JPH06263691A - ヒドロターフェニル化合物および液晶組成物 - Google Patents
ヒドロターフェニル化合物および液晶組成物Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 式I
R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I)
(式中R1はアルキルであり、R2はH,F,Cl,B
r,I,OH,CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はHアル
キル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph−
O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであり、
Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてPhは
1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1〜1
0個の炭素原子を含有する)で示されるヒドロタ−フェ
ニル化合物を含有する新規な液晶誘電体組成物を提供す
る。 【効果】 これらの化合物は液晶誘電体組成物の成分と
して、特に広いネマチック範囲および低い粘度を有する
ネマチック相用組成物に適している。
r,I,OH,CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はHアル
キル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph−
O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであり、
Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてPhは
1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1〜1
0個の炭素原子を含有する)で示されるヒドロタ−フェ
ニル化合物を含有する新規な液晶誘電体組成物を提供す
る。 【効果】 これらの化合物は液晶誘電体組成物の成分と
して、特に広いネマチック範囲および低い粘度を有する
ネマチック相用組成物に適している。
Description
【0001】本発明は、式I R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I) (式中R1はアルキルであり、R2はH、F、Cl、B
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はHアル
キル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph−
O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであり、
Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてPhは
1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1〜1
0個の炭素原子を含有する)で示されるヒドロターフェ
ニル化合物を含有する新規な液晶誘電体組成物を提供す
るものである。
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はHアル
キル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph−
O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであり、
Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてPhは
1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1〜1
0個の炭素原子を含有する)で示されるヒドロターフェ
ニル化合物を含有する新規な液晶誘電体組成物を提供す
るものである。
【0002】本発明は液晶誘電体組成物の成分として、
特に広いネマチック範囲および低い粘度を有するネマチ
ック相用組成物に適した化合物を使用することにより優
れた液晶組成物を提供せんとするものである。
特に広いネマチック範囲および低い粘度を有するネマチ
ック相用組成物に適した化合物を使用することにより優
れた液晶組成物を提供せんとするものである。
【0003】本発明者らは、式Iの化合物が液晶誘電体
の成分として顕著に適するものであることを見出した。
特に、これらの化合物を用いて、広いネマチック範囲お
よび低い粘度を有する安定な液晶相を提供することがで
きる。
の成分として顕著に適するものであることを見出した。
特に、これらの化合物を用いて、広いネマチック範囲お
よび低い粘度を有する安定な液晶相を提供することがで
きる。
【0004】さらにまた、式1の化合物と後記の式HI
II化合物により、種々の技術的観点から、優れた液晶
組成物が提供される。
II化合物により、種々の技術的観点から、優れた液晶
組成物が提供される。
【0005】式Iの化合物は広い用途分野を有し、これ
らの化合物において置換基を選択することにより、液晶
誘電体を構成する基材の主要成分として使用することが
できる。
らの化合物において置換基を選択することにより、液晶
誘電体を構成する基材の主要成分として使用することが
できる。
【0006】式Iの化合物は純粋な状態で無色であり、
電気光学用途に好ましい温度範囲で液晶メゾフェースを
形成する。これらの化合物は化学的に非常に安定であ
る。
電気光学用途に好ましい温度範囲で液晶メゾフェースを
形成する。これらの化合物は化学的に非常に安定であ
る。
【0007】本発明により、少なくとも2種の液晶成分
を含有する電気光学表示素子用の液晶誘電体であって、
少なくともI種の成分が式I R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I) (式中R1はアルキルであり、R2はH、F、Cl、B
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はH、ア
ルキル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph
−O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであ
り、Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてP
hは1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1
〜10個の炭素原子を含有する)で示される化合物であ
り、少なくとも1種の成分が式III R6−A−G−E−R7 (III) (式中、AおよびEはそれぞれ、1,4−ジ置換ベンゼ
ンおよびシクロヘキサン環、4,4′−ジ置換ビフェニ
ル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルクロ
ヘキサン系、2,5−ジ置換ピリミジンおよび1,3−
ジオキサン環、2,6−ジ置換ナフタレン、ジ−および
テトラ−ヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンを含む群からの炭素環式または複素環式
環であり、Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−C
=C−、−CO−O−、−CO−S−、−CH=N−、
−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2−C
H2−、CH2−O−、−CH2−S−、−COO−P
h−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロゲ
ン、好ましくは塩素、または−CNであり、そしてR6
およびR7は18個まで、好ましくは8個までの炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシ
またはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはこ
れらの基の1方はまた、CN、NC、NO2、CF3、
F、ClまたはBrである)で示される化合物であるこ
とを特徴とする電気光学表示素子用液晶組成物が提供さ
れる。
を含有する電気光学表示素子用の液晶誘電体であって、
少なくともI種の成分が式I R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I) (式中R1はアルキルであり、R2はH、F、Cl、B
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はH、ア
ルキル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph
−O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであ
り、Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてP
hは1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1
〜10個の炭素原子を含有する)で示される化合物であ
り、少なくとも1種の成分が式III R6−A−G−E−R7 (III) (式中、AおよびEはそれぞれ、1,4−ジ置換ベンゼ
ンおよびシクロヘキサン環、4,4′−ジ置換ビフェニ
ル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルクロ
ヘキサン系、2,5−ジ置換ピリミジンおよび1,3−
ジオキサン環、2,6−ジ置換ナフタレン、ジ−および
テトラ−ヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンを含む群からの炭素環式または複素環式
環であり、Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−C
=C−、−CO−O−、−CO−S−、−CH=N−、
−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2−C
H2−、CH2−O−、−CH2−S−、−COO−P
h−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロゲ
ン、好ましくは塩素、または−CNであり、そしてR6
およびR7は18個まで、好ましくは8個までの炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシ
またはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはこ
れらの基の1方はまた、CN、NC、NO2、CF3、
F、ClまたはBrである)で示される化合物であるこ
とを特徴とする電気光学表示素子用液晶組成物が提供さ
れる。
【0008】本発明に係る誘電体組成物はその少なくと
も1種の成分が式1の化合物であることを特徴とする。
この式1の化合物は、好ましくは2〜15種が含有され
る。その他の構成成分はネマチックまたはネマトゲニッ
ク物質、特に既知物質であるアゾキシベンゼン化合物、
ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、ター
フェニル化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ベ
ンゾエート化合物、フェニルまたはシクロヘキシルシク
ロヘキサン−カルボキシレート化合物、フェニルシクロ
ヘキサン化合物、シクロヘキシルビフェニル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルナ
フタレン化合物、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼ
ン化合物、4,4′−ビス−シクロヘキシルビフェニル
化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン
化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン
化合物、場合によりハロゲン化したスチルベン化合物、
ベンジルフェニルエーテル化合物、トラン化合物および
置換ケイ皮酸化合物の群から選択すると好ましい。
も1種の成分が式1の化合物であることを特徴とする。
この式1の化合物は、好ましくは2〜15種が含有され
る。その他の構成成分はネマチックまたはネマトゲニッ
ク物質、特に既知物質であるアゾキシベンゼン化合物、
ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、ター
フェニル化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ベ
ンゾエート化合物、フェニルまたはシクロヘキシルシク
ロヘキサン−カルボキシレート化合物、フェニルシクロ
