體來說，在形成通孔時，蝕刻液可能會向中心區域而非外部區域集中。因此，中心區域的蝕刻量可能大於外部區域的蝕刻量。

因此，在單元通孔的中心區域，大表面孔的內表面ES2的傾斜角增大，而小表面孔的內表面ES1的高度H減小。因此，大表面孔的內表面的傾斜角偏差和小表面孔的內表面的高度偏差在通孔的中心區域和外部區域之間增大。

因此，在最終製造的單元通孔的中心區域和外部區域之間，傾斜角和高度的偏差增大。當為了將小表面孔的高度控制在6μm或以下而將外部區域控制在6μm或以下時，中心區域中的小表面孔的高度接近0，相應地，沉積在沉積基板上的沉積圖案和沉積遮罩中殘留的沉積材料可以連接起來。因此，當去除沉積遮罩時，沉積圖案可以去膜。另一方面，當中心區域的小表面孔的高度控制在6μm或以下時，外部區域的形成高度為10μm或以上。因此，沉積圖案可能不會沉積在與外部區域相對應的沉積基板上。

例如，大量沉積材料可進入中心區域，少量沉積材料可進入外部區域。此外，在中心區域，沉積遮罩和沉積基板之間的距離可能較短，而在外部區域，沉積遮罩和沉積基板之間的距離可能較長。因此，由單元通孔的中心區域和外部區域形成的沉積圖案的厚度偏差會增大。因此，沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。

此外，由多個單元通孔形成的沉積圖案的厚度偏差可能會增加。而且，沉積圖案的形狀和/或尺寸可能變得不均勻。因此，沉積遮罩的沉積可靠性可能會降低。

另一方面，參照圖11，當包括第二島部IS2時，單元通孔的偏差可能會減小。另外，多個單元通孔形成的沉積圖案的形狀和/或尺寸也可以變得均勻。

詳細地說，大表面孔V2的內表面ES2和小表面孔V1的內表面ES1可被第二島部IS2劃分為多個區域。

單元通孔可以通過單獨蝕刻多個區域而不是一次性蝕刻所有區域來形成。因此，在單元通孔的每個區域中，大表面孔V2的內表面ES2的傾斜角偏差都會減小。此外，小表面孔V1的內表面ES1的高度偏差也會減小。

相應地，單元通孔的多個區域中的大表面孔V2的內表面ES2的傾斜角的偏差減小，小表面孔V1的內表面ES1的高度H的偏差減小。

優選地，單元通孔的多個區域中的大表面孔V2的內表面ES2的傾斜角的偏差可以是20°或更小、10°或更小、5°或更小、2°或更小。此外，小表面孔V1和/或大表面孔V2的內表面ES的高度H的偏差可以是5μm或以下、4μm或以下、3μm或以下、2μm或以下或1μm或以下。

因此，大表面孔V2的內表面ES2的傾斜角偏差和小表面孔V1的內表面ES1的高度偏差在最終製造的單元通孔的中央和外部區域都會減小。因此，當單元通孔形成沉積圖案時，單元通孔中心區域和外部區域之間的厚度偏差會減小。因此，可提高沉積遮罩的沉積可靠性。

此外，由多個單元通孔形成的沉積圖案的厚度偏差也會減小。而且，沉積圖案的形狀和/或尺寸變得均勻。因此，可提高沉積遮罩的沉積可靠性。

同時，在沉積遮罩100中，單元通孔內表面的形狀和尺寸可以通過第二島部以各種方式形成。具體而言，在沉積遮罩100中，小表面孔V1的內表面高度和大表面孔V2的內表面傾斜角可以形成為各區域的各種尺寸。

圖12至圖14是單元通孔的第一至第三區域的截面圖。第一區域是基於第一方向的單元通孔的中心區域。第三區域是單元通孔的外部區域。第二區域是第一區域和第三區域之間的區域。

參考圖12至14，大表面孔的第一區域1A包括第一方向1D上的2-1內表面ES2-1。此外，小表面孔的第一區域1A包括第一方向1D上的1-1內表面ES1-1。

此外，2-1內表面ES2-1具有曲率。此外，2-1內表面ES2-1具有第一傾斜角θ1。此外，第一區域1A的大表面孔具有2-1高度H2-1。此外，第一區域1A的小表面孔具有1-1高度H1-1。

大表面孔的第二區域2A在第一方向1D上包括一個2-2內表面ES2-2。此外，小表面孔的第二區域2A包括第一方向1D上的1-2內表面ES1-2。

此外，2-2內表面ES2-2具有曲率。此外，2-2內表面ES2-2具有第二傾斜角θ2。此外，第二區域2A的大表面孔具有2-2高度H2-2。此外，第二區域2A的小表面孔具有1-2高度H1-2。

大表面孔的第三區域3A包括第一方向1D上的2-3個內表面ES2-3。此外，小表面孔的第三區域3A包括第一方向1D上的1-3個內表面ES1-3。

此外，2-3內表面ES2-3具有曲率。另外，2-3內表面ES2-3具有第三傾斜角θ3。另外，第三區域3A的大表面孔具有2-3高度H2-3。此外，第三區域3A的小表面孔具有1-3高度H1-3。