ヘキサン化合物、シクロヘキシルビフェニル化合物、シ
クロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキシルナ
フタレン化合物、1,4−ビス−シクロヘキシルベンゼ
ン化合物、4,4′−ビス−シクロヘキシルビフェニル
化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ピリミジン
化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ジオキサン
化合物、場合によりハロゲン化したスチルベン化合物、
ベンジルフェニルエーテル化合物、トラン化合物および
置換ケイ皮酸化合物の群から選択すると好ましい。
【0009】本発明に係る液晶誘電体組成物の他の構成
成分として使用できる最も重要な化合物は式III R6−A−G−E−R7 (III) (式中、AおよびEはそれぞれ、1,4−ジ置換ベンゼ
ンおよびシクロヘキサン環、4,4′−ジ置換ビフェニ
ル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルクロ
ヘキサン系、2,5−ジ置換ピリミジンおよび1,3−
ジオキサン環、2,6−ジ置換ナフタレン、ジ−および
テトラ−ヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンを含む群からの炭素環式または複素環式
環であり、Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−C
≡C−、−CO−O−、−CO−S−、−CH=N−、
−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2−C
H2−、CH2−O−、−CH2−S−、−COO−P
h−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロゲ
ン、好ましくは塩素、または−CNであり、そしてR6
およびR7は18個まで、好ましくは8個までの炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシ
またはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはこ
れらの基の1方はまた、CN、NC、NO2、CF3、
F、ClまたはBrである)で示される化合物である。
成分として使用できる最も重要な化合物は式III R6−A−G−E−R7 (III) (式中、AおよびEはそれぞれ、1,4−ジ置換ベンゼ
ンおよびシクロヘキサン環、4,4′−ジ置換ビフェニ
ル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルクロ
ヘキサン系、2,5−ジ置換ピリミジンおよび1,3−
ジオキサン環、2,6−ジ置換ナフタレン、ジ−および
テトラ−ヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラヒ
ドロキナゾリンを含む群からの炭素環式または複素環式
環であり、Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−C
≡C−、−CO−O−、−CO−S−、−CH=N−、
−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2−C
H2−、CH2−O−、−CH2−S−、−COO−P
h−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロゲ
ン、好ましくは塩素、または−CNであり、そしてR6
およびR7は18個まで、好ましくは8個までの炭素原
子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキシ
またはアルコキシカルボニルオキシであるか、またはこ
れらの基の1方はまた、CN、NC、NO2、CF3、
F、ClまたはBrである)で示される化合物である。
【0010】式IIIにおいて、R6およびF7は異な
っていてもよく、これらの基の1方は通常、アルキル基
またはアルコキシ基である。しかしながら、他の置換基
であってもよい。このような物質またはその混合物は、
市場で入手することができる。本発明に係る誘電体組成
物は1種またはそれ以上の式Iの化合物を約0.1〜6
0%、好ましくは2〜25%を含有している。
っていてもよく、これらの基の1方は通常、アルキル基
またはアルコキシ基である。しかしながら、他の置換基
であってもよい。このような物質またはその混合物は、
市場で入手することができる。本発明に係る誘電体組成
物は1種またはそれ以上の式Iの化合物を約0.1〜6
0%、好ましくは2〜25%を含有している。
【0011】本発明に係る誘電体組成物はそれ自体慣用
の方法で製造する。一般に、構成成分を相互に、好まし
くは上昇温度で溶解させる。本発明による液晶誘電体
は、これらを従来開示された全てのタイプの液晶表示素
子に使用できるように、適当な添加剤を用いることによ
り変性させることができる。
の方法で製造する。一般に、構成成分を相互に、好まし
くは上昇温度で溶解させる。本発明による液晶誘電体
は、これらを従来開示された全てのタイプの液晶表示素
子に使用できるように、適当な添加剤を用いることによ
り変性させることができる。
【0012】このような添加剤は当業者にとって既知で
あり、文献に詳細に記載されている。たとえば、導電性
塩、好ましくはエチル−ジメチル−ドデシル−アンモニ
ウム4−ヘキシルオキシベンゾエート、テトラブチルア
ンモニウムテトラフェニルボレートまたはクラウンエー
テルの錯塩を加えて、導電性を改善できる〔たとえば、
[I.Haller氏等のMol.Cryst.Li
q.Cryst.,24巻、249〜258頁(197
3頁)〕。2色性染料を加えて、着色ゲスト/ホスト系
を生成できる。
あり、文献に詳細に記載されている。たとえば、導電性
塩、好ましくはエチル−ジメチル−ドデシル−アンモニ
ウム4−ヘキシルオキシベンゾエート、テトラブチルア
ンモニウムテトラフェニルボレートまたはクラウンエー
テルの錯塩を加えて、導電性を改善できる〔たとえば、
[I.Haller氏等のMol.Cryst.Li
q.Cryst.,24巻、249〜258頁(197
3頁)〕。2色性染料を加えて、着色ゲスト/ホスト系
を生成できる。
【0013】または誘電異方性、粘度および(または)
ネマチック相の配向を変性するための物質を添加でき
る。このような物質は、たとえば西ドイツ国公開特許出
願第2,209,127号、同第2,240,864
号、同第2,321,632号、同第2,338,28
1号、同第2,450,088号(特開昭51−650
86号)、同第2,637,430号、同第2,85
3,728号(特開昭55−83744号)および同第
2,902,177号公報に記載されている。
ネマチック相の配向を変性するための物質を添加でき
る。このような物質は、たとえば西ドイツ国公開特許出
願第2,209,127号、同第2,240,864
号、同第2,321,632号、同第2,338,28
1号、同第2,450,088号(特開昭51−650
86号)、同第2,637,430号、同第2,85
3,728号(特開昭55−83744号)および同第
2,902,177号公報に記載されている。
【0014】式Iの化合物について以下に説明する。式
Iの化合物のうちの好ましい化合物としては、次の式I
a、Ib、Icで表わされる化合物があげられる。
Iの化合物のうちの好ましい化合物としては、次の式I
a、Ib、Icで表わされる化合物があげられる。
【0015】 R1−Cy−Cy−Ph−COOR3 Ia R1−Cy−Cy−Ph−O−CO−R3 Ib R1−Cy−Cy−Ph−Br Ic さらにまた、式IdおよびIeのヒドロターフェニル誘
導体は特に中間体生成物として好適である: R1−Cy−Cy−Ph−OH Id R1−Cy−Cy−Ph−Br Ie 式IおよびIa〜Ieの化合物において、2個の1,4
−シクロヘキシレン基上の置換基が各場合に、相互に対
してトランス位置にある立体異性体は好ましい化合物で
ある。
導体は特に中間体生成物として好適である: R1−Cy−Cy−Ph−OH Id R1−Cy−Cy−Ph−Br Ie 式IおよびIa〜Ieの化合物において、2個の1,4
−シクロヘキシレン基上の置換基が各場合に、相互に対
してトランス位置にある立体異性体は好ましい化合物で
ある。
【0016】式Iの化合物において、アルキルまたは−
O−アルキル基は直鎖状または分枝鎖状であることがで
きる。
O−アルキル基は直鎖状または分枝鎖状であることがで
きる。
【0017】これらのアルキル基としては2、3、4、
5または6個の炭素原子を有するものが好ましい。その
例はエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシまた
はヘキシルオキシであり、さらにまたメチル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、ヘプチルオ
キシ、オクチルオキシ、ノニルオキシまたはデシルオキ
シである。
5または6個の炭素原子を有するものが好ましい。その
例はエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、
エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシまた
はヘキシルオキシであり、さらにまたメチル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシル、メトキシ、ヘプチルオ
キシ、オクチルオキシ、ノニルオキシまたはデシルオキ
シである。
【0018】分枝鎖状末端基R1またはR2を有する式
IおよびIa〜Ieの化合物は、これらの化合物が慣用
の液晶基材に対し良好な溶解性を有することから、場合
により重要であり、これらが光学活性である場合には、
キラルドーピング剤として特に重要である。この種の分
枝鎖状基は一般に、1個より多くない鎖分枝を有する。
好適な分枝鎖状基R1およびR2はイソプロピル、2−
ブチル(=1−メチルプロピル)、イソブチル(=2−
メチルプロピル)、2−メチルブチル、イソペンチル
(=3−メチルブチル)、2−メチルペンチル、3−メ
チルペンチル、2−エチルヘキシル、2−ヘプチル(=
1−メチルヘキシル)、2−オクチル(=1−メチルヘ
プチル)、2−エチルペンチル、イソプロポキシ、2−
メチルプロポキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブ
トキシ、2−メチルペンチルオキシ、3−メチルペンチ
ルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、1−メチルヘキ
シルオキシおよび1−メチルヘプチルオキシである。
IおよびIa〜Ieの化合物は、これらの化合物が慣用
の液晶基材に対し良好な溶解性を有することから、場合
により重要であり、これらが光学活性である場合には、
キラルドーピング剤として特に重要である。この種の分
枝鎖状基は一般に、1個より多くない鎖分枝を有する。
好適な分枝鎖状基R1およびR2はイソプロピル、2−
ブチル(=1−メチルプロピル)、イソブチル(=2−
メチルプロピル)、2−メチルブチル、イソペンチル
(=3−メチルブチル)、2−メチルペンチル、3−メ
チルペンチル、2−エチルヘキシル、2−ヘプチル(=
1−メチルヘキシル)、2−オクチル(=1−メチルヘ
プチル)、2−エチルペンチル、イソプロポキシ、2−
メチルプロポキシ、2−メチルブトキシ、3−メチルブ
トキシ、2−メチルペンチルオキシ、3−メチルペンチ
ルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、1−メチルヘキ
シルオキシおよび1−メチルヘプチルオキシである。
【0019】式Iの化合物は文献〔たとえばHoube
n−Weyl,Methodender Organi
schen Chemie(Stuttgart市のG
eorg−Thieme出版社)のような標準的文献〕
に記載されているような、それ自体既知の方法により、
あるいは、既知の反応に適する反応条件下に、製造され
る。それ自体既知の変法もまた使用できる。
n−Weyl,Methodender Organi
schen Chemie(Stuttgart市のG
eorg−Thieme出版社)のような標準的文献〕
に記載されているような、それ自体既知の方法により、
あるいは、既知の反応に適する反応条件下に、製造され
る。それ自体既知の変法もまた使用できる。
【0020】所望により、原料物質はまた、これらの化
合物を反応混合物から単離することなく、直接にさらに
反応させて、式Iの化合物を生成させるような方法でそ
の場で生成させることもできる。
合物を反応混合物から単離することなく、直接にさらに
反応させて、式Iの化合物を生成させるような方法でそ
の場で生成させることもできる。
【0021】式Iの化合物は式II
【化1】 (式中R3はOHでありそしてR4はHであるか、また
はR3とR4とが一緒になってC−C結合を表わすかの
どちらかである)の化合物を還元することにより製造す
ると好ましい。
はR3とR4とが一緒になってC−C結合を表わすかの
どちらかである)の化合物を還元することにより製造す
ると好ましい。
【0022】式IIのカルビノール化合物(R3はOH
であり、そしてR4はHである)は、たとえば式R1−
Cy−Ph−OHのシクロヘキシルフェノール化合物を
水素添加して、式R1−Cy−Cy−OHのシクロヘキ
シルシクロヘキサノール化合物を生成させ、酸化して相
当する4−R1−Cy−シクロヘキサノン化合物を生成
させ、式BrMg−Ph−R2のグリニヤール化合物と
反応させ、次いで加水分解することにより得ることがで
きる。式IIのシクロヘキセン化合物(R3とR4とは
一緒になってC−C結合を表わす)は、前記化合物から
たとえば硫酸またはp−トルエンスルホン酸のような強
酸をベンゼンまたはトルエンのような不活性溶剤中で用
いて水を分離することにより製造できる。
であり、そしてR4はHである)は、たとえば式R1−
Cy−Ph−OHのシクロヘキシルフェノール化合物を
水素添加して、式R1−Cy−Cy−OHのシクロヘキ
シルシクロヘキサノール化合物を生成させ、酸化して相
当する4−R1−Cy−シクロヘキサノン化合物を生成
させ、式BrMg−Ph−R2のグリニヤール化合物と
反応させ、次いで加水分解することにより得ることがで
きる。式IIのシクロヘキセン化合物(R3とR4とは
一緒になってC−C結合を表わす)は、前記化合物から
たとえば硫酸またはp−トルエンスルホン酸のような強
酸をベンゼンまたはトルエンのような不活性溶剤中で用
いて水を分離することにより製造できる。
【0023】式IIの原料物質は約0°〜約200°の
温度および約1〜約200バールの圧力下に、たとえば
メタノール、エタノールまたはイソプロパノールのよう
なアルコール、テトラヒドロフラン(THF)またはジ
オキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステ
ル、酢酸のようなカルボン酸またはシクロヘキサンのよ
うな炭化水素のような不活性溶剤中で接触水素添加によ
り式Iの化合物に還元するのが好ましい。
温度および約1〜約200バールの圧力下に、たとえば
メタノール、エタノールまたはイソプロパノールのよう
なアルコール、テトラヒドロフラン(THF)またはジ
オキサンのようなエーテル、酢酸エチルのようなエステ
ル、酢酸のようなカルボン酸またはシクロヘキサンのよ
うな炭化水素のような不活性溶剤中で接触水素添加によ
り式Iの化合物に還元するのが好ましい。
【0024】好適な触媒はPtまたはPdのような貴金
属であり、これらはオキシドの形で(PtO2またはP
dO)、担体上で(たとえば木炭、炭酸カルシウムまた
は炭酸ストロンチウム上のPd)、または微細形で(た
とえばPt−ブラック)使用できる。
属であり、これらはオキシドの形で(PtO2またはP
dO)、担体上で(たとえば木炭、炭酸カルシウムまた
は炭酸ストロンチウム上のPd)、または微細形で(た
とえばPt−ブラック)使用できる。
【0025】還元工程の後で、生成する立体異性体混合
物を安定なトランス−異性体(水素添加により得られた
シクロヘキサン環に関して)に、たとえばジメチルホル
ムアミド(DMF)、N−メチルピロリドンまたはジメ
チルスルホキシドのような不活性溶剤中で約0〜約15
0°の温度において、K−第3ブチレートのような塩基
で処理することにより、好適に変換できる。所望によ
り、生成する式Iの化合物中の基R2を別の基R2に変
えることもできる。
物を安定なトランス−異性体(水素添加により得られた
シクロヘキサン環に関して)に、たとえばジメチルホル
ムアミド(DMF)、N−メチルピロリドンまたはジメ
チルスルホキシドのような不活性溶剤中で約0〜約15
0°の温度において、K−第3ブチレートのような塩基
で処理することにより、好適に変換できる。所望によ
り、生成する式Iの化合物中の基R2を別の基R2に変
えることもできる。
【0026】すなわち、式IにおいてR2=Hに相当す
るヒドロターフェニル化合物を、たとえばジエチルエー
テル、CCl4または酢酸のような不活性溶剤中で約−
30〜100°の温度において、元素状塩素または臭素
を用いて、塩素化または臭素化すると、式Iの塩素また
は臭素化合物(R2はClまたはBrである)が得ら
れ、この場合に鉄糸、ヨウ素またはAlCl3のような
触媒を存在させることができる。
るヒドロターフェニル化合物を、たとえばジエチルエー
テル、CCl4または酢酸のような不活性溶剤中で約−
30〜100°の温度において、元素状塩素または臭素
を用いて、塩素化または臭素化すると、式Iの塩素また
は臭素化合物(R2はClまたはBrである)が得ら
れ、この場合に鉄糸、ヨウ素またはAlCl3のような
触媒を存在させることができる。
【0027】式Iaのニトリル化合物はこれらの塩素ま
たは臭素化合物をCu2(CN)2とたとえばDMFま
たはN−メチルピロリドンのような不活性溶剤中で40
〜20°の温度において、ピリジンの存在下に、反応さ
せることにより得ることができる。
たは臭素化合物をCu2(CN)2とたとえばDMFま
たはN−メチルピロリドンのような不活性溶剤中で40
〜20°の温度において、ピリジンの存在下に、反応さ
せることにより得ることができる。
【0028】式IにおいてR2=Hに相当するヒドロタ
ーフェニル化合物は式R1−Cy−Cy−Ph−CO−
R5のケトン化合物に、式HOOC−R5(式中R5は
1〜9個の炭素原子を有するアルキル)のカルボン酸ま
たはそれらの反応性誘導体により、好ましくは酸触媒お
よび不活性溶剤の存在下に、約0°〜約120°の温度
においてアシル化することにより変換される。適当なカ
ルボン酸の誘導体としては、特にそれらの無水物および
ハライド、たとえば相当する酸クロリドおよび酸ブロミ
ドである。適当な触媒は、HF、H3PC4またはポリ
リン酸のような酸、または好ましくはAlCl3、Al
Br3、SnCl4、ZnCl2、FeCl3、SbC
l5またはBF3のようなルイス酸またはそのエーテレ
ートである。適当な溶剤の例にはCS2、ヘキサンのよ
うな炭化水素、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水
素、ニトロベンゼンまたはテトラメチレンスルホンがあ
る。
ーフェニル化合物は式R1−Cy−Cy−Ph−CO−
R5のケトン化合物に、式HOOC−R5(式中R5は
1〜9個の炭素原子を有するアルキル)のカルボン酸ま
たはそれらの反応性誘導体により、好ましくは酸触媒お
よび不活性溶剤の存在下に、約0°〜約120°の温度
においてアシル化することにより変換される。適当なカ
ルボン酸の誘導体としては、特にそれらの無水物および
ハライド、たとえば相当する酸クロリドおよび酸ブロミ
ドである。適当な触媒は、HF、H3PC4またはポリ
リン酸のような酸、または好ましくはAlCl3、Al
Br3、SnCl4、ZnCl2、FeCl3、SbC
l5またはBF3のようなルイス酸またはそのエーテレ
ートである。適当な溶剤の例にはCS2、ヘキサンのよ
うな炭化水素、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水
素、ニトロベンゼンまたはテトラメチレンスルホンがあ
る。
【0029】上記ケトン化合物は式IにおいてR2=C
OOHである化合物に、たとえば好ましくは臭素および
NaOHのような塩基からその場で生成させた次亜ハロ
ゲン酸塩を用いて、水性ジオキサン中で約0〜50°の
温度において、酸化できる。
OOHである化合物に、たとえば好ましくは臭素および
NaOHのような塩基からその場で生成させた次亜ハロ
ゲン酸塩を用いて、水性ジオキサン中で約0〜50°の
温度において、酸化できる。
【0030】式IにおいてR2=COOHである化合物
は慣用の方法で、たとえばSOCl2またはPCl5を
用いて約0〜100°の温度で相当する酸クロリドに変
換でき、これらの酸クロリドはアンモニアにより、たと
えば水性ジオキサン中で約0〜30°の温度において、
相当する式R1−Cy−Cy−Ph−CONH2の酸ア
ミド化合物に変換できる。
は慣用の方法で、たとえばSOCl2またはPCl5を
用いて約0〜100°の温度で相当する酸クロリドに変
換でき、これらの酸クロリドはアンモニアにより、たと
えば水性ジオキサン中で約0〜30°の温度において、
相当する式R1−Cy−Cy−Ph−CONH2の酸ア
ミド化合物に変換できる。
【0031】これらのアミドを脱水させると、式Iaの
ニトリル化合物が得られる。水の分離に適する反応剤の
例には、SOCl2、PCl3、POCl3、PC
l5、SO2Cl2およびCOCl2のような無機酸ク
ロリド、さらにまたP2O5、P2S5、AlCl
3(たとえばNaClとの複合化合物として)、および
芳香族スルホン酸およびスルホン酸ハライドがある。こ
の方法は不活性溶剤の存在または不在下に、約20〜1
50°の温度で実施できる。使用可能な溶剤の例には、
ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような芳香族炭化
水素、およびDMFのようなアミドがある。
ニトリル化合物が得られる。水の分離に適する反応剤の
例には、SOCl2、PCl3、POCl3、PC
l5、SO2Cl2およびCOCl2のような無機酸ク
ロリド、さらにまたP2O5、P2S5、AlCl
3(たとえばNaClとの複合化合物として)、および
芳香族スルホン酸およびスルホン酸ハライドがある。こ
の方法は不活性溶剤の存在または不在下に、約20〜1
50°の温度で実施できる。使用可能な溶剤の例には、
ベンゼン、トルエンまたはキシレンのような芳香族炭化
水素、およびDMFのようなアミドがある。
【0032】式Iの炭化水素化合物(R2=アルキル)
は、たとえば前記式R1−Cy−Cy−Ph−CO−R
5のケトン化合物を、クレメンゼンの方法(亜鉛、亜鉛
アマルガムまたは錫および塩酸を、好ましくは水性−ア
ルコール性溶液中で、または水/ベンゼンまたは水/ト
ルエンのような不均質相中で用いる)またはウオルフ−
キッシュナーの方法(ヒドラジンを、好ましくはKOH
またはNaOHのようなアルカリの存在下に、ジエチレ
ングリコールまたはトリエチレングリコールのような高
沸点溶剤中で、約100〜200°の温度で用いる)に
より、還元することにより得ることができる。これらの
ケトン化合物はまた、前記条件下に、好ましくはPtま
たはPd触媒上で20〜80°の温度および常圧下に、
前記溶媒の1種、たとえばテトラヒドロフラン中で、接
触水素添加させて、式Iの炭化水素化合物(R2=アル
キル)に変換することもできる。
は、たとえば前記式R1−Cy−Cy−Ph−CO−R
5のケトン化合物を、クレメンゼンの方法(亜鉛、亜鉛
アマルガムまたは錫および塩酸を、好ましくは水性−ア
ルコール性溶液中で、または水/ベンゼンまたは水/ト
ルエンのような不均質相中で用いる)またはウオルフ−
キッシュナーの方法(ヒドラジンを、好ましくはKOH
またはNaOHのようなアルカリの存在下に、ジエチレ
ングリコールまたはトリエチレングリコールのような高
沸点溶剤中で、約100〜200°の温度で用いる)に
より、還元することにより得ることができる。これらの
ケトン化合物はまた、前記条件下に、好ましくはPtま
たはPd触媒上で20〜80°の温度および常圧下に、
前記溶媒の1種、たとえばテトラヒドロフラン中で、接
触水素添加させて、式Iの炭化水素化合物(R2=アル
キル)に変換することもできる。
【0033】前記のケトン化合物とヒドロキシルアミン
とを、たとえば水性エタノール中で、KOHまたはピリ
ジンのような塩基の存在下に、約20〜100°の温度
で反応させると、相当するオキシム化合物が得られ、こ
のオキシム化合物はベックマン転位の条件下に、たとえ
ば約20〜100°の温度でPCl5またはギ酸を用い
て、式R1−Cy−Cy−Ph−NH−CO−R5の相
当するアミド化合物に変換できる。これは、たとえば硫
酸または塩酸のような水性鉱酸を用いて加水分解する
と、式R1−Cy−Cy−Ph−NH2の相当するアミ
ン化合物を導く。これらはまた、式IにおいてR2=H
の相当する化合物をニトロ化し、生成する式R1−Cy
−Cy−Ph−NO2のニトロ化合物を、たとえば前記
条件下における水素添加しあるいは、Fe/HCl、Z
n/NaOH、Zn/CH3COOHまたはSn/HC
lにより発生する発生機の水素を用いて還元する。Sn
Cl2/HClまたはH2Sもしくは硫化物を用いる還
元またはNa2S2O4を用いる還元により、製造する
こともできる。
とを、たとえば水性エタノール中で、KOHまたはピリ
ジンのような塩基の存在下に、約20〜100°の温度
で反応させると、相当するオキシム化合物が得られ、こ
のオキシム化合物はベックマン転位の条件下に、たとえ
ば約20〜100°の温度でPCl5またはギ酸を用い
て、式R1−Cy−Cy−Ph−NH−CO−R5の相
当するアミド化合物に変換できる。これは、たとえば硫
酸または塩酸のような水性鉱酸を用いて加水分解する
と、式R1−Cy−Cy−Ph−NH2の相当するアミ
ン化合物を導く。これらはまた、式IにおいてR2=H
の相当する化合物をニトロ化し、生成する式R1−Cy
−Cy−Ph−NO2のニトロ化合物を、たとえば前記
条件下における水素添加しあるいは、Fe/HCl、Z
n/NaOH、Zn/CH3COOHまたはSn/HC
lにより発生する発生機の水素を用いて還元する。Sn
Cl2/HClまたはH2Sもしくは硫化物を用いる還