可以定義連接部CA的一端和大表面孔V2的一端的虛擬線。大表面孔V2的傾斜角是虛擬線與連接部CA的延長線形成的銳角。此外，大表面孔的高度是從連接部CA到島部IS3的垂直高度。此外，小表面孔的高度V1是連接部CA到第一表面的垂直高度。此外，曲率定義為曲率半徑(um)的倒數。

2-1內表面ES2-1、2-2內表面ES2-2和2-3內表面ES2-3可以具有不同的傾斜角。此外，2-1內表面ES2-1、2-2內表面ES2-2和2-3內表面ES2-3可具有不同的曲率。此外，1-1內表面ES1-1、1-2內表面ES1-2和1-3內表面ES1-3可以具有不同的高度。

參考圖12至14，第三傾斜角θ3可以大於第一傾斜角θ1和第二傾斜角θ2。此外，第二傾斜角θ2可能大於第一傾斜角θ1。因此，大表面孔內表面的傾斜角在從外側區域向中心區域延伸的過程中可能會減小。

此外，2-3內表面ES2-3的曲率可以大於2-1內表面ES2-1的曲率和2-2內表面ES2-2的曲率。此外，2-2內表面ES2-2的曲率可能大於2-1內表面ES2-1的曲率。因此，大表面孔的內表面的曲率在從外側區域向中央區域延伸時可能會減小。

此外，1-1內表面ES1-1的高度可大於1-2內表面ES1-2和1-3內表面ES1-3的高度。而且，1-2內表面ES1-2的高度可能大於1-3內表面ES1-3的高度。因此，小表面孔的內表面的高度可在從外部區域向中央區域延伸的過程中增加。

然而，本實施例並不局限於此。也就是說，大表面孔的內表面的傾斜角、曲率和高度以及小表面孔的高度可以根據區域的不同以各種方式形成。

例如，第一傾斜角θ1可以大於第二傾斜角θ2和第三傾斜角θ3。此外，第二傾斜角θ2可能大於第三傾斜角θ3。因此，大表面孔內表面的傾斜角可在從外側區域向中央區域延伸的過程中增大。

此外，2-1內表面ES2-1的曲率可大於2-2內表面ES2-2的曲率和2-3內表面ES2-3的曲率。另外，2-2內表面ES2-2的曲率可能大於2-3內表面ES2-3的曲率。因此，大表面孔內表面的曲率在從外側區域向中心區域延伸時可能會增大。

另外，1-3內表面ES1-3的高度可以大於1-1內表面ES1-1的高度和1-2內表面ES1-2的高度。另外，1-2內表面ES1-2的高度可大於1-1內表面ES1-1的高度。相應地，小表面孔的內表面的高度可在從外部區域向中央區域延伸的過程中降低。

或者，第二傾斜角θ2可以大於第一傾斜角θ1和第三傾斜角θ3。此外，第一傾斜角θ1和第三傾斜角θ3也可以相同。或者，第一傾斜角θ1和第三傾斜角θ3可以不同。例如，第一傾斜角θ1可以大於第三傾斜角θ3。或者，第三傾斜角θ3可以大於第一傾斜角θ1。因此，大表面孔內表面的傾斜角可以在從中心區域向外部區域延伸的過程中增大，然後減小。

此外，2-2內表面ES2-2的曲率可能大於2-1內表面ES2-1的曲率和2-3內表面ES2-3的曲率。另外，2-1內表面ES1和2-3內表面ES2-3的曲率也可以相同。或者，2-1內表面ES2-1和2-3內表面ES2-3的曲率可以不同。例如，2-1內表面ES2-1的曲率可以大於2-3內表面ES2-3的曲率。或者，2-3內表面ES2-3的曲率可能大於2-1內表面ES2-1的曲率。因此，大表面孔內表面的曲率在從中心區域向外側區域延伸的過程中可能會先增大後減小。

或者，1-2內表面ES1-2的高度可以小於1-1內表面ES1-1的高度和1-3內表面ES1-3的高度。另外，1-1內表面ES1-1的高度和1-3內表面ES1-3的高度也可以相同。或者，1-1內表面ES1-1的高度和1-3內表面ES1-3的高度可以不同。例如，1-1內表面ES1-1的高度可以大於1-3內表面ES1-3的高度。或者，1-3內表面ES1-3的高度可以大於1-1內表面ES1-1的高度。因此，小表面孔內表面的高度可以在從中心區域向外部區域延伸的過程中增加，然後降低。

在沒有第二島部的情況下，大表面孔的內表面的形狀通過蝕刻製程形成為傾斜角減小，曲率增大，同時從中心區域向外部區域延伸。此外，小表面孔的形狀形成為高度增加，同時從中心區域向外部區域延伸。

然而，在根據本實施例的沉積遮罩中，大表面孔的內表面的蝕刻程度可由第二島部對每個區域進行控制。因此，如上所述，可改變大表面孔內表面的傾斜角和曲率以及小表面孔的高度。