元またはNa2S2O4を用いる還元により、製造する
こともできる。
【0034】式Idのフェノール化合物は、たとえばア
ミン化合物のジアゾ化および後続の沸とう処理により得
ることができる。このジアゾ化は酸水性媒質中で亜硝酸
の塩またはエステル(たとえばNaNO2または亜硝酸
ブチル)を用いる慣用の方法で実施でき、生成するジア
ゾニウム塩溶液は次いで約50〜150°の温度で加水
分解により分解できる。
ミン化合物のジアゾ化および後続の沸とう処理により得
ることができる。このジアゾ化は酸水性媒質中で亜硝酸
の塩またはエステル(たとえばNaNO2または亜硝酸
ブチル)を用いる慣用の方法で実施でき、生成するジア
ゾニウム塩溶液は次いで約50〜150°の温度で加水
分解により分解できる。
【0035】式Iのアルコキシル化合物(R2=−O−
アルキル)は式Ifのフェノール化合物のアルキル化に
より得ることができ、この場合に、フェノール化合物を
先ず相当するアルカリ金属フェノレートに、たとえばN
aOH、KOH、Na2CO3またはK2CO3で処理
することにより変換すると好ましい。このフェノレート
を次いで相当するアルキルハライドまたはスルホネー
ト、またはジアルキルスルフェートと、好ましくはアセ
トン、DMFまたはジメチルスルホキシドのような不活
性溶剤中で、または過剰量の水性または水性−アルコー
ル性NaOHまたはKOH中で、約20〜100°の温
度で反応させることができる。
アルキル)は式Ifのフェノール化合物のアルキル化に
より得ることができ、この場合に、フェノール化合物を
先ず相当するアルカリ金属フェノレートに、たとえばN
aOH、KOH、Na2CO3またはK2CO3で処理
することにより変換すると好ましい。このフェノレート
を次いで相当するアルキルハライドまたはスルホネー
ト、またはジアルキルスルフェートと、好ましくはアセ
トン、DMFまたはジメチルスルホキシドのような不活
性溶剤中で、または過剰量の水性または水性−アルコー
ル性NaOHまたはKOH中で、約20〜100°の温
度で反応させることができる。
【0036】式Iaのエステル化合物(R3はH以外の
基である)およびIbのエステル化合物はまた式Iのカ
ルボン酸化合物(R2=COOH)(またはそれらの反
応性誘導体を式HO−R3のアルコールまたはフェノー
ル(またはそれらの反応性誘導体)でエステル化する
か、または式Idのフェノール化合物(またはそれらの
反応性誘導体)と式HOOC−R3のカルボン酸(また
はそれらの反応性誘導体)との反応により得ることもで
きる。
基である)およびIbのエステル化合物はまた式Iのカ
ルボン酸化合物(R2=COOH)(またはそれらの反
応性誘導体を式HO−R3のアルコールまたはフェノー
ル(またはそれらの反応性誘導体)でエステル化する
か、または式Idのフェノール化合物(またはそれらの
反応性誘導体)と式HOOC−R3のカルボン酸(また
はそれらの反応性誘導体)との反応により得ることもで
きる。
【0037】前記カルボン酸の特に適当な反応性誘導体
は酸ハライド、特にクロリドおよびブロミド、さらに無
水物、たとえば式R1−Cy−Cy−Ph−CO−O−
COCH3とR3−CO−O−COCH3との混合無水
物、アジドおよびエステル、特にそのアルキル基に1〜
4個の炭素原子を有するアルキルエステルである。
は酸ハライド、特にクロリドおよびブロミド、さらに無
水物、たとえば式R1−Cy−Cy−Ph−CO−O−
COCH3とR3−CO−O−COCH3との混合無水
物、アジドおよびエステル、特にそのアルキル基に1〜
4個の炭素原子を有するアルキルエステルである。
【0038】前記アルコールおよびフェノールの使用可
能な反応性誘導体は、特に式MO−R3およびR1−C
y−Cy−Ph−Ph−OM(各式中Mは1当量の金
属、好ましくはNaまたはKのようなアルカリ金属であ
る)の相当する金属アルコレートまたはフェノレート化
合物である。
能な反応性誘導体は、特に式MO−R3およびR1−C
y−Cy−Ph−Ph−OM(各式中Mは1当量の金
属、好ましくはNaまたはKのようなアルカリ金属であ
る)の相当する金属アルコレートまたはフェノレート化
合物である。
【0039】エステル化は不活性溶剤の存在下に行なう
と有利である。好適な溶剤は、ジエチルエーテル、ジ−
n−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
またはアニソールのようなエーテル;アセトン、ブタノ
ンまたはシクロヘキサノンのようなケトン;DMFまた
はリン酸ヘキサメチルトリアミドのようなアミド;ベン
ゼン、トルエンまたはキシレンのような炭化水素;四塩
化炭素またはテトラクロルエチレンのようなハロゲノ炭
化水素;およびジメチルスルホキシドまたはスルホンの
ようなスルホキシドである。水不混和性溶剤を同時に使
用して、エステル化中に生成する水を共沸蒸留すると有
利である。過剰量の有機塩基、たとえばピリジン、キノ
リンまたはトリエチルアミンを場合によりまたエステル
化用の溶剤として使用することもできる。エステル化は
また、溶剤の不在下に、たとえば反応成分を酢酸ナトリ
ウムの存在下に単純に加熱することにより、実施するこ
ともできる。反応温度は通常、−50°〜+250°、
好ましくは−20°〜+80°である。これらの温度
で、エステル化反応は一般に15分〜48時間後に完了
する。
と有利である。好適な溶剤は、ジエチルエーテル、ジ−
n−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン
またはアニソールのようなエーテル;アセトン、ブタノ
ンまたはシクロヘキサノンのようなケトン;DMFまた
はリン酸ヘキサメチルトリアミドのようなアミド;ベン
ゼン、トルエンまたはキシレンのような炭化水素;四塩
化炭素またはテトラクロルエチレンのようなハロゲノ炭
化水素;およびジメチルスルホキシドまたはスルホンの
ようなスルホキシドである。水不混和性溶剤を同時に使
用して、エステル化中に生成する水を共沸蒸留すると有
利である。過剰量の有機塩基、たとえばピリジン、キノ
リンまたはトリエチルアミンを場合によりまたエステル
化用の溶剤として使用することもできる。エステル化は
また、溶剤の不在下に、たとえば反応成分を酢酸ナトリ
ウムの存在下に単純に加熱することにより、実施するこ
ともできる。反応温度は通常、−50°〜+250°、
好ましくは−20°〜+80°である。これらの温度
で、エステル化反応は一般に15分〜48時間後に完了
する。
【0040】エステル化の反応条件は使用する原料物質
の性質に依存する。従って、遊離のカルボン酸と遊離の
アルコールとは一般に、強酸、たとえば塩酸または硫酸
のような鉱酸の存在下に反応させる。好適な反応方法は
酸無水物、または特に酸クロリドをアルコールと、好ま
しくは塩基性媒質中で反応させる方法であり、特に重要
な塩基は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムまたは重炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩または重炭酸塩;酢酸ナトリウムまた
は酢酸カリウムのようなアルカリ金属酢酸塩;水酸化カ
ルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;およびト
リエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジンまたは
キノリンのような有機塩基である。エステル化のさらに
好適な態様では、アルコールまたはフェノール化合物を
先ずナトリウムまたはカリウムアルコレートまたはフェ
ノレートに、たとえばエタノール性水酸化ナトリウム溶
液または水酸化カリウム溶液で処理し、このアルコレー
トまたはフェノレートを単離し、次いでアセトンまたは
ジエチルエーテル中に、重炭酸ナトリウムまたは炭酸カ
リウムとともに撹拌しながら懸濁し、次いでジエチルエ
ーテル、アセトンまたはDMF中の酸クロリドまたは無
水物の溶液を、好ましくは約−25〜+20°の温度で
加えることにより、変換する工程を包含する。
の性質に依存する。従って、遊離のカルボン酸と遊離の
アルコールとは一般に、強酸、たとえば塩酸または硫酸
のような鉱酸の存在下に反応させる。好適な反応方法は
酸無水物、または特に酸クロリドをアルコールと、好ま
しくは塩基性媒質中で反応させる方法であり、特に重要
な塩基は水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物;炭酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムまたは重炭酸カリウムのようなア
ルカリ金属炭酸塩または重炭酸塩;酢酸ナトリウムまた
は酢酸カリウムのようなアルカリ金属酢酸塩;水酸化カ
ルシウムのようなアルカリ土類金属水酸化物;およびト
リエチルアミン、ピリジン、ルチジン、コリジンまたは
キノリンのような有機塩基である。エステル化のさらに
好適な態様では、アルコールまたはフェノール化合物を
先ずナトリウムまたはカリウムアルコレートまたはフェ
ノレートに、たとえばエタノール性水酸化ナトリウム溶
液または水酸化カリウム溶液で処理し、このアルコレー
トまたはフェノレートを単離し、次いでアセトンまたは
ジエチルエーテル中に、重炭酸ナトリウムまたは炭酸カ
リウムとともに撹拌しながら懸濁し、次いでジエチルエ
ーテル、アセトンまたはDMF中の酸クロリドまたは無
水物の溶液を、好ましくは約−25〜+20°の温度で
加えることにより、変換する工程を包含する。
【0041】本明細書中で、%は重量%を意味し、温度
はすべて摂氏度で示される。「常法による仕上げ」の用
語は次の意味を有する。必要に応じて、水および(また
は)トルエン、CH2Cl2またはCHCl3のような
有機溶剤を加え、相を分離させ、有機相を蒸発させ、残
留物をクロマトグラフィおよび(または)結晶化により
精製する。以下に成分化合物の製造例を示す。
はすべて摂氏度で示される。「常法による仕上げ」の用
語は次の意味を有する。必要に応じて、水および(また
は)トルエン、CH2Cl2またはCHCl3のような
有機溶剤を加え、相を分離させ、有機相を蒸発させ、残
留物をクロマトグラフィおよび(または)結晶化により
精製する。以下に成分化合物の製造例を示す。
【0042】例 1 テトラヒドロフラン350ml中の1−フェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キセン〔トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
プロピルシクロヘキサンを酢酸エチル中、PtO2上で
50°で水素添加してトランス−4−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノールを生成
させ、NaOClで酸化して4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノンを生成させ、
テトラヒドロフラン中でC6H5MgBrと反応させ、
次いで加水分解して1−フェニル−4−(トランス−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノールを生成さ
せ、次いで沸とうトルエン中でp−トルエンスルホン酸
により脱水させることにより得られる〕28.2gの溶
液をPdO3g上で40°および1バール下に水素吸収
がやむまで水素添加する。混合物を濾過し、濾液を蒸発
させ、生成するシス−トランス混合物をDMF140m
lに溶解し、K−第3−酪酸塩14gを加え、混合物を
N2雰囲気下に24時間、100°に加熱する。この混
合物を冷却させた後に、水中に注ぎ入れ、生成するトラ
ンス−1−フェニル−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサンを濾取する。m.p
74°、c.p 102°。
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キセン〔トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
プロピルシクロヘキサンを酢酸エチル中、PtO2上で
50°で水素添加してトランス−4−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノールを生成
させ、NaOClで酸化して4−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノンを生成させ、
テトラヒドロフラン中でC6H5MgBrと反応させ、
次いで加水分解して1−フェニル−4−(トランス−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサノールを生成さ
せ、次いで沸とうトルエン中でp−トルエンスルホン酸
により脱水させることにより得られる〕28.2gの溶
液をPdO3g上で40°および1バール下に水素吸収
がやむまで水素添加する。混合物を濾過し、濾液を蒸発
させ、生成するシス−トランス混合物をDMF140m
lに溶解し、K−第3−酪酸塩14gを加え、混合物を
N2雰囲気下に24時間、100°に加熱する。この混
合物を冷却させた後に、水中に注ぎ入れ、生成するトラ
ンス−1−フェニル−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサンを濾取する。m.p
74°、c.p 102°。
【0043】同様にして、相当するシクロヘキセンの水
素添加により次の化合物が得られる。 トランス−1−フェニル−4−(トランス−4−メチル
シクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フ
ェニル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−フェニル−4−(ト
ランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−フェニル−4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−フェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フェニル−
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、トランス−1−フェニル−4−(トランス
−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−フェニル−4−(トランス−4−ノニルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フェ
ニル−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、
素添加により次の化合物が得られる。 トランス−1−フェニル−4−(トランス−4−メチル
シクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フ
ェニル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−フェニル−4−(ト
ランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−フェニル−4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−フェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フェニル−
4−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、トランス−1−フェニル−4−(トランス
−4−オクチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−フェニル−4−(トランス−4−ノニルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−フェ
ニル−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、
【0044】トランス−1−p−フルオロフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−フルオロフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン;m.p 80°、トランス−1−p−フルオロ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−フルオロフ
ェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−フルオロフ
ェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−フルオロフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン;m.p 80°、トランス−1−p−フルオロ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−フルオロフ
ェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−フルオロフ
ェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、
【0045】トランス−1−p−クロルフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−クロルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−クロルフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−クロルフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−クロルフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−クロルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−クロルフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−クロルフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−クロルフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0046】トランス−1−p−ブロモフェニル−4−
(トランス−4−メチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブロモフェニル−4−(トラ
ンス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−
ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−ペンチ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−
ブロモフェニル−4−(トランス−4−ヘプチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロ
モフェニル−4−(トランス−4−オクチルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロモフ
ェニル−4−(トランス−4−ノニルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロモフェニル
−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、
(トランス−4−メチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブロモフェニル−4−(トラ
ンス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−
ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−ペンチ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−ブロモフェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−
ブロモフェニル−4−(トランス−4−ヘプチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロ
モフェニル−4−(トランス−4−オクチルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロモフ
ェニル−4−(トランス−4−ノニルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ブロモフェニル
−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、
【0047】トランス−1−p−ヨードフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−ヨードフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ヨードフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−ヨードフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0048】トランス−1−p−トリル−4−(トラン
ス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−トリル−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−トリル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−トリル−4
−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−トリル−4−(トランス
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
ス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−トリル−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−トリル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−トリル−4
−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−トリル−4−(トランス
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0049】トランス−1−p−エチルフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン;m.p33°、c.p 162°、γ20 16c
st、トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−エチルフェニル−4−(トランス−4−
ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン;m.p33°、c.p 162°、γ20 16c
st、トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−エチルフェニル−4−(トランス−
4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−エチルフェニル−4−(トランス−4−
ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0050】トランス−1−p−プロピルフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−プロピルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0051】トランス−1−p−ブチルフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−ブチルフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ブチルフェニル−4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−ブチルフェニル−4−(トランス−4−ヘ
キシルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0052】トランス−1−p−ペンチルフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ペンチルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0053】トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ヘキシルフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0054】トランス−1−p−メトキシフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−メトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0055】トランス−1−p−エトキシフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−へキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−エトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−へキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0056】トランス−1−p−プロポキシフェニル−