因此，根據大表面孔和小表面孔基於第一方向的位置，可以以各種方式形成內表面的傾斜角、內表面的曲率、大表面孔的高度和小表面孔的高度。

相應地，大表面孔的形狀、大表面孔的尺寸和小表面孔的尺寸中的至少一種可根據沉積遮罩的使用環境形成各種尺寸或形狀。

例如，有必要調整大表面孔內表面的傾斜角度，以減小小表面孔的高度偏差。在這種情況下，由於中央區域的小表面孔的高度與外部區域的高度相比過低，沉積圖案可能會去膜。在這種情況下，通過將中心區域大表面孔的角度變小，可以增加中心區域小表面孔的高度。此外，根據有機材料沉積設備的條件，少量沉積材料會沉積在單元通孔的外部區域，因此沉積圖案的光效率可能較低。在這種情況下，可以增大單元通孔外部區域中大表面孔的角度或降低小表面孔的高度。因此，可以通過增加沉積在外部區域的沉積圖案的厚度來提高沉積圖案的光效。因此，沉積遮罩具有更高的沉積效率。此外，與單元通孔相對應的單元沉積區域的沉積可靠性也可得到改善。

根據本實施例的沉積遮罩包括多個第二島部。

第二島部向連接部突出。單元通孔的形狀和尺寸由第二島部控制。也就是說，單元通孔的形狀可以通過第二島部對每個區域進行統一。此外，單元通孔的多個區域的大表面孔內表面的傾斜角偏差和小表面孔的高度偏差可通過第二島部減小。此外，多個單元通孔的形狀和尺寸可以是統一的。

因此，單元通孔形成的沉積圖案的厚度均勻性可以得到改善。此外，通過多個單元通孔形成的沉積圖案的厚度和形狀變得均勻。

因此，根據本實施例的沉積遮罩具有更好的沉積效率和沉積可靠性。

本發明的至少一個實施例中包括上述實施例中描述的特徵、結構、效果等，但並不僅限於一個實施例。此外，本領域技術人員可以將各實施例中說明的特徵、結構和效果組合或修改為其他實施例。因此，應理解這種組合和修改包括在本發明的範圍內。

此外，上文主要描述了本發明的實施例，但這些實施例僅僅是示例，並不限制本發明，本領域技術人員可以理解，在不脫離本發明實施例基本特徵的情況下，可以做出上文未介紹的若干變化和應用。例如，本發明實施例中具體表示的每個組件都可以變化。此外，應當理解的是，與這種變化和這種應用有關的差異包括在以下權利要求書所定義的本發明的範圍內。

100:沉積遮罩

200:遮罩框架

205:開口

Claims (10)

1. 一種沉積遮罩，包括：

   一金屬板，包括一沉積區和一非沉積區，

   其中，該沉積區包括至少一個有效區域，

   其中，該有效區域包括複數個單元通孔，

   其中，該複數個單元通孔包括形成在該金屬板的一第一表面上的一小表面孔；形成在該金屬板的一第二表面上的一大表面孔以及連接該小表面孔和該大表面孔的一連接部，

   其中，在該第一方向中相鄰的該些單元通孔之間設置有一肋條，

   其中，在該第二方向中相鄰的該些單元通孔之間設置有一島部，

   其中，該島部包括相互間隔的一第一島部和一第二島部，

   其中該第一島部與該肋條接觸，

   其中該第二島部與該肋條間隔開。
2. 如請求項1所述的沉積遮罩，進一步包括與該第一島部和該第二島部相連的一第三島部，

   其中，該第三島部在該第一方向上延伸。
3. 如請求項2所述之沉積遮罩，其中，該第二島部從該第三島部突出且朝向該連結部。
4. 如請求項1所述的沉積遮罩，其中，該第一島部的一端與該第三島部相連，另一端與該肋條相連；

   其中，該第二島部的一端與該第三島部連接，另一端與該單元通孔的該內表面連接。
5. 如請求項1所述的沉積遮罩，其中，該第二島部包括複數個島部。
6. 如請求項1所述的沉積遮罩，其中，該大表面孔的一內表面包括一第一區域、一第二區域和被該第二島部分割的一第三區域，

   其中，該第一區域設置在該大表面孔的該內表面的一中心區域，

   其中，該第三區域設置在該大表面孔的該內表面的一外側區域，

   其中，該第二區域位於該第一區域和該第三區域之間。
7. 如請求項6所述的沉積遮罩，其中，該第一區域、該第二區域和該第三區域的該些大表面孔的該些內表面的傾斜角度不同。
8. 如請求項6所述的沉積遮罩，其中，該第一區域、該第二區域和該第三區域的該些大表面孔的該些內表面的曲率不同。
9. 如請求項6所述的沉積遮罩，其中，該第一區域、該第二區域和該第三區域的該些大表面孔的高度不同。
10. 如請求項6所述之沉積遮罩，其中，該第一區域、該第二區域和該第三區域的該些小表面孔的高度不同。

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