4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4
−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4−
(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、
4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4
−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4−
(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−プロポキシフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、
【0057】トランス−1−p−ブトキシフェニル−4
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−ブトキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、
【0058】トランス−1−p−ペンチルオキシフェニ
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオキシフェ
ニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオ
キシフェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチ
ルオキシフェニル−4−(トランス−4−へキシルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサン、
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオキシフェ
ニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチルオ
キシフェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ペンチ
ルオキシフェニル−4−(トランス−4−へキシルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサン、
【0059】トランス−1−p−ヘキシルオキシフェニ
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオキシフェ
ニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオ
キシフェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシ
ルオキシフェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサン。
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオキシフェ
ニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシルオ
キシフェニル−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−ヘキシ
ルオキシフェニル−4−(トランス−4−ヘキシルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサン。
【0060】例 2 (a) トランス−1−フェニル−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン28.4
g、AlCl313.4gおよびCH2Cl2120m
lの混合物をアセチルクロライドの存在下、20°で2
4時間撹拌し、次いで2%塩酸中に注ぎ入れる。常法に
より仕上げ、p−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフ
ェノンが得られる。m.p.81°、c.p.115
°。
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン28.4
g、AlCl313.4gおよびCH2Cl2120m
lの混合物をアセチルクロライドの存在下、20°で2
4時間撹拌し、次いで2%塩酸中に注ぎ入れる。常法に
より仕上げ、p−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフ
ェノンが得られる。m.p.81°、c.p.115
°。
【0061】(b) 水115ml中のヒドロキシルア
ンモニウムクロリド7gの溶液をエタノール200ml
中のp−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン3
2.6gの溶液に加える。水10ml中のKOH 5.
6gの溶液を加えた後に、この混合物を2時間沸とうさ
せ、冷却させ、次いで水で希釈し、沈殿したp−(トラ
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−アセトフェノンオキシムを濾取
し、水で洗浄し、次いで乾燥させる。
ンモニウムクロリド7gの溶液をエタノール200ml
中のp−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン3
2.6gの溶液に加える。水10ml中のKOH 5.
6gの溶液を加えた後に、この混合物を2時間沸とうさ
せ、冷却させ、次いで水で希釈し、沈殿したp−(トラ
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−アセトフェノンオキシムを濾取
し、水で洗浄し、次いで乾燥させる。
【0062】(c) p−(トランス−4−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
アセトフェノンオキシム34.1gとギ酸170mlと
の混合物を12時間沸とうさせ、次いで蒸発させる。ト
ランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンよ
りなる粗製残留物を20%H2SO4340mlととも
に3時間沸とうさせ、アセチル基を脱離させる。この混
合物を冷却させた後に、水20ml中のNaNO27g
の溶液を0°で撹拌しながら滴下して加える。撹拌を1
時間続け、生成する混合物を撹拌しながら、130°に
加温した60%H2SO4300ml中に少しずつ導入
する。混合物を冷却させ、生成するトランス−1−p−
ヒドロキシフェニル−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサンを濾取し、トルエンか
ら再結晶させる。
−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
アセトフェノンオキシム34.1gとギ酸170mlと
の混合物を12時間沸とうさせ、次いで蒸発させる。ト
ランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンよ
りなる粗製残留物を20%H2SO4340mlととも
に3時間沸とうさせ、アセチル基を脱離させる。この混
合物を冷却させた後に、水20ml中のNaNO27g
の溶液を0°で撹拌しながら滴下して加える。撹拌を1
時間続け、生成する混合物を撹拌しながら、130°に
加温した60%H2SO4300ml中に少しずつ導入
する。混合物を冷却させ、生成するトランス−1−p−
ヒドロキシフェニル−4−(トランス−4−プロピルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサンを濾取し、トルエンか
ら再結晶させる。
【0063】同様にして、下記の化合物が得られる。 p−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−
(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−(トランス
−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−アセトフェノン
キシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−
(トランス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−(トラ
ンス−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−アセトフェノン、p−(トランス
−4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−アセトフェノン
【0064】また、これらアセトフェノン化合物から相
当するオキシムを経て、下記の物質が得られる。 トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン
当するオキシムを経て、下記の物質が得られる。 トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−アセトアミドフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン
【0065】また、相当する1−p−アミノフェニル化
合物を経て、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−
4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4
−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、が得られる。
合物を経て、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−
4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4
−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−
(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、が得られる。
【0066】例 3 テトラヒドロフラン320ml中のp−(トランス−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキシル)−アセトフェノン32.6gの溶液を5%C
上のPd5g上で、40°および常圧下に、H2の吸収
がやむまで水素添加する。この混合物を濾過し、濾液を
蒸発させ、トランス−1−p−エチルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサンが得られる。
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキシル)−アセトフェノン32.6gの溶液を5%C
上のPd5g上で、40°および常圧下に、H2の吸収
がやむまで水素添加する。この混合物を濾過し、濾液を
蒸発させ、トランス−1−p−エチルフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサンが得られる。
【0067】例 4 p−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン32.
6g、KOH 15g、85%ヒドラジン25mlおよ
びジエチレングリコール250mlの混合物を1時間、
100°に加温する。生成したヒドラゾンが分解される
まで、温度を徐々に上げ、次いでさらに4時間沸とうさ
せ、冷却させ、常法により仕上げて、トランス−1−p
−エチルフェニル−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサンが得られる。
ヘキシル)−シクロヘキシル)−アセトフェノン32.
6g、KOH 15g、85%ヒドラジン25mlおよ
びジエチレングリコール250mlの混合物を1時間、
100°に加温する。生成したヒドラゾンが分解される
まで、温度を徐々に上げ、次いでさらに4時間沸とうさ
せ、冷却させ、常法により仕上げて、トランス−1−p
−エチルフェニル−4−(トランス−4−プロピルシク
ロヘキシル)−シクロヘキサンが得られる。
【0068】例 5 トランス−1−p−ブロモフェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン36.
3g、Cu2(CN)210g、ピリジン120mlお
よびN−メチルピロリドン60mlの混合物を160°
に2時間加熱する。この混合物を冷却させ、20%塩酸
600ml中のFeCl3・6H2O120gの溶液を
加え、混合物を70°に撹拌しながら1.5時間加温
し、次いで常法により仕上げ、トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサンが得られる。m.p.55°、
c.p.184°。
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン36.
3g、Cu2(CN)210g、ピリジン120mlお
よびN−メチルピロリドン60mlの混合物を160°
に2時間加熱する。この混合物を冷却させ、20%塩酸
600ml中のFeCl3・6H2O120gの溶液を
加え、混合物を70°に撹拌しながら1.5時間加温
し、次いで常法により仕上げ、トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサンが得られる。m.p.55°、
c.p.184°。
【0069】同様にして、相当する臭素化合物から次の
化合物が得られる:トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−メチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、トランス−1−p−シアノフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン;m.p.76°、c.p.195°。 トランス−1−p−シアノフェニル−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ヘキシ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ヘプチルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−
シアノフェニル−4−(トランス−4−オクチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−ノニルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−シアノフェ
ニル−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン。
化合物が得られる:トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−メチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、トランス−1−p−シアノフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン;m.p.76°、c.p.195°。 トランス−1−p−シアノフェニル−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラン
ス−1−p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ペ
ンチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−
1−p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ヘキシ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−
p−シアノフェニル−4−(トランス−4−ヘプチルシ
クロヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−
シアノフェニル−4−(トランス−4−オクチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−ノニルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−シアノフェ
ニル−4−(トランス−4−デシルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン。
【0070】例 6 ジオキサン100ml中のp−(トランス−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−アセトフェノン32.6gの溶液を水230ml
中のNaOH 40gおよび臭素48gの溶液に20°
で撹拌しながら滴下して加え、撹拌を1時間続け、水1
40ml中のNaHSO314gの溶液を加え、次いで
塩酸をpHが5になるまで加える。常法により仕上げ
(CH2Cl2)、p−(トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−安
息香酸が得られる。
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−アセトフェノン32.6gの溶液を水230ml
中のNaOH 40gおよび臭素48gの溶液に20°
で撹拌しながら滴下して加え、撹拌を1時間続け、水1
40ml中のNaHSO314gの溶液を加え、次いで
塩酸をpHが5になるまで加える。常法により仕上げ
(CH2Cl2)、p−(トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−安
息香酸が得られる。
【0071】この粗生成物をSOCl260mlととも
に、2.5時間沸とうさせる。蒸発後に、生成する粗製
酸クロリドをジオキサン430mlに溶解し、25%水
性アンモニア200mlを加え、この混合物を氷上に注
ぎ入れ、濾過して、p−(トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベ
ンズアミドが得られる。このアミド32.7gのDMF
500ml中の溶液にPOCl365gを50°で撹
拌しながら滴下して加える。この混合物をさらに1時間
撹拌した後に、氷上に注ぎ入れ、常法により仕上げて
(CH2Cl2)、トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサンが得られる。m.p.55°、c.p.1
84°。
に、2.5時間沸とうさせる。蒸発後に、生成する粗製
酸クロリドをジオキサン430mlに溶解し、25%水
性アンモニア200mlを加え、この混合物を氷上に注
ぎ入れ、濾過して、p−(トランス−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベ
ンズアミドが得られる。このアミド32.7gのDMF
500ml中の溶液にPOCl365gを50°で撹
拌しながら滴下して加える。この混合物をさらに1時間
撹拌した後に、氷上に注ぎ入れ、常法により仕上げて
(CH2Cl2)、トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサンが得られる。m.p.55°、c.p.1
84°。
【0072】同様にして相当するベンズアミドおよびベ
ンゾニトリル化合物が次の化合物を経て得られる。 p−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−安息香酸、p−(トラン
ス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−安息香酸、p−(トランス−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−安息香酸、p−(トランス−4−(トランス−4
−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−安息
香酸。
ンゾニトリル化合物が次の化合物を経て得られる。 p−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−安息香酸、p−(トラン
ス−4−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−安息香酸、p−(トランス−4−(ト
ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−安息香酸、p−(トランス−4−(トランス−4
−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−安息
香酸。
【0073】例 7 トランス−1−p−ヒドロキシフェニル−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン3
0g、K2CO36.9g、ヨウ化へキシル25gおよ
びDMF250mlの混合物を80°に16時間、撹拌
しながら加熱し次いで冷却させ、常法により仕上げる。
トランス−p−ヘキソキシフェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンが得ら
れる。
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン3
0g、K2CO36.9g、ヨウ化へキシル25gおよ
びDMF250mlの混合物を80°に16時間、撹拌
しながら加熱し次いで冷却させ、常法により仕上げる。
トランス−p−ヘキソキシフェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンが得ら
れる。
【0074】例 8 トルエン300ml中のトランス−1−p−ヒドロキシ
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン30gおよびピリジン20m1の
溶液に塩化アセチル8gを加え、この混合物を80°に
1時間加温する。冷却し、常法により仕上げた後に、ト
ランス−1−p−アセトキシフェニル−4−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンが得
られる、m.p.85°、c.p.229°。
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン30gおよびピリジン20m1の
溶液に塩化アセチル8gを加え、この混合物を80°に
1時間加温する。冷却し、常法により仕上げた後に、ト
ランス−1−p−アセトキシフェニル−4−(トランス
−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサンが得
られる、m.p.85°、c.p.229°。
【0075】同様にして、エステル化により次の化合物
が得られる。 トランス−1−p−アセトキシフェニル−4−(トラン
ス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ホルミルオキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−プロピオニルオキシフェニル−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン;m.p.73°、c.p.231°。トラ
ンス−1−p−ブチリルオキシフェニル−4,(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−ペンタノイルオキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキサノイルオキシフェニ
ル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、トランス−1−p−デカノイルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、
が得られる。 トランス−1−p−アセトキシフェニル−4−(トラン
ス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、ト
ランス−1−p−ホルミルオキシフェニル−4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサ
ン、トランス−1−p−プロピオニルオキシフェニル−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン;m.p.73°、c.p.231°。トラ
ンス−1−p−ブチリルオキシフェニル−4,(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、
トランス−1−p−ペンタノイルオキシフェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−ヘキサノイルオキシフェニ
ル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、トランス−1−p−デカノイルオキシ
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、
【0076】トランス−1−p−(トランス−4−プロ
ピルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−(トランス−4−ブチル
シクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−(トランス−4−ペンチル
シクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、
ピルシクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキサン、トランス−1−p−(トランス−4−ブチル
シクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、トランス−1−p−(トランス−4−ペンチル
シクロヘキシルカルボニルオキシ)−フェニル−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キサン、
【0077】トランス−1−p−(p−エチルベンゾイ
ルオキシ)−フェニル−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキサン;m.p.123
°、c.p.)270°。 トランス−1−p−(p−プロピルベンゾイルオキシ)
−フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−ブ
チルベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−(p−メトキシベンゾイルオキシ)−フ
ェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−エト
キシベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−(p−プロポキシベンゾイルオキシ)−
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−シア
ノベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン;m.
p.215°、c.p.)270°。
ルオキシ)−フェニル−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキサン;m.p.123
°、c.p.)270°。 トランス−1−p−(p−プロピルベンゾイルオキシ)
−フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−ブ
チルベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−(p−メトキシベンゾイルオキシ)−フ
ェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−エト
キシベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−
4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン、トラ
ンス−1−p−(p−プロポキシベンゾイルオキシ)−
フェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−シクロヘキサン、トランス−1−p−(p−シア
ノベンゾイルオキシ)−フェニル−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキサン;m.
p.215°、c.p.)270°。
【0078】例 9 p−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−安息香酸32.8gを
SOCl224gとともに1時間沸とうさせ混合物を蒸
発させ、生成する粗製酸クロリドをトルエン150ml
に溶解し、ピリジン8gおよびプロパノール6gを加
え、混合物を2時間沸とうさせる。冷却し、常法により
仕上げ(CH2Cl2)、プロピルp−(トランス−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキシル)−ベンゾエートが得られる。
ヘキシル)−シクロヘキシル)−安息香酸32.8gを
SOCl224gとともに1時間沸とうさせ混合物を蒸
発させ、生成する粗製酸クロリドをトルエン150ml
に溶解し、ピリジン8gおよびプロパノール6gを加
え、混合物を2時間沸とうさせる。冷却し、常法により
仕上げ(CH2Cl2)、プロピルp−(トランス−4
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロ
ヘキシル)−ベンゾエートが得られる。
【0079】同様にして、エステル化により次の化合物
が得られる。 メチルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシ
クロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、エ
チルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシク
ロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、プロ
ピルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシク
ロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ブチ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ペンチ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ヘキシ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、
が得られる。 メチルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシ
クロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、エ
チルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシク
ロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、プロ
ピルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシク
ロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ブチ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ペンチ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、ヘキシ
ルp−(トランス−4−(トランス−4−エチルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、
【0080】p−シアノフェニルp−(トランス−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
シル)−ベンゾエート、メチルp−(トランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キシル)−ベンゾエート、エチルp−(トランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キシル)−ベンゾエート;m.p.27°、c.p.1
56°。 ブチルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、
ペンチルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエー
ト、ヘキシルp−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエ
ート、ヘプチルp−(トランス−4−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾ
エート、オクチルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、ノニルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、デシルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
シル)−ベンゾエート、メチルp−(トランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キシル)−ベンゾエート、エチルp−(トランス−4−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘ
キシル)−ベンゾエート;m.p.27°、c.p.1
56°。 ブチルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、
ペンチルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエー
ト、ヘキシルp−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエ
ート、ヘプチルp−(トランス−4−(トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾ
エート、オクチルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、ノニルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、デシルp−(トランス−4−(トランス−4
−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、
【0081】トランス−4−プロピルシクロヘキシルp
−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、トランス
−4−ブチルシクロヘキシルp−(トランス−4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−ベンゾエート、トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート;
m.p.108°、c.p.>260°、
−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、トランス
−4−ブチルシクロヘキシルp−(トランス−4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−ベンゾエート、トランス−4−ペンチルシクロヘ
キシルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピル
シクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート;
m.p.108°、c.p.>260°、
【0082】p−トリルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−プロピルフェニルp−(トランス
−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−ベンゾエート、p−ブチルフェニルp
−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、p−ペン
チルフェニルp−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエ
ート、p−メトキシフェニルp−(トランス−4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−ベンゾエート、p−エトキシフェニルp−(トラ
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−ベンゾエート、p−デシルオキシ
フェニルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエー
ト、p−シアノフェニルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート;m.p.163°、c.p.>270
°、
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−プロピルフェニルp−(トランス
−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シ
クロヘキシル)−ベンゾエート、p−ブチルフェニルp
−(トランス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエート、p−ペン
チルフェニルp−(トランス−4−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエ
ート、p−メトキシフェニルp−(トランス−4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシ
ル)−ベンゾエート、p−エトキシフェニルp−(トラ
ンス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)
−シクロヘキシル)−ベンゾエート、p−デシルオキシ
フェニルp−(トランス−4−(トランス−4−プロピ
ルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベンゾエー
ト、p−シアノフェニルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート;m.p.163°、c.p.>270
°、
【0083】プロピルp−(トランス−4−(トランス
−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベ
ンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、ペンチルD−(トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
シル)−ベンゾエート、
−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベ
ンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、ペンチルD−(トランス−4−(トランス−
4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−ベン
ゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−4−
(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
シル)−ベンゾエート、
【0084】プロピルp−(トランス−4−(トランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ペンチルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシル)−ベンゾエート、
−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ペンチルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−
4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシル)−ベンゾエート、
【0085】プロピルp−(トランス−4−(トランス
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ペンチルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシル)−ベンゾエート。
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ブチルp−(トランス−4−(トランス
−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)−
ベンゾエート、ペンチルp−(トランス−4−(トラン
ス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シクロヘキシル)
−ベンゾエート、p−シアノフェニルp−(トランス−
4−(トランス−4−ヘキシルシクロヘキシル)−シク
ロヘキシル)−ベンゾエート。
【0086】本発明に係る誘電体の実施例を示す。 例 A 21% p−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−ベンゾニトリル、30% p−(トランス−4−
ペンチルシクロヘキシル)−ベンゾニトリル、22%
p−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−ベン
ゾニトリル、12% トランス−1−p−シアノフェニ
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、および15% トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサンの混合物はm.p.−12°お
よびc.p.82°を有する。この混合物は、たとえば
3〜10ボルトの電圧で動作する「静的駆動」(「直接
駆動」)用の「ねじれネマチック表示(TND)」に使
用できる。
ル)−ベンゾニトリル、30% p−(トランス−4−
ペンチルシクロヘキシル)−ベンゾニトリル、22%
p−(トランス−4−ヘプチルシクロヘキシル)−ベン
ゾニトリル、12% トランス−1−p−シアノフェニ
ル−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シ
クロヘキサン、および15% トランス−1−p−シア
ノフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキ
シル)−シクロヘキサンの混合物はm.p.−12°お
よびc.p.82°を有する。この混合物は、たとえば
3〜10ボルトの電圧で動作する「静的駆動」(「直接
駆動」)用の「ねじれネマチック表示(TND)」に使
用できる。
【0087】例 B 20% p−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)
−ベンゾニトリル、13% 4−エチル−4′−シアノ
ビフェニル、22% 4−ブチル−4′−シアノビフェ
ニル、9% p−シアノフェニルp−エチルベンゾエー
ト、6% p−シアノフェニルp−プロピルベンゾエー
ト、13% トランス−1−p−シアノフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、および17% トランス−1−シアノフェニル−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサンの混合物はm.p.−8°およびc.p.6
4°を有する。この混合物は、たとえば低い動作電圧で
TND用に使用できる。
−ベンゾニトリル、13% 4−エチル−4′−シアノ
ビフェニル、22% 4−ブチル−4′−シアノビフェ
ニル、9% p−シアノフェニルp−エチルベンゾエー
ト、6% p−シアノフェニルp−プロピルベンゾエー
ト、13% トランス−1−p−シアノフェニル−4−
(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シクロヘキ
サン、および17% トランス−1−シアノフェニル−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサンの混合物はm.p.−8°およびc.p.6
4°を有する。この混合物は、たとえば低い動作電圧で
TND用に使用できる。
【0088】例 C 12% p−(トランス−4−プロピルシクロヘキシ
ル)−ベンゾニトリル、10% p−(トランス−4−
ブチルシクロヘキシル)−ベンゾニトリル、19% p
−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ベンゾ
ニトリル、10% p−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシル)−ベンゾニトリル、12% 4−シアノ−
4′−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ビ
フェニル、12% トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、15% トランス−1−p−シアノフェニ
ル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、および10% トランス−1−p−フ
ルオロフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサンの混合物はm.p.−13
°およびc.p.97°を有する。これは、例えば2色
性染料用のネマチック溶剤(「ホスト混合物」)として
適している。
ル)−ベンゾニトリル、10% p−(トランス−4−
ブチルシクロヘキシル)−ベンゾニトリル、19% p
−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ベンゾ
ニトリル、10% p−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシル)−ベンゾニトリル、12% 4−シアノ−
4′−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−ビ
フェニル、12% トランス−1−p−シアノフェニル
−4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−シク
ロヘキサン、15% トランス−1−p−シアノフェニ
ル−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−
シクロヘキサン、および10% トランス−1−p−フ
ルオロフェニル−4−(トランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル)−シクロヘキサンの混合物はm.p.−13
°およびc.p.97°を有する。これは、例えば2色
性染料用のネマチック溶剤(「ホスト混合物」)として
適している。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年7月22日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09K 19/30 9279−4H G02F 1/13 500 // C07C 13/28 9280−4H 25/18 9280−4H 43/21 7419−4H 255/49 9357−4H (72)発明者 ミハエル・レメル ドイツ連邦共和国D−6100ダルムシュタッ ト、フランクフルテル・シュトラーセ 250 (72)発明者 ヨアヒム・クラウゼ ドイツ連邦共和国D−6100ダルムシュタッ ト、フランクフルテル・シュトラーセ 250 (72)発明者 ルドルフ・アイデンシンク ドイツ連邦共和国D−6100ダルムシュタッ ト、フランクフルテル・シュトラーセ 250 (72)発明者 ゲオルク・ヴェーベル ドイツ連邦共和国D−6100ダルムシュタッ ト、フランクフルテル・シュトラーセ 250
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくとも2種の液晶成分を含有する電
気光学表示素子用の液晶誘電体であって、少なくとも1
種の成分が式I R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I) (式中R1はアルキルであり、R2はH、F、Cl、B
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はH、ア
ルキル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph
−O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであ
り、Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてP
hは1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1
〜10個の炭素原子を含有する)で示される化合物であ
り、少なくとも1種の成分が式III R6−A−G−E−R7 (III) (式中、AおよびEはそれぞれ、1,4−ジ置換ベンゼ
ンおよびシクロヘキサン環、4,4′−ジ置換ビフェニ
ル、フェニルシクロヘキサンおよびシクロヘキシルシク
ロヘキサン系、2,5−ジ置換ピリミジンおよび1,3
−ジオキサン環、2,6−ジ置換ナフタレン、ジ−およ
びテトラ−ヒドロナフタレン、キナゾリンおよびテトラ
ヒドロキナゾリンを含む群からの炭素環式または複素環
式環であり、Gは−CH=CH−、−CH=CY−、−
C≡C−、−CO−O−、−CO−S−、−CH=N
−、−N(O)=N−、−CH=N(O)−、−CH2
−CH2−、CH2−O−、−CH2−S−、−COO
−Ph−COO−またはC−C単結合であり、Yはハロ
ゲン、好ましくは塩素、または−CNであり、そしてR
6およびR7は18個まで、好ましくは8個までの炭素
原子を有するアルキル、アルコキシ、アルカノイルオキ
シまたはアルコキシカルボニルオキシであるか、または
これらの基の1方はまた、CN、NC、NO2、C
F3、F、ClまたはBrである)で示される化合物で
あることを特徴とする電気光学表示素子用液晶組成物。 - 【請求項2】 少なくとも2種の液晶成分を含有する電
気光学表示素子用の液晶誘電体であって、少なくとも1
種の成分が式I R1−Cy−Cy−Ph−R2 (I) (式中R1はアルキルであり、R2はH、F、Cl、B
r、I、OH、CN、アルキル、−O−アルキル、−C
OOR3または−O−CO−R3であり、R3はH、ア
ルキル、−Cy−アルキル、−Ph−アルキル、−Ph
−O−アルキル、−Ph−CNまたは−Ph−Fであ
り、Cyは1,4−シクロヘキシレンであり、そしてP
hは1,4−フェニレンであり、上記各アルキル基は1
〜10個の炭素原子を含有する)で示される化合物であ
り、他の成分の少なくとも1種がアゾキシベンゼン化合
物、ベンジリデンアニリン化合物、ビフェニル化合物、
ターフェニル化合物、フェニル−またはシクロヘキシル
−ベンゾエート化合物、フェニルまたはシクロヘキシル
シクロヘキサン−カルボキシレート化合物、フェニルシ
クロヘキサン化合物、シクロヘキシルビフェニル化合
物、シクロヘキシルシクロヘキサン化合物、シクロヘキ
シルナフタレン化合物、1,4−ビス−シクロヘキシル
ベンゼン化合物、4,4′−ビス−シクロヘキシルビフ
ェニル化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ピリ
ミジン化合物、フェニル−またはシクロヘキシル−ジオ
キサン化合物、場合によりハロゲン化したスチルベン化
合物、ベンジルフェニルエーテル化合物、トラン化合物
および置換ケイ皮酸化合物の群から選択された化合物で
あることを特徴とする電気光学表示素子用液晶組成物。
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